2022-700752

特許第７０１７１８３号発明「セラミックグリーンシート製造用離型フィルム」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７０１７１８３号の請求項１～７に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第７０１７１８３号の請求項１～７に係る特許についての出願は、２０１７年（平成２９年）５月８日（優先権主張 平成２８年５月１６日 日本国）を国際出願日とする出願である特願２０１７－５２８８６６号の一部を、平成２９年１０月１８日に新たな特許出願（特願２０１７－２０１５６５）とし、その一部を令和２年２月２０日に新たな特許出願（特願２０２０－２７４５６号）（以下「原出願」という）とし、さらにその一部を令和３年２月１５日に新たな特許出願（特願２０２１－２１５７７号）としたものであって、令和４年１月３１日にその特許権の設定登録がされ、令和４年２月８日に特許掲載公報が発行された。その後、その特許に対し、令和４年８月２日に特許異議申立人渋谷都（以下「申立人１」という。）が、同日に特許異議申立人吉澤悦子（以下「申立人２」という。）が、同年８月８日に特許異議申立人小宮邦彦（以下「申立人３」という。）が、それぞれ特許異議の申立てを行った。 第２ 本件発明 本件特許の請求項１～７に係る発明（以下「本件発明１」等という。まとめて「本件特許」ともいうことがある。）は、それぞれ、本件特許の特許請求の範囲の請求項１～７に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 「【請求項１】 ポリエステルフィルム基材と、前記基材の一方の表面上に易滑塗布層とを有し、 前記基材のもう一方の表面上に離型塗布層を有し、 前記ポリエステルフィルムが、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートから選ばれる少なくとも１種を含むポリエステルフィルムであり、 前記易滑塗布層の粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１０μｍ以下であり、 前記離型塗布層表面の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下かつ最大突起高さ（Ｐ）が３０ｎｍ以下である、離型フィルム。 【請求項２】 易滑塗布層の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が１ｎｍ以上２５ｎｍ以下、最大突起高さ（Ｐ）が６０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である請求項１に記載の離型フィルム。 【請求項３】 易滑塗布層の厚みが０．００１μｍ以上２μｍ以下である請求項１または２に記載の離型フィルム。 【請求項４】 セラミックグリーンシート製造用の請求項１～３のいずれかに記載の離型フィルム。 【請求項５】 請求項１～４のいずれかに記載の離型フィルムを用いるセラミックグリーンシートの製造方法。 【請求項６】 製造するセラミックグリーンシートの厚みが、０．２μｍ以上２μｍ以下である請求項５に記載のセラミックグリーンシートの製造方法。 【請求項７】 請求項５または６に記載のセラミックグリーンシートの製造方法を採用するセラミックコンデンサの製造方法。」 第３ 申立理由の概要 １ 申立人１は、次の甲第１号証～甲第４号証（以下「甲１－１」～「甲１－３」という。）を提出して、以下の申立理由１－１及び申立理由１－２を申し立てている。 甲１－１：特開２０１６－６０１５８号公報 甲１－２：国際公開第２０１３／０８０９２５号 甲１－３：株式会社不二製作所、「Ｚ ＢＯＯＫ 便利帳」、［Online］、［検索日：2022年7月25日］、インターネット ＜https://www.fujimfg.co.jp/service/benricho/roughness/＞ （１）理由１－１（進歩性） 本件発明１～７は、甲１－１に記載された発明及び甲１－２～甲１－３に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明１～７に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、取り消されるべきものである。 （２）理由１－２（サポート要件） 本件発明１～７に係る特許は、下記の点で、その特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり、取り消されるべきものである。 記 ア 本件発明１において、ポリエステルフィルム基材が粒子を含有するか否かの特定はないから、粒子を含有し得るといえる。一方、発明の詳細な説明において、粒子を含有する積層フィルムＺを基材に用いた比較例４～６では、ＲＳｍの値を十分に下げることができずピンホールが発生しており、このような粒子を含む基材を用いた場合において、どうすればＲＳｍを１０μｍ以下にできるかについて発明の詳細な説明に記載はないから、本件発明の課題が解決できると認識できるとはいえない。そうすると、基材が粒子を含む本件発明１～７は、発明の課題が解決できると認識できる範囲にあるとはいえない。 イ 本件発明１における「易滑塗布層の・・・（ＲＳｍ）が１０μｍ以下」のうち、発明の詳細な説明の実施例１～８で示される２．２μｍ～２．７μｍの範囲を外れた範囲について、本件発明の課題が解決できるか否かは本件明細書の記載からは明らかではないから、本件発明の課題が解決できると認識できるとはいえない。そうすると、ＲＳｍが２．７μｍを超え１０μｍ以下の範囲を含む本件発明１～７は、発明の課題が解決できると認識できる範囲にあるとはいえない。 ２ 申立人２は、次の甲第１号証～甲第６号証（以下「甲２－１」～「甲２－６」という。）を提出して、以下の理由２－１～理由２－２を申し立てている。 甲２－１：特開２０１２－６２１３号公報 甲２－２：特開２００８－９８３４４号公報 甲２－３：東洋紡績株式会社、「製品・技術紹介 高透明ポリエステルフィルム コスモシャイン○Ｒ」（当審注：○Ｒは丸囲み文字を表す。以下同様。）、成形加工 第19巻第10号2007年、p.654 甲２－４：ＯＬＹＭＰＵＳ、「ＥＶＩＤＥＮＴ 工業用顕微鏡 表面粗さ測定－パラメーターについて」、［Online］、［検索日：2022年7月22日］、インターネット ＜https://www.olympus-ims.com/ja/metrology/surface-roughness-measurement-portal/parameters/＞ 甲２－５：特開２０１１－９３１９号公報 甲２－６：特開２０２０－１１１０５２号公報 （１）理由２－１（新規性、進歩性） 本件発明１～７は、甲２－１に記載された発明であるか又は甲２－１に記載された発明及び甲２－２～甲２－５に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明１～７に係る特許は、特許法第２９条第１項第３号又は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、取り消されるべきものである。 （２）理由２－２（分割要件違反を前提とする新規性及び進歩性） 本件出願は、下記の点から、分割要件を充足していないから、本件特許に係る出願の出願日は、上記第１に記載した特願２０１７－５２８８６６号の出願日である平成２９年５月８日ではなく、現実の出願日である令和３年２月１５日である。よって、本件発明１～７は、原出願の公開公報である甲２－６に記載された発明であるか又は甲２－６に記載された発明に基いて容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項第３号又は第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、取り消されるべきものである。 記 原出願の出願当初明細書等には、ポリエステルフィルム基材が実質的に粒子を含有することは記載されていない。しかしながら、原出願の一部を新たな特許出願とした本件特許に係る出願は、「ポリエステルフィルム基材」に関し、「粒子を実質的に含有していない」という要件が削除されており、本件発明１のポリエステルフィルム基材は、粒子を実質的に含有するものも含むこととなる。したがって、本件分割出願は、原出願の出願当初の明細書等に記載された事項の範囲内でされたものではない。 ３ 申立人３は、次の甲第１号証～甲第３号証（以下「甲３－１」～「甲３－３」という。）を提出して、以下の理由３－１及び理由３－２を申し立てている。 甲３－１：特開２０１６－６０１５８号公報 甲３－２：特開２０１４－２３７２３８号公報 甲３－３：特開２０１４－１８９７１７号公報 （１）理由３－１（甲３－１及び甲３－２に基づく進歩性） 本件発明１～７は、甲３－１に記載された発明及び甲３－２に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明１～７に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、取り消されるべきものである。 （２）理由３－２（甲３－１及び甲３－３に基づく進歩性） 本件発明１～７は、甲３－１に記載された発明及び甲３－３に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明１～７に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、取り消されるべきものである。 第４ 文献の記載及び引用発明 １ 甲１－１ （１）甲１－１の記載（下線は強調のために当審が付した。） 「【請求項１】 ２層以上からなる二軸配向ポリエステルフィルムを基材とし、前記基材は、粒子を実質的に含有していない表面層Ａと粒子を含有する表面層Ｂを有し、表面層Ａの表面上に離型塗布層が積層され、かつ表面層Ｂの表面上に平滑化塗布層が積層されてなり、平滑化塗布層の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以上２５ｎｍ以下かつ最大突起高さ（Ｐ）が８００ｎｍ以下であることを特徴するセラミックシート製造用離型フィルム。 ・・・ 【請求項３】 前記離型フィルムの離型塗布層の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下かつ最大突起高さ３０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載のセラミックシート製造用離型フィルム。」 「【０００１】 本発明は、超薄層のセラミックシート製造用離型フィルムに関するものであり、詳しくは超薄層のセラミックシート製造時にピンホール及び厚みムラによる工程不良の発生を抑制したものを製造し得る、超薄層のセラミックシート製造用離型フィルムに関するものである。」 「【０００９】 本発明は、上記実情に鑑み鋭意検討した結果、得られたものであり、超薄層のセラミックシート製造時に、厚み不良やピンホール等の欠点を実質上生じることがなく、ハンドリング性に優れた超薄層のセラミックシート製造用離型フィルムを提供しようとするものである。」 「【００１６】 （ポリエステルフィルム） 本発明の基材として用いる二軸配向ポリエステルフィルムを構成するポリエステルは、特に限定されず、離型フィルム基材として通常一般に使用されているポリエステルをフィルム成形したものを使用することが出来るが、好ましくは、芳香族二塩基酸成分とジオール成分からなる結晶性の線状飽和ポリエステルであるのが良く、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン－２，６－ナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート又はこれらの樹脂の構成成分を主成分とする共重合体がさらに好適であり、とりわけポリエチレンテレフタレートから形成されたポリエステルフィルムが特に好適である。」 「【００３１】 （離型塗布層） 本発明における離型塗布層を構成する樹脂には特に限定はなく、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アルキド樹脂、各種ワックス、脂肪族オレフィンなどを用いることができ、各樹脂を単独もしくは、２種類以上併用することもできる。 ・・・ 【００４２】 離型塗布層を形成させたフィルム表面は、その上で塗布・成型するセラミックシートに欠陥を発生させないために、平坦であることが望ましく、領域表面平均粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下かつ最大突起高さ（Ｐ）が３０ｎｍ以下であることが好ましい。さらには領域表面平均粗さ５ｎｍ以下かつ最大突起高さ２０ｎｍ以下がより好ましい。領域表面粗さが５ｎｍ以下、且つ、最大突起高さが３０ｎｍ以下であれば、セラミックシート形成時に、ピンホールなどの欠点を発生がなく、歩留まりが良好で好ましい。」 「【００４７】 （平滑化塗布層） 本発明の離型フィルムにおいて、表面層Ｂの上に、平滑化塗布層が設けられている。 領域表面平均粗さを制御した表面層Ｂ上に、さらに平滑化塗布層を設けることで、より高度に領域表面平均粗さと最大突起高さを制御することができる。そのため、０．２～１．０μｍの超薄層セラミックシートを離型塗布層に成型後、ロール状に巻き取った後でも、平滑化塗布層の凹凸転写がなく超薄層セラミックシートのピンホールなどの欠点を抑制することができる。 【００４８】 本発明における平滑化塗布層の領域表面平均粗さ（Ｓａ）は５ｎｍ以上２５ｎｍ以下かつ最大突起高さ（Ｐ）は８００ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは、領域表面平均粗さ（Ｓａ）は７ｎｍ以上２３ｎｍ以下かつ最大突起高さ（Ｐ）が７５０ｎｍ以下であり、Ｓａが１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下かつＰが７００ｎｍ以下がさらに好ましい。領域表面粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以上であれば、滑り性が良く巻き取り時にシワなどが発生せず平面性が保たれるので好ましい。一方、領域表面平均粗さ（Ｓａ）が２５ｎｍ以下であり、且つ、最大突起高さ（Ｐ）が８００ｎｍ以下の場合には、セラミックシート塗布後の巻取りにおいて、巻き取られたセラミックシートに、平滑化塗布層の突起の凹凸が転写されることがなく、ピンホールなどの欠点を生じるおそれが小さいので好ましい。・・・ 【００５０】 平滑化塗布層の構成する樹脂の一部には、高度に平滑な表面でも滑り性を保持するために、易滑性樹脂を用いることが好ましい。易滑性樹脂とは、ポリエステルフィルム上に塗布後、乾燥及び／又は硬化して積層した樹脂層の表面自由エネルギーγｓが２５ｍＮ／ｍ以下であるものをいい、例としては、シリコーン系樹脂やフッ素系の樹脂、長鎖アルキル変性された樹脂などが挙げられる。」 （２）甲１－１に記載された発明 上記（１）の記載事項を総合し、特に請求項１に着目すると、甲１－１には次の発明が記載されている（以下「甲１－１発明」という。）。 「２層以上からなる二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムを基材とし、前記基材は、粒子を実質的に含有していない表面層Ａと粒子を含有する表面層Ｂを有し、 表面層Ａの表面上に離型塗布層が積層され、かつ表面層Ｂの表面上に平滑化塗布層が積層されてなり、 前記離型塗布層の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下かつ最大突起高さ（Ｐ）が３０ｎｍ以下である、 セラミックシート製造用離型フィルム。」 ２ 甲１－２について （１）甲１－２の記載 「［0001］ 本発明は、プラスチックフィルム、特に位相差フィルムなどの光学フィルムの表面を保護するための表面保護フィルムの製造方法および製造装置ならびに表面保護フィルムに関する。」 「［0005］ しかしながら、表面保護フィルムは粘着性のフィルムであるため、ロール状に巻取った際に粘着力のある面（以下、粘着面と称す）ともう一方の面（以下、背面と称す）が粘着し、ブロッキングが発生しやすいという特徴を有しており、かかる特許文献１の技術を用いるだけでは、仮にフィッシュアイをすべて押し潰すことができたとしても、表面保護フィルムの両表面が平滑なものとなり、かかるブロッキングの問題が顕著となり、フィルムが巻き戻せなくなるなど、実用に耐えがたいものとなる問題があった。」 「［0008］ ・・・凹凸表面形状の被着体への転写は凹凸の大きさや密度が影響するため、算術平均粗さＲａのみを考慮していては凹凸表面形状の被着体への転写を防止することは困難であることを本発明者らは見いだした。」 「［0011］ 本発明の目的は、上記問題を解決し、ロール状に巻き取った際にブロッキングを生じること無く、かつ、被着体に貼り合わせた後にロール状に巻取り、長期保管した際にも、背面の凹凸形状が被着体に転写することのない表面保護フィルムを製造することができる製造方法および製造装置、ならびに表面保護フィルムを提供することにある。」 「［0060］ ニップローラー３の表面の十点平均粗さＲｚは２～８μｍであり、かつ凹凸の平均間隔Ｓｍが９０μｍ以下であり、好ましくはＳｍが７０μｍ以下である。ニップローラー３の表面粗さは溶融樹脂２に転写され、表面保護フィルム６の背面の凹凸形状を形成するため、ニップローラー３の十点平均粗さＲｚが８μｍを超えると、表面保護フィルム背面６の十点平均粗さＲｚが１０μｍを超えてしまい位相差フィルムなどの軟質な被着体に表面保護フィルム６を貼り合わせた後、ロール状に巻取り長期間保管した際に、背面の凹凸表面形状が被着体表面に転写してしまう。また、ニップローラー３の十点平均粗さＲｚが２μｍを下回ると、表面保護フィルム６の背面の十点平均粗さＲｚが３μｍを下回り、粘着面との離型性が低下し、表面保護フィルム３を巻取った際にブロッキングが発生する可能性が高くなる。また、摩擦係数が上昇し滑りにくくなるために、シワなどの巻姿欠点が発生し易くなる。加えて、表面保護フィルム６の背面の凹凸形状によるクッション性が著しく低下するために、フィッシュアイが被着体に転写し易くなる。さらに、十点平均粗さＲｚが上記範囲にあったとしても、ニップローラー３の表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが９０μｍ以上である場合、上述のような凹凸表面形状の被着体への転写や、巻取り時のブロッキングやシワといった欠陥が生じやすくなる。ニップローラー３の表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが９０μｍよりも大きくなると、表面保護フィルム６の背面の凹凸の平均間隔Ｓｍも９０μｍ以上となり表面の凹凸形状における凸の数が少なくなり、被着体と表面保護フィルム６の背面の真実接触面積が減少する。これにより局所圧力が上昇するため、凹凸形状の被着体への転写が発生し易くなると考えられる。・・・ ［0061］ ニップローラー３および表面保護フィルム６の背面の表面形状のパラメータとして十点平均粗さＲｚを用いることで凹凸形状の転写の原因となる凹凸の絶対的な高さおよび深さを、凹凸の平均間隔Ｓｍを用いることで凹凸の密度を制御することが可能となる。なお、ニップローラー３および表面保護フィルム６の背面の算術平均粗さＲａと十点平均粗さＲｚの値にはほとんど関係性は無く、発明者らの知見によれば、Ｒｚの値はＲａの値の３～２０倍と広い範囲の値をとる。」 「［請求項16］ 単層または複数の層からなる表面保護フィルムであって、一方の面の算術平均粗さＲａが０．４μｍ以下であって、もう一方の面の十点平均粗さＲｚが３～１０μｍかつ凹凸の平均間隔Ｓｍが９０μｍ以下であって、少なくとも十点平均粗さＲｚが３～１０μｍかつ凹凸の平均間隔Ｓｍが９０μｍ以下である面を形成する層が低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）または直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）またはエチレン－メチルメタクリレート共重合体（ＥＭＭＡ）からなることを特徴とする表面保護フィルム。」 （２）甲１－２に記載された事項 上記（１）の記載事項を総合すると、甲１－２には以下の事項が記載されている（以下「甲１－２記載事項」という。）。 「ポリエチレンからなる表面保護フィルムにおいて、フィルム背面の十点平均粗さＲｚを３μｍ～１０μｍとすることで、ロール状に巻き取った際にフィルム背面とフィルム粘着面の離型性が低下することを防止するとともにフィルムを被着体に貼り合せた後ロール状に巻き取り長期間保管した際にフィルム背面の凹凸形状が被着体表面に転写されることを防止し、フィルム背面の凹凸の平均間隔Ｓｍを９０μｍ以下とすることで、背面の凸部の局所圧力を低下して凹凸形状が被着体表面に転写されることを防止すること。」 ３ 甲１－３について （１）甲１－３の記載 「 ［図：0001390618000001.jpg］ 」 （２）甲１－３に記載された事項 上記（１）の記載事項から、甲１－３には以下の事項が記載されている（以下「甲１－３記載事項」という。）。 「１９９４年表面粗さのＪＩＳ規格の見直しにより、最大高さＲｙは最大高さＲｚに、十点平均粗さＲｚは十点平均粗さＲｚｊｉｓ９４に、凹凸の平均間隔Ｓｍは粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍに変更されたこと。」 ４ 甲２－１について （１）甲２－１の記載 「【請求項１】 基材フィルムの少なくとも片面に、中間層および離型樹脂層を設けた離型フィルムであって、該離型樹脂層が、ヘキセニル基を有するオルガノポリシロキサンとＳｉＨ基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンの付加反応により架橋したものであり、該離型樹脂を成形したシートのゴム硬度が６０～７５であることを特徴とする積層セラミックコンデンサグリーンシート成型用離型フィルム。」 「【０００１】 積層セラミックコンデンサのグリーンシート成型用途に用いられ、グリーンシートの剥離性およびセラミックスラリーのハジキ、積層不良等の問題を解決するために用いられる積層セラミックコンデンサグリーンシート成型用離型フィルムに関するものである。特に１μｍ以下の厚みの積層セラミックコンデンサグリーンシートの成型に適した離型層を有する離型フィルムに関するものである。」 「【００１７】 本発明の基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン－酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等が挙げられるが、特にＭＬＣＣグリーンシートのような平面性が要求されるシート成型に使用される基材フィルムとしては、機械的強度、耐熱性、熱寸法安定性および耐薬品性に優れ、且つ経済的である二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好適に用いられる。基材フィルムの厚みとしては、１８～１２５μｍが好ましく、さらに好ましくはコストの面から２５～５０μｍである。」 「【００２０】 基材層の基材フィルムとしてのポリエチレンテレフタレートフィルムとしては、東レ（株）製「ルミラー」（登録商標）Ｒ８０や、東洋紡（株）製“コスモシャイン”Ａ４１００などの市販のフィルムを用いることができる。」 「【００３５】 離型用シリコーン樹脂を塗布する方法としては、グラビアコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティング、ドクターナイフコーティング等に挙げられるコーティング方式を利用することが出来るが、塗工後の表面粗さＳＲａが１０ｎｍ以下、表面突起高さ２００ｎｍ以下とする為には、グラビアロールを使用し加工する場合、レベリングの点でグラビアメッシュを４００μｍ以下、乾燥オーブン温度は１６０℃以下とすることが好ましい。」 （２）甲２－１に記載された発明 上記（１）の記載事項を総合し、特に請求項１に着目すると、甲２－１には次の発明が記載されている（以下「甲２－１発明」という。）。 「ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡（株）製“コスモシャイン”Ａ４１００）の少なくとも片面に、中間層および離型樹脂層を設け、 前記離型樹脂層の表面粗さＳＲａが１０ｎｍ以下、表面突起高さが２００ｎｍ以下である、 積層セラミックコンデンサグリーンシートの成型に適した離型層を有する離型フィルム。」 ５ 甲２－２について （１）甲２－２の記載 「【請求項１】 ジアミンと芳香族テトラカルボン酸とを反応させて得られるポリアミド酸を支持体に流延・乾燥して、ポリイミド前駆体フィルムの一方の面（Ａ面）のイミド化率をＩＭａとし、他一方の面（Ｂ面）のイミド化率をＩＭｂとするとき、ＩＭａ、ＩＭｂの両者の差が５以下であるポリイミド前駆体フィルムを得、該ポリイミド前駆体フィルムを熱によりイミド化させて得られるポリイミドフィルムであって、波長５００ｎｍでの光線透過率が５０％以上である無色透明ポリイミド長尺フィルムに光電変換薄膜を積層したことを特徴とするフィルム状太陽電池。」 「【０００１】 本発明は、可撓性基板である耐熱性ポリイミドフィルムであって、しかも表裏差の少ない透明ポリイミドフィルムを利用したフィルム状太陽電池に関する。」 「【００３１】 ポリアミド酸溶液を塗布する支持体は、ポリアミド酸溶液をフィルム状に成形するに足る程度の剛性を有していればよく、表面が金属（より好ましくは錆びなくて耐腐食に優れるステンレス）、プラスチックなどであるドラム又はベルト状回転体などが挙げられる。 また、適度な剛性を有する高分子フィルムを利用する方法も好ましい態様である。 金属支持体の表面にはＣｒ、Ｎｉ、Ｓｎなどの金属メッキを施してもよい。 支持体表面はフィルムの必要表面凹凸構造に応じて、任意の表面凹凸構造を付与することができ、この支持体上の表面凹凸構造は支持体全面に付与してもよく、部分的に付与してもよく、またドラム又はベルト状回転体支持体に直接付与してもよく、フィルムや金属に付与したものを貼り合わせて使用してもよい。凹凸構造の深さは０．５μｍ～８０μｍが好ましいが、より好ましくは０．５μｍ～５０μｍ、さらに好ましくは０．５μｍ～４０μｍである。 支持体へのポリアミド酸溶液の塗布は、スリット付き口金からの流延、押出機による押出し、スキージコーティング、リバースコーティング、ダイコーティング、アプリケータコーティング、ワイヤーバーコーティング等を含むが、これらに限られず、従来公知の溶液の塗布手段を適宜用いることができる。 また、支持体上にポリアミド酸溶液を塗布した後に過熱により溶剤を一部放出させ、事故指示性のある程度になった段階で、凹凸のあるロール押し付けにより表面凹凸構造を付与することもできる。 これらの処方によって、Ｒｔが０．３μｍ～５０μｍ、ＲＳｍが０．５μｍから４０μｍ程度の凹凸構造を有しているポリイミドフィルムが比較的容易に得られる。 【００３２】 上記のポリイミドフィルムには、滑剤をポリイミド中に添加含有せしめるなどしてフィルム表面に微細な凹凸を付与しフィルムの滑り性を改善することもできる。」 「【００３４】 両面乾燥工程の具体的方法としては、例えば支持体上の第一乾燥工程を終了した前駆体フィルムを支持体から剥離して、支持体に密接していたフィルム面側をフリーとした状態で前駆体フィルムを乾燥せしめる方法が挙げられる。」 「【００４８】 得られた各ポリアミド酸溶液を、支持体としての厚さ１８８μｍ、幅８００ｍｍのポリエステルフィルム（コスモシャインＡ４１００（東洋紡績株式会社製））の滑剤を含まない面に幅７４０ｍｍとなるようにコーティングし、各フィルム作製条件を適応させて各ポリイミドフィルムを得た。得られた各フィルムの性能などを表１に示す。」 「【表１】 ［図：0001390618000002.jpg］ 」 表面粗さパラメータにおいて、「Ｒｔ」が最大断面高さであり、「ＲＳｍ」が平均長さであることは技術常識から明らかである。 （２）甲２－２に記載された事項 上記（１）の記載事項を総合すると、甲２－２には次の事項が記載されている。 「フィルム状太陽電池に用いる無色透明ポリイミドフィルムにおいて、フィルムの表面凹凸構造は、支持体表面の凹凸構造に応じて付与するほか、凹凸のあるロール押し付けにより付与することにより、最大断面高さ（Ｒｔ）が０．３μｍ～５０μｍ、平均長さ（ＲＳｍ）が０．５μｍから４０μｍ程度の凹凸構造を有しているポリイミドフィルムが比較的容易に得られること。」（以下「甲２－２記載事項１」という。） 「フィルム状太陽電池に用いる無色透明ポリイミドフィルムにおいて、支持体として用いたコスモシャイン４１００（東洋紡績株式会社製）の滑剤を含まない面にポリアミド酸溶液をコーティングしてポリイミドフィルムを得たこと。」（以下「甲２－２記載事項２」という。） ６ 甲２－３について （１）甲２－３の記載 「 ［図：0001390618000003.jpg］ 」 「 ［図：0001390618000004.jpg］ 」 「 ［図：0001390618000005.jpg］ 」 （２）甲２－３に記載された事項 上記（１）の記載事項を総合すると、甲２－３には次の事項が記載されている（以下「甲２－３記載事項」という。） 「コスモシャイン○Ｒは、内部に粒子を含まない純ポリエステルフィルムの片面又は両面に、粒子を含む滑り性のインラインコートによるコート層を付与したポリエステルフィルムであること。」 ７ 甲２－４について （１）甲２－４の記載 「 ［図：0001390618000006.jpg］ 」 （当審注：「Ｊ成ＩＳ’８２でＲｍａｘ」は「ＪＩＳ’８２ではＲｍａｘ」の誤記である。） （２）甲２－４に記載された事項 上記（１）の記載事項を総合すると、甲２－４には次の事項が記載されている（以下「甲２－４記載事項」という。） 「表面粗さパラメータにおいて、最大断面高さ（Ｒｔ）は、基準長さではなく評価長さにおいて、輪郭曲線の山高さＺｐの最大値と谷深さＺｖの最大値の和であること。」 ８ 甲２－５について （１）甲２－５の記載 「【０００１】 本発明は、薄膜セラミックコンデンサグリーンシートを製造する際に使用するセラミックコンデンサグリーンシート製造用高平滑性離型フィルム及びその製造方法に関するものであって、・・・」 「【００８７】 本発明について、以下に実施例を挙げて更に具体的に説明する。 （実施例１） 基材として、厚さ５０μｍの表面粗さ（Ｒａ）の実測値が４．０ｎｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡製Ａ４１００）を使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の送り出しロールに装着後、下記に示す蒸着条件で、上記基材フィルムの片側コロナ処理面に、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を蒸着材料としたプラズマ化学気相成長法を用いて厚さ１０ｎｍ、表面粗さ４．２ｎｍ、表層から３．０ｎｍまでのＣ／Ｓｉ比が２．７の酸化珪素膜の平滑層を形成して本発明にかかる高平滑性離型フィルムを得た。」 （２）甲２－５に記載された事項 上記（１）の記載事項を総合すると、甲２－５には次の事項が記載されている（以下「甲２－５記載事項」という。）。 「セラミックコンデンサグリーンシート製造用高平滑性離型フィルムの基材フィルムとして用いた東洋紡製Ａ４１００の表面粗さ（Ｒａ）の実測値が４．０ｎｍであったこと。」 ９ 甲２－６について （１）甲２－６の記載 「【請求項１】 粒子を実質的に含有していないポリエステルフィルムを基材と、前記基材の一方の表面上に易滑塗布層とを有し、 前記ポリエステルフィルムが、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートから選ばれる少なくとも１種を含むポリエステルフィルムであり、 前記易滑塗布層の粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１０μｍ以下である、 コーティングポリエステルフィルム。 【請求項２】 易滑塗布層の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が１ｎｍ以上２５ｎｍ以下、最大突起高さ（Ｐ）が６０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である請求項１に記載のコーティングポリエステルフィルム。 【請求項３】 易滑塗布層の厚みが０．００１μｍ以上２μｍ以下である請求項１または２に記載のコーティングポリエステルフィルム。 【請求項４】 セラミックグリーンシート製造用の請求項１～３のいずれかに記載のコーティングポリエステルフィルム。 【請求項５】 請求項１～４のいずれかに記載のコーティングポリエステルフィルムを用いるセラミックグリーンシートの製造方法。 【請求項６】 製造するセラミックグリーンシートの厚みが、０．２μｍ以上２μｍ以下である請求項５に記載のセラミックグリーンシートの製造方法。 【請求項７】 請求項５または６に記載のセラミックグリーンシートの製造方法を採用するセラミックコンデンサの製造方法。」 （２）甲２－６に記載された事項 上記（１）の記載事項を総合し、特に、請求項１を引用する請求項２を引用する請求項３を引用する請求項４に着目すると、甲２－６には次の事項が記載されている（以下「甲２－６記載事項」という。）。 「粒子を実質的に含有していないポリエステルフィルム基材と、前記基材の一方の表面上に易滑塗布層とを有し、 前記ポリエステルフィルムが、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートから選ばれる少なくとも１種を含むポリエステルフィルムであり、 前記易滑塗布層の粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１０μｍ以下であり、 易滑塗布層の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が１ｎｍ以上２５ｎｍ以下、最大突起高さ（Ｐ）が６０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、 易滑塗布層の厚みが０．００１μｍ以上２μｍ以下である、 セラミックグリーンシート製造用のコーティングポリエステルフィルム。」 １０ 甲３－１について 甲３－１は甲１－１と同一の刊行物であるから、甲３－１には上記１（２）で示した甲１－１発明（理解の便のため、甲１－１～甲１－３に基づく理由の検討においては、甲１－１発明といい、甲３－１～甲３－２に基づく理由の検討においては甲３－１発明という。）が記載されている。 「２層以上からなる二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムを基材とし、前記基材は、粒子を実質的に含有していない表面層Ａと粒子を含有する表面層Ｂを有し、 表面層Ａの表面上に離型塗布層が積層され、かつ表面層Ｂの表面上に平滑化塗布層が積層されてなり、 前記離型塗布層の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下かつ最大突起高さ（Ｐ）が３０ｎｍ以下である、 セラミックシート製造用離型フィルム。」 １１ 甲３－２について（転写箔用離型フィルム） （１）甲３－２の記載 「【請求項１】 基材フィルムの少なくとも片面に離型層を有する積層フィルムであって、離型層表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが１０μｍ以上８０μｍ以下である離型フィルム。」 「【０００１】 本発明は、剥離安定性と耐熱性に優れる離型フィルムに関するものであり、更に詳しくは、成型加工後も良好で安定した剥離性を示す離型フィルムに関する。 【背景技術】 【０００２】 ・・・一例として、成形同時転写箔用離型フィルムが挙げられる。当該離型フィルムを用いた転写箔の構成は一般的に、基材フィルムであるポリエステルフィルムの片面に離型層を設け、該離型層上に順次、図柄印刷層および接着層などの転写層を積層した構成からなる。目的に応じて、転写層にハードコート層や金属蒸着層等が積層される。さらには、これら離型層や転写層に帯電防止剤や抗菌剤等の機能性剤を加え、転写箔としての機能が付与される。 【０００３】 上述の離型フィルムを用いた転写箔の転写方法は、転写箔を射出成形用の金型内にセットし、樹脂成形品を成形するのと同時にその表面に転写箔シートを一体化して接着し樹脂成形品に図柄を転写し装飾を施す成形同時転写法が広く一般的に知られている。」 「【００５１】 本発明においては、離型層表面の粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１０μｍ以上８０μｍ以下であることが必要である。ここでいうＲＳｍは、ＪＩＳＢ０６０１（２００１年）に従って求められるものであり、基準長さにおける粗さ曲線要素間の長さの平均をあらわす。すなわち、図１における基準長さ（Ｌｒ）において、粗さ曲線のピーク数がｍ、各ピーク間の距離がＷ１、Ｗ２、Ｗ３・・・Ｗｍとするとき、下記式（１）に示すようにＷ１～Ｗｍの長さの総和を粗さ曲線のピーク数ｍで除算することにより、ＲＳｍを求めることができる。ＲＳｍを上述の１０μｍ以上８０μｍ以下とすると、離型性、離型安定性を飛躍的に良好とすることができる。この効果について、本発明者らは、下記のように推定している。ＲＳｍは、離型層表面の凸凹の間隔をあらわすものであり、値が大きいほど凸凹間の距離が大きくなるため、表面の平均傾斜が緩やかとなる。一方、値が小さくなると、表面の凸凹のピッチが小さくなり、表面の平均傾斜が急となり、また、単位面積当たりの溝の数が増加する。ＲＳｍが８０μｍより大きいと、離型層表面の傾斜が過度に緩やかになり、離型層に積層した層と離型層表面の密着が不十分となる。一方、ＲＳｍを１０μｍ未満とすると、表面の平均傾斜が急となり、また、単位面積当たりの溝の数が増加するため、安定した離型性を得ることが困難となる。ＲＳｍを１０μｍ以上８０μｍ以下とすることにより、離型層の表面に適度な間隔で凸凹が配列され、離型性、離型安定性の観点から最適な高さ勾配を形成するものと考えている。ＲＳｍは、好ましくは２０μｍ以上７５μｍ以下であり、３０μｍ以上７０μｍ以内であると最も好ましい。 【００５２】 【数１】 ［図：0001390618000007.jpg］ 」 「【００７７】 ４．成形性、離型性、耐熱性 離型層に、順にトップコート層、インキ層、接着層をコーティングし、転写箔を作成した。トップコート層として、紫外線硬化型アクリル系樹脂（ＢＡＳＦジャパン（株）製“ＬＡＲＯＭＥＲ”（登録商標） ＬＲ８９８３）（厚み６０μｍ）、インキ層として、ポリウレタン系樹脂グラビアインキ（大日精化工業（株）製“ハイラミック”、主要溶剤：トルエン／メチルエチルケトン／イソプロピルアルコール、インキ：７２３Ｂ黄／７０１Ｒ白）（厚み７０μｍ）を形成し、さらに、接着層として、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン（ＡＢＳ）共重合樹脂フィルム（オカモト（株）製ＡＢＳフィルム“ハイフレックス”、厚み１００μｍ）を塗布した。インキ層を硬化させるために４０℃で７２時間エージングを行った。次に、直径５０ｍｍ、絞り比（深さ／底面直径）が０．２の円筒型の金型にセットして１２０℃で減圧成形を行い、ＡＢＳ樹脂（東レ（株）製、ＡＢＳ樹脂“トヨラック”（登録商標） ９３０）を用い、射出成形して、円筒型成形物を作成した。」 「【００８８】 （実施例１） 基材フィルムは３層積層フィルム（Ｂ層／Ａ層／Ｂ層）とした。 ポリエステルチップα、ポリエステルチップβと粒子マスターＭを真空乾燥機にてそれぞれ１８０℃４時間乾燥し水分を十分に除去した。その後、Ａ層がポリエステルチップα：ポリエステルチップβ＝６０：４０の質量比になるように、Ｂ層がポリエステルチップα：ポリエステルチップβ：粒子マスターＭ＝８８：１０：２の質量比で原料をブレンドした。それぞれ別の単軸押出機に供給し、２７５℃で溶融し、別々の経路でフィルター、ギヤポンプを通し、異物の除去、押出量の均整化を行った。その後、Ｔダイの上部に設置したフィードブロック内にてＢ層／Ａ層／Ｂ層の厚み比が１／８／１になるように積層し、Ｔダイより２５℃に温度制御した冷却ドラム上にシート状に吐出した。その際、直径０．１ｍｍのワイヤー状電極を使用して静電印加し、冷却ドラムに密着させ未延伸フィルムを得た。次いで、長手方向への延伸前に加熱ロールにてフィルム温度を上昇させ、予熱温度を９０℃、延伸温度を９５℃で長手方向に３．３倍延伸し、すぐに４０℃に温度制御した金属ロールで冷却した。その後、コロナ放電処理を施し、表に示した組成の離型層形成用溶液（水分散体）をメタリングバーを用いてウェット厚みが１３．５μｍとなるように塗布した。次いでテンター式横延伸機にて予熱前半温度（横延伸予熱温度１）１００℃、予熱後半温度（横延伸予熱温度２）１３０℃、延伸温度１５０℃で幅方向に３．５倍延伸し、そのままテンター内にて幅方向に４％のリラックスを掛けながら温度２３０℃で８間の熱処理を行い、フィルム厚み５０μｍの離型フィルムを得た。 【００８９】 この離型フィルムは、離型層表面のＲＳｍが６７μｍであり、高い剥離安定性と耐熱性を示すとともに、成形性に優れることから、特に成形同時転写用途に好適な特性を有していた。」 （２）甲３－２に記載された事項 上記（１）の記載を総合すると、甲３－２には次の事項が記載されている（以下「甲３－２記載事項」という。）。 「成形同時転写箔用離型フィルムに用いる二軸延伸ポリエステルフィルムにおいて、フィルムの片面に設けた離型層表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍを１０～８０μｍとすること。」 １２ 甲３－３について （１）甲３－３の記載 「【請求項１】 水溶性高分子を含む塗布層を少なくとも片面に有する二軸配向ポリエステルフィルムであって、塗布層表面の幅方向の突起間隔Ｓｍ－Ｘと長手方向の突起間隔Ｓｍ－Ｙがいずれも３～１０μｍである二軸配向ポリエステルフィルム。」 「【技術分野】 【０００１】 本発明は、走行性や平滑性、耐削れ性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムに関するものであり、磁気記録媒体用、電気絶縁用、コンデンサー用、回路材料、太陽電池用材料などに好適に用いることができる二軸配向ポリエステルフィルムに関するものである。 【背景技術】 【０００２】 二軸延伸ポリエステルフィルムはその優れた熱特性、寸法安定性、機械特性および表面形態の制御のし易さから各種用途に使用されており、特に磁気記録媒体などの支持体としての有用性がよく知られ、磁気記録媒体には常に高密度記録化が要求されている。更なる高密度記録を達成するためには、磁性層の薄膜化や微粒子磁性体を使用するとともに、微粒子磁性体を高度に分散させて、磁性層表面の平滑性を高めることが有効である。 【０００３】 しかしながら、磁性層表面の平滑性を高めるために基材フィルムを超高精細な表面として平滑性を向上させると、走行性や巻き取り、さらには表面の耐久性が不十分となるという問題がある。したがって、走行性や巻き取り性と表面平滑性の両立および表面の耐久性向上に対する要求はますます強まっている。 【０００４】 この観点から、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどを用いたポリエステルフィルムにおいても、走行性と平滑性を両立するために、超微細粒子を分散した樹脂エマルジョンをコーティングし易滑平滑層を付与した磁気記録媒体用支持体が開発されている（例えば特許文献１、２）。しかし、磁性層の塗布工程において、支持体フィルム表面にコーティングにより付与した易滑平滑層にナイフコーターが接触した際、微細粒子が脱落し支持体フィルムの表面の耐削れ性や平滑性が著しく悪化したり、脱落した微細粒子による削れ粉が工程ロールを汚染するなどの問題がある。」 「【０００７】 本発明の目的は、上記の問題を解決し、走行性や平滑性、耐削れ性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムを得ることにあり、磁気記録媒体とした際に平滑な磁性層を有することができるため電磁変換特性に優れた高密度磁気記録媒体とすることができる二軸配向ポリエステルフィルムを提供することにある。」 「【００６７】 本発明の実施の形態にかかる二軸配向ポリエステルフィルムの塗布層の表面には、粒状、直線状、紐状、曲線状、あるいは分岐箇所を有しながら網目状に連なる不定形かつ不均一な突起が多数形成されていることが好ましい。このような不定形な突起の総個数としては３００個／３０μｍ２以上、好ましくは５００個／３０μｍ２以上、さらに好ましくは１，０００個／３０μｍ２以上形成されていると走行性、走行耐久性が良好となり好ましい。 【００６８】 本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、塗布層表面の幅方向の突起間隔Ｓｍ－Ｘと長手方向の突起間隔Ｓｍ－Ｙはいずれも３～１０μｍである。好ましくはいずれも３．５～９μｍ、さらに好ましくは４．５～８μｍである。突起間隔が１０μｍより大きいと走行性不良により耐削れ性が低下する場合がある。また、突起間隔が３μｍよりも小さいと突起個数が多くなりすぎ、やはり耐削れ性が低下する傾向がある。」 （２）甲３－３に記載された事項 上記（１）の記載を総合すると、甲３－３には次の事項が記載されている（以下「甲３－３記載事項」という。）。 「磁気記録媒体に用いる二軸配向ポリエステルフィルムにおいて、フィルムの片面に設けた塗布層表面の幅方向の突起間隔Ｓｍ－Ｘと長手方向の突起間隔Ｓｍ－Ｙをいずれも３～１０μｍとすること。」 第５ 当審の判断 １ 申立人１の申立理由について （１）理由１－１（進歩性）について ア 本件発明１について （ア）対比 本件発明１と甲１－１発明とを対比する。 甲１－１発明の「２層以上からなる二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルム」の基材は、本件発明１の「前記ポリエステルフィルムが、ポリエチレンテレフタレート」「を含むポリエステルフィルムであ」る「ポリエステルフィルム基材」に相当し、以下同様に、「基材」の「表面層Ｂの表面上に」「積層されてな」る「平滑化塗布層」は「前記基材の一方の表面上」の「易滑塗布層」に相当し、「基材」の「表面層Ａの表面上に」「積層され」た「離型塗布層」は、「前記基材のもう一方の表面上」の「離型塗布層」に相当し、「前記離型塗布層の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下かつ最大突起高さ（Ｐ）が３０ｎｍ以下である」ことは「前記離型塗布層表面の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下かつ最大突起高さ（Ｐ）が３０ｎｍ以下である」ことに相当し、「セラミックシート製造用離型フィルム」は「離型フィルム」に相当する。 以上から、本件発明１と甲１－１発明とは、以下の点で一致し、その余の点で相違する。 ＜一致点１＞ 「ポリエステルフィルム基材と、前記基材の一方の表面上に易滑塗布層とを有し、 前記基材のもう一方の表面上に離型塗布層を有し、 前記ポリエステルフィルムが、ポリエチレンテレフタレートを含むポリエステルフィルムであり、 前記離型塗布層表面の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下かつ最大突起高さ（Ｐ）が３０ｎｍ以下である、離型フィルム。」 ＜相違点１＞ 易滑塗布層について、本件発明１では、「前記易滑塗布層の粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１０μｍ以下である」のに対し、甲１－１発明では、かかる構成が特定されていない点。 （イ）判断 相違点１について検討する。 本件発明１が、「前記易滑塗布層の粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１０μｍ以下であ」ることについて、本件特許の発明の詳細な説明には、「粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）を１０μｍ以下に制御することで、・・・、突起一つ当たりにかかる圧力が分散され小さくなるため、ピンホールの発生を効果的に抑制できて好ましい。」（【００３９】）との格別な作用効果を奏する旨、記載されている。 これに対し、甲１－１には、「平滑化塗布層」に関し、「領域表面粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以上であれば、滑り性が良く巻き取り時にシワなどが発生せず平面性が保たれるので好ましい。一方、領域表面平均粗さ（Ｓａ）が２５ｎｍ以下であり、且つ、最大突起高さ（Ｐ）が８００ｎｍ以下の場合には、セラミックシート塗布後の巻取りにおいて、巻き取られたセラミックシートに、平滑化塗布層の突起の凹凸が転写されることがなく、ピンホールなどの欠点を生じるおそれが小さいので好ましい。」（【００４８】）と、表面平均粗さや突起高さに関する記載はあるものの、突起一つ当たりにかかる圧力に着目した記載はないし、粗さ曲線要素の平均長さに着目した記載もない。そうすると、甲１－１発明を、上記相違点１に係る本件発明１の構成を備えたものとすることの動機付けが存在するとはいえない。 ここで、甲１－２には、甲１－２記載事項として、「ポリエチレンからなる表面保護フィルムにおいて、フィルム背面の十点平均粗さＲｚを３μｍ～１０μｍとすることで、ロール状に巻き取った際にフィルム背面とフィルム粘着面の離型性が低下することを防止するとともにフィルムを被着体に貼り合せた後ロール状に巻き取り長期間保管した際にフィルム背面の凹凸形状が被着体表面に転写されることを防止し、フィルム背面の凹凸の平均間隔Ｓｍを９０μｍ以下とすることで、背面の凸部の局所圧力を低下して凹凸形状が被着体表面に転写されることを防止すること。」が記載されている。 しかしながら、甲１－１発明は「セラミックシート製造用離型フィルム」に関するものであり、甲１－２記載事項は「表面保護フィルム」に関するものであるから、両者は技術分野が共通するとはいえない。 また、甲１－１発明の「平滑化塗布層」は、ポリエステルフィルム基材上に易滑性樹脂を塗布後、乾燥及び／又は硬化して形成されるものであり（【００５０】）、「平滑化塗布層」の表面粗さは、ポリエステルフィルムの表面層Ｂの領域表面粗さに影響されるものである（【００４７】）。一方、甲１－２記載事項の「表面保護フィルム」の背面の凹凸形状は、表面保護フィルムを挟圧形成するニップローラー表面の凹凸形状が転写されて形成されるものである。 そうすると、甲１－１発明における「平滑化塗布層」と甲１－２記載事項の「背面」とは、その形成手法が異なるとともに、表面に形成される凹凸形状の形成手法も異なるものであるから、甲１－２記載事項を甲１－１発明に適用することには阻害事由が存在する。 そして、相違点１に係る本件発明１の構成とすることは、上記した甲１－２のほか、甲１－３にも記載されていないし、同構成とする動機付けもない。さらに、その他の甲号証においても記載されていないし、同構成とすることの動機付けもない。 したがって、本件発明１は甲１－１発明及び甲１－２～甲１－３に記載された事項に基づき当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 イ 本件発明２～７について 本件発明２～７は、本件発明１の発明特定事項を全て含み、さらに発明特定事項を加えて限定するものであるから、上記ア（イ）で検討したのと同じ理由により、本件発明２～７は、甲１－１発明及び甲１－２～甲１－３に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （２）理由１－２（サポート要件）について ア 判断 本件特許明細書の発明の詳細な説明には、本件発明の解決しようとする課題について、「セラミックグリーンシートを薄膜化させた場合でも、良好な巻取り性と、ピンホールや部分的な厚みばらつき等の防止を両立させることができる優れたセラミックグリーンシート製造用離型フィルムを提供する」（段落【０００５】）と記載されており、この課題の解決のための手段として、本件特許の発明の詳細な説明には、「易滑塗布層の外表面の・・・粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）を１０μｍ以下に制御することで、・・・突起一つ当たりにかかる圧力が分散され小さくなるため、ピンホールの発生を効果的に抑制できて好ましい。」（【００３８】～【００３９】）と記載されているとともに、「離型塗布層・・・は、・・・領域表面粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下、且つ、最大突起高さ（Ｐ）が３０ｎｍ以下であれば、セラミックグリーンシート形成時に、ピンホールなどの欠点の発生がなく、歩留まりが良好で好ましい。」（【００５３】）と記載されており、当該記載からすると、「前記易滑塗布層の粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１０μｍ以下であり、前記離型塗布層表面の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下かつ最大突起高さ（Ｐ）が３０ｎｍ以下」とすることで、本件特許の発明が上記課題を解決できると、当業者は認識できる。 また、本件特許の発明の詳細な説明の【表１】には、実施例１～８と比較例１～６のうち、「易滑塗布層の粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１０μｍ以下」、「離型塗布層表面の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下」及び（離型塗布層表面の）「最大突起高さ（Ｐ）が３０ｎｍ以下」の３つの条件を満たす実施例１～８において、ピンホール及び厚みばらつきがないことが示されているから、「前記易滑塗布層の粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１０μｍ以下であり、前記離型塗布層表面の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下かつ最大突起高さ（Ｐ）が３０ｎｍ以下」とすることで上記課題が解決できることが裏付けられているといえる。 ここで、本件発明１及び本件発明１を引用する本件発明２～７は、上記「３つの条件」を満たすものであるから、上記本件発明が解決しようとする課題を解決するものである。 したがって、本件発明は、発明の詳細な説明に記載したものである。 イ 申立人１の主張について （ア）ポリエステルフィルムが粒子を含むか否かについて 申立人１は、本件発明１～７において、ポリエステルフィルム基材が粒子を含有するか否かの特定はないから、粒子を含有し得るといえるところ、粒子を含有したポリエステルフィルム基材を用いた場合に、どうすればＲＳｍを１０μｍ以下にできるかについて発明の詳細な説明に記載はないから、本件発明の課題が解決できると認識できるとはいえないと主張している。 しかしながら、上記アで述べたように、発明の詳細な説明の記載からみて、本件発明１は、当業者が本件発明の課題を解決できると認識できる範囲のものである。 したがって、申立人１の上記主張は採用できない。 （イ）平均長さ（ＲＳｍ）が２．７～１０μｍの範囲について 申立人１は、本件発明１における「易滑塗布層の・・・（ＲＳｍ）が１０μｍ以下」のうち、発明の詳細な説明の実施例１～８で示される２．２μｍ～２．７μｍの範囲を外れた範囲について、本件発明の課題が解決できるか否かは本件明細書の記載からは明らかではないから、本件発明の課題が解決できると認識できるとはいえないと主張している。 しかしながら、上記アで述べたように、発明の詳細な説明の記載からみて、本件発明１は、当業者が本件発明の課題を解決できると認識できる範囲のものである。 したがって、申立人１の上記主張は採用できない。 ２ 申立人２の申立理由について （１）理由２－１（新規性、進歩性）について ア 本件発明１について （ア）対比 甲２－１発明の「ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡（株）製“コスモシャイン”Ａ４１００）」は、本件発明１の「前記ポリエステルフィルムが、ポリエチレンテレフタレート」「を含むポリエステルフィルムであ」る「ポリエステルフィルム基材」に相当する。 甲２－１発明の「ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡（株）製“コスモシャイン”Ａ４１００）の少なくとも片面に」「設け」た「離型樹脂層」は本件発明１の「前記基材のもう一方の表面上」の「離型塗布層」に相当する。 甲２－１発明の「積層セラミックコンデンサグリーンシートの成型に適した離型層を有する離型フィルム」は、本件発明１の「離型フィルム」に相当する。 以上から、本件発明１と甲２－１発明とは、以下の点で一致し、その余の点で相違する。 ＜一致点２＞ 「ポリエステルフィルム基材を有し、 前記基材の一方の表面上に離型塗布層を有し、 前記ポリエステルフィルムが、ポリエチレンテレフタレートを含むポリエステルフィルムである、離型フィルム。」 ＜相違点２－１＞ 本件発明１は、「前記基材の一方の表面上に易滑塗布層」を有し、「前記易滑塗布層の粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１０μｍ以下であ」るのに対し、甲２－１発明は、そもそも易滑塗布層を有することが特定されてない点。 ＜相違点２－２＞ 離型塗布層表面に関し、本件発明１は、「領域表面平均粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下かつ最大突起高さ（Ｐ）が３０ｎｍ以下である」のに対し、甲２－１発明は、「表面粗さＳＲａが１０ｎｍ以下、表面突起高さが２００ｎｍ以下である」点。 （イ）判断 まず、相違点２－１について検討する。 甲２－１発明のポリエチレンテレフタレートは「東洋紡（株）製“コスモシャイン”Ａ４１００」であり、甲２－３記載事項を踏まえると、甲２－１発明のポリエチレンテレフタレートフィルムは、「一方の表面上に易滑塗布層」を有するといえるから、「易滑塗布層」の有無については実質的な相違点ではない。 次に、易滑塗布層の粗さ曲面要素の平均長さ（ＲＳｍ）について、甲２－１発明への甲２－２記載事項１の適用について検討するに、甲２－２記載事項１のポリイミドフィルムの表面凹凸構造の表面粗さパラメータは、その数値範囲において相違点２－１に係る本件発明１の数値範囲と一部重複する範囲があるとしても、甲２－２記載事項１のフィルム状太陽電池に用いるポリイミドフォルムは、その用途において甲２－１発明と異なるものであるし、甲２－２の【００３４】段落の記載からみて甲２－２記載事項１に係るポリイミドフィルムは支持体から剥離されたものであり、その層構造においても甲２－１発明と異なるものであるから、甲２－２記載事項１における表面粗さパラメータを甲２－１発明に適用する動機付けはない。 さらに、甲２－２記載事項２から、甲２－２記載事項１の支持体としてコスモシャイン４１００（東洋紡績株式会社製）を用いることができるとはいえるものの、甲２－２記載事項１の支持体がコスモシャイン４１００であるとまではいえないから、コスモシャイン４１００の表面粗さパラメータが「最大断面高さ（Ｒｔ）が０．３μｍ～５０μｍ、平均長さ（ＲＳｍ）が０．５μｍから４０μｍ程度」であるとまではいえない。 さらに、甲２－５記載事項から、コスモシャイン４１００の表面粗さ（Ｒａ）が４．０ｎｍであるとはいえるものの、ここでいう表面粗さが、甲２－３記載事項でいうコスモシャイン○Ｒのコート層を付与しているほうの面のものなのか、コート層を付与していないほうの面のものなのかは不明であるから、甲２－１発明におけるコスモシャイン４１００の離型樹脂層とは反対側の面の表面粗さ（Ｒａ）が４．０ｎｍであるとまではいえない。 そして、相違点２－１に係る本件発明１の構成とすることは、上記した甲２－２、甲２－３及び甲２－５のほか、甲２－４にも記載されていないし、同構成とする動機付けもない。さらに、その他の甲号証においても記載はないし、同構成とすることの動機付けもない。 したがって、相違点２－２について検討するまでもなく、本件発明１は甲２－１発明及び甲２－２～甲２－５に記載された事項に基づき当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 イ 本件発明２～７について 本件発明２～７は、本件発明１の発明特定事項を全て含み、さらに発明特定事項を加えて限定するものであるから、上記ア（イ）で検討したのと同じ理由により、本件発明２～７は、甲２－１発明及び甲２－２～甲２－５に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （２）理由２－２（分割要件違反を前提とする新規性及び進歩性）について 申立人２は、本件発明に係る出願が、分割要件違反であることを前提として、甲２－６発明に基づく新規性及び進歩性についての理由を申し立てている。 そこで、まず、分割要件について検討する。 ア 原出願当初明細書等の記載 原出願当初明細書等（甲２－６）には、「セラミックグリーンシート製造用離型フィルム」について、次の記載がある。 「【請求項１】 粒子を実質的に含有していないポリエステルフィルムを基材と、前記基材の一方の表面上に易滑塗布層とを有し、 前記ポリエステルフィルムが、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートから選ばれる少なくとも１種を含むポリエステルフィルムであり、 前記易滑塗布層の粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１０μｍ以下である、 コーティングポリエステルフィルム。」 「【００５４】 本発明において、離型塗布層を形成させたフィルム表面を所定の粗さ範囲に調節するためには、ＰＥＴフィルムには実質的に粒子を含有しないことが好ましい。なお、本発明でいう「実質的に粒子を含有しない」とは、基材フィルム及び離型塗布層の両者について、例えば、無機粒子の場合、蛍光Ｘ線分析で粒子に由来する元素を定量分析した際に、５０ｐｐｍ以下であることで定義され、好ましくは１０ｐｐｍ以下、最も好ましくは検出限界以下である。これは積極的に粒子を基材フィルム中に添加させなくても、外来異物由来のコンタミ成分や、原料樹脂あるいはフィルムの製造工程におけるラインや装置に付着した汚れが剥離して、フィルム中に混入する場合があるためである。」 イ 分割要件の充足について 上記アの【００５４】の記載から、原出願当初明細書等には、ポリエステルフィルム基材が粒子を含有しないことが好ましいとしながらも、積極的に粒子を添加させなくてもコンタミ成分等がフィルム中に混入することが記載されている。そうすると、粒子が混入しているポリエステルフィルム基材を用いることは、原出願当初明細書等において、少なくとも記載されているに等しい事項であったといえる。 さらに、本件発明における課題解決手段は、上記１（２）アで述べたように、「前記易滑塗布層の粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１０μｍ以下であり、前記離型塗布層表面の領域表面平均粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下かつ最大突起高さ（Ｐ）が３０ｎｍ以下である」ことであるから、ポリエステルフィルム基材中の粒子の有無は、本件発明の課題解決とは特に関係のないことである。 そうすると、本件発明１が、原出願の請求項１から「粒子を実質的に含有していない」という要件を削除したものだとしても、当該削除が、新たな技術事項を導入するものであるとはいえない。 また、本件発明１を引用する本件発明２～７についても同様である。 以上のとおりであるから、本件発明１～７は、原出願当初明細書等との関係において、新たな技術事項を導入するものではないから、原出願当初明細書等に記載された事項の範囲内のものであり、本件特許に係る出願は、当該原出願の一部を適法に新たな特許出願したものといえ、分割要件に違反するとする事情は認められない。 よって本件特許に係る出願日は、現実の出願日である令和３年２月１５日ではなく、上記第１に記載した特願２０１７－５２８８６６号の出願日である平成２９年５月８日であるから、申立て理由２－２を採用することはできない。 ３ 申立人３の申立理由について （１）理由３－１（進歩性）について ア 本件発明１について （ア）対比 甲３－１は甲１－１と同一の文献であるから、上記１（１）ア（ア）で示したのと同様に、本件発明１と甲３－１発明とは、上記＜一致点１＞で一致し、上記＜相違点１＞で相違する。 （イ）判断 ａ 甲３－２を適用することについて まず、上記１（１）ア（イ）で述べたように、甲３－１発明を、上記相違点１に係る本件発明１の構成を備えたものとすることの動機付けが存在するとはいえない。 ここで、甲３－２には、甲３－２記載事項として、「成形同時転写箔用離型フィルムに用いる二軸延伸ポリエステルフィルムにおいて、フィルムの片面に設けた離型層表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍを１０～８０μｍとすること。」が記載されている。 しかしながら、甲３－１発明は「セラミックシート製造用離型フィルム」に関するものであり、甲３－２記載事項は「成形同時転写箔用離型フィルム」に関するものであるから、両者は技術分野が共通するとはいえない。 さらに、甲３－２記載事項は「離型層表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍを１０～８０μｍとすること。」であるから、甲３－１発明に適用し得たとしても、甲３－１発明の離型塗布層に適用することになり、相違点１に係る本件発明１の構成には至らない。 以上のとおりであるから、本件発明１は甲３－１発明及び甲３－２に記載された事項に基づき当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 ｂ 甲３－３を適用することについて 甲３－３には、甲３－３記載事項として、「磁気記録媒体に用いる二軸配向ポリエステルフィルムにおいて、フィルムの片面に設けた塗布層表面の幅方向の突起間隔Ｓｍ－Ｘと長手方向の突起間隔Ｓｍ－Ｙをいずれも３～１０μｍとすること。」が記載されている。 しかしながら、甲３－１発明は「セラミックシート製造用離型フィルム」に関するものであり、甲３－３記載事項は「磁気記録媒体用フィルム」に関するものであるから、両者は技術分野が共通するとはいえない。 さらに、甲３－３記載事項は、塗布層表面の突起間隔を３～１０μｍとすることにより、塗布層（超微細粒子を分散した樹脂エマルジョンをコーティングした易滑平滑層）の表面に磁性層を塗布する工程においてナイフコーターが塗布層に接触した際に微粒子が脱落することを防止して耐削れ性を向上するものであるから、セラミックシート製造用離型フィルムに係る甲３－１発明に適用する動機付けはない。 さらに、その他の甲号証においても記載されていないし、同構成とすることの動機付けもない。 以上のとおりであるから、本件発明１は甲３－１発明及び甲３－３に記載された事項に基づき当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 イ 本件発明２～７について 本件発明２～７は、本件発明１の発明特定事項を全て含み、さらに発明特定事項を加えて限定するものであるから、上記ア（イ）で検討したのと同じ理由により、本件発明２～７は、甲３－１発明及び甲３－２に記載された事項または、甲３－１発明及び甲３－３に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 第５ むすび したがって、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては、請求項１～７に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に請求項１～７に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。