2023-700243

特許第７１３０８９３号発明「防汚層付き光学フィルム」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７１３０８９３号の請求項１～６に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第７１３０８９３号（以下「本件特許」という。）の請求項１～６に係る特許についての出願は、令和３年７月１３日（優先権主張 令和２年７月１３日、同年８月３１日、同年１０月１日）を国際出願日とする出願であって、令和４年８月２６日にその特許権の設定登録（特許掲載公報発行：令和４年９月５日）がされ、その後、その特許について、令和５年３月３日に特許異議申立人山本新（以下「申立人」という。）により特許異議の申立てがされたものである。 第２ 本件特許発明 本件特許の請求項１～６に係る発明は、特許請求の範囲の請求項１～６に記載された事項により特定される、次のとおりのものである（以下、各発明を「本件発明１」のようにいい、総称して「本件発明」ともいう。）。 「【請求項１】 基材層と、無機層からなる光学機能層と、防汚層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、 前記基材層が、基材と、ハードコート層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、 前記防汚層の表面粗さＲａが、５．０１ｎｍ以下であり、 前記ハードコート層の厚み方向一方面の表面粗さＲａが、１．２ｎｍ以上５．０ｎｍ以下であり、 前記防汚層の厚み方向一方面の水接触角が、１１０°以上であり、 第１耐久性試験により求められる防汚層の水接触角が、８３°以上である、防汚層付き光学フィルム。 第１耐久性試験：防汚層について、以下の条件に基づき、第１消しゴム摺動試験を実施する。第１消しゴム摺動試験を実施した後、防汚層の純水に対する水接触角を測定する。 ＜第１消しゴム摺動試験＞ Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ） 摺動距離：片道１００ｍｍ 摺動速度：１００ｍｍ／秒 荷重：１ｋｇ／６ｍｍΦ 摺動回数：３０００回 【請求項２】 第２耐久性試験により求められる防汚層の水接触角の変化量が、５°以下である、請求項１に記載の防汚層付き光学フィルム。 第２耐久性試験：防汚層の純水に対する第１水接触角を測定する。次いで、防汚層について、以下の条件に基づき、第２消しゴム摺動試験を実施する。第２消しゴム摺動試験を実施した後、防汚層の純水に対する第２水接触角を測定する。次いで、下記式（１）に基づき、水接触角の変化量を算出する。 水接触角の変化量＝第１水接触角－第２水接触角 （１） ＜第２消しゴム摺動試験＞ Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ） 摺動距離：片道１００ｍｍ 摺動速度：１００ｍｍ／秒 荷重：１ｋｇ／６ｍｍΦ 摺動回数：１０回 【請求項３】 前記光学機能層が反射防止層である、請求項１または２に記載の防汚層付き光学フィルム。 【請求項４】 前記反射防止層が、相対的に屈折率が大きな高屈折率層と、相対的に屈折率が小さな低屈折率層とを交互に有する、請求項３に記載の防汚層付き光学フィルム。 【請求項５】 前記ハードコート層が、金属酸化物微粒子を含む、請求項４に記載の防汚層付き光学フィルム。 【請求項６】 前記金属酸化物微粒子が、ナノシリカ粒子である、請求項５に記載の防汚層付き光学フィルム。」 第３ 特許異議の申立てについて １．特許異議の申立理由の概要 申立人は、次の甲第１号証～甲第５号証（以下「甲１」～「甲５」という。）を提出して、以下の理由を申立てている。 甲１：特開２０２０－６０６５７号公報 甲２：特開２０２０－５２２２１号公報 甲３：特開２０１７－２２７８９８号公報 甲４：国際公開第２０１９／２０８７８６号 甲５：国際公開第２０１４／１２９３３３号 （１）新規性、進歩性に係る申立理由 本件発明１～６は、以下ア、イに示す理由により、特許法第２９条第１項第３号又は同条第２項の規定に違反し、それらの特許は特許法第１１３条第２号に該当する。 ア 本件発明１～４は、甲１に記載された発明である。 イ 本件発明１～６は、甲３に記載された発明並びに甲４又は甲５の技術的事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。 （２）サポート要件に係る申立理由 本件発明は、以下に示す理由により、発明の詳細な説明において発明の課題を解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものであるから、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしておらず、それらの特許は特許法第１１３条第４号に該当する。 本件発明１においては、防汚層付き光学フィルムの層構成、防汚層の表面粗さ、防汚層の水接触角、及び第１耐久性試験により求められる防汚層の水接触角が規定されているものの、これらは防汚層の構成成分に大きく依存する。しかしながら、本件発明１においては、防汚層の構成成分は、何ら規定されていない。 したがって、本件発明１及び本件発明１を引用する本件発明２～６は、発明の詳細な説明に記載された、発明の課題を解決するための手段が反映されていないため、発明の詳細な説明に記載した範囲を超えて特許を請求するものである。 ２．サポート要件に係る申立理由についての判断 事案に鑑み、サポート要件に係る申立理由より検討する。 本件発明の解決しようとする課題は、本件明細書の記載によれば、 「防汚層に付着した汚れを拭き取った後でも、防汚層の防汚性の低下を抑制できる防汚層付き光学フィルムを提供すること」（段落【０００６】）である。 この課題の解決に関し、発明の詳細な説明には次の記載がある。 「【００８３】 また、防汚層５の水接触角（後述する第１水接触角と同義）は、１１０°以上、好ましくは、１１４°以上、より好ましくは、１１７°以上、さらに好ましくは、１１９°以上、また、例えば、１３０°以下である。 【００８４】 防汚層５の水接触角が、上記下限以上であれば、防汚層５の防汚性を向上できる。」 「【００８９】 また、防汚層５の摺動後の水接触角は、８３°以上、好ましくは、９０°以上、より好ましくは、９５°以上、さらに好ましくは、１００°以上である。 【００９０】 摺動後の水接触角は、第１耐久性試験により求められる。第１耐久性試験では、防汚層５について、所定の条件に基づき、第１消しゴム摺動試験を実施する。第１消しゴム摺動試験を実施した後、防汚層５の純水に対する摺動後の水接触角を測定する。なお、第１耐久性試験については、より詳しくは、後述する実施例で説明する。 【００９１】 表面粗さＲａ、および、摺動後の水接触角が、上記した所定の範囲であれば、防汚層５に付着した汚れを拭き取った後でも、防汚層５の防汚性の低下を抑制できる（防汚耐久性に優れる。）。」 そして、防汚層の材料と形成方法を変えた実施例と比較例により、 「【０１６４】 摺動後の水接触角が、８３°以上であり、防汚層の厚み方向一方面の水接触角（第１接触角）が、１１０°以上である実施例１、比較例３、実施例３、比較例４および実施例５は、摺動後の水接触角が、８０°であり、防汚層の厚み方向一方面の水接触角（第１接触角）が、１０９．４°である比較例２に比べて、防汚性に優れる。このことから、防汚層の摺動後の水接触角が、８３°以上、かつ、防汚層の厚み方向一方面の水接触角（第１接触角）が、１１０°以上であれば、防汚層に付着した汚れを拭き取った後でも、防汚層の防汚性の低下を抑制できるとわかる。具体的には、数千回程度の拭き取り（摺動）に対して、実用レベルの防汚性を維持できる実用性を確保することができるとわかる。」との効果の確認もされている。 そうすると、本件発明は、「防汚層の厚み方向一方面の水接触角が、１１０°以上であり」、「第１耐久性試験により求められる防汚層の水接触角が、８３°以上である」防汚層付き光学フィルムを備えることにより、「防汚層に付着した汚れを拭き取った後でも、防汚層の防汚性の低下を抑制できる防汚層付き光学フィルムを提供する」という課題を解決することができ、本件発明は、発明の詳細な説明において発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものではない。 よって、申立人のサポート要件に係る申立理由には理由がない。 ３．新規性、進歩性に係る申立理由についての判断 （１）引用例の記載事項、引用発明 ア 甲１の記載事項、甲１発明 「【００９１】 比較例２ ハードコート層（ＨＣ層、厚み６μｍ）付きトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム、厚み８０μｍ）を用意した。このＴＡＣフィルムをロールトゥロール方式のスパッタ製膜装置に導入し、ＴＡＣフィルムを走行させながら、ハードコート層にボンバード処理（Ａｒガスによるプラズマ処理）を実施した。その後、密着層として３．５ｎｍのＳｉ層をハードコート層の上面に形成し、続いて、表１に示すようにＮｂ２Ｏ５層とＳｉＯ２層とを交互に形成した。次いで、実施例１と同様にして、反射防止層の上面に防汚層を形成した。これにより、比較例２の反射防止フィルムを製造した。」 「【００９７】 ［図：0001402784000001.jpg］ 」 特に甲１の比較例２の記載に着目すると、甲１には、次の「甲１発明」が記載されている。 「ハードコート層付きトリアセチルセルロースフィルムの上に、密着層として３．５ｎｍのＳｉ層をハードコート層の上面に形成し、続いて、Ｎｂ２Ｏ５層とＳｉＯ２層とを交互に形成した反射防止層、表面粗さＲａが１．２６ｎｍである防汚層を順に備える、反射防止フィルム。」 イ 甲２の記載事項 「【００１７】 ［反射防止フィルム］ 反射防止フィルム１０は、フィルム基材１の第一主面上に、最表面層として防汚層４を備え、フィルム基材１と防汚層４の間に反射防止層３を備える。フィルム基材１の第一主面上にはハードコート層２が設けられていてもよい。」 「【００４２】 反射防止層３および防汚層４は厚みが小さいため、防汚層４の表面には、ハードコート層２の表面形状を反映した凹凸形状が形成されやすい。そのため、防汚層４の表面の算術平均粗さを上記範囲とするためには、ハードコート層２に粒子を含有させて表面凹凸を形成することが好ましい。また、ハードコート層２に真空プラズマ処理等の表面処理を施すことにより表面形状を調整してもよい。」 ウ 甲３の記載事項、甲３発明 「【００１６】 図１の反射防止フィルム１００は、透明フィルム基材１上に、密着性向上層３を介して反射防止層５が設けられている。反射防止層は、２層以上の薄膜の積層体であり、図１では、４層の薄膜５１，５２，５３，５４の積層体からなる反射防止層５が図示されている。 【００１７】 ＜透明フィルム基材＞ 透明フィルム基材１は、可撓性の透明フィルム１０を含む。透明フィルム１０の反射防止層５形成面側には、ハードコート層１１が設けられていることが好ましい。」 「【００３０】 透明フィルム基材１の反射防止層５形成面側の表面の算術平均粗さＲａは、１．５ｎｍ以下が好ましく、１．０ｎｍ以下がより好ましい。透明フィルム１０上にハードコート層１１が形成されている場合は、ハードコート層１１の算術平均粗さが、透明フィルム１０の反射防止層５形成面側の表面の算術平均粗さとなる。算術平均粗さＲａは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いた１μｍ四方の観察像から求められる。」 「【００３６】 反射防止層は、低屈折率層と高屈折率層との交互積層体であることが好ましい。空気界面での反射を低減するために、反射防止層の最表面層（透明フィルム基材１と反対側の面）として設けられる薄膜５４は、低屈折率層であることが好ましい。低屈折率層および高屈折率層の材料としては、上記のように酸化物が好ましい。中でも、反射防止層５は、低屈折率層としての酸化シリコン（ＳｉＯ２）薄膜５２，５４と、高屈折率層としての酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）薄膜５１，５３との交互積層体であることが好ましい。」 「【００５７】 外部環境からの汚染防止や、付着した汚染物質の除去を容易とするために、反射防止層５の表面には防汚層７が設けられることが好ましい。汚染防止性および汚染物質の除去性を高めるために、防汚層７の純水接触角は、１００°以上が好ましく、１０２°以上がより好ましく、１０５°以上がさらに好ましい。純水接触角は、汚染防止層の表面に直径２ｍｍ以下の水滴を形成してその接触角を測定することにより求められる。」 「【００６０】 反射防止層５が有する耐擦傷性等の機械強度を維持するために、防汚層７も、反射防止層５と同様、表面の算術平均粗さＲａが小さいことが好ましい。防汚層７表面の算術平均粗さ（すなわち反射防止フィルム表面の算術平均粗さ）は、３ｎｍ以下が好ましく、２ｎｍ以下がより好ましく、１．８ｎｍ以下がさらに好ましく、１．５ｎｍ以下が特に好ましく、１．３ｎｍ以下が最も好ましい。反射防止フィルム表面の算術平均粗さが１．５ｎｍ以下であれば、指紋拭き取り性が向上する傾向がある。」 「【図１】 ［図：0001402784000002.jpg］ 」 甲３には、特に図１の形態について次の「甲３発明」が記載されている。 「透明フィルム、ハードコート層、低屈折率層としての酸化シリコン（ＳｉＯ２）薄膜と高屈折率層としての酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）薄膜の交互積層体である反射防止層、防汚層の順に形成され、 前記ハードコート層の算術平均粗さＲａは、１．５ｎｍ以下が好ましく、１．０ｎｍ以下がより好ましく、 前記防汚層の純水接触角は、１００°以上が好ましく、１０２°以上がより好ましく、１０５°以上がさらに好ましく、 前記防汚層表面の算術平均粗さＲａは、３ｎｍ以下が好ましく、２ｎｍ以下がより好ましく、１．８ｎｍ以下がさらに好ましく、１．５ｎｍ以下が特に好ましく、１．３ｎｍ以下が最も好ましい、 反射防止フィルム。」 エ 甲４の記載事項 「［００２６］＜＜＜光学フィルム＞＞＞ 図１に示される光学フィルム１０は、光透過性を有するものであり、樹脂基材１１と、樹脂基材１１の一方の面である第１の面１１Ａ側に設けられた機能層１２とを備えている。本明細書における「機能層」とは、光学フィルムにおいて、何らかの機能を発揮することを意図された層である。具体的には、機能層としては、例えば、ハードコート機能、防汚機能、および／または滑り機能を発揮するための層が挙げられる。機能層は、単層構造のみならず、２層以上の多層構造であってもよい。図１に示される機能層１２は、第１の機能層１３および第２の機能層１４からなる多層構造となっている。光学フィルム１０の表面１０Ａは、機能層１２の表面１２Ａとなっている。」 「［００３３］ 上記消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）は、以下のようにして行うものとする。まず、消しゴム試験に用いる消しゴムを用意する。消しゴムとしては、直径が６．０ｍｍであり、長さが１６０ｍｍ以下であり、デュロメータ硬さ（タイプＡデュロメータ、タイプＡ（円柱状圧子）、ＪＩＳ Ｋ６２５３：１９９７／ＩＳＯ７６１９（Ｒｕｂｂｅｒ））が６０以上９０以下であり、材質がゴムであるものを用いるものとする。このような消しゴムとしては、三菱鉛筆株式会社製の消しゴム付き鉛筆（製品名「事務用鉛筆９８５２（消しゴム付）」）やＭｉｎｏａｎ Ｉｎｃ.社製のＲＵＢＢＥＲ ＳＴＩＣＫが挙げられる。・・・（「・・・」は文章の省略を表す。以下同じ。）」 「［００５５］ また、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）を行った場合に、消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａにおける水に対する接触角に対する消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａにおける水に対する接触角の割合である接触角維持率が８０％以上であることがより好ましい。接触角維持率が８０％以上であれば、光学フィルム１０は、より優れた耐摩耗性を有すると判断できるとともに、より優れた防汚性を得ることができる。」 「［図１］ ［図：0001402784000003.jpg］ 」 オ 甲５の記載事項 「［００１４］ 本実施形態の光学部品は、透明基体と、前記透明基体上に積層された低反射膜と、前記低反射膜上に積層された防汚膜と、を有しており、前記防汚膜の表面粗さＲａが３ｎｍ以下であることを特徴とする。 ［００１５］ 本実施形態の光学部品について図１を用いて説明する。図１は、本実施形態の光学部品１０の断面図を模式的に示したものであり、透明基体１１上に低反射膜１２と、該低反射膜１２上に防汚膜１３が積層された構成を有している。・・・」 「［００８２］・・・ 以下の実験例において防汚膜を形成した後の試料について、該試料の防汚膜について擦り耐久性試験を以下の手順により行った。 ［００８３］ まず、各実験例の防汚膜について以下の手順により擦り試験を行った。 ［００８４］ 底面が１０ｍｍ×１０ｍｍである平面金属圧子の表面に、スチールウール＃００００を装着して、サンプルを擦る摩擦子とした。 ［００８５］ 次に、上記摩擦子を用い、平面摩耗試験機３連式（大栄科学精器社製、型式：ＰＡ－３００Ａ）にて擦り試験を行った。具体的には、まず上記摩擦子の底面がサンプルの防汚膜面に接触するよう摩耗試験機に取り付け、摩擦子への加重が１０００ｇとなるように重りを載せ、平均速さ６４００ｍｍ／ｍｉｎ、片道４０ｍｍで往復摺動した。往復１回で擦り回数１回として、擦り回数が２０００回となるように擦り試験を行った。」 「［図１］ ［図：0001402784000004.jpg］ 」 ガラス基材、低反射膜及び防汚層からなる光学部品に対する実験例の結果をまとめた［表１］によると、例３の光学部品は、防汚層の表面粗さＲａが０．３ｎｍ、擦り耐久性試験後の防汚膜の水接触角が１１０°である。 （２）甲１を主引用例とする理由 ア 本件発明１について （ア）本件発明１と甲１発明を対比すると、甲１発明の「ハードコート層付きトリアセチルセルロースフィルム」の「ハードコート層」は本件発明１の「ハードコート層」に相当し、同じく「トリアセチルセルロースフィルム」は本件発明１の「基材」に相当する。 同様に、甲１発明の「Ｎｂ２Ｏ５層とＳｉＯ２層とを交互に形成した反射防止層」は本件発明１の「無機層からなる光学機能層」に、甲１発明の「防汚層」は本件発明１の「防汚層」に、甲１発明の「反射防止フィルム」は本件発明１の「防汚層付き光学フィルム」に、それぞれ相当する。 甲１発明のハードコート層付きトリアセチルセルロースフィルムの「ハードコート層」は、「トリアセチルセルロースフィルム」と「Ｎｂ２Ｏ５層とＳｉＯ２層とを交互に形成した反射防止層」の間に配置されるから、甲１発明の「ハードコート層付きトリアセチルセルロースフィルムの上に、密着層として３．５ｎｍのＳｉ層をハードコート層の上面に形成し、続いて、Ｎｂ２Ｏ５層とＳｉＯ２層とを交互に形成した反射防止層、表面粗さＲａが１．２６ｎｍである防汚層を順に備える」ことは、本件発明１の「基材層と、無機層からなる光学機能層と、防汚層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、前記基材層が、基材と、ハードコート層とを厚み方向一方側に向かって順に備え」ることに相当する。 そうすると、両者は、 「基材層と、無機層からなる光学機能層と、防汚層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、 前記基材層が、基材と、ハードコート層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、 前記防汚層の表面粗さＲａが、５．０１ｎｍ以下である、 防汚層付き光学フィルム。」で一致し、次の点で相違する。 《相違点１－１》 本件発明１の「前記ハードコート層の厚み方向一方面の表面粗さＲａが、１．２ｎｍ以上５．０ｎｍ以下であ」るのに対し、 甲１発明のハードコート層の表面粗さＲａは特定されていない点。 《相違点１－２》 本件発明１の「前記防汚層の厚み方向一方面の水接触角が、１１０°以上であり、 第１耐久性試験により求められる防汚層の水接触角が、８３°以上」 「第１耐久性試験：防汚層について、以下の条件に基づき、第１消しゴム摺動試験を実施する。第１消しゴム摺動試験を実施した後、防汚層の純水に対する水接触角を測定する。 ＜第１消しゴム摺動試験＞ Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ） 摺動距離：片道１００ｍｍ 摺動速度：１００ｍｍ／秒 荷重：１ｋｇ／６ｍｍΦ 摺動回数：３０００回」であるのに対し、 甲１発明の防汚層の水接触角は特定されておらず、第１耐久性試験により求められる防汚層の水接触角も特定されていない点。 （イ）上記相違点１－１を検討する。 甲１には、ハードコート層の表面粗さＲａについて記載はなく、「表面粗さＲａが、１．２ｎｍ以上５．０ｎｍ以下」である証拠はない。 申立人は、甲２に、防汚層の表面はハードコート層の表面形状を反映した凹凸形状が形成されやすいことが記載されており、甲１発明において、防汚層の表面粗さＲａが１．２６ｎｍであるので、ハードコート層の表面粗さＲａも１．２６ｎｍである蓋然性が高い旨（特許異議申立書３０頁下から２行～３１頁９行）主張するが、防汚層の表面粗さＲａが１．２６ｎｍであるからといって、その下層のハードコート層の表面粗さＲａも１．２６ｎｍになるとは限らず、そのような技術常識もなく、申立人の主張は採用できない。 よって、上記相違点１－１は実質的な相違点である。 （ウ）次に、上記相違点１－２を検討する。 甲１発明の防汚層が、本件発明１の「第１耐久性試験」を行ったときに、防汚層の水接触角が８３°以上となることを示す証拠はない。 申立人は、防汚層の表面粗さが小さければ、防汚層の表面に存在する凹凸が小さくなるため、防汚層について第１消しゴム摺動試験を行った場合に、消しゴムで削り取られる防汚層の成分が少なくなるので、防汚層表面の水接触角の低下を抑制できることは技術常識である旨（特許異議申立書３１頁１８～２２行）主張するが、第１消しゴム摺動試験を行った後でも「８３°以上」であることまでは技術常識からいえず、この主張は採用できない。 よって、上記相違点１－２も実質的な相違点である。 （エ）以上より、本件発明１は、甲１発明ではない。 イ 本件発明２～４について 本件発明２～４は、本件発明１の発明特定事項を全て備えるところ、上記イで述べたように、本件発明１は甲１発明ではないから、本件発明２～４も甲１発明ではない。 （３）甲３を主引用例とする理由 ア 本件発明１について （ア）本件発明１と甲３発明を対比すると、甲３発明の「透明フィルム」は本件発明１の「基材層」に相当し、同様に甲３発明の「低屈折率層としての酸化シリコン（ＳｉＯ２）薄膜と高屈折率層としての酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）薄膜の交互積層体である反射防止層」は本件発明１の「無機層からなる光学機能層」に、甲３発明の「防汚層」は本件発明１の「防汚層」に、甲３発明の「反射防止フィルム」は本件発明１の「防汚層付き光学フィルム」に、それぞれ相当する。 そうすると、両者は、 「基材層と、無機層からなる光学機能層と、防汚層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、 前記基材層が、基材と、ハードコート層とを厚み方向一方側に向かって順に備える、防汚層付き光学フィルム。」で一致し、次の点で相違する。 《相違点２－１》 本件発明１が「前記ハードコート層の厚み方向一方面の表面粗さＲａが、１．２ｎｍ以上５．０ｎｍ以下であ」るのに対し、 甲３発明のハードコート層の算術平均粗さＲａは、「１．５ｎｍ以下が好ましく、１．０ｎｍ以下がより好まし」いとされる点。 《相違点２－２》 本件発明１の「前記防汚層の表面粗さＲａが、５．０１ｎｍ以下であり」 「前記防汚層の厚み方向一方面の水接触角が、１１０°以上であり、 第１耐久性試験により求められる防汚層の水接触角が、８３°以上」 「第１耐久性試験：防汚層について、以下の条件に基づき、第１消しゴム摺動試験を実施する。第１消しゴム摺動試験を実施した後、防汚層の純水に対する水接触角を測定する。 ＜第１消しゴム摺動試験＞ Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ） 摺動距離：片道１００ｍｍ 摺動速度：１００ｍｍ／秒 荷重：１ｋｇ／６ｍｍΦ 摺動回数：３０００回」であるのに対し、 甲３発明の防汚層の算術平均粗さＲａは「３ｎｍ以下が好ましく、２ｎｍ以下がより好ましく、１．８ｎｍ以下がさらに好ましく、１．５ｎｍ以下が特に好ましく、１．３ｎｍ以下が最も好ましい」とされ、甲３発明の防汚層の純水接触角は「１００°以上が好ましく、１０２°以上がより好ましく、１０５°以上がさらに好まし」いとされるが、第１耐久性試験により求められる防汚層の水接触角は特定されていない点。 （イ）上記相違点２－１を検討する。 甲３発明のハードコート層の算術平均粗さＲａは、「１．０ｎｍ以下がより好まし」いとされているから、敢えて本件発明１の「１．２ｎｍ以上５．０ｎｍ以下」に換える動機付けはない。 よって、本件発明１の上記相違点２－１に係る構成は、甲３発明に基いて、当業者が容易に想到し得たものではない。 （ウ）次に、上記相違点２－２を検討する。 甲４には、直径６．０ｍｍの消しゴムを用いて荷重１０００ｇで光学フィルムの表面を５０００往復擦る消しゴム試験を行ったとき、消しゴム試験前後の光学フィルムの表面における水に対する接触角維持率が８０％以上が好ましいことが、甲５には、底面が１０ｍｍ×１０ｍｍの平面金属圧子の表面にスチールウール♯００００を装着した摩擦子を用いて荷重１０００ｇで２０００往復擦る試験を行ったとき、試験後の防汚膜表面における純水に対する接触角が１１０°である実験例（例３）が記載されている。 しかし、甲４及び甲５のいずれにも、第１耐久性試験前の「防汚層の厚み方向一方面の水接触角が、１１０°以上」、かつ、「第１耐久性試験により求められる防汚層の水接触角が、８３°以上」である防汚層を備えることは記載されておらず、甲３発明に、甲４あるいは甲５記載の技術的事項を適用しても、本件発明１の上記相違点２－１に係る構成を容易に想到することができたとはいえない。 申立人は、甲３発明に甲５記載の技術的事項を適用して、防汚層の水接触角を１１０°以上とすること何ら困難性はなく、甲３発明に甲４記載の技術的事項を適用して、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）の防汚層の表面における水接触角を８４°以上とすることは何ら困難性はないから、本件発明１は、甲３発明と、甲４及び甲５記載の技術的事項から容易に想到できる旨（特許異議申立書４０頁１１行～４１頁２２行）主張する。 しかし、「防汚層の厚み方向一方面の水接触角が、１１０°以上」と「第１耐久性試験により求められる防汚層の水接触角が、８３°以上」は、同じ防汚層が満たすべき性能であるから、申立人が主張するような、一方の性能を満たすために甲４の防汚層、他方の性能を満たすために甲５の防汚層を、それぞれ別に採用するということはできない。 よって、本件発明１の上記相違点２－２に係る構成は、甲３発明並びに甲４又は甲５の技術的事項に基いて、当業者が容易に想到し得たものではない。 （エ）以上より、本件発明１は、甲３発明並びに甲４又は甲５の技術的事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 イ 本件発明２～６について 本件発明２～６は、本件発明１の発明特定事項を全て備えるところ、上記アで述べたように、甲３発明並びに甲４又は甲５の技術的事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではないから、本件発明２～６も、甲３発明並びに甲４又は甲５の技術的事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 第４ むすび 以上のとおり、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては、請求項１～６に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に請求項１～６に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。