2026-700491

特許第７７８０１３１号発明「静電チャック」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７７８０１３１号の請求項１～５に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第７７８０１３１号の請求項１～５に係る特許（以下「本件特許」という。）についての出願は、令和４年３月２９日に出願され、令和７年１１月２６日にその特許権の設定登録がされ、同年１２月４日に特許掲載公報が発行された。その後、その特許に対し、令和８年６月３日に特許異議申立人 金海松（以下、「申立人」という。）により特許異議の申立てがされた。（申立人により提出された特許異議申立書を以下「申立書」という。） 第２ 本件発明 本件特許の請求項１～５に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」～「本件発明５」という。）は、その特許請求の範囲の請求項１～５に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 「【請求項１】 処理対象物を載置する第１主面と、前記第１主面とは反対側の第２主面と、を有するセラミック誘電体基板と、 前記セラミック誘電体基板を支持するベースプレートと、 前記セラミック誘電体基板を加熱するヒータ部と、 を備え、 前記ヒータ部は、第１給電部と、前記第１給電部に隣り合う第２給電部と、前記第１給電部と前記第２給電部とを結ぶ１本の電極であり電流が流れることにより発熱するヒータラインと、を有し、 前記ヒータラインは、第１方向に沿って延び、前記第１方向に対して垂直な第２方向において並ぶ複数の延在部を有し、 前記複数の延在部は、前記第２方向の一方側において前記第１給電部及び前記第２給電部に隣り合う第１延在部と、前記第２方向の他方側において前記第１給電部及び前記第２給電部に隣り合う第２延在部と、を有し、 前記第１延在部は、前記第２方向において前記第１給電部と重なる第１部分と、前記第２方向において前記第２給電部と重なる第２部分と、前記第１方向において前記第１部分と前記第２部分との間に位置し前記第２方向において前記第１給電部及び前記第２給電部と重ならない第３部分と、を有し、 前記第２延在部は、前記第２方向において前記第１給電部と重なる第４部分と、前記第２方向において前記第２給電部と重なる第５部分と、前記第１方向において前記第４部分と前記第５部分との間に位置し前記第２方向において前記第１給電部及び前記第２給電部と重ならない第６部分と、を有し、 前記第１給電部と前記第２給電部との間の前記第１方向における最小距離を第１距離とし、 前記複数の延在部どうしの間の前記第２方向における最小距離を第２距離とし、 前記第１方向に沿い前記第２方向の前記一方側において前記第１給電部及び前記第２給電部に接する第１仮想接線と、前記第１延在部と、の間の前記第２方向における距離を第３距離とし、 前記第１方向に沿い前記第２方向の前記他方側において前記第１給電部及び前記第２給電部に接する第２仮想接線と、前記第２延在部と、の間の前記第２方向における距離を第４距離としたときに、 前記第３距離及び前記第４距離は、それぞれ、前記第１距離以下であり、 前記第３距離及び前記第４距離は、それぞれ、前記第２距離以下である、静電チャック。 【請求項２】 前記ヒータ部は、複数のゾーンを有し、 前記複数のゾーンは、前記第１給電部、前記第２給電部、及び前記ヒータラインを含む第１ゾーンを有し、 前記第１ゾーンは、前記第１主面に対して垂直なＺ方向に沿って見たときに、前記第１ゾーンの中央に位置する中央領域と、前記中央領域の外側に位置する外周領域と、を有し、 前記第１給電部及び前記第２給電部は、前記中央領域に設けられる、請求項１記載の静電チャック。 【請求項３】 前記ヒータ部は、複数のゾーンを有し、 前記複数のゾーンは、前記第１給電部、前記第２給電部、及び前記ヒータラインを含む第１ゾーンを有し、 前記第１ゾーンは、前記ヒータ部の外周縁を含んでおり、 前記第１ゾーンは、前記第１ゾーンを径方向において２等分する径方向の中心線よりも径方向の内側に位置する内周部と、前記径方向の中心線よりも径方向の外側に位置し前記外周縁を含む外周部と、を有し、 前記第１給電部及び前記第２給電部は、前記内周部に設けられる、請求項１記載の静電チャック。 【請求項４】 前記第１方向は、周方向である、請求項１～３のいずれか１つに記載の静電チャック。 【請求項５】 前記第１方向は、径方向である、請求項１～３のいずれか１つに記載の静電チャック。」 第３ 特許異議の申立理由 申立人は、甲第１号証～甲第３号証（以下、それぞれ「甲１」～「甲３」という。）を証拠方法とし、以下の申立理由１～３により、本件特許を取り消すべきものである旨申し立てた。 １ 申立理由１（進歩性欠如） 本件発明１～４は、甲１に記載された発明及び甲２、甲３に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、本件の請求項１～４に係る特許は、同法第１１３条第２号により取り消されるべきものである。 ２ 申立理由２（サポート要件違反） 本件発明１～５は、特許法第３６条第６項第１号を満たしていないから、本件の請求項１～５に係る特許は、同法第１１３条第４号により取り消されるべきものである。 ３ 申立理由３（明確性要件違反） 本件発明１～５は、特許法第３６条第６項第２号を満たしていないから、本件の請求項１～５に係る特許は、同法第１１３条第４号により取り消されるべきものである。 ４ 証拠 甲１： 特開２０１１－１７６２７５号公報 甲２： 特開２０１６－１２９１８３号公報 甲３： 特開２００９－２１８２４２号公報 第４ 申立理由の検討 １ 申立理由１（進歩性欠如）について （１） 甲１発明 ア 甲１の記載 甲１には次の記載がある。（下線は、引用箇所を示すために、合議体が付加した。） 「【技術分野】 【０００１】 本発明は、静電チャック装置に関し、さらに詳しくは、半導体ウエハ等の板状試料を静電気力により吸着固定する際に好適に用いられ、半導体製造プロセスにおける物理気相成長法（ＰＶＤ）や化学気相成長法（ＣＶＤ）による成膜処理、プラズマエッチング等のエッチング処理、露光処理等の各種工程においても、板状試料を載置する載置面における面内温度の均一性を高めることが可能であり、さらには、加熱部材の耐電圧性を高めることが可能な静電チャック装置に関するものである。」 「【発明を実施するための形態】 ・・・中略・・・ 【００２９】 図１は、本発明の一実施形態の静電チャック装置を示す断面図であり、この静電チャック装置１は、円板状の静電チャック部２と、この静電チャック部２を所望の温度に調整する厚みのある円板状の温度調整用ベース部３と、静電チャック部２の下面（他の主面）に接着された所定のパターンを有する接着材４と、接着材４の下面に接着された該接着材４と同形状のパターンのヒータエレメント５と、温度調整用ベース部３の上面に接着材６を介して接着された絶縁部材７と、静電チャック部２の下面のヒータエレメント５と温度調整用ベース部３上の絶縁部材７とを対向させた状態でこれらを接着一体化する有機系接着剤層８とにより主として構成されている。 【００３０】 静電チャック部２は、上面が半導体ウエハ等の板状試料Ｗを載置する載置面とされた載置板１１と、この載置板１１と一体化され該載置板１１を支持する支持板１２と、これら載置板１１と支持板１２との間に設けられた静電吸着用内部電極１３及び静電吸着用内部電極１３の周囲を絶縁する絶縁材層１４と、支持板１２を貫通するようにして設けられ静電吸着用内部電極１３に直流電圧を印加する給電用端子１５とにより構成されている。 【００３１】 これら載置板１１および支持板１２は、重ね合わせた面の形状を同じくする円板状のもので、酸化アルミニウム－炭化ケイ素（Ａｌ２Ｏ３－ＳｉＣ）複合焼結体、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）焼結体、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）焼結体、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）焼結体等の機械的な強度を有し、かつ腐食性ガス及びそのプラズマに対する耐久性を有する絶縁性のセラミックス焼結体からなるものである。 ・・・中略・・・ 【００４１】 ヒータエレメント５は、支持板１２の下面に接着材４を介して配設されたもので、例えば、図２に示すように、相互に独立した２つのヒータ、すなわち中心部に形成された内ヒータ５ａと、この内ヒータ５ａの周縁部外方に環状に形成された外ヒータ５ｂとにより構成され、これら内ヒータ５ａ及び外ヒータ５ｂ各々の両端部の給電用端子との接続位置２１それぞれには、図１に示す給電用端子２２が接続され、この給電用端子２２は、絶縁性を有する碍子２３により温度調整用ベース部３に対して絶縁されている。 【００４２】 これら内ヒータ５ａ及び外ヒータ５ｂは、それぞれが、幅の狭い帯状の金属材料を蛇行させたパターンを軸を中心として、この軸の回りに繰り返し配置し、かつ隣接するパターン同士を接続することで、１つの連続した帯状のヒーターパターンとされている。 このヒータエレメント５では、これら内ヒータ５ａ及び外ヒータ５ｂをそれぞれ独立に制御することにより、載置板１１の載置面に静電吸着により固定されている板状試料Ｗの面内温度分布を精度良く制御するようになっている。」 「【図１】 ［図：0001438326000001.jpg］ 【図２】 ［図：0001438326000002.jpg］ 」 イ 甲１発明 （ア） 上記アの段落００２９、段落００３０、段落００３１、段落００４１、段落００４２によると、甲１には次の静電チャック装置１が記載されているといえる。（括弧内は引用元の段落番号を示す。） 「円板状の静電チャック部２と、この静電チャック部２を所望の温度に調整する厚みのある円板状の温度調整用ベース部３と、静電チャック部２の下面に接着された所定のパターンを有する接着材４と、接着材４の下面に接着された該接着材４と同形状のパターンのヒータエレメント５と、温度調整用ベース部３の上面に接着材６を介して接着された絶縁部材７と、静電チャック部２の下面のヒータエレメント５と温度調整用ベース部３上の絶縁部材７とを対向させた状態でこれらを接着一体化する有機系接着剤層８とにより構成されている静電チャック装置１であって（段落００２９）、 静電チャック部２は、上面が半導体ウエハ等の板状試料Ｗを載置する載置面とされた載置板１１と、この載置板１１と一体化され該載置板１１を支持する支持板１２とにより構成され（段落００３０）、 載置板１１および支持板１２は、絶縁性のセラミックス焼結体からなるものであり（段落００３１）、 ヒータエレメント５は、中心部に形成された内ヒータ５ａと、この内ヒータ５ａの周縁部外方に環状に形成された外ヒータ５ｂとにより構成され、これら内ヒータ５ａ及び外ヒータ５ｂ各々の両端部の給電用端子との接続位置２１それぞれには給電用端子２２が接続され（段落００４１）、 内ヒータ５ａは、１つの連続した帯状のヒーターパターンとされる（段落００４２）、 静電チャック装置１。」 （イ） 上記アの【図１】から、温度調整用ベース部３が、有機系接着剤層８を介して、静電チャック部２を支持することが見て取れる。 （ウ） 上記アの段落００４１に記載された、内ヒータ５ａの両端部の給電用端子との接続位置２１について、同【図２】から、当該接続位置２１は隣り合っており、内ヒータ５ａが周方向に沿って延び、周方向に対して垂直な径方向において並ぶ複数の延在部（申立書の３３頁における甲１の【図２】を拡大した下記［参考図２］における５ｅ）を有することが見て取れる。 （エ） さらに、同【図２】から、内ヒータ５ａの複数の延在部（下記［参考図２］における５ｅ）には、周方向の内周側において内ヒータ５ａの両端部の給電用端子の接続位置２１に隣り合う第１延在部（下記［参考図２］における５ｅ１）が含まれ、第一延在部は、径方向の両端部の給電用端子と重なる部分（下記［参考図２］における５ｅ１１、５ｅ１２）と、周方向において当該部分の間に位置し、径方向において両端部の給電用端子と重ならない部分（下記［参考図２］における５ｅ１３）を備えることが見て取れる。 ［図：0001438326000003.jpg］ （オ） 上記（ア）～（エ）を踏まえると、甲１には次の発明（以下「甲１発明」という。）が記載されているといえる。 「円板状の静電チャック部２と、この静電チャック部２を所望の温度に調整する厚みのある円板状の温度調整用ベース部３と、静電チャック部２の下面に接着された所定のパターンを有する接着材４と、接着材４の下面に接着された該接着材４と同形状のパターンのヒータエレメント５と、温度調整用ベース部３の上面に接着材６を介して接着された絶縁部材７と、静電チャック部２の下面のヒータエレメント５と温度調整用ベース部３上の絶縁部材７とを対向させた状態でこれらを接着一体化する有機系接着剤層８とにより構成されている静電チャック装置１であって、 静電チャック部２は、上面が半導体ウエハ等の板状試料Ｗを載置する載置面とされた載置板１１と、この載置板１１と一体化され該載置板１１を支持する支持板１２とにより構成され、載置板１１および支持板１２は、絶縁性のセラミックス焼結体からなるものであり、 ヒータエレメント５は、中心部に形成された内ヒータ５ａと、この内ヒータ５ａの周縁部外方に環状に形成された外ヒータ５ｂとにより構成され、これら内ヒータ５ａ及び外ヒータ５ｂ各々の両端部の給電用端子との接続位置２１それぞれには給電用端子２２が接続され、 内ヒータ５ａは、１つの連続した帯状のヒーターパターンとされ（上記（ア））、 温度調整用ベース部３は、静電チャック部２を支持し（上記（イ））、 内ヒータ５ａの両端部の給電用端子との接続位置２１は隣り合っており、内ヒータ５ａが周方向に沿って延び、周方向に対して垂直な径方向において並ぶ複数の延在部を有し（上記（ウ））、 内ヒータ５ａの複数の延在部は、周方向の内周側において内ヒータ５ａの両端部の給電用端子との接続位置２１に隣り合う第１延在部を有し、第１延在部は、径方向の両端部の給電用端子と重なる部分と、周方向において当該部分の間に位置し径方向において両端部の給電用端子と重ならない部分を備える（上記（エ））、 静電チャック装置１。」 （２） 甲２ 甲２には、以下の記載がある。 「【技術分野】 【０００１】 本発明は、静電チャック装置に関するものである。」 「【発明を実施するための形態】 ・・・中略・・・ 【０１０２】 （貫通孔３ｂ近傍） 図１０は、図１に示す貫通孔（第２の貫通孔）３ｂの近傍に配置されたヒータの模式図である。図に示すように、貫通孔３ｂを囲むように配置されたヒータ５０Ｅは、第１部材５１Ｅと、第１部材５１Ｅの端部に接続された第２部材５２Ｅと、第２部材５２Ｅの端部に接続された第３部材５３Ｅと、を有している。第３部材５３Ｅの第２部材５２Ｅとは反対側の端部には、給電用端子１７が接続されている。第３部材５３Ｅは、給電用端子１７の周囲を取り囲む円弧状の帯状の導電薄板である。 【０１０３】 第１部材５１Ｅと、第２部材５２Ｅと、第３部材５３Ｅとは、多くの位置において同じ幅となるように形成されている。 【０１０４】 ヒータは、帯状の導電薄板に通電した時の抵抗発熱を利用して加熱するものである。対して、導電薄板と接続する給電用端子１７は、抵抗発熱を生じさせず導電薄板に導通させることが求められるため、給電用端子１７の位置では、発熱量が小さくなる。そのため、従来の静電チャック装置においては、給電用端子１７と平面的に重なる位置において、板状試料は目標温度よりも低くなり易く、周囲と温度差を生じやすくなっていた。」 「【図１０】 ［図：0001438326000004.jpg］ 」 （３） 甲３ 甲３には、以下の記載がある。 「【技術分野】 【０００１】 本発明は、真空容器内部の処理室内に配置された試料台上に半導体ウエハ等の基板状の試料を保持してこの処理室内に形成したプラズマを用いて試料を処理するプラズマ処理装置の製造方法に係り、特に、前記試料台の上面に誘電体材料による膜の内部にヒータを備えてこのヒータの動作により試料の温度を調節しつつ処理を行うプラズマ処理装置の製造方法に関する。」 「【発明を実施するための最良の形態】 ・・・中略・・・ 【００３３】 本発明のさらなる利点を図４にて示す。４０１は溶射膜ヒータ、４０２は溶射膜ヒータに通電するための給電端部である。図４の例において、抵抗値，温度分布はＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄの４領域に分割し管理されている。ここで、給電端部４０２を含むＡおよびＢのブロックの平均温度は、発熱しない給電端部４０２を含むことにより発熱密度が低くなり、領域内の平均温度がＣおよびＤブロックと比較して低くなる。」 「【図４】 ［図：0001438326000005.jpg］ 」 （４） 対比 ア 本件発明１と甲１発明を対比する。 （ア） 甲１発明の「載置板１１」は「上面が半導体ウエハ等の板状試料Ｗを載置する載置面とされ」ており、半導体ウエハ等の板状試料Ｗが静電チャック装置１の処理対象物にあたるから、甲１発明の「半導体ウエハ等の板状試料Ｗ」は、本件発明１の「処理対象物」に相当し、甲１発明の「半導体ウエハ等の板状試料Ｗを載置する載置面」は、本件発明１の「処理対象物を載置する第１主面」に相当する。 また、甲１発明において、「静電チャック部２」が「載置板１１と一体化され該載置板１１を支持する支持板１２とにより構成され」ていることを踏まえれば、甲１発明の「静電チャック部２の下面」は、「載置板１１」の「載置面」と反対側にあるから、本件発明１の「前記第１主面とは反対側の第２主面」に相当する。 そして、甲１発明において、「静電チャック部２」は、「載置板１１と、この載置板１１と一体化され該載置板１１を支持する支持板１２とにより構成され」、「載置板１１および支持板１２は、絶縁性のセラミックス焼結体からな」るから、セラミック誘電体からなる基板であるといえる。 そうすると、甲１発明の「静電チャック部２」は、本件発明１の「セラミック誘電体基板」に相当する。 （イ） 甲１発明の「温度調整用ベース部３」は、「静電チャック部２を支持」するものであるから、本件発明１の「前記セラミック誘電体基板を支持するベースプレート」に相当する。 （ウ） 甲１発明において、「ヒータエレメント５」は、「静電チャック部２」に接着されるものであるから、「静電チャック部２」を加熱するものといえる。 そうすると、甲１発明の「ヒータエレメント５」は、本件発明１の「前記セラミック誘電体基板を加熱するヒータ部」に相当する。 （エ） 甲１発明の「ヒータエレメント５」は、「内ヒータ５ａ」と「外ヒータ５ｂとにより構成され」、「内ヒータ５ａ」の「両端部の給電用端子」は、その「接続位置２１それぞれには給電用端子２２が接続され」ており、「両端部の給電用端子との接続位置２１は隣り合って」いるから、一端部の「給電用端子」と、それに隣り合う他端部の「給電用端子」を有するといえる。 そうすると、甲１発明の「内ヒータ５ａ」の一端部の「給電用端子」と、他端部の「給電用端子」は、本件発明１の「第１給電部」、「前記第１給電部に隣り合う第２給電部」にそれぞれ相当する。 そして、甲１発明の「内ヒータ５ａ」は、「１つの連続した帯状のヒーターパターンとされ」ているから、一端部の「給電用端子」と他端部の「給電用端子」とを結ぶ１本の電極といえ、また、ヒータに電流が流れることにより発熱することは技術常識である。 そうすると、甲１発明の「内側ヒータ５ａ」は、本件発明１の「前記第１給電部と前記第２給電部とを結ぶ１本の電極であり電流が流れることにより発熱するヒータライン」に相当する。 以上によれば、本件発明１の「前記ヒータ部」と甲１発明の「ヒータエレメント５」とは、「前記ヒータ部は、第１給電部と、前記第１給電部に隣り合う第２給電部と、前記第１給電部と前記第２給電部とを結ぶ１本の電極であり電流が流れることにより発熱するヒータラインと、を有」する点で共通する。 （オ） 甲１発明は、「内ヒータ５ａが周方向に沿って延び、周方向に対して垂直な径方向において並ぶ複数の延在部を有」するのに対し、本件発明１は、「前記第２方向の一方側において前記第１給電部及び前記第２給電部に隣り合う第１延在部を有」するから、甲１発明の「周方向」、「周方向に対して垂直な径方向」は、本件発明１の「第１方向」、「第１方向に対して垂直な第２方向」にそれぞれ相当し、本件発明１の「前記ヒータライン」と甲１発明の「内ヒータ５ａ」とは、「前記ヒータラインは、第１方向に沿って延び、前記第１方向に対して垂直な第２方向において並ぶ複数の延在部を有」する点で共通する。 （カ） 甲１発明の「内ヒータ５ａの複数の延在部」は、「周方向の内周側において内ヒータ５ａの両端部の給電用端子との接続位置２１に隣り合う第１延在部を有」するのに対し、本件発明１は、「前記複数の延在部は、前記第２方向の一方側において前記第１給電部及び前記第２給電部に隣り合う第１延在部」を有するから、甲１発明の「内周側」は、本件発明１の「一方側」に相当し、本件発明１と甲１発明とは、「前記第２方向の一方側において前記第１給電部及び前記第２給電部に隣り合う第１延在部を有」する点で共通する。 さらに、甲１発明の「第１延在部」は、「径方向の両端部の給電用端子と重なる部分と、周方向において当該部分の間に位置し径方向において両端部の給電用端子と重ならない部分を備える」から、本件発明１と甲１発明とは、「第１延在部」が「前記第２方向において前記第１給電部と重なる第１部分と、前記第２方向において前記第２給電部と重なる第２部分と、前記第１方向において前記第１部分と前記第２部分との間に位置し前記第２方向において前記第１給電部及び前記第２給電部と重ならない第３部分と、を有」する点で共通する。 （キ） 本件発明１の「静電チャック」と甲１発明の「静電チャック装置１」とは、いずれも「静電チャック」ある点で共通する。 イ 一致点・相違点 以上を踏まえると、本件発明１と甲１発明とは次の点で一致し、相違する。 （ア） 一致点 「処理対象物を載置する第１主面と、前記第１主面とは反対側の第２主面と、を有するセラミック誘電体基板と、 前記セラミック誘電体基板を支持するベースプレートと、 前記セラミック誘電体基板を加熱するヒータ部と、 を備え、 前記ヒータ部は、第１給電部と、前記第１給電部に隣り合う第２給電部と、前記第１給電部と前記第２給電部とを結ぶ１本の電極であり電流が流れることにより発熱するヒータラインと、を有し、 前記ヒータラインは、第１方向に沿って延び、前記第１方向に対して垂直な第２方向において並ぶ複数の延在部を有し、 前記複数の延在部は、前記第２方向の一方側において前記第１給電部及び前記第２給電部に隣り合う第１延在部を有し、 前記第１延在部は、前記第２方向において前記第１給電部と重なる第１部分と、前記第２方向において前記第２給電部と重なる第２部分と、前記第１方向において前記第１部分と前記第２部分との間に位置し前記第２方向において前記第１給電部及び前記第２給電部と重ならない第３部分と、を有する、静電チャック。」 （イ）相違点 ［相違点１］ ヒータラインが有する複数の延在部に関して、本件発明１が「前記第２方向の他方側において前記第１給電部及び前記第２給電部に隣り合う第２延在部」（以下、「構成１」という。）を備えているのに対し、甲１発明はそのような特定がされていない点。 ［相違点２］ 本件発明１が「前記第２延在部は、前記第２方向において前記第１給電部と重なる第４部分と、前記第２方向において前記第２給電部と重なる第５部分と、前記第１方向において前記第４部分と前記第５部分との間に位置し前記第２方向において前記第１給電部及び前記第２給電部と重ならない第６部分と、を有し」（以下、「構成２」という。）ているのに対し、甲１発明はそのような特定がされていない点。 ［相違点３］ 本件発明１が「前記第１給電部と前記第２給電部との間の前記第１方向における最小距離を第１距離とし、前記複数の延在部どうしの間の前記第２方向における最小距離を第２距離とし、前記第１方向に沿い前記第２方向の前記一方側において前記第１給電部及び前記第２給電部に接する第１仮想接線と、前記第１延在部と、の間の前記第２方向における距離を第３距離とし、前記第１方向に沿い前記第２方向の前記他方側において前記第１給電部及び前記第２給電部に接する第２仮想接線と、前記第２延在部と、の間の前記第２方向における距離を第４距離としたときに、前記第３距離及び前記第４距離は、それぞれ、前記第１距離以下であり、前記第３距離及び前記第４距離は、それぞれ、前記第２距離以下である」（以下、「構成３」という。）のに対し、甲１発明はそのような特定がされていない点。 （５） 相違点の判断 相違点１について検討する。 甲１～甲３のいずれにも、相違点１に係る構成１は、記載も示唆もない。 また、甲１発明は、内ヒータ５ａの周縁部外方に環状に形成された外ヒータ５ｂを有することから、甲１発明において、内ヒータ５ａの延在部を、内ヒータ５ａの接続位置２１の外周側においても設ける動機づけはない。 そうすると、本件発明１において、相違点１に係る構成１とすることは、当業者が容易に想到できたものとはいえない。 そして、第２延在部に関する相違点１に係る構成１を有するように設計することが、当業者が容易に想到し得ないものである以上、第２延在部の具体的な構成である相違点２に係る構成２及び相違点３に係る構成３についても、当業者が容易に想到し得ないものである。 よって、本件発明１は、甲１発明及び甲２、甲３に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明することができたものとはいえない。 （６） 申立人の主張について 申立人は、相違点１の構成１について、申立書３２頁１７行～２１行において、「このような、静電チャックにおける給電部に対するヒータの位置関係は、例えば、静電チャックが使用される環境や静電チャックが適用される装置の構成に応じて適宜変更される。すなわち、静電チャックにおける給電部に対するヒータの位置関係の違いは、静電チャックにおけるごく一般的な設計変更の差異に過ぎない」と主張し、同頁２２行～３３頁２行において、静電チャックの設計段階において、給電部がヒータの内側に位置するように設計されるとき、第２方向の他方側において第１給電部及び第２給電部に隣り合う第２延在部に相当する構成を有するように設計することは当業者が容易に想到できる旨主張する。 しかしながら、申立人の上記主張を裏付ける内容は、いずれの証拠にも記載がない。 また、上記（３）のとおり、甲１～甲３のいずれにも、相違点１に係る構成１は、記載も示唆もなく、甲１発明において、相違点１の構成１とする動機づけもない。 また、本件発明１の構成をすべて含む本件発明２～４についても同様である。 したがって、申立人の上記主張は採用できない。 （６） 申立理由１のまとめ 以上のとおり、申立理由１（進歩性欠如）は理由がない。 ２ 申立理由２（サポート要件違反）について （１） 特許請求の範囲の記載が明細書のサポート要件に適合するか否かは、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載とを対比し、特許請求の範囲に記載された発明が、発明の詳細な説明に記載された発明で、発明の詳細な説明の記載又はその示唆により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否か、また、その記載や示唆がなくとも当業者が出願時の技術常識に照らし当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否かを検討して判断すべきものである。 （２） 本件発明が解決しようとする課題 本件特許の願書に添付した明細書（以下「本件明細書」という。）の発明の詳細な説明（以下「発明の詳細な説明」という。）の段落０００９の記載によれば、本件発明が解決しようとする課題は、「温度制御が複雑になることを抑制しつつ、処理対象物の面内の温度分布の均一性を向上させることができる静電チャックを提供する」こと（以下、「本件課題」という。）である。 （３） 発明の詳細な説明の記載 発明の詳細な説明には、以下の記載がある。（下線は、合議体が付加した。） 「【００１１】 第１給電部及び第２給電部は、発熱しないためクールスポットとなり、処理対象物の面内の温度分布の均一性を低下させる要因となりうる。ヒータ部の面内の温度分布の均一性を向上させるために、例えば、第１給電部及び第２給電部を互いに離れた位置に配置することが考えられる。しかし、第１給電部及び第２給電部を互いに離れた位置に配置すると、クールスポットが分散することで、温度制御が複雑になるおそれがある。一方で、第１給電部及び第２給電部を互いに近接した位置に配置すると、クールスポットにおける温度がより低くなり、ヒータ部の面内の温度分布の均一性が低下するおそれがある。これに対し、この静電チャックによれば、第１給電部及び第２給電部を互いに近接した位置に配置するとともに、ヒータラインのうち第１給電部及び第２給電部に隣り合う部分（第１延在部及び第２延在部）を第１給電部及び第２給電部の近くに配置している。これにより、クールスポットが分散することを抑制するとともに、クールスポットの近くに発熱部であるヒータライン（第１延在部及び第２延在部）を配置することで、クールスポットにおける温度の大幅な低下を抑制できる。したがって、温度制御が複雑になることを抑制しつつ、処理対象物の面内の温度分布の均一性を向上させることができる。」 「【発明を実施するための形態】 【００２２】 以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。 ・・・中略・・・ 【００２４】 図１、図２（ａ）、及び図２（ｂ）に表したように、実施形態に係る静電チャック１０は、セラミック誘電体基板１００と、ヒータ部２００と、べースプレート３００と、を備える。 【００２５】 セラミック誘電体基板１００は、例えば多結晶セラミック焼結体による平板状の基材であり、半導体ウェーハ等の処理対象物Ｗを載置する第１主面１０１と、第１主面１０１とは反対側の第２主面１０２と、を有する。 【００２６】 本願明細書では、第１主面１０１に対して垂直な方向をＺ方向とする。Ｚ方向は、換言すれば、第１主面１０１と第２主面１０２とを結ぶ方向である。Ｚ方向は、換言すれば、ベースプレート３００からセラミック誘電体基板１００に向かう方向である。また、Ｚ方向と直交する方向の１つをＸ方向、Ｚ方向及びＸ方向に直交する方向をＹ方向とする。本願明細書において、「面内」とは、例えばＸ－Ｙ平面内である。また、本願明細書において、「平面視」とは、Ｚ方向に沿って見た状態を示す。 ・・・中略・・・ 【００３２】 ベースプレート３００は、セラミック誘電体基板１００の第２主面１０２側に設けられ、セラミック誘電体基板１００を支持する。ベースプレート３００には、連通路３０１が設けられている。つまり、連通路３０１は、ベースプレート３００の内部に設けられている。ベースプレート３００の材料としては、例えばアルミニウムやアルミニウム合金、チタン、チタン合金が挙げられる。 ・・・中略・・・ 【００３６】 ヒータ部２００は、セラミック誘電体基板１００を加熱する。ヒータ部２００は、セラミック誘電体基板１００を加熱することで、セラミック誘電体基板１００を介して処理対象物Ｗを加熱する。この例では、ヒータ部２００は、第１主面１０１と、第２主面１０２と、の間に設けられている。すなわち、ヒータ部２００は、セラミック誘電体基板１００の中に挿入されるように形成されている。言い換えれば、ヒータ部２００は、セラミック誘電体基板１００に内蔵されている。 ・・・中略・・・ 【００６３】 第１ヒータエレメント２３１は、第１領域７０１及び第２領域７０２を有する。第１領域７０１及び第２領域７０２は、それぞれ、第１サブ給電部２３１ａと、第２サブ給電部２３１ｂと、サブヒータライン２３１ｃと、を有する。サブヒータライン２３１ｃは、第１サブ給電部２３１ａと第２サブ給電部２３１ｂとに電気的に接続されている。第１サブ給電部２３１ａは、サブヒータライン２３１ｃの一端に設けられており、第２サブ給電部２３１ｂは、サブヒータライン２３１ｃの他端に設けられている。サブヒータライン２３１ｃは、電流が流れることにより発熱する。第１サブ給電部２３１ａ及び第２サブ給電部２３１ｂは、サブヒータライン２３１ｃに給電する。第１ヒータエレメント２３１は、第１サブ給電部２３１ａ及び第２サブ給電部２３１ｂにおいてバイパス層２５０と電気的に接続されている。 ・・・中略・・・ 【００６６】 第２ヒータエレメント２３２は、メインゾーン６０１、メインゾーン６０２、及びメインゾーン６０３を有する。メインゾーン６０１～６０３は、それぞれ、第１メイン給電部２３２ａと、第２メイン給電部２３２ｂと、メインヒータライン２３２ｃと、を有する。メインヒータライン２３２ｃは、第１メイン給電部２３２ａと第２メイン給電部２３２ｂとに電気的に接続されている。第１メイン給電部２３２ａは、メインヒータライン２３２ｃの一端に設けられており、第２メイン給電部２３２ｂは、メインヒータライン２３２ｃの他端に設けられている。メインヒータライン２３２ｃは、電流が流れることにより発熱する。第１メイン給電部２３２ａ及び第２メイン給電部２３２ｂは、メインヒータライン２３２ｃに給電する。第２ヒータエレメント２３２は、第１メイン給電部２３２ａ及び第２メイン給電部２３２ｂにおいてバイパス層２５０と電気的に接続されている。 ・・・中略・・・ 【００９０】 図５は、第１実施形態に係る第２ヒータエレメントのメインゾーンを模式的に表す平面図である。 図５は、図３に記載の第２ヒータエレメント２３２をＺ方向に垂直な平面に投影した図である。 図５に表したように、第２ヒータエレメント２３２は、径方向Ｄｒに分割された複数のメインゾーン６００を有する。第２ヒータエレメント２３２では、例えば、各メインゾーン６００において、独立した温度制御が行われる。 本願明細書において、「径方向Ｄｒ」とは、ヒータエレメントの中心から半径に沿って外周に向かう方向である。「周方向Ｄｃ」とは、ヒータエレメントの外周に沿う方向である。 ・・・中略・・・ 【０１１２】 図８は、第１実施形態に係るヒータ部の第１ゾーンを模式的に表す平面図である。 図８では、ヒータ部２００の第１ゾーン８１０を拡大して表している。第１ゾーン８１０は、ヒータ部２００に含まれる複数のゾーンのうちの１つである。第１ゾーン８１０は、例えば、第１ヒータエレメント２３１のサブゾーン７００のうちの１つであってもよいし、第２ヒータエレメント２３２のメインゾーン６００のうちの１つであってもよい。 【０１１３】 図８に表したように、第１ゾーン８１０は、第１給電部８３１と、第２給電部８３２と、ヒータライン８３３と、を有する。第１ゾーン８１０がサブゾーン７００のうちの１つの場合、第１給電部８３１、第２給電部８３２、及びヒータライン８３３は、それぞれ、第１サブ給電部２３１ａ、第２サブ給電部２３１ｂ、及びサブヒータライン２３１ｃである。第１ゾーン８１０がメインゾーン６００のうちの１つの場合、第１給電部８３１、第２給電部８３２、及びヒータライン８３３は、それぞれ、第１メイン給電部２３２ａ、第２メイン給電部２３２ｂ、及びメインヒータライン２３２ｃである。 【０１１４】 第２給電部８３２は、第１給電部８３１に隣り合う位置に設けられている。つまり、第１給電部８３１と第２給電部８３２との間には、ヒータライン８３３が設けられていない。言い換えれば、ヒータライン８３３は、第１給電部８３１と第２給電部８３２との間を避けるように設けられている。 【０１１５】 ヒータライン８３３は、複数の延在部８３４と、折り返し部８３５と、を有する。ヒータライン８３３は、複数の延在部８３４が折り返し部８３５によって接続された構造を有する。これにより、ヒータライン８３３は、第１給電部８３１と第２給電部８３２とを結ぶ１本の電極として機能する。 【０１１６】 延在部８３４は、第１方向に沿って延びる。延在部８３４は、第２方向において並んでいる。第２方向は、第１方向に対して垂直な方向である。この例では、第１方向は、周方向Ｄｃであり、第２方向は、径方向Ｄｒである。つまり、延在部８３４は、周方向Ｄｃに沿って延びており、径方向Ｄｒにおいて並んでいる。 【０１１７】 複数の延在部８３４は、第１延在部８４１と、第２延在部８４２と、を有する。第１延在部８４１は、第２方向（径方向Ｄｒ）の一方側（外側）において、第１給電部８３１及び第２給電部８３２に隣り合っている。つまり、第１延在部８４１と第１給電部８３１との間及び第１延在部８４１と第２給電部８３２との間には、他の延在部８３４が設けられていない。第２延在部８４２は、第２方向（径方向Ｄｒ）の他方側（内側）において第１給電部８３１及び第２給電部８３２に隣り合っている。つまり、第２延在部８４２と第１給電部８３１との間及び第２延在部８４２と第２給電部８３２との間には、他の延在部８３４が設けられていない。 【０１１８】 第１延在部８４１は、第１部分８４１ａと、第２部分８４１ｂと、第３部分８４１ｃと、を有する。第１部分８４１ａは、第２方向（径方向Ｄｒ）において、第１給電部８３１と重なる。第２部分８４１ｂは、第２方向（径方向Ｄｒ）において、第２給電部８３２と重なる。第３部分８４１ｃは、第１方向（周方向Ｄｃ）において、第１部分８４１ａと第２部分８４１ｂとの間に位置する。第３部分８４１ｃは、第２方向（径方向Ｄｒ）において、第１給電部８３１及び第２給電部８３２と重ならない。つまり、第３部分８４１ｃは、第２方向（径方向Ｄｒ）において、第１給電部８３１と第２給電部８３２との間の隙間と重なる。 【０１１９】 第２延在部８４２は、第４部分８４２ａと、第５部分８４２ｂと、第６部分８４２ｃと、を有する。第４部分８４２ａは、第２方向（径方向Ｄｒ）において、第１給電部８３１と重なる。第５部分８４２ｂは、第２方向（径方向Ｄｒ）において、第２給電部８３２と重なる。第６部分８４２ｃは、第１方向（周方向Ｄｃ）において、第４部分８４２ａと第５部分８４２ｂとの間に位置する。第６部分８４２ｃは、第２方向（径方向Ｄｒ）において、第１給電部８３１及び第２給電部８３２と重ならない。つまり、第６部分８４２ｃは、第２方向（径方向Ｄｒ）において、第１給電部８３１と第２給電部８３２との間の隙間と重なる。 ・・・中略・・・ 【０１２３】 第１給電部８３１と第２給電部８３２との間の第１方向（周方向Ｄｃ）における最小距離を第１距離Ｌ１とする。また、複数の延在部８３４どうしの間の第２方向（径方向Ｄｒ）における最小距離を第２距離Ｌ２とする。第２距離Ｌ２は、例えば、第１距離Ｌ１と同じである。第１距離Ｌ１は、第２距離Ｌ２よりも短くすることで、クールスポットになりうる第１給電部８３１と第２給電部８３２を十分近づけることができ好ましい。なお、複数の延在部８３４どうしの間の第２方向の距離は、一定でなくてもよい。この場合、複数の延在部８３４どうしの間の第２方向の距離のうち最小の距離を第２距離Ｌ２とする。第１距離Ｌ１は、例えば、０．１ｍｍ以上２．０ｍｍ以下である。第２距離Ｌ２は、例えば、０．２ｍｍ以上２．０ｍｍ以下である。 【０１２４】 また、第１仮想接線ＶＴ１と第１延在部８４１との間の第２方向（径方向Ｄｒ）における距離を第３距離Ｌ３とする。第１仮想接線ＶＴ１は、第１方向（周方向Ｄｃ）に沿い、第２方向（径方向Ｄｒ）の一方側（外側）において第１給電部８３１及び第２給電部８３２に接する接線である。第３距離Ｌ３は、例えば、第１仮想接線ＶＴ１と第１延在部８４１の第３部分８４１ｃとの間の第２方向（径方向Ｄｒ）における距離である。第３距離Ｌ３は、第１距離Ｌ１以下である。第３距離Ｌ３は、例えば、第１距離Ｌ１よりも短い。第３距離Ｌ３は、例えば、第１距離Ｌ１の半分よりも長い。第３距離Ｌ３は、第２距離Ｌ２以下である。第３距離Ｌ３は、例えば、第２距離Ｌ２よりも短い。第３距離Ｌ３は、例えば、０．０５ｍｍ以上０．６ｍｍ以下、好ましくは０．１ｍｍ以上０．３ｍｍ以下である。 【０１２５】 また、第２仮想接線ＶＴ２と第２延在部８４２との間の第２方向（径方向Ｄｒ）における距離を第４距離Ｌ４とする。第２仮想接線ＶＴ２は、第１方向（周方向Ｄｃ）に沿い、第２方向（径方向Ｄｒ）の他方側（内側）において第１給電部８３１及び第２給電部８３２に接する接線である。第４距離Ｌ４は、例えば、第２仮想接線ＶＴ２と第２延在部８４２の第６部分８４２ｃとの間の第２方向（径方向Ｄｒ）における距離である。第４距離Ｌ４は、第１距離Ｌ１以下である。第４距離Ｌ４は、例えば、第１距離Ｌ１よりも短い。第４距離Ｌ４は、例えば、第１距離Ｌ１の半分よりも長い。第４距離Ｌ４は、第２距離Ｌ２以下である。第４距離Ｌ４は、例えば、第２距離Ｌ２よりも短い。第４距離Ｌ４は、例えば、第２距離Ｌ２の半分よりも長い。第４距離Ｌ４は、例えば、０．０４ｍｍ以上０．６ｍｍ以下である。第４距離Ｌ４は、例えば、第３距離Ｌ３と同じであることが好ましい。第４距離Ｌ４は、第３距離Ｌ３よりも長くてもよいし、第３距離Ｌ３よりも短くてもよい。 【０１２６】 第１給電部８３１及び第２給電部８３２は、発熱しないため、ヒータ部２００の面内において相対的に温度が低いクールスポットとなり、処理対象物Ｗの面内の温度分布の均一性を低下させる要因となりうる。ヒータ部２００の面内の温度分布の均一性を向上させるために、例えば、第１給電部８３１及び第２給電部８３２を互いに離れた位置に配置することが考えられる。しかし、第１給電部８３１及び第２給電部８３２を互いに離れた位置に配置すると、クールスポットが分散することで、温度制御が複雑になるおそれがある。一方で、第１給電部８３１及び第２給電部８３２を互いに近接した位置に配置すると、クールスポットにおける温度がより低くなり、ヒータ部２００の面内の温度分布の均一性が低下するおそれがある。 【０１２７】 これに対し、実施形態に係る静電チャック１０では、第１給電部８３１及び第２給電部８３２を互いに近接した位置に配置するとともに、ヒータライン８３３のうち第１給電部８３１及び第２給電部８３２に隣り合う部分（第１延在部８４１及び第２延在部８４２）を第１給電部８３１及び第２給電部８３２の近くに配置している。より具体的には、第３距離Ｌ３及び第４距離Ｌ４を、それぞれ、第１距離Ｌ１以下、かつ、第２距離Ｌ２以下にしている。これにより、クールスポットが分散することを抑制するとともに、クールスポットの近くに発熱部であるヒータライン８３３（第１延在部８４１及び第２延在部８４２）を配置することで、クールスポットにおける温度の大幅な低下を抑制できる。したがって、温度制御が複雑になることを抑制しつつ、処理対象物Ｗの面内の温度分布の均一性を向上させることができる。 ・・・中略・・・ 【０１３１】 図１０は、第３実施形態に係るヒータ部の第１ゾーンを模式的に表す平面図である。 図１０に表したように、この例では、第１方向は、径方向Ｄｒであり、第２方向は、周方向Ｄｃである。つまり、延在部８３４は、径方向Ｄｒに沿って延びており、周方向Ｄｃにおいて並んでいる。 ・・・中略・・・ 【０１４７】 図１７は、実施形態に係るヒータ部の第１ゾーンを模式的に表す平面図である。 図１７に表したように、第１ゾーン８１０は、中央領域８１１と、外周領域８１２と、を有する。中央領域８１１は、平面視において、第１ゾーン８１０の中央に位置する。外周領域８１２は、平面視において、中央領域８１１の外側に位置する。例えば、第１ゾーン８１０を加熱した際、中央領域８１１の温度は、外周領域８１２の温度よりも高くなる。 ・・・中略・・・ 【０１５３】 この例では、第１給電部８３１及び第２給電部８３２は、中央領域８１１に設けられている。また、この例では、ヒータライン８３３は、中央領域８１１及び外周領域８１２の両方に設けられている。第１給電部８３１及び第２給電部８３２の少なくともいずれかは、外周領域８１２に設けられていてもよい。 ・・・中略・・・ 【０１５７】 図１８は、実施形態の変形例に係るヒータ部の第１ゾーンを模式的に表す平面図である。 図１８に表したように、この例では、第１ゾーン８１０は、ヒータ部２００の外周縁８１０ｅを含んでいる。つまり、この例では、第１ゾーン８１０は、ヒータ部２００の最外周部に位置している。第１ゾーン８１０がサブゾーン７００のうちの１つの場合、外周縁８１０ｅは、第１ヒータエレメント２３１の外周縁２３１ｅである。第１ゾーン８１０がメインゾーン６００のうちの１つの場合、外周縁８１０ｅは、第２ヒータエレメント２３２の外周縁２３２ｅである。 【０１５８】 第１ゾーン８１０は、内周部８５１と、外周部８５２と、を有する。内周部８５１は、径方向Ｄｒの中心線ＲＬ１よりも径方向Ｄｒの内側に位置する部分である。外周部８５２は、径方向Ｄｒの中心線ＲＬ１よりも径方向Ｄｒの外側に位置する部分である。外周部８５２は、ヒータ部２００の外周縁８１０ｅを含む。径方向Ｄｒの中心線ＲＬ１は、第１ゾーン８１０の内周端８２１と外周端８２２との間の径方向Ｄｒの中心を通る。つまり、径方向Ｄｒの中心線ＲＬ１は、第１ゾーン８１０を径方向Ｄｒにおいて２等分する。 【０１５９】 この例では、第１給電部８３１及び第２給電部８３２は、内周部８５１に設けられている。また、この例では、ヒータライン８３３は、内周部８５１及び外周部８５２の両方に設けられている。第１給電部８３１及び第２給電部８３２の少なくともいずれかは、外周部８５２に設けられていてもよい。」 「【図１】 ［図：0001438326000006.jpg］ 【図２】 ［図：0001438326000007.jpg］ 」 「【図８】 ［図：0001438326000008.jpg］ 」 「【図１０】 ［図：0001438326000009.jpg］ 」 「【図１７】 ［図：0001438326000010.jpg］ 【図１８】 ［図：0001438326000011.jpg］ 」 （４） 発明の詳細な説明に記載された発明について ア 上記（３）の段落００２４には、「静電チャック１０は、セラミック誘電体基板１００と、ヒータ部２００と、べースプレート３００と、を備える」と記載され、同段落００２５には、「セラミック誘電体基板１００は、例えば多結晶セラミック焼結体による平板状の基材であり、半導体ウェーハ等の処理対象物Ｗを載置する第１主面１０１と、第１主面１０１とは反対側の第２主面１０２と、を有する」と記載され、同段落００３２には、「ベースプレート３００は、セラミック誘電体基板１００の第２主面１０２側に設けられ、セラミック誘電体基板１００を支持する」と記載され、同段落００３６には、「ヒータ部２００は、セラミック誘電体基板１００を加熱する」と記載されているから、静電チャック１０は、処理対象物Ｗを載置する第１主面１０１と、第１主面１０１とは反対側の第２主面１０２と、を有するセラミック誘電体基板１００と、セラミック誘電体基板１００を支持するべースプレート３００と、セラミック誘電体基板１００を加熱するヒータ部２００と、を備えるといえる。 イ 上記（３）の段落０１１２には、「第１ゾーン８１０は、ヒータ部２００に含まれる複数のゾーンのうちの１つである」と記載され、同段落０１１３には、「第１ゾーン８１０は、第１給電部８３１と、第２給電部８３２と、ヒータライン８３３と、を有する」と記載され、同段落０１１４には、「第２給電部８３２は、第１給電部８３１に隣り合う位置に設けられている」と記載され、同段落０１１５には、「ヒータライン８３３は、第１給電部８３１と第２給電部８３２とを結ぶ１本の電極として機能する」と記載されているから、ヒータ部２００は、第１給電部８３１と、第１給電部８３１に隣り合う第２給電部８３２と、第１給電部８３１と第２給電部８３２とを結ぶ１本の電極であるヒータライン８３３と、を有するといえる。 また、同段落００６３には、「サブヒータライン２３１ｃは、電流が流れることにより発熱する」と記載され、同段落００６６には、「メインヒータライン２３２ｃは、電流が流れることにより発熱する」と記載され、同段落０１１３には、「第１ゾーン８１０がサブゾーン７００のうちの１つの場合、第１給電部８３１、第２給電部８３２、及びヒータライン８３３は、それぞれ、第１サブ給電部２３１ａ、第２サブ給電部２３１ｂ、及びサブヒータライン２３１ｃである。第１ゾーン８１０がメインゾーン６００のうちの１つの場合、第１給電部８３１、第２給電部８３２、及びヒータライン８３３は、それぞれ、第１メイン給電部２３２ａ、第２メイン給電部２３２ｂ、及びメインヒータライン２３２ｃである。」と記載されているから、ヒータライン８３３が、サブヒータライン２３１ｃ又はメインヒータライン２３２ｃのいずれであっても、電流が流れることにより発熱するものといえる。 以上によれば、ヒータ部２００は、第１給電部８３１と、第１給電部８３１に隣り合う第２給電部８３２と、第１給電部８３１と第２給電部８３２とを結ぶ１本の電極であり電流が流れることにより発熱するヒータライン８３３と、を有するものである。 ウ 上記（３）の段落０１１５には、「ヒータライン８３３は、複数の延在部８３４と、折り返し部８３５と、を有する」と記載され、同段落０１１６には、「延在部８３４は、第１方向に沿って延びる。延在部８３４は、第２方向において並んでいる。第２方向は、第１方向に対して垂直な方向である」と記載されているから、ヒータライン８３３は、第１方向に沿って延び、第１方向に対して垂直な第２方向において並ぶ複数の延在部８３４を有するといえる。 エ 上記（３）の段落０１１７には、「複数の延在部８３４は、第１延在部８４１と、第２延在部８４２と、を有する。第１延在部８４１は、第２方向（径方向Ｄｒ）の一方側（外側）において、第１給電部８３１及び第２給電部８３２に隣り合っている」、「第２延在部８４２は、第２方向（径方向Ｄｒ）の他方側（内側）において第１給電部８３１及び第２給電部８３２に隣り合っている」と記載されているから、複数の延在部８３４は、第２方向の一方側において第１給電部８３１及び第２給電部８３２に隣り合う第１延在部８４１と、第２方向の他方側において第１給電部８３１及び第２給電部８３２に隣り合う第２延在部８４２と、を有するといえる。 オ 上記（３）の段落０１１８には、「第１延在部８４１は、第１部分８４１ａと、第２部分８４１ｂと、第３部分８４１ｃと、を有する。第１部分８４１ａは、第２方向（径方向Ｄｒ）において、第１給電部８３１と重なる。第２部分８４１ｂは、第２方向（径方向Ｄｒ）において、第２給電部８３２と重なる。第３部分８４１ｃは、第１方向（周方向Ｄｃ）において、第１部分８４１ａと第２部分８４１ｂとの間に位置する。第３部分８４１ｃは、第２方向（径方向Ｄｒ）において、第１給電部８３１及び第２給電部８３２と重ならない」と記載されているから、第１延在部８４１は、第２方向において第１給電部８３１と重なる第１部分８４１ａと、第２方向において第２給電部８３２と重なる第２部分８４１ｂと、第１方向において第１部分８４１ａと第２部分８４１ｂとの間に位置し第２方向において第１給電部８３１及び第２給電部８３２と重ならない第３部分８４１ｃと、を有するといえる。 カ 上記（３）の段落０１１９には、「第２延在部８４２は、第４部分８４２ａと、第５部分８４２ｂと、第６部分８４２ｃと、を有する。第４部分８４２ａは、第２方向（径方向Ｄｒ）において、第１給電部８３１と重なる。第５部分８４２ｂは、第２方向（径方向Ｄｒ）において、第２給電部８３２と重なる。第６部分８４２ｃは、第１方向（周方向Ｄｃ）において、第４部分８４２ａと第５部分８４２ｂとの間に位置する。第６部分８４２ｃは、第２方向（径方向Ｄｒ）において、第１給電部８３１及び第２給電部８３２と重ならない」と記載されているから、第２延在部８４２は、第２方向において第１給電部８３１と重なる第４部分８４２ａと、第２方向において第２給電部８３２と重なる第５部分８４２ｂと、第１方向において第４部分８４２ａと第５部分８４２ｂとの間に位置し第２方向において第１給電部８３１及び第２給電部８３２と重ならない第６部分８４２ｃと、を有するといえる。 キ 上記（３）の段落０１２３には、「第１給電部８３１と第２給電部８３２との間の第１方向（周方向Ｄｃ）における最小距離を第１距離Ｌ１とする。また、複数の延在部８３４どうしの間の第２方向（径方向Ｄｒ）における最小距離を第２距離Ｌ２とする」と記載され、同段落０１２４には、「第１仮想接線ＶＴ１と第１延在部８４１との間の第２方向（径方向Ｄｒ）における距離を第３距離Ｌ３とする。第１仮想接線ＶＴ１は、第１方向（周方向Ｄｃ）に沿い、第２方向（径方向Ｄｒ）の一方側（外側）において第１給電部８３１及び第２給電部８３２に接する接線である」、「第３距離Ｌ３は、第１距離Ｌ１以下である」、「第３距離Ｌ３は、第２距離Ｌ２以下である」と記載され、同段落０１２５には、「第２仮想接線ＶＴ２と第２延在部８４２との間の第２方向（径方向Ｄｒ）における距離を第４距離Ｌ４とする。第２仮想接線ＶＴ２は、第１方向（周方向Ｄｃ）に沿い、第２方向（径方向Ｄｒ）の他方側（内側）において第１給電部８３１及び第２給電部８３２に接する接線である」、「第４距離Ｌ４は、第１距離Ｌ１以下である」、「第４距離Ｌ４は、第２距離Ｌ２以下である」と記載されているから、第１給電部８３１と第２給電部８３２との間の第１方向における最小距離を第１距離Ｌ１とし、複数の延在部８３４どうしの間の第２方向における最小距離を第２距離Ｌ２とし、第１方向に沿い第２方向の一方側において第１給電部８３１及び第２給電部８３２に接する第１仮想接線ＶＴ１と、第１延在部８４１と、の間の第２方向における距離を第３距離Ｌ３とし、第１方向に沿い第２方向の他方側において第１給電部８３１及び第２給電部８３２に接する接線である第２仮想接線ＶＴ２と、第２延在部８４２と、の間の第２方向における距離を第４距離Ｌ４としたときに、第３距離及び第４距離Ｌ４は、それぞれ、第１距離Ｌ１以下であり、第３距離及び第４距離Ｌ４は、それぞれ、第２距離Ｌ２以下であるといえる。 ク 上記（３）の段落０１２７には、「実施形態に係る静電チャック１０では、第１給電部８３１及び第２給電部８３２を互いに近接した位置に配置するとともに、ヒータライン８３３のうち第１給電部８３１及び第２給電部８３２に隣り合う部分（第１延在部８４１及び第２延在部８４２）を第１給電部８３１及び第２給電部８３２の近くに配置している。より具体的には、第３距離Ｌ３及び第４距離Ｌ４を、それぞれ、第１距離Ｌ１以下、かつ、第２距離Ｌ２以下にしている。これにより、クールスポットが分散することを抑制するとともに、クールスポットの近くに発熱部であるヒータライン８３３（第１延在部８４１及び第２延在部８４２）を配置することで、クールスポットにおける温度の大幅な低下を抑制できる。したがって、温度制御が複雑になることを抑制しつつ、処理対象物Ｗの面内の温度分布の均一性を向上させることができる。」と記載されている。 この記載によれば、実施形態に係る静電チャック１０は、第１給電部８３１及び第２給電部８３２を互いに近接した位置に配置するとともに、ヒータライン８３３のうち第１給電部８３１及び第２給電部８３２に隣り合う部分（第１延在部８４１及び第２延在部８４２）を第１給電部８３１及び第２給電部８３２の近くに配置すること、より具体的には、第３距離Ｌ３及び第４距離Ｌ４を、それぞれ、第１距離Ｌ１以下、かつ、第２距離Ｌ２以下にすることにより、クールスポットが分散することを抑制するとともに、クールスポットの近くに発熱部であるヒータライン８３３（第１延在部８４１及び第２延在部８４２）を配置することで、クールスポットにおける温度の大幅な低下を抑制できるから、温度制御が複雑になることを抑制しつつ、処理対象物Ｗの面内の温度分布の均一性を向上させることができるといえる。 ケ 上記ア～キによれば、発明の詳細な説明には、以下の発明（以下、「発明の詳細な説明に記載された発明」という。）が記載されているといえる。 「処理対象物Ｗを載置する第１主面１０１と、第１主面１０１とは反対側の第２主面１０２と、を有するセラミック誘電体基板１００と、 セラミック誘電体基板１００を支持するベースプレート３００と、 セラミック誘電体基板１００を加熱するヒータ部２００と、を備え、 ヒータ部２００は、第１給電部８３１と、第１給電部８３１に隣り合う第２給電部８３２と、第１給電部８３１と第２給電部８３２とを結ぶ１本の電極であり電流が流れることにより発熱するヒータライン８３３と、を有し、 ヒータライン８３３は、第１方向に沿って延び、第１方向に対して垂直な第２方向において並ぶ複数の延在部８３４を有し、 複数の延在部８３４は、第２方向の一方側において第１給電部８３１及び第２給電部８３２に隣り合う第１延在部８４１と、第２方向の他方側において第１給電部８３１及び第２給電部８３２に隣り合う第２延在部８４２と、を有し、 第１延在部８４１は、第２方向において第１給電部８３１と重なる第１部分８４１ａと、第２方向において第２給電部８３２と重なる第２部分８４１ｂと、第１方向において第１部分８４１ａと第２部分８４１ｂとの間に位置し第２方向において第１給電部８３１及び第２給電部８３２と重ならない第３部分８４１ｃと、を有し、 第２延在部８４２は、第２方向において第１給電部８３１と重なる第４部分８４２ａと、第２方向において第２給電部８３２と重なる第５部分８４２ｂと、第１方向において第４部分８４２ａと第５部分８４２ｂとの間に位置し第２方向において第１給電部８３１及び第２給電部８３２と重ならない第６部分８４２ｃと、を有し、 第１給電部８３１と第２給電部８３２との間の第１方向における最小距離を第１距離Ｌ１とし、 複数の延在部８３４どうしの間の第２方向における最小距離を第２距離Ｌ２とし、 第１方向に沿い第２方向の一方側において第１給電部８３１及び第２給電部８３２に接する第１仮想接線ＶＴ１と、第１延在部８４１と、の間の第２方向における距離を第３距離Ｌ３とし、 第１方向に沿い第２方向の他方側において第１給電部８３１及び第２給電部８３２に接する接線である第２仮想接線ＶＴ２と、第２延在部８４２と、の間の第２方向における距離を第４距離Ｌ４としたときに、 第３距離及び第４距離Ｌ４は、それぞれ、第１距離Ｌ１以下であり、 第３距離及び第４距離Ｌ４は、それぞれ、第２距離Ｌ２以下である、静電チャック。」 コ そして、上記クによれば、実施形態に係る静電チャック１０は、温度制御が複雑になることを抑制しつつ、処理対象物Ｗの面内の温度分布の均一性を向上させることができるものであるところ、発明の詳細な説明に記載された発明は、実施形態に係る静電チャック１０と同様の構成を有するから、温度制御が複雑になることを抑制しつつ、処理対象物Ｗの面内の温度分布の均一性を向上させることができるといえる。 そうすると、発明の詳細な説明に記載された発明は、「温度制御が複雑になることを抑制しつつ、処理対象物の面内の温度分布の均一性を向上させることができる静電チャックを提供する」という本件課題を解決できるものである。 （５） 本件発明１について 本件発明１は、上記第２に示したとおりのものであるところ、本件発明１と発明の詳細な説明に記載された発明とは同じ構成を有するから、本件発明１は、発明の詳細な説明に記載された発明である。 また、上記（４）コで検討したとおり、発明の詳細な説明に記載された発明は、本件課題を解決できるものであるから、本件発明１も同様に本件課題を解決できるものである。 したがって、本件発明１は、発明の詳細な説明に記載された発明で、発明の詳細な説明の記載により当業者が上記本件課題を解決できると認識できる範囲のものである。 （６） 本件発明２～５について 上記（３）の段落００２６、段落０１１２、段落０１１３、段落０１４７、段落０１５３、【図１７】の記載によれば、本件発明２は、発明の詳細な説明に記載された発明であるといえ、段落００９０、同段落０１１２、段落０１１３、段落０１５７～段落０１５９、【図１８】の記載によれば、本件発明３は、発明の詳細な説明に記載された発明であるといえ、同段落０１１６の記載によれば、本件発明４は、発明の詳細な説明に記載された発明であるといえ、同段落０１３１の記載によれば、本件発明５は、発明の詳細な説明に記載された発明であるといえる。 また、本件発明２～５は、いずれも本件発明１の構成を有するものであるから、本件発明１と同様に、発明の詳細な説明の記載により当業者が上記本件課題を解決できると認識できる範囲のものである。 （７） 申立人の主張 申立人は、申立書４５頁１９～２４行において、本件発明１には「第１給電部及び第２給電部を互いに近接した位置に配置する」（本件明細書段落００１１）ことに対応する記載は含まれない旨主張し、申立書４５頁１５～１８行、４５頁末行～４６頁１３行において、第１距離の大きさによっては、発明の課題を解決することができない旨主張する。 しかしながら、本件発明１は「前記第１給電部に隣り合う第２給電部」を発明特定事項としており、本件発明１は、第１給電部と第２給電部とは互いに近接した位置に配置されたものであって、クールスポットが分散したものは含まれないから、上記のとおり上記発明の課題を解決できると認識し得るから、申立人の主張は採用できない。 （８） 申立理由２のまとめ 以上のとおり、申立理由２（サポート要件違反）は理由がない。 ３ 申立理由３（明確性要件違反）について （１） 特許を受けようとする発明が明確であるか否かは、特許請求の範囲の記載だけではなく、願書に添付した明細書の記載及び図面を考慮し、また、当業者の本件特許の出願日前における技術常識を基礎として、特許請求の範囲の記載が、第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるか否かという観点から判断すべきものである。 （２） 請求項１～５の記載について ア 請求項１には、「第１方向に沿って延び、前記第１方向に対して垂直な第２方向において並ぶ複数の延在部を有し」及び「前記複数の延在部は、・・・中略・・・第１延在部と、・・・中略・・・第２延在部と、を有し」と記載されており、さらに、「前記第１方向に沿い前記第２方向の前記一方側において前記第１給電部及び前記第２給電部に接する第１仮想接線と、前記第１延在部と、の間の前記第２方向における距離を第３距離とし」及び「前記第１方向に沿い前記第２方向の前記他方側において前記第１給電部及び前記第２給電部に接する第２仮想接線と、前記第２延在部と、の間の前記第２方向における距離を第４距離とした」と記載されている。 そうすると、請求項１において、第１の延在部、第２の延在部、第１仮想接線及び第２仮想接線は、いずれも第１方向に沿ったものであり、第３距離は、第１方向に沿う第１仮想接線と、第１方向に沿う第１延在部との間の、第１方向に対して垂直な第２方向における距離であるから、その値は一意に定まるものであり、また、第４距離は、第１方向に沿う第２仮想接線と、第１方向に沿う第２延在部との間の、第１方向に対して垂直な第２方向における距離であるから、その値も一意に定まるものである。 イ なお、本件明細書の段落０１２４、段落０１２５には、上記アの請求項１の記載と同様の記載があり、また、本件特許の願書に添付した図面（以下「本件図面」という。）の図８には、周方向Ｄｃを第１方向とした場合に、第１仮想接線ＶＴ１及び第２仮想接線ＶＴ２が、それぞれ、第１方向に沿って延びるヒータラインの第１延在部８４１及び第２延在部８４２と同様に、第１方向に沿ったものが示されているから、本件明細書及び本件図面の記載からも、請求項１に記載された第３距離及び第４距離は一意に定まるものである。 ウ 以上によれば、請求項１に記載された第３距離及び第４距離は明確である。 そして、請求項１は、他に不明確な記載はない。 また、請求項２～５にも不明確な記載はない。 したがって、請求項１～５の記載は、第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるとはいえない。 （３）申立人の主張 ア 申立人は、申立書４７頁１行～３行において、本件発明１に記載の「第３距離」と「第４距離」の大きさのそれぞれが、本件明細書の発明の詳細な説明を参酌しても不明であるから、本件発明１～５は、明確性要件を満たしていない旨主張し、より具体的には、申立書４７頁１８行～４８頁１行、４８頁１６行～末行において、第１仮想接線及び第２仮想接線について、「接線」は一般的に「直線」であり、例えば、本件図面の図８によると、曲線状に形成されているものではなく、また、同図８に示されている第１仮想接線及び第２仮想接線の形状について、例えば、曲率半径の大きさがどの程度であるか、本件明細書及び図面には記載も示唆もないため、第１仮想接線及び第２仮想接線により規定される「第３距離」及び「第４距離」についても明確でないと主張する。 イ しかしながら、上記（１）ウのとおり、第１方向に沿って形成された第１仮想接線及び第２仮想接線と、同じく第１方向に沿って延びる第１延在部及び第２延在部との間の第２方向における距離である「第３距離」及び「第４距離」についても一意に定まるものであるから、申立人の主張は採用できない。 （４）申立理由３のまとめ 以上のとおり、申立理由３（明確性要件違反）は理由がない。 第５ むすび 以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては、本件特許を取り消すことはできない。 また、他に本件特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。