2024-700769

特許第７４３７５７２号発明「排ガス浄化触媒」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７４３７５７２号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１～１３〕について訂正することを認める。 特許第７４３７５７２号の請求項１～６、８～１３に係る特許を維持する。 特許第７４３７５７２号の請求項７に係る特許についての特許異議の申立てを却下する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第７４３７５７２号（以下、「本件特許」という。）の請求項１～１３に係る特許についての出願は、２０２３年（令和５年）６月２０日（優先権主張 令和４年８月２５日）を国際出願日とするものであって、令和６年２月１４日にその特許権の設定登録がされ、同年同月２２日に特許掲載公報が発行され、その後、同年８月１４日に、請求項１～１３に係る特許について、特許異議申立人 岩部 英臣（以下、「申立人」という。）により、甲第１～５号証を証拠方法として特許異議の申立てがなされ、令和７年２月１０日付で当審より取消理由が通知され、その指定期間内である同年４月４日に特許権者より意見書の提出及び訂正の請求（以下、「本件訂正請求」という。）がされ、同年５月１９日に申立人より甲第６～８号証を添付して意見書（以下、「申立人意見書」という。）が提出されたものである。 第２ 本件訂正請求による訂正の適否 １ 訂正の内容及び一群の請求項について 本件訂正請求による訂正（以下、「本件訂正」という。）は、請求の趣旨を、「特許第７４３７５７２号 の特許請求の範囲を、本訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１～１３に訂正することを求めます。」とするものであって、その訂正の内容は、以下のとおりである（当審注：下線は訂正箇所であり、当審が付与した。）。 （１） 訂正事項１ 訂正前の特許請求の範囲の請求項１に 「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４７未満であり、」 と記載されているのを、 「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４５以下であり、」 に訂正する（請求項１の記載を直接的又は間接的に引用する請求項２～６、８～１３も同様に訂正する。） （２） 訂正事項２ 訂正前の特許請求の範囲の請求項３に 「前記（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４５以下である、」 と記載されているのを、 「前記（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．３０を超えて０．４５以下である、」 に訂正する（請求項３の記載を直接的又は間接的に引用する請求項５、６、８～１３も同様に訂正する。） （３） 訂正事項３ 訂正前の特許請求の範囲の請求項５に 「請求項１～４のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒の製造方法であって、」 と記載されているのを、 「ＢＥＡ型ゼオライトを含む排ガス浄化触媒の製造方法であって、 前記ＢＥＡ型ゼオライトは、 ＦＴ―ＩＲ測定における、 ３，７３０ｃｍ－１以上３，７４０ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ１と、 ３，７２０ｃｍ－１以上３，７２５ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ２と、 １，９７８ｃｍ－１以上１，９８３ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ０と を用いて計算される、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が ０．４７未満であり、かつ、 ＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下であり、 前記方法は、」 に訂正し、 訂正前の特許請求の範囲の請求項５に 「ＢＥＡ型ゼオライトを、６５０℃以上９００℃以下の温度で焼成することを含む、 方法。」 と記載されているのを、 「ＢＥＡ型ゼオライトを、６５０℃以上９００℃以下の温度で焼成することを含み、 前記焼成のときの雰囲気中の、焼成の温度における水分量が、１．００体積％以下である、 方法。」 に訂正する。 （請求項５の記載を引用する請求項６、８も同様に訂正する。） （４） 訂正事項４ 特許請求の範囲の請求項７を削除する。 （５） 訂正事項５ 訂正前の特許請求の範囲の請求項９に 「前記触媒コート層が１～４のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒を含む、」 と記載されているのを 「前記触媒コート層が請求項１～４のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒を含む、」 に訂正する（請求項９の記載を直接的又は間接的に引用する請求項１０～１３も同様に訂正する。） （６） 一群の請求項について 訂正前の請求項２～１３は、いずれも訂正前の請求項１を引用するものであるから、訂正前の請求項１～１３は一群の請求項であるので、訂正事項１～５による特許請求の範囲の訂正は、特許法第１２０条の５第４項所定の規定に従い、この一群の請求項１～１３を訂正の単位として請求されたものである。 ２ 訂正の目的の適否、新規事項の有無、及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否、独立特許要件について （１） 訂正事項１について 訂正事項１は、本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項３、段落【００２０】の記載に基づいて、請求項１における「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」を「０．４５以下」に限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、願書に添付した明細書、特許請求の範囲に記載した事項の範囲内の訂正といえ、また、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。 （２） 訂正事項２について 訂正事項２は、本件特許明細書の段落【００２０】の記載に基づいて、請求項３における「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」を「０．３０を超えて０．４５以下」として、下限値を限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、願書に添付した明細書、特許請求の範囲に記載した事項の範囲内の訂正といえ、また、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。 なお、前記段落【００２０】では「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」として「０．３０以上」と記載されているが、「０．３０を超えて」は、「０．３０以上」の範囲に含まれるもので、新たな技術的事項を導入するものとはなっていない。 （３） 訂正事項３について ア 訂正事項３のうち、「請求項１～４のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒の製造方法であって、」と記載されているのを「ＢＥＡ型ゼオライトを含む排ガス浄化触媒の製造方法であって、・・・前記方法は、」とする訂正は（当審注：「・・・」は記載の省略を表す。以下、同様である。）、請求項１の排ガス浄化触媒の内容を加えるものであって、本件訂正前の請求項５が請求項１～４のいずれか一項を引用していたところ、その引用関係を解消し、請求項１を引用する請求項５について書き下して、独立形式請求項へ改めるものである。 そうすると、前記訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる特許請求の範囲の減縮及び同条同項ただし書第４号に掲げる他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすることを目的とするものであり、願書に添付した明細書、特許請求の範囲に記載した事項の範囲内の訂正といえ、また、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。 イ 訂正事項３のうち、「ＢＥＡ型ゼオライトを、６５０℃以上９００℃以下の温度で焼成することを含む、方法。」と記載されているのを、「ＢＥＡ型ゼオライトを、６５０℃以上９００℃以下の温度で焼成することを含み、前記焼成のときの雰囲気中の、焼成の温度における水分量が、１．００体積％以下である、方法。」とする訂正は、本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項７、段落【００３３】の記載に基づいて、「ＢＥＡ型ゼオライト」の「前記焼成のときの雰囲気中の、焼成の温度における水分量」を「１．００体積％以下」に限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、願書に添付した明細書、特許請求の範囲に記載した事項の範囲内の訂正といえ、また、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。 ウ 前記ア及びイによれば、訂正事項３は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる特許請求の範囲の減縮及び同条同項ただし書第４号に掲げる他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすることを目的とするものであり、願書に添付した明細書、特許請求の範囲に記載した事項の範囲内の訂正といえ、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。 （４） 訂正事項４について 訂正事項４は、請求項７を削除するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、願書に添付した明細書、特許請求の範囲に記載した事項の範囲内の訂正といえ、また、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。 （５） 訂正事項５について 訂正事項５は、本件訂正前の請求項９の「１～４のいずれか一項」の記載の意味が明確でなかったのを、「請求項１～４のいずれか一項」と訂正して記載の意味を明確にするものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる明瞭でない記載の釈明を目的とするものであり、願書に添付した明細書、特許請求の範囲に記載した事項の範囲内の訂正といえ、また、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。 （６） 独立特許要件について 本件特許異議の申立ては本件訂正前の全ての請求項についてされているので、訂正事項１～５に関して、特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する同法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。 ３ 小括 したがって、本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号、第３号及び第４号に掲げる事項を目的とするものに該当し、同法同条第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合するので、特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１～１３〕について訂正することを認める。 第３ 本件発明 本件訂正が認められることは前記第２に記載したとおりであるから、本件訂正により訂正された請求項１～６及び８～１３に係る発明（以下、「本件発明１」などといい、まとめて「本件発明」ということがある。）は、訂正特許請求の範囲の請求項１～６及び８～１３に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 「【請求項１】 ＢＥＡ型ゼオライトを含む排ガス浄化触媒であって、 前記ＢＥＡ型ゼオライトのＦＴ―ＩＲ測定における、 ３，７３０ｃｍ－１以上３，７４０ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ１と、 ３，７２０ｃｍ－１以上３，７２５ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ２と、 １，９７８ｃｍ－１以上１，９８３ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ０と を用いて計算される、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４５以下であり、かつ、 前記ＢＥＡ型ゼオライトのＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下である、 排ガス浄化触媒。 【請求項２】 前記ＢＥＡ型ゼオライトのシリカ／アルミナ比（ＳＡＲ）が２０以上である、請求項１に記載の排ガス浄化触媒。 【請求項３】 前記（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．３０を超えて０．４５以下である、請求項１に記載の排ガス浄化触媒。 【請求項４】 前記２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．２９°未満である、請求項１に記載の排ガス浄化触媒。 【請求項５】 ＢＥＡ型ゼオライトを含む排ガス浄化触媒の製造方法であって、 前記ＢＥＡ型ゼオライトは、 ＦＴ―ＩＲ測定における、 ３，７３０ｃｍ－１以上３，７４０ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ１と、 ３，７２０ｃｍ－１以上３，７２５ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ２と、 １，９７８ｃｍ－１以上１，９８３ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ０と を用いて計算される、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４７未満であり、かつ、 ＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下であり、 前記方法は、 前記（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０以上であり、かつ、前記２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下である、ＢＥＡ型ゼオライトを、６５０℃以上９００℃以下の温度で焼成することを含み、 前記焼成のときの雰囲気中の、焼成の温度における水分量が、１．００体積％以下である、 方法。 【請求項６】 前記焼成の温度が７００℃以上８００℃以下である、請求項５に記載の方法。 【請求項７】 （削除） 【請求項８】 前記焼成のときの雰囲気中の、焼成の温度における水分量が、０．８０体積％以下である、請求項５に記載の方法。 【請求項９】 基材、及び前記基材上の触媒コート層を有する排ガス浄化触媒装置であって、 前記触媒コート層が請求項１～４のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒を含む、 排ガス浄化触媒装置。 【請求項１０】 アンダーフロア触媒である、請求項９に記載の排ガス浄化触媒装置。 【請求項１１】 請求項９に記載の排ガス浄化触媒装置を含む、排ガス浄化触媒システム。 【請求項１２】 内燃機関の排気系に請求項９に記載の排ガス浄化触媒装置を配置して、前記内燃機関から排出される排ガスを浄化することを含む、排ガス浄化方法。 【請求項１３】 内燃機関の排気系に請求項１１に記載の排ガス浄化触媒システムを配置して、前記内燃機関から排出される排ガスを浄化することを含む、排ガス浄化方法。」 第４ 特許異議申立理由の概要 １ 特許法第２９条第２項所定の規定違反（進歩性欠如）について 設定登録時の特許請求の範囲の請求項１～１３に係る発明は、甲第１号証に記載された発明に基づいて、又は、甲第１号証に記載された発明及び本件特許の優先日当時の技術常識（甲第２～３号証を引用）に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、前記請求項１～１３に係る発明の特許は、特許法第２９条第２項所定の規定に違反してされたものである。 ２ 特許法第３６条第６項第１号所定の規定違反（サポート要件違反）について （１） 設定登録時の特許請求の範囲の請求項１に係る発明の「排ガス浄化触媒」について、本件特許明細書においては具体的に定義されていないから、前記「排ガス浄化触媒」は、炭化水素吸着触媒だけでなく、窒素酸化物を還元するＳＣＲ触媒や、一酸化炭素を二酸化炭素に酸化する酸化触媒も包含すると解される。 これに対して、本件特許明細書においては、前記請求項１で特定された「ＢＥＡ型ゼオライト」について、コールド時の炭化水素吸着性能を評価する試験は行っているものの、窒素酸化物を還元する還元性能や、一酸化炭素を二酸化炭素に酸化する酸化性能を評価する試験は行われていないし、本件特許明細書の記載から、前記請求項１に係る「排ガス浄化触媒」が、窒素酸化物を還元する還元性能や、一酸化炭素を二酸化炭素に酸化する酸化性能を示すことを理解することもできない。 また、コールド時の炭化水素吸着性能が、窒素酸化物を還元する還元性能や、一酸化炭素を二酸化炭素に酸化する酸化性能と直接的な相関性がないことは、本件特許の出願時における技術常識であるから、本件特許明細書の発明の詳細な説明の記載を、窒素酸化物を還元するＳＣＲ触媒や、一酸化炭素を二酸化炭素に酸化する酸化触媒も包含する前記請求項１に係る「排ガス浄化触媒」まで拡張ないし一般化することはできないので、前記請求項１に係る発明は、発明の詳細な説明に記載された発明とはいえない。 更に、前記請求項１を引用する設定登録時の特許請求の範囲の請求項２～１３に係る発明について検討しても事情は同じである。 （２） 設定登録時の特許請求の範囲の請求項１に係る発明の課題は、本件特許明細書の段落【０００９】（後記第６の２（２）ア）等の記載から、構造欠陥が少なく、コールド時のＨＣ吸着能に優れ、コールド領域におけるＨＣエミッションを低減させ得る、排ガス浄化触媒を提供することであるといえる。 これに対して、前記請求項１においては、所定のパラメータを満足するＢＥＡ型ゼオライトを含むことが特定される一方で、前記ＢＥＡ型ゼオライト以外の物質を含むことを特定していないから、前記請求項１に係る発明は、前記ＢＥＡ型ゼオライトのみからなる「排ガス浄化触媒」を包含するものと解される。 ところが、本件特許明細書においては、前記ＢＥＡ型ゼオライトのみからなる「排ガス浄化触媒」によって、コールド領域におけるＨＣエミッションを低減できることが何ら実証されていないから、本件特許明細書の発明の詳細な説明の記載を、前記ＢＥＡ型ゼオライトのみからなる「排ガス浄化触媒」を包含する前記請求項１に係る「排ガス浄化触媒」まで拡張ないし一般化することはできないので、前記請求項１に係る発明は、発明の詳細な説明に記載された発明とはいえない。 更に、前記請求項１を引用する設定登録時の特許請求の範囲の請求項２～１３に係る発明について検討しても事情は同じである。 （３） 前記（２）の課題に対して、設定登録時の特許請求の範囲の請求項１においては、所定のパラメータを満足するＢＥＡ型ゼオライトを含むことが特定される一方で、前記ＢＥＡ型ゼオライトのシリカ／アルミナ比が特定されていない。 ところが、本件特許明細書においては、シリカ／アルミナ比が４０のＢＥＡ型ゼオライトでしか炭化水素の排出を確認しておらず、シリカ／アルミナ比が４０よりも高い、又は低いＢＥＡ型ゼオライトでは、炭化水素の排出を確認していない。 ここで、ＢＥＡ型ゼオライトのシリカ／アルミナ比がＨＣ吸着能に影響することは、本件特許の出願時における技術常識である（甲第４～５号証を引用）から、本件特許明細書の発明の詳細な説明の記載を、前記ＢＥＡ型ゼオライトのシリカ／アルミナ比が特定されていない前記請求項１に係る「排ガス浄化触媒」まで拡張ないし一般化することはできないので、前記請求項１に係る発明は、発明の詳細な説明に記載された発明とはいえない。 更に、前記請求項１を引用する設定登録時の特許請求の範囲の請求項２～１３に係る発明について検討しても事情は同じである。 （４） 前記（２）の課題に対して、設定登録時の特許請求の範囲の請求項１においては、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４７未満であることが特定されている。 ところが、本件特許明細書において炭化水素排出量を確認しているのは、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．３３である実施例２と、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４１である実施例７だけであり、そうでないＢＥＡ型ゼオライトの炭化水素排出量については何ら確認されていない。 また、本件特許明細書の段落【００１８】～【００１９】（後記第６の２（２）ウ）に記載された、Ａ１、Ａ２及びＡ０の技術的意味は全て推測にすぎず、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４７未満であれば、前記（２）の課題を解決できるとはいえないし、前記実施例２及び７から、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４７未満であれば、前記（２）の課題を解決できることを推認できるものでもないから、本件特許明細書の発明の詳細な説明の記載を、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４７未満とすることしか特定されていない前記請求項１に係る「排ガス浄化触媒」まで拡張ないし一般化することはできないので、前記請求項１に係る発明は、発明の詳細な説明に記載された発明とはいえない。 更に、前記請求項１を引用する設定登録時の特許請求の範囲の請求項２～１３に係る発明について検討しても事情は同じである。 （５） したがって、設定登録時の特許請求の範囲の請求項１～１３に係る発明の特許は、特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第１号所定の規定を満たしていない特許出願に対してされたものである。 ３ 特許法第３６条第６項第２号所定の規定違反（明確性要件違反）について （１） 設定登録時の特許請求の範囲の請求項５に係る「排ガス浄化触媒の製造方法」は、「請求項１～４のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒」の「製造方法」であるから、前記請求項５に係る「製造方法」によれば、設定登録時の特許請求の範囲の請求項１に係る「排ガス浄化触媒」が製造できるものと解される。 そして、前記請求項５においては、その製造手段として「前記（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０以上であり、かつ、前記２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下である、ＢＥＡ型ゼオライトを、６５０℃以上９００℃以下の温度で焼成する」ことが特定されているから、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０以上であり、かつ」、「２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下である、ＢＥＡ型ゼオライト」を「６５０℃以上９００℃以下の温度で焼成」しさえすれば、前記請求項１に係る「排ガス浄化触媒」が製造できるものと解される。 ところが、本件特許明細書の実施例８（段落【００６６】～【００７２】。後記第６の２（２）エ。）においては、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０以上であり、かつ」、「２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下である、ＢＥＡ型ゼオライト」を「６５０℃以上９００℃以下の温度で焼成」しているにもかかわらず、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４７であるＢＥＡ型ゼオライトが得られており、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４７未満であるＢＥＡ型ゼオライトが得られていないから、前記請求項５の発明特定事項と本件特許明細書の記載が整合していないので、前記請求項５に係る発明は不明確である。 更に、前記請求項５を引用する設定登録時の特許請求の範囲の請求項６に係る発明について検討しても事情は同じである。 （２） 設定登録時の特許請求の範囲の請求項９の「１～４のいずれか一項」の記載の意味が不明確であるから、前記請求項９に係る発明は不明確である。 更に、前記請求項９を引用する設定登録時の特許請求の範囲の請求項１０～１３に係る発明について検討しても事情は同じである。 ４ 証拠方法 甲第１号証：特開２０２１－１４３１１９号公報 甲第２号証：特許第３８２７１４３号公報 甲第３号証：特開２００５－２１８１８号公報 甲第４号証：Masao NAKANO et al., "Zeolite Based Adsorbents and Catalysts for Environmental Applications Utilizing a Function of Hydrocarbon-adsorption", ２００１年, 東ソー研究・技術報告, 第４５巻, p. 29-35 甲第５号証：特開２０００－１２６５９０号公報 第５ 取消理由の概要 １ 特許法第２９条第２項所定の規定違反（進歩性欠如）について 設定登録時の特許請求の範囲の請求項１～６及び９～１３に係る発明は、甲第１号証に記載された発明及び甲第１号証に記載された事項に基づいて、又は、甲第１号証に記載された発明及び甲第１～３号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 ２ 特許法第３６条第６項第２号所定の規定違反（明確性要件違反）について 設定登録時の特許請求の範囲の請求項９の「１～４のいずれか一項」の記載の意味が不明確であるから、前記請求項９に係る発明は不明確である。 更に、前記請求項９を引用する設定登録時の特許請求の範囲の請求項１０～１３に係る発明について検討しても事情は同じである。 第６ 特許異議申立理由についての当審の判断 事案に鑑み、前記第４の特許異議申立理由及び第５の取消理由についてまとめて検討する。 １ 特許法第２９条第２項所定の規定違反（進歩性欠如）について （１） 甲第１号証に記載された事項及び甲第１号証に記載された発明 ア 甲第１号証には、以下の（ア）～（カ）の記載がある（当審注：下線は当審が付与した。以下、同様である。）。 （ア） 「【特許請求の範囲】 【請求項１】 ２５℃、相対湿度６０％における水分吸着量が（８ｇ／ゼオライト１００ｇ）以下、かつ２５℃、０．０１ｋＰａにおけるトルエン吸着量が（９ｇ／ゼオライト１００ｇ）以上、かつＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が１０～１００の範囲であることを特徴とする疎水性ゼオライト。 【請求項２】 ＢＥＡ構造を有することを特徴とする請求項１に記載の疎水性ゼオライト。 【請求項３】 １Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲの化学シフト１．８ｐｐｍ付近のピークと２．２ｐｐｍ付近のピークの積分値の和から算出したヒドロキシ基の量が３×１０２０個／ｇ以下であり、かつ０．７ｐｐｍ付近のピークの積分値から算出したヒドロキシ基の量が０．１×１０２０個／ｇ以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の疎水性ゼオライト。 ・・・ 【請求項５】 母材となるゼオライトを５００℃～９００℃の温度で水蒸気と接触させることを特徴とする請求項１～請求項４のいずれかに記載の疎水性ゼオライトの製造方法。」 （イ） 「【発明の概要】 【発明が解決しようとする課題】 【０００６】 本発明は、従来の低ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比のゼオライトでは得られなかった、高い疎水性と高い有機化合物吸着能を兼ね備えた疎水性ゼオライトを提供することを目的とする。 ・・・ 【００１３】 本発明の疎水性ゼオライトは、生産性の向上及び廃酸の低減の観点から、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が１０～１００の範囲であり、１５～９０の範囲であることが好ましく、３０～８０の範囲であることがより好ましい。 ・・・ 【００２２】 母材となるゼオライトとしては、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が１０～１００の合成ゼオライトが好適に使用できる。 ・・・ 【００３２】 本発明の疎水性ゼオライトは、母材となるゼオライトを好ましくは２０～１００容量％、より好ましくは４０～１００容量％の水蒸気と、５００℃～９００℃、より好ましくは６００～８５０℃の温度で、３０分から５時間の時間接触させることにより好適に製造することができる。水蒸気の濃度が２０容量％～１００容量％のとき、より優れた疎水性を発現することができる。また、接触させる温度が６００℃～８５０℃のとき、より優れた疎水性及びより高い結晶度を発現することができる。」 （ウ） 「【００３５】 本発明の疎水性ゼオライトを含有する有機化合物吸着剤は、特に揮発性有機化合物吸着剤として優れた効果を有する。・・・従って、該有機化合物吸着剤は、少なくとも１種の有機化合物を含む流体と接触させ、流体から該有機化合物を除去する有機化合物の除去方法として有用であり、例えば、塗装設備、印刷設備、工業製品の洗浄設備等から排出される排ガス、又は排水中の有機化合物の吸着除去／回収に使用される吸着剤や、自動車排ガス中の有機炭化水素成分を吸着除去する吸着剤として有用に使用できる。 【００３６】 本発明の疎水性ゼオライトを含有する触媒は、水が共存、または副生する反応系中で炭化水素の反応をおこなう際に、ゼオライト触媒上への反応物の吸着過程が水との競争吸着となる反応において、水による反応阻害を低減する触媒として有用に使用できる。」 （エ） 「【実施例】 【００４１】 以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 【００４２】 ＜水分吸着量及びトルエンの吸着量の測定＞ 吸着量の測定は、定容量式吸着測定装置（ＢＥＬＳＯＲＰ ＭＡＸＩＩ：マイクロトラックベル社製）を使用した。各実施例及び比較例で用いた試料は３５０℃で２時間、１０Ｐａ以下の真空下で前処理した。吸着温度は２５℃で測定した。 【００４３】 ＜１Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲの測定＞ １Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲの測定は固体ＮＭＲ：Ｖａｒｉａｎ社製核磁気共鳴装置ＶＮＭＲＳ－４００を使用、試料管を１５ｋＨｚの回転数で回転させながら測定した。化学シフトはテトラメチルシランを化学シフト基準（０ｐｐｍ）とした。ヒドロキシ基の定量は、重水素化したジメチルスルホキシド中のベンゼンにより作成した水素量の検量線により定量化をおこなった。また試料は、あらかじめ４００℃において５時間真空排気して脱水した試料を用いて測定をおこなった。 【００４４】 実施例１ 市販のプロトンタイプＢＥＡ型ゼオライト（ＨＳＺ－９４０ＨＯＡ：東ソー製、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比４０）１０ｇを、７８０℃、７０容量％水蒸気雰囲気で２時間熱処理（水蒸気と接触）することにより本発明の疎水性ゼオライトを得た。ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比は４０であった。また、２５℃における水分吸着量およびトルエン吸着量を図１、２、および表１にそれぞれ示した。 【００４５】 実施例１で得られた本発明の疎水性ゼオライトについて、１Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲスペクトルを測定した。結果を図３に示した。さらにこの図のスペクトル強度（Ｙ軸）を５倍に拡大して図４に示した。また化学シフト０．７ｐｐｍ付近のピーク、１．８ｐｐｍ付近のピークと２．２ｐｐｍ付近のピークの積分値の和から算出したヒドロキシ基の量を表２に示した。 【００４６】 図３から明らかなように、実施例１で得られた本発明の疎水性ゼオライトは、１．８ｐｐｍ付近にメインピークを有し、２．２ｐｐｍ付近にショルダーピークを有していた。また図４から明らかなように、実施例１で得られた本発明の疎水性ゼオライトは、化学シフト４ｐｐｍ付近、５ｐｐｍ付近の何れにもピークを有していなかった。 ・・・ 【００５３】 【表１】 ［図：0001427953000001.jpg］ 【００５４】 【表２】 ［図：0001427953000002.jpg］ 【００５５】 図１、図２および表１から明らかなように、本発明の疎水性ゼオライトは高い疎水性と高い有機化合物吸着性能を兼ね備えていた。」 （オ） 「【図３】 ［図：0001427953000003.jpg］ 」 （カ） 「【図４】 ［図：0001427953000004.jpg］ 」 イ 前記ア（ア）の記載によれば、甲第１号証には、２５℃、相対湿度６０％における水分吸着量が（８ｇ／ゼオライト１００ｇ）以下、かつ２５℃、０．０１ｋＰａにおけるトルエン吸着量が（９ｇ／ゼオライト１００ｇ）以上、かつＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が１０～１００の範囲である疎水性ゼオライトが記載されており、前記疎水性ゼオライトは、ＢＥＡ構造を有するものであり、１Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲの化学シフト１．８ｐｐｍ付近のピークと２．２ｐｐｍ付近のピークの積分値の和から算出したヒドロキシ基の量が３×１０２０個／ｇ以下であり、かつ０．７ｐｐｍ付近のピークの積分値から算出したヒドロキシ基の量が０．１×１０２０個／ｇ以下であるものである（【請求項１】～【請求項３】）。 また、前記ア（ウ）の記載によれば、前記疎水性ゼオライトを含有する有機化合物吸着剤は、自動車排ガス中の有機炭化水素成分を吸着除去する吸着剤として有用に使用できるものであり、前記疎水性ゼオライトを含有する触媒は、水が共存、または副生する反応系中で炭化水素の反応をおこなう際に、ゼオライト触媒上への反応物の吸着過程が水との競争吸着となる反応において、水による反応阻害を低減する触媒として有用に使用できるものである（段落【００３５】～【００３６】）。 更に、前記ア（エ）～（カ）に記載された実施例１に注目すると、前記疎水性ゼオライトは、市販のプロトンタイプＢＥＡ型ゼオライト（ＨＳＺ－９４０ＨＯＡ：東ソー製、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比４０）１０ｇを、７８０℃、７０容量％水蒸気雰囲気で２時間熱処理（水蒸気と接触）することにより得たものであり、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比は４０であったものである（段落【００４４】）。 また、前記疎水性ゼオライトは、定容量式吸着測定装置（ＢＥＬＳＯＲＰ ＭＡＸＩＩ：マイクロトラックベル社製）を使用し、試料を３５０℃で２時間、１０Ｐａ以下の真空下で前処理し、吸着温度を２５℃で測定したときの水分吸着量及びトルエン吸着量が、それぞれゼオライト１００ｇ当たり４．１ｇ（ＲＨ６０）及び１０．４ｇ（０．０１ｋＰａ）であったものであり（段落【００４２】、【００４４】、【００５３】【表１】）、１Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲスペクトルの測定を、固体ＮＭＲ：Ｖａｒｉａｎ社製核磁気共鳴装置ＶＮＭＲＳ－４００を使用し、試料管を１５ｋＨｚの回転数で回転させながら測定し、化学シフトはテトラメチルシランを化学シフト基準（０ｐｐｍ）とし、ヒドロキシ基の定量は、重水素化したジメチルスルホキシド中のベンゼンにより作成した水素量の検量線により定量化を行い、試料は、あらかじめ４００℃において５時間真空排気して脱水した試料を用いたとき、化学シフト０．７ｐｐｍ付近のピーク及び１．８ｐｐｍ付近のピークと２．２ｐｐｍ付近のピークの積分値の和から算出したヒドロキシ基の量が、化学シフト０．７ｐｐｍ付近で０．０２×１０２０個／ｇ、化学シフト１．８ｐｐｍ付近＋２．２ｐｐｍ付近で１．４８×１０２０個／ｇであり、１．８ｐｐｍ付近にメインピークを有し、２．２ｐｐｍ付近にショルダーピークを有しており、化学シフト４ｐｐｍ付近、５ｐｐｍ付近の何れにもピークを有していなかったものである（段落【００４３】、【００４５】、【００４６】、【００５４】【表２】、【図３】、【図４】）。 そして、前記疎水性ゼオライトは、高い疎水性と高い有機化合物吸着性能を兼ね備えていたものである（段落【００５５】）。 ウ 前記イによれば、甲第１号証には、以下の発明が記載されているといえる。 「２５℃、相対湿度６０％における水分吸着量が（８ｇ／ゼオライト１００ｇ）以下、かつ２５℃、０．０１ｋＰａにおけるトルエン吸着量が（９ｇ／ゼオライト１００ｇ）以上、かつＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が１０～１００の範囲である疎水性ゼオライトであって、 前記疎水性ゼオライトは、ＢＥＡ構造を有するものであり、１Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲの化学シフト１．８ｐｐｍ付近のピークと２．２ｐｐｍ付近のピークの積分値の和から算出したヒドロキシ基の量が３×１０２０個／ｇ以下であり、かつ０．７ｐｐｍ付近のピークの積分値から算出したヒドロキシ基の量が０．１×１０２０個／ｇ以下であり、 前記疎水性ゼオライトを含有する有機化合物吸着剤は、自動車排ガス中の有機炭化水素成分を吸着除去する吸着剤として有用に使用できるものであり、また、前記疎水性ゼオライトを含有する触媒は、水が共存、または副生する反応系中で炭化水素の反応をおこなう際に、ゼオライト触媒上への反応物の吸着過程が水との競争吸着となる反応において、水による反応阻害を低減する触媒として有用に使用できるものであり、 前記疎水性ゼオライトは、市販のプロトンタイプＢＥＡ型ゼオライト（ＨＳＺ－９４０ＨＯＡ：東ソー製、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比４０）１０ｇを、７８０℃、７０容量％水蒸気雰囲気で２時間熱処理（水蒸気と接触）することにより得たものであり、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比は４０であったものであり、 定容量式吸着測定装置（ＢＥＬＳＯＲＰ ＭＡＸＩＩ：マイクロトラックベル社製）を使用し、試料を３５０℃で２時間、１０Ｐａ以下の真空下で前処理し、吸着温度を２５℃で測定したときの水分吸着量及びトルエン吸着量が、それぞれゼオライト１００ｇ当たり４．１ｇ（ＲＨ６０）及び１０．４ｇ（０．０１ｋＰａ）であったものであり、 １Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲスペクトルの測定を、固体ＮＭＲ：Ｖａｒｉａｎ社製核磁気共鳴装置ＶＮＭＲＳ－４００を使用し、試料管を１５ｋＨｚの回転数で回転させながら測定し、化学シフトはテトラメチルシランを化学シフト基準（０ｐｐｍ）とし、ヒドロキシ基の定量は、重水素化したジメチルスルホキシド中のベンゼンにより作成した水素量の検量線により定量化を行い、試料は、あらかじめ４００℃において５時間真空排気して脱水した試料を用いたとき、化学シフト０．７ｐｐｍ付近のピーク及び１．８ｐｐｍ付近のピークと２．２ｐｐｍ付近のピークの積分値の和から算出したヒドロキシ基の量が、化学シフト０．７ｐｐｍ付近で０．０２×１０２０個／ｇ、化学シフト１．８ｐｐｍ付近＋２．２ｐｐｍ付近で１．４８×１０２０個／ｇであり、１．８ｐｐｍ付近にメインピークを有し、２．２ｐｐｍ付近にショルダーピークを有しており、化学シフト４ｐｐｍ付近、５ｐｐｍ付近の何れにもピークを有していないものであり、 高い疎水性と高い有機化合物吸着性能を兼ね備えたものである、疎水性ゼオライト。」（以下、「甲１－１発明」という。） エ また、前記ア（ア）の記載によれば、前記疎水性ゼオライトの製造方法は、母材となるゼオライトを５００℃～９００℃の温度で水蒸気と接触させるものであり（【請求項５】）、前記ア（イ）の記載によれば、前記製造方法は、母材となるゼオライトを好ましくは２０～１００容量％、より好ましくは４０～１００容量％の水蒸気と、５００℃～９００℃、より好ましくは６００～８５０℃の温度で、３０分から５時間の時間接触させることにより好適に製造することができるものである（段落【００３２】）。 このことと、前記イによれば、甲第１号証には、以下の発明が記載されているといえる。 「２５℃、相対湿度６０％における水分吸着量が（８ｇ／ゼオライト１００ｇ）以下、かつ２５℃、０．０１ｋＰａにおけるトルエン吸着量が（９ｇ／ゼオライト１００ｇ）以上、かつＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が１０～１００の範囲である疎水性ゼオライトであり、 前記疎水性ゼオライトは、ＢＥＡ構造を有するものであり、１Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲの化学シフト１．８ｐｐｍ付近のピークと２．２ｐｐｍ付近のピークの積分値の和から算出したヒドロキシ基の量が３×１０２０個／ｇ以下であり、かつ０．７ｐｐｍ付近のピークの積分値から算出したヒドロキシ基の量が０．１×１０２０個／ｇ以下である疎水性ゼオライトの製造方法であって、 前記疎水性ゼオライトの製造方法は、母材となるゼオライトを５００℃～９００℃の温度で水蒸気と接触させるものであり、母材となるゼオライトを好ましくは２０～１００容量％、より好ましくは４０～１００容量％の水蒸気と、５００℃～９００℃、より好ましくは６００～８５０℃の温度で、３０分から５時間の時間接触させることにより好適に製造することができるものであり、 前記疎水性ゼオライトを含有する有機化合物吸着剤は、自動車排ガス中の有機炭化水素成分を吸着除去する吸着剤として有用に使用できるものであり、また、前記疎水性ゼオライトを含有する触媒は、水が共存、または副生する反応系中で炭化水素の反応をおこなう際に、ゼオライト触媒上への反応物の吸着過程が水との競争吸着となる反応において、水による反応阻害を低減する触媒として有用に使用できるものであり、 前記疎水性ゼオライトは、市販のプロトンタイプＢＥＡ型ゼオライト（ＨＳＺ－９４０ＨＯＡ：東ソー製、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比４０）１０ｇを、７８０℃、７０容量％水蒸気雰囲気で２時間熱処理（水蒸気と接触）することにより得たものであり、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比は４０であったものであり、 定容量式吸着測定装置（ＢＥＬＳＯＲＰ ＭＡＸＩＩ：マイクロトラックベル社製）を使用し、試料を３５０℃で２時間、１０Ｐａ以下の真空下で前処理し、吸着温度を２５℃で測定したときの水分吸着量及びトルエン吸着量が、それぞれゼオライト１００ｇ当たり４．１ｇ（ＲＨ６０）及び１０．４ｇ（０．０１ｋＰａ）であったものであり、 １Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲスペクトルの測定を、固体ＮＭＲ：Ｖａｒｉａｎ社製核磁気共鳴装置ＶＮＭＲＳ－４００を使用し、試料管を１５ｋＨｚの回転数で回転させながら測定し、化学シフトはテトラメチルシランを化学シフト基準（０ｐｐｍ）とし、ヒドロキシ基の定量は、重水素化したジメチルスルホキシド中のベンゼンにより作成した水素量の検量線により定量化を行い、試料は、あらかじめ４００℃において５時間真空排気して脱水した試料を用いたとき、化学シフト０．７ｐｐｍ付近のピーク及び１．８ｐｐｍ付近のピークと２．２ｐｐｍ付近のピークの積分値の和から算出したヒドロキシ基の量が、化学シフト０．７ｐｐｍ付近で０．０２×１０２０個／ｇ、化学シフト１．８ｐｐｍ付近＋２．２ｐｐｍ付近で１．４８×１０２０個／ｇであり、１．８ｐｐｍ付近にメインピークを有し、２．２ｐｐｍ付近にショルダーピークを有しており、化学シフト４ｐｐｍ付近、５ｐｐｍ付近の何れにもピークを有していないものであり、 高い疎水性と高い有機化合物吸着性能を兼ね備えたものである、疎水性ゼオライトの製造方法。」（以下、「甲１－２発明」という。） なお、甲第２～３号証の摘記は省略する。 （２） 特許法第２９条第２項所定の規定違反（進歩性欠如）の判断 ア 本件発明１～４、９～１３について （ア） 本件発明１と甲１－１発明とを対比すると、甲１－１発明における「疎水性ゼオライト」は、「ＢＥＡ構造を有する」ものであるから、本件発明１における「ＢＥＡ型ゼオライト」に相当する。 そうすると、本件発明１と甲１－１発明とは、 「ＢＥＡ型ゼオライト。」 の点で一致し、以下の点で相違する。 ・相違点１：本件発明１は、「排ガス浄化触媒」に係るものであるのに対して、甲１－１発明は、「疎水性ゼオライト」に係るものであって、「疎水性ゼオライトを含有する有機化合物吸着剤」が、「自動車排ガス中の有機炭化水素成分を吸着除去する吸着剤として有用に使用できる」ものであるが、「疎水性ゼオライトを含有する触媒」としては、「水が共存、または副生する反応系中で炭化水素の反応をおこなう際に、ゼオライト触媒上への反応物の吸着過程が水との競争吸着となる反応において、水による反応阻害を低減する触媒として有用に使用できるものであ」るものにとどまり、「排ガス浄化触媒」に係るものであることは記載されていない点。 ・相違点２：本件発明１は、「排ガス浄化触媒」が、「前記ＢＥＡ型ゼオライトのＦＴ―ＩＲ測定における、３，７３０ｃｍ－１以上３，７４０ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ１と、３，７２０ｃｍ－１以上３，７２５ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ２と、１，９７８ｃｍ－１以上１，９８３ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ０とを用いて計算される、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４５以下」であるのに対して、甲１－１発明は、「疎水性ゼオライト」が、「２５℃、相対湿度６０％における水分吸着量が（８ｇ／ゼオライト１００ｇ）以下」であり、具体的には、「定容量式吸着測定装置（ＢＥＬＳＯＲＰ ＭＡＸＩＩ：マイクロトラックベル社製）を使用し、試料を３５０℃で２時間、１０Ｐａ以下の真空下で前処理し、吸着温度を２５℃で測定したときの水分吸着量」が「ゼオライト１００ｇ当たり４．１ｇ（ＲＨ６０）」であり、また、「１Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲの化学シフト１．８ｐｐｍ付近のピークと２．２ｐｐｍ付近のピークの積分値の和から算出したヒドロキシ基の量が３×１０２０個／ｇ以下であり、かつ０．７ｐｐｍ付近のピークの積分値から算出したヒドロキシ基の量が０．１×１０２０個／ｇ以下」であり、具体的には、「１Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲスペクトルの測定を、固体ＮＭＲ：Ｖａｒｉａｎ社製核磁気共鳴装置ＶＮＭＲＳ－４００を使用し、試料管を１５ｋＨｚの回転数で回転させながら測定し、化学シフトはテトラメチルシランを化学シフト基準（０ｐｐｍ）とし、ヒドロキシ基の定量は、重水素化したジメチルスルホキシド中のベンゼンにより作成した水素量の検量線により定量化を行い、試料は、あらかじめ４００℃において５時間真空排気して脱水した試料を用いたとき、化学シフト０．７ｐｐｍ付近のピーク及び１．８ｐｐｍ付近のピークと２．２ｐｐｍ付近のピークの積分値の和から算出したヒドロキシ基の量が、化学シフト０．７ｐｐｍ付近で０．０２×１０２０個／ｇ、化学シフト１．８ｐｐｍ付近＋２．２ｐｐｍ付近で１．４８×１０２０個／ｇであり、１．８ｐｐｍ付近にメインピークを有し、２．２ｐｐｍ付近にショルダーピークを有しており、化学シフト４ｐｐｍ付近、５ｐｐｍ付近の何れにもピークを有していない」ものであり、「高い疎水性と高い有機化合物吸着性能を兼ね備えたものである」が、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」は明らかでない点。 ・相違点３：本件発明１は、「排ガス浄化触媒」が、「前記ＢＥＡ型ゼオライトのＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下である」のに対して、甲１－１発明は、「疎水性ゼオライト」の「前記ＢＥＡ型ゼオライトのＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅」が明らかでない点。 （イ） 事案に鑑み、始めに、前記（ア）の相違点２が実質的な相違点であるか否かについて検討すると、本件特許明細書の段落【００１８】～【００１９】（下記２（２）ウ）の記載によれば、本件発明においては、「ＢＥＡ型ゼオライト」のＦＴ―ＩＲ測定において、３，７３０ｃｍ－１以上３，７４０ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークは、孤立Ｓｉ－ＯＨ結合の伸縮振動に由来すると考えられ、３，７２０ｃｍ－１以上３，７２５ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークは、水素結合したＳｉ－ＯＨ結合の伸縮振動に由来すると考えられ、１，９７８ｃｍ－１以上１，９８３ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークは、Ｓｉ－Ｏ結合の伸縮振動に由来すると考えられることから、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」が「０．４５以下」であることは、「ＢＥＡ型ゼオライト」が有するＳｉ－Ｏ結合に対するＳｉ－ＯＨ基の割合が少ないことを意味し、そのような「ＢＥＡ型ゼオライト」は、構造欠陥に伴うＳｉ－ＯＨ基の量が少ないから、コールド時であっても、Ｓｉ－ＯＨ基に吸着する吸着水の影響が少なく、所期のＨＣ吸着能を発現することができるものである。 一方、甲１－１発明に係る「疎水性ゼオライト」の「２５℃、相対湿度６０％における水分吸着量」が「（８ｇ／ゼオライト１００ｇ）以下」、具体的には「ゼオライト１００ｇ当たり４．１ｇ（ＲＨ６０）」であり、「１Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲの化学シフト１．８ｐｐｍ付近のピークと２．２ｐｐｍ付近のピークの積分値の和から算出したヒドロキシ基の量が３×１０２０個／ｇ以下であり、かつ０．７ｐｐｍ付近のピークの積分値から算出したヒドロキシ基の量が０．１×１０２０個／ｇ以下」、具体的には、「化学シフト０．７ｐｐｍ付近のピーク及び１．８ｐｐｍ付近のピークと２．２ｐｐｍ付近のピークの積分値の和から算出したヒドロキシ基の量が、化学シフト０．７ｐｐｍ付近で０．０２×１０２０個／ｇ、化学シフト１．８ｐｐｍ付近＋２．２ｐｐｍ付近で１．４８×１０２０個／ｇ」であり、更に、甲１－１発明に係る「疎水性ゼオライト」が、「１．８ｐｐｍ付近にメインピークを有し、２．２ｐｐｍ付近にショルダーピークを有しており、化学シフト４ｐｐｍ付近、５ｐｐｍ付近の何れにもピークを有していない」ものであり、特に、ゼオライトにおけるヒドロキシ基の量を規定しているとしても、これらのヒドロキシ基と本件発明１における構造欠陥に伴うＳｉ－ＯＨ基との関係は明らかでないことから、「高い疎水性と高い有機化合物吸着性能を兼ね備えたものである」としても、甲１－１発明において、前記「疎水性ゼオライト」の「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」が「０．４５以下」となっているということはできないし、このことを裏付ける証拠もない。 そうすると、甲１－１発明が、前記相違点２に係る本件発明１の発明特定事項を有しているとはいえない。 （ウ） ここで、仮に、本件発明１に係る「排ガス浄化触媒」と甲１－１発明に係る「疎水性ゼオライト」の製造方法が合致していれば、甲１－１発明に係る「疎水性ゼオライト」の「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」が「０．４５以下」である蓋然性が高いといえるので、以下、検討すると、本件特許明細書の段落【００３３】（下記２（２）ウ）の記載によれば、本件発明１に係る「排ガス浄化触媒」は、原料ゼオライトを焼成するとき、周囲雰囲気中の水分が少ない方が、原料ゼオライトの有するＳｉ－ＯＨ基の脱水がスムースに進む点で、好適であるものであり、焼成のときの雰囲気中の、焼成温度における水分量は、１０．０体積％以下とするのがよいものである。 これに対して、甲１－１発明に係る「疎水性ゼオライト」は、「市販のプロトンタイプＢＥＡ型ゼオライト（ＨＳＺ－９４０ＨＯＡ：東ソー製、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比４０）１０ｇを、７８０℃、７０容量％水蒸気雰囲気で２時間熱処理（水蒸気と接触）することにより得た」ものであり、ここで、「７０容量％水蒸気雰囲気」は、焼成温度における水分量が７０体積％であるものといえる。 そうすると、本件発明１に係る「排ガス浄化触媒」は、焼成温度における水分量を１０．０体積％以下とするのが好適であるのに対して、甲１－１発明に係る「疎水性ゼオライト」は、焼成温度における水分量が７０体積％なのであるから、これらの製造方法は、焼成のときの雰囲気中の水分量が大きく異なるものである。 そして、焼成のときの雰囲気中の水分量が大きく異なる本件発明１に係る「排ガス浄化触媒」と甲１－１発明に係る「疎水性ゼオライト」とは、製造方法が合致しているとはいえないから、甲１－１発明に係る「疎水性ゼオライト」の「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」が「０．４５以下」である蓋然性が高いとはいえないので、甲１－１発明が、前記相違点２に係る本件発明１の発明特定事項を有しているとはいえない。 （エ） 前記（イ）及び（ウ）によれば、甲１－１発明が、前記相違点２に係る本件発明１の発明特定事項を有しているとはいえないから、前記相違点２は実質的な相違点である。 （オ） 次に、前記相違点２の容易想到性について検討すると、甲１－１発明は、そもそも、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」に着目したものではないから、甲１－１発明において、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」を「０．４５以下」とする動機付けは存在しないし、摘記を省略した甲第２～３号証にも、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」を「０．４５以下」とすることは記載されていないので、前記相違点２は容易想到とはいえない。 したがって、甲１－１発明を、前記相違点２に係る本件発明１の発明特定事項を有するものとすることは、当業者が容易になし得ることではないので、前記（ア）のそのほかの相違点について検討するまでもなく、本件発明１は、甲１－１発明に基づいて、又は、甲１－１発明及び甲第１号証に記載された事項に基づいて、あるいは、甲１－１発明及び甲第１～３号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 更に、本件発明１の発明特定事項を全て有する本件発明２～４及び９～１３について検討しても事情は同じである。 イ 本件発明５、６、８について （ア） 前記ア（ア）と同様にして本件発明５と甲１－２発明とを対比すると、本件発明５と甲１－２発明とは、 「ＢＥＡ型ゼオライトの製造方法。」の点で一致し、以下の点で相違する。 ・相違点１’：本件発明５は、「排ガス浄化触媒の製造方法」に係るものであるのに対して、甲１－２発明は、「疎水性ゼオライト」の製造方法に係るものであって、「疎水性ゼオライトを含有する有機化合物吸着剤」が、「自動車排ガス中の有機炭化水素成分を吸着除去する吸着剤として有用に使用できる」ものであるが、「疎水性ゼオライトを含有する触媒」としては、「水が共存、または副生する反応系中で炭化水素の反応をおこなう際に、ゼオライト触媒上への反応物の吸着過程が水との競争吸着となる反応において、水による反応阻害を低減する触媒として有用に使用できるものであ」るものにとどまり、「排ガス浄化触媒の製造方法」に係るものであることは記載されていない点。 ・相違点２’：本件発明５は、「排ガス浄化触媒の製造方法」において、「前記ＢＥＡ型ゼオライトは、ＦＴ―ＩＲ測定における、３，７３０ｃｍ－１以上３，７４０ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ１と、３，７２０ｃｍ－１以上３，７２５ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ２と、１，９７８ｃｍ－１以上１，９８３ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ０とを用いて計算される、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４５以下」であるのに対して、甲１－２発明は、「疎水性ゼオライトの製造方法」において、「疎水性ゼオライト」が、「２５℃、相対湿度６０％における水分吸着量が（８ｇ／ゼオライト１００ｇ）以下」であり、具体的には、定容量式吸着測定装置（ＢＥＬＳＯＲＰ ＭＡＸＩＩ：マイクロトラックベル社製）を使用し、試料を３５０℃で２時間、１０Ｐａ以下の真空下で前処理し、吸着温度を２５℃で測定したときの水分吸着量」が「ゼオライト１００ｇ当たり４．１ｇ（ＲＨ６０）」であり、「１Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲの化学シフト１．８ｐｐｍ付近のピークと２．２ｐｐｍ付近のピークの積分値の和から算出したヒドロキシ基の量が３×１０２０個／ｇ以下であり、かつ０．７ｐｐｍ付近のピークの積分値から算出したヒドロキシ基の量が０．１×１０２０個／ｇ以下」であり、具体的には、「１Ｈ ＭＡＳ ＮＭＲスペクトルの測定を、固体ＮＭＲ：Ｖａｒｉａｎ社製核磁気共鳴装置ＶＮＭＲＳ－４００を使用し、試料管を１５ｋＨｚの回転数で回転させながら測定し、化学シフトはテトラメチルシランを化学シフト基準（０ｐｐｍ）とし、ヒドロキシ基の定量は、重水素化したジメチルスルホキシド中のベンゼンにより作成した水素量の検量線により定量化を行い、試料は、あらかじめ４００℃において５時間真空排気して脱水した試料を用いたとき、化学シフト０．７ｐｐｍ付近のピーク及び１．８ｐｐｍ付近のピークと２．２ｐｐｍ付近のピークの積分値の和から算出したヒドロキシ基の量が、化学シフト０．７ｐｐｍ付近で０．０２×１０２０個／ｇ、化学シフト１．８ｐｐｍ付近＋２．２ｐｐｍ付近で１．４８×１０２０個／ｇであり、１．８ｐｐｍ付近にメインピークを有し、２．２ｐｐｍ付近にショルダーピークを有しており、化学シフト４ｐｐｍ付近、５ｐｐｍ付近の何れにもピークを有していない」ものであり、「高い疎水性と高い有機化合物吸着性能を兼ね備えたものである」が、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」は明らかでない点。 ・相違点３’：本件発明５は、「排ガス浄化触媒の製造方法」において、「前記ＢＥＡ型ゼオライトのＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下である」のに対して、甲１－２発明は、「疎水性ゼオライトの製造方法」における、「前記ＢＥＡ型ゼオライトのＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅」が明らかでない点。 ・相違点４：本件発明５は、「排ガス浄化触媒の製造方法」が、「前記（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０以上であり、かつ、前記２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下である、ＢＥＡ型ゼオライトを、６５０℃以上９００℃以下の温度で焼成することを含み、前記焼成のときの雰囲気中の、焼成の温度における水分量が、１．００体積％以下である」ものであるのに対して、甲１－２発明は、「疎水性ゼオライトの製造方法」が、「母材となるゼオライトを５００℃～９００℃の温度で水蒸気と接触させるものであり、母材となるゼオライトを好ましくは２０～１００容量％、より好ましくは４０～１００容量％の水蒸気と、５００℃～９００℃、より好ましくは６００～８５０℃の温度で、３０分から５時間の時間接触させることにより好適に製造することができるものであり」、具体的には、「市販のプロトンタイプＢＥＡ型ゼオライト（ＨＳＺ－９４０ＨＯＡ：東ソー製、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比４０）１０ｇを、７８０℃、７０容量％水蒸気雰囲気で２時間熱処理（水蒸気と接触）することにより得た」ものである点。 （イ） 事案に鑑み、始めに、前記（ア）の相違点２’から検討すると、前記相違点２’は、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」に関する相違点である点で前記相違点２と共通するから、前記ア（エ）に記載したのと同様の理由により、甲１－２発明が、前記相違点２’に係る本件発明１の発明特定事項を有しているとはいえないので、前記相違点２’は実質的な相違点であるし、前記ア（オ）に記載したのと同様の理由により、甲１－２発明を、前記相違点２’に係る本件発明５の発明特定事項を有するものとすることは、当業者が容易になし得ることではない。 したがって、前記（ア）のそのほかの相違点について検討するまでもなく、本件発明５は、甲１－２発明に基づいて、又は、甲１－２発明及び甲第１号証に記載された事項に基づいて、あるいは、甲１－２発明及び甲第１～３号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。 更に、本件発明５の発明特定事項を全て有する本件発明６及び８について検討しても事情は同じである。 ウ 申立人の主張について （ア） 特許異議申立書における、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」についての特許異議申立人の主張の内容は、概略、以下のとおりである。 本件特許明細書の段落【００３０】、【００６６】～【００７２】（下記２（２）ウ、エ）の記載によれば、本件発明においては、東ソー（株）製の「ＢＥＡ型ゼオライト」ＨＳＺ－９４０ＨＯＡを６５０℃以上９００℃以下で焼成すれば、設定登録時の請求項１に係る「排ガス浄化触媒」に含まれる「ＢＥＡ型ゼオライト」が得られるものと解される。そして、甲第１号証に記載された発明においては、東ソー（株）製の「ＢＥＡ型ゼオライト」ＨＳＺ－９４０ＨＯＡを７８０℃で熱処理しているから、甲第１号証に記載された発明は、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」が０．５０未満である蓋然性が高い。 また、前記請求項１に係る「排ガス浄化触媒」に含まれる「ＢＥＡ型ゼオライト」を得るには、そのほかの焼成条件を特定の範囲とすることが必要であったとしても、排ガス中の炭化水素をより効果的に吸着除去できる疎水性や結晶性を得るため、甲第１号証に記載された発明における熱処理の時間や雰囲気中の水分含有量を調整して、本件特許明細書の実施例１等に記載されるように、処理時間を３００分としたり、雰囲気中の水分含有量を０．２０体積％～０．９０体積％としたりすることは、当業者が容易になし得ることであるから、前記請求項１に係る発明は、甲第１号証に記載された発明及び甲第１号証に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである（２１ページ２１行～２４ページ５行）。 （イ） 特許権者意見書における、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」についての特許異議申立人の主張の内容は、概略、以下のとおりである。 ａ 甲第１号証の段落【００３２】（前記（１）ア（イ））の記載からみれば、当業者は、甲第１号証に記載された発明の疎水性をより向上させるために、焼成条件を、甲第１号証に記載された焼成条件の範囲内である９００℃、２０容量％水蒸気雰囲気で３００分間加熱処理するものに調整することを、容易に想到できる。 そして、本件特許明細書の実施例の記載からみれば、実施例９において、東ソー（株）製の「ＢＥＡ型ゼオライト」ＨＳＺ－９４０ＨＯＡを、焼成温度を９００℃、Ｈ２Ｏ濃度を２０．０体積％、時間を３００分として焼成したときの「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」は０．４２６未満となる蓋然性が高いことが予測されるから、甲第１号証に記載された発明において、東ソー（株）製の「ＢＥＡ型ゼオライト」ＨＳＺ－９４０ＨＯＡを、焼成温度を９００℃、Ｈ２Ｏ濃度を２０．０体積％、時間を３００分として焼成したときの「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」も０．４２６未満となる蓋然性が高いことが予測されるので、本件発明１は、甲第１号証に記載された発明及び甲第１号証に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである（１ページ下から３行～６ページ１行）。 ｂ 甲第１号証の段落【０００３】～【０００６】、【００２２】（前記（１）ア（イ））の記載からみれば、甲第１号証に記載された発明において、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比を２２に調整することは、容易に想到できる。 そして、甲第６号証の記載（２３８ページの表１、２４４ページの図９、左欄２７行～３３行）からみれば、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が１８減少することでシラノール基が２０％程度低下することが読み取れるところ、本件発明における「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」も、シラノール量の評価指標であるから、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」も、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が１８減少することで２０％程度低下する蓋然性が高い。 すると、甲第１号証に記載された東ソー（株）製の「ＢＥＡ型ゼオライト」ＨＳＺ－９４０ＨＯＡのＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比を４０から１８減少させて２２としたとき、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」は０．５１（本件特許明細書に記載された比較例１）から２０％程度減少して０．４０８となる蓋然性が高いから、本件発明１は、甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 なお、甲第７号証（段落【００５３】）及び甲第８号証（段落【００４４】）によれば、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が１８であるベータ型ゼオライト（ＨＳＺ－９２０ＮＨＡ）や、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が２７．０であるベータ型ゼオライト（ＨＳＺ９３０ＨＯＡ）や、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が２８．３であるベータ型ゼオライト（ＨＳＺ９３１ＨＯＡ）等、甲第１号証に記載された発明において母材として用いるＢＥＡ型ゼオライト（ＨＳＺ－９４０ＨＯＡ）よりも大幅にＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が低いＢＥＡ型ゼオライトが市販されており、モル比が減少することで「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」も低下することを考慮すると、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が低いこれらのゼオライトは、焼成処理をしなくても、それ自体で「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」が「０．４５以下」である蓋然性が高いから、これらのゼオライトは本件発明１に該当する蓋然性が高い（６ページ２行～９ページ１６行）。 甲第６号証：S. Mintova et al., "Variation of the Si/Al ratio in nanosized zeolite Beta crystals", Microporous and Mesoporous Materials, ２００６年, Vol. 90, p. 237-245 甲第７号証：特開２０１９－９９３９１号公報 甲第８号証：特開２０１６－１４５１３８号公報 ただし、甲第６～８号証は、申立人意見書に添付して提出されたものである。また、これらの摘記は省略する。 （ウ） 始めに、前記（ア）の主張について検討すると、本件発明１に係る「排ガス浄化触媒」は、原料ゼオライトを焼成するとき、周囲雰囲気中の水分が少ない方が、原料ゼオライトの有するＳｉ－ＯＨ基の脱水がスムースに進む点で、好適であるものであり、焼成のときの雰囲気中の、焼成温度における水分量は、１０．０体積％以下とするのがよいものであることは、前記ア（ウ）に記載したとおりである。 そして、このことからみれば、本件発明における「ＢＥＡ型ゼオライト」は、原料ゼオライトの焼成温度のみならず、ほかに、当該焼成温度における雰囲気中の水分量を適切なものとすることで得られると解されるのであり、原料ゼオライトを単に６５０℃以上９００℃以下で焼成すれば得られるものとはいえない。 更に、焼成のときの雰囲気中の水分量が大きく異なる本件発明１に係る「排ガス浄化触媒」と甲１－１発明に係る「疎水性ゼオライト」とは、製造方法が合致しているとはいえず、甲１－１発明に係る「疎水性ゼオライト」の「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」が「０．４５以下」である蓋然性が高いとはいえないことは、前記ア（ウ）に記載したとおりであるから、同様の理由により、甲第１号証に記載された発明における「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」が０．５０未満である蓋然性が高いともいえない。 また、甲第１号証の段落【００３２】（前記（１）ア（イ））の記載によれば、甲第１号証に記載された「疎水性ゼオライト」の製造方法は、母材となるゼオライトを好ましくは２０～１００容量％、より好ましくは４０～１００容量％の水蒸気と、５００℃～９００℃、より好ましくは６００℃～８５０℃の温度で接触させることにより好適に製造することができるものである。 そして、そのような甲第１号証に記載された発明において、焼成温度における水分量を１０体積％以下とすることは、「疎水性ゼオライト」を好適に製造できる水蒸気量を逸脱することとなり、もとより想定されないから、雰囲気中の水分含有量を、１０体積％以下よりも更に少ない０．２０体積％～０．９０体積％とすることは、到底、当業者が容易になし得ることではない。 したがって、前記（ア）の主張はいずれも採用できない。 （エ） 次に、前記（イ）ａの主張について検討すると、甲第１号証に記載された発明においては、母材となるゼオライトを好ましくは２０～１００容量％、より好ましくは４０～１００容量％の水蒸気と、５００℃～９００℃、より好ましくは６００℃～８５０℃の温度で接触させることにより好適に製造することができることは、前記（ウ）に記載したとおりであり、甲第１号証に記載された発明においては、東ソー（株）製の「ＢＥＡ型ゼオライト」ＨＳＺ－９４０ＨＯＡは、より好ましい温度である７８０℃及びより好ましい水蒸気量である７０容量％水蒸気雰囲気で熱処理されるものである。 そして、当業者は、そのような甲第１号証に記載された発明において、より好ましい範囲を逸脱して、温度９００℃、２０容量％水蒸気雰囲気で熱処理することはしないし、仮に、そうしたとしても、熱処理後の東ソー（株）製の「ＢＥＡ型ゼオライト」ＨＳＺ－９４０ＨＯＡの「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」が「０．４５以下」となっていることを裏付ける証拠もないから、甲第１号証に記載された発明において、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」を「０．４５以下」とすることは、当業者が容易になし得ることではなく、本件発明１は、甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 したがって、前記（イ）ａの主張も採用できない。 （オ） 最後に、前記（イ）ｂの主張について検討すると、甲第１号証の段落【００１３】の記載（前記（１）ア（イ））によれば、甲第１号証に記載された発明における「疎水性ゼオライト」は、生産性の向上及び廃酸の低減の観点から、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が１０～１００の範囲であり、１５～９０の範囲であることが好ましく、３０～８０の範囲であることがより好ましいものであり、東ソー（株）製の「ＢＥＡ型ゼオライト」ＨＳＺ－９４０ＨＯＡは、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比がより好ましい範囲である４０であるものである。 そして、当業者は、そのような甲第１号証に記載された発明において、より好ましい範囲を逸脱して、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比を２２とすることはしないし、仮に、そうしたとしても、東ソー（株）製の「ＢＥＡ型ゼオライト」ＨＳＺ－９４０ＨＯＡの「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」が「０．４５以下」となっていることを裏付ける証拠もないから、甲第１号証に記載された発明において、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」を「０．４５以下」とすることは、当業者が容易になし得ることではなく、本件発明１は、甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 更に、甲第７～８号証に記載されたベータ型ゼオライトの「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値」が「０．４５以下」であることを裏付ける証拠もないから、これらのゼオライトが本件発明１に該当する蓋然性が高いともいえないので、前記（イ）ｂの主張も採用できない。 （カ） したがって、申立人の前記（ア）、（イ）の主張はいずれも採用できない。 （３） 小括 よって、本件発明１～６及び８～１３は、甲第１号証に記載された発明に基づいて、又は、甲第１号証に記載された発明及び本件特許の優先日当時の技術常識（甲第２～３号証を引用）に基づいて、あるいは、甲第１号証に記載された発明及び甲第１～３号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものではないから、前記第４の１の特許異議の申立て理由及び第５の１の取消理由はいずれも理由がない。 ２ 特許法第３６条第６項第１号所定の規定違反（サポート要件違反）について （１） サポート要件の判断手法 特許請求の範囲の記載がサポート要件に適合するか否かは、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載とを対比し、特許請求の範囲に記載された発明が、発明の詳細な説明に記載された発明であって、発明の詳細な説明の記載により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否か、また、その記載や示唆がなくとも、当業者が本件特許の出願時の技術常識に照らして当該発明の課題を解決できる範囲のものであるか否かを検討して判断すべきものである。以下、この観点により検討する。 （２） 本件特許明細書の記載事項 本件特許明細書の発明の詳細な説明及び図面には、以下のア～エの記載がある。 ア 「【０００１】 本発明は、排ガス浄化触媒に関する。 【背景技術】 【０００２】 自動車エンジン等の内燃機関からの排ガス中には、窒素酸化物（ＮＯＸ）、一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）等が含まれる。これらの排ガスは、ＣＯ及びＨＣを酸化し、かつＮＯＸを還元する排ガス浄化触媒を含む、排ガス浄化触媒装置によって浄化したうえで、大気中に放出されている。 【０００３】 このうち、ＨＣについては、エンジン始動時等の触媒が暖まっていないコールド時には、ＨＣを触媒的に浄化することは困難である。そのため、排ガス浄化触媒装置にＨＣ吸着材を含有させて、コールド時にはＨＣを吸着させ、ホット時にはＨＣを徐放して、触媒的な浄化に供することが行われている。 【０００４】 例えば、特許文献１には、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比（ＳＡＲ）が２００未満のＢＥＡ型ゼオライトと、ＳＡＲが２００～１，０００のＢＥＡ型ゼオライトとを含む、炭化水素吸着材が提案されており、これを排ガス浄化触媒装置に含有させることにより、総炭化水素（ＴＨＣ）エミッションが低減されると説明されている。 【先行技術文献】 【特許文献】 【０００５】 【特許文献１】特開２００７－２７５８７７号公報 【発明の概要】 【発明が解決しようとする課題】 【０００６】 特許文献１に提案されているように、ＨＣ吸着材としてＢＥＡ型ゼオライトを用いることは、ＨＣエミッションの低減に有効であると考えられる。しかし、ＢＥＡ型ゼオライトは、合成時に構造欠陥ができ易い。ＢＥＡ型ゼオライトの構造欠陥では、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が切断されて、Ｓｉ－ＯＨ基が生成していると考えられる。このＳｉ－ＯＨ基は、水との親和性が強いため、構造欠陥を有するＢＥＡ型ゼオライトを排ガス浄化触媒として使用すると、Ｓｉ－ＯＨ基に水が吸着して細孔の一部が閉塞されて、所期のＨＣ吸着能が発現されない。 【０００７】 吸着水による細孔の閉塞は触媒が暖まると解消するが、コールド時には吸着水の影響が顕著に表れ、コールド領域におけるＨＣエミッションの低減を著しく阻害する。 【０００８】 本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものである。 【０００９】 本発明の目的は、構造欠陥が少なく、コールド時のＨＣ吸着能に優れ、コールド領域におけるＨＣエミッションを低減させ得る、排ガス浄化触媒を提供することである。」 イ 「【課題を解決するための手段】 【００１０】 本発明は、以下のとおりである。 【００１１】 《態様１》ＢＥＡ型ゼオライトを含む排ガス浄化触媒であって、 前記ＢＥＡ型ゼオライトのＦＴ―ＩＲ測定における、 ３，７３０ｃｍ－１以上３，７４０ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ１と、 ３，７２０ｃｍ－１以上３，７２５ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ２と、 １，９７８ｃｍ－１以上１，９８３ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ０と を用いて計算される、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０未満であり、かつ、 前記ＢＥＡ型ゼオライトのＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下である、 排ガス浄化触媒。 ・・・ 【発明の効果】 【００１２】 本発明の排ガス浄化触媒は、構造欠陥が少なく、コールド時のＨＣ吸着能に優れるので、コールド領域におけるＨＣエミッションを、効果的に低減させることができる。」 ウ 「【発明を実施するための形態】 ・・・ 【００１４】 本発明の排ガス浄化触媒に含まれるＢＥＡ型ゼオライトは、ＦＴ―ＩＲ測定における面積Ａ１と、面積Ａ２と、面積Ａ０とを用いて計算される、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０未満である。本発明の排ガス浄化触媒におけるＢＥＡ型ゼオライトは、この要件により、構造欠陥に伴うＳｉ－ＯＨ基の量が少ないＢＥＡ型ゼオライトであることが担保される。 【００１５】 また、本発明の排ガス浄化触媒に含まれるＢＥＡ型ゼオライトは、ＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下である。本発明の排ガス浄化触媒におけるＢＥＡ型ゼオライトは、この要件により、結晶構造が十分に維持されているＢＥＡ型ゼオライトであることが担保される。 【００１６】 本発明の排ガス浄化触媒に含まれるＢＥＡ型ゼオライトは、上記の２つの要件により、構造欠陥の少ないＢＥＡ型ゼオライトであることが担保されている。したがって、このようなＢＥＡ型ゼオライトを含む本発明の排ガス浄化触媒は、コールド時のＨＣ吸着能に優れており、これを排ガス浄化触媒装置に含有させると、コールド時のＨＣエミッションを効果的に低減することができる。 【００１７】 上述したように、本発明の排ガス浄化触媒に含まれるＢＥＡ型ゼオライトは、ＦＴ―ＩＲ測定における面積Ａ１と、面積Ａ２と、面積Ａ０とを用いて計算される、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０未満である。 【００１８】 ＢＥＡ型ゼオライトのＦＴ―ＩＲ測定において、３，７３０ｃｍ－１以上３，７４０ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークは、孤立Ｓｉ－ＯＨ結合の伸縮振動に由来すると考えられる。３，７２０ｃｍ－１以上３，７２５ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークは、水素結合したＳｉ－ＯＨ結合の伸縮振動に由来すると考えられる。また、１，９７８ｃｍ－１以上１，９８３ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークは、Ｓｉ－Ｏ結合の伸縮振動に由来すると考えられる。 【００１９】 したがって、ＢＥＡ型ゼオライトのＦＴ―ＩＲ測定における、各ピークのピーク面積比（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０未満であるとは、当該ＢＥＡ型ゼオライトが有するＳｉ－Ｏ結合に対するＳｉ－ＯＨ基の割合が少ないことを意味する。したがって、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０未満であるＢＥＡ型ゼオライトは、構造欠陥に伴うＳｉ－ＯＨ基の量が少ないから、コールド時であっても、Ｓｉ－ＯＨ基に吸着する吸着水の影響が少なく、所期のＨＣ吸着能を発現することができる。 【００２０】 ＢＥＡ型ゼオライトのＦＴ―ＩＲ測定における面積比（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値は、０．４８以下、０．４７以下、０．４７未満、０．４５以下、０．４０以下、又は０．３５以下であってもよい。しかしながら、この面積比（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値を必要以上に小さくしようとすると、調製時の焼成温度を高くする必要が生じ、ＢＥＡ型ゼオライトの結晶構造が破壊されて、ＨＣ吸着能が損なわれることが懸念される。この観点から、面積比（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値は、０．１０以上、０．１５以上、０．２０以上、０．２５以上、又は０．３０以上であってよい。 【００２１】 ＢＥＡ型ゼオライトのＦＴ―ＩＲ測定における、面積Ａ１、Ａ２、及びＡ０は、得られたＦＴ－ＩＲスペクトルに基づいて、後述の実施例に記載したピークフィッティングによって定量されてよい。 【００２２】 本発明の排ガス浄化触媒に含まれるＢＥＡ型ゼオライトは、ＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下である。ＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークは、ＢＥＡ型ゼオライトに特徴的なピークである。この回折ピークの半値全幅が０．３０°以下であるとは、本発明におけるＢＥＡ型ゼオライトが、ＢＥＡ型の結晶構造が十分に発達したゼオライトであることが担保される。 ・・・ 【００２４】 本発明の排ガス浄化触媒に含まれるＢＥＡ型ゼオライトのシリカ／アルミナ比（ＳＡＲ）は、合成の容易性を確保するため、２０以上であってよく、２５以上、３０以上、３５以上、又は４０以上であってもよい。ＢＥＡ型ゼオライトのＳＡＲは、ＨＣの吸着能を高くする観点から、１００以下、８０以下、６０以下、又は５０以下であってよい。このＳＡＲは、シリカ（ＳｉＯ２）／アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）のモル比として定義される値である。 ・・・ 【００２９】 《排ガス浄化触媒の製造方法》 本発明の排ガス浄化触媒は、上述の特性を有する限り、どのような方法によって製造されてもよい。 【００３０】 本発明の排ガス浄化触媒は、例えば、 ＦＴ―ＩＲ測定における上述のピーク面積比（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０以上であり、かつ、 ＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下である、 ＢＥＡ型ゼオライト（原料ゼオライト）を、６５０℃以上９００℃以下の温度で焼成することを含む、 方法によって製造されてよい。 【００３１】 上記のような原料ゼオライトは、ＢＥＡ型ゼオライトの結晶構造を有するが、構造欠陥が比較的多く、したがって、Ｓｉ－ＯＨ基の含有量が多いゼオライトである。この原料ゼオライトを６５０℃以上で焼成することにより、Ｓｉ－ＯＨ基の脱水が起こり、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が生成して構造欠陥が修復される。一方、原料ゼオライトの焼成温度を９００℃以下に留めることにより、ＢＥＡ型ゼオライトの結晶構造の熱による破壊が回避される。原料ゼオライトの焼成温度は、６７０℃以上、７００℃以上、７２０℃以上、又は７５０℃以上であってよく、８８０℃以下、８５０℃以下、８３０℃以下、又は８００℃以下であってよい。 【００３２】 原料ゼオライトの焼成温度は、典型的には、例えば、７００℃以上８００℃以下であってよい。 【００３３】 原料ゼオライトを焼成するとき、周囲雰囲気中の水分が少ない方が、原料ゼオライトの有するＳｉ－ＯＨ基の脱水がスムースに進む点で、好適である。この観点から、焼成のときの雰囲気中の、焼成温度における水分量は、１０．０体積％以下、５．００体積％以下、３．００体積％以下、１．００体積％以下、０．９０体積％以下、０．８０体積％以下、０．６０体積％以下、０．４０体積％以下、若しくは０．２０体積％以下であってよく、又は０体積％であってよい。 【００３４】 原料ゼオライトの焼成時間は、１０分以上、・・・であってよく、１，５００分以下、・・・であってよい。」 エ 「【実施例】 【００４９】 《実施例１～９及び比較例１～５》 実施例１～９及び比較例１～５では、ゼオライトのＳｉＯＨ量、ＢＥＡ型ゼオライト由来の回折ピークの半値全幅、及び水共存下のデカン吸着量が、焼成条件によってどう変わるかを調べた。ゼオライトのＳｉＯＨ量、及び回折ピークの半値全幅は、それぞれ、以下のようにして測定した。 【００５０】 １．ゼオライトのＳｉＯＨ量 ゼオライトのＳｉＯＨ量は、ＦＴ－ＩＲを用い、ＪＩＳ Ｋ０１１７：２０１７（赤外分光分析通則）に準拠して、以下の手順によって測定した。 各実施例又は比較例で得られたゼオライト試料を乳鉢で粉砕した。粉砕物１０ｍｇを１０ＭＰａの圧力下で圧縮成形して、直径１０ｍｍのディスク試料を作製した。得られたディスク試料のＦＴ－ＩＲ測定を、下記の条件にて行った。 測定装置：日本分光（株）製、フーリエ変換赤外分光光度計、「ＦＴ／ＩＲ－６６００」 測定法：透過法 測定波長範囲：４，０００～１，０００ｃｍ－１ 分解能：４ｃｍ－１ 検出器：ミッドバンド テルル化カドミウム水銀（ＭＣＴ）検出器 積算回数：６４回 測定温度：５００℃ 測定雰囲気：１０体積％－Ｏ２／Ｎ２流通下 【００５１】 ゼオライトのスペクトルについては、上記のディスク試料を測定装置の試料室に装填し、１０体積％－Ｏ２／Ｎ２流通下、室温から２０℃／分の昇温速度で５００℃まで昇温し、５００℃の温度において１０分間保持した後、測定を行った。 【００５２】 バックグラウンドスペクトルについては、ディスク試料の代わりに空セルを試料室に装填した他は、ゼオライトのスペクトルと同様にして測定を行った。 【００５３】 得られたゼオライトのＦＴ－ＩＲスペクトルは、日本分光（株）製の解析ソフトウエア、「ＪＡＳＣＯスペクトルマネージャ Ｖｅｒ．２」を用いて、試料のスペクトルからバックグラウンドのスペクトルを減じたうえで、以下のように解析を行った。 【００５４】 （１）ＳｉＯＨ由来ピーク面積（Ａ１、Ａ２）の算出 波数４，０００ｃｍ－１における吸光度と波数３，０００ｃｍ－１における吸光度とを直線で結ぶ２点間補正により、ベースラインを設定した。波数３，９００～３，５００ｃｍ－１の範囲のスペックトルにつき、表１に記載のピーク番号１～５のピークにてフィッティングを行った。そして、ピーク番号１のピークの面積Ａ１、及びピーク番号２のピークの面積Ａ２を、それぞれ、ゼオライト外表面のＳｉＯＨ量、及びゼオライト内表面のＳｉＯＨ量と定義した。このフィッティングは、非特許文献「Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｔｏｄａｙ：Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ４２（２０２１）ｐｐ２１１－２１６」を参考にして行った。 【００５５】 【表１】 ［図：0001427953000005.jpg］ 【００５６】 （２）ＳｉＯ由来ピーク面積Ａ０の算出 波数２，１２０ｃｍ－１における吸光度による１点補正により、ベースラインを設定した。波数２，０００～１，５００ｃｍ－１の範囲のスペックトルにつき、表２に記載のピーク番号１～３のピークにてフィッティングを行った。そして、ピーク番号１のピークの面積Ａ０をゼオライトのＳｉＯ量と定義した。このフィッティングは、非特許文献「Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ Ａ：Ｇｅｎｅｒａｌ ２００（２０００）ｐｐ１２５－１３４」を参考にして行った。 【００５７】 【表２】 ［図：0001427953000006.jpg］ 【００５８】 （３）ゼオライト試料に含まれるＳｉＯＨ量の算出 ゼオライトの骨格（ＳｉＯ）に含まれるＳｉＯＨ量（外表面ＳｉＯＨ量及び内表面ＳｉＯＨ量の合計）を、下記数式によって算出した。 ＳｉＯＨ量＝（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０ 【００５９】 ２．ＢＥＡ型ゼオライト由来の回折ピークの半値全幅 ＢＥＡ型ゼオライト由来の回折ピークの半値全幅は、ＪＩＳ Ｋ０１３１：１９９６（Ｘ線回折分析通則）に準拠して、下記の条件にて測定したＸ線回折（ＸＲＤ）の結果から、後述の手法によって求めた。 測定装置：（株）リガク製、Ｘ旋回折装置、「ＲＩＮＴ－ＴＴＲ ＩＩＩ」 走査軸：２θ／θ 線源：ＣｕＫα 測定方式：連続式 電圧：４０ｋＶ 電流：２５０ｍＡ 測定範囲：２θ＝５～８５° サンプリング幅：０．０２° スキャン速度：８．００°／分 発散スリット：１° 発散縦制限スリット：１０ｍｍ 散乱スリット：８ｍｍ 受光スリット：１３ｍｍ 【００６０】 得られたＸＲＤパターンについて、（株）リガク製の統合粉末Ｘ線解析ソフトウエア、「ＰＤＸＬ２」を用い、下記の条件でデータ処理を行った。 データ処理モード：自動 ピークサーチ条件 σカット値：３．００ σカット範囲：０．５０～２０．００ 【００６１】 得られたピークのうち、ピークトップが２θ＝２２．５±０．１°のピークをＢＥＡ型ゼオライト由来の回折ピークとして、その半値全幅を算出した。 【００６２】 ３．水共存下のデカン吸着量 各実施例又は比較例で得られたゼオライト試料について、水共存下のデカン吸着量を、以下の手順により調べた。 【００６３】 ゼオライト試料を乳鉢で粉砕した。粉砕物３．０ｇを２６ＭＰａの圧力下で１分間圧縮成形して、直径３５ｍｍのディスク試料を作製した。得られたディスク試料を乳鉢で粗く粉砕した後、分級して、０．５～１．０ｍｍサイズのペレット試料を得た。 【００６４】 ペレット試料を乾燥機中で２５０℃、３０分間静置して、乾燥したペレット試料を得た。乾燥質量０．５ｇのペレット試料を吸着装置（（株）堀場製作所製の触媒評価装置「ＳＩＧＵ－１０００」）に装填して、１０体積％－Ｏ２／Ｎ２流通下で室温から２５℃／分の昇温速度で５００℃まで昇温して、５００℃で１０分間保持した。これにより、ゼオライト試料の細孔内に残存する炭化水素類及び水を除去する前処理を行った。試料温度を１００℃まで降温した後、吸着装置に下記組成のデカン含有モデルガスを流量５Ｌ／分にて１５分間流通させて、ゼオライト試料にデカンを吸着させた。このときのガス濃度は、（株）堀場製作所のＦＴＩＲ法エンジン排ガス測定装置「ＭＥＸＡ－ＯＮＥ－ＦＴ」を用いて測定した。 デカン：３，０００ｐｐｍ－Ｃ（炭素質量換算で３，０００ｐｐｍ） 水：３体積％ 窒素：バランス 【００６５】 デカン含有モデルガスを１５分間流通させた後、流通ガスを窒素１００％に切り替えて、１００℃にて５分間保持した。その後、窒素の流通を維持したまま、２０℃／分の昇温速度で試料温度を５５０℃まで昇温して、ゼオライト試料からデカンを脱離させた。この脱離デカンの積算量を、水共存下のデカン吸着量（ｍｇ／ｇ－ゼオライト）とした。 【００６６】 〈実施例１〉 原料として市販のＢＥＡ型ゼオライト（東ソー（株）製、ハイシリカゼオライト「ＨＳＺ－９４０ＨＯＡ」ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３（ＳＡＲ）＝４０）を用い、これを、大気圧下、７００℃において、３００分間焼成した。この焼成は、電気炉を用いて、大気圧下、室温から２５℃／分の昇温速度で目的温度（７００℃）まで昇温し、目的温度において３００分間保持することによって行った。その後、電気炉のヒーターを消し、電気炉中で試料を室温まで放冷した。目的温度（７００℃）における焼成雰囲気のＨ２Ｏ濃度は、０．９０体積％であった。 【００６７】 得られた焼成後のゼオライトについて、上述の測定を行った。結果を表３示す。 【００６８】 〈実施例２～９及び比較例１～５〉 焼成条件を表３に記載のとおりに変更した他は、実施例１と同様に焼成を行って、それぞれ、ゼオライト試料を得た。得られたゼオライト試料について、上記の各種の測定を行った。 ・・・ 【００７１】 結果を表３に示す。 【００７２】 【表３】 ［図：0001427953000007.jpg］ 【００７３】 表３から、以下のことが理解される。 【００７４】 原料ＢＥＡ型ゼオライトを焼成しない比較例１、並びに焼成温度が６５０℃未満である比較例２及び３の試料は、ＸＲＤにおける２θ＝２２．５±０．１°のピークの半値全幅が０．３０以下であり、ＢＥＡ型ゼオライトの結晶構造は維持されていたが、ＳｉＯＨ量が０．５０以上と多かった。これらの試料についての、水存在下のデカン吸着量は、低い値であった。 【００７５】 一方、原料ＢＥＡ型ゼオライトの焼成温度が９００℃を超える、比較例４及び５の試料は、ＳｉＯＨ量は０．５０未満であり、低かったが、ＸＲＤにおける２θ＝２２．５±０．１°のピークの半値全幅が０．３０超であるか、又は２θ＝２２．５±０．１°のピークが検出されず、ＢＥＡ型ゼオライトの結晶構造が破壊されていることが示唆された。これらの試料についての、水存在下のデカン吸着量は極めて低い値であった。これは、ＢＥＡ型ゼオライトの細孔構造が破壊されたことにより、デカンの吸着ができなくなったためであると考えられる。 【００７６】 これらに対して、原料ＢＥＡ型ゼオライトの焼成温度が６５０～９００℃である実施例１～９の試料は、ＸＲＤにおける２θ＝２２．５±０．１°のピークの半値全幅が０．２９未満であり、ＢＥＡ型ゼオライトの結晶構造は維持されており、かつ、ＳｉＯＨ量は０．５０未満であり、低かった。これらの試料についての、水存在下のデカン吸着量は、高い値を示した。また、実施例２～８の比較から、焼成温度が同じである場合、焼成時の雰囲気中の水分量（Ｈ２Ｏ濃度）が少ないほど、水存在下のデカン吸着量が多くなる傾向が見られた。 【００７７】 《実車評価》 実施例２及び７、並びに比較例１それぞれ得られたゼオライト試料を用いて、実車評価におけるＨＣエミッション量を調べ、本発明の排ガス浄化触媒を含む排ガス浄化触媒システムの効果を検証した。 【００７８】 排ガス浄化触媒システムは、 コージェライト製のストレート型ハニカム基材上に、Ｐｄを含む触媒コート層（下層）及びＲｈを含む触媒コート層（上層）をこの順に形成したスタートアップ触媒装置と、 上記と同じハニカム基材上に、実施例２若しくは７、又は比較例１のゼオライト試料を含む触媒コート層（下層）、Ｐｄを含む触媒コート層（中間層）、及びＲｈを含む触媒コート層（上層）をこの順に形成したアンダーフロア触媒装置と から成る。 【００７９】 また、比較例６として、 上記のスタートアップ触媒装置と、 ハニカム基材上に、Ｐｄを含む触媒コート層（下層）、及びＲｈを含む触媒コート層（上層）をこの順に形成したアンダーフロア触媒装置と から成る排ガス浄化触媒システムを用いて、実車評価を行った。 【００８０】 上記の各排ガス浄化触媒システムを、排気量１，５００ｃｃのガソリンエンジン車両に搭載し、アンダーフロア触媒装置の出側に全炭化水素（ＴＨＣ）濃度測定装置を装着した。シャシダイナモメータ上で、ＷＬＴＣモードにしたがってこの車両を運転し、ＬＯＷフェーズ（ＷＬＴＣモードの０～６００秒）におけるＴＨＣの積算排出量を求め、これをコールド領域のＨＣエミッション量（ｍｇ／ｋｍ）とした。結果を表４に示す。 【００８１】 ［図：0001427953000008.jpg］ 【００８２】 ゼオライトを含む触媒コート層を有さないアンダーフロア触媒装置を用いた、比較例６の排ガス浄化触媒システムのコールド領域のＨＣエミッションは、１６．８１ｍｇ／ｋｍであった。 【００８３】 一方、本発明の規定を満たさない比較例１のゼオライトを含む触媒コート層を有するアンダーフロア触媒装置を用いた排ガス浄化触媒システムのＨＣエミッションは、１４．１６ｍｇ／ｋｍであった。すなわち、比較例１の排ガス浄化触媒システムのアンダーフロア触媒装置によるＨＣエミッションの低減量は、比較例６のアンダーフロア触媒装置に比べて、２．６５ｍｇ／ｋｍ改善されている（１６．８１－１４．１６＝２．６５（ｍｇ／ｋｍ））。 【００８４】 これに対して、本発明の規定を満たす実施例２及び７のゼオライトを含む触媒コート層を有するアンダーフロア触媒装置を用いた排ガス浄化触媒システムのＨＣエミッションは、実施例２では１３．００ｍｇ／ｋｍであり、実施例７では１３．２６ｍｇ／ｋｍであった。すなわち、比較例６のアンダーフロア触媒装置に比べて、 実施例２のゼオライトを含む触媒コート層を有するアンダーフロア触媒装置によるＨＣエミッションの低減量は、３．８１ｍｇ／ｋｍ（＝１６．８１－１３．００＝３．８１（ｍｇ／ｋｍ））であり、 実施例７のゼオライトを含む触媒コート層を有するアンダーフロア触媒装置によるＨＣエミッションの低減量は、３．５５ｍｇ／ｋｍ（＝１６．８１－１３．２６＝３．５５（ｍｇ／ｋｍ））であった。 【００８５】 したがって、本発明の規定を満たす実施例２及び７のゼオライトを用いることにより、本発明の規定を満たさない比較例１のゼオライトを用いる場合と比較して、ＨＣエミッションが大きく改善されたことが分かる。ＨＣエミッションの改善率は、 実施例２では、４３．８％（｛３．８１－２．６５）／２．６５｝×１００＝４３．８（％））であり、 実施例７では、３４．０％（｛３．５５－２．６５）／２．６５｝×１００＝３４．０（％））であった。 【００８６】 表４の結果により、本発明の排ガス浄化触媒を含む排ガス浄化触媒システムは、コールド領域のＨＣエミッション量の低減に有効であることが検証された。」 （３） サポート要件の判断 ア 前記（２）アの記載によれば、本件発明は、「排ガス浄化触媒」に関するものであって、自動車エンジン等の内燃機関からの排ガス中には、窒素酸化物（ＮＯＸ）、一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）等が含まれ、これらの排ガスは、ＣＯ及びＨＣを酸化し、かつＮＯＸを還元する「排ガス浄化触媒」を含む、排ガス浄化触媒装置によって浄化したうえで、大気中に放出されているのであるが、このうち、ＨＣについては、エンジン始動時等の触媒が暖まっていないコールド時には、ＨＣを触媒的に浄化することは困難であるため、排ガス浄化触媒装置にＨＣ吸着材を含有させて、コールド時にはＨＣを吸着させ、ホット時にはＨＣを徐放して、触媒的な浄化に供することが行われているものである。 そして、従来、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比（ＳＡＲ）が２００未満のＢＥＡ型ゼオライトと、ＳＡＲが２００～１，０００のＢＥＡ型ゼオライトとを含む、炭化水素吸着材が提案されており、これを排ガス浄化触媒装置に含有させることにより、総炭化水素（ＴＨＣ）エミッションが低減されると説明されており、ＨＣ吸着材としてＢＥＡ型ゼオライトを用いることは、ＨＣエミッションの低減に有効であると考えられるものである。 ところが、ＢＥＡ型ゼオライトは、合成時に構造欠陥ができ易く、ＢＥＡ型ゼオライトの構造欠陥では、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が切断されて、Ｓｉ－ＯＨ基が生成していると考えられ、このＳｉ－ＯＨ基は、水との親和性が強いため、構造欠陥を有するＢＥＡ型ゼオライトを「排ガス浄化触媒」として使用すると、Ｓｉ－ＯＨ基に水が吸着して細孔の一部が閉塞されて、所期のＨＣ吸着能が発現されないのであり、そのような吸着水による細孔の閉塞は触媒が暖まると解消するが、コールド時には吸着水の影響が顕著に表れ、コールド領域におけるＨＣエミッションの低減を著しく阻害することから、本件発明は、構造欠陥が少なく、コールド時のＨＣ吸着能に優れ、コールド領域におけるＨＣエミッションを低減させ得る、「排ガス浄化触媒」を提供することを目的とするものである（段落【０００１】～【０００９】）。 そして、前記（２）イの記載によれば、本件発明は、ＢＥＡ型ゼオライトを含む「排ガス浄化触媒」であって、前記ＢＥＡ型ゼオライトのＦＴ―ＩＲ測定における、３，７３０ｃｍ－１以上３，７４０ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ１と、３，７２０ｃｍ－１以上３，７２５ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ２と、１，９７８ｃｍ－１以上１，９８３ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ０とを用いて計算される、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０未満であり、かつ、前記ＢＥＡ型ゼオライトのＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下である、「排ガス浄化触媒」に係るものであり、そのような「排ガス浄化触媒」は、構造欠陥が少なく、コールド時のＨＣ吸着能に優れるので、コールド領域におけるＨＣエミッションを、効果的に低減させることができるものである（段落【００１０】～【００１２】）。 具体的には、前記（１）ウの記載によれば、本件発明に係る「排ガス浄化触媒」に含まれるＢＥＡ型ゼオライトは、ＦＴ―ＩＲ測定における面積Ａ１と、面積Ａ２と、面積Ａ０とを用いて計算される、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０未満であり、前記ＢＥＡ型ゼオライトは、この要件により、構造欠陥に伴うＳｉ－ＯＨ基の量が少ないＢＥＡ型ゼオライトであることが担保されるものであり、また、前記ＢＥＡ型ゼオライトは、ＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下であり、前記ＢＥＡ型ゼオライトは、この要件により、結晶構造が十分に維持されているＢＥＡ型ゼオライトであることが担保されるものであり、前記ＢＥＡ型ゼオライトは、前記の２つの要件により、構造欠陥の少ないＢＥＡ型ゼオライトであることが担保されているものであり、このようなＢＥＡ型ゼオライトを含む本発明に係る「排ガス浄化触媒」は、コールド時のＨＣ吸着能に優れており、これを排ガス浄化触媒装置に含有させると、コールド時のＨＣエミッションを効果的に低減することができるものである（段落【００１４】～【００１６】）。 ここで、ＢＥＡ型ゼオライトのＦＴ―ＩＲ測定において、３，７３０ｃｍ－１以上３，７４０ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークは、孤立Ｓｉ－ＯＨ結合の伸縮振動に由来すると考えられ、３，７２０ｃｍ－１以上３，７２５ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークは、水素結合したＳｉ－ＯＨ結合の伸縮振動に由来すると考えられ、また、１，９７８ｃｍ－１以上１，９８３ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークは、Ｓｉ－Ｏ結合の伸縮振動に由来すると考えられることから、ＢＥＡ型ゼオライトのＦＴ―ＩＲ測定における、各ピークのピーク面積比（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０未満であるとは、当該ＢＥＡ型ゼオライトが有するＳｉ－Ｏ結合に対するＳｉ－ＯＨ基の割合が少ないことを意味するので、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０未満であるＢＥＡ型ゼオライトは、構造欠陥に伴うＳｉ－ＯＨ基の量が少ないことから、コールド時であっても、Ｓｉ－ＯＨ基に吸着する吸着水の影響が少なく、所期のＨＣ吸着能を発現することができるものである（段落【００１８】～【００１９】）。 また、前記ＢＥＡ型ゼオライトの、ＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下であることで、前記ＢＥＡ型ゼオライトが、ＢＥＡ型の結晶構造が十分に発達したゼオライトであることが担保されるものである（段落【００２２】）。 イ 前記アによれば、本件発明は、自動車エンジン等の内燃機関からの排ガスを、ＣＯ及びＨＣを酸化し、かつＮＯＸを還元する「排ガス浄化触媒」を含む排ガス浄化触媒装置によって浄化するにあたって、エンジン始動時等の触媒が暖まっていないコールド時に、ＨＣ吸着材として、ＨＣエミッションの低減に有効であると考えられるＢＥＡ型ゼオライトを用いる場合、前記ＢＥＡ型ゼオライトは、合成時に構造欠陥ができ易く、ＢＥＡ型ゼオライトの構造欠陥では、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が切断されて、Ｓｉ－ＯＨ基が生成していると考えられ、このＳｉ－ＯＨ基は、水との親和性が強いため、構造欠陥を有するＢＥＡ型ゼオライトを排ガス浄化触媒として使用すると、Ｓｉ－ＯＨ基に水が吸着して細孔の一部が閉塞されて、所期のＨＣ吸着能が発現されない、という課題や、そのような吸着水による細孔の閉塞は、コールド時には吸着水の影響が顕著に表れ、コールド領域におけるＨＣエミッションの低減を著しく阻害する、という課題（以下、「本件課題」という。）を解決するものである。 そして、本件発明は、ＢＥＡ型ゼオライトを含む「排ガス浄化触媒」において、前記ＢＥＡ型ゼオライトのＦＴ―ＩＲ測定における、３，７３０ｃｍ－１以上３，７４０ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ１と、３，７２０ｃｍ－１以上３，７２５ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ２と、１，９７８ｃｍ－１以上１，９８３ｃｍ－１以下にピークトップがあるピークの面積Ａ０とを用いて計算される、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値を０．５０未満とし、かつ、前記ＢＥＡ型ゼオライトのＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅を０．３０°以下とすることで、構造欠陥が少なく、コールド時のＨＣ吸着能に優れるものとなり、コールド領域におけるＨＣエミッションを効果的に低減させることができるものとなって、本件課題を解決できるものである。 ウ 更に、このことは、前記（２）エの実施例の記載からも裏付けられるものである。 すなわち、前記（２）エの実施例の記載（段落【００７２】【表３】）によれば、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４５（実施例１）以下である実施例１～７の水共存下のデカン吸着量は、９４．９９ｍｇ／ｇ（実施例１）～９９．６１ｍｇ／ｇ（実施例２）であり、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４７である実施例８や、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０～０．５１である比較例１～３の水共存下のデカン吸着量である８７．４６ｍｇ／ｇ（比較例３）～９３．２０ｍｇ／ｇ（実施例８）よりも多くなることが看取されるものである。 そして、これらの実施例及び比較例は、ＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が、０．２０°（比較例２）～０．２３°（実施例２～６）の範囲に収まり、大きく異なるものではないことと、デカンがＨＣであることからみれば、本件発明においては、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値を０．４５以下とすることで、ＨＣの吸着量を増やすことができることが開示されているといえ、ＨＣの吸着量が増えれば、コールド領域におけるＨＣエミッションを低減できることが推認されるものである。 そうすると、本件発明においては、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値を０．４５以下とすることで、コールド領域におけるＨＣエミッションを低減でき、本件課題を解決できるものといえる。 また、２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．２８°、Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．３０である実施例９は、水共存下のデカン吸着量が９０．１１ｍｇ／ｇであるのに対して、２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．４０°と大きい比較例４は、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．１１とより小さく、ＨＣ吸着を阻害するＳｉ－ＯＨ基の量もより少ないことが推認されるにもかかわらず、水共存下のデカン吸着量が０．８５ｍｇ／ｇと大幅に少なくなっているから、本件発明においては、２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅を０．３０°以下とすることで、ＨＣの吸着量を増やすことができることが開示されているといえ、ＨＣの吸着量が増えれば、コールド領域におけるＨＣエミッションを低減できることが推認されるものである。 そうすると、本件発明においては、２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅を０．３０°以下とすることで、コールド領域におけるＨＣエミッションを低減でき、本件課題を解決できるものといえる。 これらのことからみれば、本件発明において、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値を０．４５以下とし、かつ、２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅を０．３０°以下とすることで、コールド領域におけるＨＣエミッションを低減でき、本件課題を解決できることは、前記（２）エの実施例の記載からも裏付けられるものである。 エ 前記イ及びウによれば、本件特許明細書の記載に接した当業者は、ＢＥＡ型ゼオライトを含む「排ガス浄化触媒」において、前記ＢＥＡ型ゼオライトの前記（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値を０．５０未満、特に０．４５以下とし、かつ、前記ＢＥＡ型ゼオライトのＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅を０．３０°以下とすることで、本件課題を解決できることを理解することができる。 そして、本件発明１は、前記ＢＥＡ型ゼオライトの前記（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値を０．４５以下とし、かつ、前記ＢＥＡ型ゼオライトのＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅を０．３０°以下とすることを満たすから、その発明特定事項により本件課題を解決できるものであり、このことを前記（１）の判断手法に当てはめてみれば、本件特許請求の範囲の記載はサポート要件に適合する。 更に、本件発明１と同様に、前記ＢＥＡ型ゼオライトの前記（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値を０．４５以下とし、かつ、前記ＢＥＡ型ゼオライトのＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅を０．３０°以下とすることを満たす本件発明２～６、８～１３について検討しても、事情は同じである。 （４） 申立人の主張について ア 始めに、前記第４の２（１）の主張について検討するが、サポート要件に関する判断は、前記（１）に記載した判断手法に従って判断するものである。そして、前記（３）イによれば、本件発明は、自動車エンジン等の内燃機関からの排ガスを、ＣＯ及びＨＣを酸化し、かつＮＯＸを還元する「排ガス浄化触媒」を含む、排ガス浄化触媒装置によって浄化することを前提として、コールド領域におけるＨＣエミッションの低減に関する本件課題を解決しようとするものといえる。 そうすると、本件発明は、そもそも、ＣＯの酸化やＮＯＸの還元に関する課題を解決するものではないから、本件特許明細書において、窒素酸化物を還元する還元性能や、一酸化炭素を二酸化炭素に酸化する酸化性能を評価する試験が行われていないとしても、また、コールド時の炭化水素吸着性能が、窒素酸化物を還元する還元性能や、一酸化炭素を二酸化炭素に酸化する酸化性能と直接的な相関性がないとしても、このことから、本件発明により本件課題を解決できないということはできない。 そして、本件発明１の発明特定事項により本件課題を解決できることは、前記（３）エに記載したとおりであるから、本件特許明細書の記載を本件発明１に係る「排ガス浄化触媒」まで拡張ないし一般化することができないとはいえない。 更に、本件発明２～６、８～１３について検討しても事情は同じであるから、前記第４の２（１）の主張は採用できない。 イ 次に、前記第４の２（２）の主張について検討すると、本件発明は、自動車エンジン等の内燃機関からの排ガスを、ＣＯ及びＨＣを酸化し、かつＮＯＸを還元する「排ガス浄化触媒」を含む、排ガス浄化触媒装置によって浄化することを前提として、コールド領域におけるＨＣエミッションの低減に関する本件課題を解決しようとするものといえることは、前記アに記載したとおりである。 してみれば、当業者は、本件発明に係る「排ガス浄化触媒」は、ＢＥＡ型ゼオライト以外に、ＣＯ及びＨＣを酸化し、かつＮＯＸを還元して浄化する際に通常用いられる物質を有するものであり、ＢＥＡ型ゼオライトのみからなる「排ガス浄化触媒」は包含しないと理解するから、本件特許明細書の発明の詳細な説明において、ＢＥＡ型ゼオライトのみからなる「排ガス浄化触媒」によって、コールド領域におけるＨＣエミッションを低減できることが実証されていないとしても、本件特許明細書の記載を本件発明１に係る「排ガス浄化触媒」まで拡張ないし一般化することができないとはいえない。 更に、本件発明２～６、８～１３について検討しても事情は同じであるから、前記第４の２（２）の主張も採用できない。 ウ 次に、前記第４の２（３）の主張について検討すると、本件発明１は、その発明特定事項により本件課題を解決できるものであることは、前記（３）エに記載したとおりである。 また、本件特許明細書の段落【００１８】～【００１９】、【００２２】の記載（前記（２）ウ）からみれば、当業者は、シリカ／アルミナ比に関わらず、前記ＢＥＡ型ゼオライトの前記（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値を０．５０未満とし、かつ、前記ＢＥＡ型ゼオライトのＸＲＤ測定における２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅を０．３０°以下とすることで、ゼオライトの構造欠陥が少なくなり、結晶構造が発達するものとなり、コールド領域におけるＨＣエミッションが低減されて、本件課題を解決できることを理解できる。 そうすると、本件特許請求の範囲においてシリカ／アルミナ比が特定されておらず、本件特許明細書の発明の詳細な説明において、シリカ／アルミナ比が４０以外のＢＥＡ型ゼオライトで炭化水素の排出を確認していないとしても、また、ＢＥＡ型ゼオライトのシリカ／アルミナ比がＨＣ吸着能に影響することが本件特許の出願時における技術常識であるとしても、本件発明１の発明特定事項により本件課題を解決できることに変わりはないから、本件特許明細書の記載を本件発明１に係る「排ガス浄化触媒」まで拡張ないし一般化することができないとはいえない。 更に、本件発明２～６、８～１３について検討しても事情は同じであるから、前記第４の２（３）の主張も採用できない。 エ 最後に、前記第４の２（４）の主張について検討すると、本件発明において、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値を０．４５以下とし、かつ、２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅を０．３０°以下とすることで本件課題を解決できることは、前記（２）エの実施例の記載からも裏付けられることは、前記（３）ウに記載したとおりであるから、本件特許明細書において炭化水素排出量を確認しているのが（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．３３である実施例２と、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４１である実施例７だけであり、そうでないＢＥＡ型ゼオライトの炭化水素排出量を確認していないとしても、また、本件特許明細書の段落【００１８】～【００１９】（前記（２）ウ）の記載が全て推測にすぎないとしても、本件発明１の発明特定事項により本件課題を解決できることに変わりはないので、本件特許明細書の記載を本件発明１に係る「排ガス浄化触媒」まで拡張ないし一般化することができないとはいえない。 更に、本件発明２～６、８～１３について検討しても事情は同じであるから、前記第４の２（４）の主張も採用できない。 オ したがって、申立人の前記第４の２の主張はいずれも採用できない。 （５） 小括 よって、本件特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第１号所定の規定に適合するから、前記第４の２の特許異議の申立て理由は理由がない。 ３ 特許法第３６条第６項第２号所定の規定違反（明確性要件違反）について （１） 明確性要件の判断手法 特許請求の範囲の記載が明確性要件に適合するか否かは、特許請求の範囲の記載だけでなく、願書に添付した明細書の記載及び図面を考慮し、また、当業者の出願当時における技術常識を基礎として、特許請求の範囲の記載が、第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるか否かという観点から判断されるべきであるので、以下、この観点に立って検討する。 （２） 明確性要件の判断 ア 始めに、前記第４の３（１）の主張について検討すると、本件発明５は、「排ガス浄化触媒の製造方法」が、「前記（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０以上であり、かつ、前記２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下である、ＢＥＡ型ゼオライトを、６５０℃以上９００℃以下の温度で焼成することを含み、前記焼成のときの雰囲気中の、焼成の温度における水分量が、１．００体積％以下である」ことが理解できるから、そもそも、その発明特定事項が第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるものではない。 また、前記主張は、本件発明５に係る「排ガス浄化触媒の製造方法」が、「（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．５０以上であり、かつ、２θ＝２２．５±０．１°の回折ピークの半値全幅が０．３０°以下であるＢＥＡ型ゼオライト」を「６５０℃以上９００℃以下の温度で焼成」しさえすれば、本件発明５の発明特定事項を満たす「排ガス浄化触媒」を製造できると解されることを前提としたものといえる。 ところが、本件発明５に係る「排ガス浄化触媒の製造方法」は、「６５０℃以上９００℃以下の温度で焼成」する、との発明特定事項に加えて、「前記焼成のときの雰囲気中の、焼成の温度における水分量が、１．００体積％以下である」、との発明特定事項を有するものであるし、本件発明における「ＢＥＡ型ゼオライト」は、原料ゼオライトの焼成温度のみならず、ほかに、当該焼成温度における雰囲気中の水分量を適切なものとすることで得られると解されるのであり、原料ゼオライトを単に６５０℃以上９００℃以下で焼成すれば得られるものとはいえないことは、前記１（２）ウ（ウ）に記載したとおりであるから、前記第４の３（１）の主張は、前提において誤っている。 更に、本件特許明細書の実施例８において、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４７未満であるＢＥＡ型ゼオライトが得られていないとしても、本件発明５の発明特定事項との間で記載が整合していないわけではないから、本件発明５の発明特定事項が第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるとはいえない。 そして、このことを前記（１）の判断手法に当てはめてみれば、本件特許請求の範囲の記載は明確性要件に適合する。 更に、本件発明６について検討しても事情は同じであるから、前記第４の３（１）の主張は採用できない。 イ 次に、前記第４の３（２）の主張及び前記第５の２の取消理由について検討すると、本件発明９は、「請求項１～４のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒を含む、排ガス浄化触媒装置。」に係る発明であるから、本件発明９の発明特定事項が第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるとはいえない。 そして、このことを前記（１）の判断手法に当てはめてみれば、本件特許請求の範囲の記載は明確性要件に適合する。 更に、本件発明１０～１３について検討しても事情は同じであるから、前記第４の３（２）の主張も採用できないし、前記第５の２の取消理由は理由がない。 （３） 小括 よって、本件特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第２号所定の規定に適合するから、前記第４の３の特許異議の申立て理由及び前記第５の２の取消理由は、いずれも理由がない。 ４ 特許法第３６条第４項第１号所定の規定違反（実施可能要件違反）について 申立人は、申立人意見書において、更に、本件特許明細書の発明の詳細な説明の記載は実施可能要件を満たさない旨を主張している。 前記主張は、もともと、特許異議申立書に記載されたものではなく、実質的に新たな内容のものであるから、検討の必要がないが、以下、念のために検討しておく。 （１） 申立人の主張の概要 申立人意見書における実施可能要件に関する申立人の主張は、概略、以下のとおりである。 ア 本件発明１においては、ＢＥＡ型ゼオライトの（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の下限値が特定されていないのに対して、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０が最も小さい実施例は、実施例９の０．３０であり、本件特許明細書の【表３】（前記２（２）エ）の記載からみれば、実施例９の焼成条件を、Ｈ２Ｏ濃度０．００体積％としたとしても、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０は０．２２にしかならない蓋然性が高い。 すると、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０が０．２２未満のＢＥＡ型ゼオライトを製造するには、過度の試行錯誤を要するので、本件特許明細書の記載は実施可能要件を満たさない（９ページ１７行～１１ページ下から４行）。 イ 本件発明１においては、ＢＥＡ型ゼオライトのＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が特定されていないから、本件発明１は、実施例で製造されたＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が４０のＢＥＡ型ゼオライトよりも、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が大幅に大きいＢＥＡ型ゼオライトも包含されるものと解される。 ここで、甲第６号証には、Ｓｉ／Ａｌモル比が１４から２３に変化することで、赤外線スペクトルにおけるシラノールに帰属するピーク強度（２１５８ｃｍ－１のピーク強度）が２０％程度増加することが示されており（表１（２３８ページ）、図９（２４４ページ）、２４４ページ左欄２７行～３３行）、係る開示からみれば、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比を高くするほど、シラノール量が増加する傾向も看取できるから、本件発明においてＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比を高くするほど、シラノール量の評価指標である（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値も増加する蓋然性が高い。 すると、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が４０よりも大幅に大きい原料ＢＥＡ型ゼオライトの（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値も増加する蓋然性が高く、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が１．０近くまで増加することも想定されるのであるが、本件特許明細書の【表３】（前記２（２）エ）の記載からみれば、焼成処理後のＢＥＡ型ゼオライトの（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値は、最大でも０．５１（比較例１）－０．３０（実施例９）＝０．２１しか下がらない。 このため、原料ＢＥＡ型ゼオライトのＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が４０よりも大幅に大きくなり、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値も大幅に高くなると、それを焼成してもＢＥＡ型ゼオライトの（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．４５以下にならない蓋然性が高いから、本件発明１に包含される、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が大幅に大きいＢＥＡ型ゼオライトを製造するには、過度の試行錯誤を要するので、本件特許明細書の発明の詳細な説明の記載は実施可能要件を満たさない（１１ページ下から３行～１３ページ１３行）。 （２） 実施可能要件の判断 ア 始めに、前記（１）アの主張について検討すると、本件特許明細書の段落【００２０】（前記２（２）ウ）の記載によれば、本件発明においては、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値を必要以上に小さくしようとすると、調製時の焼成温度を高くする必要が生じ、ＢＥＡ型ゼオライトの結晶構造が破壊されて、ＨＣ吸着能が損なわれることが懸念されるから、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値は、０．１０以上、あるいは０．３０以上であってよいものである。 このことからみれば、本件発明においては、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値を必要以上に小さくする必要はなく、「ＢＥＡ型ゼオライト」のＨＣ吸着能が損なわれない範囲とすればよいのであるから、当業者は、そのような範囲で本件発明に係る「排ガス浄化触媒」を製造することができる。 してみれば、本件発明１において「ＢＥＡ型ゼオライト」の（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の下限値が特定されていないとしても、また、実施例９の焼成条件をＨ２Ｏ濃度０．００体積％としたとしても、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値が０．２２にしかならないとしても、本件特許明細書の発明の詳細な説明の記載が実施可能要件を満たさないということはできない。 したがって、前記（１）アの主張は採用できない。 イ 次に、前記（１）イの主張について検討すると、本件特許明細書の段落【００２４】（前記２（２）ウ）の記載によれば、本件発明に係る「排ガス浄化触媒」に含まれるＢＥＡ型ゼオライトにおける、シリカ（ＳｉＯ２）／アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）のモル比として定義される値であるシリカ／アルミナ比（ＳＡＲ）は、合成の容易性を確保するため、２０以上、あるいは４０以上であってよいものであり、ＨＣの吸着能を高くする観点から、１００以下、あるいは５０以下であってよいものである。 このことからみれば、本件発明においては、「ＢＥＡ型ゼオライト」のシリカ（ＳｉＯ２）／アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）のモル比は、合成の容易性を確保しつつ、ＨＣの吸着能を高くする範囲であればよいのであるから、当業者は、そのような範囲で本件発明に係る「排ガス浄化触媒」を製造することができる。 してみれば、本件発明１において、「ＢＥＡ型ゼオライト」のリカ（ＳｉＯ２）／アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）モル比が特定されていないとしても、また、甲第６号証の記載から、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比を高くするほど、（Ａ１＋Ａ２）／Ａ０の値も増加する蓋然性が高いとしても、本件特許明細書の発明の詳細な説明の記載が実施可能要件を満たさないということはできない。 したがって、前記（１）イの主張も採用できない。 ウ よって、申立人の前記（１）の主張はいずれも採用できない。 第７ むすび 以上のとおりであるから、申立人の特許異議申立書に記載した特許異議の申立て理由によっては、本件発明１～６及び８～１３に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に本件発明１～６及び８～１３に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 そして、本件訂正により請求項７は削除されたから、請求項７に係る特許異議の申立てについては対象となる請求項が存在しなくなったので、特許法第１２０条の８第１項で準用する同法第１３５条の規定により却下する。 よって、結論のとおり決定する。