2019-700034

特許第６３６７４２６号発明「溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

【結　論】 特許第６３６７４２６号の請求項１～１２に係る特許を維持する。

【理　由】 第１　手続の経緯 特許第６３６７４２６号（以下、「本件特許」という。）の請求項１～１２に係る特許についての出願は、２０１４年（平成２６年）３月７日（優先権主張　平成２５年３月１３日）を国際出願日とする特願２０１５－５０５４３６号の一部を平成２９年５月２２日に新たな特許出願（特願２０１７－１００６８１号）としたものであって、平成３０年７月１３日に特許権の設定登録がされ、同年８月１日に特許掲載公報が発行され、その後、平成３１年１月１８日付けで請求項１～１２（全請求項）に係る本件特許に対し、特許異議申立人である大島裕子（以下、「申立人」という。）によって特許異議の申立てがされ、同年４月２３日付けで当審から取消理由が通知され、令和１年６月２８日付けで特許権者から意見書が提出されたものである。 第２　当審の判断 １　本件発明 本件特許の特許請求の範囲の請求項１～１２に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」～「本件発明１２」という。）は、特許請求の範囲の請求項１～１２に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 「【請求項１】 スラリーを溶射して溶射皮膜を形成するための溶射用スラリーであり、 １０質量％以上８５質量％以下の量でセラミック粒子と、アニオン性高分子凝集剤及びカチオン性分散剤から選ばれる少なくとも一種を含有し、 前記セラミック粒子は、酸化イットリウム、酸化アルミニウム、酸化シリコン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、イットリア安定化酸化ジルコニウム、酸化クロム、酸化亜鉛、ムライト、イットリウムアルミニウムガーネット、コージェライト、ジルコン、炭化ホウ素、スピネルセラミックス、希土類元素を含んだ酸化物セラミックス、及び、アルミニウム、シリコン、マンガン、亜鉛、カルシウム、ナトリウム、リン、フッ素、又はホウ素を含んだ複酸化物セラミックスから選ばれる少なくとも一種を含む粒子であり、前記セラミック粒子の比表面積から算出される平均粒子径が２００ｎｍ以上５μｍ以下であり、 １ｍＰａ・ｓ以上且つ３０００ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有する溶射用スラリーであって、 １Ｌの容積を有する高さ１６．５ｃｍの容器内に前記溶射用スラリーを７００ｍＬ入れて室温下で一週間静置したときに沈殿を生じることを特徴とする溶射用スラリー。 【請求項２】 前記アニオン性高分子凝集剤は、イソブチレン－マレイン酸共重合体、及びカルボキシビニルポリマーから選ばれる少なくとも一種である請求項１に記載の溶射用スラリー。 【請求項３】 前記カチオン性分散剤は、ポリアルキレンポリアミン系分散剤、及びイミダゾリン系分散剤から選ばれる少なくとも一種である請求項１又は２に記載の溶射用スラリー。 【請求項４】 粘度調整剤をさらに含有する請求項１～３のいずれか一項に記載の溶射用スラリー。 【請求項５】 前記粘度調整剤は、ポリエーテルである請求項４に記載の溶射用スラリー。 【請求項６】 前記溶射用スラリーのｐＨは、６～１１である請求項１～５のいずれか一項に記載の溶射用スラリー。 【請求項７】 分散媒として水を含んだ請求項１～６のいずれか一項に記載の溶射用スラリーを高速フレーム溶射して溶射皮膜を形成する溶射皮膜の形成方法。 【請求項８】 分散媒として有機溶剤を含んだ請求項１～６のいずれか一項に記載の溶射用スラリーをプラズマ溶射して溶射皮膜を形成する溶射皮膜の形成方法。 【請求項９】 前記溶射用スラリーをアクシャルフィード方式で溶射装置に供給することを含む請求項７又は８に記載の溶射皮膜の形成方法。 【請求項１０】 前記溶射用スラリーを、２つのフィーダーを用いて、両フィーダーからの溶射用スラリーの供給量の変動周期が互いに逆位相となるようにして溶射装置に供給することを含む請求項７又は８に記載の溶射皮膜の形成方法。 【請求項１１】 前記溶射用スラリーをフィーダーから送り出して溶射装置の直前でタンクにいったん貯留し、自然落下を利用してそのタンク内の溶射用スラリーを溶射装置に供給することを含む請求項７又は８に記載の溶射皮膜の形成方法。 【請求項１２】 導電性チューブを介して溶射装置へ溶射用スラリーを供給することを含む請求項７又は８に記載の溶射皮膜の形成方法。」 ２　取消理由通知に記載した取消理由について （１）取消理由の内容 平成３１年４月２３日付けで当審から特許権者に通知した取消理由の内容は以下のとおりである。 ・取消理由（明確性要件違反・実施可能要件違反） 請求項１には、「セラミック粒子は」「１Ｌの容積を有する高さ１６．５ｃｍの容器内に前記溶射用スラリーを７００ｍＬ入れて室温下で一週間静置したときに沈殿を生じる」という記載がある。 しかし、上記記載に関し、発明の詳細な説明の記載（【００１２】【００１５】、【００３６】、【００４７】、【００４８】～【００５０】（表１～３）、【００５６】）を参酌しても、「沈殿が生じたか否かの客観的な基準」は明らかにならない。 したがって、本件発明１、及び、引用により本件発明１の特定事項を全て備える本件発明２～１２は明確であるとはいえず、発明の詳細な説明の記載は、当業者が本件発明１～１２を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されているということもできない。 よって、本件特許の請求項１～１２に係る特許は、特許法第３６条第６項第２号及び同条第４項第１項に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 （２）意見書を踏まえた当審の判断 ア　前記（１）の取消理由に対し、特許権者は、令和１年６月２８日付け意見書において、「実施例１０」と「比較例１」の溶射スラリーの沈降性を評価した乙第１号証の実験成績証明書を添付した上で、「乙第１号証に示されるように、実施例１０の溶射用スラリーは沈殿が生じていることが目視にて明確に確認することができる。つまり、溶液の上部に透明部分が生じており、スラリーが沈殿していることをはっきりと確認することができる。一方、比較例１は、溶液の上部に透明部分がなく、沈殿が生じていないことは明白である。」（第３頁第３～７行。下線は特許権者による。）と主張している。 イ　前記アの主張どおり、乙第１号証の図１、２によれば、目視によって、溶液の上部に透明部分が生じ、沈殿部分との境界を明確に確認することができるか否かによって、沈殿が生じたか否かを判断することができるものと認められ、この評価基準は、客観的であって、本件特許の出願時の技術常識に基づいても妥当なものであると認められる。 ウ　したがって、特許権者による前記アの主張により、前記（１）の取消理由は、いずれも解消した。 ３　取消理由通知において採用しなかった特許異議申立理由について （１）取消理由通知で採用しなかった特許異議申立理由の概要 申立人が主張した異議申立理由のうち、取消理由通知で採用しなかったものの概要は以下のとおりである。 ア　申立理由１（サポート要件違反） 請求項１には、「溶射用スラリー」が含有する「セラミック粒子」の材料について、「酸化イットリウム、酸化アルミニウム、酸化シリコン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、イットリア安定化酸化ジルコニウム、酸化クロム、酸化亜鉛、ムライト、イットリウムアルミニウムガーネット、コージェライト、ジルコン、炭化ホウ素、スピネルセラミックス、希土類元素を含んだ酸化物セラミックス、及び、アルミニウム、シリコン、マンガン、亜鉛、カルシウム、ナトリウム、リン、フッ素、又はホウ素を含んだ複酸化物セラミックスから選ばれる少なくとも一種を含む」と記載されている。 しかし、発明の詳細な説明の実施例においては、セラミック粒子として、実施例で、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＹＳＺの３種、参考例まで含めても、さらに（Ｌａ－Ｙｂ－Ａｌ－Ｓｉ－Ｚｎ）Ｏ、（Ｌａ－Ａｌ－Ｓｉ－Ｃａ－Ｎａ－Ｐ－Ｆ－Ｂ）Ｏの２種、合計で５種の材料からなるものが記載されているのみである。 そして、含有されるセラミック粒子の材料が異なれば、溶射用スラリーにおける分散安定性、沈降性、流動性等が異なることは明らかであり、請求項１に記載されたどのセラミック粒子材料を含有する溶射用スラリーであっても、実施例・参考例に記載された上記５種のセラミック粒子と同等の効果を奏するとはいえないから、出願時の技術常識に照らしても、本件発明１の範囲まで、発明の詳細な説明に開示された内容を拡張ないし一般化できるとはいえない。 よって、本件発明１は、発明の詳細な説明に記載したものであるとはいえない。 同様の理由によって、引用によって本件発明１の特定事項を全て備える本件発明２～１２についても、発明の詳細な説明に記載したものであるとはいえない。 イ　申立理由２（実施可能要件違反） 申立理由１のとおり、本件発明１～１２は発明の詳細な説明に記載したものであるとはいえないから、発明の詳細な説明の記載は、当業者が本件発明１～１２を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されているとはいえない。 （２）当審の判断 ア　申立理由１（サポート要件違反）について （ア）特許請求の範囲の記載がサポート要件に適合するか否かは、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載とを対比し、特許請求の範囲に記載された発明が、発明の詳細な説明に記載された発明で、発明の詳細な説明の記載により当業者が当該発明の課題を解決できると認識し得る範囲のものであるか否か、また、発明の詳細な説明に記載や示唆がなくとも当業者が出願時の技術常識に照らし当該発明の課題を解決できると認識し得る範囲のものであるか否かを検討して判断すべきである。 （イ）そこで、本件発明１について検討すると、本件特許の願書に添付した明細書の発明の詳細な説明（以下、「発明の詳細な説明」という。）には以下の記載がある。なお、「・・・」は記載の省略を表し、下線は当審が付した（以下同様）。 「【０００３】 セラミック溶射皮膜は、セラミック粒子を含んだスラリーを溶射して形成することが可能である・・・。しかしながら、スラリーの溶射は、粉末の溶射に比べて溶射効率が低いという問題がある。スラリー溶射の溶射効率を向上させるためには、スラリー中に含まれるセラミック粒子の量を増やすことが有効である。しかしながらこの場合、スラリーの流動性が低下し、その結果、溶射皮膜の形成が困難になることがある。」 「【発明が解決しようとする課題】 【０００５】 そこで本発明の目的は、セラミック溶射皮膜を良好に形成することの可能な溶射用スラリーを提供することにある。また、本発明の別の目的は、その溶射用スラリーを用いて形成される溶射皮膜の形成方法を提供することにある。」 「【００１６】 溶射用スラリー中のセラミック粒子の含有量・・・は、１０質量％以上であることが好ましく・・・この場合、溶射用スラリーから単位時間あたりに製造される溶射皮膜の厚さ、すなわち溶射効率を向上させることが容易となる。 【００１７】 溶射用スラリー中のセラミック粒子の含有量はまた、８５質量％以下であることが好ましく・・・この場合、溶射装置への良好な供給に適した所要の流動性を有する溶射用スラリー、すなわち溶射皮膜の形成に十分な所要の流動性を有する溶射用スラリーを得ることが容易となる。」 「【００２２】 溶射用スラリーの粘度は３０００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく・・・粘度が低くなるにつれて、溶射皮膜の形成に十分な所要の流動性を有する溶射用スラリーを得ることが容易となる。」 「【００３８】 ・・・ （作用） 以上説明した第１及び第２実施形態の溶射用スラリーは、セラミック粒子の含有量が８５質量％以下であって粘度が３０００ｍＰａ・ｓ以下であるために、溶射用スラリー中のセラミック粒子の含有量が比較的高い場合でも、溶射装置への良好な供給に適した所要の流動性を有しうる。すなわち、溶射皮膜の形成に十分な所要の流動性を有しうる。しかも、セラミック粒子の含有量が１０質量％以上であることにより、溶射用スラリーは所要の溶射効率を確保することができる。 【００３９】 （効果） したがって、第１及び第２実施形態によれば、セラミック溶射皮膜を良好に形成することの可能な溶射用スラリーが提供される。」 「【００４７】 次に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。 セラミック粒子を分散媒と混合し、必要に応じて分散剤、粘度調整剤又は凝集剤をさらに混合することにより、実施例５，１０～１４，２４，２５，２８～３２、参考例１～４，６～９，１５～２３，２６，２７，３３～４２及び比較例１～３の溶射用スラリーを調製した。各溶射用スラリーの詳細を表１～３に示す。 【００４８】 【表１】 【００４９】 【表２】 【００５０】 【表３】 【００５１】 表１～３中の“セラミック粒子の種類”欄には、各溶射用スラリーで使用したセラミック粒子の種類を示す。同欄中、“Ａｌ２Ｏ３”は酸化アルミニウムを表し、“Ｙ２Ｏ３”は酸化イットリウムを表し、“ＹＳＺ”はイットリア安定化酸化ジルコニウムを表す。“（Ｌａ－Ｙｂ－Ａｌ－Ｓｉ－Ｚｎ）Ｏ”はランタン、イッテルビウム、アルミニウム、シリコン及び亜鉛を含んだ複酸化物セラミックスを表す。“（Ｌａ－Ａｌ－Ｓｉ－Ｃａ－Ｎａ－Ｐ－Ｆ－Ｂ）Ｏ”は、ランタン、アルミニウム、シリコン、カルシウム、ナトリウム、リン、フッ素及びホウ素を含んだ複酸化物セラミックスを表す。 【００５２】 表１～３中の“セラミック粒子の平均粒子径”欄には、各溶射用スラリーで使用したセラミック粒子の平均粒子径を示す。平均粒子径は、マイクロメリティックス社製の比表面積測定装置“Ｆｌｏｗ　ＳｏｒｂＩＩ　２３００”を用いて測定されるセラミック粒子の比表面積から算出した。 【００５３】 表１～３中の“セラミック粒子の含有量”欄には、各溶射用スラリー中のセラミック粒子の含有量を示す。 表１～３中の“分散剤”欄には、各溶射用スラリーで使用した分散剤の種類を示す。同欄中のハイフン（－）は、分散剤を使用していないことを表す。分散剤を使用する場合には、溶射用スラリー中の分散剤の含有量が２質量％になる量で使用した。 【００５４】 表１～３中の“粘度調整剤”欄には、各溶射用スラリーで使用した粘度調整剤の種類を示す。同欄中の“ＰＥＧ”はポリエチレングリコールを表し、ハイフン（－）は粘度調整剤を使用していないことを表す。粘度調整剤を使用する場合には、溶射用スラリー中の粘度調整剤の含有量が２質量％になる量で使用した。 【００５５】 表１～３中の“凝集剤”欄には、各溶射用スラリーで使用した凝集剤の種類を示す。同欄中のハイフン（－）は、凝集剤を使用していないことを表す。凝集剤を使用する場合には、溶射用スラリー中の凝集剤の含有量が２質量％になる量で使用した。 【００５６】 表１～３中の“粘度”欄には、リオン株式会社製のビスコテスターＶＴ－０３Ｆを用いて各溶射用スラリーの粘度を室温で測定した結果を示す。 表１～３中の“沈降性”欄には、１Ｌの容積を有する高さ１６．５ｃｍの容器内に各溶射用スラリーを７００ｍＬ入れて室温下で一週間静置したときに沈殿が生じたか否かを評価した結果を示す。同欄中の“沈降せず”は沈殿が生じなかったことを表し、“沈降”は沈殿が生じたことを表す。 【００５７】 表１～３中の“成膜性その１”欄には、表４に記載の条件で各溶射用スラリーを大気圧プラズマ溶射したときに溶射皮膜を得ることができたか否かを評価した結果を示す。同欄中の“○（良好）”は、１パスあたりに形成される溶射皮膜の厚さが０．５μｍ以上であったことを表し、“×（不良）”はそれが０．５μｍ未満であったかあるいは溶射用スラリーの供給ができなかったことを表し、“－”は未試験を表す。なお、１パスとは、溶射装置（溶射ガン）が、溶射装置又は溶射対象（基材）の運行方向に沿って行う１回の溶射操作のことをいう。 【００５８】 表１～３中の“成膜性その２”欄には、表５に記載の条件で各溶射用スラリーをＨＶＯＦ溶射したときに溶射皮膜を得ることができたか否かを評価した結果を示す。同欄中の“○（良好）”は、１パスあたりに形成される溶射皮膜の厚さが２μｍ以上であったことを表し、“×（不良）”はそれが２μｍ未満であったかあるいは溶射用スラリーの供給ができなかったことを表す。 【００５９】 【表４】 【００６０】 【表５】 表１～３に示すように、各実施例の溶射用スラリーの場合、成膜性の評価がいずれも良好であった。また、表１～３中には示していないが、各実施例の溶射用スラリーから得られた溶射皮膜はいずれも、気孔率が１０％以下と高い緻密度であった。」 （ウ）前記（イ）の記載によれば、発明の詳細な説明には、以下の事項が記載されているものと認められる。 ａ　従来、セラミック粒子を含んだスラリーを溶射してセラミック溶射皮膜を形成することは可能であったものの、スラリーの溶射には、粉末の溶射に比べて溶射効率（溶射用スラリーから単位時間あたりに製造される溶射皮膜の厚さ）（【００１６】）が低いという問題があった（【０００３】）。 また、スラリー溶射の溶射効率を向上させるためにスラリー中に含まれるセラミック粒子の量を増やすと、溶射装置への良好な供給に適した所要の流動性を有する溶射用スラリー、すなわち溶射皮膜の形成に十分な所要の流動性を有する溶射用スラリー（【００１７】）を得ることができず、その結果、溶射被膜の形成が困難になるという問題があった（【０００３】）。 ｂ　請求項１に係る発明は、前記ａの事情に鑑みてなされたもので、セラミック溶射皮膜を良好に形成することの可能な溶射用スラリーを提供することを、発明が解決しようとする課題（以下、「本件課題」という。）とする（【０００５】）。 ここで、上記「セラミック溶射皮膜を良好に形成することの可能な溶射用スラリー」とは、前記ａに照らせば、「溶射効率（溶射用スラリーから単位時間あたりに製造される溶射皮膜の厚さ）が高く、溶射装置への良好な供給に適した所要の流動性、すなわち溶射皮膜の形成に十分な所要の流動性を有する溶射用スラリー」を意味する。 ｃ　そして、本件課題は、溶射用スラリー中のセラミック粒子の含有量を１０質量％以上として、溶射効率を向上させるとともに（【００１６】【００３８】）、セラミック粒子の含有量を８５質量％以下にした上で溶射用スラリーの粘度を３０００ｍＰａ・ｓ以下として、溶射装置への良好な供給に適した所要の流動性を確保すること（【００１７】【００２２】【００３８】）によって解決される（【００３９】）。 以上のことを、溶射用スラリー中のセラミック粒子の含有量が１０質量％以上８５質量％以下の範囲にあり、溶射用スラリーの粘度が３０００ｍＰａ・ｓ以下の範囲にある「参考例１～９、１５～２３、２６、２７、３３～４２」及び「実施例１０～１４、２４、２５、２８～３２」について確認すると（表１～３（【００４８】～【００５０】））、溶射用スラリー中のセラミック粒子の含有量は、１０質量％（参考例２６、２７、３３、３４）～７０質量％（実施例１１～１４）の範囲になっており、溶射用スラリーの粘度は、１ｍＰａ・ｓ（参考例２６、２７、実施例２９、３０、参考例３３、３４、３９～４２）～２８３０ｍＰａ・ｓ（参考例４）となっており、いずれも「成膜性その２」（【００５８】）の結果が「○（良好）」（１パスあたりに形成される溶射皮膜の厚さが２μｍ以上）となっており、さらに「成膜性その１」（【００５７】）を評価したものについては、その結果が「○（良好）」（１パスあたりに形成される溶射皮膜の厚さが０．５μｍ以上）となっている。 （エ）以上によれば、本件課題の解決手段である「１０質量％以上８５質量％以下の量でセラミック粒子」「を含有し、」「１ｍＰａ・ｓ以上且つ３０００ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有する溶射用スラリー」であることが特定されている本件発明１は、当業者が課題を解決できると認識し得る範囲のものであるといえるから、本件発明１は、発明の詳細な説明に記載されたものである。 （オ）同様の理由により、引用により本件発明１の特定事項を全て備える本件発明２～１２についても、発明の詳細な説明に記載されたものである。 （カ）申立人は、含有されるセラミック粒子の材料が異なれば、溶射用スラリーにおける分散安定性、沈降性、流動性等が異なることは明らかであり、請求項１に記載されたどのセラミック粒子材料を含有する溶射用スラリーであっても、実施例・参考例に記載された上記５種のセラミック粒子と同等の効果を奏するとはいえないから、出願時の技術常識に照らしても、請求項１に係る発明の範囲まで、発明の詳細な説明に開示された内容を拡張ないし一般化できるとはいえないと主張する。 しかし、前記（エ）のとおり、本件課題は、溶射用スラリーが「１０質量％以上８５質量％以下の量でセラミック粒子」「を含有し、」「１ｍＰａ・ｓ以上且つ３０００ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有する」ものであることを特定すれば解決されるものであり、本件課題が解決されるか否かは、溶射用スラリーに含有されるセラミック粒子の材質には依らないものといえる。 したがって、請求項１に記載されたどのセラミック粒子材料を含有する溶射用スラリーであっても、セラミック粒子の含有量及び粘度を，それぞれ「１０質量％以上８５質量％以下」及び「１ｍＰａ・ｓ以上且つ３０００ｍＰａ・ｓ以下」の範囲に調製すれば本件課題を解決できることは、発明の詳細な説明の記載に接した当業者であれば理解できることである。 よって、申立人の上記主張を採用することはできない。 （キ）よって、申立理由１には理由がない。 イ　申立理由２（実施可能要件違反）について （ア）発明の詳細な説明には、 「セラミック粒子を分散媒と混合し、必要に応じて分散剤、粘度調整剤又は凝集剤をさらに混合することにより、実施例５，１０～１４，２４，２５，２８～３２、参考例１～４，６～９，１５～２３，２６，２７，３３～４２及び比較例１～３の溶射用スラリーを調製した。各溶射用スラリーの詳細を表１～３に示す。」（【００４７】）、 「平均粒子径は、マイクロメリティックス社製の比表面積測定装置“Ｆｌｏｗ　ＳｏｒｂＩＩ　２３００”を用いて測定されるセラミック粒子の比表面積から算出した。」（【００５２】） と記載されている。 したがって、当業者であれば、上記記載に基づいて、「酸化イットリウム、酸化アルミニウム、酸化シリコン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、イットリア安定化酸化ジルコニウム、酸化クロム、酸化亜鉛、ムライト、イットリウムアルミニウムガーネット、コージェライト、ジルコン、炭化ホウ素、スピネルセラミックス、希土類元素を含んだ酸化物セラミックス、及び、アルミニウム、シリコン、マンガン、亜鉛、カルシウム、ナトリウム、リン、フッ素、又はホウ素を含んだ複酸化物セラミックスから選ばれる少なくとも一種を含む」「セラミック粒子」について、「比表面積から算出される平均粒子径が２００ｎｍ以上５μｍ以下」のものを、溶射用スラリーに対し「１０質量％以上８５質量％以下の量」計量し、「アニオン性高分子凝集剤及びカチオン性分散剤から選ばれる少なくとも一種」とともに、分散媒と混合して溶射用スラリーを調製することは実施可能である。 （イ）その上で、発明の詳細な説明には、「リオン株式会社製のビスコテスターＶＴ－０３Ｆを用いて各溶射用スラリーの粘度を室温で測定した」（【００５６】）と記載されているから、当業者であれば、前記（ア）の溶射用スラリーを調製する際に、溶射用スラリーの粘度を室温で測定し、その値が「１ｍＰａ・ｓ以上且つ３０００ｍＰａ・ｓ以下」となるように、「セラミック粒子」や「アニオン性高分子凝集剤及びカチオン性分散剤から選ばれる少なくとも一種」等の配合量を適宜決定し、「１Ｌの容積を有する高さ１６．５ｃｍの容器内に前記溶射用スラリーを７００ｍＬ入れて室温下で一週間静置したときに沈殿を生じること」を確認することも実施可能である。 （ウ）したがって、発明の詳細な説明の記載は、当業者が、本件発明１を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されており、同様の理由により、引用により本件発明１の特定事項を全て備える本件発明２～１２を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されている。 （エ）よって、申立理由２には理由がない。 第３　むすび 以上のとおり、請求項１～１２に係る本件特許は、取消理由通知に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した申立理由によっては、取り消すことはできない。 また、他に請求項１～１２に係る本件特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。