2022-700436

第２ 令和４年１０月７日受理の訂正請求について

１．訂正請求の内容

令和４年１０月７日受理の訂正請求による訂正（以下「本件訂正」という。）は、本件特許に係る特許請求の範囲を、訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、すなわち、訂正前の請求項１～１０，１３及び１４（以下項番に従い「旧請求項１」などという。）を一群の請求項ごとに訂正することにより、訂正後の請求項１～１０，１３及び１４（以下項番に従い「新請求項１」などという。）にするものであり、以下の訂正事項１を含むものである。

訂正事項１

特許請求の範囲の請求項１に「含フッ素エーテル化合物（Ｂ）（但し、下記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有アミドシランを除く）」と記載されているのを、「含フッ素エーテル化合物（Ｂ）（但し、下記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有アミドシラン及び下記式（Ａ）で表される化合物を除く）」に変更し、さらに、

特許請求の範囲の請求項１に

「ＲＦ１Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａＣＦ２－（Ｑ）ｂ（－（ＣＨ２）ｄ－ＳｉＬｐＲ３－ｐ）ｃ（Ａ）。

ただし、式（Ａ）中の記号は以下の意味を示す。

ＲＦ１：炭素数１～２０のペルフルオロ１価飽和炭化水素基、または、炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された炭素数２～２０のペルフルオロ１価飽和炭化水素基でありかつ－ＯＣＦ２Ｏ－構造が存在しない基。

ａ：１～２００の整数。

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ｂ：０または１。

Ｑ：ｂが０である場合にはＱは存在せず、ｂが１である場合にはＱは２～３価の連結基。

ｃ：Ｑが存在しないまたはＱが２価の連結基である場合のｃは１、Ｑが３価の連結基である場合のｃは２。

ｄ：２～６の整数。

Ｌ：加水分解性基。

Ｒ：水素原子または１価炭化水素基。

ｐ：１～３の整数。」を追記する訂正を行う（請求項１の記載を直接的又は間接的に引用する請求項２～１０、１３及び１４も同様の訂正を行う）。

２．一群の請求項について

旧請求項１～１０，１３及び１４について、請求項２～１０，１３及び１４はいずれも直接又は間接的に請求項１を引用する関係にあり、訂正事項１によって記載が訂正される請求項１に連動して訂正されるものである。

そうすると、旧請求項１～１０，１３及び１４に対応する新請求項１～１０，１３及び１４は、特許法第１２０条の５第４項に規定する一群の請求項に該当するものである。

したがって、訂正事項１による本件訂正は、特許法１２０条の５第４項に適合するものである。

３．訂正事項１に係る訂正の適否について

ア 訂正の目的について

訂正事項１に係る訂正は、旧請求項１における含フッ素エーテル組成物が含有する含フッ素エーテル化合物（Ｂ）うち下記式（Ａ）で表される化合物を除く訂正であるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。

「ＲＦ１Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａＣＦ２－（Ｑ）ｂ（－（ＣＨ２）ｄ－ＳｉＬｐＲ３－ｐ）ｃ（Ａ）。

ただし、式（Ａ）中の記号は以下の意味を示す。

ＲＦ１：炭素数１～２０のペルフルオロ１価飽和炭化水素基、または、炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された炭素数２～２０のペルフルオロ１価飽和炭化水素基でありかつ－ＯＣＦ２Ｏ－構造が存在しない基。

ａ：１～２００の整数。

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ｂ：０または１。

Ｑ：ｂが０である場合にはＱは存在せず、ｂが１である場合にはＱは２～３価の連結基。

ｃ：Ｑが存在しないまたはＱが２価の連結基である場合のｃは１、Ｑが３価の連結基である場合のｃは２。

ｄ：２～６の整数。

Ｌ：加水分解性基。

Ｒ：水素原子または１価炭化水素基。

ｐ：１～３の整数。」

イ 新規事項の有無及び特許請求の範囲の実質的な拡張・変更の有無

訂正事項１に係る訂正は、上記ア．で検討したとおり、含フッ素エーテル組成物が含有する含フッ素エーテル化合物（Ｂ）うち上記式（Ａ）で表される化合物を除く訂正であり、そのような訂正は、特許請求の範囲の一部を除外するものであって新たな技術的事項を導入するものでもないから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。

したがって、訂正事項１に係る訂正は、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項に規定する要件を満たすものといえる。

ウ 独立特許要件について

上記「第１」で述べたように、本件の申立ては、本件請求項１～１４に係る特許のうち請求項１，３，４，１０，１３及び１４に係る特許に対して申立てられたものであり、請求項１を引用する請求項２，５～９に係る特許に対しては申立てられていない。

そして、本件訂正前の請求項１に対する訂正である訂正事項１は、上記アで述べたように特許請求の範囲の減縮を目的とするものであるところ、請求項１を引用する請求項２，５～９も、同様に特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正がされたといえる。そこで、本件訂正後の請求項２，５～９に係る発明の独立特許要件について検討する。

下記「第５」で述べるように、本件訂正後の請求項１に係る発明には取消理由がなく、請求項１に係る発明につき、特許を受けることができないとすべき理由はないものであって、それを引用する本件訂正後の請求項２，５～９に係る発明も、特許を受けることができないとすべき理由があるものではないから、本件訂正後の請求項２，５～９に係る発明は特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるといえる。

４．本件訂正に係る検討のまとめ

以上総括するに、本件訂正は、訂正事項１に係る訂正が、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる目的要件を満たすものであり、同法同条第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項に規定する要件も満たすものであるから、本件訂正を認める。

第３ 本件特許の特許請求の範囲に記載された事項

上記本件訂正により適法に訂正された本件特許の特許請求の範囲には、以下のとおりの請求項１，３，４，１０，１３及び１４が記載されている。

「【請求項１】

含フッ素エーテル化合物（Ａ）と含フッ素エーテル化合物（Ｂ）（但し、下記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有アミドシラン及び下記式（Ａ）で表される化合物を除く）とを含み、

前記含フッ素エーテル化合物（Ａ）が、（ＣＦ２Ｏ）単位を含むポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および２個以上の下式（Ｉ）で表される基を有する化合物であり、

前記含フッ素エーテル化合物（Ｂ）が、（ＣＦ２Ｏ）単位を含まないポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および２個以上の前記式（Ｉ）で表される基を有する化合物であることを特徴とする含フッ素エーテル組成物。

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－ＳｉＲｎＬ３－ｎ・・・（Ｉ）

ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、

Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、

ｎは０～２の整数であり、

ｎが０または１のとき（３－ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、

ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよく、

前記含フッ素エーテル化合物（Ａ）および前記含フッ素エーテル化合物（Ｂ）それぞれが有する前記式（Ｉ）で表される基は同一であっても異なっていてもよい。

【化１】

［図：0001398257000001.jpg］

［式（１）中：

Ｒｆは、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し；

ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、－（ＯＣ４Ｆ８）ａ－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ－（ＯＣＦ２）ｄ－を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；

Ｘ１は、単結合または２価の有機基を表し；

Ｒ１は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表し；

Ｒ２は、－Ｘ２－ＳｉＱ１ｋＹ１３－ｋを表し；

Ｘ２は、２価の有機基を表し；

Ｙ１は、加水分解可能な基を表し；

Ｑ１は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表し；

ｐは、０または１であり；

ｋは、０～２の整数である。］

ＲＦ１Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａＣＦ２－（Ｑ）ｂ（－（ＣＨ２）ｄ－ＳｉＬｐＲ３－ｐ）ｃ（Ａ）。

ただし、式（Ａ）中の記号は以下の意味を示す。

ＲＦ１：炭素数１～２０のペルフルオロ１価飽和炭化水素基、または、炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された炭素数２～２０のペルフルオロ１価飽和炭化水素基でありかつ－ＯＣＦ２Ｏ－構造が存在しない基。

ａ：１～２００の整数。

ｂ：０または１。

Ｑ：ｂが０である場合にはＱは存在せず、ｂが１である場合にはＱは２～３価の連結基。

ｃ：Ｑが存在しないまたはＱが２価の連結基である場合のｃは１、Ｑが３価の連結基である場合のｃは２。

ｄ：２～６の整数。

Ｌ：加水分解性基。

Ｒ：水素原子または１価炭化水素基。

ｐ：１～３の整数。（当審注：以降、含フッ素エーテル化合物（Ｂ）が除くパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有アミドシランの式（１）及び化合物の式（Ａ）の化学構造式は省略する。）」

「【請求項３】

前記（ＣＦ２Ｏ）単位を含むポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖が、（ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とを含むポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル組成物。」

「【請求項４】

前記（ＣＦ２Ｏ）単位を含まないポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖が、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位および（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位から選ばれる少なくとも１種を含むポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖である、請求項１～３のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物。」

「【請求項１０】

前記含フッ素エーテル化合物（Ａ）と前記含フッ素エーテル化合物（Ｂ）の合計に対し、前記含フッ素エーテル化合物（Ａ）を１０～８０質量％含む、請求項１～９のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物。」

「【請求項１３】

請求項１～１２のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物と、液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。」

「【請求項１４】

請求項１～１２のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を有することを特徴とする物品。」

（以下、上記請求項１，３，４，１０，１３及び１４に係る各発明につき、各々「本件発明１」、「本件発明３」、「本件発明４」、「本件発明１０」、「本件発明１３」および「本件発明１４」という。）。

第５ 当審の判断

当審は、特許異議申立書に記載された申立て理由及び当審が通知した取消理由によっては、本件発明１，３，４，１０，１３及び１４に係る特許を取り消すことはできないと判断する。以下、検討・詳述する。

１ 取消理由Ａ（新規性）、取消理由Ｂ（進歩性）、申立理由１（新規性）及び申立理由２（進歩性）について

取消理由Ａ（新規性）、Ｂ（進歩性）と申立理由１（新規性）、２（進歩性）は、いずれも同じ甲１を主引用文献とする理由であるから、併せて検討する。

（１）甲１に記載された事項及び甲１に記載された発明

ア 甲１に記載された事項

甲１には，以下の事項が記載されている。

（甲１ａ）

「［１］ 下式（Ａ）で表される化合物および該式（Ａ）で表される化合物と部分加水分解可能な化合物（Ｂ）、または、下式（Ａ）で表される化合物と該式（Ａ）で表される化合物と部分加水分解可能な化合物（Ｂ）との部分加水分解縮合物、を必須成分とすることを特徴とする表面処理剤。

ＲＦ１Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａＣＦ２－（Ｑ）ｂ（－（ＣＨ２）ｄ－ＳｉＬｐＲ３－ｐ）ｃ （Ａ）。

ただし、式中の記号は以下の意味を示す。

ＲＦ１：炭素数１～２０のペルフルオロ１価飽和炭化水素基、または、炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された炭素数２～２０のペルフルオロ１価飽和炭化水素基でありかつ－ＯＣＦ２Ｏ－構造が存在しない基。

続きを表示（全49行）

ａ：１～２００の整数。

ｂ：０または１。

Ｑ：ｂが０である場合にはＱは存在せず、ｂが１である場合にはＱは２～３価の連結基。

ｃ：Ｑが存在しないまたはＱが２価の連結基である場合のｃは１、Ｑが３価の連結基である場合のｃは２。

ｄ：２～６の整数。

Ｌ：加水分解性基。

Ｒ：水素原子または１価炭化水素基。

ｐ：１～３の整数。（当審注：以降、式（Ａ）の化学構造式及び「ただし」以降の記載は省略する。）

［２］ 式（Ａ）で表される化合物が、下式（ａ）で表される化合物である請求項１に記載の表面処理剤。

ＲＦ１Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａＣＦ２－Ｘ （ａ）。

ただし、式中の記号は以下の意味を示す。

ＲＦ１およびａ：前記と同じ意味を示す。

Ｘ：下式（Ｘ１）～下式（Ｘ７）から選ばれるいずれかの基（ただし、Ｌ、Ｒ、およびｐは前記と同じ意味を示す。）。

－Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｐＲ３－ｐ （Ｘ１）

－ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｐＲ３－ｐ （Ｘ２）、

－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｐＲ３－ｐ （Ｘ３）、

－ＣＦ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｐＲ３－ｐ （Ｘ４）、

－ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｐＲ３－ｐ （Ｘ５）、

－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｐＲ３－ｐ （Ｘ６）、

－Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｐＲ３－ｐ）２（Ｘ７）。

［３］ Ｘが、前記式（Ｘ１）～前記式（Ｘ６）から選ばれるいずれかの基である請求項２に記載の表面処理剤。

［４］ 式（Ａ）で表される化合物の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０５～１．３である請求項１～３のいずれかに記載の表面処理剤。

［５］ 化合物（Ｂ）が、前記式（Ｘ１）～前記式（Ｘ７）で表される基から選ばれる基を２個以上有し、該基以外の構造が、エーテル性酸素原子を含むペルフルオロ炭化水素基であり、かつ－ＯＣＦ２Ｏ－構造が存在しない基である構造を有する化合物を必須とする請求項１～４のいずれかに記載の表面処理剤。

［６］ 化合物（Ｂ）が、下式（Ｂ１）で表される化合物および／または下式（Ｂ２）で表される化合物を必須とする請求項１～４のいずれかに記載の表面処理剤。

Ｘ２－ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｕＣＦ２－Ｘ２ （Ｂ１）、

［ＲＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｖ－］ｚＹ［－Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｗＣＦ２－Ｘ３］ｘ （Ｂ２）。

ただし、式中の記号は以下の意味を示す。

Ｘ２、Ｘ３：それぞれ独立に、下式（Ｘ１）で表される基～下式（Ｘ７）で表される基から選ばれるいずれかの基を示す（ただし、Ｌ、Ｒ、およびｐは前記と同じ意味を示す。）。

－Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｐＲ３－ｐ （Ｘ１）

－ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｐＲ３－ｐ （Ｘ２）、

－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｐＲ３－ｐ （Ｘ３）、

－ＣＦ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｐＲ３－ｐ （Ｘ４）、

－ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｐＲ３－ｐ （Ｘ５）、

－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｐＲ３－ｐ （Ｘ６）、

－Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｐＲ３－ｐ）２（Ｘ７）。

ＲＦ３：炭素数１～２０のペルフルオロ１価飽和炭化水素基、または、炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された炭素数２～２０のペルフルオロ１価飽和炭化水素基でありかつ－ＯＣＦ２Ｏ－構造が存在しない基。

Ｙは、（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基、または炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基でありかつ－ＯＣＦ２Ｏ－構造が存在しない基。

ｕ、ｖ、ｗ：それぞれ独立に、１～２００の整数。

ｘ、ｚ：ｘは２以上の整数であり、ｚは０以上の整数であり、（ｘ＋ｚ）は、３以上の整数であり、ｚが２以上である場合のＲＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｖ－で表される基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｘが２以上である場合の－Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｗＣＦ２－Ｘ３で表される基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

［７］ 化合物（Ｂ）が、フッ素原子を持たず、ケイ素原子に加水分解性基が２つ以上結合した構造を有する化合物を必須とする請求項１～６のいずれかに記載の表面処理剤。

［８］ 化合物（Ａ）の総質量に対する化合物（Ｂ）の総質量の割合が、０．１～５０質量％である、請求項１～７のいずれかに記載の表面処理剤。

［９］ 有機溶剤を含む請求項１～８のいずれかに記載の表面処理剤。

［１０］ 有機溶剤が、非フッ素系の有機溶剤からなる請求項９に記載の表面処理剤。

［１１］ 請求項１～１０のいずれかに記載の表面処理剤を基材表面に塗布し乾燥させることによる表面処理された基材の製造方法。

・・・」（請求の範囲）

（甲１ｂ）

「発明が解決しようとする課題

［００１２］ 本発明は、撥水撥油性、油脂汚れの除去性、酸触媒の存在下かつ高温条件下における劣化耐性に優れた塗膜を形成できる表面処理剤を提供する。また該表面処理剤から形成され、撥水撥油性、油脂汚れの除去性に優れ、酸触媒の存在かつ高温条件においても、劣化耐性に優れた塗膜を有する物品を提供する。また本発明は表面処理剤として有用な新規な含フッ素エーテル化合物を提供する。」

（甲１ｃ）

「実施例

［０１２４］ 以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は該実施例に限定されない。

（略号）

ＴＭＳ：テトラメチルシラン、

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Ｒ－１１３：ＣＣｌ２ＦＣＣｌＦ２、

Ｒ－２２５：ジクロロペンタフルオロプロパン、

ＤＢＴＤＬ：ジブチル錫ジラウレート、

ＣＦＥ－４１９：ＣＣｌＦ２ＣＣｌＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｃｌ、

Ｌ：リットル、

Ｍｎ：数平均分子量、

Ｍｗ：質量平均分子量、

Ｒｆ：－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３。

ａ：ａを付した化合物は、ａ値が異なる２種以上の化合物からなる。ａは１～２００の整数から選ばれる値であり、平均値は化合物のＭｎ値になる整数、

ｄ１、ｄ２、ｄ３：ｄ１～ｄ３を付した化合物は、ｄ１～ｄ３値がそれぞれ異なる２種以上の化合物からなる。ｄ１～ｄ３は、１～２００の整数から選ばれる値であり、平均値は化合物のＭｎ値になる整数。

［０１２５］（Ｍｎの測定）

Ｍｎは、ＧＰＣによって測定した。

ＧＰＣの測定は、特開２００１－２０８７３６号公報に記載の方法にしたがった。具体的には、移動相として、Ｒ－２２５（旭硝子社製、アサヒクリンＡＫ－２２５ＳＥＣグレード１）およびヘキサフルオロイソプロピルアルコール（ＨＦＩＰ）の混合溶媒（Ｒ－２２５／ＨＦＩＰ＝９９／１容量比）を用いた。分析カラムとして、ＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ－Ｅカラム（ポリマーラボラトリーズ社製）を２本直列に連結したものを用いた。分子量測定用標準試料として、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．１未満である、分子量が２０００～１００００のペルフルオロポリエーテル４種および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．１以上である、分子量が１３００のペルフルオロポリエーテル１種を用いた。検出器として、蒸発光散乱検出器を用い、移動相流速を１．０ｍＬ／分とし、カラム温度を３７℃としてＧＰＣを測定した。

［０１２６］（接触角）

物品の塗膜の表面に、直径約２μＬの水滴またはヘキサデカンを５滴置き、接触角を測定し、５つの値の平均値を求めた。未処理のソーダライムガラス板の水接触角は約３０度である。

［０１２７］（水転落角）

物品を水平に保持し、該物品の塗膜の表面に５０μＬの水滴を滴下した後、物品を徐々に傾け、水滴が転落しはじめた時の物品と水平面との角度（転落角）を測定した。転落角が小さいほど水滴滑落性に優れる。

［０１２８］（耐摩耗性）

往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用いて、ネル布、荷重１ｋｇ、摩耗回数３０００往復の条件にて物品の塗膜の表面について磨耗試験を行った後、水接触角および水転落角を測定した。

［０１２９］（耐アルカリ性）

物品をｐＨ１３の水酸化ナトリウム水溶液に２時間浸漬した。物品を水洗、乾燥した後、物品の塗膜の表面の水接触角および水転落角を測定した。

［０１３０］（油脂汚れの除去性）

物品の塗膜の表面に、オレイン酸で人工的に油脂汚れを付着させた後、一定荷重でセルロース製不織布（旭化成社製、ペンコットＭ－３）で拭き取り、油脂汚れの取れやすさを目視で判定した。判定基準は、下記の通りとした。

○：油脂汚れを完全に拭き取ることができる。

△：油脂汚れの拭き取り跡が残る。

×：油脂汚れを拭き取ることができない。

［０１３１］〔例１〕

〔例１－１〕化合物（Ｄ３－１）の製造例

フラスコ内に、下記化合物（Ｄ１－１）（市販のポリオキシエチレングリコールモノメチルエーテル、ａの平均値：７．３。）の２５ｇ、Ｒ－２２５の２０ｇ、ＮａＦの１．２ｇ、およびピリジンの１．６ｇを入れ、内温を１０℃以下に保ちながら激しく撹拌し、窒素をバブリングさせた。フラスコ内に、下記化合物（Ｄ２－１）の４６．６ｇを、内温を５℃以下に保ちながら３．０時間かけて滴下した。滴下終了後、５０℃にて１２時間撹拌し、室温にて２４時間撹拌して、粗液を回収した。粗液を減圧濾過した後、回収液を真空乾燥機（５０℃、５．０ｔｏｒｒ。）で１２時間乾燥し、粗液を得た。粗液を１００ｍＬのＲ－２２５に溶解し、１０００ｍＬの飽和重曹水で３回水洗し、有機相を回収した。有機相に硫酸マグネシウムの１．０ｇを加え、１２時間撹拌した後、加圧濾過して硫酸マグネシウムを除去し、回収液からエバポレータにてＲ－２２５を留去し、室温で液体である化合物の５６．１ｇを得た。該化合物のＮＭＲ分析の結果、下記化合物（Ｄ３－１）（ａの平均値：７．３。）であることを確認した。

ＣＨ３Ｏ［ＣＨ２ＣＨ２Ｏ］ａＣＨ２ＣＨ２ＯＨ （Ｄ１－１）、

ＦＣ（Ｏ）－Ｒｆ （Ｄ２－１）、

ＣＨ３Ｏ［ＣＨ２ＣＨ２Ｏ］ａＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）－Ｒｆ （Ｄ３－１）。

［０１３２］ 化合物（Ｄ３－１）のＮＭＲスペクトル；

１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：４．２，４．３５，４．４，４．７５。

１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：－７９．５，－８０．０，－８２．５～－８５．０，－１２８．０～－１２９．２，－１３１．５，－１４４．５。

［０１３３］〔例１－２〕化合物（Ｄ４－１）の製造例：

３０００ｍＬのハステロイ製オートクレーブ内に、Ｒ－１１３の１５６０ｇを入れて撹拌し、２５℃に保った。オートクレーブガス出口には、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および－２０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また、－２０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻すための液体返送ラインを設置した。

オートクレーブ内に窒素ガスを１．０時間吹き込んだ後、窒素ガスで１０％に希釈したフッ素ガス（以下、１０％フッ素ガスと記す。）を、流速２４．８Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。つぎに、オートクレーブ内に１０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、化合物（Ｄ３－１）の２７．５ｇをＲ－１１３の１３５０ｇに溶解した溶液を３０時間かけて注入した。つぎに、オートクレーブ内に１０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、Ｒ－１１３の１２ｍＬを注入した。この際、内温を４０℃に変更した。つづけて、ベンゼンを１質量％溶解したＲ－１１３溶液の６ｍＬを注入した。さらに、フッ素ガスを１．０時間吹き込んだ後、窒素ガスを１．０時間吹き込んだ。

反応終了後、溶媒を真空乾燥（６０℃、６．０時間。）にて留去し、室温で液体の化合物の４５．４ｇを得た。該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｄ３－１）の水素原子の総数の９９．９％がフッ素原子に置換された、下記化合物（Ｄ４－１）が主たる成分であることを確認した。

ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２ＣＦ２ＯＣ（Ｏ）－Ｒｆ （Ｄ４－１）。

［０１３４］ 化合物（Ｄ４－１）のＮＭＲスペクトル；

１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：Ｒ－１１３、基準：ＴＭＳ、内部標準：ニトロベンゼン）δ（ｐｐｍ）：５．９～６．４。

１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：Ｒ－１１３、基準：ＣＦＣｌ３、内部標準：ヘキサフルオロベンゼン）δ（ｐｐｍ）：１２．７，－５４．９，－７７．５～－８０．０，－８１．５，－８２．２，－８４．５，－８７．５，－８９．７，－１２９，－１３１．５，－１３５．０～－１３９．０，－１４４．５。

［０１３５］ 〔例１－３〕化合物（Ｄ５－１）の製造例：

スターラーチップを投入した５０ｍＬのナスフラスコを充分に窒素置換した。ナスフラスコ内に、１，１，３，４－テトラクロロヘキサフルオロブタンの５．０ｇ、ＫＦの０．０５ｇ、および化合物（Ｄ４－１）の２．０ｇを入れて激しく撹拌し、１２０℃に保った。ナスフラスコ出口には、２０℃に保持した冷却器、およびドライアイス－エタノール冷却管を直列に設置し、ナスフラスコ出口は窒素シールした。

８時間後、ナスフラスコの内温を室温まで下げ、つづいて冷却管に真空ポンプを設置して系内を減圧に保ち、溶媒および副生物を留去した。３時間後、室温で液体の化合物の０．８６ｇを得た。該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｄ４－１）のエステル結合の総数の９９％がフッ素原子に置換された、下記化合物（Ｄ５－１）が主たる生成物であることを確認した。

ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２ＣＯＦ （Ｄ５－１）。

［０１３６］ 化合物（Ｄ５－１）のＮＭＲスペクトル；

１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：Ｒ－１１３、基準：ＴＭＳ、内部標準：ニトロベンゼン）δ（ｐｐｍ）：５．９～６．４。

１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：Ｒ－１１３、基準：ＣＦＣｌ３、内部標準：ヘキサフルオロベンゼン）δ（ｐｐｍ）：１２．７，－５４．９，－７８．１，－８７．５，－８９．７，－１３５．０～－１３９．０。

［０１３７］ 〔例１－４〕化合物（Ｄ７－１）の製造例（１）：

化合物（Ｄ５－１）の４０ｇが入ったナスフラスコ内に、Ｒ－１１３の２０．０ｇを入れ、内温を２５℃に保ちながら激しく撹拌した。ナスフラスコ内に、エタノールの２０．０ｇを、内温を２５℃以上に保ちながらゆっくりと滴下した。

８時間後、撹拌を停止し、粗液を加圧濾過し、ＫＦを除去した。つづいて、回収液からエバポレータにてＲ－１１３および過剰のエタノールを完全に除去して室温で液状の化合物の４３ｇを得た。該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｄ５－１）の酸フルオリドの総数がエステル化された、下記化合物（Ｄ７－１）が主たる生成物であることを確認した。

ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ３ （Ｄ７－１）。

［０１３８］ 化合物（Ｄ７－１）のＮＭＲスペクトル；

１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：Ｒ－１１３、基準：ＴＭＳ、内部標準：ニトロベンゼン）δ（ｐｐｍ）：１．２７，４．２７，５．９～６．４。

１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：Ｒ－１１３、基準：ＣＦＣｌ３、内部標準：ヘキサフルオロベンゼン）δ（ｐｐｍ）：－５４．９，－７８．５，－８７．５，－８９．７，－１３５．０～－１３９．０。

［０１３９］ 〔例１－５〕化合物（Ｄ７－１）の製造例（２）：

スターラーチップを投入した３００ｍＬのナスフラスコを充分に窒素置換した。ナスフラスコ内に、エタノールの４０ｇ、ＮａＦの５．６ｇ、およびＲ－２２５（５０ｇ）を入れた。ナスフラスコ内に、化合物（Ｄ４－１）の４３．５ｇを滴下した後、室温にてバブリングを行いながら、激しく撹拌した。ナスフラスコ出口は窒素シールした。

８時間後、冷却管に真空ポンプを設置して系内を減圧に保ち、過剰のエタノールおよび交換によって生じるＣＨ３ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）－Ｒｆを留去した。２４時間後、室温で液体の化合物の２６．８ｇを得た。該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｄ４－１）のエステル基の全量がエステル交換された、化合物（Ｄ７－１）が主たる生成物であることを確認した。

［０１４０］ 化合物（Ｄ７－１）のＮＭＲスペクトル；

１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：Ｒ－１１３、基準：ＴＭＳ、内部標準：ニトロベンゼン）δ（ｐｐｍ）：１．２７，４．２７，５．９～６．４。

１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：Ｒ－１１３、基準：ＣＦＣｌ３、内部標準：ヘキサフルオロベンゼン）δ（ｐｐｍ）：－５４．９，－７８．５，－８７．５，－８９．７，－１３５．０～－１３９．０。

［０１４１］ 〔例１－６〕化合物（Ｄ９－１）の製造例：

スターラーチップを投入した３００ｍＬのナスフラスコを充分に窒素置換した。ナスフラスコ内に、２－プロパノールの３０ｇ、Ｒ－２２５の５０．０ｇ、および、ＮａＢＨ４の４．１ｇを入れた。ナスフラスコ出口は窒素シールした。化合物（Ｄ７－１）の２６．２ｇをＲ－２２５の３０ｇに希釈して滴下した後、室温にて激しく撹拌した。

８時間後、冷却管に真空ポンプを設置して系内を減圧に保ち、溶媒を留去した。２４時間後、ナスフラスコ内にＲ－２２５の１００ｇを入れ、撹拌を行いながら、０．２規定塩酸水溶液の５００ｇを滴下した。滴下後、６時間撹拌を維持した。有機相を蒸留水の５００ｇにて３回水洗し、二層分離にて有機相を回収した。有機相に硫酸マグネシウムの１．０ｇを加え、１２時間撹拌した後、加圧濾過にて硫酸マグネシウムを除去し、回収液からエバポレータにてＲ－２２５を留去して、室温で液体の化合物の２４．８ｇを得た。該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｄ７－１）のエステル基の全量が還元された、下記化合物（Ｄ９－１）が主たる生成物であることを確認した。

ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２ＣＨ２ＯＨ （Ｄ９－１）。

［０１４２］ 化合物（Ｄ９－１）のＮＭＲスペクトル；

１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：Ｒ－１１３、基準：ＴＭＳ、内部標準：ニトロベンゼン）δ（ｐｐｍ）：２．６，３．９２，５．９～６．４。

１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：Ｒ－１１３、基準：ＣＦＣｌ３、内部標準：ヘキサフルオロベンゼン）δ（ｐｐｍ）：－５４．９，－７９．８，－８７．５，－８９．７，－１３５．０～－１３９．０。

［０１４３］ 〔例２〕化合物（Ａ１－１）の製造例：

１００ｍＬの丸底フラスコ内に、化合物（Ｄ７－１）の３３．１ｇ、下記化合物（Ｄ８－１）の３．７ｇを入れ、室温で２時間撹拌した。反応終了後、未反応の化合物（Ｄ８－１）および副生したエタノールを減圧留去し、室温で液体の化合物の３２．３ｇを得た。

該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｄ７－１）中の－ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ３の９５．０モル％が－ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３に変換され、－（ＯＣＦ２Ｏ）－単位が存在しない化合物であることを確認した。すなわち、下記化合物（Ａ１－１）が主たる生成物であった。化合物（Ａ１－１）の分子量分布は１．１６であった。

ＮＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ （Ｄ８－１）、

ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ （Ａ１－１）。

［０１４４］ 化合物（Ａ１－１）のＮＭＲスペクトル；

１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：Ｒ－１１３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．５１，１．６０，３．０５，３．４１，３．６７，７．２０。

１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．６５ＭＨｚ，溶媒：Ｒ－１１３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：－５４．９，－７８．０，－８８．２，－８９．７。

［０１４５］ 〔例３〕化合物（Ａ２－１）の製造例：

２５０ｍＬの丸底フラスコ内に、窒素雰囲気下で化合物（Ｄ９－１）の１０ｇおよび触媒であるＤＢＴＤＬの０．０３ｇをＣＦＥ－４１９の２５．０ｇに溶解した溶液を入れ、内温を５℃以下に保持した。丸底フラスコ内に、市販の下記化合物（Ｄ１１－１）の３ｇをＣＦＥ－４１９の１０．０ｇに溶解した溶液を１時間かけて穏やかに滴下し、約１２時間撹拌した。過剰の化合物（Ｄ１１－１）およびＣＦＥ－４１９を減圧留去し、室温で液体の化合物の１０．７０ｇを得た。

該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｄ９－１）中の－ＣＦ２ＣＨ２ＯＨの９９．１モル％が－ＣＦ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３に変換され、－（ＯＣＦ２Ｏ）－単位が存在しない化合物であることを確認した。すなわち、下記化合物（Ａ２－１）が主たる生成物であった。ＧＰＣの分析結果から、化合物（Ａ２－１）のＭｎは１１１０であった。

（Ｏ）Ｃ＝ＮＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ （Ｄ１１－１）、

ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ （Ａ２－１）。

［０１４６］ 化合物（Ａ２－１）のＮＭＲスペクトル；

１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：Ｒ－１１３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．８５，１．８２，３．２０，３．８０，４．１０，５．９０。

１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．６５ＭＨｚ，溶媒：Ｒ－１１３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：－５４．９，－７９．５，－８８．２，－８９．７。

［０１４７］ 〔例４〕化合物（Ａ３－１）の製造例

２５０ｍＬの丸底フラスコ内に、窒素雰囲気下で水素化ナトリウムの０．３６ｇを入れ、ヘキサンの２５ｍＬで洗浄し、ヘキサンを回収した。該操作をさらに２回繰り返した後、残留するヘキサンを減圧留去した。丸底フラスコ内に、ＣＦＥ－４１９の２５．０ｇを入れ、内温を５℃以下に保持した。丸底フラスコ内に、化合物（Ｄ９－１）の１０ｇをＣＦＥ－４１９の２５．０ｇに溶解した溶液を１時間かけて穏やかに滴下し、約１０時間撹拌した。丸底フラスコ内に、下記化合物（Ｄ１２－１）の０．８５ｇを滴下して室温で２時間撹拌した後、７２時間加熱還流した。還流終了後、室温まで冷却し、未反応の水素化ナトリウムおよび副生した塩化ナトリウムを加圧濾過し、ＣＦＥ－４１９および過剰の化合物（Ｄ１２－１）を減圧留去し、室温で液体の化合物の１０．７０ｇを得た。

該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｄ９－１）中の－ＣＦ２ＣＨ２ＯＨの９８．５モル％が－ＣＦ２ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３に変換され、－（ＯＣＦ２Ｏ）－単位が存在しない化合物であることを確認した。すなわち、下記化合物（Ａ３－１）が主たる生成物であった。ＧＰＣの分析結果から、化合物（Ａ３－１）のＭｎは１１００であり分子量分布は１．１５であった。

ＣＣｌＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ （Ｄ１２－１）、

ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ （Ａ３－１）。

［０１４８］ 化合物（Ａ３－１）のＮＭＲスペクトル；

１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：Ｒ－１１３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．７６，１．７９，３．３６，３．８，５．６。

１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．６５ＭＨｚ，溶媒：Ｒ－１１３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：－５４．９，－８０．８，－８８．２，－８９．７。

［０１４９］ 〔例５〕化合物（Ａ６－１）の製造例：

２５０ｍＬの丸底フラスコ内に、窒素雰囲気下で化合物（Ｄ９－１）の５０ｇおよびＲ－２２５の１００ｇに溶解した溶液を入れ、内温を５℃以下に保持した。丸底フラスコ内に、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２Ｃｌの１５ｇをＲ－２２５の１５．０ｇに溶解した溶液を１時間かけて穏やかに滴下し、約１２時間撹拌した。Ｒ－２２５を減圧留去したのち、粗生成物を二層分離、下層を回収して室温で液体の化合物（Ｄ９－２）の５８ｇを得た。該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｄ９－１）中の－ＣＦ２ＣＨ２ＯＨの９９．８モル％が－ＣＦ２ＣＨ２ＯＳＯ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３に変換され、－（ＯＣＦ２Ｏ）－単位が存在しない式ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２ＣＨ２ＯＳＯ２（ＣＦ２）３ＣＦ３で表される化合物であることを確認した。

［０１５０］ つづいて、撹拌機、滴下ロート、還流冷却器及び温度計を備えた２００ｍＬ４つ口フラスコ中に（Ｄ９－２）の５０ｇを投入し、溶媒としてアセトンの１００ｇを投入して１時間撹拌を行った。さらに、ＬｉＩの１５ｇを投入し、撹拌を継続しながら６０℃まで昇温して３時間保持した。反応終了後、系を冷却したのちＬｉ塩を濾別し、２層に分離した液相から分液ロートを用いて下層を分取した。これをアセトンを用いて数回洗浄したのち、０．１ＬのＲ－２２５に溶解し、フイルターによって微細な不溶物を濾別した。得られた溶液から減圧下揮発分を完全に留去することによって、室温で液体の化合物（Ｄ９－３）の４３ｇを得た。該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｄ９－２）中の－ＣＦ２ＣＨ２ＯＳＯ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３の９９．５モル％が－ＣＦ２ＣＨ２Ｉに変換され、－（ＯＣＦ２Ｏ）－単位が存在しない式ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２ＣＨ２Ｉで表される化合物であることを確認した。

［０１５１］ つづいて、撹拌機、滴下ロート、還流冷却器及び温度計を備えた２００ｍＬ４つ口フラスコ中に（Ｄ９－３）の４０ｇを投入し、溶媒としてＲ－２２５の１００ｇを投入して１時間撹拌を行った。さらに、ジｔ－ブチルパーオキシド０．５ｇを仕込み、充分に系内を窒素置換したのち、窒素気流下滴下ロートよりビニルトリクロロシラン２５ｇを滴下した。滴下終了後系内の温度を１２０℃に昇温させ、４時間反応させた。反応終了後減圧下揮発分を完全に留去することによって、室温で液体の化合物（Ｄ９－４）の３９ｇを得た。該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｄ９－３）中の－ＣＦ２ＣＨ２Ｉの９９．０モル％が－ＣＦ２ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨ（Ｓｉ（ＯＣＨ３）３））ｘ－Ｉに変換され、－（ＯＣＦ２Ｏ）－単位が存在しない化合物であることを確認した。

［０１５２］ 撹拌機、滴下ロート、還流冷却器及び温度計を備えた２００ｍＬ４つ口フラスコ中にＤ９－４の３５ｇとＲ－２２５の５０ｇを仕込み、亜鉛２．５ｇを強撹拌分散させた。氷水浴で系を冷却し、窒素気流下無水エタノール１０ｇを滴下した。滴下終了後氷水浴を取り除き、加熱還流下２時間反応させた。反応終了後不溶物を濾別し、２層に分離した液相から分液ロートを用いて下層を分取した。得られた溶液を無水エタノールを用いて３回洗浄したのち、減圧下揮発分を完全に留去することによって、室温で液体の化合物（Ｄ９－５）の３０ｇを得た。該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｄ９－４）中の－ＣＦ２ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨ（Ｓｉ（ＯＣＨ３）３））ｘ－Ｉの９９．９モル％が－ＣＦ２ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨ（Ｓｉ（ＯＣＨ３）３））ｘ－Ｈに変換され、－（ＯＣＦ２Ｏ）－単位が存在しない化合物であることを確認した。すなわち、下記化合物（Ａ６－１）のｘが１である化合物を含み、ｘの平均値が１．４である化合物の混合物であった。ＧＰＣの分析結果から、化合物（Ａ６－１）のＭｎは１１００であり、１Ｈ－ＮＭＲ分析より、ｘの平均値は１．４であった。化合物（Ａ６－１）の分子量分布は１．０９であった。

ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨ（Ｓｉ（ＯＣＨ３）２））ｘ－Ｈ （Ａ６－１）

［０１５３］ 化合物（Ａ６－１）のＮＭＲスペクトル；

１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：Ｒ－１１３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．７６，１．６～２．６，３．８，５．１。

１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．６５ＭＨｚ，溶媒：Ｒ－１１３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：－５４．９，－７８．８，－８８．２，－８９．７。

［０１５４］ 〔例６〕化合物（Ａ７－１）の製造例：

１００ｍＬの丸底フラスコ内に、化合物（Ｄ７－１）の５０．０ｇ、下記化合物（Ｄ８－２）の１６．２ｇを入れ、６０℃で撹拌した。そのまま徐々に圧力を１００ｍｍＨｇまで下げ、複製するエタノールを系外に除去した。反応終了後、未反応の化合物（Ｄ８－１）および副生したエタノールをヘキサン（１００ｍｌ）で抽出除去し、室温で液体の化合物の６４．５ｇを得た。

該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｄ７－２）中の－ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ３の９５．０モル％が－ＣＦ２Ｃ（Ｏ）Ｎ（（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）２に変換され、－（ＯＣＦ２Ｏ）－単位が存在しない下記化合物（Ａ７－１）が主生成物であった。化合物（Ａ７－１）の分子量分布は１．２１であった。

ＮＨ（（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）２ （Ｄ８－２）、

ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２Ｃ（Ｏ）Ｎ（（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）２ （Ａ７－１）。

化合物（Ａ７－１）のＮＭＲスペクトル；

１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：Ｒ－１１３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．５６，１．５７，３．１，３．４１。

１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．６５ＭＨｚ，溶媒：Ｒ－１１３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：－５４．９，－７２．５，－７７．７，－８８．２，－８９．７。

［０１５５］ 〔例７〕化合物（Ｂ）の製造例

〔例７－１〕化合物（Ｂ１１－１）の製造例：

下記化合物（ｂ－０）（市販のポリオキシエチレングリコール、ｕの平均値：８．３。）を用い、国際公開第２００４／０３５６５６号パンフレットの（例１）～（例４）に記載の方法と同様にして、下記化合物（ｂ－１）（ｕの平均値：８．５。）を得た。

化合物（ｂ－１）を用い、国際公開第２００４／０３５６５６号パンフレットの（例５）に記載の方法と同様にして、下記化合物（ｂ－２）を得た。

化合物（Ｄ７－１）の代わりに、化合物（ｂ－２）の１５．５ｇを用いる以外は、例２と同様にして、室温で液体の化合物の１６．５ｇを得た。

該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（ｂ－２）中の－ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３の９８．０モル％が－ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３に変換され、－（ＯＣＦ２Ｏ）－単位が存在しない化合物であることを確認した。すなわち、下記化合物（Ｂ１１－１）が主たる生成物であった。

ＨＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ［ＣＨ２ＣＨ２Ｏ］ｕＣＨ２ＣＨ２ＯＨ （ｂ－０）、

ＣＨ３ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ｕＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３ （ｂ－１）、

ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ｕＣＦ２ＣＨ２ＯＨ （ｂ－２）、

（ＣＨ３Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）３ＮＨＣ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ｕＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ （Ｂ１１－１）。

［０１５６］ 化合物（Ｂ１１－１）のＮＭＲスペクトル；

１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：Ｒ－１１３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．５１，１．６０，３．０５，３．４１，３．６７，７．２０。

１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．６５ＭＨｚ，溶媒：Ｒ－１１３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：－７８．０，－８８．２，－８９．７。

［０１５７］ 〔例７－２〕化合物（Ｂ１２－１）の製造例：

国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットの（例１１－１）に記載の方法と同様にして、下記化合物（ｂ３）を得て、つぎに化合物（ｂ３）を還元して下記化合物（ｂ４）を得た。ただし、ｄ１＋ｄ２＋ｄ３の平均値は、２７．０である。

［０１５８］ 化合物（Ｄ９－１）の代わりに、化合物（ｂ４）の１０ｇを用いる以外は、例３と同様にして、室温で液体の化合物の１０．５ｇを得た。

該化合物のＮＭＲ分析の結果、化合物（ｂ４）中の－ＣＦ２ＣＨ２ＯＨの９９．１モル％が－ＣＦ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３構造に変換され、－（ＯＣＦ２Ｏ）－単位が存在しない化合物であることを確認した。すなわち、下記化合物（Ｂ１２－１）が主たる生成物であった。ＧＰＣの分析結果から、化合物（Ｂ１２－１）のＭｎは３２００であった。

［０１５９］［化２１］

［図：0001398257000002.jpg］

［０１６０］ 化合物（Ｂ１２－１）のＮＭＲスペクトル；

１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：Ｒ－１１３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．８５，１．８２，３．２０，３．８０，４．１０，５．９０。

１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．６５ＭＨｚ，溶媒：Ｒ－１１３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：－７９．５，－８８．２，－８９．７。

［０１６１］ 〔例８〕化合物（Ａ１－１）と化合物（Ｂ１１－１）を含む組成物１

撹拌機、温度計がセットされたガラス容器内に、メタノール（純正化学社製）の４８．５ｇ、１０％硝酸水溶液の０．３７ｇを入れ、２５℃にて１０分間撹拌した。ガラス容器内に、化合物（Ａ１－１）の１．３５ｇおよび化合物（Ｂ１１－１）の０．１５ｇをあらかじめ調合した混合物を徐々に添加した後、２５℃にて１時間撹拌して、組成物１を得た。

［０１６２］ 酸化セリウムで表面を研磨洗浄し、乾燥した清浄なガラス基板（１００ｍｍ×１００ｍｍ×３．５ｍｍ）に、組成物１をスピンコートによって塗布した後、１昼夜（２４時間）、室温（２０～２５℃）、相対湿度４０～６０％にて保持し、物品１を得た。物品１について、接触角、水転落角、耐摩耗性、耐アルカリ性および油脂汚れの除去性を評価した。

結果を表１に示す。物品１は優れた撥水撥油性、耐摩耗性、耐アルカリ性、油脂汚れの除去性を有していた。

［０１６３］ 〔例９〕化合物（Ａ１－１）と化合物（Ｂ１１－１）を含む組成物２の例

撹拌機、温度計がセットされたガラス容器内に、メタノール（純正化学社製）の４８．５ｇ、１０％硝酸水溶液の０．３７ｇを入れ、２５℃にて１０分間撹拌した。ガラス容器内に、化合物（Ａ１－１）の０．３４ｇ、化合物（Ｂ１１－１）の０．０４ｇ、およびテトラメトキシシランの１．１３ｇを徐々に添加した後、５０℃にて３時間撹拌して、組成物２を得た。

［０１６４］ 組成物１の代わりに、組成物２を用いた以外は、例８と同様にして物品２を得た。物品２について、接触角、水転落角、耐摩耗性、耐アルカリ性および油脂汚れの除去性を評価した。結果を表１に示す。物品２は、優れた撥水撥油性、耐摩耗性、油脂汚れの除去性を有していた。

［０１６５］ 〔例１０〕化合物（Ａ１－１）と化合物（Ｂ１２－１）を含む組成物３の例

化合物（Ｂ１１－１）の代わりに、化合物（Ｂ１２－１）の０．０２ｇを用いた以外は、例９と同様にして組成物３を得た。

組成物１の代わりに、組成物３を用いた以外は、例８と同様にして物品３を得た。物品３について、接触角および油脂汚れの除去性を評価した。結果を表１に示す。物品３は、優れた撥水撥油性、油脂汚れの除去性を有していた。

［０１６６］ 〔例１１（比較例）〕化合物（Ｂ１２－１）からなる組成物４の例

化合物（Ａ１－１）と化合物（Ｂ１１－１）の全量の代わりに、化合物（Ｂ１２－１）の０．１６ｇを用いた以外は、例９と同様にして組成物４を得た。

組成物１の代わりに、組成物４を用いた以外は、例８と同様にして物品４を得た。物品４について、接触角および油脂汚れの除去性を評価した。結果を表１に示す。物品４は、撥水撥油性に劣っていた。

［０１６７］ 〔例１２（比較例）〕化合物（２）からなる組成物５の例

撹拌機、温度計がセットされたガラス容器内に、Ｒ－２２５の１９ｇ、化合物（２）（ダイキン工業社製、オプツールＤＳＸ）の１ｇを入れて、２５℃にて１０分間撹拌して、組成物５を得た。

組成物１の代わりに、組成物５を用いた以外は、例８と同様にして物品５を得た。物品５について、接触角、水転落角、耐摩耗性、耐アルカリ性および油脂汚れの除去性を評価した。結果を表１に示す。物品５は、油脂汚れの除去性に劣っていた。

〔例１３〕化合物（Ａ６－１）と化合物（Ｂ１１－１）を含む組成物６の例

例８と同様の方法で、化合物（Ａ１－１）の代わりに、化合物（Ａ６－１）の０．４ｇを用いて組成物６を調製し、物品６を得た。物品６について、接触角および油脂汚れの除去性を評価した結果を表１に示す。物品６は、優れた撥水撥油性、油脂汚れの除去性を有していた。

〔例１４〕化合物（Ａ７－１）と化合物（Ｂ１１－１）を含む組成物７の例

例８と同様の方法で、化合物（Ａ１－１）の代わりに、化合物（Ａ７－１）の０．４ｇを用いた以外は、例８と同様にして組成物７を調製し、物品７を得た。物品７について、接触角および油脂汚れの除去性を評価した結果を表１に示す。物品７は、特に優れた撥水撥油性、油脂汚れの除去性を有していた。

［０１６８］［表１］

［図：0001398257000003.jpg］

・・・」

イ 甲１に記載された発明

上記甲１の記載のうち、摘記（甲１ｃ）の段落［０１６７］に記載の例１３に着目すると、甲１には、

「撹拌機、温度計がセットされたガラス容器内に、メタノール（純正化学社製）の４８．５ｇ、１０％硝酸水溶液の０．３７ｇを入れ、２５℃にて１０分間撹拌し、ガラス容器内に、化合物（Ａ６－１）の０．４ｇおよび化合物（Ｂ１１－１）の０．１５ｇをあらかじめ調合した混合物を徐々に添加した後、２５℃にて１時間撹拌して得られた、組成物６であって、化合物（Ａ６－１）および化合物（Ｂ１１－１）が各々下記式にて示される組成物６。

化合物（Ａ６－１）：

ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨ（Ｓｉ（ＯＣＨ３）３））ｘ－Ｈ （Ｍｎは１１００であり、１Ｈ－ＮＭＲ分析によるｘの平均値は１．４であり、分子量分布は１．０９。）

化合物（Ｂ１１－１）：

（ＣＨ３Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）３ＮＨＣ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ｕＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ （ｕの平均値：８．５）」の発明（以下「甲１発明Ａ」という。）、および、

「甲１発明Ａの組成物６を、酸化セリウムで表面を研磨洗浄し、乾燥した清浄なガラス基板（１００ｍｍ×１００ｍｍ×３．５ｍｍ）にスピンコートによって塗布した後、１昼夜（２４時間）、室温（２０～２５℃）、相対湿度４０～６０％にて保持して得られた物品６」の発明（以下「甲１発明Ｂ」という。）が記載されているといえる。

なお、上記摘記（甲１ｃ）のうち、段落［０１５２］の第１４行目には化合物（Ａ６－１）に関し「ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨ（Ｓｉ（ＯＣＨ３）２））ｘ－Ｈ （Ａ６－１）」という記載があるが、同段落第７－１０行目の化合物（Ｄ９－４）を化合物（Ａ６－１）に変換する工程に関する記載「化合物（Ｄ９－４）中の－ＣＦ２ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨ（Ｓｉ（ＯＣＨ３）３））ｘ－Ｉの９９．９モル％が－ＣＦ２ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨ（Ｓｉ（ＯＣＨ３）３））ｘ－Ｈに変換され、－（ＯＣＦ２Ｏ）－単位が存在しない化合物であることを確認した。」やＳｉの価電子数が４であるという技術常識を考慮すると、第１４行目の「ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨ（Ｓｉ（ＯＣＨ３）２））ｘ－Ｈ （Ａ６－１）」の「Ｓｉ（ＯＣＨ３）２」は「Ｓｉ（ＯＣＨ３）３」の誤記であると認められる。

（２）本件発明１について

ア 甲１発明Ａとの対比

本件発明１と甲１発明Ａとを対比する。

甲１発明Ａの「化合物（Ｂ１１－１）：

（ＣＨ３Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）３ＮＨＣ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ｕＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ （ｕの平均値：８．５）」は、ＣＦ２Ｏ単位と［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］鎖および２個のＳｉ（ＣＨ３Ｏ）３構造を含み、またアミドシラン構造を有するものの、該構造を両末端に２つ有する化合物であるから、本願発明１の「（ＣＦ２Ｏ）単位を含むポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および２個以上の前記式（Ｉ）で表される基を有する化合物」である「含フッ素エーテル化合物（Ａ）」に相当する。

甲１発明Ａの「化合物（Ａ６－１）：

ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨ（Ｓｉ（ＯＣＨ３）３））ｘ－Ｈ （Ｍｎは１１００であり、１Ｈ－ＮＭＲ分析によるｘの平均値は１．４であり、分子量分布は１．０９。）」は、（ＣＦ２Ｏ）構造を含まない［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］鎖を有し、Ｓｉ（ＯＣＨ３）３を平均で１．４個有するものであって、アミドシラン構造を有しないものであるから、本願発明１の「（ＣＦ２Ｏ）単位を含まないポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および２個以上の前記式（Ｉ）で表される基を有する化合物」である「含フッ素エーテル化合物（Ｂ）（但し、下記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有アミドシラン及び下記式（Ａ）で表される化合物を除く）」と、「（ＣＦ２Ｏ）単位を含まないポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および式（Ｉ）で表される基を有する化合物（但し、下記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有アミドシランを除く）」である限りにおいて一致する。

甲１発明Ａの「組成物６」は含フッ素エーテル化合物を含むものであるから、本件発明１の「含フッ素エーテル組成物」に相当する。

そうすると、本件発明１と甲１発明Ａは、

「含フッ素エーテル化合物（Ａ）と含フッ素エーテル化合物（Ｂ）（但し、下記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有アミドシランを除く）とを含み、

前記含フッ素エーテル化合物（Ａ）が、（ＣＦ２Ｏ）単位を含むポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および２個以上の下式（Ｉ）で表される基を有する化合物であり、

前記含フッ素エーテル化合物（Ｂ）が、（ＣＦ２Ｏ）単位を含まないポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および前記式（Ｉ）で表される基を有する化合物であることを特徴とする含フッ素エーテル組成物。

－ＳｉＲｎＬ３－ｎ・・・（Ｉ）

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ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、

Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、

ｎは０～２の整数であり、

ｎが０または１のとき（３－ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、

ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよく、

前記含フッ素エーテル化合物（Ａ）および前記含フッ素エーテル化合物（Ｂ）それぞれが有する前記式（Ｉ）で表される基は同一であっても異なっていてもよい。

【化１】

［図：0001398257000004.jpg］

［式（１）中：

Ｒｆは、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し；

ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、－（ＯＣ４Ｆ８）ａ－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ－（ＯＣＦ２）ｄ－を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；

Ｘ１は、単結合または２価の有機基を表し；

Ｒ１は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表し；

Ｒ２は、－Ｘ２－ＳｉＱ１ｋＹ１３－ｋを表し；

Ｘ２は、２価の有機基を表し；

Ｙ１は、加水分解可能な基を表し；

Ｑ１は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表し；

ｐは、０または１であり；

ｋは、０～２の整数である。］」の点で一致し、以下の２点で相違する。

＜相違点１＞

本件発明１は、含フッ素エーテル化合物（Ｂ）に関して、式（Ｉ）で表される基を「２個以上」有するのに対し、甲１発明Ａは－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３で表される基を「平均で１．４」個有する点

＜相違点２＞

本件発明１は、含フッ素エーテル化合物（Ｂ）に関して、式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有アミドシランのみならず式（Ａ）で表される化合物も除くものであるのに対し、甲１発明Ａはそのような特定がない点

イ 新規性に関する検討

事案に鑑み、上記相違点２について検討する。

甲１発明Ａは、化合物（Ａ６－１）として「ＣＦ３Ｏ［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ２ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨ（Ｓｉ（ＯＣＨ３）３））ｘ－Ｈ （Ｍｎは１１００であり、１Ｈ－ＮＭＲ分析によるｘの平均値は１．４であり、分子量分布は１．０９。）」を含有するものであり、該化合物（Ａ６－１）は上記摘記（甲１ａ）にある請求の範囲［１］における式（Ａ）：ＲＦ１Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａＣＦ２－（Ｑ）ｂ（－（ＣＨ２）ｄ－ＳｉＬｐＲ３－ｐ）ｃで表される化合物の具体的な態様であると認められるところ、甲１の該式（Ａ）で表される化合物は本件発明１における「含フッ素エーテル化合物（Ｂ）（但し、下記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有アミドシラン及び下記式（Ａ）で表される化合物を除く）」から除かれる式（Ａ）で表される化合物に相当するものであるから、甲１発明Ａの化合物（Ａ６－１）は本件発明１の「含フッ素エーテル化合物（Ｂ）（但し、下記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有アミドシラン及び下記式（Ａ）で表される化合物を除く）」から除かれるものであり、該「含フッ素エーテル化合物（Ｂ）（但し、下記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有アミドシラン及び下記式（Ａ）で表される化合物を除く）」に該当しないものである。

また、甲１発明Ａは、他の成分として本件発明１の「含フッ素エーテル化合物（Ｂ）（但し、下記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有アミドシラン及び下記式（Ａ）で表される化合物を除く）」に相当する化合物を含有するものではない。

そうすると、相違点２は実質的な相違点である。

よって、甲１発明Ａと本件発明１とは、上記相違点２に関して実質的に相違するものであり、相違点１について検討するまでもなく、本件発明１は、甲１に記載された発明ではない。

ウ 進歩性に関する検討

次に、上記イにて実質的な相違点であるとした相違点２について、甲１の記載から容易に発明をすることができたか否かを検討する。

甲１の上記摘記やそれ以外の箇所の記載を参照しても、含フッ素エーテル化合物として組成物中に含まれるのは、式（Ａ）：ＲＦ１Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａＣＦ２－（Ｑ）ｂ（－（ＣＨ２）ｄ－ＳｉＬｐＲ３－ｐ）ｃで表される化合物および該式（Ａ）で表される化合物と部分加水分解可能な化合物（Ｂ）、または、式（Ａ）で表される化合物と該式（Ａ）で表される化合物と部分加水分解可能な化合物（Ｂ）との部分加水分解縮合物のみであり、それ以外の、本件発明１にて特定された「含フッ素エーテル化合物（Ｂ）（但し、下記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有アミドシラン及び下記式（Ａ）で表される化合物を除く）」のような構造を有する化合物を組成物に添加することは記載も示唆もされていない。

そうすると、甲１の記載を参照しても、甲１発明Ａに本件発明１にて特定された「含フッ素エーテル化合物（Ｂ）（但し、下記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有アミドシラン及び下記式（Ａ）で表される化合物を除く）」のような構造を有する化合物を含有させることは動機づけられず、当業者が容易に想到し得たことであるとはいえない。

エ 小括

よって、本件発明１は、相違点１を検討するまでもなく、甲１に記載された発明ではなく、また、甲１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。

（３）本件発明３，４，１０，１３及び１４について

本件発明３，４，１０，１３及び１４は、本件発明１を直接又は間接的に引用するものであり、本件発明１について上記（２）で述べたのと同じ理由により、甲１に記載された発明ではなく、また、甲１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。

２ 当審の判断のまとめ

以上より、本件発明１，３，４，１０，１３及び１４は甲１に記載された発明ではなく、また、甲１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。

第６ むすび

以上のとおり、上記本件訂正は適法であるから、これを認める。

そして、取消理由通知に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した申立理由によっては、本件請求項１，３，４，１０，１３及び１４に係る特許を取り消すことはできない。

また、他に本件請求項１，３，４，１０，１３及び１４に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。

よって、結論のとおり決定する。