2025-700051

特許第７５１５０１７号発明「ウエハ載置台」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７５１５０１７号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１、〔２－７〕について訂正することを認める。 特許第７５１５０１７号の請求項２～７に係る特許を維持する。 特許第７５１５０１７号の請求項１に係る特許についての特許異議の申立てを却下する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第７５１５０１７号の請求項１～６に係る特許（以下、「本件特許」という。）についての出願は、令和４年１０月１４日に出願され、令和６年７月３日にその特許権の設定登録がされ、同年同月１１日に特許掲載公報が発行された。 その後、請求項１～６に係る特許について、令和７年１月８日に特許異議申立人小澤一三（以下、「申立人１」という。）により特許異議の申立てがされ、請求項１、３、６に係る特許について、同年１月１０日に特許異議申立人大隅庸平（以下、「申立人２」という。）により特許異議の申立てがされ、同年３月７日に申立人２により特許異議申立書を対象とする手続補正書（方式）が提出され、同年５月３０日付けで当審により取消理由が通知され、同年７月３１日に特許権者から意見書及び訂正請求書が提出され、さらに、同年９月５日に申立人１から意見書が提出された。 なお、令和７年７月３１日の訂正の請求について、期間を指定して申立人２に意見書を提出する機会を与えたが、申立人２からの応答はなかった。 第２ 訂正の適否について 令和７年７月３１日提出の訂正請求書（以下、「本件訂正請求書」という。）による訂正（以下、「本件訂正」という。）について検討する。 １ 訂正の趣旨 本件訂正の請求の趣旨は、本件特許の特許請求の範囲を、本件訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１～７について訂正することを求める、というものである。 ２ 訂正の内容 本件訂正の内容は、以下のとおりである。（下線は訂正箇所を示すために当審で付した。） （１）訂正事項１ 特許請求の範囲の請求項１を削除する。 （２）訂正事項２ 訂正前の請求項２に「前記ガス分配経路は、ガス分岐部を介して前記ガス共通経路に接続されている、請求項１に記載のウエハ載置台。」と記載されているのを、独立形式の記載に改め、「上面に少なくともウエハ載置部を有するセラミックプレートと、前記セラミックプレートの下面に接合され、冷媒流路を有する冷却プレートと、を備えたウエハ載置台であって、前記ウエハ載置台の内部のうち前記冷媒流路よりも上方に設けられたガス共通経路と、前記冷却プレートの下面から前記ガス共通経路に至るガス導入経路と、１つの前記ガス共通経路に対して複数設けられ、前記ガス共通経路から前記セラミックプレートの上面に至るガス分配経路と、を備え、前記ガス分配経路のうち前記セラミックプレートの最外周に配置されている最外周ガス分配経路は、平面視で前記冷媒流路と重ならない位置に設けられ、前記ガス共通経路は、同心円となるように複数設けられ、前記最外周ガス分配経路は、複数の前記ガス共通経路のうち最外周に位置する前記ガス共通経路と接続され、前記ガス分配経路は、ガス分岐部を介して前記ガス共通経路に接続され、前記ガス分岐部のうち前記最外周ガス分配経路に接続されたガス分岐部は、平面上に延び出ている、ウエハ載置台。」に訂正する（請求項２の記載を引用する請求項３～６も同様に訂正する）。 （３）訂正事項３ 訂正前の請求項３に「前記ガス分配経路のうち少なくとも前記ガス共通経路と接続している部分は、前記ガス共通経路よりも幅が広い、請求項１又は２に記載のウエハ載置台。」と記載されているのを、「前記ガス分配経路のうち少なくとも前記ガス分岐部と接続している部分は、前記ガス共通経路よりも幅が広い、請求項２に記載のウエハ載置台。」に訂正する。 （４）訂正事項４ 訂正前の請求項４に「前記冷却プレートは、金属とセラミックとの複合材料で形成されている、請求項１又は２に記載のウエハ載置台。」と記載されているのを、「前記冷却プレートは、金属とセラミックとの複合材料で形成されている、請求項２に記載のウエハ載置台。」に訂正する。 （５）訂正事項５ ［訂正事項５－１］ 訂正前の請求項５に「前記セラミックプレートの上面には、円形のウエハ載置部と、前記ウエハ載置部を取り囲む環状のフォーカスリング載置部とが設けられ、前記最外周ガス分配経路は、前記ガス共通経路から前記フォーカスリング載置部に至る経路である、請求項１又は２に記載のウエハ載置台。」とあるうち、請求項１を引用する請求項２を引用するものについて、「前記セラミックプレートの上面には、円形のウエハ載置部と、前記ウエハ載置部を取り囲む環状のフォーカスリング載置部とが設けられ、前記最外周ガス分配経路は、前記ガス共通経路から前記フォーカスリング載置部に至る経路である、請求項２に記載のウエハ載置台。」に訂正する。 ［訂正事項５－２］ 訂正前の請求項５に「前記セラミックプレートの上面には、円形のウエハ載置部と、前記ウエハ載置部を取り囲む環状のフォーカスリング載置部とが設けられ、前記最外周ガス分配経路は、前記ガス共通経路から前記フォーカスリング載置部に至る経路である、請求項１又は２に記載のウエハ載置台。」とあるうち、請求項１を引用するものについて、独立形式の記載に改め、「上面に少なくともウエハ載置部を有するセラミックプレートと、前記セラミックプレートの下面に接合され、冷媒流路を有する冷却プレートと、を備えたウエハ載置台であって、前記ウエハ載置台の内部のうち前記冷媒流路よりも上方に設けられたガス共通経路と、前記冷却プレートの下面から前記ガス共通経路に至るガス導入経路と、１つの前記ガス共通経路に対して複数設けられ、前記ガス共通経路から前記セラミックプレートの上面に至るガス分配経路と、を備え、前記ガス分配経路のうち前記セラミックプレートの最外周に配置されている最外周ガス分配経路は、平面視で前記冷媒流路と重ならない位置に設けられ、前記ガス共通経路は、同心円となるように複数設けられ、前記最外周ガス分配経路は、複数の前記ガス共通経路のうち最外周に位置する前記ガス共通経路と接続され、前記セラミックプレートの上面には、円形のウエハ載置部と、前記ウエハ載置部を取り囲む環状のフォーカスリング載置部とが設けられ、前記最外周ガス分配経路は、前記ガス共通経路から前記フォーカスリング載置部に至る経路であり、前記ガス共通経路は、前記フォーカスリング載置部のフォーカスリング支持面よりも低い位置にある、ウエハ載置台。」と記載し、新たに請求項７とする。 （６）訂正事項６ 訂正前の請求項６に「前記セラミックプレートの上面には、円形のウエハ載置部が設けられ、前記最外周ガス分配経路は、前記ガス共通経路から前記ウエハ載置部に至る経路である、請求項１又は２に記載のウエハ載置台。」と記載されているのを、「前記セラミックプレートの上面には、円形のウエハ載置部が設けられ、前記最外周ガス分配経路は、前記ガス共通経路から前記ウエハ載置部に至る経路である、請求項２に記載のウエハ載置台。」に訂正する。 （７）一群の請求項について 訂正前の請求項１～６について、請求項２～６は、請求項１を直接的に引用しているものであって、訂正事項１によって記載が訂正される請求項１に連動して訂正されるものである。したがって、訂正前の請求項１～６に対応する訂正後の請求項１～７は、特許法第１２０条の５第４項に規定する一群の請求項である。 そして、訂正後の請求項２～７に係る訂正について、特許権者は、当該訂正が認められるときに請求項１とは別の訂正単位として扱われることを求めている。 ３ 訂正の適否 以下、訂正の目的の適否、新規事項の有無、及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否について判断する。 なお、特許異議の申立ては、上記第１のとおり、訂正前の全請求項（請求項１～６）に対してされているので、訂正を認める要件として、特許法第１２０条の５第９項において読み替えて準用する同法第１２６条第７項に規定する独立特許要件は課されない。 （１）訂正事項１について ア 訂正の目的の適否 訂正事項１は、訂正前の請求項１を削除するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 訂正事項１は、訂正前の請求項１を削除するものであるから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲及び図面（以下、「本件明細書等」という。）のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において新たな技術的事項を導入するものではなく、本件明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項１は、訂正前の請求項１を削除するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。 （２）訂正事項２について ア 訂正の目的の適否 訂正事項２は、訂正事項１で訂正前の請求項１が削除されて請求項１の記載を引用できなくなったことに伴い、請求項間の引用関係を解消して独立形式の記載へ改めると共に、訂正前の請求項２に記載された「ガス分岐部」について、「前記ガス分岐部のうち前記最外周ガス分配経路に接続されたガス分岐部は、平面上に延び出ている」ことを特定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」及び同項ただし書第４号に掲げる「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること」を目的とするものであると共に、同項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 訂正事項２のうち、請求項間の引用関係を解消して独立形式の記載へ改める訂正は、本件明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において新たな技術的事項を導入するものではなく、本件明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 また、本件明細書等の段落００２６には、「最外周のガス共通経路５３ｂは、半径外方向に延び出した複数のガス分岐部５３ｃを有する。」と記載され、図１及び図３～６から、ガス分岐部のうち最外周ガス分配経路に接続されたガス分岐部５３ｃが平面上に伸び出ている構成が見て取れる。したがって、訂正前の請求項２に記載された「ガス分配経路」について、「前記ガス分岐部のうち前記最外周ガス分配経路に接続されたガス分岐部は、平面上に延び出ている」ことを特定する訂正は、本件明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において新たな技術的事項を導入するものではなく、本件明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項２は、請求項間の引用関係を解消して独立形式の記載へ改めると共に、特許請求の範囲を減縮する訂正であるから、実質的な内容の変更を伴うものではなく、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。 （３）訂正事項３について ア 訂正の目的の適否 訂正事項３は、訂正事項１で訂正前の請求項１が削除されて請求項１の記載を引用できなくなったことに伴い、請求項間の引用関係を解消すると共に、引用する請求項の数を減少させ、さらに、令和７年５月３０日付け取消理由通知書で明確でないとされた記載を明確にするものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」、同項ただし書第４号に掲げる「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること」、及び同項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 （ア）訂正事項３のうち、請求項間の引用関係を解消すると共に、引用する請求項の数を減少させる訂正は、本件明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において新たな技術的事項を導入するものではなく、本件明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 本件明細書等の段落００２６には、「ガス分岐部５３ｃとガス分配経路５３ｅとの接続部分は」「ガス中継溝５３ｄとなっている。ガス中継溝５３ｄの」「幅」「は」「ガス共通経路５３ｂの幅よりも大きく、例えばそれらの１．５～２．５倍である。」と記載されている。また、図１及び図４から、ガス中継溝５３ｄ及びガス分配経路５３ｅは互いに接することが見て取れる。したがって、本件明細書等には、「ガス分岐部とガス分配経路との接続部分であるガス中継溝の幅は、ガス共通経路の幅よりも大きく、ガス中継溝及びガス分配経路は互いに接すること」（以下、「構成Ａ」という。）が記載されている。 ここで、構成Ａにおいて、「ガス中継溝及びガス分配経路は互いに接する」から、ガス中継溝をガス分配経路の一部として、「ガス分岐部とガス分配経路との接続部分であるガス中継溝は、ガス共通経路の幅よりも大き」いことを、「ガス分配経路のうち少なくともガス分岐部と接続している部分は、ガス共通線路よりも幅が広いこと」とすることは、本件明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において新たな技術的事項を導入するものではない。 よって、訂正事項３は、本件明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において新たな技術的事項を導入するものではなく、本件明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （イ）申立人１は、令和７年９月５日提出の意見書の第５頁末行～第６頁第８行において、本件明細書等の段落００２６及び図４によれば、ガス共通経路５３ｂの幅よりも大きいとされている「ガス中継溝５３ｄ」は、「ガス分岐部５３ｃ」でもなく、「ガス分配経路５３ｅ」でもないから、訂正事項３は、本件明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものではない旨主張している。 しかし、上記（ア）のとおりであるから、申立人１の主張を採用することはできない。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項３は、請求項間の引用関係を解消して独立形式の記載へ改めると共に、令和７年５月３０日付け取消理由通知書で明確でないとされた記載を明確にする訂正であるから、実質的な内容の変更を伴うものではなく、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。 （４）訂正事項４及び６について ア 訂正の目的の適否 訂正事項４及び６は、訂正事項１で訂正前の請求項１が削除されて請求項１の記載を引用できなくなったことに伴い、請求項間の引用関係を解消すると共に、引用する請求項の数を減少させる訂正であるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」、同項ただし書第４号に掲げる「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること」、及び同項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 訂正事項４及び６は、請求項間の引用関係を解消すると共に、引用する請求項の数を減少させる訂正であるから、本件明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において新たな技術的事項を導入するものではなく、本件明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項４及び６は、請求項間の引用関係を解消すると共に、引用する請求項の数を減少させる訂正であるから、実質的な内容の変更を伴うものではなく、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。 （５）訂正事項５について ア 訂正の目的の適否 （ア）訂正事項５－１は、訂正事項１で訂正前の請求項１が削除されて請求項１の記載を引用できなくなったことに伴い、請求項間の引用関係を解消する訂正であるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」及び同項ただし書第４号に掲げる「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること」を目的とするものである。 （イ）訂正事項５－２は、訂正事項１で訂正前の請求項１が削除されて請求項１の記載を引用できなくなったことに伴い、請求項間の引用関係を解消して独立形式の記載へ改めると共に、訂正前の請求項５に記載された「ガス共通経路」について、「前記ガス共通経路は、前記フォーカスリング載置部のフォーカスリング支持面よりも低い位置にある」ことを特定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」、同項ただし書第４号に掲げる「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること」、及び同項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 （ア）訂正事項５－１は、訂正事項１で訂正前の請求項１が削除されて請求項１の記載を引用できなくなったことに伴い、請求項間の引用関係を解消する訂正であるから、本件明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において新たな技術的事項を導入するものではなく、本件明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （イ）訂正事項５－２のうち、請求項間の引用関係を解消して独立形式の記載へ改める訂正は、本件明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において新たな技術的事項を導入するものではなく、本件明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 また、本件明細書等の図１から、ガス共通経路５３ｂは、フォーカスリング載置部２４のフォーカスリング支持面２４ｂよりも低い位置にあることが見て取れる。したがって、訂正事項５－２のうち、「ガス共通経路」について、「前記ガス共通経路は、前記フォーカスリング載置部のフォーカスリング支持面よりも低い位置にある」ことを特定する訂正は、本件明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において新たな技術的事項を導入するものではなく、本件明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項５－１は、訂正事項１で訂正前の請求項１が削除されて請求項１の記載を引用できなくなったことに伴い、請求項間の引用関係を解消する訂正であり、訂正事項５－２は、請求項間の引用関係を解消して独立形式の記載へ改めると共に、特許請求の範囲を減縮する訂正であるから、訂正事項５は、実質的な内容の変更を伴うものではなく、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。 ４ 訂正の適否についての小括 以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項、同法同条第９項において準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合するものである。そして、本件訂正は、上記２（７）のとおり、訂正後の請求項２～７について、請求項１とは別の訂正単位とする求めがなされている。 よって、特許請求の範囲を、訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１、〔２～７〕について訂正することを認める。 第３ 本件発明 上記第２のとおり本件訂正の請求は認められるから、本件特許の請求項１～７に係る発明（以下、「本件発明１」～「本件発明７」という。）は、それぞれ、特許請求の範囲の請求項１～７に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 「【請求項１】（削除） 【請求項２】 上面に少なくともウエハ載置部を有するセラミックプレートと、 前記セラミックプレートの下面に接合され、冷媒流路を有する冷却プレートと、 を備えたウエハ載置台であって、 前記ウエハ載置台の内部のうち前記冷媒流路よりも上方に設けられたガス共通経路と、 前記冷却プレートの下面から前記ガス共通経路に至るガス導入経路と、 １つの前記ガス共通経路に対して複数設けられ、前記ガス共通経路から前記セラミックプレートの上面に至るガス分配経路と、 を備え、 前記ガス分配経路のうち前記セラミックプレートの最外周に配置されている最外周ガス分配経路は、平面視で前記冷媒流路と重ならない位置に設けられ、 前記ガス共通経路は、同心円となるように複数設けられ、 前記最外周ガス分配経路は、複数の前記ガス共通経路のうち最外周に位置する前記ガス共通経路と接続され、 前記ガス分配経路は、ガス分岐部を介して前記ガス共通経路に接続され、 前記ガス分岐部のうち前記最外周ガス分配経路に接続されたガス分岐部は、平面上に延び出ている、 ウエハ載置台。 【請求項３】 前記ガス分配経路のうち少なくとも前記ガス分岐部と接続している部分は、前記ガス共通経路よりも幅が広い、 請求項２に記載のウエハ載置台。 【請求項４】 前記冷却プレートは、金属とセラミックとの複合材料で形成されている、 請求項２に記載のウエハ載置台。 【請求項５】 前記セラミックプレートの上面には、円形のウエハ載置部と、前記ウエハ載置部を取り囲む環状のフォーカスリング載置部とが設けられ、 前記最外周ガス分配経路は、前記ガス共通経路から前記フォーカスリング載置部に至る経路である、 請求項２に記載のウエハ載置台。 【請求項６】 前記セラミックプレートの上面には、円形のウエハ載置部が設けられ、 前記最外周ガス分配経路は、前記ガス共通経路から前記ウエハ載置部に至る経路である、 請求項２に記載のウエハ載置台。 【請求項７】 上面に少なくともウエハ載置部を有するセラミックプレートと、 前記セラミックプレートの下面に接合され、冷媒流路を有する冷却プレートと、 を備えたウエハ載置台であって、 前記ウエハ載置台の内部のうち前記冷媒流路よりも上方に設けられたガス共通経路と、 前記冷却プレートの下面から前記ガス共通経路に至るガス導入経路と、 １つの前記ガス共通経路に対して複数設けられ、前記ガス共通経路から前記セラミックプレートの上面に至るガス分配経路と、 を備え、 前記ガス分配経路のうち前記セラミックプレートの最外周に配置されている最外周ガス分配経路は、平面視で前記冷媒流路と重ならない位置に設けられ、 前記ガス共通経路は、同心円となるように複数設けられ、 前記最外周ガス分配経路は、複数の前記ガス共通経路のうち最外周に位置する前記ガス共通経路と接続され、 前記セラミックプレートの上面には、円形のウエハ載置部と、前記ウエハ載置部を取り囲む環状のフォーカスリング載置部とが設けられ、 前記最外周ガス分配経路は、前記ガス共通経路から前記フォーカスリング載置部に至る経路であり、 前記ガス共通経路は、前記フォーカスリング載置部のフォーカスリング支持面よりも低い位置にある、 ウエハ載置台。」 第４ 取消理由通知書に記載した取消理由について １ 取消理由の概要 令和７年５月３０日付け取消理由通知書に記載した取消理由の概要は次のとおりである。 なお、以下、申立人１が提出した甲第１号証～甲第８号証を「甲１－１」～「甲１－８」といい、申立人２が提出した甲第１号証～甲第３号証を「甲２－１」～「甲２－３」という。 （１）取消理由１（拡大先願） 請求項１、２、４及び５に係る発明は、その出願の日前の特許出願であって、その出願後に出願公開がされた甲１－８に係る特許出願の願書に最初に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された発明と同一であり、しかも、この出願の発明者がその出願前の特許出願に係る上記の発明をした者と同一ではなく、またこの出願の時において、その出願人が上記特許出願の出願人と同一でもないので、請求項１、２、４及び５に係る特許は、特許法第２９条の２の規定に違反してされたものである。 （２）取消理由２（新規性） 請求項１及び６に係る発明は、本件特許出願前に日本国内又は外国において頒布された甲２－１に記載された発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当するから、請求項１及び６に係る特許は、特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものである。 （３）取消理由３（進歩性） 請求項１、３、４及び６に係る発明は、本件特許出願前に日本国内又は外国において頒布された甲２－１に記載された発明と、甲２－３に記載された技術事項とに基いて、本件特許出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下、「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１、３、４及び６に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 （４）取消理由４（明確性要件） 請求項３が請求項２を引用する場合、「ガス分配経路」が「ガス分岐部」又は「ガス共通経路」のいずれに接続するのか不明であり、特許請求の範囲の記載が不備のため、本件特許は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 ２ 取消理由についての当審の判断 （１）取消理由１（拡大先願）について ア 甲１－８（特開２０２３－１７０９４２号公報）の記載、先願発明について （ア）甲１－８は、本件特許の出願日より前に出願された特願２０２２－８３０６１号（以下、「先願甲１－８」という。）の公開特許公報であり、先願甲１－８の出願人及び発明者は、本件特許に係る出願の出願人及び発明者と同一ではない。 （イ）甲１－８には、以下の記載がある。 「【００２８】 ・・・（中略）・・・図１に示すように、静電チャック１は、板状部材１０と、ベース部材２０と、板状部材１０とベース部材２０とを接合する接合層３０とを有する。 ・・・（中略）・・・ 【００３０】 板状部材１０は、図１に示すように、円板状の部材であり、上面であって半導体ウエハＷを保持する保持面１１と、板状部材１０の厚み方向（Ｚ軸方向）について保持面１１とは反対側に設けられる下面１２とを備えている。この板状部材１０は、中心部分に形成された載置部１１０と、その載置部１１０から径方向外側へ張り出す鍔部１２０とを有している。そして、載置部１１０の上面が保持面１１になっており、載置部１１０に半導体ウエハＷが固定されるようになっている。また、鍔部１２０の上面１２１には、環状リング（フォーカスリング）が配置されるようになっている。このような板状部材１０の直径は、例えば５０～５００ｍｍ程度（通常は２００ｍｍ～３５０ｍｍ程度）であり、板状部材１０の厚さは、例えば１～１０ｍｍ程度である。なお、保持面１１は本開示の「第１の面」の一例であり、下面１２は本開示の「第２の面」の一例である。 【００３１】 板状部材１０は、セラミックスにより形成されている。・・・（中略）・・・ 【００３４】 ここで、保持面１１に保持している半導体ウエハＷの表面温度を均一にするために、半導体ウエハＷと保持面１１との微小隙間、及び鍔部１２０の上面に保持される環状リングと鍔部１２０の上面１２１との微小隙間に不活性ガス（例えばヘリウムガス等）を供給するためのガス通路４０が板状部材１０の内部に形成されている。ガス通路４０は、鍔部１２０の上面１２１に不活性ガスを供給する鍔部用ガス通路４０ａと、保持面１１に不活性ガスを供給する載置部用ガス通路４０ｂとを備えている。 【００３５】 鍔部用ガス通路４０ａは、図２、図３に示すように、複数の鍔部ガス穴４１と、下トンネル４２と、縦穴４３と、第１上トンネル４４と、ガス導入路４５とを有する。鍔部ガス穴４１は、Ｚ軸方向に延びて鍔部１２０の上面１２１に開口しており、本実施形態では、上面１２１においてほぼ等間隔に８個形成されている。下トンネル４２は、板状部材１０の下面１２側に配置され、ＸＹ面方向に延びて鍔部ガス穴４１と縦穴４３を連通する複数（本実施形態では８個）の通路で構成されている。縦穴４３は、板状部材１０を貫通することなくＺ軸方向に延びて下トンネル４２と第１上トンネル４４を連通させている。第１上トンネル４４は、板状部材１０の保持面１１側に配置され、ＸＹ面方向に延びて縦穴４３とガス導入路４５を連通する通路であり、円環路４４ａと、円環路４４ａと縦穴４３とを連通する連通路４４ｂと、円環路４４ａとガス導入路４５とを連通する連通路４４ｃとを備えている。なお、下トンネル４２及び第１上トンネル４４（連通路４４ｂ）は、本開示の「第１の横穴」および「第２の横穴」の一例である。 ・・・（中略）・・・ 【００３７】 載置部用ガス通路４０ｂは、図２、図３に示すように、複数の載置部ガス穴５１と、第２上トンネル５４と、ガス導入路５５とを有する。載置部ガス穴５１は、Ｚ軸方向に延びて保持面１１に開口しており、本実施形態では、保持面１１においてほぼ等間隔に８個形成されている。第２上トンネル５４は、板状部材１０の保持面１１側（第１上トンネル４４と同一面）に配置され、ＸＹ面方向に延びて載置部ガス穴５１とガス導入路５５を連通する通路であり、円環路５４ａと、円環路５４ａと載置部ガス穴５１とを連通する連通路５４ｂと、円環路５４ａとガス導入路５５とを連通する連通路５４ｃとを備えている。 ・・・（中略）・・・ 【００４０】 ベース部材２０は、図１、図３に示すように、上面２１と、ベース部材２０の厚さ方向（すなわち、Ｚ軸方向）について上面２１とは反対側に設けられる下面２２とを備え、円柱状に形成されている。・・・（中略）・・・ベース部材２０の直径は、例えば２２０ｍｍ～５５０ｍｍ程度（通常は２２０ｍｍ～３５０ｍｍ程度）であり、ベース部材２０の厚さ（Ｚ軸方向の寸法）は、例えば２０ｍｍ～４０ｍｍ程度である。 【００４１】 そして、ベース部材２０には、図３に示すように、冷媒（例えば、フッ素系不活性液体や水等）を流すための冷媒流路２３が形成されており、この冷媒流路２３内に冷媒を流すことにより、ベース部材２０が冷却され、これにより、接合層３０を介して板状部材１０が冷却されるようになっている。 【００４２】 また、ベース部材２０には、Ｚ軸方向に延びてベース部材２０を貫通し、上面２１及び下面２２に開口する貫通穴２６ａ，２６ｂが形成されている。Ｚ軸方向視で、貫通穴２６ａは、ガス導入路４５と重なる（中心軸が一致する）位置に配置され、貫通穴２６ｂは、ガス導入路５５と重なる（中心軸が一致する）位置に配置されている。 【００４３】 接合層３０は、図１、図３に示すように、板状部材１０の下面１２とベース部材２０の上面２１との間に配置され、板状部材１０とベース部材２０とを接合している。・・・（中略）・・・ 【００４４】 接合層３０には、ガス導入路４５と貫通穴２６ａを連通させる連通穴３６ａが形成されている。・・・（中略）・・・ 【００４５】 また、接合層３０には、ガス導入路５５と貫通穴２６ｂを連通させる連通穴３６ｂが形成されている。・・・（中略）・・・ 【００４９】そこで、本実施形態の静電チャック１では、接合層３０において、Ｚ軸方向視で各縦穴４３と重なる位置に貫通穴３１を設けることにより、第１領域Ｒ１（貫通穴３１及び連通穴３６ａ，３６ｂを除いた部分）と第１領域Ｒ１より熱伝導率が小さい第２領域Ｒ２（貫通穴３１の部分）とを形成している。これにより、貫通穴３１が存在する第２領域Ｒ２では、第１領域Ｒ１と比べて、板状部材１０とベース部材２０との間の熱移動（板状部材１０からベース部材２０への熱引き）が抑制される。そして、接合層３０における第２領域Ｒ２である貫通穴３１は、Ｚ軸方向視で縦穴４３と重なる位置に配置されているため、保持面１１において縦穴４３の上方部分１１ａでは、ベース部材２０への熱引きが制限されるので、他の領域との温度差が小さくなる。従って、保持面１１において、縦穴４３の上方部分１１ａに温度特異点が形成されることを防ぐことができるため、保持面１１における均熱性を向上させることができる。」 「【図２】 ［図：0001433077000001.jpg］ 【図３】 ［図：0001433077000002.jpg］ 」 （ウ）上記（イ）によれば、以下のことがいえる。 ａ 図２から、保持面１１は円形であり、鍔部１２０は環状であり、円環路４４ａ及び円環路５４ａは、円環路４４ａが円環路５４ａよりも外周側となるように、同心円状に設けられることが見て取れる。 ｂ 図３から、鍔部ガス穴４１は、Ｚ方向で冷媒流路２３と重ならない位置に設けられると共に、円環路４４ａと接続されること、及び、第１上トンネル４４は、板状部材１０の鍔部１２０の上面１２１よりも保持面１１側に配置されていることが見て取れる。 ｃ 上記（イ）及び上記ａ及びｂによれば、先願甲１－８の願書に最初に添付された明細書、特許請求の範囲及び図面（以下「先願甲１－８当初明細書等」という。）には、次の発明（以下「先願甲１－８発明」という。）が記載されており、先願甲１－８発明は甲１－８により本件特許出願後に出願公開されている。なお、先願甲１－８発明中、括弧内は関連する甲１－８の段落番号等を示す。 ＜先願甲１－８発明＞ 「板状部材１０と、ベース部材２０と、板状部材１０とベース部材２０とを接合する接合層３０とを有する静電チャック１であって、（段落００２８） 板状部材１０は、円板状の部材であり、上面であって半導体ウエハＷを保持する円形の保持面１１と、板状部材１０の厚み方向（Ｚ軸方向）について保持面１１とは反対側に設けられる下面１２とを備え、中心部分に形成された載置部１１０と、その載置部１１０から径方向外側へ張り出す環状の鍔部１２０とを有し、載置部１１０の上面が保持面１１になって、載置部１１０に半導体ウエハＷが固定されるようになっており、また、鍔部１２０の上面１２１には、環状リング（フォーカスリング）が配置されるようになっており、（上記ａ、段落００３０） 板状部材１０は、セラミックスにより形成されており、（段落００３１） 保持面１１に保持している半導体ウエハＷの表面温度を均一にするために、半導体ウエハＷと保持面１１との微小隙間、及び鍔部１２０の上面に保持される環状リングと鍔部１２０の上面１２１との微小隙間に不活性ガスを供給するためのガス通路４０が板状部材１０の内部に形成され、 ガス通路４０は、鍔部１２０の上面１２１に不活性ガスを供給する鍔部用ガス通路４０ａと、保持面１１に不活性ガスを供給する載置部用ガス通路４０ｂとを備え、（段落００３４） 鍔部用ガス通路４０ａは、複数の鍔部ガス穴４１と、下トンネル４２と、縦穴４３と、第１上トンネル４４と、ガス導入路４５とを有し、 鍔部ガス穴４１は、Ｚ軸方向に延びて鍔部１２０の上面１２１に開口しており、 下トンネル４２は、板状部材１０の下面１２側に配置され、ＸＹ面方向に延びて鍔部ガス穴４１と縦穴４３を連通する複数の通路で構成されており、 縦穴４３は、板状部材１０を貫通することなくＺ軸方向に延びて下トンネル４２と第１上トンネル４４を連通させ、 第１上トンネル４４は、鍔部１２０の上面１２１よりも板状部材１０の保持面１１側に配置され、ＸＹ面方向に延びて縦穴４３とガス導入路４５を連通する通路であり、円環路４４ａと、円環路４４ａと縦穴４３とを連通する連通路４４ｂと、円環路４４ａとガス導入路４５とを連通する連通路４４ｃとを備えており、（段落００３５、上記ｂ） 載置部用ガス通路４０ｂは、複数の載置部ガス穴５１と、第２上トンネル５４と、ガス導入路５５とを有し、 載置部ガス穴５１は、Ｚ軸方向に延びて保持面１１に開口しており、 第２上トンネル５４は、板状部材１０の保持面１１側（第１上トンネル４４と同一面）に配置され、ＸＹ面方向に延びて載置部ガス穴５１とガス導入路５５を連通する通路であり、円環路５４ａと、円環路５４ａと載置部ガス穴５１とを連通する連通路５４ｂと、円環路５４ａとガス導入路５５とを連通する連通路５４ｃとを備え、（段落００３７） ベース部材２０は、上面２１と、ベース部材２０の厚さ方向（すなわち、Ｚ軸方向）について上面２１とは反対側に設けられる下面２２とを備えて円柱状に形成され、直径は２２０ｍｍ～５５０ｍｍ程度であり、厚さ（Ｚ軸方向の寸法）は２０ｍｍ～４０ｍｍ程度であり、（段落００４０） ベース部材２０には冷媒を流すための冷媒流路２３が形成されており、この冷媒流路２３内に冷媒を流すことにより、ベース部材２０が冷却され、これにより、接合層３０を介して板状部材１０が冷却されるようになっており、（段落００４１） ベース部材２０には、Ｚ軸方向に延びてベース部材２０を貫通し、上面２１及び下面２２に開口する貫通穴２６ａ，２６ｂが形成され、Ｚ軸方向視で、貫通穴２６ａは、ガス導入路４５と重なる位置に配置され、貫通穴２６ｂは、ガス導入路５５と重なる位置に配置されており、（段落００４２） 接合層３０は、板状部材１０の下面１２とベース部材２０の上面２１との間に配置され、板状部材１０とベース部材２０とを接合し、（段落００４３） 接合層３０には、ガス導入路４５と貫通穴２６ａを連通させる連通穴３６ａが形成されると共に、ガス導入路５５と貫通穴２６ｂを連通させる連通穴３６ｂが形成され、Ｚ軸方向視で各縦穴４３と重なる位置に貫通穴３１が設けられており、（段落００４４、００４５、００４９） 円環路４４ａ及び円環路５４ａは、円環路４４ａが円環路５４ａよりも外周側となるように、同心円状に設けられ、（上記ａ） 鍔部ガス穴４１は、Ｚ方向で冷媒流路２３と重ならない位置に設けられると共に、円環路４４ａと接続される、（上記ｂ） 静電チャック１。」 イ 本件発明２について （ア）対比 本件発明２と先願甲１－８発明とを対比する。 ａ 先願甲１－８発明の「板状部材１０」は、「円板状の部材であり、上面であって半導体ウエハＷを保持する円形の保持面１１」を備え、「セラミックスにより形成され」るものであり、上面に半導体ウエハＷを保持する保持面１１を有するセラミックからなる板状部材であるから、本件発明２の「上面に少なくともウエハ載置部を有するセラミックプレート」に相当する。 ｂ（ａ）先願甲１－８発明の「ベース部材２０」は、「上面２１と、ベース部材２０の厚さ方向（すなわち、Ｚ軸方向）について上面２１とは反対側に設けられる下面２２とを備えて円柱状に形成され、直径は２２０ｍｍ～５５０ｍｍ程度であり、厚さ（Ｚ軸方向の寸法）は２０ｍｍ～４０ｍｍ程度であ」り、直径が厚さの１０倍程度の円柱状であるから、プレート状の部材であるといえる。 （ｂ）また、先願甲１－８発明は、「接合層３０は、板状部材１０の下面１２とベース部材２０の上面２１との間に配置され、板状部材１０とベース部材２０とを接合」するものであるから、「ベース部材２０」は、「板状部材１０」の下面に接合されるものであるといえる。 （ｃ）さらに、先願甲１－８発明は、「ベース部材２０には冷媒を流すための冷媒流路２３が形成されており、この冷媒流路２３内に冷媒を流すことにより、ベース部材２０が冷却され、これにより、接合層３０を介して板状部材１０が冷却される」から、「ベース部材２０」は、「冷媒流路２３」を有する冷却部材であるといえる。 （ｄ）上記（ａ）～（ｃ）によれば、先願甲１－８発明の「ベース部材２０」は、「板状部材１０」の下面に接合され、「冷媒流路２３」を有するプレート状の冷却部材であるといえるから、上記ａを踏まえると、本件発明２の「前記セラミックプレートの下面に接合され、冷媒流路を有する冷却プレート」に相当する。 ｃ（ａ）先願甲１－８発明において、「第１上トンネル４４は、鍔部１２０の上面１２１よりも板状部材１０の保持面１１側に配置され」、「円環路４４ａと、円環路４４ａと縦穴４３とを連通する連通路４４ｂと」を備えるから、「円環路４４ａ」は「板状部材１０」に配置され、「縦穴４３」に連通するといえる。 （ｂ）先願甲１－８発明は、「複数の鍔部ガス穴４１」を有し、「下トンネル４２は」「鍔部ガス穴４１と縦穴４３を連通する複数の通路で構成され」るから、「複数の鍔部ガス穴４１」が「縦穴４３」に連通するといえる。 （ｃ）上記（ａ）及び（ｂ）によれば、「円環路４４ａ」は、「板状部材１０」に配置され、「縦穴４３」を介して「複数の鍔部ガス穴４１」に連通するといえる。 （ｄ）先願甲１－８発明において、「複数の載置部ガス穴５１」を有し、「第２上トンネル５４は、板状部材１０の保持面１１側（第１上トンネル４４と同一面）に配置され」、「円環路５４ａと、円環路５４ａと載置部ガス穴５１とを連通する連通路５４ｂと」を備えるから、「円環路５４ａ」は、「板状部材１０」に配置され、「複数の載置部ガス穴５１」に連通するといえる。 （ｅ）上記ｂ（ｂ）及び上記ｂ（ｃ）によれば、「板状部材１０」は、「冷媒流路２３」を有する「ベース部材２０」の上方に設けられたものであるといえる。 （ｆ）上記（ｃ）によれば、「円環路４４ａ」は、「複数の鍔部ガス穴４１」に共通する経路であるといえる。また、上記（ｄ）によれば、「円環路５４ａ」は、「複数の載置部ガス穴５１」に共通する経路であるといえる。 （ｇ）上記ａ及びｂを踏まえると、先願甲１－８発明の「静電チャック１」は、「板状部材１０と、ベース部材２０と」を有するものであるから、「セラミックプレートと」「冷却プレートと」「を備え」る点で、本件発明２の「ウエハ載置台」と一致する。 （ｈ）また、上記（ｅ）～（ｇ）によれば、先願甲１－８発明の「円環路４４ａ」及び「円環路５４ａ」は、「静電チャック１」のうち、「冷媒流路２３」を有する「ベース部材２０」の上方の「板状部材１０」に配置された、「複数の載置部ガス穴５１」に共通する経路であるから、本件発明２の「前記ウエハ載置台の内部のうち前記冷媒流路よりも上方に設けられたガス共通経路」に相当する。 ｄ（ａ）先願甲１－８発明において、「ベース部材２０には」「下面２２に開口する貫通穴２６ａ，２６ｂが形成され」るから、「ベース部材２０」の「下面２２に」「貫通穴２６ａ，２６ｂ」が開口するといえる。 （ｂ）先願甲１－８発明において、「第１上トンネル４４は」「円環路４４ａとガス導入路４５とを連通する連通路４４ｃ」「を備え」、「接合層３０には、ガス導入路４５と貫通穴２６ａを連通させる連通穴３６ａが形成される」から、「貫通穴２６ａ」は、「連通穴３６ａ」により「ガス導入路４５と」連通され、「ガス導入路４５」は「連通路４４ｃ」により「円環路４４ａと」連通されるといえる。 （ｃ）先願甲１－８発明において、「第１上トンネル４４は」「円環路５４ａとガス導入路５５とを連通する連通路５４ｃ」「を備え」、「接合層３０には」、「ガス導入路５５と貫通穴２６ｂを連通させる連通穴３６ｂが形成され」るから、「貫通穴２６ｂ」は、「連通穴３６ｂ」により「ガス導入路５５と」連通され、「ガス導入路５５」は「連通路５４ｃ」により「円環路５４ａと」連通するといえる。 （ｄ）上記（ａ）及び（ｂ）によれば、「ベース部材２０」の「下面２２」から、「貫通穴２６ａ」、「連通穴３６ａ」、「ガス導入路４５」が連通して、「円環路４４ａ」に至るといえる。 （ｅ）上記（ａ）及び（ｃ）によれば、「ベース部材２０」の「下面２２」から、「貫通穴２６ｂ」、「連通穴３６ｂ」、「ガス導入路５５」が連通して、「円環路５４ａ」に至るといえる。 （ｆ）上記（ｄ）及び（ｅ）によれば、「貫通穴２６ａ」、「連通穴３６ａ」及び「ガス導入路４５」、並びに、「貫通穴２６ｂ」、「連通穴３６ｂ」及び「ガス導入路５５」は、連通して「ベース部材２０」の「下面２２」から「円環路４４ａ」及び「円環路５４ａ」に至るものであるから、本件発明２の「前記冷却プレートの下面から前記ガス共通経路に至るガス導入経路」に相当する。 ｅ（ａ）先願甲１－８発明において、「板状部材１０は」、「載置部１１０と」「鍔部１２０とを有」するものである。 （ｂ）また、先願甲１－８発明において、「載置部１１０の上面が保持面１１になって」おり、「鍔部ガス穴４１は、Ｚ軸方向に延びて鍔部１２０の上面１２１に開口」し、「載置部ガス穴５１は、Ｚ軸方向に延びて保持面１１に開口」するものであるから、先願甲１－８発明の「鍔部ガス穴４１」は「鍔部１２０の上面１２１に開口」するものであり、「載置部ガス穴５１」は「載置部１１０の上面」である「保持面１１」に開口するものである。したがって、上記（ａ）を参酌すると、「鍔部ガス穴４１」及び「載置部ガス穴５１」は、「板状部材１０」の上面に開口するものであるといえる。 （ｃ）先願甲１－８発明において、「鍔部用ガス通路４０ａは、複数の鍔部ガス穴４１」「を有し」、「下トンネル４２は」「鍔部ガス穴４１と縦穴４３を連通する複数の通路で構成されており」、「第１上トンネル４４は」「円環路４４ａと縦穴４３とを連通する連通路４４ｂと」「を備え」るから、「複数の鍔部ガス穴４１」は「円環路４４ａと」連通されるものである。 （ｄ）また、先願甲１－８発明において、「載置部用ガス通路４０ｂは、複数の載置部ガス穴５１」「を有し」、「第２上トンネル５４は」「円環路５４ａと載置部ガス穴５１とを連通する連通路５４ｂと」「を備え」るから、「複数の載置部ガス穴５１」は、「円環路５４ａ」と連通されるものである。 （ｅ）上記（ｂ）～（ｄ）によれば、「鍔部ガス穴４１」及び「載置部ガス穴５１」は、「円環路４４ａ」及び「円環路５４ａ」に対して複数設けられ、「円環路４４ａ」及び「円環路５４ａ」から「板状部材１０」の上面に至るものであるといえるから、本件発明２の「１つの前記ガス共通経路に対して複数設けられ、前記ガス共通経路から前記セラミックプレートの上面に至るガス分配経路」に相当する。 ｆ（ａ）先願甲１－８発明において、「板状部材１０は」「中心部分に形成された載置部１１０と、その載置部１１０から径方向外側へ張り出す環状の鍔部１２０とを有」するものであるから、「鍔部１２０」は「載置部１１０」よりも板状部材１０の径方向外側に形成されるといえる。 （ｂ）また、先願甲１－８発明において、「載置部ガス穴５１は、Ｚ軸方向に延びて保持面１１に開口し」、「鍔部ガス穴４１は、Ｚ軸方向に延びて鍔部１２０の上面１２１に開口」するから、上記（ａ）を踏まえると、「鍔部ガス穴４１」は「載置部ガス穴５１」よりも「板状部材１０」の径方向外側に形成されるといえ、「載置部ガス穴５１」及び「鍔部ガス穴４１」のうち「板状部材１０」の最外周には「鍔部ガス穴４１」が配置されるといえる。 （ｃ）さらに、先願甲１－８発明において、「鍔部ガス穴４１は、Ｚ方向で冷媒流路２３と重ならない位置に設けられる」ことは、上記（ｂ）を踏まえると、「載置部ガス穴５１」及び「鍔部ガス穴４１」のうち「板状部材１０」の最外周に配置される「鍔部ガス穴４１」は、「Ｚ方向で冷媒流路２３と重ならない位置に設けられる」ことであるから、本件発明２の「前記ガス分配経路のうち前記セラミックプレートの最外周に配置されている最外周ガス分配経路は、平面視で前記冷媒流路と重ならない位置に設けられ」ることに相当する。 ｇ 先願甲１－８発明において、「円環路４４ａ及び円環路５４ａは」「同心円となるように設けられ」ることは、本件発明２の「前記ガス共通経路は、同心円となるように複数設けられ」ることに相当する。 ｈ（ａ）先願甲１－８発明において、「円環路４４ａ及び円環路５４ａは、円環路４４ａが円環路５４ａよりも外周側となるように」「設けられ」るから、「円環路４４ａ」は、「円環路４４ａ及び円環路５４ａ」のうち、最外周側に形成されるといえる。 （ｂ）上記（ａ）、上記ｅ（ｃ）及び上記ｆ（ｂ）によれば、先願甲１－８発明において、「円環路４４ａ」は、「円環路４４ａ及び円環路５４ａ」のうち最外周側に形成され、「鍔部ガス穴４１」は「円環路４４ａと」連通され、「載置部ガス穴５１」及び「鍔部ガス穴４１」のうち「板状部材１０」の最外周には「鍔部ガス穴４１」が配置されることは、本件発明２の「前記最外周ガス分配経路は、複数の前記ガス共通経路のうち最外周に位置する前記ガス共通経路と接続されている」ことに相当する。 ｉ（ａ）先願甲１－８発明において、「第２上トンネル５４は」「円環路５４ａと載置部ガス穴５１とを連通する連通路５４ｂ」「を備え」るから、「載置部ガス穴５１」は、「連通路５４ｂ」を介して「円環路５４ａ」に接続されているといえる。 （ｂ）また、先願甲１－８発明において、「下トンネル４２は」「鍔部ガス穴４１と縦穴４３を連通する複数の通路で構成されており」、「第１上トンネル４４は」「円環路４４ａと縦穴４３とを連通する連通路４４ｂと」「を備え」るから、「鍔部ガス穴４１」は、「下トンネル４２」、「縦穴４３」及び「連通路４４ｂ」を介して「円環路４４ａ」に接続されているといえる。 （ｃ）上記（ａ）及び（ｂ）によれば、先願甲１－８発明の「連通路５４ｂ」、並びに、「下トンネル４２」、「縦穴４３」及び「連通路４４ｂ」は、本件発明２の「ガス分岐部」に相当する。 そして、先願甲１－８発明の「載置部ガス穴５１」は「連通路５４ｂ」を介して「円環路５４ａ」に接続され、「鍔部ガス穴４１」は「下トンネル４２」、「縦穴４３」及び「連通路４４ｂ」を介して「円環路４４ａ」に接続されることは、本件発明２の「前記ガス分配経路は、ガス分岐部を介して前記ガス共通経路に接続されている」ことに相当する。 ｊ 上記ａ～ｉによれば、本件発明２と先願甲１－８発明とは、以下の点で一致し、相違する。 ＜一致点＞ 「上面に少なくともウエハ載置部を有するセラミックプレートと、 前記セラミックプレートの下面に接合され、冷媒流路を有する冷却プレートと、 を備えたウエハ載置台であって、 前記ウエハ載置台の内部のうち前記冷媒流路よりも上方に設けられたガス共通経路と、 前記冷却プレートの下面から前記ガス共通経路に至るガス導入経路と、 １つの前記ガス共通経路に対して複数設けられ、前記ガス共通経路から前記セラミックプレートの上面に至るガス分配経路と、 を備え、 前記ガス分配経路のうち前記セラミックプレートの最外周に配置されている最外周ガス分配経路は、平面視で前記冷媒流路と重ならない位置に設けられ、 前記ガス共通経路は、同心円となるように複数設けられ、 前記最外周ガス分配経路は、複数の前記ガス共通経路のうち最外周に位置する前記ガス共通経路と接続され、 前記ガス分配経路は、ガス分岐部を介して前記ガス共通経路に接続されている、 ウエハ載置台。」 ＜相違点１＞ 本件発明２は、「前記ガス分岐部のうち前記最外周ガス分配経路に接続されたガス分岐部は、平面上に延び出ている」のに対し、先願甲１－８発明は、「下トンネル４２は」「鍔部ガス穴４１と縦穴４３を連通する複数の通路で構成されており」、「第１上トンネル４４は」「円環路４４ａと縦穴４３とを連通する連通路４４ｂと」「を備え」るものであり、「下トンネル４２」、「縦穴４３」及び「連通路４４ｂ」が平面上に延び出ているものではない点。 （イ）相違点についての判断 相違点１について検討する。 先願甲１－８発明は、「Ｚ軸方向視で各縦穴４３と重なる位置に貫通穴３１」を設けることにより、本件明細書の段落００４９に記載された「保持面１１において縦穴４３の上方部分１１ａでは、ベース部材２０への熱引きが制限されるので、他の領域との温度差が小さくなる。従って、保持面１１において、縦穴４３の上方部分１１ａに温度特異点が形成されることを防ぐことができるため、保持面１１における均熱性を向上させることができる」との効果を得る発明である。 そうすると、先願甲１－８発明において、各縦穴４３を無くし、円環路４４ａと鍔部ガス穴４１と平面上に延び出ている連通路で接続し、相違点１に係る本件発明２の構成とすることは、先願甲１－８発明の課題となる前提の構成を変えるものであるから、課題解決のための具体化手段における微差（周知技術、慣用技術の付加、削除、転換等であって、新たな効果を奏するものではないもの）とはいえない。 （ウ）申立人１の主張について ａ 申立人１は、令和７年９月５日提出の意見書の第３頁下から１３行～末行において、先願甲１－８発明の「連通路４４ｂ」を本件発明２の「ガス分岐部」に相当すると考えると、本件発明２と先願甲１－８発明とに相違点はない旨主張している。 ｂ 上記主張について検討する。本件明細書等の段落０００９には「ガス共通経路からガス分岐部が」「冷媒流路と重ならない位置に至るようにすれば、ガス分配経路を」「冷媒流路と重ならない位置に設けることができる。」と記載されており、ガス分岐部は、ガス共通経路からガス分配経路に至るものであるといえる。そして、上記（ア）ｉ（ｂ）によれば、「下トンネル４２」、「縦穴４３」及び「連通路４４ｂ」が、「円環路４４ａ」から「鍔部ガス穴４１」に至るものであるから、先願甲１－８発明の「連通路４４ｂ」のみを本件発明２の「ガス分岐部」に相当すると考えることはできない。 ｃ したがって、申立人１の主張を採用することはできない。 （エ）小括 以上のとおりであるから、本件発明２は、先願甲１－８発明と同一でない。 ウ 本件発明４及び５について 請求項４及び５の記載は、請求項２の記載を引用するところ、本件発明４及び５は、少なくとも本件発明２の構成を全て備えるものである。したがって、本件発明４及び５は、相違点１と同様の点で、先願甲１－８発明と相違するものである。 よって、本件発明４及び５は、先願甲１－８発明と同一ではない。 エ 本件発明７について （ア） 対比 本件発明７と先願甲１－８発明とを対比する。 ａ 先願甲１－８発明の「板状部材１０は」、「上面であって半導体ウエハＷを保持する円形の保持面１１」「を備え、中心部分に形成された載置部１１０と、その載置部１１０から径方向外側へ張り出す環状の鍔部１２０とを有し」、「鍔部１２０の上面１２１には、環状リング（フォーカスリング）が配置され」ることは、本件発明７の「前記セラミックプレートの上面には、円形のウエハ載置部と、前記ウエハ載置部を取り囲む環状のフォーカスリング載置部とが設けられ」ることに相当する。 ｂ 上記イ（ア）ｃ（ｃ）によれば、先願甲１－８発明において「鍔部ガス穴４１は、Ｚ軸方向に延びて鍔部１２０の上面１２１に開口」することは、本件発明７の「前記最外周ガス分配経路は、前記ガス共通経路から前記フォーカスリング載置部に至る経路であ」ることに相当する。 ｃ 上記ａ及びｂと、上記イ（ア）ａ～ｈにおける検討と同様の理由により、本件発明７及び先願甲１－８発明とは、次の点で一致し、相違する。 ＜一致点＞ 「上面に少なくともウエハ載置部を有するセラミックプレートと、 前記セラミックプレートの下面に接合され、冷媒流路を有する冷却プレートと、 を備えたウエハ載置台であって、 前記ウエハ載置台の内部のうち前記冷媒流路よりも上方に設けられたガス共通経路と、 前記冷却プレートの下面から前記ガス共通経路に至るガス導入経路と、 １つの前記ガス共通経路に対して複数設けられ、前記ガス共通経路から前記セラミックプレートの上面に至るガス分配経路と、 を備え、 前記ガス分配経路のうち前記セラミックプレートの最外周に配置されている最外周ガス分配経路は、平面視で前記冷媒流路と重ならない位置に設けられ、 前記ガス共通経路は、同心円となるように複数設けられ、 前記最外周ガス分配経路は、複数の前記ガス共通経路のうち最外周に位置する前記ガス共通経路と接続され、 前記セラミックプレートの上面には、円形のウエハ載置部と、前記ウエハ載置部を取り囲む環状のフォーカスリング載置部とが設けられ、 前記最外周ガス分配経路は、前記ガス共通経路から前記フォーカスリング載置部に至る経路である、 ウェハ載台。」 ＜相違点２＞ 本件発明７は、「前記ガス共通経路は、前記フォーカスリング載置部のフォーカスリング支持面よりも低い位置にある」のに対し、先願甲１－８発明は、「第１上トンネル４４は、鍔部１２０の上面１２１よりも板状部材１０の保持面１１側に配置され」、第１上トンネル４４が有する円環路４４ａが、鍔部１２０の上面よりも高い位置にある点。 （イ）相違点についての判断 相違点２について検討する。 先願甲１－８発明は、「第２上トンネル５４」が「第１上トンネル４４と同一面」「に配置され」、第１上トンネル４４と第２上トンネル５４とが同一面に配置されるものであるから、先願甲１－８発明において、第１上トンネル４４のみの配置位置を鍔部１２０の上面よりも低い位置とすることは、課題解決のための具体化手段における微差（周知技術、慣用技術の付加、削除、転換等であって、新たな効果を奏するものではないもの）とはいえない。 （ウ）申立人１の主張について ａ 申立人１は、令和７年９月５日提出の意見書の第７頁第１３行～第８頁第１９行において、甲１－２の図１１に申立人１が符号を追記した下記参考図を参照して、甲１－２に、水平流路２２２ａがフォーカスリング載置面１１６よりも低い位置にあることが記載されているように、静電チャック装置において、ガス共通経路がフォーカスリング載置部のフォーカスリング支持面よりも低い位置にあることは周知技術であり、先願甲１－８発明を相違点２に係る本件発明７の構成を有するものとするは、当該周知技術の付加にすぎない旨を主張している。 「［参考図］ ［図：0001433077000003.jpg］ 」 ｂ しかしながら、上記（イ）のとおり、第１上トンネル４４と第２上トンネル５４とが同一面に配置される先願甲１－８発明において、第１上トンネル４４のみの配置位置を鍔部１２０の上面よりも低い位置とすることは、課題解決のための具体化手段における微差（周知技術、慣用技術の付加、削除、転換等であって、新たな効果を奏するものではないもの）とはいえないから、申立人１の主張を採用することはできない。 （エ）小括 以上のとおりであるから、本件発明７は、先願甲１－８発明と同一でない。 （２）取消理由２（新規性）及び取消理由３（進歩性）について ・本件発明３、４及び６について 取消理由２、３は、本件訂正前の請求項１、３、４、６を対象としたものである。 そして、本件訂正によって、請求項１が削除され、本件発明３、４、６が、取消理由２、３の対象でない本件訂正前の請求項２に記載された構成を含むものになったことで、取消理由２、３は解消した。 （３）取消理由４（明確性要件） 本件訂正により、請求項３に記載された「ガス分配経路」は、「ガス分岐部」に接続するものであることが明確となった。 よって、本件発明３は明確である。 第５ 取消理由通知書において採用しなかった特許異議申立理由について １ 本件訂正前の請求項１～６に係る特許に対する特許異議申立理由のうち、取消理由通知書において採用しなかった特許異議申立理由の概要は、申立人１が主張する以下の申立理由１－１～１－４（以下、申立理由１－１～１－４をまとめて「申立理由１」ともいう。）のとおりである。 （１）申立理由１－１（進歩性） 請求項１～６に係る発明は、甲１－１に記載された発明と甲１－２～甲１－７に記載された技術事項とに基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、また、甲１－２に記載された発明と甲１－１、甲１－３～甲１－７に記載された技術事項とに基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１～６に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 （２）申立理由１－２（拡大先願） 請求項３に係る発明は、その出願の日前の特許出願であって、その出願後に出願公開がされた甲１－８に係る特許出願の願書に最初に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された発明と同一であり、しかも、この出願の発明者がその出願前の特許出願に係る上記の発明をした者と同一ではなく、またこの出願の時において、その出願人が上記特許出願の出願人と同一でもないので、請求項３に係る特許は、特許法第２９条の２の規定に違反してされたものである。 （３）申立理由１－３（サポート要件） 請求項３に記載された「ガス分配経路のうち少なくともガス共通経路と接続している部分」に対応する構成は、本件明細書等に記載されておらず、請求項３に係る発明は、発明の詳細な説明に記載されたものではないから、請求項３に係る特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 （４）申立理由１－４（明確性要件） 請求項２の記載は請求項１の記載を引用するものであるところ、請求項１には「ガス分配経路」について、「1つの前記ガス共通経路に対して複数設けられ、前記ガス共通経路から前記セラミックプレートの上面に至る」ことが記載されているのに対し、請求項２には「ガス分配経路」について、「ガス分岐部を介して前記ガス共通経路に接続されている」ことが記載されており、請求項２に係る発明は「ガス分岐部」と「ガス共通経路」の関係が明確でなく、また、「ガス分岐部」が如何なる構成か明確でない。 請求項３の記載は請求項２の記載を選択的に引用するものであるところ、請求項２には「前記ガス分配経路は、ガス分岐部を介して前記ガス共通経路に接続されている」と記載されているのに対し、請求項３には「前記ガス分配経路のうち少なくとも前記ガス共通経路と接続している部分は、前記ガス共通経路よりも幅が広」いことが記載されており、請求項３に係る発明は、「ガス分配経路」の接続先が、「ガス分岐部」又は「ガス共通経路」のいずれなのか明確でなく、また、「幅」が「ガス分配経路」及び「ガス共通経路」のそれぞれのどの部分の長さを示しているか明確でない。 したがって、請求項２及び３に係る発明と、請求項２を引用する請求項３～６に係る発明は明確でないから、請求項２～６に係る特許は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 （５）申立人１が提出した甲号証 甲１－１：特開２０２１－０４８２４３号公報 甲１－２：特開２０１２－１３４３７５号公報 甲１－３：特許第４０２１８６４号公報 甲１－４：特許第４９２９１５０号公報 甲１－５：特開２０２０－１１５５３６号公報 甲１－６：国際公開第２０１８／２１６７９７号 甲１－７：特開２００２－１８４８５１号公報 甲１－８：特開２０２３－１７０９４２号公報 ２ 申立理由１についての当審の判断 （１）甲号証について ア 甲１－１について （ア）申立人１が提出した甲１－１には、以下の記載がある。 「【００１２】 図１は、本実施形態に係る基板固定装置を簡略化して例示する断面図であり、図１（ａ）は全体図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ部の部分拡大図である。図１を参照すると、基板固定装置１は、主要な構成要素として、ベースプレート１０と、接着層２０と、静電チャック３０とを有している。 【００１３】 ベースプレート１０は、静電チャック３０を搭載するための部材である。ベースプレート１０の厚さは、例えば、２０～４０ｍｍ程度である。ベースプレート１０は、例えば、アルミニウムから形成され、プラズマを制御するための電極等として利用できる。ベースプレート１０に所定の高周波電力を給電することで、発生したプラズマ状態にあるイオン等を静電チャック３０上に吸着されたウェハに衝突させるためのエネルギーを制御し、エッチング処理を効果的に行うことができる。 【００１４】 ベースプレート１０の内部には、静電チャック３０に吸着保持されるウェハを冷却するガスを供給するガス供給部１１が設けられている。ガス供給部１１は、ガス流路１１１と、ガス注入部１１２と、ガス排出部１１３とを備えている。 【００１５】 ガス流路１１１は、例えば、ベースプレート１０の内部に環状に形成された孔である。ガス注入部１１２は、一端がガス流路１１１に連通し、他端がベースプレート１０の下面１０ｂから外部に露出する孔であり、基板固定装置１の外部からガス流路１１１に不活性ガス（例えば、ＨｅやＡｒ等）を導入する。ガス排出部１１３は、一端がガス流路１１１に連通し、他端がベースプレート１０の上面１０ａから外部に露出して接着層２０を貫通する孔であり、ガス流路１１１に導入された不活性ガスを排出する。ガス排出部１１３は、平面視において、ベースプレート１０の上面１０ａに点在している。ガス排出部１１３の個数は、必要に応じて適宜決定できるが、例えば、数１０個～数１００個程度である。 ・・・（中略）・・・ 【００１７】 ベースプレート１０の内部には、冷却機構１５が設けられている。冷却機構１５は冷媒流路１５１と、冷媒導入部１５２と、冷媒排出部１５３とを備えている。冷媒流路１５１は、例えば、ベースプレート１０の内部に環状に形成された孔である。冷媒導入部１５２は、一端が冷媒流路１５１に連通し、他端がベースプレート１０の下面１０ｂから外部に露出する孔であり、基板固定装置１の外部から冷媒流路１５１に冷媒（例えば、冷却水やガルデン等）を導入する。冷媒排出部１５３は、一端が冷媒流路１５１に連通し、他端がベースプレート１０の下面１０ｂから外部に露出する孔であり、冷媒流路１５１に導入された冷媒を排出する。 ・・・（中略）・・・ 【００１９】 静電チャック３０は、吸着対象物であるウェハを吸着保持する部分である。静電チャック３０の平面形状は、例えば、円形である。静電チャック３０の吸着対象物であるウェハの直径は、例えば、８、１２、又は１８インチである。 【００２０】 静電チャック３０は、接着層２０を介して、ベースプレート１０の上面１０ａに設けられている。接着層２０は、例えば、シリコーン系接着剤である。接着層２０の厚さは、例えば、０．１～１．０ｍｍ程度である。接着層２０は、ベースプレート１０と静電チャック３０を接着すると共に、セラミックス製の静電チャック３０とアルミニウム製のベースプレート１０との熱膨張率の差から生じるストレスを低減させる効果を有する。 【００２１】 静電チャック３０は、基体３１と、静電電極３２とを有している。基体３１の上面は、吸着対象物の載置面３１ａである。静電チャック３０は、例えば、ジョンセン・ラーベック型静電チャックである。但し、静電チャック３０は、クーロン力型静電チャックであってもよい。 【００２２】 基体３１は誘電体であり、基体３１としては、例えば、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）や窒化アルミニウム（ＡｌＮ）等のセラミックスを用いる。基体３１は、助剤として、例えば、ケイ素（Ｓｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、アルミニウム（Ａｌ）、及びイットリウム（Ｙ）から選択される２種以上の元素の酸化物を含んでもよい。基体３１の厚さは、例えば、５～１０ｍｍ程度、基体３１の比誘電率（１ｋＨｚ）は、例えば、９～１０程度である。 ・・・（中略）・・・ 【００２５】 基体３１の各ガス排出部１１３に対応する位置には、基体３１を貫通してガス排出部１１３の他端を露出するガス孔３３が設けられている。ガス孔３３を介して、ガス供給部１１から載置面３１ａにガスが供給される。」 「【図１】 ［図：0001433077000004.jpg］ 」 （イ）上記（ア）によれば、以下のことがいえる。 ａ 図１（ａ）から、ガス排出部１１３及びガス孔３３は、冷却機構１５と重ならない位置に設けられることが見て取れる。 ｂ 上記（ア）及び上記ａによれば、甲１－１には、以下の発明（以下、「甲１－１」発明という。）が記載されている。 ＜甲１－１発明＞ 「ベースプレート１０と、接着層２０と、静電チャック３０とを有している基板固定装置１であって、（段落００１２） ベースプレート１０は、静電チャック３０を搭載するための部材であり、（段落００１３） ベースプレート１０の内部には、静電チャック３０に吸着保持されるウェハを冷却するガスを供給するガス供給部１１が設けられ、ガス供給部１１は、ガス流路１１１と、ガス注入部１１２と、ガス排出部１１３とを備え、（段落００１４） ガス流路１１１は、ベースプレート１０の内部に環状に形成された孔であり、ガス注入部１１２は、一端がガス流路１１１に連通し、他端がベースプレート１０の下面１０ｂから外部に露出する孔であり、ガス排出部１１３は、一端がガス流路１１１に連通し、他端がベースプレート１０の上面１０ａから外部に露出して接着層２０を貫通する孔であり、（段落００１５） ベースプレート１０の内部には、冷却機構１５が設けられ、冷却機構１５は冷媒流路１５１と、冷媒導入部１５２と、冷媒排出部１５３とを備え、冷媒流路１５１は、ベースプレート１０の内部に環状に形成された孔であり、冷媒導入部１５２は、一端が冷媒流路１５１に連通し、他端がベースプレート１０の下面１０ｂから外部に露出する孔であり、基板固定装置１の外部から冷媒流路１５１に冷媒を導入し、冷媒排出部１５３は、一端が冷媒流路１５１に連通し、他端がベースプレート１０の下面１０ｂから外部に露出する孔であり、冷媒流路１５１に導入された冷媒を排出し、（段落００１７） 静電チャック３０は、吸着対象物であるウェハを吸着保持する部分であり、静電チャック３０の平面形状は円形であり、（段落００１９） 静電チャック３０は、接着層２０を介して、ベースプレート１０の上面１０ａに設けられ、（段落００２０） 静電チャック３０は、基体３１と、静電電極３２とを有し、（段落００２１） 基体３１としてはセラミックスを用い、（段落００２２） 基体３１の各ガス排出部１１３に対応する位置には、基体３１を貫通してガス排出部１１３の他端を露出するガス孔３３が設けられ、（段落００２５） ガス排出部１１３及びガス孔３３は、冷却機構１５と重ならない位置に設けられた、（上記ａ） 基板固定装置１。」 イ 甲１－２について （ア）申立人１が提出した甲１－２には、以下の記載がある。 「【００２７】 基板処理装置１００は，例えば表面が陽極酸化処理（アルマイト処理）されたアルミニウムから成る円筒形状に成形された処理容器を有する処理室１０２を備える。処理室１０２は接地されている。処理室１０２内の底部にはウエハＷを載置するための略円柱状の載置台１１０が設けられている。載置台１１０はセラミックなどで構成された板状の絶縁体１１２と，絶縁体１１２上に設けられた下部電極を構成するサセプタ１１４とを備える。 【００２８】 載置台１１０はサセプタ１１４を所定の温度に調整可能なサセプタ温調部１１７を備える。サセプタ温調部１１７は，例えばサセプタ１１４の内部に周方向に沿って設けられた環状の温度調節媒体室１１８に温度調節媒体を循環するように構成されている。 【００２９】 サセプタ１１４の上部には，ウエハＷとそれを囲むように配置されるフォーカスリング１２４の両方を吸着可能な基板保持部としての静電チャック１２０が設けられている。静電チャック１２０の上側中央部に凸状の基板載置部が形成されており，この基板載置部の上面はウエハＷを載置する基板載置面１１５を構成し，その周囲の低い部分の上面はフォーカスリング１２４を載置するフォーカスリング載置面１１６を構成する。 【００３０】 静電チャック１２０は，絶縁材の間に電極１２２が介在された構成となっている。本実施形態における静電チャック１２０では，ウエハＷとフォーカスリング１２４の両方を吸着できるように，電極１２２が基板載置面１１５の下側のみならず，フォーカスリング載置面１１６の下側まで延出して設けられている。 ・・・（中略）・・・ 【００３２】 本実施形態における載置台１１０には，ウエハＷの裏面とフォーカスリング１２４の裏面に別々に伝熱ガスを供給する伝熱ガス供給機構２００が設けられている。このような伝熱ガスとしては，プラズマ入熱を受けるウエハＷやフォーカスリング１２４をサセプタ１１４の冷却温度を静電チャック１２０を介して効率よく伝熱して冷却できるＨｅガスの他，Ａｒガス，Ｈ２ガスも適用可能である。」 「【００５５】 図２に示すように，伝熱ガス供給機構２００は，独立した別系統で設けられた第１伝熱ガス供給部２１０と第２伝熱ガス供給部２２０を備える。第１伝熱ガス供給部２１０は，静電チャック１２０の基板載置面１１５とウエハ裏面との間に，第１ガス流路２１２を介して第１伝熱ガスを所定の圧力で供給するようになっている。具体的には上記第１ガス流路２１２は，絶縁体１１２，サセプタ１１４を貫通し，基板載置面１１５に設けられた多数のガス孔２１８に連通している。ここでのガス孔２１８は，基板載置面１１５のセンタ部（中央部）からエッジ部（周縁部）にわたってほぼ全面に形成されている。 ・・・（中略）・・・ 【００５７】 第２伝熱ガス供給部２２０は，静電チャック１２０の基板載置面１１５とフォーカスリング１２４の裏面との間に，第２ガス流路２２２を介して第２伝熱ガスを所定の圧力で供給するようになっている。具体的には上記第２ガス流路２２２は，絶縁体１１２，サセプタ１１４を貫通し，フォーカスリング載置面１１６に設けられた多数のガス孔２２８に連通している。ここでのガス孔２１８は，フォーカスリング載置面１１６のほぼ全面に形成されている。 ・・・（中略）・・・ 【００６０】 図３Ａ，図３Ｂに示す構成例は，静電チャック１２０の内部にフォーカスリング１２４の周方向に沿った環状の空間からなる第１環状拡散部２２９を設けた場合である。そして，この第１環状拡散部２２９の上部に各ガス孔２２８の下端を連通させるとともに，第１環状拡散部２２９の下部に第２ガス流路２２２を連通させる。これによれば，この第２ガス流路２２２を介して第１環状拡散部２２９に第２伝熱ガスを供給することによって，第２伝熱ガスを第１環状拡散部２２９の周方向に沿って全体に拡散させながら各ガス孔２２８から噴出させることができるので，フォーカスリング裏面全体に満遍なく流通させることができる。」 「【０１０２】 具体的には例えば図１１に示すように，第２ガス流路２２２を分岐させて，その分岐流路２２３をウエハＷのエッジ部の裏面に向けて設けるようにしてもよい。この場合，基板載置面１１５のガス孔２１８はセンタ部領域のガス孔２１８ａとその周りのエッジ部領域のガス孔２１８ｂとに分けて設け，センタ部領域のガス孔２１８ａには第１ガス流路２１２を連通させるとともに，エッジ部領域のガス孔２１８ｂには第２ガス流路２２２からの分岐流路２２３を連通させる。これにより，センタ部領域のガス孔２１８ａには第１伝熱ガスが供給されるとともに，エッジ部領域のガス孔２１８ｂには第２伝熱ガスが供給される。」 「【図２】 ［図：0001433077000005.jpg］ 」 「【図１１】 ［図：0001433077000006.jpg］ 」 （イ）上記（ア）によれば、以下のことがいえる。 ａ 図１１から、ガス孔２２８は、温度調節媒体室１１８と重ならない位置に設けられることが見て取れる。 ｂ 上記（ア）及び上記ａによれば、甲１－２には次の発明（以下、「甲１－２発明」という。）が記載されている。 ＜甲１－２発明＞ 「セラミックで構成された板状の絶縁体１１２と、絶縁体１１２上に設けられた下部電極を構成するサセプタ１１４と、を備える載置台１１０であって、（段落００２７） サセプタ１１４の内部に、周方向に沿って設けられた環状の温度調節媒体室１１８に温度調節媒体を循環するように構成された温調部１１７を備え、（段落００２８） サセプタ１１４の上部に、ウエハＷとそれを囲むように配置されるフォーカスリング１２４の両方を吸着可能な基板保持部としての静電チャック１２０が設けられ、静電チャック１２０の上側中央部に凸状の基板載置部が形成されており、この基板載置部の上面はウエハＷを載置する基板載置面１１５を構成し、その周囲の低い部分の上面はフォーカスリング１２４を載置するフォーカスリング載置面１１６を構成し、（段落００２９） 静電チャック１２０は、絶縁材の間に電極１２２が介在された構成となっており、ウエハＷとフォーカスリング１２４の両方を吸着できるように、電極１２２が基板載置面１１５の下側のみならず、フォーカスリング載置面１１６の下側まで延出して設けられており、（段落００３０） 載置台１１０には、ウエハＷの裏面とフォーカスリング１２４の裏面に別々に伝熱ガスを供給する伝熱ガス供給機構２００が設けられており、（段落００３２） 伝熱ガス供給機構２００は、独立した別系統で設けられた第１伝熱ガス供給部２１０と第２伝熱ガス供給部２２０を備え、 第１伝熱ガス供給部２１０は、静電チャック１２０の基板載置面１１５とウエハ裏面との間に、第１ガス流路２１２を介して第１伝熱ガスを所定の圧力で供給するようになっており、第１ガス流路２１２は、絶縁体１１２、サセプタ１１４を貫通し、基板載置面１１５に設けられた多数のガス孔２１８に連通しており、（段落００５５） 第２伝熱ガス供給部２２０は、静電チャック１２０の基板載置面１１５とフォーカスリング１２４の裏面との間に、第２ガス流路２２２を介して第２伝熱ガスを所定の圧力で供給するようになっており、第２ガス流路２２２は、絶縁体１１２、サセプタ１１４を貫通し、フォーカスリング載置面１１６に設けられた多数のガス孔２２８に連通し、ガス孔２１８は、フォーカスリング載置面１１６のほぼ全面に形成されており、（段落００５７） 静電チャック１２０の内部に、フォーカスリング１２４の周方向に沿った環状の空間からなる第１環状拡散部２２９が設けられ、この第１環状拡散部２２９の上部に各ガス孔２２８の下端が連通されるとともに、第１環状拡散部２２９の下部に第２ガス流路２２２が連通され、（段落００６０） 第２ガス流路２２２を分岐させて、その分岐流路２２３をウエハＷのエッジ部の裏面に向けて設け、基板載置面１１５のガス孔２１８はセンタ部領域のガス孔２１８ａとその周りのエッジ部領域のガス孔２１８ｂとに分けて設けられ、センタ部領域のガス孔２１８ａには第１ガス流路２１２を連通させるとともに、エッジ部領域のガス孔２１８ｂには第２ガス流路２２２からの分岐流路２２３が連通され、（段落０１０２） ガス孔２２８は、温度調節媒体室１１８と重ならない位置に設けられた、（上記ａ） 載置台１１０。」 ウ 甲１－３について 申立人１が提出した甲１－３には、以下の記載がある。 「【００２０】 図面に示されているように、本発明によるウエハー用静電チャックは、ウエハー１０が装着されるベース２０と、ベース２０の上部面の端部に備えられる環型の第１シーリング部材３０と、第１シーリング部材３０の内側に離隔してベース２０の上部面に備えられ、ウエハー１０装着時にウエハー１０をエッジ部１２及びセンター部１４に区分する環型の第２シーリング部材４０と、ベース２０の内部に分岐形成され、ウエハー１０のエッジ部１２にヘリウムガスを排出する第１ヘリウム供給流路５０と、第１ヘリウム供給流路５０と高さ差を有するようにベース２０の内部に分岐形成され、ウエハー１０のセンター部１４にヘリウムガスを排出する第２ヘリウム供給流路６０とを含んで構成される。 ・・・（中略）・・・ 【００２３】 第１ヘリウム供給流路５０は、ベース２０の中央下部に形成され、外部からヘリウムガスが流入される第１ヘリウム流入口５２と、ウエハー１０のエッジ部１２と対応するようにベース２０の外側上部に形成され、ウエハー１０のエッジ部１２にヘリウムガスを排出する複数の第１ヘリウム排出口５４と、第１ヘリウム流入口５２から分岐形成され、第１ヘリウム排出口５４と連通する第１内部流路５６とを含む。 ・・・（中略）・・・ 【００２５】 第１ヘリウム排出口５４は、装着されたウエハー１０のエッジ部１２と対応してヘリウムガスを排出することができるように、ベース２０の外側周囲に沿って一定の間隔で複数形成される。 【００２６】 第１内部流路５６は、第１ヘリウム流入口５２と連通する複数の第１分岐流路５５ａと、第１分岐流路５５ａ及び第１ヘリウム排出口５４と連通する第１循環流路５５ｂとを含むのが好ましい。そして、第１ヘリウム供給流路５０の構造が複雑になる短所があるが、第１分岐流路５５ａの数を第１ヘリウム排出口５４の数と同一に形成することによって、第１循環流路５５ｂを除去して第１内部流路５６を形成することができる。 ・・・（中略）・・・ 【００２８】 第２ヘリウム供給流路６０は、ベース２０の中央下部に形成された第２ヘリウム流入口６２と、ウエハー１０のセンター部１４と対応するようにベース１０の上部に形成された複数の第２ヘリウム排出口６４と、第１内部流路５６と高さ差を有するように第２ヘリウム流入口６２から分岐形成され、第２ヘリウム排出口６４と連通する第２内部流路６６とを含む。 ・・・（中略）・・・ 【００３２】 第２内部流路６６は、第２ヘリウム流入口６２と連通する複数の第２分岐流路６５ａと、第２分岐流路６５ａ及び第２ヘリウム排出口６４と連通する第２循環流路６５ｂとを含むのが好ましい。そして、第２ヘリウム供給流路６０の構造が複雑になる短所があるが、第２分岐流路６５ａの数を第２ヘリウム排出口６４の数と同一に形成することによって、第２循環流路６５ｂを除去して第２内部流路６６を形成することができる。」 「【図４】 ［図：0001433077000007.jpg］ 【図５】 ［図：0001433077000008.jpg］ 」 エ 甲１－４について 甲１－４には、以下の記載がある。 「【０００３】 図１は、従来の基板温調固定装置１００を簡略化して例示する断面図である。図１を参照するに、基板温調固定装置１００は、静電チャック１０１と、接着層１０５と、ベースプレート１０６とを有する。１０７は、静電チャック１０１に吸着保持される基板である。静電チャック１０１は、基体１０２と、静電電極１０３とを有する。基体１０２は、ベースプレート１０６上に接着層１０５を介して固定されている。基体１０２は、セラミックスにより構成されている。 ・・・（中略）・・・ 【０００５】 静電電極１０３は、薄膜静電電極であり、基体１０２に内蔵されている。静電電極１０３は、基板温調固定装置１００の外部に設けられた直流電源（図示せず）に接続され、所定の電圧が印加されると、基板１０７を外周シールリング１０２ｂ及び複数の突起部１０２ｃの上面に吸着保持する。吸着保持力は、静電電極１０３に印加される電圧が高いほど強くなる。 【０００６】 ベースプレート１０６は、静電チャック１０１を支持するためのものである。ベースプレート１０６は、水路１０４、発熱体（図示せず）、環状のガス路１０８及び環状のガス路１０８に不活性ガスを導入するガス導入部１０８ａを内蔵しており、基体１０２を介して基板１０７の温度制御を行う。水路１０４は、ベースプレート１０６の下部に形成された冷却水導入部１０４ａと、冷却水排出部１０４ｂとを有する。冷却水導入部１０４ａ及び冷却水排出部１０４ｂは、基板温調固定装置１００の外部に設けられた冷却水制御装置（図示せず）に接続されている。 ・・・（中略）・・・ 【０００８】 ガス導入部１０８ａの一端は環状のガス路１０８に接続され、他端はベースプレート１０６の下面１０６ｂの開口部１０８ａ１で終端する。又、基体１０２，接着層１０５，ベースプレート１０６には、基体１０２及び接着層１０５を貫通し、環状のガス路１０８に導入された不活性ガスを排出するガス排出部１０８ｂが形成されている。ガス排出部１０８ｂの一端はベースプレート１０６に内蔵された環状のガス路１０８に接続され、他端は基体１０２の上面１０２ａの開口部１０８ｂ１で終端する。 ・・・（中略）・・・ 【００１１】 ベースプレート１０６に内蔵されている環状のガス路１０８について、図２を参照しながら更に詳しく説明する。図２は、環状のガス路１０８の概略の経路を例示する平面模式図である。同図中、図１と同一部品については、同一符号を付し、その説明は省略する。なお、図１は従来の基板温調固定装置１００を簡略化して例示しているため、図１と図２とは一致しない部分がある。図２において、環状のガス路１０８は、ベースプレート１０６に内蔵されており、大中小３種類の同心円状の平面視円環状部を複数箇所で連結した構造である。環状のガス路１０８は、ベースプレート１０６の下面１０６ｂと略平行に形成されている。」 「【図１】 ［図：0001433077000009.jpg］ 【図２】 ［図：0001433077000010.jpg］ 」 オ 甲１－５について 甲１－５には、以下の記載がある。 「【００１３】 以下、本開示の第１および第２の実施形態について、図面を用いて説明する。 なお、図面では、互いに直交する３軸として、基体１１の円周方向である〔Ｃ方向〕、基体１１の中心点Ｏを通る径（直径）方向である〔Ｄ方向〕、試料保持面（基体上面１１ａ）に垂直でかつ基体１１の厚みを示す方向（図では鉛直方向）を〔Ｖ方向」として表示している。 ・・・（中略）・・・ 【００１５】 また、以下の実施形態においては、本開示の試料保持具のガス流路（符号Ｇ）における第１部分を円環状流路部１と、第２部分を縦孔部２と、「ガス溜まり（バッファ）」を兼用する第３部分に相当する領域を縦孔接続部３と、第４部分を径方向流路部４と、表記している。さらに、本開示の第５，第６部分に相当するガス流路Ｇの分岐部は、第１実施形態においては第１の分岐部５（第５部分）として、第２実施形態においては第２の分岐部６（第６部分）として記載している。 ・・・（中略）・・・ 【００１７】 試料保持具１０は、図１の上面図および図２の一部断面に示すように、鉛直方向上側（図中ではＶ方向マイナス側）に配置された、セラミックスからなる円板状の基体１１と、その下側（Ｖ方向プラス側）に配設された、金属製の円板状支持体１２とを、接着剤等の接合材（図示省略）により接合して構成されている。円板状支持体１２は、ベースプレートとも呼ばれる。 ・・・（中略）・・・ 【００２０】 試料保持具１０の基体１１は、全体形状が円板状で、一方の主面である基体上面１１ａが、試料保持面となっている。また、基体１１は、他方の主面である基体下面１１ｂから基体上面１１ａまで貫通するガス流路Ｇを有している。 【００２１】 ガス流路Ｇは、図１の隠れ線（点線）および図２の破断（断面）部に示すように、基体上面１１ａに開口する複数のガス噴出口２ａに繋がるそれぞれの縦孔部２（第２部分）の根元に位置する下端部２ｂと、先に述べた、基体下面１１ｂ側のガス流入部７の上端部とを接続して、支持体１２側から供給されるガスを、これら各縦孔部２に均等に分配するよう構成されている。 ・・・（中略）・・・ 【００２７】 具体的には、試料保持具１０の縦孔接続部３は、図３（ｂ）に示すように、円周方向〔Ｃ方向〕ではない径方向〔Ｄ方向〕に向かって延設された径方向拡張部３ａ，３ａと、反鉛直上向き方向である鉛直下向き〔Ｖ方向プラス側〕に延設された下方凹部３ｂと、を備える。」 「【図１】 ［図：0001433077000011.jpg］ 【図２】 ［図：0001433077000012.jpg］ 」 カ 甲１－６について 甲１－６には、以下の記載がある。 「[0015] 静電チャック１０は、プレート１２と、冷却板２０と、複数の貫通孔２４と、各貫通孔２４に挿入・固定された絶縁管３０（図２、図３参照）とを備え、プレート１２の上面がウエハＷの載置面となっている。 ・・・（中略）・・・ [0017] 冷却板２０は、プレート１２の下面にシリコーン樹脂からなる接着層１８を介して取り付けられている。接着層１８をロウ材からなる接合層に代えてもよい。この冷却板２０は、導電性材料（例えばアルミニウムやアルミ合金、金属とセラミックスとの複合材料）で作製された導電性部材であり、冷媒（例えば水）が通過可能な冷媒通路２２を内蔵している。この冷媒通路２２は、プレート１２の全面にわたって冷媒が通過するように形成されている。なお、冷媒通路２２には、冷媒の供給口と排出口（いずれも図示せず）が設けられている。」 キ 甲１－７について （ア）甲１－７には、以下の記載がある。 「【００１５】静電チャックステージ」図１は、本発明の一実施形態の静電チャックステージを示す断面図であり、内部に静電吸着用の内部電極２が配設された静電チャック用セラミックス焼結体プレート１と、内部に温度調整機能である冷媒流路（図示略）が形成されたアルミニウム－セラミックス複合材プレート（Ａｌ複合材プレート）５と、絶縁材料６に囲繞されて、Ａｌ複合材プレート５を貫通して内部電極２に接する電圧印加用端子３とを有している。そして、セラミックス焼結体プレート１とＡｌ複合材プレート５とは接合材層４を介して接合一体化され、セラミックス焼結体プレート１とＡｌ複合材プレート５との接合率が９５％以上、例えば１００％となっている。」 （２）申立理由１－１について ア 甲１－１を主引用文献とする進歩性について （ア）本件発明２について ａ 対比 本件発明２と甲１－１発明とを対比すると、両者は、少なくとも次の点で相違する。 ＜相違点３＞ 本件発明２が「前記ガス分配経路は、ガス分岐部を介して前記ガス共通経路に接続され、前記ガス分岐部のうち前記最外周ガス分配経路に接続されたガス分岐部は、平面上に延び出ている」のに対し、甲１－１発明は「ガス排出部１１３は、一端がガス流路１１１に連通し、他端がベースプレート１０の上面１０ａから外部に露出して接着層２０を貫通する孔であり」、「基体３１の各ガス排出部１１３に対応する位置には、基体３１を貫通してガス排出部１１３の他端を露出するガス孔３３が設けられ」、ガス排出部１１３及びガス孔３３と、ガス流路１１１との間にガス分岐部を有さない点。 ｂ 相違点についての判断 相違点３について検討する。 甲１－２～甲１－７のいずれにも、相違点３に係る本件発明２の構成は記載も示唆もされていない。 よって、甲１－２～甲１－７を参照しても、甲１－１発明を、相違点３に係る本件発明２の構成を備えたものとすることはできない。 ｃ 申立人１の主張について 申立人１は、特許異議申立書の第４９頁第６行～第１３行において、甲１－２の段落０１０２には、ウエハの裏面に供給されるガスを分岐する分岐流路２２３が記載されている旨主張している。 しかし、甲１－２の段落０１０２には、「第２ガス流路２２２を分岐させて，その分岐流路２２３をウエハＷのエッジ部の裏面に向けて設けるようにしてもよい。」と記載され、分岐流路２２３は、ウエハＷのエッジ部に向けて設けられるものであり、最外周のガス排出部１１３及びガス孔３３に向けて設けられるものではないから、本件発明２の「最外周ガス分配経路に接続されたガス分岐部は、平面上に延び出ている」構成に相当するものではない。 よって、甲１－１発明に甲１－２に記載された技術事項を適用しても、相違点３に係る本件発明２の構成とすることはできず、上記主張を採用することはできない。 ｄ 小括 以上のとおりであるから、本件発明２は、甲１－２～甲１－７を参照しても、甲１－１発明に基づき、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （イ）本件発明３～６について 請求項３～６の記載は請求項２の記載を引用するものであるところ、本件発明３～６は、本件発明２の構成を全て備えるものであるから、本件発明３～６と甲１－１発明とは、少なくとも相違点３と同様の点で相違する。 したがって、上記（ア）ｂ～ｄにおける検討と同様の理由により、本件発明３～６は、甲１－２～甲１－７を参照しても、甲１－１発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものでもない。 （ウ）本件発明７について ａ 本件発明７と甲１－１発明とを対比すると、両者は、少なくとも次の点で相違する。 ＜相違点４＞ 本件発明７は、「前記セラミックプレートの上面には」「前記ウエハ載置部を取り囲む環状のフォーカスリング載置部とが設けられ、前記最外周ガス分配経路は、前記ガス共通経路から前記フォーカスリング載置部に至る経路であり、前記ガス共通経路は、前記フォーカスリング載置部のフォーカスリング支持面よりも低い位置にある」のに対し、甲１－１発明は、フォーカスリング載置部を有さない点。 ｂ 相違点についての判断 相違点４について検討する。 甲１－２の段落００２９には「静電チャック１２０の」「その周囲の低い部分の上面はフォーカスリング１２４を載置するフォーカスリング載置面１１６を構成する」と記載され、フォーカスリング載置面１１６を有する載置台が記載されている。 しかし、甲１－１発明は、フォーカスリング載置部を有さない基板固定装置１であり、甲１－１発明のガス供給部１１の構成は、甲１－２に記載された伝熱ガス供給機構２００の構成と異なるから、甲１－２に記載されたフォーカスリング載置部の構成を、甲１－１発明に適用する動機はない。 また、甲１－３～甲１－７には、相違点４に係る本件発明７の構成に関する記載も示唆もない。 したがって、甲１－２～甲１－７の記載を参照しても、甲１－１発明を、相違点４に係る本件発明７の構成を備えたものとすることは、当業者が容易になし得たことではない。 （エ）小括 以上のとおりであるから、本件発明７は、甲１－２～甲１－７を参照しても、甲１－１発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 イ 甲１－２を主引用文献とする進歩性について （ア）本件発明２について ａ 対比 本件発明２と甲１－２発明とを対比すると、両者は、少なくとも次の点で相違する。 ＜相違点５＞ 本件発明２において「前記ガス共通経路は、同心円となるように複数設けられ」るのに対し、甲１－２発明においては「静電チャック１２０の内部に、フォーカスリング１２４の周方向に沿った環状の空間からなる第１環状拡散部２２９が設けられ，この第１環状拡散部２２９の上部に各ガス孔２２８の下端が連通され」るものの、環状拡散部が同心円となるように複数設けられるものではない点。 ｂ 相違点についての判断 相違点５について検討する。 甲１－３の段落００２６には「第１ヘリウム排出口５４と連通する第１循環流路５５ｂとを含む」と記載され、段落００３２には「第２ヘリウム排出口６４と連通する第２循環流路６５ｂとを含む」と記載されており、甲１－４の段落００１１には「環状のガス路１０８は、ベースプレート１０６に内蔵されており、大中小３種類の同心円状の平面視円環状部を複数箇所で連結した構造である。」と記載されており、甲１－３及び甲１－４には、環状のガス経路が記載されているといえる。 しかし、甲１－３及び甲１－４に記載された環状のガス経路は、フォーカスリング載置部に至る経路を含むものではないから、「フォーカスリング載置面１１６に設けられた多数のガス孔２２８」を有する甲１－２発明に、甲１－３及び甲１－４に記載された上記技術事項を適用する動機はない。 また、甲１－１、甲１－５～甲１－７のいずれにも、相違点５に係る本件発明２の構成は記載されていない。 したがって、甲１－１、甲１－３～甲１－７を参照しても、甲１－２発明を、相違点５に係る本件発明２の構成を備えたものとすることは、当業者が容易になし得たことではない。 ｃ 小括 以上のとおりであるから、本件発明２は、甲１－１、甲１－３～甲１－７を参照しても、甲１－２発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （イ）本件発明３～６について 請求項３～６の記載は請求項２の記載を引用するものであるところ、本件発明３～６は、本件発明２の構成を全て備えるものであるから、本件発明３～６と甲１－２発明とは、少なくとも相違点５と同様の点で相違する。 したがって、上記（ア）における検討と同様に、本件発明３～６は、甲１－１、甲１－３～甲１－７の記載を参照しても、甲１－２発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （ウ）本件発明７について 本件発明７と甲１－２発明とを対比すると、少なくとも相違点５と同様の点で相違する。 そして、上記（ア）ｂ、ｃと同様の理由により、甲１－１、甲１－３～甲１－７の記載を参照しても、甲１－２発明を、相違点５に係る本件発明２の構成を備えたものとすることは、当業者が容易になし得たことではない。 よって、本件発明２は、甲１－１、甲１－３～甲１－７の記載を参照しても、甲１－２発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （３）申立理由１－２（拡大先願）について 請求項３の記載は請求項２の記載を引用するものであるところ、本件発明３は、本件発明２の構成を全て備えるものであるから、本件発明３と先願甲１－８発明とは、少なくとも相違点１と同様の点で相違する。 したがって、上記第４の２（１）イ（イ）～（エ）における検討と同様に、本件発明３は、先願甲１－８発明と同一ではない。 （４）申立理由１－３（サポート要件）について ア 本件明細書等の段落００２６には、「ガス分岐部５３ｃとガス分配経路５３ｅとの接続部分は」「ガス中継溝５３ｄとなっている。ガス中継溝５３ｄの」「幅」「は」「ガス共通経路５３ｂの幅よりも大きく、例えばそれらの１．５～２．５倍である。」と記載されている。また、図１から、ガス中継溝５３ｄ及びガス分配経路５３ｅは互いに接することが見て取れる。したがって、本件明細書等には、ガス分岐部とガス分配経路との接続部分であるガス中継溝について、ガス中継溝及びガス分配経路は互いに接すること（以下、「構成Ｂ」という。）が記載されている。 ここで、構成Ｂにおいて、「ガス中継溝及びガス分配経路は互いに接する」から、ガス分配経路と接するガス中継溝を、ガス分配経路の一部として、「ガス分岐部とガス分配経路との接続部分であるガス中継溝」を、ガス分配経路のうち少なくともガス分岐部と接続している部分とすることは、表現上の差違にすぎない。したがって、請求項３に記載された「前記ガス分配経路のうち少なくとも前記ガス分岐部と接続している部分」は、発明の詳細な説明に記載したものである。 よって、本件発明３は、発明の詳細な説明に記載したものである。 （５）申立理由１－４（明確性要件）について ａ 本件訂正により、請求項２において「ガス分配経路は、ガス分岐部を介して前記ガス共通経路に接続され」ることが特定され、「ガス分配経路」及び「ガス共通経路」はガス分岐部を介して接続されること、「ガス分岐部」は「ガス分配経路」及び「ガス共通経路」を接続するものであることが明確となった。 よって、本件発明２は明確である。 ｂ 本件訂正により、請求項３において「ガス分配経路のうち少なくとも前記ガス分岐部と接続している部分」が特定され、「ガス分配経路」の接続先は「ガス分岐部」であることが明確となった。 また、本件明細書等の段落００２６には「ガス中継溝５３ｄの直径（幅）は、ガス分配経路５３ｅの幅やガス共通経路５３ｂの幅よりも大きく」と記載され、「幅」は、「ガス中継溝５３ｄ」、「ガス分配経路５３ｅ」及び「ガス共通経路５３ｂ」の直径であるといえる。したがって、発明の詳細な説明の記載を参酌すれば、請求項３に記載された「幅」が、「ガス分配経路」及び「ガス共通経路」の直径であることは明確である。 よって、本件発明３は明確である。 ｃ 申立人１は、令和７年９月５日提出の意見書第１頁下から１５行～１１行において、本件発明２において、「平面」がどの部材のどの面を指すのか明確でない旨主張している。 上記主張について検討する。 請求項２には、「前記セラミックプレートの下面に接合され、冷媒流路を有する冷却プレート」及び「前記セラミックプレートの最外周に配置されている最外周ガス分配経路は、平面視で前記冷媒流路と重ならない」と記載され、セラミックプレートに配置される最外周ガス分配は、平面視で、セラミックプレートの下面に接合された冷却プレートが有する冷媒流路と重ならないことが特定されている。したがって、「平面視で」「重ならない」は、セラミックプレートに対して垂直な方向から見て重ならないことであるといえる。そうすると、請求項２に記載された「平面」は、セラミックプレートと平行な面であるといえる。 また、請求項２には「前記最外周ガス分配経路に接続されたガス分岐部」と記載され、「ガス分岐部」は、「最外周ガス分配経路に接続され」ているのであるから、最外周ガス分配経路を通る平面上にあるといえる。 したがって、請求項２に記載された「平面」は、最外周ガス分配経路を通る、セラミックプレートと平行な面であり、明確である。 よって、上記申立人１の主張を採用することはできない。 第６ まとめ 以上のとおりであるから、申立人らの主張する特許異議の申立ての理由及び申立人らが提出した証拠、並びに、取消理由通知書に記載した取消理由によっては、請求項２～７に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に、請求項２～７に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 そして、請求項１は、本件訂正により削除され、当該請求項に係る特許異議の申立ては、その対象が存在しないものとなったため、特許法第１２０条の８第１項で準用する同法第１３５条の規定により却下する。 よって、結論のとおり決定する。