2017-701036

特許第６１２４１５６号発明「静電チャックおよびウェーハ処理装置」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

【結　論】 特許第６１２４１５６号の明細書及び特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正明細書及び特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔４～１５〕について訂正することを認める。 特許第６１２４１５６号の請求項４、１５に係る特許を維持する。

【理　由】 第１　手続の経緯 特許第６１２４１５６号の請求項１～１５に係る特許についての出願は、平成２７年４月２１日に特許出願され、平成２９年４月１４日にその特許権の設定登録がされ、その後、その請求項４及び１５に係る特許について、平成２９年１１月７日に特許異議申立人　廣瀬敏一（以下、「特許異議申立人」という。）により特許異議の申立てがされ、平成２９年１２月２７日付けで取消理由が通知され、その指定期間内である平成３０年３月６日に意見書の提出及び訂正の請求があり、その訂正の請求に対して特許異議申立人から平成３０年６月２２日に意見書が提出されたものである。 第２　訂正の適否についての判断 １　訂正の内容 平成３０年３月６日にされた訂正請求（以下、「本件訂正請求」という。）による訂正の内容は以下のとおりである。 （１）訂正事項１ 特許請求の範囲の請求項４に、 「処理対象物を載置する第１主面と、前記第１主面とは反対側の第２主面と、周端部に設けられ前記第１主面の一部を形成するシールリングと、を有し、多結晶セラミック焼結体であるセラミック誘電体基板と、 前記セラミック誘電体基板の前記第１主面と前記第２主面との間に介設され、前記セラミック誘電体基板に一体焼結された電極層と、 を備え、 前記第１主面と直交する方向にみて、前記セラミック誘電体基板の外周と、前記電極層の外周と、の間隔が均一となるように前記セラミック誘電体基板の外周が設けられ、 前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした第１仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔は、２ミリメートル以下とされ、 前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔の相互誤差が２００マイクロメートル以下であり、 前記シールリングの内周側端部と前記電極層の外周端部との間の直線距離が、－２ミリ以上２ミリメートル以下であることを特徴とする静電チャック。」 とあるのを、 「処理対象物を載置する第１主面と、前記第１主面とは反対側の第２主面と、周端部に設けられ前記第１主面の一部を形成するシールリングと、を有し、多結晶セラミック焼結体であるセラミック誘電体基板と、 前記セラミック誘電体基板の前記第１主面と前記第２主面との間に介設され、前記セラミック誘電体基板に一体焼結された電極層と、 を備え、 前記第１主面と直交する方向にみて、前記セラミック誘電体基板の外周と、前記電極層の外周と、の間隔が均一となるように前記セラミック誘電体基板の外周が設けられ、 前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした第１仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔は、２ミリメートル以下とされ、 前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔の相互誤差が２００マイクロメートル以下であり、 前記シールリングの内周側端部と前記電極層の外周端部との間の直線距離が、－２ミリ以上２ミリメートル以下である、ただし前記シールリングの高さが２ミリメートル以下で前記直線距離の絶対値が前記シールリングの高さ以下である場合、及び、前記シールリングの高さが２ミリメートル以上である場合を除く、ことを特徴とする静電チャック。」 に訂正する。 請求項４の記載を引用する請求項５～１５も同様に訂正する。 （２）訂正事項２ 明細書の段落【００２１】を、 「第４の発明は、処理対象物を載置する第１主面と、前記第１主面とは反対側の第２主面と、周端部に設けられ前記第１主面の一部を形成するシールリングと、を有し、多結晶セラミック焼結体であるセラミック誘電体基板と、前記セラミック誘電体基板の前記第１主面と前記第２主面との間に介設され、前記セラミック誘電体基板に一体焼結された電極層と、を備え、前記第１主面と直交する方向にみて、前記セラミック誘電体基板の外周と、前記電極層の外周と、の間隔が均一となるように前記セラミック誘電体基板の外周が設けられ、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした第１仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔は、２ミリメートル以下とされ、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔の相互誤差が２００マイクロメートル以下であり、前記シールリングの内周側端部と前記電極層の外周端部との間の直線距離が、－２ミリ以上２ミリメートル以下である、ただし前記シールリングの高さが２ミリメートル以下で前記直線距離の絶対値が前記シールリングの高さ以下である場合、及び、前記シールリングの高さが２ミリメートル以上である場合を除く、ことを特徴とする静電チャックである。」 に訂正する。 ２　訂正の目的の適否、一群の請求項、新規事項の有無、及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否 （１）　訂正事項１ ア　訂正の目的 訂正前の請求項４～１５に係る発明に対して、訂正後の請求項４～１５は、「ただし前記シールリングの高さが２ミリメートル以下で前記直線距離の絶対値が前記シールリングの高さ以下である場合、及び、前記シールリングの高さが２ミリメートル以上である場合を除く」との記載を追加するものである。請求項４には、電極層が、第１主面と第２主面との間に介設される旨の特定があるのであるから、電極層がセラミック誘電体基板から露出する場合は含まれないところ、訂正前の「前記シールリングの内周側端部と前記電極層の外周端部との間の直線距離が、－２ミリ以上２ミリメートル以下である」との特定では、電極層がセラミック誘電体基板から露出する場合を含むこととなり、記載が整合していなかった。訂正事項１は、訂正後の請求項４～１５に係る発明における、シールリングの内周側端部と電極層の外周端部との間の直線距離について、整合を図るものであるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。 イ　願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内であること 上記アのとおり、訂正事項１は、電極層がセラミック誘電体基板から露出する場合を除外するものであるが、例えば、明細書の段落【００５４】に、「セラミック誘電体基板１１は、電極層１２と第１主面１１ａとの間の第１誘電層１１１と、電極層１２と第２主面１１ｂとの間の第２誘電層１１２と、を有する。」と記載されているように、電極層と第１主面との間に第１誘電層が存在する、すなわち電極層が露出していない旨が示されている。 したがって、訂正事項１は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものである。 ウ　実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正でないこと。 訂正事項１は、明瞭でない記載の釈明を目的とするものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでない。 エ　一群の請求項 訂正前の請求項４～１５について、訂正前の請求項５～１５は、訂正前の請求項４を直接又は間接的に引用するものであり、請求項５～１５は、一群の請求項である。 （２）訂正事項２ 訂正事項２は、訂正事項１による特許請求の範囲の訂正に伴い、対応する明細書の記載の整合を図るためにする訂正であり、明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。 そして、上記（１）と同様に、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内であり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでない。 ３　小括 以上のとおりであるから、本件訂正請求による訂正は特許法第１２０条の５第２項第３号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第４項、及び、同条第９項において準用する同法第１２６条第４項から第７項までの規定に適合するので、訂正後の請求項〔４～１５〕について訂正を認める。 第３　特許異議の申立てについて １　本件発明 本件訂正請求により訂正された訂正請求項４及び１５に係る発明（以下「本件発明４及び１５」という。）は、その特許請求の範囲の請求項４及び１５に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。 （１）本件発明４ 「処理対象物を載置する第１主面と、前記第１主面とは反対側の第２主面と、周端部に設けられ前記第１主面の一部を形成するシールリングと、を有し、多結晶セラミック焼結体であるセラミック誘電体基板と、 前記セラミック誘電体基板の前記第１主面と前記第２主面との間に介設され、前記セラミック誘電体基板に一体焼結された電極層と、 を備え、 前記第１主面と直交する方向にみて、前記セラミック誘電体基板の外周と、前記電極層の外周と、の間隔が均一となるように前記セラミック誘電体基板の外周が設けられ、 前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした第１仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔は、２ミリメートル以下とされ、 前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔の相互誤差が２００マイクロメートル以下であり、 前記シールリングの内周側端部と前記電極層の外周端部との間の直線距離が、－２ミリ以上２ミリメートル以下である、ただし前記シールリングの高さが２ミリメートル以下で前記直線距離の絶対値が前記シールリングの高さ以下である場合、及び、前記シールリングの高さが２ミリメートル以上である場合を除く、ことを特徴とする静電チャック。」 （２）本件発明１５ 「請求項１～１４のいずれか１つに記載の静電チャックを備えたことを特徴とするウェーハ処理装置。」 ２　取消理由の概要 訂正前の請求項４及び１５に係る特許に対して平成２９年１２月２７日付けで特許権者に通知した取消理由の要旨は、次のとおりである。 （１）請求項４及び１５に係る発明は、甲第１号証（特開２００６－２７００８４号公報）及び甲第２号証（特表２００３－５０４８７１号公報）に記載された発明に基づき、容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、請求項４及び１５に係る特許は、取り消されるべきものである。 （２）請求項４及び１５に係る特許は、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり、取り消されるべきものである。 （３）請求項４及び１５に係る特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり、取り消されるべきものである。 ３　甲号証の記載 （１）甲第１号証の記載事項及び記載された発明 甲第１号証には次の記載がされている（下線は、当審で付した。）。 ア　「【００１９】 したがって、本発明は、一方の主面が被保持物を載せる載置面であり、他方の主面あるいは内部に静電吸着用電極を備え、上記載置面の外周端部に設けられた、上記被保持物と接触する環状凸部と、該環状凸部の内側に設けられた貫通孔と、を有する板状セラミックス体を備える静電チャックであって、上記環状凸部の、上記被保持物と接触する面の算術平均粗さＲａの最大値をＲａ（ｍａｘ）、最小値をＲａ（ｍｉｎ）としたときに、　{Ｒａ（ｍａｘ）－Ｒａ（ｍｉｎ）}/Ｒａ（ｍａｘ）が０．２以下であることを特徴とする静電チャックにある。 【００２０】 また、本発明は、上記静電チャックにおいて、上記環状凸部の内側に環状凹部を設けても良い。」 イ　「【実施例３】 【０１２７】 実施例１と同様に板状セラミックス体を作製し、板状セラミックス体の下面に金属Ｔｉ膜を形成し、これを静電吸着用電極とした。環状凸部の幅を１．５ｍｍとし、その内側に１ｍｍ幅の環状凹部を形成した。そして、静電吸着用電極は櫛歯形状の双曲型として外形は円形とした。そして静電吸着用電極の外径円の大きさを環状凹部の外径円と同じものを試料Ｎｏ．３１～３３、３５～３７とした。また、静電吸着用電極の外径を環状凹部の内径とおなじものとしたものを試料Ｎｏ．３４とした。 ウ 以上の記載によれば、甲第１号証には以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる（括弧内は対応する本件発明の用語である。）。 「被保持物を載せる載置面である一方の主面（処理対象物を載置する第１主面）と、前記一方の主面（第１主面）とは反対側の他方の主面（第２主面）と、周端部に設けられ前記一方の主面（第１主面）の一部を形成する環状凸部（シールリング）と、を有し、板状セラミックス体（多結晶セラミック焼結体であるセラミック誘電体基板）と、 前記板状セラミックス体（セラミック誘電体基板）の前記一方の主面（第１主面）と前記他方の主面（第２主面）との間に介設され、前記板状セラミックス体（セラミック誘電体基板）に一体焼結された静電吸着用電極（電極層）と、 を備え、 前記一方の主面（第１主面）と直交する方向にみて、前記板状セラミックス体（セラミック誘電体基板）の外周と、前記静電吸着用電極（電極層）の外周と、の間隔が均一となるように前記板状セラミックス体（セラミック誘電体基板）の外周が設けられ、 前記板状セラミックス体（セラミック誘電体基板）の中央から外周方向に伸ばした第１仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔は、１．５ｍｍ（２ミリメートル以下）とされる、静電チャック（静電チャック）。」 （２）甲第２号証の記載事項 甲第２号証には次の記載がされている。 ア　「【０００６】 そこで、図８に示すように、誘電体としてセラミック層を使用した静電チャックが考えられた。この静電チャックは、円板状金属基板５１上に接着剤層５２によってセラミック層５３を接着したもので、このセラミック層５３中に高融点電極５４が埋設される。この構成では、静電吸着力を増大させるという観点から、電極５４は、セラミック層５３中に、その表面寄りに配置されている。具体的には、例えば、セラミック層５３の厚さを１ｍｍとすると、セラミック層５３の表面より０．３ｍｍ、セラミック層５３の下面より０．７ｍｍの位置に電極５４が埋設される。また、セラミック層５３の表面には、図７の静電チャックと同様に、セラミック層５３の円周方向に延びた冷却ガス溝５５が形成される。この溝５５は、ヘリウムガスの流れを考慮すると、ある程度の深さが必要である。したがって、セラミック層５３の表面寄りに配置した電極５４の形成位置に前記溝５５を形成すると、溝５５の底部と電極５４との距離が短かくなり、セラミック層５３の絶縁耐圧が不十分となる。そこで、この例では、セラミック層５３の端部から１～２ｍｍ内側の位置に溝５５が形成され、その溝５５より内側に電極５４が形成されている。」 イ　「【００１４】 図１は、本発明の実施の形態の静電チャックを示す断面図である。この図に示すように、本実施の形態の静電チャックにおいては、円板状金属基板６０上に接着剤層７０を介して所定厚さの円板状のセラミック層８０が接着される。このセラミック層８０内には、該セラミック層８０の表面と平行に例えばタングステンからなる平面状の電極９０が埋設される。この際、電極９０は、セラミック層８０の厚さの２分の１の深さに、すなわち厚さ方向の中央で該セラミック層８０内に形成される。」 ウ エ ４　判断 （１）　取消理由通知に記載した取消理由について ア　特許法第２９条第２項について 本件発明４と引用発明とを対比すると、引用発明は、次の事項を有していない。 （相違点１）「前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔の相互誤差が２００マイクロメートル以下であ」る点。 （相違点２）「前記シールリングの内周側端部と前記電極層の外周端部との間の直線距離が、－２ミリ以上２ミリメートル以下である、ただし前記シールリングの高さが２ミリメートル以下で前記直線距離の絶対値が前記シールリングの高さ以下である場合、及び、前記シールリングの高さが２ミリメートル以上である場合を除く」点。 事案に鑑み、相違点２について検討する。 上記３（１）イに示したとおり、甲第１号証には「環状凸部の幅を１．５ｍｍとし、その内側に１ｍｍ幅の環状凹部を形成」する点は記載されている。しかしながら、「板状セラミックス体」の厚さについては明示する記載はない。 一方、対応する、上記３（１）ウの図３（ｂ）の図面では、環状凸部よりも環状凹部の幅が広く描かれており、上記記載を正確に反映したものとは認められない。 してみると、図面から寸法を認定することは困難であり、甲第１号証からは、相違点２に関する記載がなされていたものとは認められない。 また、甲第２号証には、厚さに関する記載は存在するが、引用発明の「板状セラミックス体」の厚さを、甲第２号証に示されたような「１ｍｍ」とする動機付けは存在しない。 そして、当該事項により、本件発明４は、段落【００２２】に記載された、「この静電チャックによれば、セラミック誘電体基板の外周と、電極の外周と、の間隔の、電極外径に対するばらつきが少ない。そのため、セラミック誘電体基板の外周部での絶縁耐圧を保持しつつ、セラミック誘電体基板の外周部に、大きくてかつ一定な吸着力を得ることができる。さらに、処理対象物の温度分布の均一化を図ることができる。また、セラミック誘電体基板の外周に近い位置まで電極層が配置されることで、シールリングの幅が狭くとも、セラミック誘電体基板の外周部における吸着力が一定になる。これにより、ウェーハとセラミック誘電体基板との間の接触面積と、セラミック誘電体基板における吸着力と、が周方向で均一となり、処理対象物の温度の経時変化率の低減と、処理対象物の端部の温度変化の低減と、を両立することができる。」という効果を奏するものである。 したがって、本件発明４は、引用発明及び甲第２号証に記載された事項から当業者が容易に発明をすることができたものではない。 また、本件発明４を引用する本件発明１５も同様に、引用発明及び甲第２号証に記載された事項から当業者が容易に発明をすることができたものではない。 イ　特許法第３６条第４項第１号について 訂正により、発明の詳細な説明の記載において「ただし前記シールリングの高さが２ミリメートル以下で前記直線距離の絶対値が前記シールリングの高さ以下である場合、及び、前記シールリングの高さが２ミリメートル以上である場合を除く」とされ、実施できない態様が除かれたので、発明の詳細な説明の記載は当業者が発明の実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものとなった。 ウ　特許法第３６条第６項第１号について 上記イと同様に、請求項４の記載において、実施できない態様が除かれたので、請求項４及び１５は、発明の詳細な説明に記載したものとなった。 エ　特許異議申立人の意見について 特許異議申立人は平成３０年６月２２日提出の意見書において、「電極層１２がセラミックス誘電体基板１１の内部に埋設されること（主張１）」及び「電極層の位置を外側から正確に把握できること（主張２）」について、言及している。 主張１については、当審も引用発明は電極層がセラミックス誘電体基板の内部に埋設されていると認定しており、当該主張は採用している。 主張２についても、異議申立人の主張のとおり、特許権者の主張は請求項の文言に基づかない主張であるが、上記アにおける判断のとおり、「可視光に対する透過率」が規定されていないくても、引用発明及び甲第２号証に記載された事項から当業者が容易に発明をすることができたものではないのであるから、当該主張は採用できない。 （２）取消理由通知において採用しなかった特許異議申立理由について ア　特許異議申立人は、訂正前の特許請求の範囲に関し、特許異議申立書において、請求項４及び１５に係る発明は、特許法第２９条第１項第３号に該当する旨主張しているが、上記（１）アのとおり、本件発明４及び１５は、引用発明とは相違点１及び２を有しており、本件発明４及び１５は甲第１号証に記載された発明ということはできないのであるから、かかる主張は理由がない。 イ　特許異議申立人は、訂正前の特許請求の範囲に関し、特許異議申立書において、請求項４及び１５に係る発明は、シールリングの内周側端部と前記電極層の外周端部との間の直線距離が負の値や０が含まれるから、明確でなく、特許法第３６条第６項第２号の規定を満たさない旨主張している。 しかしながら、負の値については、段落【０１６１】に記載されており、負の値は明確に理解できるし、請求項４及び１５に係る発明は直線距離が０になる場合を除いているから、かかる主張は理由がない。 ウ　特許異議申立人は、訂正前の明細書に関し、特許異議申立書において、「図２２によれば、シールリングの幅が５ｍｍ以上の場合、処理対象物の温度の経時変化率が２２％を超えることとなる。・・・よって、本発明４は、たとえば、シールリングの幅が５ｍｍを超える場合に本発明の効果を奏する静電チャックをどのようにして得るかについて十分に記載されていない」と主張している。しかしながら、経時変化率のみが本件発明４及び１５の効果ではなく、経時変化率が２２％を超える場合を含むからといって、実施可能要件を満たさないとはいえないから、かかる主張は理由がない。 第４　むすび 以上のとおりであるから、取消理由通知に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した特許異議申立理由によっては、本件請求項４及び１５に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に本件請求項４及び１５に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。