2023-701036

特許第７２４８０９０号発明「有機溶媒の不純物除去方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７２４８０９０号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１～４〕について訂正することを認める。 特許第７２４８０９０号の請求項１～４に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第７２４８０９０号（以下、「本件特許」という。）の請求項１～４に係る特許についての出願は、令和３年１２月１日に出願され、令和５年３月２０日にその特許権の設定登録がされ、同年同月２９日に特許掲載公報が発行された。 その後、その請求項１～４に係る特許に対して、令和５年９月２８日に特許異議申立人黒崎惇子（以下、「申立人」という。）により特許異議の申立てがされ、令和６年２月５日付けで取消理由が通知され、同年４月４日に特許権者により意見書の提出及び訂正の請求がされ、同年５月２４日に申立人により意見書の提出がされたものである。 第２ 訂正の適否についての判断 １ 訂正の内容 令和６年４月４日にされた訂正の請求（以下、「本件訂正請求」といい、本件訂正請求による訂正を「本件訂正」という。）は、特許法第１２０条の５第４項の規定に従い、一群の請求項を構成する請求項１～４を訂正の単位として訂正することを求めるものであり、その内容（訂正事項）は、次のとおりである（訂正箇所に下線を付した。）。 （１）訂正事項１ 特許請求の範囲の請求項１に「ポーラス型のイオン交換樹脂」と記載されていたのを、「イオン交換基として４級アンモニウム基を有し、比表面積が７～３０ｍ２／ｇであるポーラス型のイオン交換樹脂」に訂正する（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する）。 （２）訂正事項２ 特許請求の範囲の請求項１に「含水率１，０００ｐｐｍ以下の有機溶媒」と記載されていたのを、「含水率１，０００ｐｐｍ以下のアルコール又はＮ－メチル－２－ピロリドンよりなる有機溶媒」に訂正する（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する）。 （３）訂正事項３ 特許請求の範囲の請求項２に「前記ポーラス型のイオン交換樹脂が、イオン交換基として、１級アミノ基、２級アミノ基、３級アミノ基、及び４級アンモニウム基からなる群から選ばれる１つ以上の官能基を有する」と記載されていたのを、「前記４級アンモニウム基がトリメチルアンモニウム基である」に訂正する（請求項２の記載を引用する請求項３、４も同様に訂正する）。 （４）訂正事項４ 特許請求の範囲の請求項３に「比表面積が１ｍ２／ｇ以上である」と記載されていたのを、「比表面積が１５～３０ｍ２／ｇである」に訂正する（請求項３の記載を引用する請求項４も同様に訂正する）。 （５）訂正事項５ 特許請求の範囲の請求項４に「接着」と記載されていたのを、「接触」に訂正する。 ２ 訂正要件（訂正の目的の適否、新規事項の有無、特許請求の範囲の拡張・変更の存否について）の判断 （１）訂正事項１について 訂正事項１は、訂正前の請求項１に対して、本件の願書に添付した明細書（以下、「本件明細書」という。）の【００２６】の「ポーラス型のイオン交換樹脂のイオン交換基としては、１級アミノ基、２級アミノ基、３級アミノ基、４級アンモニウム基・・・などがあるがこの限りではない・・・これらのイオン交換基のうち、不純物除去能の観点から、・・・４級アンモニウム基が特に好ましい。」との記載から、ポーラス型のイオン交換樹脂のイオン交換基を「４級アンモニウム基」に限定するものであり、本件明細書の【００２７】の「ポーラス型のイオン交換樹脂の比表面積は・・・特に７ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。なおポーラス型のイオン交換樹脂の比表面積は、強度維持の観点から通常３０ｍ２／ｇ以下である。」との記載から、ポーラス型のイオン交換樹脂の比表面積を「７～３０ｍ２／ｇ」に限定するものであるから、これらにより新たな技術的事項が導入されるものとはいえない。 したがって、訂正事項１は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内においてされたものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 （２）訂正事項２について 訂正事項２は、訂正前の請求項１に対して、本件明細書の【００３２】の「本発明の処理対象とする有機溶媒としては、特に限定はないが、その代表的なものを挙げれば次のものがある。 メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類；・・・；Ｎ－メチル－２－ピロリド ン（ＮＭＰ）」との記載から、有機溶媒を「アルコール又はＮ－メチル－２－ピロリドンよりなる」ものに限定するものであるから、これにより新たな技術的事項が導入されるものとはいえない。 したがって、訂正事項２は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内においてされたものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 （３）訂正事項３について 訂正事項３は、訂正前の請求項２に対して、本件明細書の【００３９】に、使用するイオン交換樹脂について、「イオン交換基：トリメチルアンモニウム基」と記載されていることから、イオン交換樹脂が、イオン交換基として「トリメチルアンモニウム基」を有するものに限定するものであり、訂正後の請求項１の「イオン交換基として４級アンモニウム基を有し」との記載と整合するように「前記４級アンモニウム基」が「トリメチルアンモニウム基」である、とするものである。よって、これにより新たな技術的事項が導入されるものとはいえない。 したがって、訂正事項３は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内においてされたものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 （４）訂正事項４について 訂正事項４は、訂正前の請求項３に対して、本件明細書の【００２７】の「ポーラス型のイオン交換樹脂の比表面積は・・・特に７ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。なおポーラス型のイオン交換樹脂の比表面積は、強度維持の観点から通常３０ｍ２／ｇ以下である。」との記載、及び、本件明細書の【００３９】に、使用するイオン交換樹脂について、「比表面積：１５ｍ２／ｇ」と記載されていることから、ポーラス型のイオン交換樹脂の比表面積を「１５～３０ｍ２／ｇ」に限定するものであるから、これにより新たな技術的事項が導入されるものとはいえない。 したがって、訂正事項４は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内においてされたものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 （５）訂正事項５について 訂正事項５は、訂正前の請求項４の「接着」という記載を「接触」に訂正するものである。 これについて、願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面には、 「【００２１】 ［５］ ［１］ないし［４］のいずれかに記載の有機溶媒の不純物除去材に、含水率１，０００ｐｐｍ以下の有機溶媒を接触させることを特徴とする有機溶媒の不純物除去方法。 【００２２】 ［６］ 含水率が１，０００ｐｐｍを超える有機溶媒を脱水処理して含水率１，０００ｐｐｍ以下とする脱水工程と、脱水された有機溶媒を［１］ないし［４］のいずれかに記載の有機溶媒の不純物除去材に接触させる不純物除去工程とを有する有機溶媒の不純物除去方法。」 「【００３４】 本発明においては、このような有機溶媒を含水率１，０００ｐｐｍ以下として不純物除去材と接触させることを特徴とする。」 と記載されており、前記記載からみれば、「不純物除去工程」が「有機溶媒」を「不純物除去材」に「接触」させるものであることを理解できるから、訂正前の「接着」という記載が「接触」の誤記であることを理解できる。 してみれば、訂正事項５は、訂正前の請求項４において「接触」と記載すべきところを、「接着」と記載していたという誤記を訂正するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第２号に掲げる「誤記の訂正」を目的とするものであり、上述の通り、請求項４における「接着」は上記明細書の記載によれば「接触」の意であることが明らかであるから、新規事項の追加に該当せず、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 ３ 小括 本件訂正は、特許法第１２０条の５第４項の規定に従い、一群の請求項を構成する請求項〔１～４〕について訂正することを求めるものであるところ、上記２に記載のとおり、本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号及び第２号に掲げる事項を目的とするものに該当し、かつ、同条第９項において読み替えて準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合するものであるから、訂正後の請求項〔１～４〕について訂正することを認める。 第３ 本件特許請求の範囲の記載（本件発明） 前記第２のとおり、本件訂正請求は適法にされたものであるから、本件特許請求の範囲の請求項１～４に係る発明は、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲の請求項１～４に記載された事項により特定されるとおりの、次のとおりのものである（以下、各請求項に係る発明を、項番号に合わせて「本件発明１」などといい、まとめて「本件発明」という。）。 「【請求項１】 イオン交換基として４級アンモニウム基を有し、比表面積が７～３０ｍ２／ｇであるポーラス型のイオン交換樹脂よりなる有機溶媒の不純物除去材に、含水率１，０００ｐｐｍ以下のアルコール又はＮ－メチル－２－ピロリドンよりなる有機溶媒を接触させることにより、該有機溶媒中の不純物を除去する方法であって、 該不純物が、粒子径３０ｎｍ以下のシリカ微粒子であることを特徴とする有機溶媒の不純物除去方法。 【請求項２】 請求項１において、前記４級アンモニウム基がトリメチルアンモニウム基であることを特徴とする有機溶媒の不純物除去方法。 【請求項３】 請求項１又は２において、前記ポーラス型のイオン交換樹脂の比表面積が１５～３０ｍ２／ｇであることを特徴とする有機溶媒の不純物除去方法。 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれか１項において、含水率が１，０００ｐｐｍを超える有機溶媒を脱水処理して含水率１，０００ｐｐｍ以下とする脱水工程と、脱水された有機溶媒を前記有機溶媒の不純物除去材に接触させる不純物除去工程とを有する有機溶媒の不純物除去方法。」 第４ 特許異議申立理由、取消理由の概要 １ 特許異議申立理由の概要 申立人が主張する特許異議申立理由は、概略、以下のとおりである。 ここで、申立人が提出した証拠方法は、次のものである。 甲第１号証：特開２０１０－４２３９５号公報 甲第２号証：特開２０２０－１５７２４９号公報 甲第３号証：特開２００４－１８１３５２号公報 甲第４号証：高倉知征、「ＩＰＡ中におけるフィルターの除粒子性能評価」、ＰＡＬＬ ＮＥＷＳ、２０１７年、vol.125、 ＜https://www.pall.com/content/dam/pall/pall-corp/literature-library/non-gated/japan/PN125_SLSJP-ja.pdf＞ 甲第５号証：特開２０２１－１７１７１７号公報 甲第６号証：特開２０１３－２３４３９号公報 甲第７号証：「イオン交換樹脂とその技術と応用（基礎編）」、改訂２版、１９９７年、オルガノ株式会社編、第３７頁 甲第８号証：特表２００３－５３５８３６号公報 甲第９号証：佐藤歩ら、「有機溶媒中における微粒子のゼータ電位」、化学工学会 第３９回 秋季大会 講演予稿集、２００７年、Ｉ２１６ 以下、甲第１号証等を「甲１」等という。 なお、主たる証拠は甲１及び甲２であり、甲３は陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂の混合イオン交換樹脂を用いて非水液状物から金属イオンを除去する方法に関するものであり、甲４～６は、有機溶媒中のシリカ微粒子が問題であることが周知の課題であることを示すものであり、甲７は比表面積が１５ｍ２／ｇのポーラス型イオン交換樹脂に関するものであり、甲６、８は、イソプロピルアルコールを脱水することで含水率１，０００ｐｐｍ未満とすることができることを示すものであり、甲９は、溶媒中のチタン酸バリウム粒子は、溶媒中の水分量が多いとプラスのゼータ電位を示すことに関するものである。 （１）申立理由１（甲１を主たる証拠とした進歩性欠如） 設定登録時の請求項１、２に係る発明は、甲１に記載された発明及び甲２～６、９に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、設定登録時の請求項３に係る発明は、甲１に記載された発明及び甲２～７、９に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、設定登録時の請求項４に係る発明は、甲１に記載された発明及び甲２～９に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 （２）申立理由２（甲２を主たる証拠とした進歩性欠如） 設定登録時の請求項１、２に係る発明は、甲２に記載された発明及び甲３～６、９に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、設定登録時の請求項３に係る発明は、甲２に記載された発明及び甲１、３～７、９に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、設定登録時の請求項４に係る発明は、甲２に記載された発明及び甲１、３～９に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 （３）申立理由３（サポート要件違反） 設定登録時の請求項１～４に係る発明は、「機械部品、電子部品の製造及び洗浄工程、あるいは化学合成のためなどに用いられる有機溶媒中の不純物を高度に除去する」ことを課題としている。そして、そのような課題を解決することが示されているのは、有機溶媒が「イソプロピルアルコール」であり、イオン交換樹脂のイオン交換基が「トリメチルアンモニウム基」であり、除去されるシリカ微粒子が「粒子径３０ｎｍ」のものであり、有機溶媒の含水率が６３９ｐｐｍであり、イオン交換樹脂の比表面積が１５ｍ２／ｇである場合のみであるが、当該請求項にそのような特定はなく、そうすると、当該請求項に係る発明は課題を解決するものとはいえず、発明の詳細な説明に記載されているとはいえない。 したがって、当該請求項に係る特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 （４）申立理由４（明確性要件違反） 設定登録時の請求項３には、イオン交換樹脂の比表面積について、「１ｍ２／ｇ以上である」と記載されており、比表面積の上限が規定されていないため、発明の範囲が不明確である。 したがって、当該請求項に係る特許は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 ２ 取消理由の概要 取消理由（サポート要件違反） 設定登録時の請求項１～４は「機械部品、電子部品の製造及び洗浄工程、あるいは化学合成のためなどに用いられる有機溶媒中の不純物を、除去率４０％の以上で高度に除去することができる有機溶媒の不純物除去材及び有機溶媒の不純物除去方法を提供すること」を課題としている。 そして、発明の詳細な説明は、イオン交換基がトリメチルアンモニウム基を有し、比表面積は１５ｍ２／ｇ～３０ｍ２／ｇであるポーラス型のイオン交換樹脂を用い、有機溶媒は含水率が１，０００ｐｐｍ以下のアルコールである場合以外について、本件発明の課題を解決することが記載されているとはいえない。そうすると、このような特定のない当該請求項に係る発明は、課題を解決するものとはいえず、発明の詳細な説明に記載されたているとはいえない。 したがって、当該請求項に係る特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 第５ 各証拠について １ 甲１について 甲１には、以下のことが記載されている（下線は当審で付した。以下、同様。）。 （１）「【請求項１】 マクロポーラス型のイオン交換樹脂であって、 水銀圧入法で測定したときの細孔容積が、該イオン交換樹脂の乾燥重量１ｇあたり０．５ｍＬ／ｇ以上であり、 水銀圧入法で測定したときの細孔半径が、０．１μｍ以上であり、かつ、 該イオン交換樹脂の振とう濁度試験で溶出する濁度成分が、４５ｐｐｍ以下である ことを特徴とする、イオン交換樹脂。 ・・・ 【請求項１６】 請求項１～９のいずれか１項に記載のイオン交換樹脂を用いる ことを特徴とする、懸濁性金属腐蝕生成物の除去方法。」 （２）「【０００３】 近年、発電所プラント停止時に一次系系統水から放射性物質のうちの懸濁性金属腐蝕生成物を除去することが、作業員の被曝低減の観点から課題となっている。 水中に存在する極微量の金属不純物は、燃料から放射される中性子の照射を受けて原子核反応を起こし、コバルト６０、コバルト５８、クロム５１、マンガン５４等の放射性核種を形成する。これらの放射性核種は、主として酸化物の形態で構成部材に付着して存在するが、酸化物の溶解度に応じて水中に再溶解するか、不溶性の懸濁性金属腐蝕生成物として水中に放出される。 ・・・ 【００１６】 ・・・ 即ち、本発明は上記の課題に鑑みて創案されたもので、その目的は、クラッドおよびコロイド微粒子を含む懸濁性金属腐蝕生成物の除去性能に優れ、かつ溶出が少なく、かつ機械的強度の大きいイオン交換樹脂を提供することを目的とする。」 （３）「【００３０】 また、上記の細孔と表面積の関係から、水銀圧入法で測定したときの、イオン交換樹脂の細孔の比表面積が、前記アニオン交換樹脂の乾燥重量１ｇあたり２ｍ２／ｇ以上であり、かつ、水銀圧入法で測定したときの平均細孔半径が０．１μｍ以上１μｍ以下であることを特徴とするアニオン交換樹脂がさらに好ましい。イオン交換樹脂の細孔の比表面積は、通常２ｍ２／ｇ以上、好ましくは３ｍ２／ｇ以上、さらに好ましくは５ｍ２／ｇ以上、さらに好ましくは７ｍ２／ｇ以上である。また、通常１０００ｍ２／ｇ以下、好ましくは５００ｍ２／ｇ以下、さらに好ましくは２５０ｍ２／ｇである。」 ２ 甲２について 甲２には、以下のことが記載されている。 （１）「【請求項１】 電子部品製造工程で使用される有機溶媒から微粒子を除去する有機溶媒の処理方法において、 水中において正、あるいは負の荷電を有し、含水率が３質量％以上である処理材と該有機溶媒とを接触させる工程を有することを特徴とする有機溶媒の処理方法。」 （２）「【００１６】 本発明方法では、電子部品製造工程で使用される有機溶媒を液体状態において、水中において正又は負の荷電を有し、含水率が３質量％以上である処理材と接触させて、微粒子を除去する。微粒子としては、シリカ微粒子のほか、各種の無機又は有機物微粒子、特に負又は正の荷電を有する微粒子が挙げられる。」 （３）「【００１９】 この処理材は、好ましくは、カチオン交換基又はアニオン交換基が付与されたポリマーよりなる。 ・・・ 【００２１】 ポリマーにイオン交換能を与える場合、イオン交換基としては、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、カルボン酸基、水酸基、フェノール基、４級アンモニウム基、１～３級アミン基、ピリジン基、アミド基、などがあるがこの限りではない。」 （４）「【００２７】 本発明が処理対象とする電子部品製造工程で使用される有機溶媒としては、特に限定はないが、その代表的なものを挙げれば次のものがある。即ち、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類；・・・Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）。 【００２８】 本発明は、特に、イソプロピルアルコール（以下、ＩＰＡと記載することがある。）、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）など、半導体製造プロセスで使用される有機溶媒の処理に好適である。」 （５）「【実施例】 【００３０】 以下、実施例及び比較例について説明する。 【００３１】 以下の実施例１～４及び比較例１では、次のＩＰＡ系試験液を下記の処理材を用い、下記の接触方法１で接触させた。 【００３２】 ＜試験液＞ 試験液１：ＩＰＡ（関東化学社製高純度ＩＰＡ）にシリカ微粒子（コアフロント社製ｓｉｃａｓｔａｒ：粒径３０ｎｍ）を５０ｍｇ／Ｌ添加したもの。 【００３３】 試験液２：上記ＩＰＡと超純水とを５０：５０の割合で混合し、上記シリカ微粒子を上記量添加したもの。 【００３４】 ＜処理材＞ 処理材Ａ：環境浄化研究所製イオン交換繊維ＤＭＡＥＭＡ繊維２０ｍ（７．７ｇ） 処理材Ｂ：アストム社製アニオン交換膜ＡＨＡ約３０ｃｍ×２０ｃｍ、厚さ２２０μｍ（湿潤状態で１６ｇ） 【００３５】 ＜接触方法＞ 処理材をポリエチレン容器（２５０ｍＬ容）に充填し、試験液を１００ｍＬ注入し、３０分浸漬する。 【００３６】 ［実施例１～４，比較例１，２］ 上記試験液１又は２を、下記のように処理した各処理材と、上記接触方法１に従って接触させた。接触後のシリカ濃度をモリブデン吸光光度法によって測定し、シリカ除去率を算出した。結果を表１に示す。 【００３７】 実施例１：上記処理材Ａ（処理せず、そのまま使用） 実施例２：上記処理材Ｂ（処理せず、そのまま使用） 実施例３：ポリエチレン容器（２５０ｍＬ容）に処理材Ｂ及び超純水１００ｍＬを収容し、３０分間浸漬した後、超純水を排出した水接処理品 実施例４：上記処理材Ａ（処理せず、そのまま使用） 比較例１：処理材Ａを１１０℃で２４時間乾燥した乾燥処理品 比較例２：処理材Ｂを１１０℃で２４時間乾燥した乾燥処理品 【００３８】 【表１】 ［図：0001418216000001.jpg］ 【００３９】 ［考察］ 含水率が３％以上であるコンディショニング状態で行った実施例１，２では、比較例１，２よりも良好なシリカ除去率が得られる。 【００４０】 さらに処理材の含水率をさらに高める（実施例３）と、より高いシリカ除去率が得られる。 【００４１】 また、ＩＰＡ中へ超純水を添加することで、処理材Ａへの水コンディショングを実施していなくても、非常に良好なシリカ除去率を得られる。」 第６ 当審の判断 １ 取消理由及び申立理由３について （１）サポート要件の判断手法 特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第１号所定のサポート要件に適合するか否かは、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載とを比較し、特許請求の範囲に記載された発明が、発明の詳細な説明に記載された発明で、発明の詳細な説明の記載により当業者が当該発明の課題を解決できると認識し得る範囲のものであるか否か、また、発明の詳細な説明に記載や示唆がなくとも当業者が出願時の技術常識に照らして当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否かを検討して判断するのが相当である。 （２）本件発明の課題 発明の詳細な説明には、【発明が解決しようとする課題】の項目の後の【００１４】に、「本発明は、上記従来技術に鑑み、機械部品、電子部品の製造及び洗浄工程、あるいは化学合成のためなどに用いられる有機溶媒中の不純物を高度に除去することができる有機溶媒の不純物除去材及び有機溶媒の不純物除去方法を提供することを目的とする。」との記載がある。 そうすると、本件発明の課題は「機械部品、電子部品の製造及び洗浄工程、あるいは化学合成のためなどに用いられる有機溶媒中の不純物を高度に除去することができる有機溶媒の不純物除去材及び有機溶媒の不純物除去方法を提供すること」であるといえる。 （３）発明の課題に対応する本件明細書の発明の詳細な説明の記載 ア 発明の詳細な説明には、以下の記載がある。 （ア）「【００１５】 本発明者らは、含水率１，０００ｐｐｍ以下の有機溶媒に対して、ポーラス型のイオン交換樹脂が、高度な不純物除去性能を発揮することを見出した。 ・・・有機溶媒の含水率を１，０００ｐｐｍ以下にすることにより、これまで２０％以下であった不純物除去率を４０％以上に向上させることができることを見出した。」 （イ）「【００２６】 ポーラス型のイオン交換樹脂のイオン交換基としては、１級アミノ基、２級アミノ基、３級アミノ基、４級アンモニウム基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、水酸基、フェノール基、ピリジン基、アミド基などがあるがこの限りではない。これらの官能基はＨ型、ＯＨ型だけでなく、Ｃｌ、Ｎａなどの塩型であってもよい。本発明では、これらの官能基が少なくとも一種類以上導入されたイオン交換樹脂を使用してもよいし、それぞれ異なったイオン交換基が導入されたイオン交換樹脂を複数種用いて、異なるイオン交換基をもつ混合イオン交換樹脂としてもよい。 これらのイオン交換基のうち、不純物除去能の観点から、１級アミノ基、２級アミノ基、３級アミノ基、４級アンモニウム基が好ましく、４級アンモニウム基が特に好ましい。」 （ウ）「【００２７】 ポーラス型のイオン交換樹脂の比表面積は、不純物除去能の観点から大きい方が好ましく、水銀圧入法で測定される比表面積として１ｍ２／ｇ以上、特に７ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。なおポーラス型のイオン交換樹脂の比表面積は、強度維持の観点から通常３０ｍ２／ｇ以下である。」 （エ）「【００３０】 このような本発明の不純物除去材で除去する有機溶媒中の不純物としては、各種の無機微粒子、有機微粒子や金属微粒子、イオン、ゲル、ウイルスなどが挙げられるが、本発明は特に粒子径３０ｎｍ以下の微粒子、とりわけシリカ微粒子の除去に有効である。」 （オ）「【００３２】 本発明の処理対象とする有機溶媒としては、特に限定はないが、その代表的なものを挙げれば次のものがある。 メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類；メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロルエチレン、パクロルエチレン、１，１，１－トリクロルエタン、フロン１１３、クロルベンゼン、ｏ－、ｍ－、ｐ－ジクロルベンゼン、ｏ－、ｍ－、ｐ－ジクロルベンゼン、ｏ－、ｍ－、ｐ－クロルトルエンなどのハロゲン化炭化水素；エチルエーテルなどのエーテル類；ＰＯ、ＢＯなどのエポキシ類；ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類；アセトン、ＭＥＫ、ＭＩＢＫなどのケトン類；酢酸エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチルなどのエステル類；Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）；上記有機溶媒の２種以上の混合溶媒。」 イ 上記ア（ア）によれば、「含水率１，０００ｐｐｍ以下の有機溶媒」に対して、「ポーラス型のイオン交換樹脂」を用いることで、高度な不純物除去性能を発揮し、これまで２０％以下であった不純物除去率を４０％以上に向上させることができること、すなわち、本件発明の課題を解決できることが記載されているといえる。 また、同（イ）によれば、イオン交換基として４級アンモニウム基が好ましいことが記載されており、 同（ウ）によれば、比表面積は７～３０ｍ２／ｇであればよいことが記載されており、 同（エ）によれば、シリカ微粒子の粒子径は３０ｎｍ以下であればよいことが記載されており、 同（オ）によれば、有機溶媒はアルコールやＮ－メチル－２－ピロリドンでありうることが記載されている。 （４）特許請求の範囲の記載と本件明細書の発明の詳細な説明との比較 上記（３）イによれば、上記（２）の本件発明の課題を解決するには、「含水率１，０００ｐｐｍ以下の有機溶媒」に対して、「ポーラス型のイオン交換樹脂」を用いることが必要であるのに対し、本件発明は、「ポーラス型のイオン交換樹脂」を用い、「含水率が１，０００ｐｐｍ以下の有機溶媒」を処理することが特定されている。 さらに、本件発明は、上記ア（イ）～（オ）に記載された、本件発明の課題を解決する上で好ましい、又は、採用可能であるとされる構成、すなわち、イオン交換樹脂は、その比表面積が７～３０ｍ２／ｇであり、イオン交換基として４級アンモニウム基を有し、有機溶媒はアルコールやＮ－メチル－２－ピロリドンであり、除去対象の粒子は粒子径３０ｎｍ以下のシリカ粒子である、という構成を有するものである。そうすると、これらの特定を有する本件発明は、上記（１）のサポート要件の判断手法に従えば、本件発明の課題を解決するものであることが理解される。 そして、本件発明は本件明細書の発明の詳細な説明に記載されたものであるともいえる。 よって、本件発明は発明の課題を解決するものであり、発明の詳細な説明に記載されたものである。 したがって、取消理由及び申立理由３は、理由がない。 ２ 申立理由１について （１）甲１に記載された発明 上記第５の１（１）、（３）によれば、甲１には、マクロポーラス型のイオン交換樹脂であって、比表面積が７～２５０ｍ２／ｇであるものが記載されている（同（３）では「好ましくは２５０ｍ２／ｇ」とされているが「好ましくは２５０ｍ２／ｇ以下」の誤記と認める。）。 同（２）によれば、甲１には、一次系統水から放射性物質のうちの懸濁性金属腐蝕生成物を除去するイオン交換樹脂を提供することを課題としていること、すなわち、イオン交換樹脂により、「水」中の懸濁性金属腐蝕生成物を除去することが記載されているといえる。 そうすると、甲１には、以下の発明が記載されているといえる（以下、「甲１発明」という。）。 「比表面積が７～２５０ｍ２／ｇであるマクロポーラス型のイオン交換樹脂により、水中の懸濁性金属腐蝕生成物を除去する方法。」 （２）本件発明１について ア 対比 甲１発明の「マクロポーラス型のイオン交換樹脂」は、本件発明１の「ポーラス型のイオン交換樹脂」に相当する。 また、甲１発明の「懸濁性金属腐蝕生成物」は水中から除去する対象であるから、本件発明１の「不純物」に相当し、甲１発明の「マクロポーラス型のイオン交換樹脂」は、「懸濁性金属腐蝕生成物を除去する」のであるから、本件発明１の「不純物除去材」にも相当する。 そして、甲１発明において、イオン交換樹脂により水中の懸濁性金属腐蝕生成物を除去する際に、イオン交換樹脂と水を接触させることは明らかである。 また、甲１発明の「水」と本件発明１の「有機溶媒」は、「溶媒」である点で共通する。 そうすると、両者は、 「ポーラス型のイオン交換樹脂よりなる溶媒の不純物除去材に、溶媒を接触させることにより溶媒の不純物を除去する、 溶媒の不純物除去方法」で一致し、以下の点で相違する。 ＜相違点１＞ 本件発明１では、イオン交換樹脂がイオン交換基として「４級アンモニウム基」を有するのに対し、甲１発明ではイオン交換基が特定されていない点。 ＜相違点２＞ 本件発明１では、イオン交換樹脂の比表面積が「７～３０ｍ２／ｇ」であるのに対し、甲１発明では「７～２５０ｍ２／ｇ」である点。 ＜相違点３＞ 本件発明１では、溶媒が「含水率１，０００ｐｐｍ以下のアルコール又はＮ－メチル－２－ピロリドンよりなる有機溶媒」であるのに対し、甲１発明では溶媒が「水」である点。 ＜相違点４＞ 本件発明１では、除去される不純物が「粒子径３０ｎｍ以下のシリカ微粒子」であるのに対し、甲１発明では「懸濁性金属腐蝕生成物」である点。 イ 相違点について 事案に鑑み、相違点３について検討する。 上記第５の１（２）によれば、甲１には「発電所プラント停止時に一次系系統水から放射性物質のうちの懸濁性金属腐蝕生成物を除去することが、・・課題となっている。」と記載されているとおり、甲１発明は、水から懸濁性金属腐蝕生成物を除去することを課題とするものである。 そうすると、甲１発明は、もっぱら、水を処理対象とするものであり、有機溶媒を処置対象とすることは想定されていないといえ、甲１発明において、処理対象を水から有機溶媒に変更する動機付けはない。 そして、甲１において、有機溶媒を処理対象とすることは想定されていないのであるから、甲２～９の記載の如何にかかわらず、処置対象を水から有機溶媒にすることは当業者が容易に想到し得るものではない。 よって、甲１発明において、相違点３に係る本件発明１の構成をなすことは、当業者といえども容易に想到し得ないものである。 したがって、上記相違点１、２、４について検討するまでもなく、本件発明１は、甲１発明及び甲２～９に記載された事項から当業者が容易に発明することができたとはいえない。 ウ 申立人の主張について 申立人は、特許異議申立書において、甲２には、イオン交換樹脂よりなる有機溶媒の不純物除去材によって有機溶媒中のシリカ微粒子を除去する方法が記載されており、甲４～６によれば有機溶媒中のシリカ微粒子が問題であることは周知の課題であるから、甲１発明に甲２に記載の技術を適用し、「有機溶媒」中の不純物を除去することとするのは当業者にとって容易である旨主張している（異議申立書２６頁第１段落～第４段落）。 しかし、上記イに記載したとおり、甲１において、有機溶媒を処理対象とすることは想定されていないのであるから、甲２、４～９の記載の如何にかかわらず、処置対象を水から有機溶媒にすることは当業者が容易に想到し得るとはいえない。 したがって、上記申立人の主張は採用されない。 （３）本件発明２～４について 本件発明２～４は、本件発明１の全ての特定事項を含むものであるから、上記（２）で検討したのと同様の理由により、本件発明２～４は甲１発明及び甲２～９に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明することができたものとはいえない。 （４）小括 以上のとおりであるから、申立理由１は理由がない。 ３ 申立理由２について （１）甲２に記載された発明 上記第５の２（１）によれば、甲２には、含水率が３質量％以上である処理材と有機溶媒とを接触させることで有機溶媒から微粒子を除去することが記載されており、同（２）によれば、除去する微粒子がシリカ微粒子であることが記載されており、同（３）によれば、処理材はイオン交換基として４級アンモニウムを含有するポリマーであることが記載されており、同（４）によれば、有機溶媒はアルコールやＮ－メチル－２－ピロリドンであることが記載されている。 そうすると、甲２には、以下の発明が記載されているといえる（以下、「甲２発明」という。）。 「含水率が３質量％以上であり、イオン交換基として４級アンモニウムを有するポリマーである処理材に、アルコール又はＮ－メチル－２－ピロリドンである有機溶媒を接触させることにより、該有機溶媒からシリカ微粒子を除去する方法。」 （２）本件発明１について ア 対比 甲２発明の「イオン交換基として４級アンモニウムを有するポリマーである処理材」は、本件発明１の「イオン交換基として４級アンモニウムを有」する「イオン交換樹脂」に相当し、甲２発明の「シリカ微粒子」は「有機溶媒から」「除去」されるものであるから、本件発明１の「不純物」に相当し、甲２発明の「有機溶媒からシリカ微粒子を除去する」ものである「処理材」は本件発明１の「有機溶媒の不純物除去材」に相当し、甲２発明の「有機溶媒からシリカ微粒子を除去する方法」は、本件発明１の「該不純物が、シリカ微粒子である有機溶媒の不純物除去方法」に相当する。 そうすると、両者は 「イオン交換基として４級アンモニウムを有するイオン交換樹脂よりなる有機溶媒の不純物除去材に、アルコール又はＮ－メチル－２－ピロリドンよりなる有機溶媒を接触させることにより、該有機溶媒中の不純物を除去する方法であって、 該不純物が、シリカ微粒子である有機溶媒の不純物除去方法」で一致し、以下の点で相違する。 ＜相違点５＞ 本件発明１では、イオン交換樹脂の比表面積が「７～３０ｍ２／ｇ」であるのに対し、甲２発明ではイオン交換樹脂の比表面積が不明な点。 ＜相違点６＞ 本件発明１では、イオン交換樹脂が「ポーラス型」のものであるのに対し、甲２発明ではイオン交換樹脂がポーラス型であることは特定されていない点。 ＜相違点７＞ 本件発明１では、有機溶媒は「含水率が１，０００ｐｐｍ以下」であるのに対し、甲２発明では有機溶媒の含水率が特定されていない点。 ＜相違点８＞ 本件発明１では、シリカ微粒子の粒子径が「３０ｎｍ以下」であるのに対し、甲２発明ではシリカ微粒子の粒径が特定されていない点。 イ 相違点について 事案に鑑み、相違点７について検討する。 甲２発明は、「含水率が３質量％以上」のイオン交換樹脂を用いるものである。 また、上記第５の２（５）によれば、「処理材の含水率をさらに高めると、より高いシリカ除去率が得られる」こと、及び、「ＩＰＡ中へ超純水を添加することで、処理材Ａへの水コンディショングを実施していなくても、非常に良好なシリカ除去率を得られる」ことが記載されている。そうすると、甲２には、有機溶媒を処理材で処理する際に、処理材や有機溶媒の含水率を高めることで、高いシリカ除去率が得られること、すなわち、有機溶媒の含水率を低くすると、シリカ除去率が低下するため、好ましくないことが記載されているといえる。してみれば、甲２発明において、有機溶媒の含水率を低くして、１，０００ｐｐｍ以下とすることに、動機付けはない。 よって、甲２発明において、相違点７に係る本件発明１の構成をなすことは、当業者といえども容易に想到し得ないものであるし、甲２発明において、仮に有機溶媒の含水率を低くすると甲２発明における効果が得られなくなってしまうのであるから、甲１、３～９に記載された事項によらず、相違点７に係る本件発明１の構成をなすことは、当業者が容易に想到し得るものとはいえない。 したがって、上記相違点５、６、８について検討するまでもなく、本件発明１は、甲２発明及び甲１、３～９に記載された事項から当業者が容易に発明することができたとはいえない。 （３）本件発明２～４について 本件発明２～４は、本件発明１の全ての特定事項を含むものであるから、上記（２）で検討したのと同様の理由により、本件発明２～４は甲２発明及び甲１、３～９に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明することができたものとはいえない。 （４）小括 以上のとおりであるから、申立理由２は理由がない。 ４ 申立理由４について 本件訂正により、本件発明３では、比表面積が「１５～３０ｍ２／ｇ」とされたため、申立理由４は理由がない。 第７ むすび 以上のとおりであるから、請求項１～４に係る特許は、特許異議申立書に記載された特許異議申立理由、及び、取消理由通知書に記載した取消理由によっては、取り消すことができない。 また、他に請求項１～４に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。