2022-701253

特許第７０８６１６２号発明「ＡＳＣの前にＳＣＲ触媒を備えるシステム内でＤＯＣとして作用するＡＳＣを有する、ＤＯＣを伴わない排気システム」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７０８６１６２号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１－４４〕について訂正することを認める。 特許第７０８６１６２号の請求項１ないし４４に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第７０８６１６２号（以下、「本件特許」という。）の請求項１～４４に係る特許についての出願は、２０１６年（平成２８年）６月１７日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２０１５年６月１８日、米国）を国際出願日として出願した特願２０１７－５６５２０２号の一部を、令和２年１２月１４日に新たな特許出願（特願２０２０－２０６８８７号）としたものであって、令和４年６月９日にその特許権の設定登録がされ、令和４年６月１７日に特許掲載公報が発行された。その後、本件特許の請求項１～４４に係る特許について、特許異議申立人 加藤 純子（以下、「異議申立人」という。）により特許異議の申立てがされたものであり、その手続の経緯は以下のとおりである。 令和 ４年１２月１６日 特許異議の申立て 令和 ５年 ５月２２日付け 取消理由通知 令和 ５年 ８月２２日 特許権者による訂正の請求及び意見 書の提出 なお、令和５年８月２２日の訂正の請求に対して、異議申立人に期間を指定して意見書を提出する機会を設けたが、指定期間内に意見書は提出されなかった。 第２ 訂正の適否について １ 訂正の内容 令和５年８月２２日にされた訂正の請求の趣旨は、本件特許の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１～４４について訂正することを求めるものであり、その訂正（以下、「本件訂正」という。）の内容は、以下のとおりである（下線部は、訂正箇所を示す）。 (1) 訂正事項１ 特許請求の範囲の請求項１に、 「入口端及び出口を含む基材と、第１のＳＣＲ触媒を含む第１のゾーンと、アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）を含む第２のゾーンとを含む触媒物品であって、ＡＳＣが第２のＳＣＲ触媒と酸化触媒とを含み、ＡＳＣが酸化触媒を含む最下層と第２のＳＣＲ触媒を含む最上層とを有する二重層であり、第１のゾーンは基材の入口側に配置され、第２のゾーンは基材の出口側に配置され、かつ第１のＳＣＲ触媒は、異なる活性成分を含むことにより 、異なる担持量の活性成分を含むことにより、又はその両方により第２のＳＣＲ触媒と異なる、触媒物品。」 と記載されているのを、 「入口端及び出口を含む基材と、第１のＳＣＲ触媒を含む第１のゾーンと、アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）を含む第２のゾーンとを含む触媒物品であって、ＡＳＣが第２のＳＣＲ触媒と酸化触媒とを含み、ＡＳＣが酸化触媒を含む最下層と第２のＳＣＲ触媒を含む最上層とを有する二重層であり、第１のゾーンは基材の入口側に配置され、第２のゾーンは基材の出口側に配置され、かつ第１のＳＣＲ触媒は、異なる活性成分を含むことにより 、異なる担持量の活性成分を含むことにより、又はその両方により第２のＳＣＲ触媒と異なり、最上層がパラジウムをさらに含む、触媒物品。」に訂正する（請求項１の記載を直接的又は間接的に引用する請求項２～４４も同様に訂正する。）。 (2) 訂正事項２ 特許請求の範囲の請求項５に、 「最上層がパラジウムをさらに含み、好ましくは、第２のＳＣＲ触媒が銅ゼオライトであり、かつ、最上層が第２のＳＣＲ触媒と担体上のパラジウムとのブレンドを含む、請求項１に記載の触媒物品。」 と記載されているのを、 「第２のＳＣＲ触媒が銅ゼオライトであり、かつ、最上層が第２のＳＣＲ触媒と担体上のパラジウムとのブレンドを含む、請求項１に記載の触媒物品。」 に訂正する（請求項５の記載を直接又は間接的に引用する請求項６～３８、４０～４４も同様に訂正する。）。 (3) 一群の請求項について 訂正前の請求項２～４４は、請求項１を直接的又は間接的に引用するものであるから、請求項１～４４は一群の請求項であり、本件訂正の請求は、この一群の請求項を訂正の単位としてされたものである。 ２ 訂正の目的の適否、新規事項の有無及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否 (1) 訂正事項１について ア 訂正事項１は、請求項１に係る「触媒物品」の発明において、アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）が酸化触媒を含む最下層と第２のＳＣＲ触媒を含む最上層とを有する二重層であることを特定しているところ、当該最上層がパラジウムをさらに含むことを特定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。 イ 訂正事項１は、訂正前の請求項１を引用する訂正前の請求項５の「最上層がパラジウムをさらに含み」という特定事項、及び本件明細書の【００７１】の「二重層アンモニアスリップ触媒は好ましくは、白金を含最下層と、銅ゼオライト、好ましくは銅チャバザイトを含む最上層とを含み、この場合パラジウムも最下層若しくは最上層又は最上層と最下層の双方に存在する。最上層は、パラジウムをさらに含むことができる。パラジウムは、最上層に存在する場合、好ましくは銅ゼオライトとのブレンド中に存在し、ここでパラジウムは、ブレンドを形成している銅ゼオライトと混合して担体上にある。」という記載に基づくものであるから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面（以下、「特許明細書等」という。）に記載した事項の範囲内の訂正である。 ウ 訂正事項１は、アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）の最上層にパラジウムをさらに含むことを限定するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 (2) 訂正事項２について ア 訂正事項２は、訂正前の請求項５において、「触媒物品」のアンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）について「最上層がパラジウムをさらに含み、好ましくは、第２のＳＣＲ触媒が銅ゼオライトであり、かつ、最上層が第２のＳＣＲ触媒と担体上のパラジウムとのブレンドを含む」と特定されていたところ、「最上層がパラジウムをさらに含み」という特定事項を本件訂正により請求項１で限定したことにより、当該特定事項を削除し、さらに「好ましくは、・・・」と任意選択的に記載した触媒の特定事項について、「好ましくは、」の記載を削除して、アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）の最上層に含まれる触媒を限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。 イ 訂正事項２は、訂正前の請求項５の特定事項において、上記アのとおり、訂正前の請求項５の「最上層がパラジウムをさらに含み、好ましくは、」の特定事項を削除して、アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）の最上層に含まれる触媒成分を限定するものであるから、特許明細書等に記載した事項の範囲内の訂正である。 ウ 訂正事項２は、請求項１で特定されたアンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）の最上層に含まれる触媒の構成をさらに限定するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 (3) 独立特許要件について 特許異議の申立ては、請求項１～４４についてされているので、訂正事項１、２に関して、特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する同法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。 ３ 小括 以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる事項を目的とするものに該当し、かつ、同条第９項において準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合する。 よって、本件特許の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、本件訂正後の請求項１～４４について訂正することを認める。 第３ 本件発明 上記「第２」のとおり、本件訂正は適法にされたと認められるので、本件特許の特許請求の範囲の請求項１～４４に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」～「本件発明４４」といい、これらをまとめて「本件発明」という。）は、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲の請求項１～４４に記載された事項により特定される、次のとおりのものである（なお、下線部は、訂正箇所を示す）。 「【請求項１】 入口端及び出口を含む基材と、第１のＳＣＲ触媒を含む第１のゾーンと、アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）を含む第２のゾーンとを含む触媒物品であって、ＡＳＣが第２のＳＣＲ触媒と酸化触媒とを含み、ＡＳＣが酸化触媒を含む最下層と第２のＳＣＲ触媒を含む最上層とを有する二重層であり、第１のゾーンは基材の入口側に配置され、第２のゾーンは基材の出口側に配置され、かつ第１のＳＣＲ触媒は、異なる活性成分を含むことにより、異なる担持量の活性成分を含むことにより、又はその両方により第２のＳＣＲ触媒と異なり、最上層がパラジウムをさらに含む、触媒物品。 【請求項２】 第１のゾーン及び第２のゾーンが同じ基材上に配置され、かつ、第１のゾーンが基材の入口側に配置され、第２のゾーンが基材の出口側に配置されている、請求項１に記載の触媒物品。 【請求項３】 第２の基材をさらに含み、第１のゾーンが第１の基材上に配置され、第２のゾーンは第２の基材上に配置され、かつ、第１の基材が第２の基材の上流に配置されている、請求項１に記載の触媒物品。 【請求項４】 第１の片部と第２の片部とを含み、第１のゾーンが第１の片部に配置され、第２のゾーンは第２の片部に配置され、かつ、第１の片部が第２の片部の上流に配置されている、請求項３に記載の触媒物品。 【請求項５】 第２のＳＣＲ触媒が銅ゼオライトであり、かつ、最上層が第２のＳＣＲ媒と担体上のパラジウムとのブレンドを含む、請求項１に記載の触媒物品。 【請求項６】 酸化触媒が、担体上、好ましくは低アンモニア貯蔵を有する担体上に白金を含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項７】 低アンモニア貯蔵を有する担体が珪酸質担体である、請求項６に記載の触媒物品。 【請求項８】 珪酸質担体が、（ａ）少なくとも１００、（ｂ）少なくとも２００、（ｃ）少なくとも２５０、（ｄ）少なくとも３００、（ｅ）少なくとも４００、（ｆ）少なくとも５００、（ｇ）少なくとも７５０、及び（ｈ）少なくとも１０００のうちの少なくとも１つのシリカ対アルミナ比を有するシリカ又はゼオライトを含む、請求項７に記載の触媒物品。 【請求項９】 珪酸質担体が、ＢＥＡ、ＣＤＯ、ＣＯＮ、ＦＡＵ、ＭＥＬ、ＭＦＩ又はＭＷＷを含む、請求項７又は８に記載の触媒物品。 【請求項１０】 担体上、好ましくは低アンモニア貯蔵を有する担体上、の白金の量に対する第２のＳＣＲ触媒の量の比率が、これらの成分の重量に基づいて、（ａ）０：１～３００：１、（ｂ）３：１～３００：１、（ｃ）７：１～１００：１、及び（ｄ）１０：１～５０：１（比の各端点を含む）のうちの少なくとも１つの範囲内にある、請求項６から９のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項１１】 白金が、白金の担体の重量＋白金の重量＋ブレンド中の第１のＳＣＲ触媒の重量の（ａ）０．０１－０．３％、（ｂ）０．０３－０．２％、（ｃ）０．０５－０．１７％、及び（ｄ）０．０７－０．１５％のうちの少なくとも１つとして存在する、請求項６から１０のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項１２】 酸化触媒が白金族金属を含む、請求項１から１１のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項１３】 酸化触媒が白金若しくはパラジウム又はこれらの混合物を含む、請求項１から１２のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項１４】 Ｐｔが約０．１ｇ／ｆｔ３から約２０ｇ／ｆｔ３の量でＡＳＣゾーンに存在する、請求項１３に記載の触媒物品。 【請求項１５】 Ｐｄが約０．１ｇ／ｆｔ３から約２０ｇ／ｆｔ３の量でＡＳＣゾーンに存在する、請求項１３又は請求項１４に記載の触媒物品。 【請求項１６】 ＰｔとＰｄが約１：０．０１から約１：１０の重量比で存在する、請求項１３から１５のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項１７】 第１のＳＣＲ触媒が卑金属、卑金属の酸化物、モレキュラーシーブ、金属交換モレキュラーシーブ又はこれらの混合物である、請求項１から１６のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項１８】 卑金属が、バナジウム（Ｖ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、クロム（Ｃｒ）、セリウム（Ｃｅ）、マンガン（Ｍｎ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）及びジルコニウム（Ｚｒ）、並びにこれらの混合物からなる群より選択される、請求項１７に記載の触媒物品。 【請求項１９】 少なくとも１種の卑金属促進剤をさらに含む、請求項１７又は請求項１８に記載の触媒製品。 【請求項２０】 モレキュラーシーブ又は金属交換モレキュラーシーブが小細孔、中細孔、大細孔又はこれらの混合物である、請求項１７から１９のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項２１】 第１のＳＣＲ触媒が、アルミノシリケートモレキュラーシーブ、金属置換アルミノシリケートモレキュラーシーブ、アルミノホスフェート（ＡｌＰＯ）モレキュラーシーブ、金属置換アルミノホスフェート（ＭｅＡｌＰＯ）モレキュラーシーブ、シリコアルミノホスフェート（ＳＡＰＯ）モレキュラーシーブ及び金属置換シリコアルミノホスフェート（ＭｅＳＡＰＳＯ）モレキュラーシーブ、並びにこれらの混合物からなる群より選択される小細孔モレキュラーシーブを含む、請求項１７から２０のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項２２】 第１のＳＣＲ触媒が、ＡＣＯ、ＡＥＩ、ＡＥＮ、ＡＦＮ、ＡＦＴ、ＡＦＸ、ＡＮＡ、ＡＰＣ、ＡＰＤ、ＡＴＴ、ＣＤＯ、ＣＨＡ、ＤＤＲ、ＤＦＴ、ＥＡＢ、ＥＤＩ、ＥＰＩ、ＥＲＩ、ＧＩＳ、ＧＯＯ、ＩＨＷ、ＩＴＥ、ＩＴＷ、ＬＥＶ、ＫＦＩ、ＭＥＲ、ＭＯＮ、ＮＳＩ、ＯＷＥ、ＰＡＵ、ＰＨＩ、ＲＨＯ、ＲＴＨ、ＳＡＴ、ＳＡＶ、ＳＩＶ、ＴＨＯ、ＴＳＣ、ＵＥＩ、ＵＦＩ、ＶＮＩ、ＹＵＧ及びＺＯＮ、並びにこれらの混合物及び／又は連晶からなる骨格型の群より選択される小細孔モレキュラーシーブを含む、請求項１７から２１のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項２３】 第１のＳＣＲ触媒が、ＣＨＡ、ＬＥＶ、ＡＥＩ、ＡＦＸ、ＥＲＩ、ＳＦＷ、ＫＦＩ、ＤＤＲ、及びＩＴＥからなる骨格型の群より選択される小細孔モレキュラーシーブを含む、請求項１７から２２のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項２４】 第１のＳＣＲ触媒が、ＡＥＬ、ＡＦＯ、ＡＨＴ、ＢＯＦ、ＢＯＺ、ＣＧＦ、ＣＧＳ、ＣＨＩ、ＤＡＣ、ＥＵＯ、ＦＥＲ、ＨＥＵ、ＩＭＦ、ＩＴＨ、ＩＴＲ、ＪＲＹ、ＪＳＲ、ＪＳＴ、ＬＡＵ、ＬＯＶ、ＭＥＬ、ＭＦＩ、ＭＦＳ、ＭＲＥ、ＭＴＴ、ＭＶＹ、ＭＷＷ、ＮＡＢ、ＮＡＴ、ＮＥＳ、ＯＢＷ、ＰＡＲ、ＰＣＲ、ＰＯＮ、ＰＵＮ、ＲＲＯ、ＲＳＮ、ＳＦＦ、ＳＦＧ、ＳＴＦ、ＳＴＩ、ＳＴＴ、ＳＴＷ、ＳＶＲ、ＳＺＲ、ＴＥＲ、ＴＯＮ、ＴＵＮ、ＵＯＳ、ＶＳＶ、ＷＥＩ及びＷＥＮ、並びにこれらの混合物及び／又は連晶からなる骨格型の群より選択される中細孔モレキュラーシーブを含む、請求項１７から２１のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項２５】 第１のＳＣＲ触媒が、ＡＦＩ、ＡＦＲ、ＡＦＳ、ＡＦＹ、ＡＳＶ、ＡＴＯ、ＡＴＳ、ＢＥＡ、ＢＥＣ、ＢＯＧ、ＢＰＨ、ＢＳＶ、ＣＡＮ、ＣＯＮ、ＣＺＰ、ＤＦＯ、ＥＭＴ、ＥＯＮ、ＥＺＴ、ＦＡＵ、ＧＭＥ、ＧＯＮ、ＩＦＲ、ＩＳＶ、ＩＴＧ、ＩＷＲ、ＩＷＳ、ＩＷＶ、ＩＷＷ、ＪＳＲ、ＬＴＦ、ＬＴＬ、ＭＡＺ、ＭＥＩ、ＭＯＲ、ＭＯＺ、ＭＳＥ、ＭＴＷ、ＮＰＯ、ＯＦＦ、ＯＫＯ、ＯＳＩ、ＲＯＮ、ＲＷＹ、ＳＡＦ、ＳＡＯ、ＳＢＥ、ＳＢＳ、ＳＢＴ、ＳＥＷ、ＳＦＥ、ＳＦＯ、ＳＦＳ、ＳＦＶ、ＳＯＦ、ＳＯＳ、ＳＴＯ、ＳＳＦ、ＳＳＹ、ＵＳＩ、ＵＷＹ及びＶＥＴ、並びにこれらの混合物及び／又は連晶からなる骨格型の群より選択される大細孔モレキュラーシーブを含む、請求項１７から２１のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項２６】 第２のＳＣＲ触媒がＣｕ－ＳＣＲ触媒、Ｆｅ－ＳＣＲ触媒、卑金属、卑金属の酸化物若しくは混合酸化物又はバナジウム触媒である、請求項１から２５のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項２７】 Ｃｕ－ＳＣＲ触媒が銅及びモレキュラーシーブを含み、Ｆｅ－ＳＣＲ触媒が鉄及びモレキュラーシーブを含む、請求項２６に記載の触媒物品。 【請求項２８】 モレキュラーシーブがアルミノシリケート、アルミノホスフェート（ＡｌＰＯ）、シリコアルミノホスフェート（ＳＡＰＯ）又はこれらの混合物である、請求項２７に記載の触媒物品。 【請求項２９】 モレキュラーシーブが、ＡＣＯ、ＡＥＩ、ＡＥＮ、ＡＦＮ、ＡＦＴ、ＡＦＸ、ＡＮＡ、ＡＰＣ、ＡＰＤ、ＡＴＴ、ＣＤＯ、ＣＨＡ、ＤＤＲ、ＤＦＴ、ＥＡＢ、ＥＤＩ、ＥＰＩ、ＥＲＩ、ＧＩＳ、ＧＯＯ、ＩＨＷ、ＩＴＥ、ＩＴＷ、ＬＥＶ、ＫＦＩ、ＭＥＲ、ＭＯＮ、ＮＳＩ、ＯＷＥ、ＰＡＵ、ＰＨＩ、ＲＨＯ、ＲＴＨ、ＳＡＴ、ＳＡＶ、ＳＩＶ、ＴＨＯ、ＴＳＣ、ＵＥＩ、ＵＦＩ、ＶＮＩ、ＹＵＧ及びＺＯＮ、並びにこれらの混合物及び／又は連晶からなる骨格型の群より選択される、請求項２７又は２８に記載の触媒物品。 【請求項３０】 モレキュラーシーブが、ＡＥＩ、ＡＦＸ、ＣＨＡ、ＤＤＲ、ＥＲＩ、ＩＴＥ、ＫＦＩ、ＬＥＶ及びＳＦＷからなる骨格型の群より選択される、請求項２７から２９のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項３１】 基材がコーディエライト、高多孔性コーディエライト、金属基材、押出ＳＣＲ、ウォールフロー型フィルター、フィルター又はＳＣＲＦである、請求項１から３０のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項３２】 第１のＳＣＲ触媒が第１のコーティングとして存在し、低アンモニア貯蔵を有する担体上の白金が第２のコーティングに存在し、ＮＨ３を含むガスが第２のコーティングを通過する前に第１のコーティングを通過する比較構成を含む触媒と比較して、約２５０℃から約３５０℃の温度でのアンモニアからのＮ２収率の改善をもたらす、請求項１から３１のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項３３】 第１のＳＣＲ触媒が第１のコーティングとして存在し、担持された白金が第２のコーティングに存在し、ＮＨ３を含むガスが第２のコーティングを通過する前に第１のコーティングを通過する比較構成を含む触媒と比較して、（ａ）約３５０℃から約４５０℃の温度でのアンモニアからのＮ２収率の改善、及び（ｂ）約３５０℃から約４５０℃の温度でのＮＯｘ生成の低減のうちの少なくとも１つをもたらす、請求項１から３２のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項３４】 第１のＳＣＲ触媒が第１のコーティングとして存在し、担持された白金が第２のコーティングに存在し、ＮＨ３を含むガスが第２のコーティングを通過する前に第１のコーティングを通過する比較構成を含む触媒と比較して、ＮＨ３からのＮ２Ｏの生成を低減させる、請求項１から３３のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項３５】 発熱を生じる、請求項１から３４のいずれか一項に記載の触媒物品。 【請求項３６】 請求項１から３５のいずれか一項に記載の触媒物品と、排気ガス中にＮＨ３を生成するか又は排気ガスにＮＨ３を導入するための第１の手段とを備える排気システムであって、排気ガス中にＮＨ３を生成するか又は排気ガスにＮＨ３を導入するための第１の手段が触媒物品の前に配置されている、排気システム。 【請求項３７】 ＣＳＦ又はＳＣＲＦをさらに備え、ＣＳＦ又はＳＣＲＦが触媒物品の下流に配置され、前記システムがＳＣＲＦを備える場合、排気ガス中にＮＨ３を生成するか又は排気ガスにＮＨ３を導入するための第２の手段が触媒物品とＳＣＲＦとの間に配置されている、請求項３６に記載の排気システム。 【請求項３８】 ＣＳＦがＣＳＦの前方に高ＰＧＭ担持量を含む、請求項３７に記載の排気システム。 【請求項３９】 請求項１に記載の触媒物品と、排気ガス中にＮＨ３を生成するか又は排気ガスにＮＨ３を導入するための手段とを備える排気システムを含むエンジン。 【請求項４０】 炭化水素を含む排気ガスを請求項１から３５のいずれか一項に記載の触媒物品と接触させることを含む、排気ガス中の炭化水素排出物を制御する方法。 【請求項４１】 炭化水素を含む排気ガスを請求項１から３５のいずれか一項に記載の触媒物品と接触させることを含む、排気ガス中の炭化水素排出物を処理する触媒において発熱を生じさせる方法。 【請求項４２】 ＮＯｘ又はＮＨ３を含む排気ガスを請求項１から３５のいずれか一項に記載の触媒物品と接触させることを含む、排気ガス中のＮＯｘ排出物を制御する方法。 【請求項４３】 ＮＯｘ又はＮＨ３を含む排気ガスを請求項１から３５のいずれか一項に記載の触媒物品と接触させることを含む、排気ガス中のＮ２Ｏ排出物を制御する方法。 【請求項４４】 請求項１から３５のいずれか一項に記載の触媒物品が、ＤＯＣを含む排気システムの一部ではない、請求項４３に記載の方法。」 第４ 特許異議申立理由の概要 異議申立人は、次のとおり、証拠方法として甲第１号証～甲第６号証（以下、例えば、甲第１号証を「甲１」のように表記する。）を提出し、本件特許は、申立理由１、２により取り消すべきものである旨主張している。 １ 申立理由１（新規性欠如） 本件特許の訂正前の請求項１、３、４、６、７、１０～３６、３９～４３に係る発明は、甲１に記載された発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当するから、訂正前の請求項１、３、４、６、７、１０～３６、３９～４３に係る特許は、特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものである。 ２ 申立理由２（進歩性欠如） 本件特許の訂正前の請求項１～４４に係る発明は、甲１に記載された発明及び甲２～６に記載された技術的事項に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、訂正前の請求項１～４４に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 ３ 証拠方法 甲１：特許第５７６９７０８号公報 甲２：特表２０１６－５１１６８４号公報 甲３：特表２０１５－５３０９２１号公報 甲４：特表２０１６－５１８２４４号公報 甲５：特許第６３７７５８８号公報 甲６：特表２０１３－５１１３７９号公報 第５ 取消理由の概要 １ 取消理由１（新規性欠如） 本件特許の訂正前の請求項１、３、４、６～３７、３９～４４に係る発明は、本件特許出願の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当するから、訂正前の請求項１、３、４、６～３７、３９～４４に係る特許は、特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものである。 ２ 取消理由２（進歩性欠如） 本件特許の訂正前の請求項１～４、６～４４に係る発明は、本件特許出願の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願の優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、訂正前の請求項１～４、６～４４に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 ３ 引用文献 異議申立人が証拠方法として提示している甲１～６のうち、甲１～５の公開日は、いずれも本件特許の出願の優先日後であるものの、それらとファミリー関係にある（開示されている技術内容が同じ）甲１～４の国際公開及び甲５の原出願の公表公報は、いずれも本件特許の出願の優先日前に公開されたものであることから、職権探知主義のもと、証拠として甲１～５とファミリー関係にある各々の国際公開又は公表公報等を、引用文献として使用した。 なお、甲１については、摘記にあたって国際公開第２０１２／００２０５２号とフォーマットのみが異なる再公表公報を使用した。 引用文献１：再公表特許ＷＯ２０１２／００２０５２号公報（甲１のファミ リー文献） 引用文献２：国際公開第２０１４／１２０６４５号（甲２のファミリー文献 ） 引用文献３：国際公開第２０１４／０２７２０７号（甲３のファミリー文献 ） 引用文献４：国際公開第２０１４／１６０２９２号（甲４のファミリー文献 ） 引用文献５：特表２０１２－５０７６６２号公報（甲５のファミリー文献） 引用文献６：特表２０１３－５１１３７９号公報（甲６） 第６ 当審の判断 上記取消理由について検討する。 １ 引用文献１～６の記載事項及び引用文献１に記載された発明 (1) 引用文献１の記載事項 「【特許請求の範囲】 【請求項１】 希薄燃焼機関の排気ガス流路に、アンモニアまたは尿素から選ばれる還元剤の噴霧手段と、選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）２個を直列に配置し、排気ガス中の一酸化窒素（ＮＯ）を酸化するとともに、排気ガス中に噴霧される前記還元剤で窒素酸化物を還元し、余剰のアンモニアを酸化する排気ガス浄化触媒装置であって、 選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）は、一体構造型担体（Ｃ）の表面に下層触媒層（Ａ）と上層触媒層（Ｂ）を有しており、下層触媒層（Ａ）が下記成分（ｉ）（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）を含み、一方、上層触媒層（Ｂ）が、下記成分（ｉ）を実質的に含まず、下記成分（ｉｉｉ）を含み、 前段の選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１）下層触媒層（Ａ１）の成分（ｉ）が、白金成分を金属換算で９０ｗｔ％以上含有し、後段の選択還元型触媒（ＳＲＯＣ２）下層触媒層（Ａ２）の成分（ｉ）が、パラジウム成分を金属換算で４０ｗｔ％以上含有することを特徴とする排気ガス浄化触媒装置。 （ｉ） 貴金属成分：白金成分又はパラジウム成分から選ばれる一種以上 （ｉｉ） アルミナ、チタニア、シリカ、ジルコニア、酸化タングステン、遷移金属酸化物、希土類酸化物、またはこれらの複合酸化物から選ばれる一種以上 （ｉｉｉ） ゼオライト ・・・・・ 【請求項８】 下層触媒層（Ａ）が一体構造型担体（Ｃ）に被覆され、更にその直上に上層触媒層（Ｂ）が前記排気ガス流に直接接触する最表面層となるように被覆されていることを特徴とする請求項１～７のいずれかに記載の排気ガス浄化触媒装置。 ・・・・・ 【請求項１１】 選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１）の上流、かつ前記噴霧手段の下流に、さらに実質的に酸化機能層を有さない選択還元触媒（ＳＣＲ）を配置したことを特徴とする請求項１０に記載の排気ガス浄化触媒装置。」 「【０００１】 本発明は、選択還元型触媒を用いた排気ガス浄化装置及び排気ガス浄化方法に関し、より詳しくは、ディーゼルエンジン等の希薄燃焼機関から排出される排気ガスに含まれる窒素酸化物をアンモニアと選択還元触媒によって浄化する技術において、低温でも窒素酸化物を効果的に浄化できるとともにアンモニアの漏出を抑制できる選択還元型触媒を用いた排気ガス浄化装置及び排気ガス浄化方法に関するものである。」 「【００２５】 １．選択還元型触媒（ＳＲＯＣ） 本発明の排気ガス浄化触媒装置において、使用される選択還元型触媒は、酸化機能層を有する選択還元触媒（以下、選択還元酸化触媒、またはＳＲＯＣ（Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ Ｃａｔａｌｙｓｔ）ということがある）であって、還元剤としてアンモニアまたは尿素を使用して、希薄燃焼機関から排出される排気ガス中の窒素酸化物を浄化する機能を有する。 この選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）は、一体構造型担体（Ｃ）の表面に排気ガス中の一酸化窒素（ＮＯ）の酸化機能を有する下層触媒層（Ａ）と、アンモニアの吸着機能を有する上層触媒層（Ｂ）を有しており、排気ガス流れ中に前段の選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１）、後段の選択還元型触媒（ＳＲＯＣ２）として直列に配置される。 すなわち、選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）は、一体構造型担体（Ｃ）の表面に下層触媒層（Ａ）と上層触媒層（Ｂ）を有しており、下層触媒層（Ａ）が下記成分（ｉ）（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）を含み、一方、上層触媒層（Ｂ）が、下記成分（ｉ）を実質的に含まず、下記成分（ｉｉｉ）を含み、前段の選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１）の成分（ｉ）が、白金成分を金属換算で９０ｗｔ％以上含有し、後段の選択還元型触媒（ＳＲＯＣ２）の成分（ｉ）が、パラジウム成分を金属換算で４０ｗｔ％以上含有する。 （ｉ） 貴金属成分：白金成分又はパラジウム成分から選ばれる一種以上 （ｉｉ） アルミナ、チタニア、シリカ、ジルコニア、酸化タングステン、遷移金属酸化物、希土類酸化物、またはこれらの複合酸化物から選ばれる一種以上 （ｉｉｉ） ゼオライト 【００２６】 （Ａ）下層触媒層 本発明において、選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）の下層触媒層（Ａ）は、貴金属成分の成分（ｉ）：白金成分又はパラジウム成分から選ばれる一種以上を必須成分とし、ロジウムを含むことができる。白金、パラジウムは酸化活性が高く、優れたＮＨ３浄化性能を発揮する。 ・・・・・ 【００２９】 下層触媒層（Ａ）の触媒成分であるＰｔ、Ｐｄは、優れた酸化性能を発揮する活性種として知られ、このような活性種は触媒中で比表面積を高く維持することで活性面が増え、高い活性を発揮することができる。 ・・・・・ 」 「【００３４】 また、この下層を形成する触媒には、アンモニアによって優れた脱硝性能を発揮する種々のゼオライト成分（ｉｉｉ）が使用される。ゼオライト成分の種類は、特に制限されずβ型、ＭＦＩ型、ＣＨＡ型など適宜選択できるが、三次元細孔構造を有するβ型、ＭＦＩ型のゼオライトが好ましい。 ・・・・・ 」 「【００４５】 （Ｂ）上層触媒層 本発明に使用される選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）の上層触媒層（Ｂ）は、ゼオライト成分（ｉｉｉ）を必須とし、貴金属成分を含まずに構成される。」 「【００４９】 （Ｃ）一体構造型担体 本発明で選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）に使用される一体構造型担体としては、特に制限されるわけではないが、ハニカム構造型担体の他にも、細い繊維状物を編んだシート状構造体、比較的太い繊維状物からなるフェルト様の不燃性構造体が使用できる。中でもハニカム構造型担体が好ましく、このようなハニカム構造型担体の表面に触媒成分を被覆したものを、以下、ハニカム構造型触媒ということがある。 【００５０】 ハニカム構造型担体は、特に限定されるものではなく、公知のハニカム構造型担体の中から選択可能である。このようなものには、フロースルー型担体や、ＤＰＦ、ＣＳＦに用いられるウォールフロー型担体があるが、選択還元触媒（ＳＣＲ）の後段にスリップＮＨ３の浄化のみを目的として使用するのであればフロースルー型担体が好ましい。 ・・・・・ 」 「【００５３】 ２ 選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）による反応メカニズム 図４は、本発明の排気ガス浄化触媒装置で使用される選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）の構成を示し、想定される基本的な反応機構を簡単に模式化したものである。 本発明では、ハニカム担体などの一体構造型担体に酸化機能を有する下層触媒層（Ａ）が形成され、この酸化機能層の上に還元機能を有する上層触媒層（Ｂ）が形成されている。図４では、触媒層は上層と下層の二層のみで構成されているが、このように上層、下層の間に第三の層を有さない構成は、ガス拡散性に有利であり、ＮＨ３、ＮＯ２など反応に必要な成分を層間で供給、排出するのに効果的である。しかし、本発明ではこの模式図の構成に限定されず、層間、構造担体と下層の間、上層の表面等に、剥離対策、硫黄被毒対策、脱硝促進対策、他の排気ガス成分の浄化等を目的として別途被覆層を設けても良い。ただし、別途設けられる層は本発明の効果を阻害してはならない。なお、図４には図を簡略化するために助触媒やバインダーを図示していないが、これらを適宜使用できることはいうまでも無い。 【００５４】 本発明において、選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）がＮＨ３浄化（酸化）性能とＮＯｘの浄化性能を発揮する理由は定かでないが、図４では、主に以下の３つの反応経路によって脱硝反応が促進されるものとしてモデル化している。図の矢印（１）のように、選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）に排気ガス中のＮＯ、ＮＯ２が流入し、ＮＨ３が供給される。 【００５５】 反応経路の概略は、第一に、「上層のＳＣＲ成分（ゼオライト）に、ＮＯ、ＮＯ２などのＮＯｘ成分と共に還元剤であるＮＨ３が供給され、ＮＯｘがＮ２とＨ２Ｏ（図示せず）として排出される反応経路」、第二に、「上層を通過して下層に届いたＮＯが貴金属成分（ＰｔまたはＰｄ）によってＮＯ２に酸化され、このＮＯ２が上層に移行してＳＣＲ成分と接触し、上層のＳＣＲ成分上に吸着保持されたＮＨ３と反応し、Ｎ２とＨ２Ｏとして排出される反応経路（図４中、点線で示された「ＳＣＲ経路：Ａ」）」、そして、第三に、「下層に届いたＮＯが貴金属によってＮＯ２に酸化され、このＮＯ２が下層のＳＣＲ成分に供給され、下層のＳＣＲ成分に吸着保持されたＮＨ３と反応し、Ｎ２とＨ２Ｏ（図示なし）として排出される反応経路（図４中、実線で示す「ＳＣＲ経路：Ｂ」）」となる。 【００５６】 図４の貴金属成分を介した反応経路では、ＮＯとＮＨ３との反応性よりも、ＮＯ２とＮＨ３との反応性の方が優れ、貴金属成分を介してＮＯをＮＯ２に酸化したうえで、上層下層の各ＳＣＲ成分（ゼオライト）に供給することにより脱硝反応が促進される。 本発明では、貴金属成分とＳＣＲ成分の位置関係も構成上重要なポイントである。本発明の触媒において、貴金属成分は上層には含まれず下層のみに含まれている。それは、白金やパラジウム等の貴金属成分は、還元成分の酸化反応を促進する機能に優れるため、貴金属成分が選択還元酸化触媒の上層に有ると、ＳＣＲ成分におけるＮＨ３とＮＯｘの反応よりも、ＮＨ３と排気ガス中の酸素との反応が優先して進行し、ＮＨ３に由来した新たなＮＯｘが発生し、還元されずそのまま排出されてしまうためである。本発明における貴金属成分は下層にのみ含まれることで、仮にＮＨ３に由来した新たなＮＯｘが下層で発生し、この新たなＮＯｘが下層で還元しきれない場合であっても、この新たなＮＯｘは上層を通過することで浄化されるので還元されずそのまま排出されることは無い。」 「【００６５】 ３．選択還元触媒（ＳＣＲ） 本発明において選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）は、還元剤としてアンモニアまたは尿素を使用して、希薄燃焼機関から排出される排気ガス中の一酸化窒素（ＮＯ）を酸化するとともに、排気ガス中に噴霧される前記還元剤で窒素酸化物を還元し、余剰のアンモニアを酸化することから、同様に、還元剤としてアンモニア水溶液または尿素水溶液を使用して、排気ガス中の窒素酸化物を浄化するための選択還元触媒（ＳＣＲ）としても利用できる。 【００６６】 ディーゼルエンジン等、希薄燃焼機関からは、高温で希薄燃焼されることでＮＯｘが排出される。このＮＯｘを浄化するため、排気ガスと共に還元剤を選択還元触媒に供給しＮＯｘを浄化するために用いられるのがＳＣＲ触媒である。このようなＳＣＲでは、還元剤としてＨＣ、アルデヒド、ＮＨ３成分が用いられるが、ＮＨ３成分を還元剤としたＳＣＲに使用する場合に優れた効果を発揮する。以下、ＳＣＲというときはこのＮＨ３成分を還元剤としたＳＣＲのことを指す。 このようなＳＣＲ触媒は、公知のものを使用することが出来るが、本発明に好ましく使用されるＳＣＲ触媒を構成する成分は、（ＳＲＯＣ１）（ＳＲＯＣ２）と同様に、成分（ｉｉｉ）のゼオライトを必須成分とし、任意成分として（ＳＲＯＣ１）（ＳＲＯＣ２）と同様の成分（ｉｉ）、アルミナ、チタニア、シリカ、ジルコニア、酸化タングステン、遷移金属酸化物、希土類酸化物、またはこれらの複合酸化物から選ばれる一種以上の成分を使用できる。このようなＳＣＲ触媒は、還元成分を使用してＮＯｘを還元浄化する機能に特化しており、（ＳＲＯＣ１）（ＳＲＯＣ２）のような酸化機能を有さない点において相違する。そのため、下層（Ａ１）（Ａ２）に含まれる触媒成分のような白金、パラジウム等の貴金属成分は（ＳＲＯＣ１）（ＳＲＯＣ２）よりもその量を少なくするか、全く含まないことがより望ましい。」 「【００６９】 本発明に係る選択還元型触媒を、自動車用に使用する場合、他の作用を発揮する触媒と組み合わせて使用することができる。以下、その配置を前述したものを含めて例示する。 なお、以下の例示では、酸化触媒をＤＯＣと表記し、本発明の選択還元酸化触媒をＳＲＯＣ１、ＳＲＯＣ２と表記し、ＳＲＯＣ１、ＳＲＯＣ２以外の選択還元触媒をＳＣＲと表記し、排気ガス中の煤や可溶性有機成分（ＳＯＦ）を濾し取るフィルターをＤＰＦ（酸化触媒を被覆したＣＳＦを含む）と表記する。また（ＮＨ３）は、還元剤としての尿素水溶液、アンモニア水溶液などの噴霧供給位置をあらわしている。また、本発明に使用されるＮＨ３成分は、尿素水溶液、アンモニア水溶液などの噴霧供給による他、ＳＣＲ、ＳＲＯＣ１、ＳＲＯＣ２の前段に配置される触媒によって、排気ガス中の成分、または燃料成分を使用して自己生成するものであってもよく、バイオ燃料を使用した際に発生することがあるアルデヒド類を使用しても良い。このように還元成分を自己生成する場合にも、必要に応じて別途還元成分を外部から噴霧供給しても良い。 【００７０】 配置例（１）：ＤＯＣ＋（ＮＨ３）＋ＳＲＯＣ１＋ＳＲＯＣ２ 配置例（２）：ＤＯＣ＋（ＮＨ３）＋ＳＣＲ＋ＳＲＯＣ１＋ＳＲＯＣ２ ・・・・・ 【００７３】 （配置例（２）：「ＤＯＣ＋還元成分供給部位＋ＳＣＲ触媒＋ＳＲＯＣ１＋ＳＲＯＣ２」） この配置は、図２の「ＤＯＣ＋ＳＲＯＣ１＋ＳＲＯＣ２」配置に対して、図３のように、ＳＣＲ触媒を加えたものである。 すなわち、この排気ガス浄化触媒装置は、排気ガス流路に、一酸化窒素、炭化水素の酸化機能を有する酸化触媒（ＤＯＣ）と、その後段に前記酸化機能層を有する選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１、ＳＲＯＣ２）を配置し、前記酸化触媒の下流、かつ前記選択還元型触媒の上流側に、尿素水溶液もしくはアンモニア水溶液を供給するための噴霧手段が配置するとともに、選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１、ＳＲＯＣ２）の上流、かつ前記噴霧手段の下流に、さらに実質的に酸化機能層を有さない選択還元触媒（ＳＣＲ）が配置される。 そして、この排気ガス浄化触媒装置を用いて、希薄燃焼機関から排出される排気ガスを前記酸化触媒（ＤＯＣ）に通過させ、排気ガス中の一酸化窒素を二酸化窒素に転化した後、尿素水溶液またはアンモニア成分を噴霧供給して、前記選択還元触媒（ＳＣＲ）を通過させることで、排気ガス中の窒素酸化物を還元し、さらに、前記選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１、ＳＲＯＣ２）を通過させることで、排気ガス中の余剰アンモニアを酸化浄化する排気ガス浄化方法である。 本発明のＳＲＯＣ１＋ＳＲＯＣ２の配置は、優れたＮＨ３浄化機能を有することから、排気ガス流れに対し、公知のＳＣＲ触媒の後段に配置し、ＳＣＲからスリップしてくるＮＨ３を効率的に酸化することが可能である。」 「【実施例】 【００７８】 以下に実施例及び比較例を示し、本発明の特徴を一層明確にする。なお、本発明は、これら実施例の態様に限定されるものではない。なお、本実施例、並びに比較例に使用するＳＲＯＣの下層触媒成分と上層触媒成分は、次に示す方法によって調製した。 【００７９】 ［Ｐｔ系ＳＲＯＣ：ＳＲＯＣ（ａ）の製造］ ＝下層（ＮＨ３酸化機能を有する触媒層）＝ 貴金属成分原料としての塩化白金水溶液を、母材としてのチタニア粉末（ＢＥＴ値：１００ｍ２／ｇ）に含浸担持させ（金属Ｐｔ換算：２．５ｗｔ％）、更に水と、鉄元素でイオン交換したβ型ゼオライト（鉄元素換算：濃度２ｗｔ％ イオン交換量７０％ ＳＡＲ＝４０）と、バインダーとしてのシリカを加えて濃度調整し、ボールミルを用いてミリングして、ＳＲＯＣ（ａ）に使用する下層部用のＮＨ３酸化触媒部のスラリーを得た。このスラリーをウオッシュコート法でハニカムフロースルー型コージェライト担体（セル密度：３００ｃｅｌ／ｉｎｃｈ、壁厚：５ｍｉｌ、長さ：３ｉｎｃｈ、直径：１ｉｎｃｈ）に被覆し、１５０℃で１時間乾燥した後、大気雰囲気下、５００℃で２時間焼成した。下層の厚さは２０～１２０μｍであった。 【００８０】 ＝上層（ＳＣＲ層）＝ その後、鉄元素でイオン交換したβ型ゼオライト（鉄元素換算：濃度２ｗｔ％、イオン交換量７０％）（ＳＡＲ＝４０）、及び鉄元素とセリウム元素でイオン交換したβ型ゼオライト（鉄元素換算：濃度２ｗｔ％、イオン交換量７０％）（セリウム元素換算：濃度０．１ｗｔ％、イオン交換量５％）（ＳＡＲ＝４０）、水とバインダーとしてのシリカを、ボールミルにてミリングしてＳＲＯＣ（ａ）の上層部用のスラリーを得た。このスラリーを、下層部がコーティングされたハニカムフロースルー型コージェライト担体にウオッシュコート法をもって被覆し、１５０℃で１時間乾燥した後、大気雰囲気下、５００℃で２時間焼成した。 このようにして得られたＳＲＯＣ（ａ）の触媒組成を表１に記す。なお、表１中の数値は、ハニカムフロースルー型コージェライト担体の単位体積あたりの担持量（ｇ／Ｌ）であり、Ｐｔは金属換算のＰｔ成分の重量である。上層の厚さは、４０～１２０μｍであった。 【００８１】 【表１】 ［図：0001406691000001.jpg］ 」 「【００９０】 上記ＳＲＯＣ（ａ）、ＳＲＯＣ（ｂ）、ＳＲＯＣ（ｃ）、ＳＲＯＣ（ｄ）、ＳＲＯＣ（ｅ）、を、φ８×Ｌ４ｍｍで切り出し、それらを下記触媒レイアウトのＳＣＲの後方に直列で２個配置することを想定し、以下のように実施例、比較例の排気ガス浄化触媒装置を得た。各触媒装置を表６にあらわす。表中｛ ｝内には各ＳＲＯＣに含まれる貴金属の種類を記す。また、｛［（ ）］｝の（ ）内の数字は｛ ｝内におけるＰｔとＰｄの含有量を表す。 【００９１】 【表６】 ［図：0001406691000002.jpg］ ・・・・・ 【００９２】 ＜触媒性能評価＞（ＮＨ３スリップ評価） 各実施例、比較例の触媒について、大気雰囲気中で７００℃、２０時間の耐久（Ａｇｅｉｎｇ）を施した後、下記モデルガス条件のもとＮ２生成量を測定した。なお、本発明の評価に使用したモデルガスの組成は、実際の車両に搭載されるエンジンから排出される排気ガスの流れの中に、下記排気ガス浄化触媒装置を配置し、その後方からスリップするＮＨ３濃度の最高値を参考にして設定したものである。参考にした排気ガスの測定条件を「エンジン排気ガス測定条件」としてあわせて記す。 下記「エンジン排気ガス測定条件」におけるＳＣＲ後段からスリップＮＨ３の濃度は、空間速度が概ね１００，０００ｈ－１の時に最高値を示し、概ね９００ｐｐｍであったが、本発明の評価にあたっては、本発明の触媒装置の効果をより顕著に表すため、使用したモデルガス中のＮＨ３濃度は概ねその倍の濃度とした。 【００９３】 ＜エンジン排気ガス測定条件＞ ・使用エンジン：３Ｌディーゼル ・触媒レイアウト：ＤＯＣ＋ＣＳＦ＋（尿素水溶液の噴霧）＋ＳＣＲ ・走行モード：ＥＵモード ・噴霧尿素濃度（アンモニア換算）：ＮＨ３／ＮＯｘ比＝１．０ ・使用したＤＯＣ： ［母材：γ－アルミナ、Ｐｔ担持量：１．５ｇ／Ｌ、Ｐｄ担持量：０．５ｇ／Ｌ、ハニカムのタイプ：フロースルー型、ハニカムサイズ：φ１４．４ｃｍ（５．６６ｉｎｃｈ）×１５．２ｃｍ（６ｉｎｃｈ）、ハニカムのセル密度：４６．５ｃｅｌｌ／ｃｍ２（３００ｃｅｌｌ／ｉｎｃｈ）、セルの壁の厚み：０．１３ｍｍ（５ｍｉｌ）］ ・使用したＣＳＦ（触媒化したＤＰＦ）： ［母材：γ－アルミナ、Ｐｔ担持量：１ｇ／Ｌ、ハニカムのタイプ：ウォールフロー型、ハニカムサイズ：φ１４．４ｃｍ（５．６６インチ）×１５．２ｃｍ（６インチ）、ハニカムのセル密度：４６．５ｃｅｌｌ／ｃｍ２（３００ｃｅｌｌ／ｉｎｃｈ）、セルの壁の厚み：０．３ｍｍ（１２ｍｉｌ）］ ・使用したＳＣＲ触媒： ［Ｆｅ－βゼオライト担持量：１８０ｇ／Ｌ］、ハニカムのタイプ：ウォールフロー型、ハニカムサイズ：φ１９ｃｍ（７．５インチ）×１５．２ｃｍ（６インチ）ハニカムのセル密度：６２ｃｅｌ／ｃｍ２（４００ｃｅｌｌ／ｉｎｃｈ）、セルの壁の厚み：０．１５ｍｍ（６ｍｉｌ）］ ・尿素水溶液濃度：３１．８～３３．３ｗｔ％ ・尿素噴霧量： ＮＯｘ量の決定は、先ず尿素水溶液を噴霧せずにエンジンを稼動させた状態でエンジンから排出されるＮＯｘ量の変化を把握した。その逐次変化するＮＯｘ量データに対し、ＮＨ３／ＮＯｘモル比＝１となるように、１秒毎に噴射される尿素水溶液量を設定した。 【００９４】 ＜測定条件＞ ・モデルガス組成中の成分： ＮＨ３：２０００ｐｐｍ，ＮＯ：５００ｐｐｍ， Ｏ２：５％，Ｈｅ：ｂａｌａｎｃｅ ・各ＳＲＯＣの触媒サイズ：φ８×４ｍｍ の２個使いタンデム（０．２ｃｃ ×２個 ｔｏｔａｌ ０．４ｃｃ） ・ガス流量：３００ｃｃ／ｍｉｎ ・ＳＶ（空間速度）：４５，０００ｈ－１ ・評価温度の範囲：５００℃、４００℃、３００℃ ・・・・・ 【００９５】 ［評価］ 本発明の実施例、比較例の評価では、自動車用ディーゼルエンジンにおいて、尿素を還元剤とし、ＳＣＲ触媒を使用して脱硝を行った後の排気ガスを基準にし、更にＮＨ３濃度を増したモデルガスを使用し、より過酷な条件下で排気ガス浄化触媒装置の評価を行っている。 その結果、本発明の各実施例では、各比較例に比べ低温から高温までＳＲＯＣ通過後のＮ２強度が高かった。 ・・・・・ 」 「【図１】 ［図：0001406691000003.jpg］ 」 「【図３】 ［図：0001406691000004.jpg］ 【図４】 ［図：0001406691000005.jpg］ 」 (2) 引用文献２～６の記載事項 引用文献２～４は、上流側と下流側とで異なる触媒機能を有する触媒層を同じ基材上に配置することが記載され、引用文献５は、ＳＣＲ機能を有する触媒として、シリカ／アルミナ分子比（ＳＡＲ）が１０～２００のＣＨＡ等のアルミノケイ酸塩ゼオライトが記載され、引用文献６は、触媒スートフィルタにおいて、下流側よりも上流側の白金族金属の濃度を高くすることが記載されている。 (3) 引用文献１に記載された発明 （ア）引用文献１には、以下のような事項が記載されているといえる。 ａ【０００１】などによると、希薄燃焼機関から排出される排気ガスに含まれる窒素酸化物をアンモニアと選択還元触媒を用いて浄化する排気ガス浄化装置及びこの装置を用いた排気ガス浄化方法に関する技術について記載されている。 ｂ【００７０】、【００７３】及び図３に記載の配置例（２）に着目すると、選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１）が配置され、その上流に選択還元触媒（ＳＣＲ）が配置された排気ガス浄化装置及びこれを用いた排気ガス浄化方法が記載されている。ここで、選択還元触媒（ＳＣＲ）を含む配置を「第１の配置」と称し、選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１）を含む配置を「第２の配置」と称することとすると、第１の配置は上流側であり、第２の配置は下流側である。 ｃ【請求項１】、【００２５】などによると、「選択還元型触媒（ＳＲＯＣ １）」は、一体構造型担体（Ｃ）の表面に、ゼオライト及び貴金属成分を含む下層触媒層（Ａ１）と、ゼオライトを含む上層触媒層（Ｂ１）とを有していることから、選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１）は、ゼオライト及び貴金属成分を含む下層触媒層（Ａ１）とゼオライトを含む上層触媒層（Ｂ１）とを有する二層構造であるといえる。 そして、【請求項１】及び【００４５】によると、上層触媒層（Ｂ１）は、白金成分又はパラジウム成分から選ばれる１種以上の貴金属成分を含まない。 ｄ【００６５】、【００６６】によると、選択還元触媒（ＳＣＲ）はゼオライトを含み、また、【００９３】や図３の記載を参照すると、選択還元触媒（ＳＣＲ）も一体構造型担体の表面に触媒を担持しているといえる。 （イ）以上のことから、引用文献１には、次の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。 「一体構造型担体と、選択還元触媒（ＳＣＲ）を含む第１の配置と、選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１）を含む第２の配置とを含む排気ガス浄化触媒装置であって、 第１の配置は上流側であり、第２の配置は下流側であり、 選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１）は、ゼオライト及び貴金属成分を含む下層触媒層（Ａ１）とゼオライトを含む上層触媒層（Ｂ１）とを有する二層構造であり、上層触媒層（Ｂ１）は、白金成分又はパラジウム成分から選ばれる一種以上の貴金属成分を含まず、 選択還元触媒（ＳＣＲ）はゼオライトを含む、排気ガス浄化触媒装置。」 ２ 対比・判断 (1) 本件発明１について （ア）本件発明１と引用発明１とを対比する。 引用発明１の「一体構造型担体」は、基材であり、排気ガスの入口端及び出口を当然有するから、本件発明１の「入口端及び出口を含む基材」に相当する。 引用発明１の「排気ガス浄化触媒装置」は、本件発明１の「触媒物品」に相当する。 引用発明１の「選択還元触媒（ＳＣＲ）」、「第１の配置」、「選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１）」、「第２の配置」は、本件発明１の「第１のＳＣＲ触媒」、「第１のゾーン」、「アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）」、「第２のゾーン」にそれぞれ相当する。 引用発明１の「選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１）」における「ゼオライト及び貴金属成分を含む下層触媒層（Ａ１）」、「ゼオライトを含む上層触媒層（Ｂ１）」及び「二層構造」は、それぞれ本件発明１の「ＡＳＣ」における「酸化触媒を含む最下層」、「第２のＳＣＲ触媒を含む最上層」及び「二重層」に相当する。 そして、引用発明１において「選択還元触媒（ＳＣＲ）」の「第１の配置は上流側」であることは、「選択還元触媒（ＳＣＲ）」が「一体構造型担体」の入口側に配置されることであるから、本件発明１の「第１のＳＣＲ触媒」を含む「第１のゾーンは基材の入口側に配置され」ることに相当し、引用発明１において「選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１）」の「第２の配置は下流側」であることは、「選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１）」が「一体構造型担体」の出口側に配置されることであるから、本件発明１の「アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）」を含む「第２のゾーンは基材の出口側に配置され」ることに相当する。 （イ）そうすると、本件発明１と引用発明１とは、 「入口端及び出口を含む基材と、第１のＳＣＲ触媒を含む第１のゾーンと、アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）を含む第２のゾーンとを含む触媒物品であって、ＡＳＣが第２のＳＣＲ触媒と酸化触媒とを含み、ＡＳＣが酸化触媒を含む最下層と第２のＳＣＲ触媒を含む最上層とを有する二重層であり、第１のゾーンは基材の入口側に配置され、第２のゾーンは基材の出口側に配置される、触媒物品。」の点で一致し、以下の点で一応相違する。 （相違点） 相違点１：本件発明１は、「第１のＳＣＲ触媒は異なる活性成分を含むことにより、異なる担持量の活性成分を含むことにより、又はその両方により第２のＳＣＲ触媒と異なる」ことが特定されているのに対して、引用発明１は、「選択還元触媒（ＳＣＲ）」と「上層触媒層（Ｂ１）」とは、単にゼオライトを含むことが規定されている点。 相違点２：本件発明１は、アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）の第２のＳＣＲ触媒を含む「最上層がパラジウムをさらに含む」ことが特定されているのに対して、引用発明１は、本件発明１のアンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）に相当する選択還元型触媒（ＳＲＯＣ１）において、「上層触媒層（Ｂ１）は白金成分又はパラジウム成分から選ばれる一種以上の貴金属成分は含ま」ない点。 （ウ）事案に鑑み、上記相違点２について検討する。 引用発明１では、「上層触媒層（Ｂ１）は、白金成分又はパラジウム成分から選ばれる一種以上の貴金属成分は含ま」ない触媒構造とすることで、「上層のＳＣＲ成分（ゼオライト）に、ＮＯ、ＮＯ２などのＮＯｘ成分と共に還元剤であるＮＨ３が供給され、ＮＯｘがＮ２とＨ２Ｏとして排出される反応経路」、次に、「上層を通過して下層に届いたＮＯが貴金属成分（Ｐｔ又はＰｄ）によってＮＯ２に酸化され、このＮＯ２が上層に移行してＳＣＲ成分と接触し、上層のＳＣＲ成分上に吸着保持されたＮＨ３と反応し、Ｎ２とＨ２Ｏとして排出される反応経路（図４中、点線で示された「ＳＣＲ経路：Ａ」）」、そして、「下層に届いたＮＯが貴金属によってＮＯ２に酸化され、このＮＯ２が下層のＳＣＲ成分に供給され、下層のＳＣＲ成分に吸着保持されたＮＨ３と反応し、Ｎ２とＨ２Ｏとして排出される反応経路（図４中、実線で示す「ＳＣＲ経路：Ｂ」）」を構成し、図４の貴金属成分を介した反応経路では、ＮＯとＮＨ３との反応性よりも、ＮＯ２とＮＨ３との反応性の方が優れ、貴金属成分を介してＮＯをＮＯ２に酸化した上で、上層下層の各ＳＣＲ成分（ゼオライト）に供給することにより脱硝反応が促進されるというものである（引用文献１：【００５５】、【００５６】、図４）。 ここで、白金やパラジウム等の貴金属成分は、還元成分の酸化反応を促進する機能に優れるため、選択還元型触媒（ＳＣＯＲ）において、貴金属成分が選択還元酸化触媒の上層に有ると、ＳＣＲ成分におけるＮＨ３とＮＯｘの反応よりも、ＮＨ３と排気ガス中の酸素との反応が優先して進行し、ＮＨ３に由来した新たなＮＯｘ成分が発生し、還元されずそのまま排出されてしまうため、貴金属成分は上層には含まれず下層のみに含まれるようにしている（引用文献１：【００５６】）。 そうすると、引用発明１は、上層触媒層（Ｂ１）において、ゼオライトと共にパラジウムなどの貴金属成分を含むものではないから、上記相違点２は、本件発明１と引用発明１との実質的な相違点である。 そして、上記のとおり、引用発明１には、上層触媒層（Ｂ１）にパラジウムを含むようにすることに阻害要因があるといえるから、引用文献１の他の記載や引用文献２～６に記載された技術的事項を参照したとしても、当業者は、引用発明１において、上層触媒層（Ｂ１）にパラジウムを含有させるようなことはしない。 したがって、本件発明１は、引用文献１に記載された発明とはいえないし、また、引用文献１に記載された発明及び引用文献２～６に記載された技術的事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるともいえない。 (2) 本件発明２～４４について 本件発明２～４４は、本件発明１を引用し、その発明特定事項を全て含むものであるから、引用文献１に記載された発明とはいえないし、また、引用文献１に記載された発明及び引用文献２～６に記載された技術的事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるともいえない。 ３ 特許異議申立書における異議申立人の主張について 上記相違点２の本件発明１における特定事項、すなわち、訂正前の請求項５に係る発明の特定事項である「最上層がパラジウムをさらに含み」に関して、異議申立人は、次のように主張している。 「本件発明５は、要するに、アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）の最上層を構成する第２のＳＣＲ触媒（甲第１号証に開示された発明の「選択還元型触媒ＳＲＯＣ上層」に相当）がパラジウムを含有する場合は、第２のＳＣＲ触媒がパラジウムと銅ゼオライトとのブレンドとして担体上に形成されていることを特定したものであると認められる。 この点について、甲第１号証には、選択還元型触媒ＳＲＯＣの上層触媒層がゼオライト成分を必須とするが、貴金属成分を含まずに構成されることが開示されており（［００４５］）、パラジウムを含んでいない点や、銅ゼオライトとのブレンドとする点において、両発明は相違していると言える。 しかしながら、甲第１号証に開示された発明は、選択還元型触媒ＳＲＯＣの上層触媒層（本件特許における「第２のＳＣＲ触媒」に相当）において、ＮＯ、ＮＯ２などのＮＯｘ成分と共に還元剤であるＮＨ３を供給して、ＮＯｘをＮ２とＨ２Ｏとに還元し、選択還元型触媒ＳＲＯＣの下層触媒層（本件特許の「酸化触媒を含む最下層」に相当）において、上層触媒層を透過して下層触媒層に届いたＮＯを白金やパラジウム等の貴金属成分によりＮＯ２に酸化させ、生じたＮＯ２を上層触媒層にてＮ２とＨ２Ｏとに還元するものである（［００５５］）。そのため、上層触媒層にはパラジウムを含まなくてよい構成とされているものと考えられる。 してみれば、甲第１号証の［００５５］の記載に接した当業者であれば、上層触媒層にパラジウムを含有させておけば、上層触媒層に共有されたＮＯをパラジウム等の貴金属成分によりＮＯ２に酸化させ、ＮＨ３によりＮ２とＨ２Ｏとに還元できることは容易に想到し得る程度のことである。また、その場合に、甲第１号証に開示された発明の下層触媒層を参考にして、ゼオライトに銅などの遷移金属とパラジウム等の貴金属を含有させること（［００４１］）は、当業者の適宜行う設計事項であると言える。」（特許異議申立書４４、４５ページ） 上記の主張について検討すると、上記「２(1)（ウ）」で「相違点２」について検討したとおり、引用発明１において、選択還元触媒（ＳＲＯＣ）の上下層の脱硝反応を阻害しないために、上層触媒層にパラジウム等の貴金属を含まないこととされているから、異議申立人の当該主張は採用できない。 第７ むすび 以上のとおりであるから、取消理由通知書に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載された申立理由によっては、本件特許の請求項１～４４に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に本件特許の請求項１～４４に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。