2023-005532

特願２０２０－５６６９９５号「マルチビーム検査装置を使用してサンプルをスキャンするためのシステム及び方法」拒絶査定不服審判事件〔令和元年１２月１９日国際公開、ＷＯ２０１９／２３８５５３号、令和３年１０月７日国内公表、特表２０２１－５２６７１６号〕について、次のとおり審決する。

結 論 本件審判の請求は、成り立たない。

理 由 第１ 手続の経緯 本願は、令和元年６月７日（パリ条約による優先権主張 ２０１８年６月１２日、米国、２０１８年１２月３１日、米国）の出願であって、その手続の経緯の概要は、以下のとおりである。 令和４年 １月２８日付け：拒絶理由通知書 同年 ６月 ２日 ：意見書・手続補正書の提出 同年 ７月２２日付け：拒絶理由（最後の拒絶理由）通知書 同年１０月２５日 ：意見書・手続補正書の提出 同年１２月 １日付け：（令和４年１０月２５日になされた手続補正 書の）補正の却下の決定、拒絶査定 令和５年 ４月 ６日 ：審判請求書・手続補正書の提出 令和６年 ３月 ４日付け：拒絶理由通知書（以下「当審拒絶理由通知書 」という。） 同年 ６月 ４日 ：意見書・手続補正書の提出 第２ 本願発明の認定 本願の請求項１～９に係る発明は、令和６年６月４日に提出された手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１～９に記載された事項により特定されるものと認められるところ、そのうち、その請求項１の記載は以下のとおりである（以下、請求項１に係る発明を「本願発明」という。）。 「マルチビームツールであって、 ビーム構成システムを含み、前記ビーム構成システムは、荷電粒子の一次ビームを生成するための荷電粒子源、サンプルを保持するように構成されたステージ、及び前記一次ビームをビームのアレイに分割するように構成された前記荷電粒子源と前記ステージとの間の偏向器システム、を含み、 前記ビーム構成システムは、前記ビームのアレイの行内のビームの数に基づいて決定される回転角を伴う、回転ビーム構成を提供し、 前記ビームのアレイを偏向させて、同時にｉ）前記ステージと同じ速度で前記ステージの移動に追従し、ｉｉ）前記サンプルの表面エリアに渡って１つ又は複数の組のスキャンラインをスキャンする、ように構成される、マルチビームツール。」 第３ 当審拒絶理由通知書における拒絶の理由 当審拒絶理由通知書における拒絶の理由は、請求項１に係る発明は、その最先の優先日前に日本国内又は外国において頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明である引用文献１に記載された発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない旨を含むものである。 引用文献１．特開２０１８－１７５２６号公報 引用文献２．特開平１０－１９７４６３号公報（周知技術を示す文献） 第４ 当審の判断 当審は、以下のとおり、本願発明は、引用文献１に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであると判断する。 １ 本願発明の認定 本願発明の認定は、上記第２に記載したとおりである。 ２ 引用文献の記載及び引用発明等 （１）引用文献１ 引用文献１には、次の事項が記載されている。 ア 発明の詳細な説明の記載事項 「【０００１】 本発明は、電子ビーム検査装置及び電子ビーム検査方法に関する。例えば、電子線によるマルチビームを照射して放出されるパターンの２次電子画像を取得してパターンを検査する検査装置に関する。」 「【００１７】 実施の形態１． 図１は、実施の形態１におけるパターン検査装置の構成を示す構成図である。図１において、基板に形成されたパターンを検査する検査装置１００は、マルチ電子ビーム検査装置の一例である。検査装置１００は、電子光学画像取得部１５０、及び制御系回路１６０（制御部）を備えている。電子光学画像取得部１５０は、電子ビームカラム１０２（電子鏡筒）、検査室１０３、検出回路１０６、チップパターンメモリ１２３、ステージ駆動機構１４２、及びレーザ測長システム１２２を備えている。電子ビームカラム１０２内には、電子銃２０１、照明レンズ２０２、成形アパーチャアレイ基板２０３、縮小レンズ２０５、制限アパーチャ基板２０６、対物レンズ２０７、主偏向器２０８、副偏向器２０９、一括ブランキング偏向器２１２、ビームセパレーター２１４、投影レンズ２２４，２２６、偏向器２２８、及びマルチ検出器２２２が配置されている。」 「【００２３】 図２は、実施の形態１における成形アパーチャアレイ部材の構成を示す概念図である。図２において、成形アパーチャアレイ基板２０３には、２次元状の横（ｘ方向）ｍ列×縦（ｙ方向）ｎ段（ｍ，ｎは２以上の整数）の穴（開口部）２２がｘ，ｙ方向に所定の配列ピッチＬ’で形成されている。なお、マルチビームの縮小倍率がａ倍（マルチビーム径を１／ａに縮小して基板１０１に照射する場合）である場合にはＬ’＝ａＬとなる。その場合の基板１０１上でのｘ，ｙ方向に対するマルチビームのビーム間ピッチをＬとする。実施の形態１では、ｘ方向に並ぶｍ個の穴２２が、－ｙ方向（或いは＋ｙ方向）に順にＬ’／ｍだけ位置がずれながら形成される場合を示している。図２の例では、ｘ方向に並ぶ４個の穴２２が、－ｙ方向に順にＬ’／４だけ位置がずれながら形成される場合を示している。かかる配列によって、例えばｙ方向に同じ間隔で平行に並ぶ仮想的な複数の直線上に同一ピッチで配列されるように２次元状に複数の穴２２が形成される。図２の例では、ｘ軸に対して時計回りに角度θ（＝ｔａｎ－１（１／ｍ））だけ傾いた複数の直線上に複数の穴２２が同一ピッチで配列される。或いは、ｙ軸と平行な複数の直線上に複数の穴２２が同一ピッチで配列され、各線上に配置される穴２２が順にＬ’／４だけ位置がずれる。このように、ＸＹステージ１０５の移動方向（ここでは－ｘ方向）に対して並ぶｍ個の穴２２のｙ方向位置を順にＬ’／ｍずつずらせばよい。これにより、成形アパーチャアレイ基板２０３に形成されるすべての穴２２が、ＸＹステージ１０５が走査のために連続移動する移動方向（－ｘ方向）或いは／及びＸＹステージ１０５の移動に伴いｘ方向に移動することになる検査方向に重ならないように形成できる。なお、穴２２のサイズは、Ｌ’／ｍよりも十分小さいことは言うまでもない。次に検査装置１００における電子光学画像取得部１５０の動作について説明する。」 「【００３１】 図６は、実施の形態１におけるスキャン動作の細部の一例を説明するための概念図である。図６では、ある１つの単位検査領域３３（照射領域３４）を走査する場合の一例を示している。１つの照射領域３４内には、ｘ，ｙ方向に（２次元状に）、ｍ×ｎ（Ｌ／Ｍ）個のグリッド２９が配列されることになる。かかる状態で、電子ビームカラム１０２（カラムの一例）は、直線上に同一ピッチで配列されるビーム列が複数列並ぶ複数の電子ビーム（第１の電子ビーム）により構成されるマルチビーム２０を用いて、ＸＹステージ１０５が－ｘ方向（所定の方向）に連続移動する間、ＸＹステージ１０５の移動方向（－ｘ方向）と平行な方向にマルチビーム２０のビームの照射領域が重ならないように基板１０１にマルチビーム２０を照射することによって、基板１０１上を走査する。具体的には、ＸＹステージ１０５が－ｘ方向に連続移動することで相対的にマルチビーム２０の照射領域３４が連続的にｘ方向に移動しながら、当該単位検査領域３３内を走査（スキャン動作）する。図６の例では、１つの単位検査領域３３とマルチビーム２０の照射領域３４とが一致するように重なった状態を示している。マルチビーム２０を構成する各ビームは、互いに異なるいずれかのグリッド２９を担当することになる。そして、各ショット時に、各ビームは、担当グリッド２９内の同じ位置に相当する１つの測定用画素３６を照射することになる。図６の例では、各ビームは、１ショット目に担当グリッド２９内の最下段の左から１番目の測定用画素３６を照射する。そして、副偏向器２０９によってマルチビーム２０全体を一括してｙ方向に１測定用画素３６分だけビーム偏向位置をシフトさせ、２ショット目に担当グリッド２９内の下から２段目の左から１番目の測定用画素３６を照射する。そして、副偏向器２０９によってマルチビーム２０全体を一括してｘ方向に１測定用画素３６分だけビーム偏向位置をシフトさせ、３ショット目に担当グリッド２９内の下から２段目の左から２番目の測定用画素３６を照射する。そして、副偏向器２０９によってマルチビーム２０全体を一括して－ｙ方向に１測定用画素３６分だけビーム偏向位置をシフトさせ、４ショット目に担当グリッド２９内の下から１段目の左から２番目の測定用画素３６を照射する。かかる動作を繰り返し、１つのビームで１つのグリッド２９内のすべての測定用画素３６を順に照射していく。１回のショットでは、成形アパーチャアレイ部材２０３の各穴２２を通過することによって形成されたマルチビームによって、最大で各穴２２と同数の複数のショットに応じた２次電子の束によるマルチ２次電子３００が一度に検出される。マルチビーム２０が担当するグリッド２９内のすべての測定用画素３６をスキャンするまで、ＸＹステージ１０５の移動によって偏向位置がずれないように、主偏向器２０８は、ＸＹステージ１０５の移動に追従するように、マルチビーム２０を偏向する（トラッキング動作する）。マルチビーム２０が、それぞれ担当するグリッド２９内のすべての測定用画素３６をスキャンすると、主偏向器２０８は、トラッキングリセットし、ｘ方向に隣接するそれぞれ担当する次のグリッド２９の１ショット目の画素３６の位置に各ビームが照射されるようにマルチビーム２０全体の偏向位置を一括してずらす。そして、同様に、スキャン動作を進める。 【００３２】 なお、ここでは１ショット目、２ショット目、・・・とショットを区切って説明したが、マルチビーム２０は、画素３６毎にビームをＯＮ／ＯＦＦせずに照射し続けながら偏向位置を移動させるラスタースキャン動作を行ってもよい。 【００３３】 以上のように、各ビームは、それぞれ対応する１つのグリッド２９を走査することになる。マルチビーム２０のショットにより、その都度、照射された測定用画素３６から２次電子が上方に放出される。このように、基板１０１にマルチビーム２０を照射することに起因して基板１０１から放出される２次電子をマルチ検出器２２２が検出する。マルチ検出器２２２は、各測定用画素３６から上方に放出されたマルチ２次電子３００を測定用画素３６毎（或いはグリッド２９毎）に検出する。 【００３４】 以上のようにマルチビーム２０を用いて走査することで、シングルビームで走査する場合よりも高速にスキャン動作（測定）ができる。」 「【００４０】 図１３は、実施の形態１と比較例とのスループットを比較した図である。図１３（ａ）では、比較例として、縦横（ｘ，ｙ方向）に行列状に４×２本のビームが配列される場合を示している。ｙ方向各段のｘ方向に並ぶ４つのビームは互いに重複してスキャンするため、結局、ｙ方向に並ぶ２段のビームで異なる領域を同時スキャンすることと同じになる。よって、１本のシングルビームでスキャンする場合の２倍のスループットが得られることになる。一方、図１３（ｂ）では、実施の形態１として、ｙ方向各段のｘ方向に並ぶ４つのビームを－ｙ方向に順にスキャン範囲（グリッド２９）が重ならないようにずらしているので、ｙ方向に並ぶ８段のビームで異なる領域を同時スキャンすることと同じになる。よって、１本のシングルビームでスキャンする場合の８倍のスループットが得られることになる。 【００４１】 以上のように、電子光学画像取得部１５０は、ＸＹステージ１０５が連続移動する移動方向（－ｘ方向）に重ならない複数の電子ビームによるマルチビーム２０を用いて、図形パターンが形成された被検査基板１０１上を走査し、マルチビーム２０が照射されたことに起因して被検査基板１０１から放出される、マルチ２次電子３００を検出する。走査（スキャン）の仕方、及びマルチ２次電子３００の検出の仕方は上述した通りである。マルチ検出器２２２によって検出された各測定用画素３６からの２次電子の検出データは、測定順に検出回路１０６に出力される。検出回路１０６内では、図示しないＡ／Ｄ変換器によって、アナログの検出データがデジタルデータに変換され、チップパターンメモリ１２３に格納される。そして、１つのストライプ領域３２分（或いはチップ３３２分）の検出データが蓄積された段階で、ストライプパターンデータ（或いはチップパターンデータ）として、位置回路１０７からの各位置を示す情報と共に、比較回路１０８に転送される。」 「【００５５】 実施の形態２． 実施の形態１では、マルチビームを形成する時点で、形成位置自体をＸＹステージ１０５の移動方向に重ならない位置で形成するように構成した。しかし、これに限るものではない。実施の形態２における検査装置の構成は図１と同様である。また、以下、特に説明する点以外の内容は実施の形態１と同様である。 【００５６】 図１５は、実施の形態２における検査対象基板上でのビーム配列の一例を示す図である。実施の形態２では、成形アパーチャアレイ基板２０３でｙ方向各段のｘ方向に並ぶ複数のビームをｙ方向にずらさない。すなわち、ｘ方向に沿ってｍ個のビーム列をそのままｙ方向にｎ段並べて配列する。言い換えれば、マルチビーム２０は、ｘ，ｙ方向に行列状に配列される。このままでは、上述した比較例のように、ＸＹステージ１０５の移動方向（－ｘ方向）に各段のｘ方向に並ぶビーム列が重なってしまうので、同じ領域をｘ方向に並ぶビーム列で重複してスキャンしてしまう。そこで、実施の形態２では、図１５に示すように、ｍ×ｎ本のマルチビーム２０を基板１０１上に照射する前に、マルチビーム２０像を角度θ（＝ｔａｎ-１（１／ｍ））だけ例えば時計回りに回転させる。実施の形態２では、ＸＹステージ１０５が連続移動する移動方向（－ｘ方向）に重ならないように、電子光学系でマルチビーム２０の像を回転させる。具体的には、マルチビーム２０像の回転角θは、レンズ制御回路１２４が縮小レンズ２０５と対物レンズ２０７といった電子光学系に励磁する電流値を調整すればよい。或いは、図１に図示しない静電レンズ等の像の回転に影響を与える電子光学系を追加配置し、かかる静電レンズに印可する電位によって調整してもよい。或いは、成形アパーチャアレイ基板２０３自体を回転させてもよい。 【００５７】 マルチビーム２０像を回転させることによって、各ビームのスキャン範囲が回転による変化分Δの影響を受ける。 【００５８】 図１６は、実施の形態２における回転変化分の説明をするための図である。図１６（ａ）では、成形アパーチャアレイ基板２０３の回転が無い場合の各ビームのスキャン範囲のイメージを示している。図１６（ｂ）では、成形アパーチャアレイ基板２０３を回転させた場合の各ビームのスキャン範囲のイメージを示している。回転の有無による各ビームのスキャン範囲を重ねると、図１６（ｃ）に示すように、例えばｙ方向寸法に変化分Δだけ変化する。図１６（ｃ）に示す三角形を用いて、変化分Δを計算すると、Δ＝２Ｌ（ｓｉｎ（α／２））２で定義できる。かかる変化分Δを用いて、各ビームのスキャン範囲を求める。実施の形態２におけるスキャン範囲（グリッド２９）は、ｘ方向に（Ｌ－Δ）となり、ｙ方向に（Ｌ－Δ）／ｍとなる。 【００５９】 以上のように、マルチビーム像を回転させた状態で、ＸＹステージ１０５を連続移動させながらスキャンしても、実施の形態１と同様、基板１０１上の同じ小領域を複数のビームの走査範囲に送らないようにできる。よって、直線上に同一ピッチで配列されるビーム列が複数列並ぶマルチビームを用いたパターン検査においてスループットを向上できる。」 イ 図面 【図１】 「 ［図：0001417105000001.jpg］ 」 【図２】 「 ［図：0001417105000002.jpg］ 」 【図６】 「 ［図：0001417105000003.jpg］ 」 【図１３】 「 ［図：0001417105000004.jpg］ 」 【図１５】 「 ［図：0001417105000005.jpg］ 」 【図１６】 「 ［図：0001417105000006.jpg］ 」 （２）引用発明の認定 上記（１）から、引用文献１には、実施の形態１と同様の構成の検査装置を備え、マルチビームは、画素毎にビームをＯＮ／ＯＦＦせずに照射し続けながら偏向位置を移動させるスキャン動作を行う（【００３１】・【００３２】）、実施の形態２におけるパターン検査装置（【０００１】・【００１７】）について、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる（引用発明の認定に用いた段落番号等を参考までに括弧内に付してある。以下同じ。）。 ＜引用発明＞ 「電子光学画像取得部１５０、及び制御系回路１６０を備え、前記電子光学画像取得部１５０は、電子ビームカラム１０２、検査室１０３、検出回路１０６、チップパターンメモリ１２３、ステージ駆動機構１４２、及びレーザ測長システム１２２を備え、前記電子ビームカラム１０２内には、電子銃２０１、照明レンズ２０２、成形アパーチャアレイ基板２０３、縮小レンズ２０５、制限アパーチャ基板２０６、対物レンズ２０７、主偏向器２０８、副偏向器２０９、一括ブランキング偏向器２１２、ビームセパレーター２１４、投影レンズ２２４，２２６、偏向器２２８、及びマルチ検出器２２２が配置されている検査装置１００であって、（【００１７】） 前記電子光学画像取得部１５０は、ＸＹステージ１０５が連続移動する移動方向（－ｘ方向）に重ならない複数の電子ビームによるマルチビーム２０を用いて、図形パターンが形成された被検査基板１０１上を走査し、マルチビーム２０が照射されたことに起因して被検査基板１０１から放出される、マルチ２次電子３００を検出し、（【００４１】） ｍ×ｎ本のマルチビーム２０を基板１０１上に照射する前に、マルチビーム２０像を角度θ（＝ｔａｎ－１（１／ｍ））だけ時計回りに回転させ、ＸＹステージ１０５が連続移動する移動方向（－ｘ方向）に重ならないように、電子光学系でマルチビーム２０の像を回転させるものであって、前記マルチビーム２０像の回転角θは、静電レンズ等の像の回転に影響を与える電子光学系を追加配置し、かかる静電レンズに印可する電位によって調整し、（【００５６】） １つの照射領域３４内には、ｘ，ｙ方向に（２次元状に）、ｍ×ｎ（Ｌ／Ｍ）個のグリッド２９が配列され、電子ビームカラム１０２は、直線上に同一ピッチで配列されるビーム列が複数列並ぶ複数の電子ビームにより構成されるマルチビーム２０を用いて、ＸＹステージ１０５が－ｘ方向に連続移動する間、ＸＹステージ１０５の移動方向と平行な方向にマルチビーム２０のビームの照射領域が重ならないように基板１０１にマルチビーム２０を照射することによって、基板１０１上を走査するものであって、各ビームは、１ショット目に担当グリッド２９内の最下段の左から１番目の測定用画素３６を照射し、そして、副偏向器２０９によってマルチビーム２０全体を一括してｙ方向に１測定用画素３６分だけビーム偏向位置をシフトさせ、２ショット目に担当グリッド２９内の下から２段目の左から１番目の測定用画素３６を照射し、マルチビーム２０が担当するグリッド２９内のすべての測定用画素３６をスキャンするまで、ＸＹステージ１０５の移動によって偏向位置がずれないように、主偏向器２０８は、ＸＹステージ１０５の移動に追従するように、マルチビーム２０を偏向し（トラッキング動作する）、マルチビーム２０が、それぞれ担当するグリッド２９内のすべての測定用画素３６をスキャンすると、主偏向器２０８は、トラッキングリセットし、ｘ方向に隣接するそれぞれ担当する次のグリッド２９の１ショット目の画素３６の位置に各ビームが照射されるようにマルチビーム２０全体の偏向位置を一括してずらし、同様に、スキャン動作を進め、（【００３１】） マルチビーム２０は、ショットに代えて、画素３６毎にビームをＯＮ／ＯＦＦせずに照射し続けながら偏向位置を移動させるラスタースキャン動作を行い、（【００３２】） 電子線によるマルチビームを照射して放出されるパターンの２次電子画像を取得してパターンを検査する検査装置１００。（【０００１】）」 ３ 対比・判断 （１）対比 ア 対比分析 本願発明と引用発明とを対比する。 （ア） 「マルチビームツールであって、ビーム構成システムを含み、前記ビーム構成システムは、荷電粒子の一次ビームを生成するための荷電粒子源、サンプルを保持するように構成されたステージ、及び前記一次ビームをビームのアレイに分割するように構成された前記荷電粒子源と前記ステージとの間の偏向器システム、を含［む］」との発明特定事項について 引用発明の「電子銃２０１」が一次電子ビームを生成することは明らかであるから、当該「電子銃２０１」が生成する一次電子ビームは、本願発明の「荷電粒子の一次ビーム」に相当する。 また、引用発明の「電子線によるマルチビームを照射して放出されるパターンの２次電子画像を取得してパターンを検査する検査装置１００」、「電子光学画像取得部１５０」、「電子銃２０１」、「電子光学画像取得部１５０」の「ＸＹステージ１０５」は、本願発明１の「マルチビームツール」、「ビーム構成システム」、「荷電粒子の一次ビームを生成するための荷電粒子源」、「サンプルを保持するように構成されたステージ」にそれぞれ相当する。 そして、引用発明の「成形アパーチャアレイ基板２０３、縮小レンズ２０５、制限アパーチャ基板２０６、対物レンズ２０７、主偏向器２０８、副偏向器２０９、一括ブランキング偏向器２１２、ビームセパレーター２１４、投影レンズ２２４，２２６、偏向器２２８」及び「追加配置し」た「静電レンズ等の像の回転に影響を与える電子光学系」からなるシステム（以下「システムＡ」という。）が、「電子銃２０１」が生成する電子ビームをｍ×ｎ本のマルチビーム２０に分割するように構成されたものであることは明らかであるから、引用発明の「システムＡ」は、「電子銃２０１」が生成する電子ビームをｍ×ｎ本のマルチビーム２０に分割し、当該マルチビームを偏向するように構成された偏向器といえ、当該「ｍ×ｎ本のマルチビーム２０」はビームのアレイといえるから、引用発明は、本願発明の上記発明特定事項を備える。 （イ） 「前記ビーム構成システムは、前記ビームのアレイの行内のビームの数に基づいて決定される回転角を伴う、回転ビーム構成を提供し」との発明特定事項について 引用発明のシステムＡは、「ｍ×ｎ本のマルチビーム２０を基板１０１上に照射する前に、マルチビーム２０像を角度θ（＝ｔａｎ－１（１／ｍ））だけ例えば時計回りに回転させ、ＸＹステージ１０５が連続移動する移動方向（－ｘ方向）に重ならないように、電子光学系でマルチビーム２０の像を回転させ［る］」ものであり、角度θを伴う、回転したｍ×ｎ本のマルチビーム２０の構成を提供するように構成されているから、引用発明は、上記発明特定事項を備える。 （ウ） 「前記ビームのアレイを偏向させて、同時にｉ）前記ステージと同じ速度で前記ステージの移動に追従し、ｉｉ）前記サンプルの表面エリアに渡って１つ又は複数の組のスキャンラインをスキャンする、ように構成される」との発明特定事項について ａ 引用発明のシステムＡは、「ＸＹステージ１０５が－ｘ方向に連続移動する間」、「各ビームは、１ショット目に担当グリッド２９内の最下段の左から１番目の測定用画素３６を照射し、そして、副偏向器２０９によってマルチビーム２０全体を一括してｙ方向に１測定用画素３６分だけビーム偏向位置をシフトさせ、２ショット目に担当グリッド２９内の下から２段目の左から１番目の測定用画素３６を照射」し、「マルチビーム２０が担当するグリッド２９内のすべての測定用画素３６をスキャンするまで、ＸＹステージ１０５の移動によって偏向位置がずれないように、主偏向器２０８は、ＸＹステージ１０５の移動に追従するように、マルチビーム２０を偏向する（トラッキング動作する）」ものであるから、副偏向器が１ショット目から２ショット目に向けてｙ方向にマルチビーム２０を偏向する際に、主偏向器２０８は、ＸＹステージ１０５が－ｘ方向に連続移動する速度と同じ速度で、ＸＹステージ１０５の移動に追従するように、マルチビーム２０を偏向しているといえる。 そして、引用発明が上記の動作を行うことは、本願発明の「前記ビームのアレイを偏向させて、同時にｉ）前記ステージと同じ速度で前記ステージの移動に追従［する］」ことに相当する。 ｂ また、副偏向器が１ショット目から２ショット目に向けてｙ方向にマルチビーム２０を偏向する際に、主偏向器２０８が、ＸＹステージ１０５が－ｘ方向に連続移動する速度と同じ速度で、ＸＹステージ１０５の移動に追従することによって、１ショット目に担当グリッド２９内の最下段の左から１番目の測定用画素３６を照射し、２ショット目に、前記「最下段の左から１番目の測定用画素３６」のｙ方向の真上に位置する「担当グリッド２９内の下から２段目の左から１番目の測定用画素３６」を照射することが可能となり、「マルチビーム２０は、画素３６毎にビームをＯＮ／ＯＦＦせずに照射し続けながら偏向位置を移動させるラスタースキャン動作を行[う]」から、このことは、本願発明の「スキャンラインをスキャン」することに相当する。 そして、引用発明は、「マルチビーム２０が、それぞれ担当するグリッド２９内のすべての測定用画素３６をスキャンすると、主偏向器２０８は、トラッキングリセットし、ｘ方向に隣接するそれぞれ担当する次のグリッド２９の１ショット目の画素３６の位置に各ビームが照射されるようにマルチビーム２０全体の偏向位置を一括してずらし、同様に、スキャン動作を進め[る]」ことにより、一つのグリッド２９のスキャンをした後に、ｘ方向に隣接する次のグリッド２９をスキャンすることが繰り返されるところ、前記グリッド２９は、１つの照射領域３４内に、ｘ，ｙ方向に（２次元状に）、ｍ×ｎ（Ｌ／Ｍ）個のグリッド２９が配列されたものであり、前記スキャンを繰り返すことにより、１つの照射領域３４のそれぞれのグリッド２９が全てに渡って照射されることとなる。 そうすると、引用発明が上記の動作を行うことは、本願発明の「前記ビームのアレイを偏向させて、同時に、ｉｉ）前記サンプルの表面エリアに渡って１つ又は複数の組のスキャンラインをスキャンする」ことに相当する。 ｃ 以上によれば、引用発明は、本願発明の上記発明特定事項を備える。 イ 一致点及び相違点 上記ア（ア）～（ウ）からみて、本願発明と引用発明は、下記の一致点で一致し、相違点はない。 ＜一致点＞ 「マルチビームツールであって、 ビーム構成システムを含み、前記ビーム構成システムは、荷電粒子の一次ビームを生成するための荷電粒子源、サンプルを保持するように構成されたステージ、及び前記一次ビームをビームのアレイに分割するように構成された前記荷電粒子源と前記ステージとの間の偏向器システム、を含み、 前記ビーム構成システムは、前記ビームのアレイの行内のビームの数に基づいて決定される回転角を伴う、回転ビーム構成を提供し、 前記ビームのアレイを偏向させて、同時にｉ）前記ステージと同じ速度で前記ステージの移動に追従し、ｉｉ）前記サンプルの表面エリアに渡って１つ又は複数の組のスキャンラインをスキャンする、ように構成される、マルチビームツール。」 （２）判断 上記のように、本願発明と引用発明との間に相違点はないし、仮に、相違点があるとしても、当該相違点は当業者が引用発明を実施する上で適宜採用する程度ものであるといえるから、本願発明は引用発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 （３）請求人の主張について ア 請求人は、令和６年６月４日に提出した意見書において、引用文献１の段落［００３８］及び図１１には、「ステージの移動に追従」すること、及び「ステージと同じ速度で」ステージの移動に追従することについては記載されていない旨主張する。 イ 請求人の主張について検討する。 引用文献１に、マルチビーム２０を偏向することによって基板１０１上を走査するとともに、「ステージの移動に追従」すること、及び「ステージと同じ速度で」ステージの移動に追従することが記載されていることは、上記（１）ア（ウ）で説示したとおりであるから、請求人の上記主張は採用できない。 （４）小括 以上検討のとおり、本願発明は、引用発明と相違点がないか、仮に、相違点があるとしても、当該相違点は当業者が引用発明を実施する上で適宜採用する程度ものであるといえるから、本願発明の効果は、本願発明の構成が奏するものとして、引用発明から予測される範囲内のものにすぎず、格別顕著なものということはできない。 以上のとおりであるから、本願発明は、引用発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 第５ むすび 以上のとおり、本願発明は、引用発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものあるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。