2023-700304

特許第７１４１３３９号発明「研磨用組成物」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７１４１３３９号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１～５〕、〔６～９〕について」）訂正することを認める。 特許第７１４１３３９号の請求項１～６、８、９に係る特許を維持する。 特許第７１４１３３９号の請求項７に係る特許に対する特許異議の申立てを却下する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第７１４１３３９号の請求項１～９に係る特許についての出願は、平成３０年２月１日（平成２９年２月８日（以下「優先日」という。）、及び、平成２９年３月３０日 いずれも日本国）を国際出願日とするものであって、令和４年９月１３日に特許権の設定登録（請求項の数９）がされ、同年同月２２日に特許掲載公報が発行された。その後の特許異議の申立ての経緯は、次のとおりである。 令和５年 ３月２０日 ：特許異議申立書 特許異議申立人 佐藤 祥徳（以下「申立人Ａ」という。）による全請求項に対する特許異議の申立て 令和５年 ３月２２日 ：特許異議申立書 特許異議申立人 田村 奈緒美（以下「申立人Ｂ」という。）による全請求項に対する特許異議の申立て 同年 ９月 ６日付け：取消理由通知書 同年１１月 ９日 ：意見書及び訂正請求書の提出（特許権者） 同年１１月２１日付け：訂正請求があった旨の通知書 同年１２月２２日 ：意見書（申立人Ａ） 同年１２月２２日 ：意見書（申立人Ｂ） 令和６年 ３月 ５日付け：取消理由通知書（決定の予告） 同年 ４月３０日 ：意見書及び訂正請求書の提出（特許権者） 同年 ５月１４日付け：訂正請求があった旨の通知書 なお、令和６年５月１４日付けの訂正請求があった旨の通知書に対し、申立人Ａ及び申立人Ｂからの応答はなかった。 また、令和５年１１月９日の訂正請求書による訂正請求は、特許法１２０条の５第７項の規定により、取り下げられたものとみなす。 第２ 訂正の適否 １ 訂正の内容 令和６年４月３０日に提出された訂正請求書による訂正（以下「本件訂正」ともいう。）の内容は、次の訂正事項１～８のとおりである。なお、訂正箇所に下線を付した。 （１）訂正事項１ 特許請求の範囲の請求項１に 「式中、Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択される。Ｒｌ、Ｒ２は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。ｎは１～１５の整数である。」と記載されているのを、 「式中、Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択される。ｎは１～１５の整数である。」に訂正する。（請求項１の記載を直接又は間接的に引用する請求項２～５も同様に訂正する）。 （２）訂正事項２ 特許請求の範囲の請求項１に 「エーテル結合非含有アミン化合物」と記載されているのを、 「エーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」に訂正する（請求項１の記載を直接又は間接的に引用する請求項２～５も同様に訂正する）。 （３）訂正事項３ 特許請求の範囲の請求項６に 「式中、Ｒ１、Ｒ２は：それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基；および、互いに結合して環状構造を形成しているアミノアルキル基；からなる群から選択される。Ｒ１、Ｒ２は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。ｎは１～１５の整数である。」と記載されているのを、 「式中、（ｉ）Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である、または、（ｉｉ）Ｒ１とＲ２は、互いに結合して環状構造のアミノアルキル基を形成している。ｎは１～１５の整数である。」に訂正する（請求項６の記載を直接又は間接的に引用する請求項８、９も同様に訂正する） （４）訂正事項４ 特許請求の範囲の請求項６に 「（Ｂ１）アンモニア、アンモニウム水酸化物、ホスホニウム水酸化物および金属水酸化物からなる群から選択された少なくとも１種の塩基性化合物； （Ｂ２）下記一般式（ｂ２）： Ｒ３－ＮＲ４－Ｒ５ （ｂ２） （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～１５のアルキル基および１級アミノ基を有していないアミノアルキル基から選択される。ただし、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５のうち少なくとも２つは、水素原子以外の基である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、Ｃ－Ｃ間もしくはＣ－Ｎ間に二重結合を有していてもよい。また、Ｒ３、Ｒ５は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。）で表されるアミン化合物；および （Ｂ４）分子内の２つの１級アミノ基間に炭素原子数１または２の炭化水素基を有するアミン化合物； からなる群から選択された少なくとも１種の化合物であるロールオフ化合物Ｂ」と記載されているのを、 「（Ｂ１）アンモニア、アンモニウム水酸化物およびホスホニウム水酸化物からなる群から選択された少なくとも１種の塩基性化合物； （Ｂ２）下記一般式（ｂ２）： Ｒ３－ＮＲ４－Ｒ５ （ｂ２） （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～１５のアルキル基および１級アミノ基を有していないアミノアルキル基から選択される。ただし、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５のうち少なくとも２つは、水素原子以外の基である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、Ｃ－Ｃ間もしくはＣ－Ｎ間に二重結合を有していてもよい。また、Ｒ３、Ｒ５は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。）で表されるアミン化合物（但し、ピペラジンを除く）；および （Ｂ４）分子内の２つの１級アミノ基間に炭素原子数１または２の炭化水素基を有するアミン化合物； からなる群から選択された少なくとも１種の化合物であるロールオフ化合物Ｂ」に訂正する（請求項６の記載を直接又は間接的に引用する請求項８、９も同様に訂正する）。 （５）訂正事項５ 特許請求の範囲の請求項６に 「ロールオフ化合物Ｂと、 を含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である」と記載されているのを、 「ロールオフ化合物Ｂと、 を含み、 前記ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比（ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂ）が１：３０～３０：１の範囲であり、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である」に訂正する（請求項６の記載を直接又は間接的に引用する請求項８、９も同様に訂正する）。 （６）訂正事項６ 特許請求の範囲の請求項６に 「研磨用組成物。」と記載されているのを、 「研磨用組成物（但し、下記一般式（１）で示されるアルキルジアミン構造を含み、アルキルアミン構造の２つの窒素のいずれかに、少なくとも１つのブロック型ポリエーテルが結合された化合物；オキシアルキレン重合体；ポリオキシアルキレン付加物；またはオキシアルキレンの共重合体；である疎水性高分子化合物を含むものを除く）。 【化１】 ［図：0001417602000001.jpg］ （上記一般式（１）において、ｎは１以上の整数である。）」に訂正する（請求項６の記載を直接又は間接的に引用する請求項８、９も同様に訂正する）。 （７）訂正事項７ 特許請求の範囲の請求項７を削除する。 （８）訂正事項８ 特許請求の範囲の請求項８に「前記砥粒はシリカ粒子である、請求項６」 と記載されているのを、「前記砥粒はシリカ粒子であり、 前記ロールオフ化合物Ｂは、 （Ｂ１）アンモニウム水酸化物およびホスホニウム水酸化物からなる群から選択された少なくとも１種の塩基性化合物； （Ｂ２）下記一般式（ｂ２）： Ｒ３－ＮＲ４－Ｒ５ （ｂ２） （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～１５のアルキル基および１級アミノ基を有していないアミノアルキル基から選択される。ただし、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５のうち少なくとも２つは、水素原子以外の基である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、Ｃ－Ｃ間もしくはＣ－Ｎ間に二重結合を有していてもよい。また、Ｒ３、Ｒ５は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。）で表されるアミン化合物（但し、ピペラジンを除く）；および （Ｂ４）分子内の２つの１級アミノ基間に炭素原子数１または２の炭化水素基を有するアミン化合物； からなる群から選択された少なくとも１種の化合物である、請求項６」に訂正する（請求項８の記載を引用する請求項９も同様に訂正する）。 （９）訂正事項９ 特許請求の範囲の請求項８に「請求項６または７に記載の研磨用組成物。」と記載されているのを、「請求項６に記載の研磨用組成物。」に訂正する（請求項８の記載を引用する請求項９も同様に訂正する）。 （１０）訂正事項１０ 特許請求の範囲の請求項８に「研磨用組成物。」と記載されているのを、「研磨用組成物（但し、マロン酸、シュウ酸、リンゴ酸、メタクリル酸、シアノ酢酸および安息香酸のいずれかを含むものを除く）。」に訂正する（請求項８の記載を引用する請求項９も同様に訂正する）。 （１１）訂正事項１１ 特許請求の範囲の請求項９に「シリコンの研磨に用いられる、請求項６」 と記載されているのを、「シリコンの研磨に用いられ、 前記ロールアップアミン化合物Ａは、下記一般式（ａ）: Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、（ｉ）Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である、または、（ｉｉ）Ｒ１とＲ２は、互いに結合して環状構造のアミノアルキル基を形成している。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒ１、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、２－（２－アミノエチルアミノ）エタノールを除く）である、請求項６」に訂正する。 （１２）訂正事項１２ 特許請求の範囲の請求項９に「請求項６～８のいずれか一項に記載の研磨用組成物。」と記載されているのを、「請求項６または８に記載の研磨用組成物。」に訂正する。 ２ 一群の請求項 本件訂正前の請求項２～５は、請求項１を直接又は間接的に引用するものであって、訂正事項１及び２によって記載が訂正される請求項１に連動して記載が訂正されるものであるから、本件訂正前の請求項１～５は一群の請求項である。同様に、本件訂正前の請求項７～９は、請求項６を直接又は間接的に引用するものであって、訂正事項３～６によって記載が訂正される請求項６に連動して記載が訂正されるものであるから、本件訂正前の請求項６～９は一群の請求項である。よって、本件訂正は、特許法第１２０条の５第４項に規定する一群の請求項ごとにされた訂正である。 ３ 訂正の適否についての当審の判断 （１）訂正事項１ ア 訂正の目的 訂正事項１は、請求項１の一般式（ａ）のＲ１とＲ２の説明の記載を、「式中、Ｒ１，Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択される。Ｒｌ、Ｒ２は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。」から、「式中、Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択される。」に訂正することによって、Ｒ１とＲ２の選択肢から、「Ｒｌ、Ｒ２は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。」に該当する場合を除くものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正である。 イ 実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正であるか 訂正事項１は、Ｒ１とＲ２の選択肢から、「Ｒｌ、Ｒ２は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。」に該当する場合を除くものであって、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正には該当しないから、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものである。 ウ 願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であるか 訂正事項１は、Ｒ１とＲ２の選択肢から、「Ｒｌ、Ｒ２は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。」に該当する場合を除くものであるから、訂正事項１による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正に該当し、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。 （２）訂正事項２ ア 訂正の目的 訂正事項２は、請求項１の「エーテル結合非含有アミン化合物」という記載を、「エーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」に訂正することによって、「エーテル結合非含有アミン化合物」に該当する化合物の範囲からアミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除くものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正である。 イ 実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正であるか 訂正事項２は、「エーテル結合非含有アミン化合物」に該当する化合物の範囲からアミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除くものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことが明らかであり、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものである。 ウ 願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であるか 訂正事項２は、「エーテル結合非含有アミン化合物」に該当する化合物の範囲から「アミノエチルエタノールアミン」を除くことにより、後記第４の１（２）の甲Ａ１、甲Ａ２、甲Ａ３及び甲Ａ４、並びに後記第４の２（２）の甲Ｂ３に記載された発明を除外し、また、同じく「１，６－ヘキサンジアミン」を除くことにより、甲Ａ５に記載された発明を除外するためのものであるから、訂正事項２による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正に該当し、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。 （３）訂正事項３ ア 訂正の目的 訂正事項３は、請求項６の一般式（ａ）のＲ１とＲ２の説明の記載における「式中、Ｒ１、Ｒ２は：それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基；および、互いに結合して環状構造を形成しているアミノアルキル基；からなる群から選択される。Ｒ１、Ｒ２は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。」を、「式中、（ｉ）Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である、または、（ｉｉ）Ｒ１とＲ２は、互いに結合して環状構造のアミノアルキル基を形成している。」に訂正するものである。 この訂正により、請求項６の一般式（ａ）のＲ１とＲ２の説明の記載を（ｉ）の場合と（ｉｉ）の場合に区別して記載することによって、Ｒ１、Ｒ２という同じ記号を使いつつ、Ｒ１とＲ２が、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基から選ばれるものであるか、または、Ｒ１とＲ２が互いに結合して環状構造のアミノアルキル基を形成しているもののいずれかであることが明確な記載になった。 そうすると、訂正事項３は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に規定する「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 イ 実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正であるか 前記アのとおり、訂正事項３は、訂正前の請求項６におけるエーテル結合非含有アミン化合物についての記載上の不備を訂正し、本来の意を明らかにするものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正には該当しないから、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものである。 ウ 願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であるか 訂正事項３は、明細書の段落【００２１】に「一般式（ａ）」が記載され、式中のＲ１、Ｒ２の選択肢として、「水素原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基およびアミノアルキル基」が挙げられ、「Ｒ１、Ｒ２は互いに結合して環状構造を形成していてもよい」と記載されていることに基いて訂正されたものであるから、本件明細書等に記載した事項の範囲内の訂正に該当し、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。 （４）訂正事項４ ア 訂正の目的 訂正事項４は、請求項６の「研磨用組成物に含まれるロールオフ化合物Ｂ」の選択肢のうち、（Ｂ１）に挙げられていた塩基性化合物の選択肢から「金属水酸化物」を削除し、さらに（Ｂ２）のアミン化合物から「ピペラジン」を除くことにより、訂正後の請求項６に係る発明の「ロールオフ化合物Ｂ」をさらに限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正である。 イ 実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正であるか 前記アのとおり、訂正事項４は、訂正前の請求項６の「ロールオフ化合物Ｂ」を限定するものであり、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正には該当しないから、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものである。 ウ 願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であるか 訂正事項４は、ロールオフ化合物Ｂから金属水酸化物およびピペラジンを除くことにより、後記第４の１（２）の甲Ａ２に記載された発明を除外するためのものであって、本件明細書等に記載した事項の範囲内の訂正に該当し、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。 （５）訂正事項５ ア 訂正の目的 訂正事項５は、請求項６の「研磨用組成物」に含まれる「ロールアップアミン化合物Ａ」と「ロールオフ化合物Ｂ」について、「前記ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比（ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂ）が１：３０～３０：１の範囲である」ことを特定することにより、訂正後の請求項６に係る特許発明の「研磨用組成物」をさらに限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正である。 イ 実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正であるか 前記アのとおり、訂正事項５は、訂正前の請求項６の「研磨用組成物」を限定するものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではなく、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正には該当しないから、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものである。 ウ 願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であるか 訂正事項５は、明細書の段落【００３１】の「ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比（ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂ）」は、「より好ましくは、１：３０～３０：１」との記載に基いて訂正されたものであるから、本件明細書等に記載した事項の範囲内の訂正に該当し、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。 （６）訂正事項６ ア 訂正の目的 訂正事項５は、請求項６の「研磨用組成物」から、「下記一般式（１）で示されるアルキルジアミン構造を含み、アルキルアミン構造の２つの窒素のいずれかに、少なくとも１つのブロック型ポリエーテルが結合された化合物；オキシアルキレン重合体；ポリオキシアルキレン付加物；またはオキシアルキレンの共重合体；である疎水性高分子化合物。 【化１】 ［図：0001417602000002.jpg］ （上記一般式（１）において、ｎは１以上の整数である。）」を含むものを除くことにより、訂正後の請求項６に係る特許発明の「研磨用組成物」をさらに限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正である。 イ 実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正であるか 前記アのとおり、訂正事項６は、訂正前の請求項６の「研磨用組成物」を限定するものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではなく、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正には該当しないから、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものである。 ウ 願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であるか 訂正事項６は、「研磨用組成物」から、前記した「疎水性高分子化合物」を含むものを除くことにより、後記第４の１（２）の甲Ａ１に記載された発明を明確に除外するためのものであって、本件明細書等に記載した事項の範囲内の訂正に該当し、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。 （７）訂正事項７ 訂正事項７は、請求項７を削除するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正には該当しないから、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものであり、本件明細書等に記載した事項の範囲内の訂正に該当するから、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。 （８）訂正事項８ ア 訂正の目的 訂正事項８は、請求項８が引用する請求項６の「ロールオフ化合物Ｂ」の「Ｂ１」に挙げられていた塩基性化合物の選択肢から「アンモニア」及び「金属水酸化物」を削除し、「Ｂ２」に挙げられていた塩基性化合物から「ピペラジン」を除いた上で、請求項８の発明特定事項として追加することにより、訂正前の請求項６を引用する請求項８に係る発明の「ロールオフ化合物Ｂ」をさらに限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正である。 イ 実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正であるか 前記アのとおり、訂正事項８は、訂正前の請求項８が引用する請求項６の「ロールオフ化合物Ｂ」を限定するものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではなく、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正には該当しないから、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものである。 ウ 願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であるか 訂正事項８は、「ロールオフ化合物Ｂ」の「Ｂ１」に挙げられていた塩基性化合物の選択肢の一部を削除し、一部を除くものであって、本件明細書等に記載した事項の範囲内の訂正に該当し、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。 （９）訂正事項９、１２ ア 訂正の目的 訂正事項９、１２は、請求項７を含む複数の請求項を引用する請求項８、９について、訂正事項７による請求項７を削除する訂正に伴い、請求項８、９の引用先から請求項７を除くことにより、請求項８、９が引用する請求項を減少させる訂正であるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正には該当しないから、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものであり、本件明細書等に記載した事項の範囲内の訂正に該当するから、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。 （１０）訂正事項１０ ア 訂正の目的 訂正事項１０は、請求項８の「研磨用組成物」から、「マロン酸、シュウ酸、リンゴ酸、メタクリル酸、シアノ酢酸および安息香酸のいずれかを含むもの」を含むものを除くことにより、訂正後の請求項６に係る特許発明の「研磨用組成物」をさらに限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正である。 イ 実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正であるか 前記アのとおり、訂正事項１０は、訂正前の請求項８の「研磨用組成物」を限定するものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではなく、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正には該当しないから、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものである。 ウ 願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であるか 訂正事項１０は、「研磨用組成物」から、前記した「マロン酸、シュウ酸、リンゴ酸、メタクリル酸、シアノ酢酸および安息香酸のいずれかを含むもの」を除くことにより、後記第４の１（２）の甲Ａ６に記載された発明を除外するためのものであって、本件明細書等に記載した事項の範囲内の訂正に該当し、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。 （１１）訂正事項１１ ア 訂正の目的 訂正事項１１は、請求項９の「エーテル結合非含有アミン化合物」から「２－（２－アミノエチルアミノ）エタノール」を除くものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正である。 イ 実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正であるか 訂正事項１１は、「エーテル結合非含有アミン化合物」に該当する化合物から「２－（２－アミノエチルアミノ）エタノール」を除くものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことが明らかであり、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものである。 ウ 願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であるか 訂正事項１１は、「エーテル結合非含有アミン化合物」から「２－（２－アミノエチルアミノ）エタノール」を除くことにより、後記第４の１（２）の甲Ａ２に記載された発明を除外するためのものであるから、訂正事項１１による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正に該当し、特許法第１２０条の５第９項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。 ４ 独立特許要件についての判断 本件訂正においては、訂正前の全ての請求項である請求項１～９に対して特許異議の申立てがされているので、特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の規定は課されない。 ５ 小括 以上のとおりであるから、本件特許請求の範囲を、本件訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１～５〕、〔６～９〕について訂正することを認める。 第３ 本件訂正発明 本件訂正は前記第２のとおり認められたので、本件訂正後の特許請求の範囲の請求項１～９に係る発明（以下「本件発明１」～「本件発明９」といい、まとめて「本件発明」ともいう。）は次のとおりのものである。 「【請求項１】 砥粒と、水と、下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、Ｒｌ、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択される。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒｌ、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）と を含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物。 【請求項２】 前記エーテル結合非含有アミン化合物の含有量が１重量％未満である、請求項１に記載の研磨用組成物。 【請求項３】 前記砥粒の含有量が１重量％未満である、請求項１または２に記載の研磨用組成物。 【請求項４】 前記砥粒はシリカ粒子である、請求項１から３のいずれか一項に記載の研磨用組成物。 【請求項５】 シリコンの研磨に用いられる、請求項１から４のいずれか一項に記載の研磨用組成物。 【請求項６】 砥粒と、水と、 下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、（ｉ）Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である、または、（ｉｉ）Ｒ１とＲ２は、互いに結合して環状構造のアミノアルキル基を形成している。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒ１、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物であるロールアップアミン化合物Ａと、 （Ｂ１）アンモニア、アンモニウム水酸化物およびホスホニウム水酸化物からなる群から選択された少なくとも１種の塩基性化合物； （Ｂ２）下記一般式（ｂ２）： Ｒ３－ＮＲ４－Ｒ５ （ｂ２） （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～１５のアルキル基および１級アミノ基を有していないアミノアルキル基から選択される。ただし、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５のうち少なくとも２つは、水素原子以外の基である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、Ｃ－Ｃ間もしくはＣ－Ｎ間に二重結合を有していてもよい。また、Ｒ３、Ｒ５は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。）で表されるアミン化合物（但し、ピペラジンを除く）；および （Ｂ４）分子内の２つの１級アミノ基間に炭素原子数１または２の炭化水素基を有するアミン化合物； からなる群から選択された少なくとも１種の化合物であるロールオフ化合物Ｂと、 を含み、 前記ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比（ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂ）が１：３０～３０：１の範囲であり、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物（但し、下記一般式（１）で示されるアルキルジアミン構造を含み、アルキルアミン構造の２つの窒素のいずれかに、少なくとも１つのブロック型ポリエーテルが結合された化合物；オキシアルキレン重合体；ポリオキシアルキレン付加物；またはオキシアルキレンの共重合体；である疎水性高分子化合物を含むものを除く）。 【化１】 ［図：0001417602000003.jpg］ （上記一般式（１）において、ｎは１以上の整数である。） 【請求項７】（削除） 【請求項８】 前記砥粒はシリカ粒子であり、 前記ロールオフ化合物Ｂは、 （Ｂ１）アンモニウム水酸化物およびホスホニウム水酸化物からなる群から選択された少なくとも１種の塩基性化合物； （Ｂ２）下記一般式（ｂ２）： Ｒ３－ＮＲ４－Ｒ５ （ｂ２） （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～１５のアルキル基および１級アミノ基を有していないアミノアルキル基から選択される。ただし、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５のうち少なくとも２つは、水素原子以外の基である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、Ｃ－Ｃ間もしくはＣ－Ｎ間に二重結合を有していてもよい。また、Ｒ３、Ｒ５は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。）で表されるアミン化合物（但し、ピペラジンを除く）；および （Ｂ４）分子内の２つの１級アミノ基間に炭素原子数１または２の炭化水素基を有するアミン化合物； からなる群から選択された少なくとも１種の化合物である、請求項６に記載の研磨用組成物（但し、マロン酸、シュウ酸、リンゴ酸、メタクリル酸、シアノ酢酸および安息香酸のいずれかを含むものを除く）。 【請求項９】 シリコンの研磨に用いられ、 前記ロールアップアミン化合物Ａは、下記一般式（ａ）: Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、（ｉ）Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である、または、（ｉｉ）Ｒ１とＲ２は、互いに結合して環状構造のアミノアルキル基を形成している。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒ１、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、２－（２－アミノエチルアミノ）エタノールを除く）である、請求項６または８に記載の研磨用組成物。」 第４ 特許異議の申立ての理由及び取消理由の概要 １ 申立人Ａ （１）申立人Ａによる申立理由 ア 申立理由Ａ１（新規性） 本件特許の特許請求の範囲の請求項１～９に係る発明は、本件特許の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものであり、その特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。 イ 申立理由Ａ２（進歩性） 本件特許の特許請求の範囲の請求項１～９に係る発明は、本件特許の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて本件特許の出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、本件特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。 ウ 申立理由Ａ３（サポート要件） 本件特許の特許請求の範囲の請求項１～９の記載は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていないから、本件特許は、特許法第３６条第６項第１号の規定を充足しない出願に対してなされたものであり、同法第１１３条第４号に該当し、取り消すべきものである。 エ 申立理由Ａ４（明確性要件） 本件特許の特許請求の範囲の請求項６～９の記載は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていないから、本件特許は、特許法第３６条第６項第２号の規定を充足しない出願に対してなされたものであり、同法第１１３条第４号に該当し、取り消すべきものである。 なお、前記申立理由Ａ１は、前記第３の本願発明と後記（２）の証拠との組み合わせにおいて、次のものを含む。 ・本願発明１～９は、甲Ａ１又は甲Ａ２に記載された発明と同一 ・本願発明１、３～９は、甲Ａ３に記載された発明と同一 ・本願発明１～５は、甲Ａ４又は甲Ａ５に記載された発明と同一 ・本願発明６～９は、甲Ａ６に記載された発明と同一 また、前記申立理由Ａ２は、次の組み合わせを含む。 ・本願発明１～９は、甲Ａ１、甲Ａ２又は甲Ａ３に記載された発明から容易 ・本願発明１～５は、甲Ａ４又は甲Ａ５に記載された発明から容易 ・本願発明６～９は、甲Ａ６に記載された発明から容易 （２）申立人Ａが提出した証拠 ア 申立人Ａが、特許異議申立書とともに提出した証拠は次のとおりである。以下、申立人Ａの提示した甲１号証～甲６号証を「甲Ａ１」～「甲Ａ６」という。 甲Ａ１：特開２０１５－１７４９１８号公報 甲Ａ２：特開２００１－７７０６３号公報 甲Ａ３：特開２００２－１６０２５号公報 甲Ａ４：特開２００７－１９０９３号公報 甲Ａ５：特開２００２－１０５４４０号公報 甲Ａ６：国際公開第２０１６／１４３３２３号 イ 申立人Ａが、令和５年１２月２２日の意見書とともに提出した証拠は次のとおりである。以下、申立人１の提示した甲７号証～甲１１号証を「甲Ａ７」～「甲Ａ１１」という。 甲Ａ７：大橋弘三郎他著、「分析化学－溶液反応を基礎とする－」、三共出版株式会社、２０００年３月１日初版第１２刷発行、１０～１１頁 甲Ａ８：熊丸尚宏他編著、「基礎からの分析化学」、株式会社朝倉書店、２０１０年３月１０日第３刷、１４～１５頁 甲Ａ９：Chrstian Sogaard（外２名）、「Silica sol as grouting material: physio-chemical analysis」、Nano Convergence(2018)5:6 （ＵＲＬ： https://nanoconvergencejournal.springeropen.com/articles/10.1186/s40580-018-0138-1） 甲Ａ１０：国際公開第２０１１／１４２３６２号 甲Ａ１１：特開２０１１－１３１３４６号公報 ２ 申立人Ｂによる特許異議の申立ての概要 （１）申立人Ｂによる申立理由 ア 申立理由Ｂ１（新規性） 本件特許の特許請求の範囲の請求項１～６、８、９に係る発明は、本件特許の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものであり、その特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。 イ 申立理由Ｂ２（進歩性） 本件特許の特許請求の範囲の請求項１～５、７～９に係る発明は、本件特許の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて本件特許の出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、本件特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。 なお、前記申立理由Ｂ１は、前記第３の本願発明と後記（２）の証拠との組み合わせにおいて、次のものを含む。 ・本願発明１～６、８、９は、甲Ｂ１、甲Ｂ３又は甲Ｂ４に記載された発明と同一 ・本願発明１、３～６、８、９は、甲Ｂ５に記載された発明と同一 ・本願発明１～５は、甲Ｂ６に記載された発明と同一 また、前記申立理由Ｂ２は、次の組み合わせを含む。 ・本願発明３～５、７～９は、甲Ｂ１に記載された発明から容易 ・本願発明２～５、７～９は、甲Ｂ３に記載された発明から容易 ・本願発明１～５、７～９は、甲Ｂ４又はＢ５に記載された発明から容易 （２）申立人Ｂが提出した証拠 以下、申立人Ｂの提出した甲第１号証～甲第６号証を「甲Ｂ１」～「甲Ｂ６」という。 甲Ｂ１：特開２００１－７７０６３号公報（当審注：甲Ａ２と同じ。） 甲Ｂ２：特開平９－１９３００４号公報 甲Ｂ３：特開２００６－１２１１０１号公報 甲Ｂ４：特開２００５－３４０７５５号公報 甲Ｂ５：特開２００２－１６０２５号公報（当審注：甲Ａ３と同じ。） 甲Ｂ６：特開２００２－１０５４４０号公報（当審注：甲Ａ５と同じ。） ３ 令和５年９月６日付けの取消理由の概要 （１）取消理由１（新規性） 本件特許の特許請求の範囲の請求項１～９に係る発明は、本件特許の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものであり、その特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。 （２）取消理由２（進歩性） 本件特許の特許請求の範囲の請求項１～９に係る発明は、本件特許の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて本件特許の出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、本件特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。 （３）取消理由３（明確性） 本件特許の特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていないから、本件特許は、特許法第３６条第６項第２号の規定を充足しない出願に対してなされたものであり、同法第１１３条第４号に該当し、取り消すべきものである。 なお、取消理由１は、申立人Ａが提出した甲Ａ１、甲Ａ２、甲Ａ４、甲Ａ６、申立人Ｂが提出した甲Ｂ３のいずれかを主たる引用文献等とするものである。 また、取消理由２は、申立人１が提出した甲Ａ１～Ａ６、申立人Ｂが提出した甲Ｂ３のいずれかを主たる引用文献等とするものである。 ４ 令和６年３月５日付けの取消理由（決定の予告）の概要 （１）取消理由１（新規性） 本件特許の特許請求の範囲の請求項６、８、９に係る発明は、本件特許の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものであり、その特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。 （２）取消理由２（進歩性） 本件特許の特許請求の範囲の請求項６、８、９に係る発明は、本件特許の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて本件特許の出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、本件特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。 なお、取消理由１は、申立人Ａが提出した甲Ａ２を主たる引用文献等とするものである。 また、取消理由２は、申立人Ａが提出した甲Ａ１、又は甲Ａ２を主たる引用文献等とするものである。 ５ 証拠に記載された事項、及び証拠に記載された発明 （１）甲Ａ１について ア 甲Ａ１には、次の記載がある。 「【請求項１】 砥粒と、 疎水性高分子化合物と、 アミン化合物と、 を含む、研磨用組成物。」 「【００１３】 疎水性高分子化合物としては、水溶性高分子化合物が用いられる。疎水性高分子化合物は、ウェーハに対して疎水性を有する。ここで、「ウェーハに対して疎水性を有する」とは、疎水性高分子化合物の水溶物をウェーハ上に置いたときに、ウェーハの表面に濡れが広がりにくい性質を意味する。疎水性高分子化合物としては、非イオン性の界面活性剤が好適である。このような疎水性高分子化合物としては、下記一般式（１）で示されるアルキルジアミン構造を含み、アルキルアミン構造の２つの窒素のいずれかに、少なくとも１つのブロック型ポリエーテルが結合された化合物が好適である。 【００１４】 【化１】 ［図：0001417602000004.jpg］ 【００１５】 式（１）において、ｎは１以上の整数である。 【００１６】 アルキルアミン構造の２つの窒素のいずれかに結合されるブロック型ポリエーテルは、以下（ａ）～（ｄ）で示されるエーテル基から選ばれる少なくとも１種を含む。 【００１７】 （ａ）－［（ＥＯ）ａ－（ＰＯ）ｂ］ｘ－Ｈ （ｂ）－［（ＰＯ）ｂ－（ＥＯ）ａ］ｘ－Ｈ （ｃ）－（ＥＯ）ａ－［（ＰＯ）ｂ－（ＥＯ）ａ］ｘ－Ｈ （ｄ）－（ＰＯ）ｂ－［（ＥＯ）ａ－（ＰＯ）ｂ］ｘ－Ｈ なお、式中、ＥＯはオキシエチレン基を示し、ＰＯはオキシプロピレン基を示す。オキシエチレン基の数ａは１以上の整数であり、１≦ａ≦５００を満たす。また、オキシプロピレン基の数ｂは１以上の整数であり、１≦ｂ≦２００を満たす。ｘは１以上の整数を示す。 【００１８】 アルキルジアミン構造を有する化合物としては、例えば、ポロキサミン（エチレンジアミンテトラポリオキシエチレンポリオキシプロピレン）を用いることができる。ポロキサミンとしては、例えば、式（１）においてｎ＝２であって、アルキルアミン構造の２つの窒素のそれぞれに（ｂ）で示されるブロック型ポリエーテルが２つずつ結合し、（ｂ）で示されるブロック型ポリエーテルにおいてエチレンオキシドの数ａ＝１６、プロピレンオキシドの数ｂ＝１９、及びｘ＝１とした化合物（エチレンオキシドとプロピレンオキシドの質量比がＥＯ：ＰＯ＝４０：６０）等を採用することができる。 【００１９】 疎水性高分子化合物としては、アルキルジアミン構造を有する化合物の他、オキシアルキレン重合体、ポリオキシアルキレン付加物、オキシアルキレンの共重合体等の水溶性高分子化合物が挙げられる。 【００２０】 オキシアルキレン重合体としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等が挙げられる。 【００２１】 ポリオキシアルキレン付加物としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル等が挙げられる。 【００２２】 オキシアルキレンの共重合体としては、ブロック型、ランダム型、交互型の共重合体が挙げられる。」 「【００２４】 ピペラジン化合物としては、例えば、無水ピペラジン、ピペラジン六水和物、１－（２－アミノエチル）ピペラジン（ＡＥＰ）、Ｎ－メチルピペラジン、１－（２－ヒドロキシエチル）ピペラジン（ピペラジン－２－エタノール）（ＨＥＰ）等が挙げられる。１－（２－アミノエチル）ピペラジン（ＡＥＰ）、及び１－（２－ヒドロキシエチル）ピペラジン（ＨＥＰ）の構造式は、それぞれ、以下の式（２）、（３）で表される。 【００２５】 【化２】 ［図：0001417602000005.jpg］ ・・・ 【００２７】 また、アルコールアミン化合物としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ－（β－アミノエチル）エタノールアミン（ＡＥＥＡ）、・・・Ｎ－（β－アミノエチル）エタノールアミン（ＡＥＥＡ）の構造式は、以下の式（４）で表される。 【００２８】 【化４】 ［図：0001417602000006.jpg］ 」 「【００３９】 ［実施例］ 以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。 【００４０】 実施例１～９および比較例における研磨用組成物の成分を表１に示す。表１において、各成分の重量％は、研磨用組成物の原液全体に対する重量％を表す。 【００４１】 【表１】 ［図：0001417602000007.jpg］ 【００４２】 実施例１の研磨用組成物は、９５．５重量％の水と、３．０重量％の砥粒（コロイダルシリカ）と、１重量％の炭酸カリウム（Ｋ２ＣＯ３）と、０．３重量％の水酸化カリウム（ＫＯＨ）と、０．００４重量％のエチレンジアミンテトラポリオキシエチレンポリオキシプロピレン（ポロキサミン）と、０．００４重量％のヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）と、０．２重量％のアミノエチルピペラジン（ＡＥＰ）と、０．０１重量％のジエチレントリアミン５酢酸（ＤＴＰＡ）とを含む原液を作製し、その作製した原液を脱イオン水で１０倍希釈したものである。 【００４３】 実施例２の研磨用組成物は、アミノエチルピペラジン（ＡＥＰ）の代わりに、０．２重量％のアミノエチルエタノールアミン（ＡＥＥＡ）を含むことを除いて実施例１と同一組成の原液を作製し、その作製した原液を脱イオン水で１０倍希釈したものである。」 「【００５２】 （研磨速度評価） 研磨装置（ＳＰＰ８００Ｓ、岡本工作機械製作所製）を用い、研磨パッド（ＳＵＢＡＴＭ４００、ニッタ・ハース社製）に実施例１～９および比較例の研磨用組成物を６００ｍｌ／分の割合で供給し、かつ、直径１２インチのシリコンウェーハに１５ｋＰａの圧力をかけながら研磨定盤を３３ｒｐｍの回転速度で回転させ、キャリアを３０ｒｐｍの回転速度で回転させながら、４分間、研磨を行なった。なお、研磨装置の下底盤の揺動速度は６００ｍｍ／分、及び揺動距離は６０ｍｍであった。また、用いたシリコンウェーハは、伝導型がＰ型、結晶方位が＜１００＞、抵抗率が０．１～１００Ω・ｃｍであった。」 イ 甲Ａ１に記載された発明 甲Ａ１の実施例２の研磨用組成物に着目すると、甲Ａ１には次の発明（以下「甲Ａ１発明」ともいう。）が記載されていると認められる。 （甲Ａ１発明） 「９５．５重量％の水と、３．０重量％の砥粒（コロイダルシリカ）と、アルカリとしての１重量％の炭酸カリウム（Ｋ２ＣＯ３）及び０．３重量％の水酸化カリウム（ＫＯＨ）と、疎水性高分子化合物としての０．００４重量％のエチレンジアミンテトラポリオキシエチレンポリオキシプロピレン（ポロキサミン）と、親水性高分子化合物としての０．００４重量％のヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）と、アミン化合物としての０．２重量％のアミノエチルエタノールアミン（ＡＥＥＡ）と、キレート剤としての０．０１重量％のジエチレントリアミン５酢酸（ＤＴＰＡ）とを含む原液を作製し、その作製した原液を脱イオン水で１０倍希釈した研磨用組成物。」 （２）甲Ａ２について ア 甲Ａ２には、次の記載がある。 「【請求項１】 研磨粒子を含むスラリーに２－（２－アミノエチルアミノ）エタノール又はピペラジンのいずれか一方又は双方からなるアミン類を含有するシリコンウェーハの研磨液。 【請求項２】 シリコンウェーハの研磨時に研磨粒子０．０１～１０重量％と、アミン類０．０１～０．３重量％とを含む請求項１記載のシリコンウェーハの研磨液。」 「【０００３】 【発明が解決しようとする課題】しかし、これら有機アルカリは、ウェーハ表面の金属不純物を低減する効果はほとんどないばかりか、ある種のアミン類の還元性は研磨速度を促進する作用がある一方で研磨剤中の金属不純物を還元してウェーハ上やウェーハ内を金属汚染する原因にもなり問題となっていた。また、多種類のキレート剤の中から金属不純物、特に現在最も問題となっている銅の汚染を低減するために最適なキレート剤を選択されておらず、またその濃度も決定されていない。更に、研磨液中のキレート剤の種類によってはウェーハ表面の汚染を防止する効果が不十分であったり、汚染防止効果を高めるためには大過剰に添加しなければならず経済的ではなかった。また、研磨液中に含まれる不純物を除去したり高純度の原材料を使うと高コストになる問題点もあった。本発明の目的は、安価で、研磨工程で生じる金属汚染、特に銅又はニッケルによる汚染を低減させ、研磨速度を向上させるシリコンウェーハの研磨液及びこれを用いた研磨方法を提供することにある。」 「【０００８】本発明のアミン類には２－（２－アミノエチルアミノ）エタノール又はピペラジンのいずれか一方又は双方が挙げられる。本発明のアミン類の組合せは２－（２－アミノエチルアミノ）エタノール又はピペラジンのみならず、他のアミン類を含んでもよい。他のアミン類を例示すれば、アミノエタノール、エチレンジアミン、メチルアミン、Ｎ－Ｎ－Ｎ’－Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン、ｐ－フェニレンジアミン等が挙げられる。他のアミン類は本発明のアミン類の作用効果を低減させないようにするため、本発明のアミン類と同等若しくは少量用いることが好ましい。・・・」 「【００１０】スラリー状の研磨液（研磨剤原液）は研磨装置で使用する際には純水で２～５０倍に希釈される。希釈された研磨液を１００重量％とするとき研磨粒子は０．０１～１０重量％含まれ、アミン類は０．０１～０．３重量％含まれ、キレート剤は１×１０－５～３×１０－３ｍｏｌ／ｌ含まれる。アミン類の好ましい濃度は０．０５～０．１重量％である。０．０１重量％未満であると汚染を低減する効果が不十分であり、０．３重量％を超えても汚染を低減する効果の向上は見込めない。キレート剤の好ましい濃度は１×１０－４～２×１０－３ｍｏｌ／ｌである。１×１０－５ｍｏｌ／ｌ未満であると汚染を低減する効果が不十分であり、３×１０－３ｍｏｌ／ｌを超えても汚染を低減する効果の向上は見込めない。」 「【００１３】 【実施例】次に本発明の実施例を比較例とともに説明する。 ＜実施例１＞先ず、ＣＺ法により育成されたシリコン単結晶インゴットから切出されスライスされたシリコンウェーハをラッピングし、面取り加工を施し、化学エッチングした後、機械的化学的研磨工程を行った。粗研磨工程に用いる研磨液として、ＳｉＯ２の研磨粒子が分散した研磨スラリー１（研磨剤原液）を用意し、この研磨スラリー１をＳｉＯ２濃度が２．０重量％となるように純水で希釈した。この希釈液に２－（２－アミノエチルアミノ）エタノールを濃度が０．１２重量％となるように添加混合し、ｐＨ１１．０となるように水酸化ナトリウムを添加混合して研磨液とした。この研磨液に原子吸光分析用の標準銅溶液（銅濃度が１０００ｐｐｍの硝酸銅溶液）を添加して銅濃度が０．１ｐｐｂとなるように研磨液を強制的に銅で汚染させた。このように混合された研磨液を用いて上記シリコンウェーハの粗研磨を図１に示す研磨装置１０により１０分間行った。以下、実施例２～１４、比較例１～６の粗研磨も同様に図１に示す研磨装置により行った。 【００１４】また、ｐＨ調整は実施例２～１４、比較例１～６も同様にアミン類、キレート剤等の添加後に行い、ｐＨ１１．０以下の場合は水酸化ナトリウムを、ｐＨ１１．０以上の場合は塩酸をそれぞれ用いて行った。 【００１５】＜実施例２＞実施例１と同様にして得られたシリコンウェーハを用意し、実施例１と同じ希釈液（ＳｉＯ2濃度：２．０重量％）にピペラジンを濃度が０．１２重量％となるように添加混合して研磨液とした。この研磨液を実施例１と同様に強制的に銅で汚染させた。このように混合された研磨液を用いて上記シリコンウェーハの粗研磨を１０分間行った。 【００１６】＜実施例３＞実施例１と同様にして得られたシリコンウェーハを用意し、実施例１と同じ希釈液（ＳｉＯ２濃度：２．０重量％）に２－（２－アミノエチルアミノ）エタノールとピペラジンをそれぞれの濃度が０．１２重量％となるように添加混合して研磨液とした。この研磨液を実施例１と同様に強制的に銅で汚染させた。このように混合された研磨液を用いて上記シリコンウェーハの粗研磨を１０分間行った。」 「【００３８】 【表１】 ［図：0001417602000008.jpg］ 」 イ 甲Ａ２に記載された発明 （ア）甲Ａ２の実施例２の研磨液に着目すると、甲Ａ２には次の発明（以下「甲Ａ２発明２」ともいう。）が記載されていると認められる。 （甲Ａ２発明２） 「ＳｉＯ２の研磨粒子が分散した研磨スラリー１のＳｉＯ２濃度が２．０重量％となるように純水で希釈した希釈液に、ピペラジンの濃度が０．１２重量％となるように添加混合し、ｐＨ１１．０となるように水酸化ナトリウムを添加混合して得た研磨液。」 （イ）甲Ａ２の実施例３の研磨液に着目すると、甲Ａ２には次の発明（以下「甲Ａ２発明３」ともいう。）が記載されていると認められる。 （甲Ａ２発明３） 「ＳｉＯ２の研磨粒子が分散した研磨スラリー１のＳｉＯ２濃度が２．０重量％となるように純水で希釈した希釈液に、２－（２－アミノエチルアミノ）エタノールの濃度が０．１２重量％、ピペラジンの濃度が０．１２重量％となるように添加混合し、ｐＨ１１．０となるように水酸化ナトリウムを添加混合して得た研磨液。」 （３）甲Ａ３について ア 甲Ａ３には、次の記載がある。 「【請求項１】 半導体ウェーハを表裏面側から挟む研磨面を有した一対の定盤と半導体ウェーハとを相対的に移動させると共に研磨面に研磨液を供給して半導体ウェーハを研磨する研磨工程を有した半導体ウェーハの製造方法であって、 前記研磨工程前の自然放置中又は洗浄中に生じた前記半導体ウェーハの表裏面の薄膜のうち表面側の薄膜のみを除去する表面膜除去工程と、 前記表面膜除去工程後に、前記半導体ウェーハの材料に対する研磨速度が前記薄膜に対する研磨速度よりも高い前記研磨液を供給して半導体ウェーハの表面側を選択的に化学的研磨する表面研磨工程とを備えていることを特徴とする半導体ウェーハの製造方法。 【請求項２】 請求項１に記載の半導体ウェーハの製造方法において、 前記半導体ウェーハは、シリコンウェーハであると共に、前記薄膜は、酸化膜であり、 前記研磨液は、砥粒濃度が０重量％以上１重量％以下のアルカリ性溶液であることを特徴とする半導体ウェーハの製造方法。」 「【００２４】研磨液供給機構７は、シリコンに対する研磨速度がその酸化膜（ＳｉＯ２）に対する研磨速度よりも高い研磨液として砥粒（シリカ）濃度が０重量％以上１重量％以下のアルカリ性溶液を供給可能な第１供給機構８と、砥粒濃度が１重量％を越えるアルカリ性溶液である光沢度調整用の研磨液を供給可能な第２供給機構（別研磨液供給機構）９とからなり、第１供給機構８又は第２供給機構９の一方を任意に選択可能になっている。」 「【００３５】また、研磨液が、砥粒濃度が０重量％以上１重量％以下のアルカリ性溶液であるので、砥粒による機械的研磨作用がほとんど無く、アルカリ性溶液による化学的研磨作用だけで研磨が行われることにより、裏面Ｒの酸化膜ＯＸ、すなわちＳｉＯ２をほとんど研磨せずに、表面Ｓのシリコンだけを良好に研磨することができる。」 「【００４５】 【実施例】次に、本発明に係る上記実施形態を実施例により具体的に説明する。上記第１実施形態により上記研磨を行った際のデータを、図６に示す。なお、図６の（ａ）は従来の片面研磨方式、図６の（ｂ）は従来の両面研磨方式、図６の（ｃ）は上記実施形態の実施例であって、それぞれＧＢＩＲ(Global BacksideIdeal Reference)に対する頻度を示したヒストグラムを示したものである。用いた研磨液は、ピペラジン、アミノエチルアミノエタノールとＫＯＨの混合溶液である。この研磨結果からわかるように、片面研磨であるにもかかわらず、両面研磨と同様の平坦度を得ることができた。」 イ 甲Ａ３に記載された発明 甲Ａ３の実施例の記載によれば、甲Ａ３には次の発明（以下「甲Ａ３発明」ともいう。）が記載されていると認められる。 （甲Ａ３発明） 「ピペラジン、アミノエチルアミノエタノールとＫＯＨの混合溶液である研磨液。」 （４）甲Ａ４について ア 甲Ａ４には、次の記載がある。 「【請求項１】 砥粒、塩基性低分子化合物および窒素含有基を含む水溶性高分子化合物を含むことを特徴とする半導体研磨用組成物。」 「【００２７】 また本発明によれば、前記塩基性低分子化合物は、アンモニア、アルカリ金属元素の水酸化物、アルカリ金属元素またはアルカリ土類金属元素の炭酸塩、第四級アンモニウム塩、第一級アミン、第二級アミンおよび第三級アミンから選ばれる１種または２種以上の化合物であり、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、モノエタノールアミン、アミノエチルエタノールアミン、アミノエチルピペラジン、ピペラジンから選ばれる１種または２種以上の化合物であることが好ましい。」 「【実施例】 【００４３】 以下では、本発明の実施例および比較例について説明する。 ［実施例および比較例の組成］ 半導体研磨用組成物としては、研磨使用時に４０倍に希釈したものを用いる。以下に示す組成は、希釈済みの組成で、残部は水である。 【００４４】 （実施例１） 砥粒 ：コロイダルシリカ粒子（平均粒径７０ｎｍ）３０００ｐｐｍ 塩基性低分子化合物：アミノエチルエタノールアミン ３００ｐｐｍ 高分子化合物 ：ポリエチレンイミン（分子量２００） ２５ｐｐｍ」 イ 甲Ａ４に記載された発明 甲Ａ４の実施例１に着目すれば、甲Ａ４には次の発明（以下「甲Ａ４発明」ともいう。）が記載されていると認められる。 （甲Ａ４発明） 「コロイダルシリカ粒子（平均粒径７０ｎｍ）３０００ｐｐｍ、アミノエチルエタノールアミン３００ｐｐｍ、ポリエチレンイミン（分子量２００）２５ｐｐｍ、及び、残部が水である半導体研磨用組成物。」 （５）甲Ａ５について ア 甲Ａ５には、次の記載がある。 「【０００１】 【発明が属する技術分野】本発明はシリコンウエーハ及び同様な材料を研磨するための研磨剤及びその研磨剤を用いた研磨方法に関する。」 「【００１３】研磨剤はコロイダルシリカを純水中に０．１～３０ｗｔ％分散させたものが好適に用いられる。この研磨剤中に本発明のアミンを添加するが、添加するアミンの量は、研磨剤１Ｌ（リットル）当たり１．０００ｍｏｌ以下の量で十分である。特に好ましくは０．００１～０．０５ｍｏｌ／Ｌである。この範囲の量を添加すれば研磨速度も向上し、金属汚染も十分に防止することができる。」 「【００１６】研磨能力（研磨速度）を向上するには、アミノ基が多いアミンが好ましい。この点からアミノ基は２個以上含まれるアミンが好ましい。 【００１７】また、添加物による汚染を少なくするため、炭素原子の数が異なるジアミンのキレート性を確認した。確認したアミンは、エチレンジアミン、１，３－プロパンジアミン、１，４－ブタンジアミン、１，５－ペンタンジアミン、１，６－ヘキサンジアミンで確認した。 【００１８】炭素数が増え１，６－ヘキサンジアミンになるとキレート性がなくなり、添加物自体に金属汚染がないことがわかった。これ以下の炭素数のものでは、研磨能力は高いもののキレート効果を有する。このキレート能力が強く添加剤自体から金属が放出されなければこれら炭素数の少ないアミンを添加しても問題無いが、研磨中にウエーハ側に金属が移動してしまうこともあり、添加前に添加剤に金属が含まれていた場合にウエーハを汚染する事になる。研磨中にキレート効果のない添加物を用いた場合、つまりこの炭素数が６個以上の１，６－ヘキサンジアミンを用い研磨した場合、研磨されたウエーハも殆ど金属汚染がないことがわかった。このように炭素数は６個以上つながった直鎖状のアミンが好ましい。 【００１９】以下、具体的な例を挙げ本発明について説明する。本発明の実施例として、１，６－ヘキサンジアミン（実施例１）、及び比較例として研磨能力の高いＮ－（β－アミノエチル）エタノールアミン（比較例１）、ピペラジン（比較例２）を添加した。 【００２０】 【実施例】コロイダルシリカ（ＳｉＯ２）を含有した研磨剤を用い研磨した。ベースとなる研磨剤は、研磨剤全体に対し平均粒度が５０ｎｍのコロイダルシリカ（ＳｉＯ２）を約２．５ｗｔ％含有させ、ｐＨを約１１に調整したものである。 【００２１】（実施例１）上記ベースとなる研磨剤に１，６－ヘキサンジアミンをスラリー１リットル当たり、０．００７ｍｏｌ添加した研磨剤を準備した。この時のｐＨは１０．９６であった。 【００２２】（比較例１）上記ベースとなる研磨剤にＮ－（β－アミノエチル）エタノールアミンをスラリー１リットル当たり、０．０６０ｍｏｌ添加した研磨剤を準備した。この時のｐＨは１０．９５であった。」 イ 甲Ａ５に記載された発明 甲Ａ５の請求項１、３、４の記載を参酌すれば、甲Ａ５には次の発明（以下「甲Ａ５発明」ともいう。）が記載されていると認められる。 （甲Ａ５発明） 「研磨剤全体に対し平均粒度が５０ｎｍのコロイダルシリカ（ＳｉＯ２）を約２．５ｗｔ％含有させ、ｐＨを約１１に調整したベースに対して、 １，６－ヘキサンジアミンを、ベースとなるスラリー１リットル当たり、０．００７ｍｏｌ添加した研磨剤。」 （６）甲Ａ６について ア 甲Ａ６には、次の記載がある。 「［０００１] 本発明は、研磨用組成物及びシリコン基板の研磨方法に関する。」 「［００９０]〔実施例〕 以下に実施例を示し、表１を参照しながら本発明をさらに具体的に説明する。 コロイダルシリカからなる砥粒と、塩基性化合物と、多重結合含有化合物又はアニオン性基含有化合物と、液状媒体である水とを、表１に示す通りの含有量となるように混合して、砥粒を水に分散させ、さらに水酸化カリウムを混合してｐＨを１０．５とした実施例１～２８及び比較例１～７の研磨用組成物を製造した。 ・・・ ［００９２] なお、表１中の「ＡＥＰ」はＮ－（２－アミノエチル）ピペラジンを意味し、「ＢＡＰＰ」は１，４－ビス（３－アミノプロピル）ピペラジンを意味する。また、「ＴＭＡＨ」はテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを意味し、「ＴＢＡＨ」はテトラブチルアンモニウムヒドロキシドを意味する。さらに、「ＴＢＰＨ」はテトラブチルホスホニウムヒドロキシドを意味し、「ＤＡＢＣＯ」は１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンを意味する。 ［００９３] ［表１] ［図：0001417602000009.jpg］ ［００９４] 実施例１～２８及び比較例１～７の研磨用組成物において、砥粒として使用したコロイダルシリカの平均一次粒子径は、表１に示す通りである。この平均一次粒子径は、ＢＥＴ法により測定された砥粒の比表面積と、砥粒の密度から算出したものである。 実施例１～２８及び比較例１～７の研磨用組成物を用いて、下記の研磨条件で、シリコンウェーハの研磨を行った。このシリコンウェーハの伝導型はＰ型であり、結晶方位は＜１００＞であり、抵抗率は０．１Ω・ｃｍ以上１００Ω・ｃｍ未満である。また、このシリコンウェーハは矩形板状に切り出したものであり、その寸法は縦６０ｍｍ、横６０ｍｍである。」 イ 甲Ａ６に記載された発明 甲Ａ６の実施例１の記載に基づいて、以下の発明（以下、「甲Ａ６発明」ともいう。）が記載されていると認められる。 （甲Ａ６発明） 「砥粒としてコロイダルシリカを１．２質量％と、塩基性化合物としてＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）を０．１質量％と、多重結合含有化合物又はアニオン性基含有化合物としてマロン酸を０．３質量％と、水とを含み、水酸化カリウムを混合してｐＨを１０．５とした研磨用組成物。」 （７）甲Ａ７の３頁には、次の記載がある。 「 ［図：0001417602000010.jpg］ 」 （８）甲Ａ８の１６頁には、次の記載がある。 「 ［図：0001417602000011.jpg］ 」 （９）甲Ａ９には次の記載がある。仮訳は、申立人作成のものを流用した。 ア ２頁左欄１８～１９行 「 ［図：0001417602000012.jpg］ 」 （仮訳） 「商業的に入手可能なシリカゾルは、ナトリウムイオン（Ｎａ＋）によってｐＨ１０付近で安定化されている。・・・」 イ ２頁下欄 「 ［図：0001417602000013.jpg］ 」 （１０）甲Ａ１０には、次の記載がある。 「[0001] 本発明は、シリコンウェーハに対する金属汚染防止効果を有するシリコンウェーハ用研磨組成物及びシリコンウェーハの研磨方法に関するものである。」 「[0027] 本発明に用いられる塩基性物質は、例えばアルカリ金属の無機塩、アンモニウム塩、及びアミン類からなる群から選ばれる少なくとも１種類である。」 「[0030] アミン類としては、エチレンジアミン、モノエタノールアミン、２－（２－アミノエチル）アミノエタノールアミン、ジエチレントリアミン、Ｎ－メチル－１，３－ジアミノプロパン、３－（アミノメチル）ピペリジン、１，３－ジアミノプロパン、１，２－ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ－ジエチルエチレンジアミン、Ｎ－エチルエチレンジアミン、ジプロピレントリアミン、ピペラジンなどが挙げられる。エチレンジアミンは、研磨速度を上げる効果が高く、特に好ましい。アミン類としてはこれらのアミンのみならず、他のアミンを含んでいてもよい。」 （１１）甲Ａ１１には、次の記載がある。 「【０００１】 本発明は、Ｎｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板用研磨液組成物、及びこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法に関する。」 「【００２６】 本発明の研磨液組成物に用いられる脂肪族アミン化合物は、研磨後の基板表面のスクラッチ及びナノ突起欠陥の低減の観点から、エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン、１，２－ジアミノプロパン、１，３－ジアミノプロパン、１，４－ジアミノブタン、ヘキサメチレンジアミン、３－（ジエチルアミノ）プロピルアミン、３－（ジブチルアミノ）プロピルアミン、３－（メチルアミノ）プロピルアミン、３－（ジメチルアミノ）プロピルアミン、Ｎ－アミノエチルエタノールアミン、Ｎ－アミノエチルイソプロパノールアミン、Ｎ－アミノエチル－Ｎ－メチルエタノールアミン、ジエチレントリアミン、及びトリエチレンテトラミンからなる群から選択されることが好ましく、エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン、１，２－ジアミノプロパン、１，３－ジアミノプロパン、１，４－ジアミノブタン、ヘキサメチレンジアミン、３－（ジエチルアミノ）プロピルアミン、３－（ジブチルアミノ）プロピルアミン、３－（メチルアミノ）プロピルアミン、３－（ジメチルアミノ）プロピルアミン、Ｎ－アミノエチルエタノールアミン、Ｎ－アミノエチルイソプロパノールアミン、及びＮ－アミノエチル－Ｎ－メチルエタノールアミンからなる群から選択されることがより好ましい。」 （１２）甲Ｂ１は、甲Ａ２と同じなので、摘記を省略する。 （１３）甲Ｂ２について 甲Ｂ２には、次の記載がある。 「【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンに代表される半導体ウェハーの研磨やＩＣ製造工程中での絶縁膜の研磨（以下、ＣＭＰ研磨とも言う）等に好適に使用される新規な研磨剤に関する。詳しくは、水系溶媒にヒュームドシリカ粒子を分散させたシリカ分散液よりなり、高純度で且つ研磨性能及び保存安定性に優れた研磨剤である。」 「【００４１】また、上記水系溶媒には、シリカ分散液の粘度を下げ、且つ、研磨速度を制御するためにアルカリを添加してもよい。上記のアルカリとしては、ＫＯＨ等の水酸化アルカリを始めとし、アンモニア、アミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドなど、通常、研磨剤の組成として知られているアルカリが特に制限なく使用される。シリコンウェハー用の研磨剤には、上記アルカリとして、モノエタノールアミン、イソプロピルアミン、エチレンジアミン、プロパンジアミン、ジエタノールアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、トリエタノールアミン、ピペラジン、２－メチルピペラジン、Ｎ－メチルピペラジン、ビスアミノプロピルピペラジン、２－アミノメチルピペリジン、２－ピペリジンエタノール、トリエチレンテトラミン、アミノエチルエタノールアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイドなどのアミンが好適に使用できる。また、ＩＣ製造工程中で絶縁膜を研磨するための研磨剤には、上記アルカリとして、ＫＯＨやアンモニアが好適に用いられる。」 （１４）甲Ｂ３について ア 甲Ｂ３には、次の記載がある。 「【請求項１】 （ｉ）液体キャリア、（ｉｉ）少なくとも１種の酸化剤、（ｉｉｉ）系が基体の少なくとも１つの層を研磨する速度を増加させる少なくとも１種の研磨添加剤、並びに（ｉｖ）研磨パッド及び／又は研磨材を含み、前記研磨添加剤が、ピロリン酸塩、縮合リン酸塩、ホスホン酸及びそれらの塩、アミン、アミノアルコール、アミド、イミン、イミノ酸、ニトリル、ニトロ、チオール、チオエステル、チオエーテル、カルボチオール酸、カルボチオン酸、チオカルボキシル酸、チオサリチル酸、及びそれらの混合からなる群より選択される、第１の金属層及び第２の層を有する多層基体の１又は複数の層を研磨する系。」 「【００２５】 研磨添加剤は、本発明の系に任意の適当な濃度で存在していてよい。好ましくは研磨添加剤は、約０．０５～１０ｗｔ％の量で系の液体部分に存在している。より好ましくは、研磨添加剤は約０．３～５ｗｔ％の量で系の液体部分に存在している。」 「【００３２】 適当な研磨材としては例えば、アルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア、ゲルマニア、セリア、及びそれらの共生成物、並びにそれら混合のような金属酸化物研磨材を挙げることができる。研磨材はフュームド生成物であってよい。好ましくは系の研磨材は、アルミナ（例えばフュームドアルミナ）及び／又はシリカ（例えばフュームドシリカ）である。 【００３３】 上述のような研磨材は、系の研磨パッド上又はその中に完全に又は部分的に固定することができる。更に研磨材は、任意の適当な量で系の液体部分中に存在していてよい。好ましくは研磨材は、系の液体部分に約０．１～３０．０ｗｔ％の量で存在する。より好ましくは研磨材は、系の液体部分に約０．５～６．０ｗｔ％の量で存在する。」 「【００４７】 以下の例のうちの１つ（すなわち例７）を除く全ての例の系は、特に示さない場合は水酸化アンモニウム（ＮＨ４ＯＨ）で目標ｐＨに調節した。 ・・・ 【００５５】 例２ この例では、本発明の系によって達成可能な第１の金属層の研磨速度が、系における研磨添加剤の存在及び種類に依存していることを示す。 【００５６】 銅ウェハーを、以下の成分を含む５つの異なる研磨系（系２Ａ～２Ｅとする）でそれぞれ研磨した：２ｗｔ％のアルミナ（具体的にはＣａｂｏｔ社のＳｅｍｉ－Ｓｐｅｒｓｅ（商標）Ｗ－Ａ３５５製品）、１ｗｔ％の酸化剤（具体的にはＨ２Ｏ２）、様々な濃度の第１の研磨添加剤（具体的には０．１６Ｍのエチレンジアミン、０．３３Ｍの２－アミノー１－ブタノール、０．３３Ｍのアミノエチルエタノールアミン、０．３３Ｍの２，２’－アミノエトキシエタノール、又は０．３３Ｍの低分子量エチレンイミンコポリマー（すなわちＬｕｐａｓｏｌ（商標）ＦＧ））、２．２ｗｔ％の第２の研磨添加剤（具体的にはアミノトリ（メチレンホスホン酸）（すなわちＤｅｑｕｅｓｔ（商標）２０００製品））、及び０．０８ｗｔ％のフィルム形成剤（具体的にはトリアゾール）。ここで、それぞれの系はｐＨが８．５であった。系の使用の後で、それぞれの系による銅の除去速度（ＲＲ）を測定した。試験結果のデータは表２に示している。それぞれの系における第１の研磨添加剤の一部の分子構造も表２に示しており、上述のＸＹ－ＮＣＲ１Ｒ２ＣＲ３Ｒ４Ｎ－Ｘ’Ｙ’部分が研磨添加剤に存在する場合には、表２の分子構造において太字で示している。 【００５７】 【表２】 ［図：0001417602000014.jpg］ 」 イ 甲Ｂ３に記載された発明 甲Ｂ３の例２の研磨系２Ｂに着目し、同【００４７】の記載を参酌すれば、甲Ｂ３には次の発明（以下「甲Ｂ３発明」ともいう。）が記載されていると認められる。 （甲Ｂ３発明） 「２ｗｔ％のアルミナ（具体的にはＣａｂｏｔ社のＳｅｍｉ－Ｓｐｅｒｓｅ（商標）Ｗ－Ａ３５５製品）、１ｗｔ％の酸化剤（具体的にはＨ２Ｏ２）、第１の研磨添加剤（具体的には０．３３Ｍのアミノエチルエタノールアミン、２．２ｗｔ％の第２の研磨添加剤（具体的にはアミノトリ（メチレンホスホン酸）（すなわちＤｅｑｕｅｓｔ（商標）２０００製品））、及び０．０８ｗｔ％のフィルム形成剤（具体的にはトリアゾール）を含み、水酸化アンモニウム（ＮＨ４ＯＨ）で系のｐＨが８．５に調節されている、研磨系。」 （１５）甲Ｂ４について ア 甲Ｂ４には、次の記載がある。 「【００１３】 本発明は、エッチング、エロージョンを抑制し特に金属膜の平坦性を維持したまま高速に研磨できる研磨組成物を提供すると共にこの研磨組成物を用いた金属膜の研磨方法、およびこの研磨組成物で平坦化する工程を含む基板の製造方法を提供することを目的としたものである。」 「【００３８】 本発明の研磨組成物には性能、物性に悪影響を及ぼさない範囲で、アルカリを含有させることが出来る。安定した研磨性能を維持する目的やｐＨ調整剤、緩衝剤として使用される。このようなアルカリとしては、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、ｔ－ブチルアミン、アミルアミン、アリルアミン、２－エチルヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、フルフリルアミン、テトラヒドロフルフリルアミンなどのアルキルモノアミン、Ｏ－アミノフェノール、エタノールアミン、３－アミノー１－プロパノール、２－アミノー１－プロパノールなどのヒドロキシル基を有するモノアミン、エチレンジアミン、１，２－プロピレンジアミン、１，３－プロピレンジアミン、Ｏ－フェニレンジアミン、トリメチレンジアミン、２－メチル－２－（２－ベンジルチオエチル）エチレンジアミン、１，５－ジアミノー３－ペンタノール、１，３－ジアミノー２－プロパノール、キシレンジアミン、ビスアミノプロピルポリアルキレンエーテルなどのジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、２，２－ジアミノジｎ－プロピルアミン、ポリアリルアミン、ポリエチレンイミンなどのポリアミンが挙げられる。これらアルカリのうち、好ましくは、アンモニア、ジアミン、水酸化カリウムである。アルカリの添加は、研磨組成物に対して１０質量％以下である。好ましくは、5質量％以下であり、更に好ましくは1質量％以下である。 【００３９】 本発明の研磨組成物は、砥粒なしで使用することも出来るが、研磨速度を十分に上げたりする目的で含有させることも出来る。砥粒としては、シリカ、アルミナ、セリア、有機砥粒が挙げられる。これら砥粒は一種を添加しても良いし、二種以上を混合して添加しても良い。含有量が多いと、ディッシングやスクラッチの原因になるので、含有量は研磨組成物に対して３０質量％以下が好ましい。より好ましくは２０質量％以下であり、特に好ましくは、１０質量％以下である。」 「【００６３】 〈分子量測定〉 合成した化合物の分子量は、ゲルパ－ミッションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用い、ポリエチレングリコール換算で測定した。尚、本発明では市販の化合物も用いたのでこれらも合わせて測定した。市販の化合物としては１－ビニルイミダゾールと１－ビニルビロリドンとの１：１共重合体、ＶＰＩ５５Ｋ１８Ｐ（１８Ｐと略す。ＢＡＳＦ社製）とＶＰＩ５５Ｋ７２Ｗ（７２Ｗと略す。ＢＡＳＦ社）を用いた。」 「【００９２】 実施例１８～２５ ８インチウエハを用いて評価した。圧力は１５Ｋｐａで行った。パッドはＩＣ１４００（ｋグルーブ）を用いた。 組成は表９に示した。表以外の添加物は水であり、添加量は質量％で示した。ここで、ＡＰＳは過硫酸アンモニウム、ＤＢＳはドデシルベンゼンスルホン酸、ＰＯＥはポリオキシエチレン２級アルキルエーテルリン酸エステル、ＯＬＡはオレイン酸、ＢＺＩはベンズイミダゾールを示す。コロイダルシリカは粒子径１２０ｎｍのものを用いた。 【００９３】 【表９】 ［図：0001417602000015.jpg］ 【００９４】 結果を表１０に示した。実施例１８～２１は種々のビニルイミダゾールと１－ビニルピロリドン共重合体をアゾール類として用いた。いずれもディッシング、エロージョンは低く、特に分子量の高いアゾール類はディッシング性能が高く（実施例２２）、実施例１８は少量の添加で同様の性能が得られた。 【００９５】 実施例２３はアルカリとしてエチレンジアミンを少量添加して研磨した。ややディッシングが大きくなる。プロセスによってはある程度のディッシングが必要な場合もあり、この場合にはエチレンジアミンを添加することが有効になる。」 イ 甲Ｂ４に記載された発明 甲Ｂ４の【００９３】の【表９】の実施例２３に着目し、同【００９２】の記載を参酌すれば、甲Ｂ４には次の発明（以下「甲Ｂ４発明」ともいう。）が記載されていると認められる。 （甲Ｂ４発明） 「アゾールとして化合物Ｉを０．０５％と、酸として蓚酸を０．５％と、酸化剤としてＡＰＳ（過硫酸アンモニウム）を１．５％と、界面活性剤としてＤＢＳ（ドデシルベンゼンスルホン酸）０．０７％、ＰＯＥ（ポリオキシエチレン２級アルキルエーテルリン酸エステル）０．０１％及びＯＬＡ（オレイン酸）０．０３％と、アルカリとしてエチレンジアミン０．０１％及びアンモニアと、砥粒としてコロイダルシリカを０．７５％と、水とからなり、ｐＨが９．０である研磨組成物。」 （１６）甲Ｂ５及び甲Ｂ６は、それぞれ、甲Ａ３及び甲Ａ５と同じなので、摘記を省略する。 第５ 取消理由についての当審の判断 １ 取消理由３（明確性）について（前記第４の３（３）参照。） （１）請求項１の「Ｒ１、Ｒ２は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。」との記載について 前記第２の１（１）のとおり、本件訂正により、「Ｒ１、Ｒ２は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。」との記載は削除された。 したがって、本件訂正後の請求項１の記載は、第三者に不測の不利益を与えるほど不明確なものではない。請求項１を引用する請求項２～６の記載も同様である。 （２）請求項６の「Ｒ１、Ｒ２は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。」との記載について 前記第２の１（３）のとおり、訂正前の請求項６の「式中、Ｒ１、Ｒ２は：それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基；および、互いに結合して環状構造を形成しているアミノアルキル基；からなる群から選択される。Ｒ１、Ｒ２は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。」との記載は、本件訂正により、「式中、（ｉ）Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である、または、（ｉｉ）Ｒ１とＲ２は、互いに結合して環状構造のアミノアルキル基を形成している。」との記載に訂正された。 この訂正により、一般式（ａ）のＲ１とＲ２の説明の記載を（ｉ）の場合と（ｉｉ）の場合に区別して記載することによって、Ｒ１、Ｒ２という同じ記号を使いつつ、Ｒ１とＲ２が、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基から選ばれるものであるか、または、Ｒ１とＲ２が互いに結合して環状構造のアミノアルキル基を形成しているもののいずれかであることが明確な記載になった。 したがって、本件訂正後の請求項６の記載は、第三者に不測の不利益を与えるほど不明確なものではない。請求項６を引用する請求項８及び９の記載も同様である。 （３）小括 本件特許の請求項１～６、８及び９の記載は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たすものである。 ２ 取消理由１（新規性）、取消理由２（進歩性）について（前記第４の３（１）及び（２）、並びに、同第４の４（１）及び（２）参照。） （１）甲Ａ１を主たる引用例とする場合 ア 本件発明１ 本件発明１と甲Ａ１発明を対比すると、甲Ａ１発明の「砥粒（コロイダルシリカ）」は本件発明１の「砥粒」に相当する。 甲Ａ１発明の「アミノエチルエタノールアミン（ＡＥＥＡ）」と本件発明１の「下記一般式（ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」とは、ともに「下記一般式（ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物」である点で共通する。 甲Ａ１発明は、「３．０重量％の砥粒（コロイダルシリカ）・・・を含む原液を作製し、その作製した原液を脱イオン水で１０倍希釈した研磨用組成物」と特定されているから、その「砥粒」の含有割合は、０．３重量％であり、本件発明１の「前記砥粒の含有量が２重量％以下である」を充足する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「砥粒と、水と、下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、Ｒｌ、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択される。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒｌ、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、１，６－ヘキサンジアミンを除く）とを含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物。」 ＜相違点１（Ａ１）＞ エーテル結合非含有アミン化合物が、本件発明１は「アミノエチルエタノールアミン」が除かれたものであるのに対し、甲Ａ１発明は「アミノエチルエタノールアミン（ＡＥＥＡ）」である点。 上記相違点１（Ａ１）について検討する。甲Ａ１発明を認定した甲Ａ１の【００２７】～【００２８】には、「アルコールアミン化合物としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ－（β－アミノエチル）エタノールアミン（ＡＥＥＡ）、Ｎ－メチルジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエタノールアミン、Ｎ－エチルジエタノールアミン、Ｎ－ブチルジエタノールアミン、Ｎ－オクチルジエタノールアミン、Ｎ－（２－エチルヘキシル）ジエタノールアミン、Ｎ－デシルジエタノールアミン、Ｎ－ドデシルジエタノールアミン、Ｎ－トリデシルジエタノールアミン、Ｎ－テトラデシルジエタノールアミン、Ｎ－ヘキサデシルジエタノールアミン、Ｎ－オクタデシルジエタノールアミン、Ｎ－ヤシ油由来アルキルジエタノールアミン、Ｎ－牛脂由来アルキルジエタノールアミン、Ｎ－大豆油由来アルキルジエタノールアミン、Ｎ－オレイルジエタノールアミン、Ｎ－（β－アミノエチル）エタノールアミン、Ｎ－シクロヘキシルジエタノールアミン等が挙げられる。研磨用組成物ＣＯＭＰには、これらのうち１種又は２種以上が配合されている。・・・」と記載され、各種のモノアミンのアルコールアミン化合物が挙げられているものの、ジアミン系のものは、アミノエチルエタノールアミン（ＡＥＥＡ）のみである。 そうすると、甲Ａ１発明の「アミノエチルエタノールアミン（ＡＥＥＡ）」を、本件発明１の「式（ａ） Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、Ｒｌ、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択される。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒｌ、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物」で特定されるようなジアミン系の「エーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」に変更することは、当業者が容易になし得たこととはいえない。 また、甲Ａ１の他の記載や甲Ａ２～甲Ｂ６の記載を参酌しても、甲Ａ１発明の「アミノエチルエタノールアミン（ＡＥＥＡ）」を、本件発明１の式（ａ）で特定されるようなジアミン系の「エーテル結合非含有アミン化合物」に変更する動機付けとなるような記載はない。 そして、本件特許明細書の段落【０１０５】の【表１】に記載されているように、本件発明１の式（ａ）において、Ｒ１＝エチル基、Ｒ２＝水素原子、ｎ＝２であるＮＥＤＡ（Ｎ－エチルエチレンジアミン）を使用した実施例２Ａに記載のように高い研磨レートとロールアップ性能有していることが読み取れる。そして、それにより、本件明細書の段落【０１０６】に記載のように、シリコンウェーハの端面ダレが抑制されるという予測できない効果を奏するものと認められる。 そうすると、本件発明１は、甲Ａ１発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 イ 本件発明２～５ 本件発明２～５は、本件発明１で特定される事項を全て含むものであるから、前記アと同じ理由により、甲Ａ１発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 ウ 本件発明６ 本件発明６と甲Ａ１発明を対比すると、甲Ａ１発明の「砥粒（コロイダルシリカ）」は本件発明６の「砥粒」に相当する。 甲Ａ１発明の「アミノエチルエタノールアミン（ＡＥＥＡ）」と、本件発明６の「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物であるロールアップアミン化合物Ａ」とは、ともに「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物」である点で共通する。 甲Ａ１発明は、「３．０重量％の砥粒（コロイダルシリカ）・・・を含む原液を作製し、その作製した原液を脱イオン水で１０倍希釈した研磨用組成物」と特定されているから、その「砥粒」の含有割合は、０．３重量％であり、本件発明６の「前記砥粒の含有量が２重量％以下である」を充足する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「砥粒と、水と、 下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、（ｉ）Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である、または、（ｉｉ）Ｒ１とＲ２は、互いに結合して環状構造のアミノアルキル基を形成している。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒ１、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物と、 を含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物。」 ＜相違点６（Ａ１）－１＞ 本件発明６は、エーテル結合非含有アミン化合物である「ロールアップアミン化合物Ａ」を含むのに対し、甲Ａ１発明は、エーテル結合非含有アミン化合物である「アミノエチルエタノールアミン（ＡＥＥＡ）」を含むものであるが、当該ＡＥＥＡを「ロールアップ化合物」として用いた認識はない点。 ＜相違点６（Ａ１）－２＞ 本件発明６は「（Ｂ１）の塩基性化合物、（Ｂ２）のアミン化合物、および（Ｂ４）のアミン化合物からなる群から選択された少なくとも１種の化合物であるロールオフ化合物Ｂ」を含むのに対し、甲Ａ１発明は「水酸化カリウム（ＫＯＨ）」を含むものの、本件発明６で定義される「ロールオフ化合物Ｂ」に該当する成分を含むものではなく、また、ロールオフ化合物という認識もない点。 ＜相違点６（Ａ１）－３＞ 本件発明６は「ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比（ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂ）が１：３０～３０：１の範囲」であるのに対し、甲Ａ１発明は、ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比が定かでない点。 ＜相違点６（Ａ１）－４＞ 本件発明６は、本件発明６の「研磨用組成物」から、「下記一般式（１）で示されるアルキルジアミン構造を含み、アルキルアミン構造の２つの窒素のいずれかに、少なくとも１つのブロック型ポリエーテルが結合された化合物；オキシアルキレン重合体；ポリオキシアルキレン付加物；またはオキシアルキレンの共重合体；である疎水性高分子化合物を含むもの。 【化１】 ［図：0001417602000016.jpg］ （上記一般式（１）において、ｎは１以上の整数である。）」が除かれているのに対し、甲Ａ１発明の「研磨用組成物」は、前記一般式（１）に含まれる「親水性高分子化合物としての」「ポロキサミン」を含むものである点。 事案に鑑み、まず、相違点６（Ａ１）－３について検討する。前記相違点６（Ａ１）－１及び相違点６（Ａ１）－２に記載したとおり、甲Ａ１発明には、ロールアップ化合物やロールオフ化合物といった認識がない。 そうすると、甲Ａ１発明の「研磨液」が、形式的に、ロールアップ化合物に該当するアミノエチルエタノールアミン（ＡＥＥＡ）を含み、ロールオフ化合物に該当する水酸化カリウム（ＫＯＨ）を含むとしても、水酸化カリウム（ＫＯＨ）を、金属水酸化物以外のロールオフ化合物に代える動機付けはないし、その結果、ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂを１：３０～３０：１の範囲とすることが容易であるともいえない。 また、甲Ａ１の他の記載や甲Ａ２～甲Ｂ６の記載を参酌しても、ロールアップ化合物やロールダウン化合物に関する記載はないから、甲Ａ１発明のロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂを１：３０～３０：１の範囲とする動機付けを見いだすことはできない。 そうすると、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明６は、甲Ａ１発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 エ 本件発明８、９ 本件発明８、９は、本件発明６で特定される事項を全て含むものであるから、前記ウと同じ理由により、甲Ａ１発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （２）甲Ａ２を主たる引用例とする場合 ア 本件発明１ 本件発明１と甲Ａ２発明２を対比すると、甲Ａ２発明２の「ＳｉＯ２の研磨粒子」は本件発明１の「砥粒」に相当する。 甲Ａ２発明２の「ピペラジン」と本件発明１の「下記一般式（ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」とは、ともに「エーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」である点で共通する。 甲Ａ２発明２は、「研磨スラリー１のＳｉＯ２濃度が２．０重量％となるように純水で希釈した」と特定されているから、本件発明１の「前記砥粒の含有量が２重量％以下である」を充足する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「砥粒と、水と、エーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）とを含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物。」 ＜相違点１（Ａ２）－１＞ エーテル結合非含有アミン化合物が、本件発明１は「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） ・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」であるのに対し、甲Ａ２発明２は「ピペラジン」である点。 上記相違点１（Ａ２）－１について検討する。甲Ａ２発明２を認定した甲Ａ２の【０００８】には「本発明のアミン類の組合せは２－（２－アミノエチルアミノ）エタノール又はピペラジンのみならず、他のアミン類を含んでもよい。他のアミン類を例示すれば、アミノエタノール、エチレンジアミン、メチルアミン、Ｎ－Ｎ－Ｎ’－Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン、ｐ－フェニレンジアミン等が挙げられる。」と記載されている。 そうすると、甲Ａ２発明２の「研磨液」に、アミノエタノール、エチレンジアミン、メチルアミン、Ｎ－Ｎ－Ｎ’－Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン、ｐ－フェニレンジアミン等のアミン類を添加することは、当業者が容易になし得たことであるかもしれないが、列挙されたアミン類は、いずれも、本件発明１の「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） ・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物」には該当しない。 また、甲Ａ２の他の記載や甲Ａ１、甲Ａ３～甲Ｂ６の記載を参酌しても、甲Ａ２発明２の「研磨液」に、本件発明１の式（ａ）で特定される「エーテル結合非含有アミン化合物」を添加する動機付けとなるような記載はない。 そうすると、本件発明１は、甲Ａ２発明２及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 イ 本件発明２～５ 本件発明２～５は、本件発明１で特定される事項を全て含むものであるから、前記アと同じ理由により、甲Ａ２発明２及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 ウ 本件発明６ 本件発明６と甲Ａ２発明３を対比すると、甲Ａ２発明３の「砥粒（コロイダルシリカ）」は本件発明６の「砥粒」に相当する。 甲Ａ２発明３の「２－（２－アミノエチルアミノ）エタノール」と、本件発明６の「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） ・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物であるロールアップアミン化合物Ａ」とは、ともに「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） ・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物」である点で共通する。 甲Ａ２発明３の「ピペラジン」は、本件発明６の「（Ｂ２）下記一般式（ｂ２）： Ｒ３－ＮＲ４－Ｒ５ （ｂ２） ・・・で表されるアミン化合物（但し、ピペラジンを除く）・・・から選択された少なくとも１種の化合物であるロールオフ化合物Ｂ」と、「Ｂ２）下記一般式（ｂ２）： Ｒ３－ＮＲ４－Ｒ５ （ｂ２） ・・・で表されるアミン化合物・・・から選択された少なくとも１種の化合物」である点で共通する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「砥粒と、水と、 下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、（ｉ）Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である、または、（ｉｉ）Ｒ１とＲ２は、互いに結合して環状構造のアミノアルキル基を形成している。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒ１、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物と、 （Ｂ１）アンモニア、アンモニウム水酸化物およびホスホニウム水酸化物からなる群から選択された少なくとも１種の塩基性化合物； （Ｂ２）下記一般式（ｂ２）： Ｒ３－ＮＲ４－Ｒ５ （ｂ２） （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～１５のアルキル基および１級アミノ基を有していないアミノアルキル基から選択される。ただし、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５のうち少なくとも２つは、水素原子以外の基である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、Ｃ－Ｃ間もしくはＣ－Ｎ間に二重結合を有していてもよい。また、Ｒ３、Ｒ５は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。）で表されるアミン化合物；および （Ｂ４）分子内の２つの１級アミノ基間に炭素原子数１または２の炭化水素基を有するアミン化合物； からなる群から選択された少なくとも１種の化合物と、 を含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物（但し、下記一般式（１）で示されるアルキルジアミン構造を含み、アルキルアミン構造の２つの窒素のいずれかに、少なくとも１つのブロック型ポリエーテルが結合された化合物；オキシアルキレン重合体；ポリオキシアルキレン付加物；またはオキシアルキレンの共重合体；である疎水性高分子化合物を含むものを除く）。 【化１】 ［図：0001417602000017.jpg］ （上記一般式（１）において、ｎは１以上の整数である。）」 ＜相違点６（Ａ２）－１＞ 本件発明６は、エーテル結合非含有アミン化合物である「ロールアップアミン化合物Ａ」を含むのに対し、甲Ａ２発明３は、エーテル結合非含有アミン化合物である「２－（２－アミノエチルアミノ）エタノール」を含むものであるが、当該「２－（２－アミノエチルアミノ）エタノール」を「ロールアップ化合物」として用いた認識はない点。 ＜相違点６（Ａ２）－２＞ 本件発明６は「（Ｂ１）の塩基性化合物、（Ｂ２）のアミン化合物、および（Ｂ４）のアミン化合物からなる群から選択された少なくとも１種の化合物であるロールオフ化合物Ｂ」を含むのに対し、甲Ａ２発明３は「水酸化ナトリウム」を含むものの、本件発明６で定義される「ロールオフ化合物Ｂ」に該当する成分を含むものではなく、「ロールオフ化合物」という認識もない点。 ＜相違点６（Ａ２）－３＞ 本件発明６は「ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比（ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂ）が１：３０～３０：１の範囲」であるのに対し、甲Ａ２発明３は、ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比が定かでない点。 事案に鑑み、まず、前記相違点６（Ａ２）－３について検討する。前記相違点６（Ａ２）－１及び相違点６（Ａ２）－２に記載したとおり、甲Ａ２発明３には、ロールアップ化合物やロールオフ化合物といった認識がない。 そうすると、甲Ａ２発明３の「研磨液」が、形式的に、ロールアップ化合物に該当する２－（２－アミノエチルアミノ）エタノールを含み、ロールオフ化合物に該当する水酸化ナトリウムやピペリジンを含むとしても、水酸化ナトリウムやピペリジンを、金属水酸化物やピペリジン以外のロールオフ化合物に代える動機付けはないし、その結果、ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂを１：３０～３０：１の範囲とすることが容易であるともいえない。 また、甲Ａ２の他の記載や甲Ａ１、甲Ａ３～甲Ｂ６の記載を参酌しても、ロールアップ化合物やロールダウン化合物に関する記載はないから、甲Ａ２発明３のロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂを１：３０～３０：１の範囲とする動機付けを見いだすことはできない。 そうすると、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明６は、甲Ａ２発明３及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 エ 本件発明８、９ 本件発明８、９は、本件発明６で特定される事項を全て含むものであるから、前記ウと同じ理由により、甲Ａ２発明３及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （３）甲Ａ３を主たる引用例とする場合 ア 本件発明１ 本件発明１と甲Ａ３発明を対比すると、甲Ａ３発明の「アミノエチルアミノエタノール」は本件発明１の「下記一般式（ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」と「エーテル結合非含有アミン化合物」である点で共通する。 また、甲Ａ３発明は、砥粒を含まないから、本件発明１の「前記砥粒の含有量が２重量％以下である」を充足する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「水と、下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、Ｒｌ、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択される。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒｌ、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、１，６－ヘキサンジアミンを除く）とを含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物。」 ＜相違点１（Ａ３）－１＞ 本件発明１は「砥粒」を含むのに対し、甲Ａ３発明は砥粒を含まない点。 ＜相違点１（Ａ３）－２＞ エーテル結合非含有アミン化合物が、本件発明１は「アミノエチルエタノールアミン」が除かれたものであるのに対し、甲Ａ３発明は「アミノエチルアミノエタノール」である点。 事案に鑑み、まず相違点１（Ａ３）－２について検討する。甲Ａ３発明を認定した甲Ａ３の【００４５】には「用いた研磨液は、ピペラジン、アミノエチルアミノエタノールとＫＯＨの混合溶液である」と記載されているものの、【００４５】以外の記載を見ても、ピペラジン、アミノエチルアミノエタノール、ＫＯＨ以外に、研磨液として如何なる化合物を用い得るのかについての記載や示唆はない。 そうすると、前記（１）アにおける検討と同様に、甲Ａ３発明の「アミノエチルアミノエタノール」を、本件発明１で特定されるような「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」に代えることは、当業者が容易になし得たこととはいえない。 そうすると、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明１は、甲Ａ３発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 イ 本件発明２～５ 本件発明２～５は、本件発明１で特定される事項を全て含むものであるから、前記アと同じ理由により、甲Ａ３発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 ウ 本件発明６ 本件発明６と甲Ａ３発明を対比すると、甲Ａ３発明の「アミノエチルアミノエタノール」と、本件発明６の「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） ・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物であるロールアップアミン化合物Ａ」とは、「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） ・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物」である点で共通する。 甲Ａ３発明の「ピペラジン」と、本件発明６の「（Ｂ２）下記一般式（ｂ２）： Ｒ３－ＮＲ４－Ｒ５ （ｂ２） ・・・で表されるアミン化合物（但し、ピペラジンを除く）・・・から選択された少なくとも１種の化合物であるロールオフ化合物Ｂ」とは、ともに「（Ｂ２）下記一般式（ｂ２）： Ｒ３－ＮＲ４－Ｒ５ （ｂ２） ・・・で表されるアミン化合物・・・から選択された少なくとも１種の化合物」である点で共通する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「水と、 下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、（ｉ）Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である、または、（ｉｉ）Ｒ１とＲ２は、互いに結合して環状構造のアミノアルキル基を形成している。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒ１、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物と、 （Ｂ１）アンモニア、アンモニウム水酸化物およびホスホニウム水酸化物からなる群から選択された少なくとも１種の塩基性化合物； （Ｂ２）下記一般式（ｂ２）： Ｒ３－ＮＲ４－Ｒ５ （ｂ２） （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～１５のアルキル基および１級アミノ基を有していないアミノアルキル基から選択される。ただし、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５のうち少なくとも２つは、水素原子以外の基である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、Ｃ－Ｃ間もしくはＣ－Ｎ間に二重結合を有していてもよい。また、Ｒ３、Ｒ５は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。）で表されるアミン化合物；および （Ｂ４）分子内の２つの１級アミノ基間に炭素原子数１または２の炭化水素基を有するアミン化合物； からなる群から選択された少なくとも１種の化合物と、 を含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物（但し、下記一般式（１）で示されるアルキルジアミン構造を含み、アルキルアミン構造の２つの窒素のいずれかに、少なくとも１つのブロック型ポリエーテルが結合された化合物；オキシアルキレン重合体；ポリオキシアルキレン付加物；またはオキシアルキレンの共重合体；である疎水性高分子化合物を含むものを除く）。 【化１】 ［図：0001417602000018.jpg］ （上記一般式（１）において、ｎは１以上の整数である。）」 ＜相違点６（Ａ３）－１＞ 本件発明６は「砥粒」を含むのに対し、甲Ａ３発明は砥粒を含まない点。 ＜相違点６（Ａ３）－２＞ 本件発明６は、エーテル結合非含有アミン化合物である「ロールアップアミン化合物Ａ」を含むのに対し、甲Ａ３発明は、エーテル結合非含有アミン化合物である「アミノエチルアミノエタノール」を含むものであるが、当該「アミノエチルアミノエタノール」を「ロールアップ化合物」として用いた認識はない点。 ＜相違点６（Ａ３）－３＞ 本件発明６は「（Ｂ１）の塩基性化合物、（Ｂ２）のアミン化合物、および（Ｂ４）のアミン化合物からなる群から選択された少なくとも１種の化合物であるロールオフ化合物Ｂ」を含むのに対し、甲Ａ３発明は「ＫＯＨ」や「ピペリジン」を含むものの、本件発明６で定義される「ロールオフ化合物Ｂ」に該当する成分を含むものではなく、また、ロールオフ化合物についての認識もない点。 ＜相違点６（Ａ３）－４＞ 本件発明６は「ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比（ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂ）が１：３０～３０：１の範囲」であるのに対し、甲Ａ３発明は、ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比が定かでない点。 事案に鑑み、まず、相違点６（Ａ３）－４について検討する。前記相違点６（Ａ３）－２及び相違点６（Ａ３）－３に記載したとおり、甲Ａ３発明には、ロールアップ化合物やロールオフ化合物といった認識がない。 そうすると、甲Ａ３発明の「研磨液」が、形式的に、ロールアップ化合物に該当するアミノエチルアミノエタノールを含み、ロールオフ化合物に該当するＫＯＨやピペリジンを含むとしても、ＫＯＨやピペリジンを、金属水酸化物やピペリジン以外のロールオフ化合物に代える動機付けはないし、その結果、ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂを１：３０～３０：１の範囲とすることが容易であるともいえない。 また、甲Ａ３の他の記載や甲Ａ１、甲Ａ２、甲Ａ４～甲Ｂ６の記載を参酌しても、甲Ａ３発明のロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂを１：３０～３０：１の範囲とする動機付けとなるような記載はない。 そうすると、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明６は、甲Ａ３発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 エ 本件発明８、９ 本件発明８、９は、本件発明６で特定される事項を全て含むものであるから、前記ウと同じ理由により、甲Ａ３発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （４）甲Ａ４を主たる引用例とする場合 ア 本件発明１ 本件発明１と甲Ａ４発明を対比すると、甲Ａ４発明の「コロイダルシリカ粒子」は、本件発明１の「砥粒」に相当する。 甲Ａ４発明の「アミノエチルアミノエタノール」は本件発明１の「下記一般式（ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」と「エーテル結合非含有アミン化合物」である点で共通する。 また、甲Ａ４発明の「コロイダルシリカ粒子」の含有割合は、「３０００ｐｐｍ」であるから、本件発明１の「前記砥粒の含有量が２重量％以下である」を充足する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「砥粒と、水と、下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、Ｒｌ、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択される。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒｌ、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、１，６－ヘキサンジアミンを除く）とを含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物。」 ＜相違点１（Ａ４）＞ エーテル結合非含有アミン化合物が、本件発明１は「アミノエチルエタノールアミン」が除かれたものであるのに対し、甲Ａ４発明は「アミノエチルアミノエタノール」である点。 相違点１（Ａ４）について検討する。甲Ａ４発明を認定した甲Ａ４の【００２７】には「また本発明によれば、前記塩基性低分子化合物は、アンモニア、アルカリ金属元素の水酸化物、アルカリ金属元素またはアルカリ土類金属元素の炭酸塩、第四級アンモニウム塩、第一級アミン、第二級アミンおよび第三級アミンから選ばれる１種または２種以上の化合物であり、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、モノエタノールアミン、アミノエチルエタノールアミン、アミノエチルピペラジン、ピペラジンから選ばれる１種または２種以上の化合物であることが好ましい。」と記載されているものの、「アミノエチルエタノールアミン」以外のジアミン化合物は例示されていない。 そうすると、前記（１）アにおける検討と同様に、甲Ａ４発明の「アミノエチルアミノエタノール」を、本件発明１で特定されるような「下記一般式（ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」に代えることは、当業者が容易になし得たこととはいえない。 そうすると、本件発明１は、甲Ａ４発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 イ 本件発明２～５ 本件発明２～５は、本件発明１で特定される事項を全て含むものであるから、前記アと同じ理由により、甲Ａ４発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 ウ 本件発明６ 本件発明６と甲Ａ４発明を対比すると、甲Ａ４発明の「コロイダルシリカ粒子」は、本件発明６の「砥粒」に相当する。 甲Ａ４発明の「アミノエチルアミノエタノール」と、本件発明６の「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） ・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物であるロールアップアミン化合物Ａ」とは、「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） ・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物」である点で共通する。 また、甲Ａ４発明の「コロイダルシリカ粒子」の含有割合は、「３０００ｐｐｍ」であるから、本件発明６の「前記砥粒の含有量が２重量％以下である」を充足する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「砥粒と、水と、 下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、（ｉ）Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である、または、（ｉｉ）Ｒ１とＲ２は、互いに結合して環状構造のアミノアルキル基を形成している。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒ１、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物と、 を含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物（但し、下記一般式（１）で示されるアルキルジアミン構造を含み、アルキルアミン構造の２つの窒素のいずれかに、少なくとも１つのブロック型ポリエーテルが結合された化合物；オキシアルキレン重合体；ポリオキシアルキレン付加物；またはオキシアルキレンの共重合体；である疎水性高分子化合物を含むものを除く）。 【化１】 ［図：0001417602000019.jpg］ （上記一般式（１）において、ｎは１以上の整数である。）」 ＜相違点６（Ａ４）－１＞ 本件発明６は、エーテル結合非含有アミン化合物である「ロールアップアミン化合物Ａ」を含むのに対し、甲Ａ４発明は、エーテル結合非含有アミン化合物である「アミノエチルエタノールアミン」を含むものであるが、当該「アミノエチルエタノールアミン」を「ロールアップ化合物」として用いた認識はない点。 ＜相違点６（Ａ４）－２＞ 本件発明６は「（Ｂ１）の塩基性化合物、（Ｂ２）のアミン化合物、および（Ｂ４）のアミン化合物からなる群から選択された少なくとも１種の化合物であるロールオフ化合物Ｂ」を含むのに対し、甲Ａ４発明は、本件発明６で定義される「ロールオフ化合物Ｂ」に該当する成分を含むものではなく、また、ロールオフ化合物についての認識もない点。 ＜相違点６（Ａ４）－３＞ 本件発明６は「ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比（ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂ）が１：３０～３０：１の範囲」であるのに対し、甲Ａ４発明は、ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比が定かでない点。 事案に鑑み、まず、相違点６（Ａ４）－３について検討する。前記相違点６（Ａ４）－１及び相違点６（Ａ４）－２で挙げたとおり、甲Ａ４発明には、ロールアップ化合物やロールオフ化合物といった認識がない。 そうすると、甲Ａ４発明の「研磨液」が、形式的に、ロールアップ化合物に該当するアミノエチルアミノエタノールを含むとしても、ロールオフ化合物を添加する動機付けはないし、その結果、ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂを１：３０～３０：１の範囲とすることが容易であるともいえない。 また、甲Ａ４の他の記載や甲Ａ１～甲Ａ３、甲Ａ５～甲Ｂ６の記載を参酌しても、甲Ａ４発明のロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂを１：３０～３０：１の範囲とする動機付けとなるような記載はない。 そうすると、本件発明６は、甲Ａ４発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 エ 本件発明８、９ 本件発明８、９は、本件発明６で特定される事項を全て含むものであるから、前記ウと同じ理由により、甲Ａ４発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （５）甲Ａ５を主たる引用例とする場合 ア 本件発明１ 本件発明１と甲Ａ５発明を対比すると、甲Ａ５発明の「平均粒度が５０ｎｍのコロイダルシリカ（ＳｉＯ２）」は、本件発明１の「砥粒」に相当する。 甲Ａ５発明の「１，６－ヘキサンジアミン」と本件発明１の「下記一般式（ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」とは、ともに「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） ・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物」である点で共通する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「砥粒と、水と、下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、Ｒｌ、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択される。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒｌ、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンを除く）とを含む、研磨用組成物。」 ＜相違点１（Ａ５）－１＞ エーテル結合非含有アミン化合物が、本件発明１は、「１，６－ヘキサンジアミン」が除かれたものであるのに対し、甲Ａ５発明は「１，６－ヘキサンジアミン」である点。 ＜相違点１（Ａ５）－２＞ 砥粒の含有量が、本件発明１は「２重量％以下」であるのに対し、甲Ａ５発明は「２．５ｗｔ％程度（１，６－ヘキサンジアミンを０．００７ｍｏｌ添加しても、添加前とほぼ同じと考えられる。）」である点。 相違点１（Ａ５）－１について検討する。甲Ａ５発明を認定した甲Ａ５の【００１６】～【００１８】には、「研磨能力（研磨速度）を向上するには、アミノ基が多いアミンが好ましい。・・・炭素原子の数が異なるジアミンのキレート性を確認した。確認したアミンは、エチレンジアミン、１，３－プロパンジアミン、１，４－ブタンジアミン、１，５－ペンタンジアミン、１，６－ヘキサンジアミンで確認した。・・・炭素数が増え１，６－ヘキサンジアミンになるとキレート性がなくなり、添加物自体に金属汚染がないことがわかった。・・・」と記載され、列挙された中では１，６－ヘキサンジアミンが好適だとされている。 そうすると、甲Ａ５発明の「１，６－ヘキサンジアミン」を、本件発明１で特定されるような、１，６－ヘキサンジアミンが除かれたエーテル結合非含有アミン化合物に変更することは、当業者が容易になし得たこととはいえない。 そして、本件特許明細書の段落【０１０５】の【表１】に記載されているように、本件発明１の式（ａ）において、Ｒ１＝エチル基、Ｒ２＝水素原子、ｎ＝２であるＮＥＤＡ（Ｎ－エチルエチレンジアミン）を使用した実施例２Ａに記載のように高い研磨レートとロールアップ性能有していることが読み取れる。そして、それにより、本件明細書の段落【０１０６】に記載のように、シリコンウェーハの端面ダレが抑制されるという予測できない効果を奏するものと認められる。 そうすると、本件発明１は、前記相違点１（Ａ５）－２について検討するまでもなく、甲Ａ５発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 イ 本件発明２～５ 本件発明２～５は、本件発明１で特定される事項を全て含むものであるから、前記アと同じ理由により、甲Ａ５発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 ウ 本件発明６ 本件発明６と甲Ａ５発明を対比すると、甲Ａ５発明の「平均粒度が５０ｎｍのコロイダルシリカ（ＳｉＯ２）」は、本件発明６の「砥粒」に相当する。 甲Ａ５発明の「１，６－ヘキサンジアミン」と、本件発明６の「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） ・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物であるロールアップアミン化合物Ａ」とは、ともに「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） ・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物」である点で共通する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「砥粒と、水と、 下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、（ｉ）Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である、または、（ｉｉ）Ｒ１とＲ２は、互いに結合して環状構造のアミノアルキル基を形成している。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒ１、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物と、 を含む、研磨用組成物（但し、下記一般式（１）で示されるアルキルジアミン構造を含み、アルキルアミン構造の２つの窒素のいずれかに、少なくとも１つのブロック型ポリエーテルが結合された化合物；オキシアルキレン重合体；ポリオキシアルキレン付加物；またはオキシアルキレンの共重合体；である疎水性高分子化合物を含むものを除く）。 【化１】 ［図：0001417602000020.jpg］ （上記一般式（１）において、ｎは１以上の整数である。）」 ＜相違点６（Ａ５）－１＞ 本件発明６は、エーテル結合非含有アミン化合物である「ロールアップアミン化合物Ａ」を含むのに対し、甲Ａ５発明は、エーテル結合非含有アミン化合物である「１，６－ヘキサンジアミン」を含むものであるが、当該「１，６－ヘキサンジアミン」を「ロールアップ化合物」として用いた認識はない点。 ＜相違点６（Ａ５）－２＞ 本件発明６は「（Ｂ１）の塩基性化合物、（Ｂ２）のアミン化合物、および（Ｂ４）のアミン化合物からなる群から選択された少なくとも１種の化合物であるロールオフ化合物Ｂ」を含むのに対し、甲Ａ５発明は、本件発明６で定義される「ロールオフ化合物Ｂ」に該当する成分を含むものではなく、また、ロールオフ化合物についての認識もない点。 ＜相違点６（Ａ５）－３＞ 本件発明６は「ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比（ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂ）が１：３０～３０：１の範囲」であるのに対し、甲Ａ５発明は、ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比が定かでない点。 ＜相違点６（Ａ５）－４＞ 砥粒の含有量が、本件発明６は「２重量％以下」であるのに対し、甲Ａ５発明は「２．５ｗｔ％程度（１，６－ヘキサンジアミンを０．００７ｍｏｌ添加しても、添加前とほぼ同じと考えられる。）」である点。 まず、相違点６（Ａ５）－３について検討する。前記相違点６（Ａ５）－１及び相違点６（Ａ５）－２で挙げたとおり、甲Ａ５発明には、ロールアップ化合物やロールオフ化合物といった認識がない。 そうすると、甲Ａ５発明の「研磨液」が、形式的に、ロールアップ化合物に該当する１，６－ヘキサンジアミンを含むとしても、ロールオフ化合物を添加する動機付けはないし、その結果、ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂを１：３０～３０：１の範囲とすることが容易であるともいえない。 また、甲Ａ５の他の記載や甲Ａ１～甲Ａ４、甲Ａ６～甲Ｂ６の記載を参酌しても、甲Ａ５発明のロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂを１：３０～３０：１の範囲とする動機付けとなるような記載はない。 そうすると、本件発明６は、甲Ａ５発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 エ 本件発明８、９ 本件発明８、９は、本件発明６で特定される事項を全て含むものであるから、前記ウと同じ理由により、甲Ａ５発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （６）甲Ａ６を主たる引用例とする場合 ア 本件発明１ 本件発明１と甲Ａ６発明を対比すると、甲Ａ６発明の「砥粒としてコロイダルシリカ」は、本件発明１の「砥粒」に相当する。 甲Ａ６発明の「ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）」及び「水酸化カリウム」と、本件発明１の「下記一般式（ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」とは、ともに「塩基性化合物」である点で共通する。 また、甲Ａ６発明の「コロイダルシリカ」の含有割合は、「１．２質量％」であるから、本件発明１の「前記砥粒の含有量が２重量％以下である」を充足する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「砥粒と、水と、塩基性化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）とを含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物。」 ＜相違点１（Ａ６）－１＞ 塩基性化合物が、本件発明１は、「下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、Ｒｌ、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択される。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒｌ、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物」であるのに対し、甲Ａ６発明は「ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）」及び「水酸化カリウム」である点。 相違点１（Ａ６）－１について検討する。甲Ａ６発明を認定した甲Ａ６の［請求項１］には、研磨用組成物に添加される塩基性化合物について、「下記の一般式（１）で表される環状化合物、下記の一般式（２）で表されるイオン性化合物、及び下記の一般式（３）で表される環状ジアミン化合物のうちの少なくとも１種」と記載されており、本件発明１の「下記一般式（ａ）」で特定される化合物と重複するものはない。また、甲Ａ６発明の「塩基性化合物」を、本件発明１の「下記一般式（ａ）」に含まれるような環状ではないジアミン化合物とすることも、そのようにする動機付けがないことから、当業者が容易になし得たこととはいえない。 そうすると、本件発明１は、甲Ａ６発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 イ 本件発明２～５ 本件発明２～５は、本件発明１で特定される事項を全て含むものであるから、前記アと同じ理由により、甲Ａ６発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 ウ 本件発明６ 本件発明６と甲Ａ６発明を対比すると、前記アと同様の対比ができるから、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「砥粒と、水と、 塩基性化合物と、 を含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下であるむ、研磨用組成物（但し、下記一般式（１）で示されるアルキルジアミン構造を含み、アルキルアミン構造の２つの窒素のいずれかに、少なくとも１つのブロック型ポリエーテルが結合された化合物；オキシアルキレン重合体；ポリオキシアルキレン付加物；またはオキシアルキレンの共重合体；である疎水性高分子化合物を含むものを除く）。 【化１】 ［図：0001417602000021.jpg］ （上記一般式（１）において、ｎは１以上の整数である。）」 ＜相違点６（Ａ６）－１＞ 本件発明６は、「ロールアップアミン化合物Ａ」及び「ロールオフ化合物Ｂ」を含むのに対し、甲Ａ６発明は、「ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）」及び「水酸化カリウム」を含むものであるが、これらを「ロールアップ化合物」や「ロールオフ化合物」として用いた認識はない点。 ＜相違点６（Ａ６）－２＞ 本件発明６は「ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比（ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂ）が１：３０～３０：１の範囲」であるのに対し、甲Ａ６発明は、ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比が定かでない点。 これらの相違点について検討する。前記相違点６（Ａ６）－１のとおり、甲Ａ６発明には、ロールアップ化合物やロールオフ化合物といった認識がない。 そうすると、甲Ａ６発明の「研磨液」が、形式的に、ロールアップ化合物やロールオフ化合物に該当する成分を含むとしても、ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂを１：３０～３０：１の範囲とすることが容易であるとはいえない。 また、甲Ａ６の他の記載や甲Ａ１～甲Ａ５、甲Ａ７～甲Ｂ６の記載を参酌しても、甲Ａ５発明のロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂを１：３０～３０：１の範囲とする動機付けとなるような記載はない。 そうすると、本件発明６は、甲Ａ６発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 エ 本件発明８、９ 本件発明８、９は、本件発明６で特定される事項を全て含むものであるから、前記ウと同じ理由により、甲Ａ６発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （７）甲Ｂ３を主たる引用例とする場合 ア 本件発明１ 本件発明１と甲Ｂ３発明を対比すると、甲Ｂ３発明の「２ｗｔ％のアルミナ」は本件発明１の「砥粒」及び「砥粒の含有量が２重量％以下」に相当する。 また、甲Ｂ３発明の「アミノエチルエタノールアミン」は本件発明１の「下記一般式（ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」と「エーテル結合非含有アミン化合物」である点で共通する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「砥粒と、水と、下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、Ｒｌ、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択される。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒｌ、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、１，６－ヘキサンジアミンを除く）とを含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物。」 ＜相違点１（Ｂ３）－１＞ エーテル結合非含有アミン化合物が、本件発明１は「アミノエチルエタノールアミン」が除かれたものであるのに対し、甲Ａ３発明は「アミノエチルエタノールアミン」である点。 甲Ｂ３発明を認定した甲Ｂ３の【００２０】には「好ましい少なくとも１種の研磨添加剤は、・・・最も好ましくは、窒素含有化合物は、ポリエチレンイミン、１，３－ジアミノー２－プロパノール、イミノージ－酢酸、２－アミノー１－ブタノール、エチレンジアミン、アミノエチルエタノールアミン、２，２’－アミノエトキシ－エタノール、及びそれらの混合からなる群より選択される。」と記載されているものの、本件発明１の「下記一般式（ａ）」に該当する化合物は挙げられていない。 そうすると、前記（１）アにおける検討と同様、甲Ｂ３発明の「アミノエチルアミノエタノール」を、本件発明１で特定されるような「下記一般式（ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」に代えることは、当業者が容易になし得たこととはいえない。 そうすると、本件発明１は、甲Ｂ３発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 イ 本件発明２～５ 本件発明２～５は、本件発明１で特定される事項を全て含むものであるから、前記アと同じ理由により、甲Ｂ３発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 ウ 本件発明６ 本件発明６と甲Ｂ３発明を対比すると、前記アの相当関係に加え、甲Ｂ３発明の「水酸化アンモニウム（ＮＨ４ＯＨ）」が本件発明６の「（Ｂ１）アンモニア、アンモニウム水酸化物、ホスホニウム水酸化物および金属水酸化物からなる群から選択された少なくとも１種の塩基性化合物」に相当する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「砥粒と、水と、 下記一般式（ａ）： Ｒ１－Ｎ（Ｒ２）－（ＣＨ２）ｎ－ＮＨ２ （ａ） （式中、（ｉ）Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である、または、（ｉｉ）Ｒ１とＲ２は、互いに結合して環状構造のアミノアルキル基を形成している。ｎは１～１５の整数である。ただし、Ｒ１、Ｒ２の両方が水素原子の場合、ｎは３～１５の整数である。）で表されるエーテル結合非含有アミン化合物と、 （Ｂ１）アンモニア、アンモニウム水酸化物およびホスホニウム水酸化物からなる群から選択された少なくとも１種の塩基性化合物； （Ｂ２）下記一般式（ｂ２）： Ｒ３－ＮＲ４－Ｒ５ （ｂ２） （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～１５のアルキル基および１級アミノ基を有していないアミノアルキル基から選択される。ただし、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５のうち少なくとも２つは、水素原子以外の基である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、Ｃ－Ｃ間もしくはＣ－Ｎ間に二重結合を有していてもよい。また、Ｒ３、Ｒ５は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。）で表されるアミン化合物（但し、ピペラジンを除く）；および （Ｂ４）分子内の２つの１級アミノ基間に炭素原子数１または２の炭化水素基を有するアミン化合物； からなる群から選択された少なくとも１種の化合物と、 を含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物（但し、下記一般式（１）で示されるアルキルジアミン構造を含み、アルキルアミン構造の２つの窒素のいずれかに、少なくとも１つのブロック型ポリエーテルが結合された化合物；オキシアルキレン重合体；ポリオキシアルキレン付加物；またはオキシアルキレンの共重合体；である疎水性高分子化合物を含むものを除く）。 【化１】 ［図：0001417602000022.jpg］ （上記一般式（１）において、ｎは１以上の整数である。）」 ＜相違点６（Ｂ３）－１＞ 本件発明６は、エーテル結合非含有アミン化合物である「ロールアップアミン化合物Ａ」を含むのに対し、甲Ｂ３発明は、エーテル結合非含有アミン化合物である「アミノエチルアミノエタノール」を含むものであるが、当該「アミノエチルアミノエタノール」を「ロールアップ化合物」として用いた認識はない点。 ＜相違点６（Ｂ３）－２＞ 本件発明６は「（Ｂ１）の塩基性化合物、（Ｂ２）のアミン化合物、および（Ｂ４）のアミン化合物からなる群から選択された少なくとも１種の化合物であるロールオフ化合物Ｂ」を含むのに対し、甲Ｂ３発明は「水酸化アンモニウム（ＮＨ４ＯＨ）」を含むものの、当該「水酸化アンモニウム（ＮＨ４ＯＨ）」をロールオフ化合物として用いた認識はない点。 ＜相違点６（Ｂ３）－３＞ 本件発明６は「ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比（ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂ）が１：３０～３０：１の範囲」であるのに対し、甲Ｂ３発明は、ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比が定かでない点。 事案に鑑み、まず、相違点６（Ｂ３）－３について検討する。前記相違点６（Ｂ３）－１及び相違点６（Ｂ３）－２に記載したとおり、甲Ｂ３発明には、ロールアップ化合物やロールオフ化合物といった認識がない。 そうすると、甲Ｂ３発明の「研磨液」が、形式的に、ロールアップ化合物に該当するアミノエチルアミノエタノールを含み、ロールオフ化合物に該当する「水酸化アンモニウム（ＮＨ４ＯＨ）」を含むとしても、ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂを１：３０～３０：１の範囲とすることが容易であるとはいえない。 また、甲Ｂ３の他の記載や甲Ａ１～甲Ｂ２、甲Ｂ４～甲Ｂ６の記載を参酌しても、甲Ｂ３発明のロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂを１：３０～３０：１の範囲とする動機付けとなるような記載はない。 そうすると、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明６は、甲Ｂ３発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 エ 本件発明８、９ 本件発明８、９は、本件発明６で特定される事項を全て含むものであるから、前記ウと同じ理由により、甲Ｂ３発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 第６ 取消理由で採用しなかった申立理由についての当審の判断 １ 甲Ｂ１を主たる引用例とする新規性及び進歩性（前記第４の２（１）参照。） 前記第４の２（２）にも記載したとおり、甲Ｂ１は甲Ａ２と同じであるから、前記第５の２（２）と同じ理由により、本件発明１～９は、甲Ｂ１発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 ２ 甲Ｂ４を主たる引用例とする新規性及び進歩性（前記第４の２（１）参照。） （１）本件発明１ 本件発明１と甲Ｂ４発明を対比すると、甲Ｂ４発明の「砥粒としてコロイダルシリカを０．７５％」は本件発明１の「砥粒」及び「砥粒の含有量が２重量％以下」に相当する。 また、甲Ｂ４発明の「エチレンジアミン」は本件発明１の「下記一般式（ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」と「エーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）」である点で共通する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「砥粒と、水と、 エーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く）とを含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物。」 ＜相違点１（Ｂ４）－１＞ エーテル結合非含有アミン化合物が、本件発明１は「下記一般式（ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物（但し、アミノエチルエタノールアミンおよび１，６－ヘキサンジアミンを除く」であるのに対し、甲Ａ３発明は「エチレンジアミン」である点。 前記相違点について検討すると、甲Ｂ４発明を認定した甲Ｂ４の【００９５】には、実施例２３の説明として「実施例２３はアルカリとしてエチレンジアミンを少量添加して研磨した。ややディッシングが大きくなる。プロセスによってはある程度のディッシングが必要な場合もあり、この場合にはエチレンジアミンを添加することが有効になる。」と記載されている。 そうすると、甲Ｂ４発明の【００３８】に「本発明の研磨組成物には性能、物性に悪影響を及ぼさない範囲で、アルカリを含有させることが出来る。・・・このようなアルカリとしては、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、ｔ-ブチルアミン、アミルアミン、アリルアミン、２-エチルヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、フルフリルアミン、テトラヒドロフルフリルアミンなどのアルキルモノアミン、Ｏ-アミノフェノール、エタノールアミン、３-アミノ-１-プロパノール、２-アミノ-１-プロパノールなどのヒドロキシル基を有するモノアミン、エチレンジアミン、１，２-プロピレンジアミン、１，３-プロピレンジアミン、Ｏ-フェニレンジアミン、トリメチレンジアミン、２-メチル-２-（２-ベンジルチオエチル）エチレンジアミン、１，５-ジアミノ-３-ペンタノール、１，３-ジアミノ-２-プロパノール、キシレンジアミン、ビスアミノプロピルポリアルキレンエーテルなどのジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、２，２-ジアミノジｎ-プロピルアミン、ポリアリルアミン、ポリエチレンイミンなどのポリアミンが挙げられる。」と記載され、その中に「１，３-プロピレンジアミン」や「トリメチレンジアミン」が挙げられていたとしても、甲Ｂ４発明の「エチレンジアミン」を「トリメチレンジアミン」に代える動機付けはなく、代えることが容易であるともいえない。 してみると、本件発明１は、甲Ｂ４発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （２）本件発明２～５ 本件発明２～５は、本件発明１で特定される事項を全て含むものであるから、前記（１）と同じ理由により、甲Ｂ４発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （３）本件発明６ 本件発明６と甲Ｂ４発明を対比すると、前記アの相当関係に加え、甲Ｂ４発明の「アンモニア」が本件発明６の「（Ｂ１）アンモニア、アンモニウム水酸化物、ホスホニウム水酸化物および金属水酸化物からなる群から選択された少なくとも１種の塩基性化合物」に相当する。 そうすると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。 ＜一致点＞ 「砥粒と、水と、 エーテル結合非含有アミン化合物と、 （Ｂ１）アンモニア、アンモニウム水酸化物およびホスホニウム水酸化物からなる群から選択された少なくとも１種の塩基性化合物； （Ｂ２）下記一般式（ｂ２）： Ｒ３－ＮＲ４－Ｒ５ （ｂ２） （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～１５のアルキル基および１級アミノ基を有していないアミノアルキル基から選択される。ただし、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５のうち少なくとも２つは、水素原子以外の基である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、Ｃ－Ｃ間もしくはＣ－Ｎ間に二重結合を有していてもよい。また、Ｒ３、Ｒ５は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。）で表されるアミン化合物（但し、ピペラジンを除く）；および （Ｂ４）分子内の２つの１級アミノ基間に炭素原子数１または２の炭化水素基を有するアミン化合物； からなる群から選択された少なくとも１種の化合物と、 を含み、 前記砥粒の含有量が２重量％以下である、研磨用組成物（但し、下記一般式（１）で示されるアルキルジアミン構造を含み、アルキルアミン構造の２つの窒素のいずれかに、少なくとも１つのブロック型ポリエーテルが結合された化合物；オキシアルキレン重合体；ポリオキシアルキレン付加物；またはオキシアルキレンの共重合体；である疎水性高分子化合物を含むものを除く）。 【化１】 ［図：0001417602000023.jpg］ （上記一般式（１）において、ｎは１以上の整数である。）」 ＜相違点６（Ｂ４）－１＞ 本件発明６は、「下記一般式（ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物」である「ロールアップアミン化合物Ａ」を含むのに対し、甲Ｂ４発明は、エーテル結合非含有アミン化合物である「エチレンジアミン」を含むものであるが、当該「エチレンジアミン」は「下記一般式（ａ）・・・で表されるエーテル結合非含有アミン化合物」に該当せず、また、「エチレンジアミン」を「ロールアップ化合物」として用いた認識はない点。 ＜相違点６（Ｂ４）－２＞ 本件発明６は「（Ｂ１）の塩基性化合物、（Ｂ２）のアミン化合物、および（Ｂ４）のアミン化合物からなる群から選択された少なくとも１種の化合物であるロールオフ化合物Ｂ」を含むのに対し、甲Ｂ４発明は「アンモニア」を含むものの、当該「アンモニア」をロールオフ化合物として用いた認識はない点。 ＜相違点６（Ｂ４）－３＞ 本件発明６は「ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比（ロールアップアミン化合物Ａ：ロールオフ化合物Ｂ）が１：３０～３０：１の範囲」であるのに対し、甲Ｂ４発明は、ロールアップアミン化合物Ａおよびロールオフ化合物Ｂのモル濃度の比が定かでない点。 事案に鑑み、まず、相違点６（Ｂ４）－１について検討する。前記アで検討したとおり、甲Ｂ４発明の「エチレンジアミン」を「トリメチレンジアミン」に代える動機付けはなく、代えることが容易であるともいえない。 そうすると、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明６は、甲Ｂ４発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （４）本件発明８、９ 本件発明８、９は、本件発明６で特定される事項を全て含むものであるから、前記（３）と同じ理由により、甲Ｂ４発明及び甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 ３ 甲Ｂ５又は甲Ｂ６を主たる引用例とする新規性及び進歩性（前記第４の２（１）参照。） 前記第４の２（２）にも記載したとおり、甲Ｂ５は甲Ａ３と同じであり、甲Ｂ６は甲Ａ５と同じであるから、前記第５の２（３）及び（５）と同じ理由により、本件発明１～９は、甲Ｂ５発明又は甲Ｂ６発明、並びに甲Ａ１～甲Ｂ６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 ４ 申立理由Ａ３（サポート要件）（前記第４の１（１）ウ参照。） （１）申立人の主張 申立人Ａは、特許異議申立書４８頁下から７行～５３頁８行において、概略次の主張をしている。 ア 請求項１～５について 請求項１では、「エーテル結合非含有アミン」が一般式(a)によって特定されているが、発明の詳細な説明からは、この一般式(a)に含まれるあらゆる化合物がエッジロールオフ量を低減する効果を有するとは認識できない。 一般式(a)において、Ｒｌ、Ｒ２の両方が水素原子の場合について、ｎが６の１，６－ジアミノヘキサンの場合にエッジロールオフ低減効果が得られる一方、ｎが２のエチレンジアミンでは効果が得られなかったことが記載されているが、この２つの例だけでは、ｎが３～５、７～１５の整数の場合の全ての範囲で、エッジロールオフ量を低減する効果が得られることが明らかとはいえない。 また、一般式(a)において、Ｒｌ、Ｒ２の少なくとも一方が水素原子以外である場合について、ｎが２のＮ－エチルエチレンジアミン及び２－（２－アミノエチルアミノ）エタノールの場合にエッジロールオフ低減効果が得られることが記載されているが、ｎが１、３～１５の整数の場合の全ての範囲で、エッジロールオフ量を低減する効果が得られることが明らかとはいえない。 イ 請求項６～９について 請求項６では、「ロールアップアミン化合物Ａ」が一般式(a)によって特定されているが、発明の詳細な説明からは、この一般式(a)に含まれるあらゆる化合物がエッジロールアップを生じさせる作用を有するとは認識できない。同様に、「ロールオフ化合物Ｂ」が（Ｂ１）、（Ｂ２）及び（Ｂ４）からなる群から選択された化合物であることが特定されているが、発明の詳細な説明からは、これら（Ｂ１）、（Ｂ２）及び（Ｂ４）からなる群から選択されたあらゆる化合物がエッジロールオフを生じさせる作用を有するとは認識できない。 （２）判断 前記（１）アについて、本件特許の明細書の【０１０５】の【表１】には、一般式(a)によって特定されるエーテル結合非含有アミンに該当するＤＡＨ（１，６－ジアミノヘキサン）、ＮＥＤＡ（Ｎ－エチルエチレンジアミン）及びＡＥＡＥ（２－（２－アミノエチルアミノ）エタノール）について、エッジロールオフ低減効果が得られることが記載されているから、本件発明１が課題を解決できないものとはいえない。 また、前記（２）イについても同様に、本件特許の明細書の【０１０８】の【表２】には、ロールアップアミン化合物ＡとしてＮＥＤＡ（Ｎ－エチルエチレンジアミン）、ＡＥＡＥ（２－（２－アミノエチルアミノ）エタノール）、ＡＥＰ（Ｎ－（２－アミノエチル）ピペラジン）が記載され、同【０１０９】の【表３】には、ロールオフ化合物Ｂとしてｅｎ（エチレンジアミン）、ＴＥＡ（トリエチルアミン）、ＤＥＡ（ジエチルアミン）等が記載されており、ロールアップアミン化合物Ａとロールオフ化合物Ｂを組み合わせることで、エッジ近傍と中央部とで厚み差が少ない平坦性のよい研磨後表面を実現し得るとの課題を解決できることを理解できるものである。 申立人の主張は、一般式(a)によって特定されるエーテル結合非含有アミンの中に、課題を解決できないものが含まれている可能性を指摘するものにすぎず、具体的に課題が解決できないことを示したものではないから、採用できない。 ５ 申立理由Ａ４（明確性要件）（前記第４の１（１）エ参照。） （１）申立人の主張 申立人Ａは、特許異議申立書５３頁９行～同頁下から２行において、本件特許の明細書の段落【００５６】には、分子内の２つの１級アミノ基間に炭素原子数１または２の炭化水素基を有するアミン化合物Ｂ４の具体例として、メチレンジアミン、エチレンジアミン、１－メチルエチレンジアミン、１－エチルエチレンジアミン・・・等が例示される。・・・」と記載されているが、字句どおりに解釈すれば、例えば１－メチルエチレンジアミンは、「分子内の２つの１級アミノ基間に存在する炭素原子数」は３であるから、請求項６の「（Ｂ４）分子内の２つの１級アミノ基間に炭素原子数１または２の炭化水素基を有するアミン化合物」との記載は明確でない。１，２－ジアミノシクロヘキサンについても同様である、との趣旨の主張をしている。 （２）判断 請求項６の「分子内の２つの１級アミノ基間に炭素原子数１または２の炭化水素基を有する」の意味は、ＮとＮがいくつのＣを経由して連結しているかという趣旨であって、側鎖のＣの数を含まないことが明らかであるから、１－メチルエチレンジアミンは、「分子内の２つの１級アミノ基間に炭素原子数１または２の炭化水素基を有するアミン化合物」に該当することが明らかである。 また、１，２－ジアミノシクロヘキサンも、ＮとＮが２つのＣ又は４つのＣを経由して連結しているものであるから、「分子内の２つの１級アミノ基間に炭素原子数１または２の炭化水素基を有するアミン化合物」に該当することが明らかである。 そうすると、請求項６の当該記載は明確であるから、申立人の主張は採用できない。 第７ むすび 以上のとおりであるから、取消理由通知書に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載された特許異議の申立ての理由によっては、本件訂正後の請求項１～６、８、９に係る特許を取り消すことはできない。 また、他にこれらの特許を取り消すべき理由を発見しない。 そして、請求項７は、本件訂正により削除され、当該請求項に係る特許異議の申立ては、その対象が存在しないものとなったため、特許法第１２０条の８第１項で準用する同法第１３５条の規定により却下する。 よって、結論のとおり決定する。