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特許第７５０２３７５号発明「少なくとも１つの基板上にクロム層またはクロム合金層を堆積するための制御された方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７５０２３７５号の請求項１～９に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第７５０２３７５号（以下「本件特許」という。）の請求項１～９に係る特許についての出願は、２０１８年（平成３０年） ４月 ４日（パリ条約による優先権主張外国庁受理 ２０１７年 ４月 ４日（ＥＰ）欧州特許庁）を国際出願日とする特願２０１９－５５４６５９号の一部を令和 ４年 ７月２８日に新たな外国語書面出願（特願２０２２－１２０４８６号。以下「本願」という。）としたものであって、令和 ６年 ６月１０日にその特許権の設定登録がなされ、同年 ６月１８日にその特許掲載公報が発行されたものである。 その後、令和 ６年１２月１３日に、請求項１～９（全請求項）に係る特許に対し、特許異議申立人である安井 健治（以下「申立人Ｙ」という。）により特許異議の申立てがされ、同年１２月１７日に、請求項１～９（全請求項）に係る特許に対し、特許異議申立人である中川 賢治（以下「申立人Ｎ」という。）により特許異議の申立てがされた。 本件特許異議の申立てにおける手続の経緯は、以下のとおりである。 令和 ６年１２月１３日 ：申立人Ｙによる特許異議の申立て １２月１７日 ：申立人Ｎによる特許異議の申立て 令和 ７年 ３月２８日付け：取消理由通知 ７月 ７日 ：特許権者による意見書の提出 第２ 本件発明 本件特許の請求項１～９に係る発明は、本願の願書に添付した特許請求の範囲の請求項１～９に記載された事項により特定される、次のとおりのものである（以下、請求項１～９に係る発明を、それぞれ「本件発明１」～「本件発明９」といい、これらを総称して「本件発明」という。また、本願の願書に添付した明細書を「本件明細書」という。）。 「【請求項１】 堆積されたクロム合金層を含む鋼基板であって、 前記クロム合金層が、鋼基板上に直接堆積されているか、または、鋼基板がニッケルまたはニッケル合金層をさらに含み、クロム合金層がその上に堆積されており、 前記クロム合金層が、炭素と酸素を含み、 前記クロム合金層が、アルカリ金属を含まず、 前記クロム合金層が、５～２００μｍの範囲の平均層厚さを持ち、 前記クロム合金層が、０．６μｍ以下の平均表面粗さＲａを有し、かつ、前記クロム合金層がアモルファスであり、Ｘ線回折により測定される、鋼基板。 【請求項２】 少なくとも７００ＨＶ（０．０５）のビッカース硬さを有する、請求項１に記載の堆積されたクロム合金層を含む鋼基板。 【請求項３】 クロム合金層の平均層厚さが、５μｍ～１５０μｍの範囲を有する、請求項１または２に記載の堆積されたクロム合金層を含む鋼基板。 【請求項４】 前記クロム合金層が、平均層厚さ１０μｍ、１５μｍ、または２０μｍの下限を有する、請求項１～３のいずれかに記載の堆積されたクロム合金層を含む鋼基板。 【請求項５】 前記ニッケルまたはニッケル合金層が半光沢ニッケル層である、請求項１～４のいずれかに記載の堆積されたクロム合金層を含む鋼基板。 【請求項６】 前記クロム合金層は、クロム合金層の総重量を基準として、９０重量パーセント以上のクロムを含む、請求項１～５のいずれかに記載の堆積されたクロム合金層を含む鋼基板。 【請求項７】 前記クロム合金層が、０．５μｍ以下の平均表面粗さＲａを有する、請求項１～６のいずれかに記載の堆積されたクロム合金層を含む鋼基板。 【請求項８】 前記クロム合金層が硬質クロム合金層である、請求項１～７のいずれかに記載の堆積されたクロム合金層を含む鋼基板。 【請求項９】 前記鋼基板は、０．２μｍ未満の初期平均表面粗さＲａを有する、請求項１～８のいずれかに記載の堆積されたクロム合金層を含む鋼基板。」 第３ 特許異議の申立ての理由及び取消理由の概要 １ 特許異議の申立ての理由の概要 （１）申立人Ｙは、証拠方法として、後記イの甲第１号証～甲第３号証（以下「甲第Ｙ１号証」～「甲第Ｙ３号証」という。）を提出し、以下の理由により、本件特許の請求項１～９に係る特許は取り消されるべきものであると主張している。 ア 申立理由Ｙ１（進歩性） 本件発明１～９は、甲第Ｙ１号証に記載された発明及び甲第Ｙ２、Ｙ３号証に記載された事項に基いて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。 イ 証拠方法 甲第Ｙ１号証：特開２００７－６３６５４号公報 甲第Ｙ２号証：特許第５５７０４２３号公報 甲第Ｙ３号証：特許第４６９１０２９号公報 （２）申立人Ｎは、証拠方法として、後記ウの甲第１号証～甲第７号証（以下「甲第Ｎ１号証」～「甲第Ｎ７号証」という。）を提出し、以下の理由により、本件特許の請求項１～９に係る特許は取り消されるべきものであると主張している ア 申立理由Ｎ１（新規性） 本件発明１～４は、甲第Ｎ１号証（補助的に甲第Ｎ２～Ｎ５号証）に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。 イ 申立理由Ｎ２（進歩性） 本件発明１～９は、甲第Ｎ１号証に記載された発明及び甲第Ｎ２～Ｎ７号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。 ウ 証拠方法 甲第Ｎ１号証：特表２０１０－５４０７８１号公報 甲第Ｎ２号証：森河務、外３名、「硫酸クロム（III）－カルボン酸塩浴からのＣｒ－Ｃ合金めっき皮膜の作製」、表面技術、社団法人表面技術協会、１９９１年 １月 １日発行（２００９年１０月３０日公開）、第４２巻、第１号、ｐ．９５～９９ ＜ＵＲＬ：https://doi.org/10.4139/sfj.42.95＞ 甲第Ｎ３号証：高谷松文、外２名、「硫酸第二クロム（III）－ギ酸カリウム浴からのクロムめっきのかたさ」、金属表面技術、社団法人金属表面技術協会、１９８６年 ９月 １日発行（２００９年１０月３０日公開）、第３７巻、第１０号、ｐ．３１～３４ ＜ＵＲＬ：https://doi.org/10.4139/sfj1950.37.621＞ 甲第Ｎ４号証：中国特許出願公開第１０１４６９４３５号明細書及び抄訳文 甲第Ｎ５号証：中国特許出願公開第１０１０７８１３２号明細書及び抄訳文 甲第Ｎ６号証：国際公開第２００６／０４３５０７号 甲第Ｎ７号証：国際公開第２０１３／１５４１８４号 ２ 令和 ７年 ３月２８日付けで通知した取消理由の概要 （１）取消理由１（明確性） 本件特許の請求項１には、「前記クロム合金層が、アルカリ金属を含まず」との記載があるが、この記載からは、クロム合金層に、アルカリ金属が全く含まれないのか、一定量以下のアルカリ金属が含まれるのか、また、後者であることを前提とするとき、どの程度の量であれば許容されるのかが不明確である。また、請求項１の記載を直接又は間接的に引用する請求項２～９の記載についても同様である。 よって、本件発明１～９については、特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第２号に適合するものではないから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第４号に該当し、取り消されるべきものである。 第４ 当審における判断 以下に述べるように、特許異議申立書に記載した申立理由及び当審において通知した取消理由によっては、本件特許の請求項１～９に係る特許を取り消すことはできない。 １ 取消理由１（明確性）について （１）特許権者が令和 ７年 ７月 ７日に提出した意見書の主張によれば、クロム合金層の堆積に際し、アルカリ金属の標準電極電位が負で数値も大きく、アルカリ金属を水溶液からめっきできないため、クロム合金層は、堆積浴中のアルカリ金属濃度に関係なく、アルカリ金属を含有しないものと認められる。 そうすると、本件特許の請求項１における「前記クロム合金層が、アルカリ金属を含まず」の意味は明確である。また、請求項１の記載を直接又は間接的に引用する請求項２～９の記載についても同様である。 （２）取消理由１（明確性）のまとめ 以上のとおり、本件発明１～９について、特許請求の範囲の記載は明確である。 したがって、取消理由１（明確性）によっては、本件特許の請求項１～９に係る特許を取り消すことはできない。 ２ 申立理由Ｙ１（進歩性）について （１）甲第Ｙ１号証に記載された発明 甲第Ｙ１号証の請求項１、３～５には、段落【００４９】～【００６２】に記載される本発明金属板の製造方法の説明を踏まえると、以下の発明（以下「甲Ｙ１発明」という。）が記載されていると認められる。 ＜甲Ｙ１発明＞ 金属母材表面にクロム化合物で電気めっき処理を施して硬質クロムめっき層で被覆形成された金属板であって、該クロムめっき層が被膜硬度Ｈｖ１０００～１８００であり、ピンオンディング摩擦試験機で測定した１２０ｍ走行後の平均摩擦係数Ｗが０．１～０．５μであり、 前記硬質クロムめっき層の表面粗さが、ＪＩＳ－Ｂ０６０１：２００１規定による算術平均粗さＲａで０．３～５μｍであり、 前記クロム化合物が炭化クロム合金（Ｃｒ２３Ｃ６）を含有しており、 前記硬質クロムめっき層の厚みが１０～２００μｍである低摩擦性、耐摩耗性を向上させた金属板。 （２）本件発明１について ア 対比 本件発明１と甲Ｙ１発明とを対比する。 （ア）甲Ｙ１発明における「金属母材表面にクロム化合物で電気めっき処理を施して硬質クロムめっき層で被覆形成された金属板」は、クロム化合物が電気めっき処理により金属母材表面に堆積されたものであり、また、当該クロム化合物が炭化クロム合金（Ｃｒ２３Ｃ６）を含有するものであるから、甲Ｙ１発明の「金属母材表面にクロム化合物で電気めっき処理を施して硬質クロムめっき層で被覆形成された金属板」と本件発明１の「堆積されたクロム合金層を含む鋼基板」とは、「堆積されたクロム合金層を含む」金属基板である点で共通する。 （イ）甲Ｙ１発明の「硬質クロムめっき層」は、「金属母材表面」に「被覆形成され」ているから、甲Ｙ１発明の「硬質クロムめっき層」と本件発明１の「クロム合金層」とは、金属「基板上に直接堆積されているか、または、」金属「基板がニッケルまたはニッケル合金層をさらに含み、クロム合金層がその上に堆積されて」いる点で共通する。 （ウ）甲Ｙ１発明における「硬質クロムめっき層」は、「炭化クロム合金（Ｃｒ２３Ｃ６）」を含有しているから、甲Ｙ１発明の「硬質クロムめっき層」と本件発明１の「クロム合金層」とは、「前記クロム合金層が、炭素」を含む点で共通する。 （エ）甲Ｙ１発明における「硬質クロムめっき層の厚みが１０～２００μｍ」であることは、甲Ｙ１発明における「クロム合金層が、５～２００μｍの範囲の平均層厚さ」を持つことに相当する。 （オ）そうすると、本件発明１と甲Ｙ１発明とは、 「堆積されたクロム合金層を含む金属基板であって、 前記クロム合金層が、金属基板上に直接堆積されているか、または、金属基板がニッケルまたはニッケル合金層をさらに含み、クロム合金層がその上に堆積されており、 前記クロム合金層が、炭素を含み、 前記クロム合金層が、５～２００μｍの範囲の平均層厚さを持つ、金属基板。」である点で一致するとともに、以下の点で相違する。 ＜相違点１－１＞ 基板の素材について、本件発明１の鋼基板は、「鋼」であるのに対し、甲Ｙ１発明の金属板は、「金属」である点。 ＜相違点１－２＞ 本件発明１は、クロム合金層が「酸素」を含むのに対し、甲Ｙ１発明は、硬質クロムめっき層が酸素を含むのか否かが不明である点。 ＜相違点１－３＞ 本件発明１は、クロム合金層が「アルカリ金属を含ま」ないのに対し、甲Ｙ１発明は、硬質クロムめっき層が「アルカリ金属」を含むのか否かが不明である点。 ＜相違点１－４＞ 本件発明１は、クロム合金層が「０．６μｍ以下の平均表面粗さＲａを有」するのに対し、甲Ｙ１発明は、「表面粗さが、ＪＩＳ－Ｂ０６０１：２００１規定による算術平均粗さＲａで０．３～５μｍ」である点。 ＜相違点１－５＞ 本件発明１は、クロム合金層が「アモルファスであり、Ｘ線回折により測定される」のに対し、甲Ｙ１発明は、硬質クロムめっき層のＸ線回折により測定される結晶構造が「アモルファス」であるのか否かが不明である点。 イ 判断 （ア）事案に鑑み、相違点１－５について検討する。 ａ 相違点１－５が実質的な相違点であるかについて （ａ）甲第Ｙ１号証には、甲Ｙ１発明における「硬質クロムめっき層」の結晶構造に関する直接的な記載がないから、甲Ｙ１発明における「硬質クロムめっき層」が、「アモルファスであり、Ｘ線回折により測定される」ものであるかは明らかでない。 （ｂ）ここで、甲第Ｙ１号証には、甲Ｙ１発明の金属板の製造方法に関し、以下の記載がある。 ・「次に、本発明金属板の製造方法を説明するが、金属板の製造方法はこれに限定されるものではない。本発明製造方法によって得られる金属板は、次の（１）～（１０）の製造工程によって製造される。すなわち、（１）研磨工程、（２）金属板の母材表面清浄工程、（３）アルカリ洗浄工程、（４）ブラストで粗面化する粗さ調整工程、（５）研磨工程、（６）水洗工程、（７）クロムめっき処理工程、（８）ショットピーニング（ＷＰＣ）処理工程、（９）研磨工程、（１０）表面洗浄工程を経て金属板が完成する。各工程の詳細を以下に説明する。」（段落【００４９】） ・「前記（８）第８工程のショットピーニング処理により、ショット材を硬質クロムめっき層に噴射するに伴って発生する熱により、該硬質クロムめっき層の表面温度が上昇した硬質クロムめっき層を溶融させて、該硬質クロムめっき層の一部をクロムめっきにより発生した微細なクラックに基づく風孔に埋入して該風孔４を封孔して、前記硬質クロムめっき層の最表面を平滑化して、前記微細なクラックを減少、または消滅させる。」（段落【００６０】） （ｃ）上記（ｂ）のとおり、甲Ｙ１発明の金属板の製造工程においては、第７工程の「クロムめっき処理工程」の後に、第８工程の「ショットピーニング処理工程」を有する。そして、第８工程の「ショットピーニング処理工程」では、「ショット材を硬質クロムめっき層に噴射するに伴って発生する熱により、該硬質クロムめっき層の表面温度が上昇した硬質クロムめっき層を溶融させて」いる。 クロム合金においては、通常、溶融・凝固工程によってアモルファス構造を得るために、凝固時に意図的な急冷が必要であることが技術常識であるところ、上記ショットピーニング処理工程では、溶融した硬質クロムめっき層の一部が微細なクラックに基づく風孔に埋入して該風孔を封孔する程度に保持され、その後常法で冷却されたと解されるから、甲Ｙ１発明における「硬質クロムめっき層」に、アモルファスとはいえない結晶質部分を備えた構造が含まれると解するのが自然である。 （ｄ）以上によれば、技術常識を考慮すると、甲Ｙ１発明における「硬質クロムめっき層」が「アモルファスであり、Ｘ線回折により測定される」ものであるとはいえない。 よって、相違点１－５は、実質的な相違点である。 ｂ 相違点１－５の容易想到性について （ａ）甲第Ｙ１号証には、甲Ｙ１発明における「硬質クロムめっき層」の結晶構造に関する直接的な記載がないから、甲Ｙ１発明における「硬質クロムめっき層」を、「アモルファスであり、Ｘ線回折により測定される」ものとすることが動機付けられるとはいえない。 よって、本件発明１は、甲Ｙ１発明に基いて、当業者が容易に想到し得ることであるとはいえない。（ｂ）この点、甲第Ｙ２号証には、クロム合金堆積物がＸＲＤ非晶質であることが記載され（請求項３等）、甲第Ｙ３号証には、三価クロムめっき液を用いて形成されたクロムめっき層が、実質的に非晶質構造を有していることが記載されている（段落【００５４】）。 これら甲第Ｙ２、Ｙ３号証の記載を考慮すると、甲Ｙ１発明の金属板の製造工程における、第７工程の「クロムめっき処理工程」で被覆形成された硬質クロムめっき層を、「アモルファスであり、Ｘ線回折により測定される」ものとすることに動機付けがあるといえる余地がある。 一方、甲Ｙ１発明は、「硬質クロムめっきによって形成された硬質クロムめっき層に、微粒子ショットピーニング処理をすることにより、前記硬質クロムめっき層が保有する微細なクラックを減少、または消滅させ、本来の硬質クロムめっきではなし得なかった前記金属母材表面の低摩擦性、耐摩耗性を一層向上させた金属板」（段落【００１１】）の発明であるから、甲Ｙ１発明の金属板の製造工程における、第８工程の「ショットピーニング処理工程」以降を省略し、硬質クロムめっき層の結晶構造を、「アモルファスであり、Ｘ線回折により測定される」ものの状態に維持することが動機付けられるとはいえない。 そうすると、甲第Ｙ２、Ｙ３号証の記載を考慮しても、本件発明１は、甲Ｙ１発明及び甲第Ｙ２、Ｙ３号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に想到し得ることであるとはいえない。 ウ 小括 以上のとおりであるから、相違点１－１～相違点１－４について検討するまでもなく、本件発明１は、甲第Ｙ１号証に記載された発明及び甲第Ｙ２、Ｙ３号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （３）本件発明２～９について 本件発明２～９は、本件特許の請求項１の記載を直接又は間接的に引用するものであり、本件発明１の発明特定事項を全て備えるものであるが、上記（２）で述べたとおり、本件発明１が、甲第Ｙ１号証に記載された発明及び甲第Ｙ２、Ｙ３号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない以上、本件発明２～９についても同様に、甲第Ｙ１号証に記載された発明及び甲第Ｙ２、Ｙ３号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （４）申立理由Ｙ１（進歩性）のまとめ 以上のとおり、本件発明１～９は、甲第Ｙ１号証に記載された発明及び甲第Ｙ２、Ｙ３号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 したがって、申立理由Ｙ１（進歩性）によっては、本件特許の請求項１～９に係る特許を取り消すことはできない。 ３ 申立理由Ｎ１（新規性）、申立理由Ｎ２（進歩性） （１）甲第Ｎ１号証に記載された発明 甲第Ｎ１号証の段落【０１８６】～【０２１２】には、一実施態様による高ｐＨ電析浴からの電析により、一連の鋼材試片を調製することが記載されており（【０１８７】、【０１８８】）、【０２０６】の表８、【０２０９】の表９、【０２１２】の表１０に記載されるパネルのうち、特に、パネル番号６５（試片６５）に着目すると、甲第Ｎ１号証には、以下の発明（以下「甲Ｎ１発明」という。）が記載されていると認められる。 （当合議体注：表８、表９におけるパネルが結晶質であるか否かの結果の対比により、表８における「ＸＲＤ ｘ’ｔａｌ？」は、０．００が「いいえ」であると認める。） ＜甲Ｎ１発明＞ 電析による堆積物が堆積された鋼材試片であって、 堆積物の組成及び特性が、 ＥＤＳによる［Ｓ］含有量：１．４９質量％、 ＰＩＸＥによる［Ｓ］含有量：１．４０質量％、 ＸＲＤ ｘ’ｔａｌ？：０．００（いいえ）、 ＴＥＭ ｘ’ｔａｌ？：１．００（はい）、 Ｔａｂｅｒ摩擦：２．００ｍｇ／１０００サイクル、 ナノ硬度（Ｈ）：１７．５ＧＰａ、 低下係数（Ｅｒ）：１４０ＧＰａ、 標準偏差粗さ（Ｒｑ）：１μｍ、 ビッカース硬度：７４３、 Ｃｒ含有量：９０．６４質量％、 Ｃ含有量：４．４７質量％、 Ｏ含有量：３．４８質量％、 Ｎ含有量：０．３３質量％、 Ｓ含有量：１．０７質量％、である鋼材試片。 （２）本件発明１について ア 対比 本件発明１と甲Ｎ１発明とを対比する。 （ア）甲Ｎ１発明における堆積物は、鋼材試片上に電析により堆積されたものであるから、堆積物の析出形態は「層」であると解される。 そうすると、甲Ｎ１発明の、「堆積物」が「Ｃｒ含有量：９０．６４質量％、Ｃ含有量：４．４７質量％、Ｏ含有量：３．４８質量％、Ｎ含有量：０．３３質量％、Ｓ含有量：１．０７質量％」である「鋼材試片」は、本件発明１の「鋼基板」と、「堆積されたクロム合金層を含む鋼であって、前記クロム合金層が、炭素と酸素を含む、鋼。」の点で共通する。 （イ）甲Ｎ１発明における「堆積物」が、「ＸＲＤ ｘ’ｔａｌ？：０．００（いいえ）」であることは、ＸＲＤで測定された結晶構造が結晶質でないことを意味するから、本件発明１における「クロム合金層」が「クロム合金層がアモルファスであり、Ｘ線回折により測定される」ことに相当する。 （ウ）そうすると、本件発明１と甲Ｙ１発明とは、 「堆積されたクロム合金層を含む鋼であって、 前記クロム合金層が、炭素と酸素を含み、 前記クロム合金層がアモルファスであり、Ｘ線回折により測定される、鋼。」である点で一致するとともに、以下の点で相違する。 ＜相違点２－１＞ 基材の形状について、本件発明１の鋼基板は、「板」であるのに対し、甲Ｎ１発明の鋼材試片は、その形状が不明である点。 ＜相違点２－２＞ 本件発明１は、クロム合金層が、「鋼基板上に直接堆積されているか、または、鋼基板がニッケルまたはニッケル合金層をさらに含み、クロム合金層がその上に堆積されて」いるのに対し、甲Ｎ１発明は、堆積物が、鋼材試片上に直接堆積されているか、または、鋼材試片がニッケルまたはニッケル合金層をさらに含み、堆積物がその上に堆積されているのか否かが不明である点。 ＜相違点２－３＞ 本件発明１は、クロム合金層が「アルカリ金属を含ま」ないのに対し、甲Ｎ１発明は、堆積物が「アルカリ金属」を含むのか否かが不明である点。 ＜相違点２－４＞ 本件発明１は、クロム合金層が「５～２００μｍの範囲の平均層厚さを持」つのに対し、甲Ｎ１発明は、堆積物の厚さが不明である点。 ＜相違点２－５＞ 本件発明１は、クロム合金層が「０．６μｍ以下の平均表面粗さＲａを有」するのに対し、甲Ｎ１発明は、「標準偏差粗さ（Ｒｑ）：１μｍ」である点。 イ 判断 （ア）事案に鑑み、相違点２－５について検討する。 ａ 相違点２－５が実質的な相違点であるかについて 甲第Ｎ１号証には、甲Ｎ１発明の鋼材試片における堆積物の「平均表面粗さＲａ」が記載されていないから、堆積物の「平均表面粗さＲａ」は不明である。また、技術常識を考慮しても、堆積物の「平均表面粗さＲａ」が「０．６μｍ以下」であるかは不明である。なお、このことは、「Ｒｑ＝１．２５Ｒａ」（１＝１．２５×０．８）の関係が成立しても変わらない。 よって、相違点２－５は、実質的な相違点である。 ｂ 相違点２－５の容易想到性について （ａ）甲第Ｎ１号証の表８には、標準偏差粗さ（Ｒｑ）が０．９５～１．８（μｍ）であるパネル（堆積物）が記載されているが、堆積物の「平均表面粗さＲａ」ついては何ら記載されていないから、甲Ｎ１発明の鋼材試片における堆積物において、「平均表面粗さＲａ」を「０．６μｍ以下」とすることが動機付けられるとはいえない。 よって、本件発明１は、甲Ｎ１発明に基いて、当業者が容易に想到し得ることであるとはいえない。 ｃ 申立人の主張について （ａ）申立人Ｎは、特許異議申立書の第１５～１６ページの「相違点１について」において、「甲第１号証には、三価クロムイオン含有供給源として「３価クロムは、塩化クロムＣｒＣｌ３、フッ化クロムＣｒＦ３、酸化クロムＣｒ２Ｏ３、リン酸クロムＣｒＰＯ４として、またはクロムヒドロキシ二塩化物溶液、塩化クロム溶液、または硫酸クロム溶液のような市販されている溶液（例えば、McGean Chemical CompanyまたはSentury Reagents製）」が記載されている（【０１０５】）。 また、甲第１号証には、ｐＨを調整するための水酸化物供給源については記載がないが、電気めっきプロセスにおいてｐＨを調整するための水酸化物供給源としてＮＨ４ＯＨなどを添加することは、甲第２号証や甲第３号証に記載されているように通常普通に行われている周知の事項であるにすぎない。 してみれば、甲第１号証に記載された発明において電解めっき浴中にはアルカリ金属は含まれていないのであるから、析出したクロム合金層がアルカリ金属を含まないこととなる。」と主張し、当該主張を前提に、特許異議申立書の第１６～１７ページの「相違点２について」において、「前記クロム合金層が、０．６μｍ以下の平均表面粗さＲａを有するという構成は、「クロム合金層がアルカリ金属を含まない」ようにしたことにより当然生じる結果を記載したものにすぎず、上記したように相違点１が実質的な相違点とは言えないし、また当業者が容易になし得ることであるから、相違点２にかかる構成は当然達成されているものであるし、当業者が容易になし得ることである。 また、甲第４号証や甲第５号証に記載されているように、三価クロムめっきのめっき層の表面粗さＲａは０．１μｍ以下あるいは０．６μｍ以下であって、クロム合金層が０．６μｍ以下の平均表面粗さＲａであるという構成は三価クロムめっきのめっき層の通常の表面粗さを記載したものにすぎない。」と主張する。 （ｂ）しかしながら、甲Ｎ１発明の堆積物は、「Ｃｒ（ＯＨ）ＳＯ４・Ｎａ２ＳＯ４」を１１８．５ｇ／Ｌ含む高ｐＨ電析浴を用いて電析されたものであるから（段落【０１８７】）、当該電析浴は、アルカリ金属カチオンを含むものである。 そうすると、仮に上記（ａ）における申立人Ｎの主張を前提とするとしても、アルカリ金属カチオンを含む電析浴を用いて製造された、甲Ｎ１発明の鋼材試片における堆積物の「平均表面粗さＲａ」が「０．６μｍ以下」となるかは不明である。 また、申立人Ｎの主張に従って、Ｃｒ源である「Ｃｒ（ＯＨ）ＳＯ４・Ｎａ２ＳＯ４」を「塩化クロムＣｒＣｌ３」等に変更し、ｐＨ調整剤としてＮＨ４ＯＨを用いたときに、実際に、「平均表面粗さＲａ」が「０．６μｍ以下」となるかは不明である。また、このような変更を行ったとしても、堆積物のＸＲＤで測定された結晶構造が非晶質となるかも不明である。 よって、いずれにしても、申立人Ｎの上記（ａ）の主張は採用できない。 ウ 小括 以上のとおりであるから、相違点２－１～相違点２－４について検討するまでもなく、また、イ（ア）ｃの甲第２～５号証（甲第Ｎ２～Ｎ５号証）の記載を考慮しても、本件発明１は、甲第Ｎ１号証（補助的に甲第Ｎ２～Ｎ５号証）に記載された発明であるとはいえない。また、本件発明１は、甲第Ｎ１号証に記載された発明及び甲第Ｎ２～Ｎ５号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （３）本件発明２～９について ア 甲第Ｎ６号証には、「下地めっき層はＮｉめっきから形成されている」ことが記載されている（請求の範囲９）。また、甲第Ｎ７号証には、微小凹凸高さが「０．００５μｍ以上０．１０μｍ以下である表面性状を有する場合には、めっき剥離が起こらず良好なめっき密着性を得られた」ことが記載されている（段落［００３９］）。 イ 一方、本件発明２～４は、本件特許の請求項１の記載を直接又は間接的に引用するものであり、本件発明１の発明特定事項を全て備えるものであるが、上記（２）で述べたとおり、本件発明１が、甲第Ｎ１号証（補助的に甲第Ｎ２～Ｎ５号証）に記載された発明であるとはいえない以上、本件発明２～４についても同様に、甲第Ｎ１号証（補助的に甲第Ｎ２～Ｎ５号証）に記載された発明であるとはいえない。また、本件発明２～９は、本件特許の請求項１の記載を直接又は間接的に引用するものであり、本件発明１の発明特定事項を全て備えるものであるが、上記（２）で述べたとおり、本件発明１が、甲第Ｎ１号証に記載された発明及び甲第Ｎ２～Ｎ５号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない以上、上記アの甲第Ｎ６、Ｎ７号証の記載を考慮しても、本件発明２～９についても同様に、甲第Ｎ１号証に記載された発明及び甲第Ｎ２～Ｎ７号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （４）申立理由Ｎ１（新規性）、申立理由Ｎ２（進歩性）のまとめ 以上のとおり、本件発明１～４は、甲第Ｎ１号証（補助的に甲第Ｎ２～Ｎ５号証）に記載された発明であるとはいえない。また、本件発明１～９は、甲第Ｎ１号証に記載された発明及び甲第Ｎ２～Ｎ７号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 したがって、申立理由Ｎ１（新規性）、申立理由Ｎ２（進歩性）によっては、本件特許の請求項１～９に係る特許を取り消すことはできない。 第５ むすび 以上のとおりであるから、特許異議申立書に記載した申立理由及び当審において通知した取消理由によっては、本件特許の請求項１～９に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に本件特許の請求項１～９に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。