2020-700019

特許第６５６７３５９号発明「電解質膜の製造方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

【結　論】 特許第６５６７３５９号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項３、４、５、６について訂正することを認める。 特許第６５６７３５９号の請求項１及び２に係る特許を取り消す。 特許第６５６７３５９号の請求項３ないし６に係る特許を維持する。

【理　由】 第１　主な手続の経緯 特許第６５６７３５９号の請求項１ないし６に係る特許についての出願は、平成２７年８月７日に出願され、令和１年８月９日にその特許権の設定登録（請求項の数４）がされ、同年同月２８日に特許掲載公報が発行された。 本件特許異議の申立ての経緯は、次のとおりである。 令和２年　１月１４日　　：特許異議申立人　特許業務法人朝日奈特許事務　　　　　　　　　　　　　所（以下、「特許異議申立人」という。）によ　　　　　　　　　　　　　る請求項１ないし４に係る特許に対する特許異　　　　　　　　　　　　　議の申立て 同年　５月２２日付け：取消理由通知 同年　７月２０日　　：特許権者による意見書の提出及び訂正請求 同年　８月２６日　　：特許異議申立人による意見書の提出 同年１０月３０日付け：取消理由通知（決定の予告） なお、令和２年１０月３０日付け取消理由通知（決定の予告）に対して、特許権者は何ら応答していない。 第２　訂正の適否 １　訂正の内容 令和２年７月２０日にされた訂正請求による訂正（以下、「本件訂正」という。）の内容は、以下の訂正事項１ないし４のとおりである。なお、下線は、訂正箇所について付したものである。 （１）　訂正事項１ 特許請求の範囲の請求項３について、請求項１及び２との引用関係を解消し、請求項１のみを引用するものについて、独立形式に改め、更に、塩基性分子が「１，２，４－トリアゾール、ウンデシルイミダゾール、１，２，３－トリアゾール、ベンズイミダゾール、ピラゾール、及びイミダゾールからなる群から選択される」ことを特定し、以下の事項により特定されるとおりの請求項３として訂正する。 「【請求項３】　スルホン基を有し、以下の化学構造式からなる群から選択される構造を有する炭化水素ポリマーである、酸性ポリマーと、塩基性分子と、を含有する溶解液を調製し、酸―塩基による伝導パスが形成された膜状物を得て、前記膜状物を希硫酸中で保持して、前記膜状物から前記塩基性分子を除去して電解質膜を得る、電解質膜の製造方法であって、 前記塩基性分子は１，２，４－トリアゾール、ウンデシルイミダゾール、１，２，３－トリアゾール、ベンズイミダゾール、ピラゾール、及びイミダゾールからなる群から選択される複素環式化合物である電解質膜の製造方法。 【化３】 【化４】 」 （２）　訂正事項２ 特許請求の範囲の請求項４について、請求項３との引用関係を解消し、請求項１のみを引用する請求項３を引用するものについて、独立形式に改め、更に、塩基性分子が「１，２，４－トリアゾールである」ことを特定し、以下の事項により特定されるとおりの請求項４として訂正する。 「【請求項４】 スルホン基を有し、以下の化学構造式からなる群から選択される構造を有する炭化水素ポリマーである、酸性ポリマーと、塩基性分子と、を含有する溶解液を調製し、酸－塩基による伝導パスが形成された膜状物を得て、前記膜状物を希硫酸中で保持して、前記膜状物から前記塩基性分子を除去して電解質膜を得る、電解質膜の製造方法であって、 前記塩基性分子は複素環式化合物であって、 前記複素環式化合物は１，２，４－トリアゾールである電解質膜の製造方法。 【化５】（省略。上記【化３】と同一。） 【化６】（省略。上記【化４】と同一。）」 （３）　訂正事項３ 特許請求の範囲の請求項３について、請求項１及び２との引用関係を解消し、請求項２のみを引用するものについて、独立形式に改め、更に、塩基性分子が「１，２，４－トリアゾール、ウンデシルイミダゾール、１，２，３－トリアゾール、ベンズイミダゾール、ピラゾール、及びイミダゾールからなる群から選択される」ことを特定し、以下の事項により特定されるとおりの請求項５として訂正する。 「【請求項５】 スルホン基を有する炭化水素ポリマーである、酸性ポリマーと、塩基性分子と、を含有する溶解液を調製し、酸―塩基による伝導パスが形成された膜状物を得て、前記膜状物を希硫酸中で保持して、前記膜状物から前記塩基性分子を除去して電解質膜を得る、電解質膜の製造方法であって、前記炭化水素ポリマーはポリアリールサルファイド（polyarylsulfide）、ポリアリールエーテル（polyarylether）、ポリアリールスルホン（polyarylsulfone）、ポリアリールケトン（polyarylketone）、及びポリアリールヘキサフルオロイソプロピリデン（polyaryhexafluoroisopropylidene）からなる群から選択される骨格構造を含む重合体または共重合体であり、 前記塩基性分子は１，２，４－トリアゾール、ウンデシルイミダゾール、１，２，３－トリアゾール、ベンズイミダゾール、ピラゾール、及びイミダゾールからなる群から選択される複素環式化合物である電解質膜の製造方法。」 （４）　訂正事項４ 特許請求の範囲の請求項４について、請求項３との引用関係を解消し、請求項２のみを引用する請求項３を引用するものについて、独立形式に改め、更に、塩基性分子が「１，２，４－トリアゾールである」ことを特定し、以下の事項により特定されるとおりの請求項６として訂正する。 「【請求項６】 スルホン基を有する炭化水素ポリマーである、酸性ポリマーと、塩基性分子と、を含有する溶解液を調製し、酸－塩基による伝導パスが形成された膜状物を得て、前記膜状物を希硫酸中で保持して、前記膜状物から前記塩基性分子を除去して電解質膜を得る、電解質膜の製造方法であって、前記炭化水素ポリマーはポリアリールサルファイド（polyarylsulfide）、ポリアリールエーテル（polyarylether）、ポリアリールスルホン（polyarylsulfone）、ポリアリールケトン（polyarylketone）、及びポリアリールヘキサフルオロイソプロピリデン（polyaryhexafluoroisopropylidene）からなる群から選択される骨格構造を含む重合体または共重合体であり、 前記塩基性分子は複素環式化合物であって、 前記複素環式化合物は１，２，４－トリアゾールである、電解質膜の製造方法。」 （５）一群の請求項について 訂正前の請求項３及び４は、訂正前の請求項１又は２を、直接又は間接的に引用するものであるから、訂正前の請求項１ないし４は、一群の請求項に該当するものである。そして、訂正事項１ないし４は、それらについてされたものであるから、一群の請求項に対してされたものであり、特許法第１２０条の５第４項の規定に適合する。 また、特許権者は、訂正後の請求項３ないし６に係る訂正について、本件訂正が認められるときには、別の訂正単位とすることを求めている。 ２　訂正の適否についての検討 （１）　請求項３に係る訂正について 請求項３に係る本件訂正は、請求項１及び２との引用関係を解消し、請求項１のみを引用するものについて、いわゆる独立形式に改めるとともに、塩基性分子に係る特定事項に関し、「複素環式化合物またはアミノ基を含む界面活性剤である」との記載を、「１，２，４－トリアゾール、ウンデシルイミダゾール、１，２，３－トリアゾール、ベンズイミダゾール、ピラゾール、及びイミダゾールからなる群から選択される複素環式化合物」に限定するものであるから、他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとする訂正であって、かつ、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。 そして、請求項３に係る本件訂正は、新規事項の追加ではなく、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 （２）　請求項４に係る訂正について 請求項４に係る本件訂正は、請求項３との引用関係を解消し、請求項１のみを引用する請求項３を引用するものについて、いわゆる独立形式に改めるとともに、塩基性分子に係る特定事項に関し、「複素環式化合物またはアミノ基を含む界面活性剤」との記載を、「複素環式化合物」に限定するとともに、「複素環式化合物は１，２，４－トリアゾール、ウンデシルイミダゾール、１，２，３－トリアゾール、ベンズイミダゾール、ピラゾール、及びイミダゾールからなる群から選択される」としていたものを、「複素環式化合物は、１，２，４－トリアゾールである」と限定するものであるから、他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとする訂正であって、かつ、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。 そして、請求項４に係る本件訂正は、新規事項の追加ではなく、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 （３）　請求項５に係る訂正について 請求項５に係る本件訂正は、本件訂正前の特許請求の範囲の請求項３について、請求項１及び２との引用関係を解消し、請求項２のみを引用するものについて、独立形式に改めるとともに、塩基性分子に係る特定事項に関し、「複素環式化合物またはアミノ基を含む界面活性剤である」との記載を、「１，２，４－トリアゾール、ウンデシルイミダゾール、１，２，３－トリアゾール、ベンズイミダゾール、ピラゾール、及びイミダゾールからなる群から選択される複素環式化合物」に限定するものであるから、他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとする訂正であって、かつ、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。 そして、請求項５に係る本件訂正は、新規事項の追加ではなく、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 （４）　請求項６に係る訂正について 請求項６に係る本件訂正は、本件訂正前の特許請求の範囲の請求項４について、請求項３との引用関係を解消し、請求項２のみを引用する請求項３を引用するものについて、いわゆる独立形式に改めるとともに、塩基性分子に係る特定事項に関し、「複素環式化合物またはアミノ基を含む界面活性剤」との記載を、「複素環式化合物」に限定するとともに、「複素環式化合物は１，２，４－トリアゾール、ウンデシルイミダゾール、１，２，３－トリアゾール、ベンズイミダゾール、ピラゾール、及びイミダゾールからなる群から選択される」としていたものを、「複素環式化合物は、１，２，４－トリアゾールである」と限定するものであるから、他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとする訂正であって、かつ、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。 そして、請求項６に係る本件訂正は、新規事項の追加ではなく、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 ３　小括 以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号及び第４号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第９項において準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合する。 したがって、本件特許の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項３、４、５、６について訂正することを認める。 第３　本件特許発明 上記第２のとおりであるから、訂正後の本件特許の請求項１ないし６に係る発明（以下、それぞれ「本件特許発明１」ないし「本件特許発明６」といい、まとめて「本件特許発明」という。）は、それぞれ、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲の請求項１ないし６に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 「【請求項１】 スルホン基を有し、以下の化学構造式からなる群から選択される構造を有する炭化水素ポリマーである、酸性ポリマーと、塩基性分子と、を含有する溶解液を調製し、酸―塩基による伝導パスが形成された膜状物を得て、前記膜状物を希硫酸中で保持して、前記膜状物から前記塩基性分子を除去して電解質膜を得る、電解質膜の製造方法。 【化１】 【化２】 【請求項２】 スルホン基を有する炭化水素ポリマーである、酸性ポリマーと、塩基性分子と、を含有する溶解液を調製し、酸―塩基による伝導パスが形成された膜状物を得て、前記膜状物を希硫酸中で保持して、前記膜状物から前記塩基性分子を除去して電解質膜を得る、電解質膜の製造方法であって、前記炭化水素ポリマーはポリアリールサルファイド（polyarylsulfide）、ポリアリールエーテル（polyarylether）、ポリアリールスルホン（polyarylsulfone）、ポリアリールケトン（polyarylketone）、及びポリアリールヘキサフルオロイソプロピリデン（polyaryhexafluoroisopropylidene）からなる群から選択される骨格構造を含む重合体または共重合体である、電解質膜の製造方法。 【請求項３】　スルホン基を有し、以下の化学構造式からなる群から選択される構造を有する炭化水素ポリマーである、酸性ポリマーと、塩基性分子と、を含有する溶解液を調製し、酸―塩基による伝導パスが形成された膜状物を得て、前記膜状物を希硫酸中で保持して、前記膜状物から前記塩基性分子を除去して電解質膜を得る、電解質膜の製造方法であって、 前記塩基性分子は１，２，４－トリアゾール、ウンデシルイミダゾール、１，２，３－トリアゾール、ベンズイミダゾール、ピラゾール、及びイミダゾールからなる群から選択される複素環式化合物である電解質膜の製造方法。 【化３】（省略。上記【化１】と同一。） 【化４】（省略。上記【化２】と同一。） 【請求項４】 スルホン基を有し、以下の化学構造式からなる群から選択される構造を有する炭化水素ポリマーである、酸性ポリマーと、塩基性分子と、を含有する溶解液を調製し、酸－塩基による伝導パスが形成された膜状物を得て、前記膜状物を希硫酸中で保持して、前記膜状物から前記塩基性分子を除去して電解質膜を得る、電解質膜の製造方法であって、 前記塩基性分子は複素環式化合物であって、 前記複素環式化合物は１，２，４－トリアゾールである電解質膜の製造方法。 【化５】（省略。上記【化１】と同一。） 【化６】（省略。上記【化２】と同一。） 【請求項５】 スルホン基を有する炭化水素ポリマーである、酸性ポリマーと、塩基性分子と、を含有する溶解液を調製し、酸―塩基による伝導パスが形成された膜状物を得て、前記膜状物を希硫酸中で保持して、前記膜状物から前記塩基性分子を除去して電解質膜を得る、電解質膜の製造方法であって、前記炭化水素ポリマーはポリアリールサルファイド（polyarylsulfide）、ポリアリールエーテル（polyarylether）、ポリアリールスルホン（polyarylsulfone）、ポリアリールケトン（polyarylketone）、及びポリアリールヘキサフルオロイソプロピリデン（polyaryhexafluoroisopropylidene）からなる群から選択される骨格構造を含む重合体または共重合体であり、 前記塩基性分子は１，２，４－トリアゾール、ウンデシルイミダゾール、１，２，３－トリアゾール、ベンズイミダゾール、ピラゾール、及びイミダゾールからなる群から選択される複素環式化合物である電解質膜の製造方法。 【請求項６】 スルホン基を有する炭化水素ポリマーである、酸性ポリマーと、塩基性分子と、を含有する溶解液を調製し、酸－塩基による伝導パスが形成された膜状物を得て、前記膜状物を希硫酸中で保持して、前記膜状物から前記塩基性分子を除去して電解質膜を得る、電解質膜の製造方法であって、前記炭化水素ポリマーはポリアリールサルファイド（polyarylsulfide）、ポリアリールエーテル（polyarylether）、ポリアリールスルホン（polyarylsulfone）、ポリアリールケトン（polyarylketone）、及びポリアリールヘキサフルオロイソプロピリデン（polyaryhexafluoroisopropylidene）からなる群から選択される骨格構造を含む重合体または共重合体であり、 前記塩基性分子は複素環式化合物であって、 前記複素環式化合物は１，２，４－トリアゾールである、電解質膜の製造方法。」 第４　特許異議申立書に記載した申立ての理由の概要 特許異議申立人が提出した特許異議申立書において主張する特許異議申立理由の概要は、次のとおりである。 １　申立理由１（甲１に基づく新規性） 本件特許の訂正前の請求項１ないし３に係る発明は、甲１に記載された発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものであるから、それらの発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。 ２　申立理由２（甲１に基づく進歩性） 本件特許の訂正前の請求項１ないし３に係る発明は、甲１に記載された発明に基づいて、その特許出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、それらの発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。 ３　申立理由３（サポート要件） 本件特許の訂正前の請求項１ないし４に係る発明についての特許は、以下の理由で特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願についてされたものであるから、特許法第１１３条第４号に該当し、取り消されるべきものである。 本件特許の訂正前の請求項１における「塩基性分子」に関し、本件特許明細書には、本件特許の訂正前の請求項１に係る発明の課題を解決し得ることが具体的に実施例によって確認されている例は、「１，２，４－トリアゾール」に過ぎず、該化合物以外の「塩基性分子」を用いた場合であっても、同様に課題が解決されることに関して何ら開示も示唆もなく、出願時の技術常識であるともいえない。 また、請求項２ないし４の記載も同様である。 ４　証拠方法 甲１：特開２０１３－１３１４９０号公報 第５　令和２年１０月３０日付け取消理由（決定の予告）の概要 当審が令和２年１０月３０日付けで特許権者に通知した取消理由（決定の予告）の要旨は、次のとおりである。 １　取消理由１（新規性欠如） 本件特許の訂正前の請求項１及び２に係る特許は、特許法第２９条第１項第３号に該当する発明に対してされたものであるから、同法第１１３条第２号に該当し取り消すべきものである。 ・引用文献等：甲１ ２　取消理由２（サポート要件違反） 本件特許の訂正前の請求項１ないし４に係る特許は、特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから、同法第１１３条第４号に該当し取り消すべきものである。 第６　当審の判断 当審は、以下に述べるように、請求項１及び２に係る特許について、上記取消理由１及び２には理由があり、令和２年７月２０日にされた訂正請求によって訂正された請求項３ないし６に係る特許は、特許異議申立書に記載した申立理由によっては、取り消すことはできないと判断する。 １　取消理由１について ・対象となる発明：本件特許発明１及び２ ・引用文献等：甲１ （１）　甲１の記載事項等 ア　甲１の記載事項 甲１には、「高分子電解質膜の製造方法」に関し、以下の事項が記載されている（下線は当審において付与した。以下同様。）。 （ア）　「【請求項１】 脱塩重縮合で得られる、加水分解性可溶性付与基かつイオン性基密度が１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上の高分子電解質の重合溶液から、重縮合時に生成した塩分および塩残渣の一部を直接、遠心分離および／またはフィルター濾過で除去して塗液を得る工程（Ａ）、該塗液を基材上に流延塗工し溶媒の一部を除去して、基材上に膜状物を得る工程（Ｂ）、該基材上の膜状物を酸性水溶液と接触させ、プロトン交換を行う工程（Ｃ）、該基材上の膜状物を溶媒と接触させ、重縮合時の分子量１０００以上、３００００以下の低分子量体の少なくとも一部を除去する工程（Ｄ）をこの順に有することを特徴とする高分子電解質膜の製造方法。 【請求項２】 工程（Ｂ）と工程（Ｃ）の間に、該基材上の膜状物を水と接触させ、重縮合時に生成した塩分および塩残渣の残りを除去する工程（Ｅ）を有する請求項１記載の高分子電解質膜の製造方法。」 （イ）　「【００８２】 ［合成例１］ ４，４’－ジフルオロベンゾフェノン１０９．１ｇを発煙硫酸（５０％ＳＯ３）１５０ｍＬ中、１００℃で１０ｈ反応させた。その後、多量の水中に少しずつ投入し、ＮａＯＨで中和した後、食塩２００ｇを加え合成物を沈殿させた。得られた沈殿を濾別し、エタノール水溶液で再結晶し、ジソジウム３，３’－ジスルホネート－４，４’－ジフルオロベンゾフェノンを得た。 【００８３】 ［合成例２］ 撹拌機、窒素導入管、Ｄｅａｎ－Ｓｔａｒｋトラップを備えた１０００ｍＬ三口フラスコに、炭酸カリウム２４．５ｇ、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１，３－ジオキサン１２．９ｇ、４－４'－ビフェノール９．３ｇ、前記合成例１で得たジソジウム３，３’－ジスルホネート－４，４’－ジフルオロベンゾフェノン２５．８ｇ、４，４'－ジフルオロベンゾフェノン８．９ｇを入れ、窒素置換後、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）３０６ｇ、トルエン６４．４ｇを加え、還流しながら１７５℃で脱水後、昇温してトルエン全量とＮＭＰ１５３ｇを留去し、２００℃で脱塩重縮合を行った。次に重合原液の粘度が２ｐｏｉｓｅになるようにＮＭＰを添加し重合原液Ａを得た。」 （ウ）　「【００９０】 ［実施例１］ 工程（Ａ）：２ｐｏｉｓｅの重合原液Ａを久保田製作所製インバーター・コンパクト高速冷却遠心機　型番６９３０　にアングルローターＲＡ－８００をセットし、２５℃、３０分間、遠心力２００００Ｇで固液分離を行った。ケーキと上澄み液（塗液）がきれいに分離できたので、上澄み液を回収した。上澄み液のみを１μｍのポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）製フィルターで加圧濾過して、セパラブルフラスコに移した。次に、撹拌しながら９０℃で減圧蒸留し、上澄み液の粘度が３０ｐｏｉｓｅになるまでＮＭＰを留去し、塗液Ａを得た。 【００９１】 工程（Ｂ）：塗液Ａを基材として１２５μｍのＰＥＴフィルム（東レ製“ルミラー（登録商標）”）を用い、スリットダイで流延塗工し、１５０℃で３０分間乾燥した。 【００９２】 工程（Ｅ）次に２５℃の純水に３０分間浸漬し残存塩、残存モノマー、残存炭酸カリウム、残存ＮＭＰ等を洗浄した。 【００９３】 工程（Ｃ）その後、６０℃の１０重量％の硫酸に３０分間浸漬し、加水分解性可溶性基の加水分解とイオン性基のプロトン交換を実施した。次にこの膜状物を洗浄液が中性になるまで純水で洗浄した。 【００９４】 工程（Ｄ）：次にこの膜状物を９５℃の純水に１時間浸漬し、低分子量体の除去を実施した。その後、６０℃で３０分間乾燥し膜厚３０μｍの電解質膜Ａを得た。前記、低分子量体除去溶液のＴＯＣは１．８ｍｇであり、ＧＰＣ重量平均分子量は１５００～３０００であった。また、この電解質膜のイオン性基密度は２．５ｍｍｏｌ／ｇであった。この電解質膜Ａを９５℃の純水に１時間浸漬後の耐熱水性重量保持率は１００％であった。さらに９５℃の純水に１０００時間浸漬後の耐熱水性重量保持率は９９％であり、浸漬溶液のＴＯＣは０．１ｍｇ以下であった。」 イ　甲１に記載された発明 ・　甲１発明 甲１には、特に［実施例１］に関する記載から、以下の発明が記載されていると認める。 「工程（Ａ）として、２ｐｏｉｓｅの重合原液Ａを久保田製作所製インバーター・コンパクト高速冷却遠心機型番６９３０にアングルローターＲＡ－８００をセットし、２５℃、３０分間、遠心力２００００Ｇで固液分離を行い、回収した上澄み液のみを１μｍのポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）製フィルターで加圧濾過して、セパラブルフラスコに移し、撹拌しながら９０℃で減圧蒸留し、上澄み液の粘度が３０ｐｏｉｓｅになるまでＮＭＰを留去し、塗液Ａを得、 工程（Ｂ）として、塗液Ａを基材として１２５μｍのＰＥＴフィルム（東レ製“ルミラー（登録商標）”）を用い、スリットダイで流延塗工し、１５０℃で３０分間乾燥し、 工程（Ｅ）として、次に２５℃の純水に３０分間浸漬し残存塩、残存モノマー、残存炭酸カリウム、残存ＮＭＰ等を洗浄し、 工程（Ｃ）として、その後、６０℃の１０重量％の硫酸に３０分間浸漬し、加水分解性可溶性基の加水分解とイオン性基のプロトン交換を実施し、次にこの膜状物を洗浄液が中性になるまで純水で洗浄し、 工程（Ｄ）として、次にこの膜状物を９５℃の純水に１時間浸漬し、低分子量体の除去を実施し、その後、６０℃で３０分間乾燥し膜厚３０μｍの電解質膜Ａを得る、電解質膜の製造方法。 但し、上記重合原液Ａは、 合成例１として、４，４’－ジフルオロベンゾフェノン１０９．１ｇを発煙硫酸（５０％ＳＯ３）１５０ｍＬ中、１００℃で１０ｈ反応させ、その後、多量の水中に少しずつ投入し、ＮａＯＨで中和した後、食塩２００ｇを加え合成物を沈殿させ、得られた沈殿を濾別し、エタノール水溶液で再結晶し、ジソジウム３，３’－ジスルホネート－４，４’－ジフルオロベンゾフェノンを得、 合成例２として、撹拌機、窒素導入管、Ｄｅａｎ－Ｓｔａｒｋトラップを備えた１０００ｍＬ三口フラスコに、炭酸カリウム２４．５ｇ、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１，３－ジオキサン１２．９ｇ、４－４'－ビフェノール９．３ｇ、前記合成例１で得たジソジウム３，３’－ジスルホネート－４，４’－ジフルオロベンゾフェノン２５．８ｇ、４，４'－ジフルオロベンゾフェノン８．９ｇを入れ、窒素置換後、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）３０６ｇ、トルエン６４．４ｇを加え、還流しながら１７５℃で脱水後、昇温してトルエン全量とＮＭＰ１５３ｇを留去し、２００℃で脱塩重縮合を行い、次に重合原液の粘度が２ｐｏｉｓｅになるようにＮＭＰを添加して得られた重合原液Ａである。」（以下、「甲１発明」という。） （２）　対比・判断 ア　本件特許発明１について （ア）　甲１発明との対比・判断 甲１発明における重合原液Ａに含まれる共重合体は、合成例１で得たジソジウム３，３’－ジスルホネート－４，４’－ジフルオロベンゾフェノンを単量体として含む脱塩重縮合によって得られたものであるから、該共重合体は、下記ｃ由来のスルホン基を有する酸性ポリマーといえる。 ａ　２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１，３－ジオキサン由来の骨格 ｂ　４－４'－ビフェノール由来の骨格 ｃ　ジソジウム３，３’－ジスルホネート－４，４’－ジフルオロベンゾフェノン由来の骨格 ｄ　４，４'－ジフルオロベンゾフェノン由来の骨格 また、上記合成例２によって、上記（ア）ないし（エ）のモノマー由来の骨格を有する共重合体が得られるから、本件特許発明１の【化１】のうち、以下の４種類の部分骨格を有する。 そして、甲１発明における、上記共重合体と、脱塩重縮合に用いた「塩基性分子」である「炭酸カリウム」が含有された重合原液は、本件特許発明１の「溶解液」に相当する。 甲１発明は、工程（Ｂ）におけるスリットダイによる塗液Ａの流延塗工を行っていることから、塗液Ａの流延塗工したものが得られており、この時点で酸―塩基による伝導パスは形成されているものと認められるから、この塗液Ａを流延塗工したものは、本件特許発明１の「酸―塩基による伝導パスが形成された膜状物」に相当する。 また、工程（Ｃ）において、「６０℃の１０重量％の硫酸に３０分間浸漬」するため、この工程で塩基性分子である炭酸カリウムが除去される。 そうすると、本件特許発明１と甲１発明とは、 「スルホン基を有し、以下の化学構造式からなる群から選択される構造を有する炭化水素ポリマーである、酸性ポリマーと、塩基性分子と、を含有する溶解液を調製し、酸―塩基による伝導パスが形成された膜状物を得て、前記膜状物を希硫酸中で保持して、前記膜状物から前記塩基性分子を除去して電解質膜を得る、電解質膜の製造方法。 」 の点で一致し、実質的な相違点は認められない。 よって、本件特許発明１は、甲１に記載された発明である。 イ　本件特許発明２について 本件特許発明２は、本件特許発明１における、「炭化水素ポリマー」が、「ポリアリールサルファイド（polyarylsulfide）、ポリアリールエーテル（polyarylether）、ポリアリールスルホン（polyarylsulfone）、ポリアリールケトン（polyarylketone）、及びポリアリールヘキサフルオロイソプロピリデン（polyaryhexafluoroisopropylidene）からなる群から選択される骨格構造を含む重合体または共重合体である」ことを更に限定するものである。 そして、甲１発明は、ポリアリールエーテル（polyarylether）又はポリアリールケトン（polyarylketone）の骨格構造を有するものである。 そうすると、本件特許発明２は、甲１発明と相違しない。 （３）　取消理由１についてのまとめ したがって、本件特許の請求項１及び２に係る発明は、特許法第２９条第１項第３号に該当するものであるから、これら発明に係る特許は同法第１１３条第２号に該当し取り消すべきものである。 ２　取消理由２（特許法第３６条第６項第１号） ・対象となる発明：本件特許発明１及び２ （１）　本件特許明細書の記載 本件特許明細書の発明の詳細な説明には、以下の記載がある。 ア　「【技術分野】 【０００１】 本発明はＰＥＭＦＣ（proton exchangemembrane fuel cell、固体高分子形燃料電池）用電解質膜等に適するパーフルオロスルホン酸ポリマー膜の製造方法、及びこれらの膜を電解質膜として使用したＰＥＭＦＣに関する。 【背景技術】 【０００２】 水素ガス及び酸素ガスを使用するＰＥＭＦＣはクリーンなエネルギーシステムであり、高いエネルギー密度を有するとともに、変換効率が高いことから、次世代の電力発生機器として注目を浴びてきた。過去数１０年間に亘ってナフィオン（Nafion）（イーアイデュポンドゥヌムールアンドカンパニーの登録商標）などのパーフルオロスルホン酸(perfluorosulfonic)イオン交換ポリマー（疎水性のパーフルオロカーボン骨格とスルホン酸基を持つパーフルオロ側鎖とから構成されるパーフルオロカーボン材料であり、tetrafluoroethyleneとperfluoro[2-(fluorosulfonylethoxy)propylvinyl ether]との共重合体である。本願ではこの共重合体を「パーフルオロスルホン酸（perfluorosulfonic acid、ＰＦＳＡ）ポリマー」と称する）がＰＥＭＦＣの電解質として使用されてきた。 【０００３】 これらの膜のプロトン輸送性はそれらの含水量によって強く規定されるが、含水量が少ない環境下でも高プロトン伝導性を有する燃料電池が求められ、広い領域温度で高効率で動作し、また含水量によらない高プロトン伝導度を有する電解質膜の開発研究が行われている。高プロトン伝導度を付与するには、プロトンの濃度を高くする手法やプロトンの移動度を高くする手法がある。一般に、プロトン濃度を高くする手法としては、ポリマーユニットへのスルホン基の導入量を多くする手法があり、ほとんどの研究はこちらに属する（例えば非特許文献１）。一方、プロトンの移動度を高くする手法としてポリマーの伝導パスを制御することがある。しかし、後者の手法による高プロトン伝導膜の開発研究はあまり行われていない。 【０００４】 ポリマーユニットのスルホン化度を高くし、高含水率条件下で高プロトン伝導度を有するポリマーの報告は多い。しかし、広温領域や低含水量状態でも高プロトン伝導度を示す電解質膜の開発報告例はほとんどない。実用化に当たっては低含水量での性能低下の問題を解決できる、広温度領域や低含水量状態でも高プロトン伝導度が発揮できる高温ＰＥＭＦＣ用の電解質膜として使用可能な代替材料を見出すことが求められている。 【発明の概要】 【発明が解決しようとする課題】 【０００５】 本発明は、上述した従来技術の問題点を解消し、広温度領域や低含水量状態でも高プロトン伝導度が発揮できる高温ＰＥＭＦＣ用の電解質膜として使用可能な膜を提供することにある。」 イ　「【課題を解決するための手段】 【０００６】 ・・・（中略）・・・ 本発明の他の側面によれば、前記酸性ポリマーに塩基性分子を添加した後、前記塩基性分子を前記酸性ポリマーから除去する、上記いずれかの電解質膜の製造方法が与えられる。 ここで、前記塩基性分子は複素環式化合物またはアミノ基を含む界面活性剤であってよい。 また、前記複素環式分子は１，２，４－トリアゾール、ウンデシルイミダゾール、１，２，３－トリアゾール、ベンズイミダゾール、ピラゾール、及びイミダゾールからなる群から選択されてよい。 前記塩基性分子の除去は、膜状になった、前記塩基性分子を添加した前記酸性ポリマーに水中での加熱、過酸化水素中での保持及び希硫酸中での保持からなる群から選択される少なくとも一の処理を施すことであってよい。 本発明の更に他の側面によれば、上記何れかの電解質膜を使用した固体高分子形燃料電池が与えられる。」 ウ　「【発明を実施するための形態】 【０００９】 フッ素系ポリマーであるNafionやAquivion電解質は高プロトン伝導度や高安定性を有している。しかし、低加湿条件下では何れの電解質も電導度の低下が大きい。本発明ではこれらの問題を解決するために、酸性ポリマーに塩基性分子を導入することによって酸－塩基結合による良好なプロトン伝導性を有する伝導パスを形成させてから塩基性分子を除去する。このようにして作製された伝導パスによりプロトン伝導性が向上し、低温あるいは低加湿下でも高プロトン伝導度を発揮する電解質膜を提供することができる。塩基性分子は良好な伝導パスを形成するために使用するが、この伝導パスの形成後に除去するのは、この処理によってプロトン伝導度が向上するからである。また、塩基性分子が残留すると、電解質膜として使用する際に問題を引き起こす可能性もある。ここで、上で説明したように、ＰＦＳＡポリマーはスルホン基を有するので、酸性ポリマーの一種として使用できる。なお、プロトン酸度は一般にスルホン基が一番強いが、ポリマーを酸性にする基をスルホン基以外とすることもできる。」 エ　「【００１３】 なお、上で述べたフッ素系ポリマーだけではなく、炭化水素系ポリマーでもスルホン酸基のような酸性の基を有するものであれば、同じように低加湿下で高プロトン伝導性を示すようにできる。また、塩基性分子としては１，２，４－トリアゾール、ウンデシルイミダゾール、１，２，３－トリアゾール、ベンズイミダゾール、ピラゾール、イミダゾール等の複素環式化合物やアミノ基を含む界面活性剤を使用できる。界面活性剤を使用した場合には、これが伝導パス形成時の一種の型として機能する。更に、シリカ系酸化物材料、特にそのナノ粒子も使用可能である。」 オ　「【００２１】 ［ナフィオン系改質電解質膜の製造］ ナフィオンポリマーに５％１，２，４－トリアゾールを投入し、更に溶媒であるＮ－メチル－２－ピロリドン (N-methylpyrrolidone、ＮＭＰ) を投入して撹拌することにより、ＮＭＰに溶解させた。この溶解液を容器に入れ、８０℃で２４時間保持し、その後１３０℃で２４時間保持することにより膜を得た。得られた膜を沸騰水で２時間煮沸した後、１Ｍ　Ｈ２Ｏ２中に８０℃で２時間、更に１Ｍ　Ｈ２ＳＯ４中に８０℃で２時間保持し、沸騰水で２時間煮沸を行った。当初の膜作製後の上記処理により、その膜中から塩基性分子（ここでは１，２，４－トリアゾール）を除去することで、ナフィオン系改質電解質膜を完成させた。 【００２２】 ［アクイヴィオン系改質電解質膜の製造］ アクイヴィオンポリマーに５％１，２，４－トリアゾールを投入し、更に溶媒であるＮＭＰを投入して攪拌することにより、ＮＭＰに溶解させた。この溶解液を容器に入れ、８０℃で２４時間保持し、その後１５０℃で２４時間保持することにより膜を得た。得られた膜を沸騰水で２時間煮沸した後、１Ｍ　Ｈ２Ｏ２中に８０℃で２時間保持し、１Ｍ　Ｈ２ＳＯ４中に８０℃で２時間保持し、沸騰水で２時間煮沸を行うことによって、上と同じく当初の膜中から塩基性分子を除去することで、アクイヴィオン改質電解質膜を完成させた。 【００２３】 ［ナフィオン系及びアクイヴィオン系改質電解質膜の特性の測定］ 上述のようにして作製した両改質電解質膜のプロトン伝導度特性を、市販のナフィオン２１２膜（イーアイデュポンドゥヌムールアンドカンパニー製）及びアクイヴィオンＥ８７－０５Ｓ膜（Ｓｏｌｖａｙ製）とともに測定した。その結果を図１に示す。 【００２４】 更に、両改質電解質膜を使用した単セルの電流密度－電圧特性を、市販のナフィオン１１５膜とともに測定した。その結果を図２に示す。これ以外に、図２においては測定された電流密度－電圧特性から電流密度－電力密度特性を計算してプロットしてある。なお、図中、これらの膜名の右側のかっこ内に示された数値は当該膜の厚さを示す。 【００２５】 図１に示された結果からわかるように、電解質膜の材料としてナフィオン、アクイヴィオンの何れを使用した場合でも、塩基性分子（ここでは１，２，４－トリアゾール）を一旦導入してから除去した改質電解質膜の方が、対応する未改質電解質膜に比べて、広い相対湿度範囲（２０％～９０％）及び広い温度範囲（４０℃～１２０℃）の両方ではるかに高い伝導度を示し、特に相対湿度の高い領域では０．３Ｓ／ｃｍという非常に高い値を達成できた。この高い伝導度によってセルの内部抵抗が減少するため、図２に示すように、改質電解質膜の方が大電流を取り出すことができ、従って、改質電解質膜を使用したセルの方が１．５倍から２倍を超える電力を取り出すことができることが確認された。図２からわかるように、この傾向は特に高温・低湿度の場合に顕著であった。」 カ　「【００２６】 ナフィオンに代表されるＰＦＳＡポリマーが高いプロトン伝導度を示す理由は、これらのポリマーが有するスルホン基によってポリマー中により良いプロトン伝導パスが形成されるためであると信じられている。ただし、このプロトン伝導パスが実際にどのような態様で存在しているかを直接的に観測することは極めて困難であり、未だに実現できていない。 【００２７】 従って、本発明の改質電解質膜が上述したようなプロトン伝導度の顕著な改善を示したのは、先に述べたように、酸－塩基結合による伝導パスの形成、更にそこからの塩基の除去によってよりよく形成された伝導パスがプロトン伝導性に寄与したと考えるべきである。なお、スルホン基を有する炭化水素ポリマーによりＰＦＳＡポリマーを代替する研究が進められているが、このようなスルホン基を有する炭化水素ポリマーにおいてもＰＦＳＡポリマーと同様なプロトン伝導パスが形成されると考えることでそのプロトン伝導性が十分に説明できる。このことから見て、この種の炭化水素ポリマーにおけるスルホン基の機能がＰＦＳＡポリマーにおけるそれと同じであることは確実であると考えるべきである。従って、本発明においてＰＦＳＡポリマーの代わりに、既に例を列挙したスルホン基を有する炭化水素ポリマーを使用することも可能である。」 キ　「【図１】 【図２】 」 （２）　本件特許発明１について ア　本件特許発明の解決課題 上記１アないしキの記載、特に段落【０００５】の記載から、本件特許発明の解決課題は、少なくとも「広温度領域や低含水量状態でも高プロトン伝導度が発揮できる高温ＰＥＭＦＣ用の電解質膜として使用可能な膜を提供すること」にあると認められる。 イ　判断 本件特許明細書には、広温度領域や低含水量状態でも高プロトン伝導度が発揮できる高温ＰＥＭＦＣ用の電解質膜を得る手段について、実際に広温度領域や低含水量状態における高プロトン伝導が確認できたものは、上記（１）オのとおり、いずれも塩基性分子として「１，２，４－トリアゾール」を一旦導入してから除去した改質電解質膜のみである。 そして、当業者は、本件特許明細書中の実施例で確認された１，２，４－トリアゾールを用いたプロトン伝導は、プロトンホッピングによるプロトン伝導であって、当該機構はアゾ－ル構造を有する塩基性分子を前提として発揮されるものであると、本件特許明細書（例えば、実施例及び段落【００１３】）の記載、あるいは技術常識（要すれば、特許権者が８月２６日に提出した乙第３、５ないし９号証参照。）から認識する。 よって、上記課題の解決ができるとはいえないアゾ－ル構造を有しない塩基性分子を採用する場合をも包含する本件特許発明１の範囲にまで発明の詳細な説明に記載された内容を拡張ないし一般化することは認められない。 ウ　小括 よって、本件特許発明１は、発明の詳細な説明において、当業者が発明の課題を解決できると認識できる範囲を超えたものであるから、本件特許発明１は、発明の詳細な説明に記載された発明とすることはできない。 （３）　本件特許発明２について 本件特許発明２は、上記２で述べた課題解決手段以外の物質を特定事項に含むものであるから、上記２での検討と同様に、本件特許発明２は、発明の詳細な説明に記載された発明とすることはできない。 （４）　取消理由２についてのまとめ したがって、本件特許の請求項１及び２に係る特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから、同法第１１３条第４号に該当し、取り消すべきものである。 ３　取消理由通知において採用しなかった特許異議申立理由について 令和２年７月２０日にされた訂正請求によって訂正された請求項３ないし６に係る特許について、訂正前の請求項との関係は以下のとおりである。 ・訂正後の請求項３：訂正前の請求項１を引用する訂正前の請求項４。 ・訂正後の請求項４：訂正前の請求項１を引用する訂正前の請求項４のうち　塩基性物質である複素環式化合物が「１，２，４　－トリアゾール」であ　るもの。 ・訂正後の請求項５：訂正前の請求項２を引用する訂正前の請求項４。 ・訂正後の請求項６：訂正前の請求項２を引用する訂正前の請求項４のうち　塩基性物質である複素環式化合物が「１，２，４　－トリアゾール」であ　るもの。 そうすると、訂正後の請求項３ないし６は、いずれも訂正前の請求項４に包含される特定事項を有するものである。 よって、取消理由通知（決定の予告）で採用しなかった特許異議申立理由は、申立理由３（サポート要件）のうち、訂正前の請求項４に対するもののみとなる。 以下検討するに、上記２（２）イで述べたように、当業者は、本件特許明細書中の実施例で確認された１，２，４－トリアゾールを用いたプロトン伝導は、プロトンホッピングによるプロトン伝導であって、当該機構はアゾ－ル構造を有する塩基性分子を前提として発揮されるものであると、本件特許明細書から認識する。 してみると、アゾ－ル構造を含む複素環式化合物が塩基性物質であることを特定事項とする本件特許発明３ないし６は、いずれも、いわゆるサポート要件を充足するといえるから、申立理由３には理由がない。 第７　むすび 上記第６のとおり、本件特許発明１及び２に係る特許は、特許法第２９条第１項第３号に該当する特許出願に対してされたものであるから、同法第１１３条第２号に該当し取り消すべきものである。 また、本件特許発明１及び２に係る特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから、同法第１１３条第４号に該当し取り消すべきものである。 そして、本件特許発明３ないし６に係る特許は、特許異議申立書に記載した特許異議申立ての理由によっては取り消すことはできないし、他に取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。