2022-700718

特許第７０１１４１９号発明「テーパー状ポロメリック研磨パッド」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７０１１４１９号の特許請求の範囲を、令和５年９月６日提出の訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１～４〕について訂正することを認める。 特許第７０１１４１９号の請求項１～４に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 １ 特許掲載公報の発行までの経緯 特許第７０１１４１９号（以下「本件特許」という。）の請求項１～４に係る特許についての出願は、平成２９年８月１日（パリ条約による優先権主張 ２０１６年（平成２８年）８月４日 （ＵＳ）アメリカ合衆国）に出願され、令和４年１月１８日にその特許権の設定登録がされ、令和４年１月２６日に特許掲載公報が発行された。 ２ 特許異議の申立て以降の経緯 本件特許についての本件特許異議の申立ての主な経緯は、次のとおりである。 （１）令和４年 ７月２６日（受付日：令和４年７月２７日） 特許異議申立人 猪狩 充（以下「申立人」という。）による、本件特許の請求項１～４に係る特許に対する特許異議の申立て （当該申立てのために提出した特許異議申立書を以下単に「申立書」という。） （２）令和４年１１月１６日付け（発送日：令和４年１１月２１日） 取消理由の通知 （通知した取消理由通知書を以下単に「取消理由通知」という。） （３）令和５年 ２月１６日（受付日：令和５年２月１７日） 特許権者による意見書（以下「権者意見書１」という。）及び訂正請求書（以下「訂正請求書１」という。）の提出 （４）令和５年 ４月１０日（受付日：令和５年４月１１日） 申立人による意見書（以下「申立人意見書１」という。）の提出 （５）令和５年 ６月１４日付け（発送日：令和５年 ６月２０日） 取消理由の通知（決定の予告） （通知した取消理由通知書（決定の予告）を以下単に「決定の予告」という。） （６）令和５年 ９月 ６日（受付日：令和５年９月７日） 特許権者による意見書（以下「権者意見書２」という。）及び訂正請求書（以下「訂正請求書２」という。）の提出 （７）令和５年１０月２０日（受付日：令和５年１０月２３日） 申立人による意見書（以下「申立人意見書２」という。）の提出 第２ 本件訂正の適否 １ 本件訂正の内容について 特許権者は、訂正請求書２により、当該訂正請求書２に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、特許請求の範囲の訂正（以下「本件訂正」という。）を求めているところ、本件訂正の内容は、以下のとおりである（訂正箇所に下線を付して示す。なお、訂正請求書１による訂正の請求は、特許法第１２０条の５第７項の規定により、取り下げられたものとみなす。）。 （１）訂正事項１ 特許請求の範囲の請求項１に 「研磨表面」及び「前記研磨表面」 とあるのを、 「上部研磨表面」及び「前記上部研磨表面」 に訂正する（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （２）訂正事項２ 特許請求の範囲の請求項１に 「前記小孔が前記大孔の間を連通接続し」 との記載を追加する訂正をする（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （３）訂正事項３ 特許請求の範囲の請求項１に 「上部研磨表面」 とあるのを、 「前記上部研磨表面」 に訂正する（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （４）訂正事項４ 特許請求の範囲の請求項１に 「前記開口したチャネル」 とあるのを、 「前記小孔」 に訂正する（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （５）訂正事項５ 特許請求の範囲の請求項１に 「前記小孔が、前記大孔の平均直径より小さい平均直径を有し」 との記載を追加する訂正をする（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （６）訂正事項６ 特許請求の範囲の請求項１に 「前記下向きに傾斜した側壁が、前記各ピロー構造のすべての側面から伸長し」 とあるのを、 「前記下向きに傾斜した側壁が、前記各ピロー構造のすべての側壁に相当し」 に訂正する（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （７）訂正事項７ 特許請求の範囲の請求項１に 「前記傾斜した側壁により直角の方向に前記垂直の方向から１０～６０度オフセットする」 とあるのを、 「前記下向きに傾斜した側壁に開口する前記大孔の方向が、前記下向きに傾斜した側壁に対して、より直角の方向になるように、前記垂直の方向から１０～６０度オフセットする」 に訂正する（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （８）訂正事項８ 特許請求の範囲の請求項２に 「前記下向きに傾斜した側壁が、前記研磨表面から前記下向きに傾斜した側壁の方向に導かれるように計測された５～３０度の最初のテーパー区域を有する」 とあるのを、 「前記下向きに傾斜した側壁が、前記上部研磨表面から計測された５～３０度の最初のテーパー区域を有し、前記最初のテーパー区域は前記上部研磨表面に隣接する」 に訂正する。 （９）訂正事項９ 特許請求の範囲の請求項４に 「前記連通接続された小孔が、前記垂直な各孔の間への純水の流動を可能にするのに十分な平均直径を有する」 とあるのを、 「連通接続された前記小孔が、前記大孔の間への純水の流動を可能にするのに十分な平均直径を有する」 に訂正する。 （１０）訂正事項１０ 特許請求の範囲の請求項１に 「前記各ピロー構造が、前記研磨表面から３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁を形成するために、前記上部研磨表面から下向きの表面を有し」 とあるのを、 「前記各ピロー構造が、前記上部研磨表面に対して３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁を形成するために、前記上部研磨表面に対して下向きの表面を有し」 に訂正する（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （１１）訂正事項１１ 特許請求の範囲の請求項１に 「を含む」 とあるのを、 「前記ピロー構造間に直線的に伸長する複数の溝と； を含み、」 に訂正する（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （１２）訂正事項１２ 特許請求の範囲の請求項１に 「前記多孔性ポリウレタン研磨パッドが、半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つを、研磨流体ならびに前記多孔性ポリウレタン研磨パッドと前記半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つとの間の相対運動で研磨するまたは平坦化するための前記多孔性ポリウレタン研磨パッドであり、」 との記載を追加する訂正をする（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （１３）訂正事項１３ 特許請求の範囲の請求項１に 「前記複数の溝が、前記上部研磨表面に隣接して計測された平均幅を有し、」 との記載を追加する訂正をする（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （１４）訂正事項１４ 特許請求の範囲の請求項１に 「前記複数の溝が、固定された速度で回転する前記半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つの上の点が前記複数の溝の前記幅にわたって通過する研磨くず除去滞留時間を有し、」 との記載を追加する訂正をする（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （１５）訂正事項１５ 特許請求の範囲の請求項１に 「前記一連のピロー構造が、前記上部研磨表面を形成する非尖形上部を有し、」 との記載を追加する訂正をする（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （１６）訂正事項１６ 特許請求の範囲の請求項１に 「前記一連のピロー構造が、前記固定された速度で回転する前記半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つの上の点が前記複数の溝と隣接する前記一連のピロー構造にわたって通過する研磨滞留時間を有し、」 との記載を追加する訂正をする（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （１７）訂正事項１７ 特許請求の範囲の請求項１に 「前記一連のピロー構造が、前記一連のピロー構造の前記研磨滞留時間を低減させ、溝領域の前記研磨くず除去滞留時間を前記研磨滞留時間より大きい値まで増加させるために、前記一連のピロー構造の前記上部研磨表面が、前記複数の溝の前記平均幅を下回る前記上部研磨表面の平均幅を有する」 との記載を追加する訂正をする（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （１８）訂正事項１８ 特許請求の範囲の請求項１に 「連通接続され；」、「開口し；」及び「ピロー構造であって；」 とある記載において、セミコロン「；」を読点「、」に変更し、 「連通接続され、」、「開口し、」及び「ピロー構造であって、」 に訂正する（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 （１９）訂正事項１９ 特許請求の範囲の請求項１に 「前記ピロー構造と、」 とある記載において、読点「、」をセミコロン「；」に変更し、 「前記ピロー構造と；」 に訂正する（請求項１の記載を引用する請求項２～４も同様に訂正する。）。 ２ 一群の請求項について 本件訂正前の請求項２～４は、本件訂正前の請求項１の記載を引用する関係にあって、訂正事項１～７及び１０～１９によって記載が訂正される請求項１に連動して訂正されるものであるから、本件訂正は、特許法第１２０条の５第４項に規定する一群の請求項である請求項〔１～４〕について請求されたものである。 ３ 訂正の目的の適否、新規事項の有無、特許請求の範囲の拡張・変更の存否、及び、独立特許要件について （１）訂正事項１ ア 訂正の目的の適否 訂正事項１は、本件訂正前の請求項１の「研磨表面」及び「前記研磨表面」との記載を、請求項１における用語を統一するために、「上部研磨表面」及び「前記上部研磨表面」と訂正して明確化するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである（下線は当審にて付した。以下同様。）。 イ 新規事項の有無 訂正事項１は、「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものであって、本件特許の明細書、特許請求の範囲又は図面（以下「本件特許明細書等」という）の、例えば段落【００１９】の「ピロー構造は、研磨表面から３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁を形成するために、上部研磨表面からの下向きの表面を有する」との記載からみて、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてする訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項１は、発明特定事項をより明瞭にするものであり、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （２）訂正事項２ ア 訂正の目的の適否 訂正事項２は、本件訂正前の請求項１に「前記小孔が前記大孔の間を連通接続し」との記載を追加することで、本件訂正前の請求項１に「前記大孔が小孔と連通接続され」と特定されていた事項における「大孔」と「小孔」との関係について、小孔が大孔の間を連通接続すると限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 本件特許明細書等には、「開口セルポリマーマトリックスが垂直孔を有し、開口チャネルが垂直孔を連通接続する。好ましくは、開口セルポリマーマトリックスは、流体の輸送を可能にするのに十分な直径を持つ連通接続孔を有する。」（段落【００１５】）、「多孔性ポリウレタン研磨パッドは、大孔の間への純水の流動を可能にするのに十分な平均直径を有する連通接続された側孔を含有する。」（段落【００２０】）、「大孔は、より小さい孔と連通接続される。」（段落【００２１】）、「好ましくは、小孔は、垂直孔の間への純水の流動を可能にするのに十分な直径を有する。」（段落【００２４】）、「二次孔に連通接続された大孔を形成するために水がコーティングに拡散する複数の凝固槽を通過する。」（段落【００２８】）、及び、「大孔プラス連通接続するより小さい孔の組み合わせを維持した。」（段落【００６９】）と記載されるように、請求項１における「大孔」は、本件特許明細書等では「垂直孔」とも表現され、同様に「小孔」は、「開口チャネル」、「連接続孔」、「側孔」、「より小さい孔」及び「二次孔」とも表現されており、大孔の間を純水（流体）が流動することができるように、小孔が大孔の間を連通接続していることが本件特許明細書等を通じて全体として平仄のとれたものとして記載されていることが明らかである。よって、訂正事項２は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてする訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項２は、特許請求の範囲を減縮するものであり、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （３）訂正事項３ ア 訂正の目的の適否 訂正事項３は、訂正事項１に伴って、本件訂正前の請求項１の「上部研磨表面」との記載を「前記上部研磨表面」と訂正することで、訂正事項１にて訂正された事項との関係を明確化するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 訂正事項３は、「前記」を追加する形式的なものであるから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてする訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項３は、「前記」を追加する形式的なものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （４）訂正事項４ ア 訂正の目的の適否 訂正事項４は、本件訂正前の請求項１の「前記開口したチャネル」との記載を「前記小孔」と訂正するものであって、請求項１における用語を統一して明確化するものであることから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 訂正事項４の、本件訂正前の請求項１における「開口したチャネル」との発明特定事項は、令和３年１１月２９日提出の手続補正書による補正により特定された事項であって、同日提出の意見書にて、段落【００１５】の「開口セルポリマーマトリックスは、流体の輸送を可能にするのに十分な直径を持つ連通（相互）接続孔を有する。」との記載を補正の根拠とすることが説明され、また同段落の当該記載の前文には「開口セルポリマーマトリックスが垂直孔を有し、開口チャネルが垂直孔を連通（相互）接続する。」とも記載されている（なお、同手続補正書による補正により、段落【００１５】に記載の「相互接続」との記載は「連通接続」に補正された。）。 してみると、本件訂正前の請求項１における「開口したチャネル」とは、「連通（相互）接続孔」を意図しており、その「連通（相互）接続」する孔を「開口チャネル」と表現していたことに基づく記載であったと理解できる。 そして、上記（２）イに示したように、本件特許明細書等においては「小孔」と「開口チャネル」とは、文言上表現が異なるものの、大孔を連通接続する同じ部位を指すことが明らかであるから、訂正事項４は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてする訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項４は、「明瞭でない記載の釈明」を目的として、本件訂正前の「開口したチャネル」との用語を、請求項１に前記された「小孔」との用語に統一するものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （５）訂正事項５ ア 訂正の目的の適否 訂正事項５は、本件訂正前の請求項１に「前記小孔が、前記大孔の平均直径より小さい平均直径を有し」との記載を追加することで、本件訂正前の請求項１における「大孔」と「小孔」との平均直径の大小関係を限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 本件特許明細書等の段落【００１５】には、上記（４）イに示した事項に続いて、「これらの連通接続孔は、垂直孔の平均直径よりずっと小さい平均直径を有する。」とも記載されており、また、上記（２）イのとおり、本件特許明細書等では「連通接続孔」は「小孔」を、「垂直孔」は「大孔」を指すことが明らかであるから、訂正事項５は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてする訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項５は、本件訂正前の請求項１における「大孔」と「小孔」との平均直径の大小関係を限定するものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （６）訂正事項６ ア 訂正の目的の適否 訂正事項６は、本件訂正前の請求項１の「前記下向きに傾斜した側壁が、前記各ピロー構造のすべての側面から伸長し」との記載では、「ピロー構造のすべての側面」がピロー構造のどの部位を指しているか必ずしも明確ではなく、そのため「側面から伸長」する態様も明確であったとはいえないところ、「前記下向きに傾斜した側壁が、前記各ピロー構造のすべての側壁に相当し」と訂正することで、「ピロー構造」における「すべての側壁」が「下向きに傾斜した側壁」であることを明確化するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 本件特許明細書等の段落【００１９】には、「ピロー構造は、研磨表面から３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁を形成するために、上部研磨表面からの下向きの表面を有する。ピロー構造は、研磨表面から３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁を形成するために、上部研磨表面からの下向きの表面を有する。下向きに傾斜した側壁は、ピロー構造のすべての側面から伸長する。・・・好ましくは、下向きに傾斜した側面は、ポリウレタンマトリックスの水平溝下部で終端し、溝下部がピロー構造を下回る多孔質を有する。」との記載、並びに【図５Ａ】、【図５Ｂ】、【図７Ａ】及び【図７Ｂ】からみて、ピロー構造のすべての側壁が下向きに傾斜した側壁であることが開示されているとわかることから、訂正事項６は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてする訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項６は、「ピロー構造」における「すべての側壁」が「下向きに傾斜した側壁」であることを明確化するものであり、下向きの表面（側面）を含めて「下向きに傾斜した側壁」が形成されるとの技術的事項が、本件訂正前の請求項１に包含されていたといえるから、訂正事項６は、カテゴリーや対象、目的を変更するものではなく、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しないことから、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （７）訂正事項７ ア 訂正の目的の適否 訂正事項７は、本件訂正前の請求項１における「下向きに傾斜した側壁に開口している大孔が・・・前記傾斜した側壁により直角の方向に前記垂直の方向から１０～６０度オフセットする」との記載において、特に「前記傾斜した側壁により直角の方向」とはいかなる方向であるか不明確であったところ、「前記下向きに傾斜した側壁に開口する前記大孔の方向が、前記下向きに傾斜した側壁に対して、より直角の方向になるように、前記垂直の方向から１０～６０度オフセットする」と訂正することで、その記載を明確化するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 訂正事項７は、「明瞭でない記載の釈明」を目的として、発明を正確に特定するために、その記載を明確にしたものであるから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてする訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項７は、「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （８）訂正事項８ ア 訂正の目的の適否 訂正事項８は、本件訂正前の請求項２の「前記下向きに傾斜した側壁が、前記研磨表面から前記下向きに傾斜した側壁の方向に導かれるように計測された５～３０度の最初のテーパー区域を有する」との記載が、特に下線部の意味を明確に把握できず、不明確であったため、「前記下向きに傾斜した側壁が、前記上部研磨表面から計測された５～３０度の最初のテーパー区域を有し、前記最初のテーパー区域は前記上部研磨表面に隣接する」と、より明確に記載するものであって、また、訂正事項１と同様に「上部研磨表面」に用語を統一するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 訂正事項８は、本件特許明細書等の段落【００１９】に「ピロー構造は、研磨表面から３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁を形成するために、上部研磨表面からの下向きの表面を有する。下向きに傾斜した側壁は、ピロー構造のすべての側面から伸長する。好ましくは、下向きに傾斜した側壁は、下向きに傾斜した側壁に通じる、研磨表面から計測された５～３０度の最初のテーパー区域を有する。」と記載されていることからみて、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてする訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項８は、「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものであり、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （９）訂正事項９ ア 訂正の目的の適否 訂正事項９は、本件訂正前の請求項４の「前記連通接続された小孔」との記載を「連通接続された前記小孔」と「前記」の位置を適切にするための形式的な訂正をするとともに、「前記垂直な各孔」との用語を「前記大孔」と訂正することで、請求項４が引用する請求項１の記載と用語を統一して明確化するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 訂正事項９のうち、本件訂正前の「前記垂直な各孔」との用語を「前記大孔」と用語を統一する訂正については、上記（２）イに示したとおり、本件特許明細書等では「大孔」は「垂直孔」とも表現されているところ、「垂直な各孔」が「垂直孔」を意図していることも令和３年１１月２９日提出の手続補正書による補正の経緯からみて明らかである。また、大孔の間を純水（流体）が流動することができるように、小孔が大孔の間を連通接続していることが本件特許明細書等を通じて全体として平仄のとれたものとして記載されていることも、上記（２）イにて述べたとおりである。してみると、訂正事項９は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてする訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項９は、「明瞭でない記載の釈明」を目的として、「前記」の位置を形式的に訂正し、また、請求項１及び４における用語の統一を図るものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （１０）訂正事項１０ ア 訂正の目的の適否 訂正事項１０のうち、本件訂正前の「前記研磨表面」との記載を「前記上部研磨表面」に変更する訂正は、訂正事項１による訂正と同様の訂正であって、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 また、本件訂正前の請求項１の「前記各ピロー構造が、前記研磨表面から３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁を形成するために、前記上部研磨表面から下向きの表面を有し」との記載における、下線部の「から」との記載により、 （ア）「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁（下向きの表面）」は「（上部）研磨表面」から「（上部研磨表面に連続して）形成される」ことを特定するものであるのか、 （イ）「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁（下向きの表面）」と「（上部）研磨表面」との間に、「最初のテーパー区域」が介在する請求項２のような構成を含み得るものであるのか、 いずれを意図しているのか不明であって、請求項１における「上部研磨表面」と「側壁」との関係が如何なるものであるのか、明確でなかったところ、訂正事項１０により、 「前記上部研磨表面に対して３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁を形成するために、前記上部研磨表面に対して下向きの表面を有し」 と特定されることで、「上部研磨表面」と「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁」とが連続して形成されることに限定して解釈される（上記（ア））ものではなく、「上部研磨表面」と「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁」との間に「研磨表面から計測された５～３０度の最初のテーパー区域を有する」ことを含み得る（上記（イ））ことを明らかにするものであって、「上部研磨表面」と「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁」との関係をより明確にするための訂正であるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 本件特許明細書等の段落【００１９】に「ピロー構造は、研磨表面から３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁を形成するために、上部研磨表面からの下向きの表面を有する。下向きに傾斜した側壁は、ピロー構造のすべての側面から伸長する。好ましくは、下向きに傾斜した側壁は、下向きに傾斜した側壁に通じる、研磨表面から計測された５～３０度の最初のテーパー区域を有する。」と記載され、「上部研磨表面」と「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁」との間に「研磨表面から計測された５～３０度の最初のテーパー区域を有する」ことができる点が記載されているといえる。また、当該態様は、図５Ａからも看取されるといえることから、訂正事項１０は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてする訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 本件訂正前の「前記各ピロー構造が、前記研磨表面から３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁を形成するために、前記上部研磨表面から下向きの表面を有し」との記載における下線部の「から」との記載が、上記アの（ア）とも（イ）とも解釈され得たため、「上部研磨表面」と「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁」との関係が明確でなかったところ、訂正事項１０により、（イ）のように解釈される意図であったことが明確にされた。そして、本件特許明細書等の段落【００１９】の記載や図５Ａ等を考慮すれば、本件訂正前の請求項１が当該（イ）のようにも解釈し得たことは、決定の予告にて後述の第５の３の３－１に示す取消理由（上記アと同旨）が通知されたことからも明らかであるから、訂正事項１０は、カテゴリーや対象、目的を変更するものではなく、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （１１）訂正事項１１、１３及び１４ ア 訂正の目的の適否 訂正事項１１は、本件訂正前の請求項１の「多孔性ポリウレタン研磨パッド」が、「前記ピロー構造間に直線的に伸長する複数の溝」を有することを追加して特定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 また、訂正事項１３は、訂正事項１１にて追加された「前記複数の溝」が「前記上部研磨表面に隣接して計測された平均幅を有」することを追加して特定し、訂正事項１４は、同じく「前記複数の溝」が「固定された速度で回転する前記半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つの上の点が前記複数の溝の前記幅にわたって通過する研磨くず除去滞留時間を有」することを追加して特定するものであるから、それぞれ、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 本件特許明細書等の段落【００１６】には「通常、突出ランド領域は、複数の溝が突出ランド領域間に直線的に伸長する」と記載され、当該「突出ランド領域」が請求項１における「ピロー構造」と同じ部位を指すことは、段落【００１６】及び【００１９】等を含む本件特許明細書等を通じて全体として平仄のとれたものとして記載されている。また、同段落には、「溝は、研磨表面に隣接して計測された平均幅を有する」、及び、「複数の溝は、固定された速度で回転する半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つの上の点が複数の溝の幅にわたって通過する研磨くず除去滞留時間を有する」とも記載されている。 よって、訂正事項１１、１３及び１４は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてする訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項１１、１３及び１４は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （１２）訂正事項１２ ア 訂正の目的の適否 訂正事項１２は、本件訂正前の請求項１の「多孔性ポリウレタン研磨パッド」が「半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つを、研磨流体ならびに前記多孔性ポリウレタン研磨パッドと前記半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つとの間の相対運動で研磨するまたは平坦化するため」のものであることを追加して特定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 本件特許明細書等の段落【００１５】には、「本発明の研磨パッドは、半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つを、研磨流体ならびに研磨パッドと半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つとの間の相対運動で研磨するまたは平坦化するのに好適である。」と記載されている。 したがって、訂正事項１２は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項１２は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （１３）訂正事項１５ ア 訂正の目的の適否 訂正事項１５は、本件訂正前の請求項１における「一連のピロー構造」の「上部研磨表面」が「非尖形上部」として形成されていることを追加して特定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 本件特許明細書等の段落【００１６】には、「複数のランド領域は、垂直孔を含有するポリマーマトリックスから研磨表面を形成する錐形または非尖形上部を有する。」と記載されている。ここで、「研磨表面」が「上部研磨表面」を指すことは、上記（１）にて示したとおりであり、「ランド領域」が「突出ランド領域」を意味し（段落【００１６】）、よって「ピロー構造」と同じ部位を指すことも上記（１１）にて示したとおりである。また、本件特許明細書等の段落【００１６】に記載の「ポリマーマトリックス」が、請求項１における「多孔性ポリウレタンマトリックス」を意図することも、段落【０００９】及び【００１６】を含む本件特許明細書等を通じて全体として平仄のとれたものとして記載されているとわかる。 したがって、訂正事項１５は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項１５は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （１４）訂正事項１６ ア 訂正の目的の適否 訂正事項１６は、本件訂正前の請求項１における「一連のピロー構造」が「前記固定された速度で回転する前記半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つの上の点が前記複数の溝と隣接する前記一連のピロー構造にわたって通過する研磨滞留時間を有」することを追加して特定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 本件特許明細書等の段落【００１８】には、「複数の突出ランド領域は、固定された速度で回転する半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つの上の点が複数の突出ランド領域にわたって通過する研磨滞留時間を有する。」と記載されている。ここで、「突出ランド領域」が「ピロー構造」と同じ部位を指すことは上記（１１）にて示したとおりである。 したがって、訂正事項１６は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項１６は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （１５）訂正事項１７ ア 訂正の目的の適否 訂正事項１７は、本件訂正前の請求項１における「上部研磨表面」の「平均幅」を、訂正事項１３により追加して特定された「複数の溝」の「平均幅」と関係付けて特定するものであって、訂正事項１４により追加して特定された「研磨くず除去滞留時間」と訂正事項１６により追加して特定された「研磨滞留時間」との関係として、「前記一連のピロー構造が、前記一連のピロー構造の前記研磨滞留時間を低減させ、溝領域の前記研磨くず除去滞留時間を前記研磨滞留時間より大きい値まで増加させるために、前記一連のピロー構造の前記上部研磨表面が、前記複数の溝の前記平均幅を下回る前記上部研磨表面の平均幅を有する」とさらに限定して特定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 本件特許明細書等の段落【００１８】には、「複数の突出ランド領域は、突出ランド領域の研磨滞留時間を低減させ、溝領域の研磨くず除去滞留時間を研磨滞留時間より大きい値まで増加させるために、複数の溝の平均幅を下回る平均幅を有する。」と記載されている。ここで、「突出ランド領域」が「ピロー構造」と同じ部位を指すことは上記（１１）にて示したとおりである。 したがって、訂正事項１７は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項１７は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （１６）訂正事項１８及び１９ ア 訂正の目的の適否 訂正前の請求項１の「多孔性ポリウレタン研磨パッド」は、「多孔性ポリウレタンマトリックス」及び「ピロー構造」を含み、「多孔性ポリウレタンマトリックス」及び「ピロー構造」の各構成の記載の最後にのみセミコロン「；」を付すべきところ、 （ア）「多孔性ポリウレタンマトリックス」及び「ピロー構造」の構成の記載の最後ではないところにセミコロン「；」が付され、 （イ）「ピロー構造」の構成の記載の最後にセミコロン「；」を付すべきところが、読点「、」が付されているため、 訂正事項１８は、上記（ア）のセミコロン「；」を読点「、」に変更し、「連通接続され、」、「開口し、」及び「ピロー構造であって、」に訂正するものであり、訂正事項１９は、上記（イ）の読点「、」をセミコロン「；」に変更し、「前記ピロー構造と；」に訂正するものである。 したがって、訂正事項１８及び１９は、内容の変更を伴わない誤記を訂正するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第２号に掲げる「誤記又は誤訳の訂正」を目的とするものである。 イ 新規事項の有無 訂正事項１８は、セミコロン「；」を読点「、」に変更する訂正であり、訂正事項１９は、読点「、」をセミコロン「；」に変更する訂正であって、訂正前の請求項１の内容を変更する訂正ではない。 したがって、訂正事項１８及び１９は、願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項に適合するものである。 ウ 特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項１８は、セミコロン「；」を読点「、」に変更する訂正であり、訂正事項１９は、読点「、」をセミコロン「；」に変更する訂正であって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものである。 （１７）独立特許要件 本件特許異議の申立ては、全ての請求項１～４を対象としているので、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正事項２、５及び１１～１７、並びに、誤記又は誤訳の訂正を目的とする訂正事項１８～１９に関して、特許法第１２０条の５第９項において読み替えて準用する同法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。 ４ 申立人の訂正要件に対する主張について 申立人は、申立人意見書１において、訂正事項２、４、６及び９について、訂正要件違反である旨、主張する（第２～８ページ、３－２．）が、上記３（２）、（４）、（６）及び（９）に示したとおりであるから、訂正事項２、４、６及び９が訂正要件に違反しているとまではいえない。 また、申立人は、申立人意見書２において、訂正事項１０について、訂正前の請求項１に係る発明の内容を実質的に拡張または変更するものであって、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項に適合するものではなく、訂正要件違反である旨、主張する（第２～６ページ、３－２．）が、上記３（１０）ウに示したとおりであるから、訂正事項１０が訂正要件に違反しているとまではいえない。 ５ 小括 上記３のとおり、訂正事項１～１９に係る本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号、第２号又は第３号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合する。 したがって、特許請求の範囲を、訂正請求書２に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１～４〕について訂正することを認める。 第３ 本件発明 上記第２のとおり、本件訂正は認められたので、本件特許の請求項１～４に係る発明は、訂正請求書２に添付した訂正特許請求の範囲の請求項１～４に記載された、以下の事項により特定されるとおりのものである。 「【請求項１】 多孔性ポリウレタン研磨パッドであって、： ベース表面から上向きに伸長し、上部研磨表面に開口している大孔を有する多孔性ポリウレタンマトリックスであって、 前記多孔性ポリウレタンマトリックス内で前記大孔が小孔と連通接続され、 前記小孔が前記大孔の間を連通接続し、 前記大孔の一部分が前記上部研磨表面に開口し、 前記小孔が、流体の輸送を可能にするのに十分な直径を有し、 前記小孔が、前記大孔の平均直径より小さい平均直径を有し、 前記大孔が、垂直な配向を有して前記上部研磨表面に伸長する、 前記多孔性ポリウレタンマトリックスと； 前記大孔および前記小孔を包含する前記多孔性ポリウレタンマトリックスから形成された一連のピロー構造であって、 前記各ピロー構造が、前記上部研磨表面に対して３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁を形成するために、前記上部研磨表面に対して下向きの表面を有し、 前記下向きに傾斜した側壁が、前記各ピロー構造のすべての側壁に相当し、 前記大孔の一部分が、前記下向きに傾斜した側壁に開口しており、 前記下向きに傾斜した側壁に開口している前記大孔が、前記上部研磨表面に開口している前記大孔より垂直ではなく、前記下向きに傾斜した側壁に開口する前記大孔の方向が、前記下向きに傾斜した側壁に対して、より直角の方向になるように、前記垂直の方向から１０～６０度オフセットする 前記ピロー構造と； 前記ピロー構造間に直線的に伸長する複数の溝と； を含み、 前記多孔性ポリウレタン研磨パッドが、半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つを、研磨流体ならびに前記多孔性ポリウレタン研磨パッドと前記半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つとの間の相対運動で研磨するまたは平坦化するための前記多孔性ポリウレタン研磨パッドであり、 前記複数の溝が、前記上部研磨表面に隣接して計測された平均幅を有し、 前記複数の溝が、固定された速度で回転する前記半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つの上の点が前記複数の溝の前記幅にわたって通過する研磨くず除去滞留時間を有し、 前記一連のピロー構造が、前記上部研磨表面を形成する非尖形上部を有し、 前記一連のピロー構造が、前記固定された速度で回転する前記半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つの上の点が前記複数の溝と隣接する前記一連のピロー構造にわたって通過する研磨滞留時間を有し、 前記一連のピロー構造が、前記一連のピロー構造の前記研磨滞留時間を低減させ、溝領域の前記研磨くず除去滞留時間を前記研磨滞留時間より大きい値まで増加させるために、前記一連のピロー構造の前記上部研磨表面が、前記複数の溝の前記平均幅を下回る前記上部研磨表面の平均幅を有する多孔性ポリウレタン研磨パッド。 【請求項２】 前記下向きに傾斜した側壁が、前記上部研磨表面から計測された５～３０度の最初のテーパー区域を有し、前記最初のテーパー区域は前記上部研磨表面に隣接する、請求項１記載の多孔性ポリウレタン研磨パッド。 【請求項３】 前記下向きに傾斜した側壁が、前記多孔性ポリウレタンマトリックスの水平な溝の下部で終端し、前記溝の下部が、前記各ピロー構造を下回る多孔質を有する、請求項１記載の多孔性ポリウレタン研磨パッド。 【請求項４】 連通接続された前記小孔が、前記大孔の間への純水の流動を可能にするのに十分な平均直径を有する、請求項１記載の多孔性ポリウレタン研磨パッド。」 （以下、本件訂正後の請求項１～４に係る発明を、それぞれ「本件発明１」～「本件発明４」という。） 第４ 当審より通知した取消理由について １ 本件特許の本件訂正前の請求項１～４に係る特許に対して、当審が取消理由通知にて特許権者に通知した取消理由１～２は、次のとおりである。 （１）理由１（実施可能要件）本件特許は、発明の詳細な説明の記載が不備のため、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 （２）理由２（明確性要件）本件特許は、特許請求の範囲の記載が不備のため、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 ２ また、訂正請求書１に添付した訂正特許請求の範囲の請求項１～４に記載された事項により特定される請求項１～４に係る特許に対して、当審が決定の予告にて特許権者に通知した取消理由Ａ～Ｂは、次のとおりである。 （１）理由Ａ（明確性要件）本件特許は、特許請求の範囲の記載が不備のため、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 （２）理由Ｂ（進歩性欠如）訂正請求書１に添付した訂正特許請求の範囲の請求項１～４に記載された事項により特定される発明１～４は、本件特許出願前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった、以下の＜証拠方法＞に示す甲１号証に記載された発明、及び、例えば甲２号証～甲２２号証に記載された技術常識又は周知技術に基づいて、本件特許出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（当業者）が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１～４に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 ＜証拠方法＞ 甲１号証：特開２０１５－１９９１４４号公報 甲２号証：ポリウレタン樹脂ハンドブック，昭和６２年９月２５日発行 甲３号証：「ポリウレタンのスポンジ構造」，昭和５７年９月発行 （高分子論文集, Vol.39，No.9，pp. 543‐548） 甲４号証：特公昭４０－２０２７３号公報 甲５号証：特開２０１２－９６３４４号公報 甲６号証：国際公開第２０１４／０５１１０４号 甲７号証：特開２０１１－１４８０８２号公報 甲８号証：特開２０１３－１２３７８０号公報 甲９号証：特開２０１３－２０８７０３号公報 甲１０号証：特開２００６－６２０５８号公報 甲１１号証：特開２００９－８３０１４号公報 甲１２号証：詳説半導体ＣＭＰ技術，平成１３年１月１０日発行 甲１３号証：特開２００４－３５８５８４号公報 甲１４号証：特許第４９４８９３５号公報，平成２４年６月６日発行 甲１５号証：特許第５２７４２８６号公報，平成２５年８月２８日発行 甲１６号証：特許第５２９７０９６号公報，平成２５年９月２５日発行 甲１７号証：特開２０１４－７９８７７号公報 甲１８号証：特開２０１４－７９８７８号公報 甲１９号証：特許第５２７４２８５号公報，平成２５年８月２８日発行 甲２０号証：特開２００１－１５４６１号公報 甲２１号証：特許第３４３８４１０号公報，平成１５年８月１８日発行 甲２２号証：特許第３３１１２０３号公報，平成１４年８月５日発行 （以下「甲１号証」等を「甲１」等という。） 第５ 取消理由通知及び決定の予告に基づく本件発明１～４に対する当審の判断 上記第２のとおり本件訂正は認められたところ、上記第３に示した本件発明１～４に係る特許が上記第４で示した取消理由１～２及び取消理由Ａ～Ｂによって取り消されるべきものであるかについて、以下検討する。 １ 取消理由１（特許法第３６条第４項第１号：実施可能要件）について ・請求項１～４について （１）請求項１に記載された各用語について ア 本件訂正前の請求項１に記載された「研磨表面」、「多孔性ポリウレタンマトリックス」、「大孔」、「小孔」、「上部研磨表面」、「開口したチャネル」、「ピロー構造」、「下向きに傾斜した側壁」、「ピロー構造のすべての側面」、請求項３に記載された「溝」、請求項４に記載された「前記垂直な各孔」との各用語について、特許請求の範囲と発明の詳細な説明の記載とで用語が統一されていないため、取消理由通知にて対応関係の説明を求めたところ、権者意見書１において、以下の用語が同じものを示す旨、説明がされた（権者意見書１にて併記された本件特許明細書等の段落番号の転記は省略する。）。 （ア）「上部研磨表面」 「研磨表面」、「上方表面」、「その表面」、「上部表面」 （イ）「多孔性ポリウレタンマトリックス」 「開口セルポリマーマトリックス」、「ポリマーマトリックス」、「ポリウレタンマトリックス」、「多孔性マトリックス」、「マトリックス」 （ウ）「大孔」 「垂直な各孔」、「より大きい孔」、「垂直孔配向」、「垂直孔」、「開口垂直孔」、「開ロセル垂直孔」、「一次孔」 （エ）「小孔」 「開口したチャネル」、「開口チャネル」、「より小さい孔」、「連通接続孔」、「側孔」、「二次孔」 （オ）「ピロー構造」 「突出ランド領域」、「ランド領域」、「ピロー」、「ピロー構成」 （カ）「下向きに傾斜した側壁」 「テーパー状表面構造」、「下向きに傾斜した側面」、「テーパー状側壁」 （キ）「ピロー構造のすべての側面」 「ピロー構造のすべての側壁」 （ク）「溝」 「溝チャンネル」、「溝領域」、「連通接続溝」、「テーパー状溝」、「下部溝」 イ また、取消理由通知にて、請求項１に記載された上記アの各用語がどの部分に該当するか、図５Ａ～７Ｂ、概略図を用いた説明を求めたところ、権者意見書１において、以下の図を用いた説明がされた。 （ア）概略図 「 ［図：0001406670000001.jpg］ 」 （イ）図５Ａ 「 ［図：0001406670000002.jpg］ 」 （ウ）図５Ｂ 「 ［図：0001406670000003.jpg］ 」 （エ）図６Ａ 「 ［図：0001406670000004.jpg］ 」 （オ）図６Ｂ 「 ［図：0001406670000005.jpg］ 」 ウ 上記ア及びイによる説明は、何ら不自然な点は見られず、本件特許明細書等の記載を総合してみれば、全体として平仄のとれたものであって、特許請求の範囲の記載と明細書及び図面との対応関係についても明らかとなったため、本件特許の発明の詳細な説明は、本件発明１～４を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されたものであるといえる。 （２）請求項１の「開口したチャネルが、流体の輸送を可能にするのに十分な直径を有し」の点について ア 取消理由通知にて、本件訂正前の請求項１の「開口したチャネル」とは何か、「開口したチャネル」が「流体の輸送を可能にする」とはいかなることか、「十分な直径」とはいかなる直径か、「開口チャネル」の役割を含めて、発明の詳細な説明の記載及び技術常識に基づく説明を求めたところ、権者意見書１にて以下の旨の説明がなされた。 （ア）「開口したチャネル」は、上記（１）ア（エ）のとおり、発明の詳細な説明における「開口チャネル」、「小孔」、「側孔」と同じ部位を指す。 （イ）「流体」とは、発明の詳細な説明の例えば段落【０００９】の記載から、「研磨流体」を意味し、「流体の輸送」とは研磨の際の「研磨流体の流れ」を意味する。また、請求項４及び段落【００２０】に記載の「純水」は、「研磨流体（スラリー）」に含まれるものであり、「研磨流体（スラリー）」が「砥粒」と「純水から作られる液体」とを含むことは、当業者にとって技術常識である。 （ウ）「十分な直径」とは、段落【００２０】の「大孔の間への純水の流動を可能にするのに十分な平均直径を有する連通接続された側孔」との記載から、「連通接続された側孔」（「開口したチャネル」、「小孔」）」の「平均直径」とは、研磨の際に「研磨流体（スラリー）」に含まれている「純水から作られる液体」が「側孔」（「開口したチャネル」、「小孔」）を通って「大孔」の間を流れることができるような寸法を意味していることを理解できる。 （エ）以上の記載から、請求項１の「開口したチャネルが、流体の輸送を可能にするのに十分な直径」とは、「小孔」の「平均直径」が「純水から作られる研磨液体」を通すのに十分な大きさであり、「砥粒」を通すには不十分な大きさであることを、当業者は理解できる。 （オ）「開口したチャネル（小孔）」の役割は、段落【００２０】に「側壁で孔を開口したままにしておくことは、研磨くずの自由流動を可能にし、欠陥のさらなる減少を容易にする。好ましくは、多孔性ポリウレタン研磨パッドは、大孔の間への純水の流動を可能にするのに十分な平均直径を有する連通接続された側孔を含有する」と記載されるように、例えば、ある「大孔」に「研磨くず」が入った場合、「研磨くず」の体積分だけ「大孔」内の「研磨流体」（スラリー）を排出する必要があるところ、「開口したチャネル（小孔）」の「平均直径」が、純水から作られる液体を通すのに十分な大きさであることにより、「研磨流体」（スラリー）に含まれる純水の大孔の間ヘの流動を可能にすることで、「研磨くずの自由流動を可能にし、欠陥のさらなる減少を容易にする」ことと理解できる。 イ 上記アによる説明は、上記第２の３（２）に示した「前記小孔が前記大孔の間を連通接続し」との記載を追加する訂正事項２の訂正要件（特にイ欄）の判断、同（４）に示した「開口したチャネル」を「小孔」に訂正する訂正事項４の訂正要件（特にイ欄）の判断、並びに、同（５）及び（９）に示した「小孔」の「直径」及び「平均直径」に係る訂正についての訂正事項５及び訂正事項９の訂正要件（特にイ欄）の判断として示したように、本件特許明細書等の記載を総合してみれば、全体として平仄のとれたものであって、特許請求の範囲の記載と明細書及び図面との対応関係についても明らかとなったため、本件特許の発明の詳細な説明は、本件発明１～４を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されたものであるといえる。 （３）小括 よって、本件特許の発明の詳細な説明は、当業者が本件発明１～４を当該記載及び出願当時の技術常識に基づいて、過度の試行錯誤を要することなく実施することができる程度に記載されたものであるといえるから、本件特許の発明の詳細な説明の記載は、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしているため、取消理由通知にて示した取消理由１により、本件発明１～４に係る特許を取り消すことはできない。 ２ 取消理由２（特許法第３６条第６項第２号：明確性要件）について ２－１ 請求項１～４について （１）「前記開口したチャネル」について ア 取消理由通知にて、本件訂正前の請求項１における「前記開口したチャネル」との記載について「開口したチャネル」が前記されておらず、何を指し示すのか明らかでない、旨の通知をした。 イ 特許権者は、本件訂正の訂正事項４（上記第２の１（４））のとおり、請求項１において「前記開口したチャネル」とあるのを「前記小孔」と訂正した。 ウ 本件訂正により、本件発明１～４では「小孔」との用語で統一されたことにより、発明が明確化された（上記第２の３（４）ア）。 （２）「大孔」と「小孔」との関係について ア 取消理由通知にて、「大孔」と「小孔」とは、孔のサイズに基づいて区別されるのか、研磨表面に開口している孔を「大孔」と称し、「大孔」を連通接続した孔を「小孔」と称して区別されるのか、明らかでない、旨の通知をした。 イ 特許権者は、本件訂正の訂正事項２（上記第２の１（２））にて、小孔が大孔の間を連通接続することを特定するとともに、訂正事項５（上記第２の１（５））にて、小孔が、大孔の平均直径より小さい平均直径を有していることを特定する訂正をした。 ウ 本件訂正により、本件発明１～４における「大孔」と「小孔」との関係が明確化された。 （３）「前記傾斜した側壁により直角の方向」との記載について ア 取消理由通知にて、「前記傾斜した側壁により直角の方向」とはいかなる方向であるのか、日本語の表現として不適当である旨の通知をした。 イ 特許権者は、本件訂正の訂正事項７（上記第２の１（７））にて、「下向きに傾斜した側壁に開口する大孔の方向」が、「下向きに傾斜した側壁に対して、より直角の方向になるように、垂直の方向から１０～６０度オフセットする」と、発明を正確に特定するために、その記載を訂正した。 ウ 本件訂正により、本件発明１～４において「下向きに傾斜した側壁に開口する大孔の方向」が明確化された（上記第２の３（７）ア、イ）。 ２－２ 請求項２における「最初のテーパー区域」について ア 取消理由通知にて、請求項２の「前記下向きに傾斜した側壁が、前記研磨表面から前記下向きに傾斜した側壁の方向に導かれるように計測された５～３０度の最初のテーパー区域を有する」との記載が、日本語の表現として不適当である旨の通知をした。 イ 特許権者は、本件訂正の訂正事項８（上記第２の１（８））にて、「前記下向きに傾斜した側壁が、前記上部研磨表面から計測された５～３０度の最初のテーパー区域を有し、前記最初のテーパー区域は前記上部研磨表面に隣接する」と訂正をした。 ウ 本件訂正により、本件発明２において、下向きに傾斜した側壁が、上部研磨表面に隣接する位置に「最初のテーパー区域」を有するものであり、記載が明確化された（上記第２の３（８））。 ２－３ 小括 よって、本件発明１～４は、明確であるから、本件特許の特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしているため、取消理由通知にて示した取消理由２により、本件発明１～４に係る特許を取り消すことはできない。 ３ 取消理由Ａ（特許法第３６条第６項２号：明確性要件）について ３－１ 請求項１における「上部研磨表面」と「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁（下向きの表面）」との関係について ア 決定の予告にて、訂正請求書１による訂正後の請求項１の「前記各ピロー構造が、前記上部研磨表面から３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁を形成するために、前記上部研磨表面から下向きの表面を有し」と記載される事項に関して、 下線部の「から」との記載により、 （ア）「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁（下向きの表面）」は「（上部）研磨表面」から「（上部研磨表面に連続して）形成される」ことを特定するものであるのか、 （イ）「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁（下向きの表面）」と「（上部）研磨表面」との間に、「最初のテーパー区域」が介在する請求項２のような構成を含み得るものであるのか、 いずれを意図しているのか不明であって、請求項１における「上部研磨表面」と「側壁」との関係が明確でない旨の通知をした。 イ 特許権者は、本件訂正の訂正事項１０（上記第２の１（１０））にて、「前記各ピロー構造が、前記上部研磨表面に対して３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁を形成するために、前記上部研磨表面に対して下向きの表面を有し」と訂正をした。 ウ 本件訂正により、「上部研磨表面」と「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁（下向きの表面）」との間に「最初のテーパー区域」を有するものを含み得ること、すなわち、上記ア（ア）及び（イ）の関係を含むことが明らかとなった（上記第２の３（１０））。 ３－２ 請求項２における「上部研磨表面」、「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁（下向きの表面）」、及び「５～３０度の最初のテーパー区域」との関係について ア 決定の予告にて、訂正請求書１による訂正後の請求項２の「前記下向きに傾斜した側壁が、前記上部研磨表面から計測された５～３０度の最初のテーパー区域を有し、前記最初のテーパー区域は前記上部研磨表面に隣接する」と記載される事項に関して、上記３－１のアと同様の理由により、「上部研磨表面」と「側壁」（「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁（下向きの表面）」、及び、側壁が有する「５～３０度の最初のテーパー区域」）との関係が明確でない旨の通知をした。 イ 特許権者は、本件訂正の訂正事項１０により、上記３－１のイの訂正をした。 ウ 本件訂正により、本件発明１が、「上部研磨表面」と「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁（下向きの表面）」との間に「５～３０度の最初のテーパー区域」を含み得ることが明らかとなった。 エ 本件発明２は、訂正事項８により、「上部研磨表面」と「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁（下向きの表面）」との間に「５～３０度の最初のテーパー区域」を有することが特定されているところ、本件発明１とも整合し、上記３－１と同様の理由により明確である。 ３－３ 請求項１の記載を引用する請求項３～４について 請求項１の記載を引用する請求項３～４についても、本件訂正の訂正事項１０により訂正された。 ３－４ 小括 よって、本件発明１～４は、明確であるから、本件特許の特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしているため、決定の予告にて示した取消理由Ａにより、本件発明１～４に係る特許を取り消すことはできない。 ４ 取消理由Ｂ（特許法第２９条第２項：進歩性欠如）について（１）本件発明１の認定 本件発明１は、上記第３に示した、訂正請求書２に添付した訂正特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである。 （２）甲１発明の認定 ア 甲１に記載された事項 甲１には、申立人が申立書の第１３～２４ページに摘記した事項（段落【０００１】～【０００２】、【０００８】、【００１２】～【００１３】、【００２９】～【００３４】、【００３６】～【００５０】、【００５３】～【００５７】、【００６０】～【００６３】、【図１】～【図２】）がそれぞれ記載又は図示されるところ、特に、実施例の「研磨パッドＢ」に関して、【図２】に断面図が示されるとともに、段落【００５４】には次のとおり記載されている。 （ア）段落【００５４】 「【００５４】 （研磨パッドＢ） ３０質量％のポリエステルＭＤＩ（ジフェニルメタンジイソシアネート）ポリウレタン樹脂（１００％モジュラス：３．５ＭＰａ）のＤＭＦ溶液１００質量部に対して、粘度調整用のＤＭＦの４３部を混合し樹脂溶液を調製した。得られた樹脂溶液を用い、基材に樹脂溶液を塗布するときの塗布厚を１．３０ｍｍとして形成された成膜基材を、温度３５℃の凝固液（水）中に３０分浸漬することにより、成膜基材上に発泡ウレタンシートを作製した。成膜基材を剥離して得られた発泡ウレタンシートのスキン層側をバフ処理量０．１２ｍｍとしバフ番手♯１８０のサンドペーパーを使用してバフ処理を行った後、支持基材として厚み１８８μｍのポリエチレンテレフタレート製の基材を貼りつけ、溝幅を１ｍｍ、溝間隔を３ｍｍとした断面矩形状で格子パターンの溝を、エンボス加工（加工圧力４．５ＭＰａ、加工（金型）温度１４５℃、加工時間１２０秒）により形成した。エンボス加工がされていない面に研磨定盤に固定するための両面テープを貼り合わせて研磨パッドＢを製造した。」 （イ）【図２】 「 ［図：0001406670000006.jpg］ 」 イ 甲１に記載された事項からわかること 甲１に記載された事項から、次のことがわかる （ア）甲１の段落【０００８】、【００１３】、【００５４】の記載、【図２】から、甲１には、研磨層としての発泡ポリウレタンシートを表面に備える「研磨パッドＢ」が記載されていることがわかる。 （イ）甲１の研磨パッドＢ（段落【００５４】、【図２】）は、研磨パッドＡ（段落【００３０】、【００５３】、【図１】）と同様に、その上部の表面が「研磨面」として機能するものである（段落【００３０】）。また、研磨パッドＢの研磨層としての発泡ウレタンシートには、研磨パッドＡの「表面（研磨面）から裏面（定盤貼り付け側の面）に向かって延びる（又は垂下する）気泡」（段落【００３０】、【図１】）と同様の涙形状の「気泡」を有していることがわかる（段落【００２９】、【図２】）。そして、当該「気泡」は、段落【００３０】の上記記載、及び、【図２】（申立人が作成した以下の＜図２－説明１＞を参照。）に基づき、「基材表面から上向きに伸長し、上部の研磨面に開口している」とともに、「垂直な配向を有して上部の研磨面に伸長する」ともいえる。 ＜図２－説明１＞（申立書２５ページ） 「 ［図：0001406670000007.jpg］ 」 （ウ）甲１の【図２】（上記の＜図２－説明１＞、及び、申立人が作成した以下の＜図２－説明２＞を参照。）から、甲１の研磨パッドＢの発泡ウレタンシートは、その内部に、「微細孔」を備えることが看取され（＜図２－説明１＞の「斑点」を参照）、当該「微細孔」は「気泡」の壁面にも形成されるといえる（例えば、＜図２－説明２＞の「小孔」を参照）。また、研磨パッドＢの発泡ウレタンシートは、ウレタン樹脂含有溶液が塗布された基材を凝固液に浸漬・凝固して得られる（段落【００４４】～【００４６】の工程（ｃ）、【００５４】）ことから、「気泡」とともに無数の「微細孔」が当然に形成されるといえる。 してみると、甲１の発泡ウレタンシートは、その内部で「気泡が微細孔と連通接続され」るものといえる。 ＜図２－説明２＞（申立人意見書１９ページ） 「 ［図：0001406670000008.jpg］ 」 （エ）甲１の研磨パッドＢの発泡ウレタンシートにおける「微細孔」の平均直径が気泡の平均直径よりも小さいことは、【図２】をみるまでもなく自明である。 （オ）甲１の段落【００５４】の記載から、甲１の研磨パッドＢは、エンボス加工により、発泡ウレタンシートに格子パターンの溝を形成するものであって、【図２】からみて、当該溝と溝との間には、その上部の表面が「研磨面」として機能する（上記（イ）を参照）枕型の領域（以下「枕型状構造」という。）が形成されていることが看取される。また、溝が格子状パターンで形成されることからみて、当該「枕型状構造」が発泡ウレタンシート上に一連となって複数形成されること、及び、当該「溝」が「枕型状構造」間に直線的に伸長することを理解できる。 （カ）甲１の【図２】から、甲１の「枕型状構造」の上部の研磨面は、凸形状を有するとともに、当該凸形状の研磨面に対して連続して弧状の下向きに傾斜した部分（以下「側方弧状壁」という。）を形成するために、研磨面に対して下向きの表面を有していることが看取できる。 また、甲１においては、凸形状の研磨面と側方弧状壁とは連続して形成されていて、その境界位置は不明であるものの、申立人が申立書において、以下の＜図２－説明３＞を用いて主張するように、研磨面に対して「３０～６０度の範囲を含む角度で」下向きに傾斜する側方弧状壁を形成したものが記載されていることがわかる。 補足すれば、甲１の段落【００５４】には、格子パターンの溝を形成するにあたり、その溝の断面が矩形状となるようにエンボス加工によって形成することが記載されることからみて、当該側方弧状壁は、上記凸形状の研磨面から連続して弧状を有し、溝の底部付近では、底面に対してほぼ垂直の方向に伸長しているといえる。他方、凸形状の研磨面と側方弧状壁とは連続しており、その境界を示す記載等はないことから、枕型状構造のうち、どの部分が研磨面（枕型状構造の上部）で、どの部分が側方弧状壁であるかを認定し得る根拠は見当たらない。 ＜図２－説明３＞（申立書２６ページ） 「 ［図：0001406670000009.jpg］ 」 （キ）甲１の【図２】、並びに、上記（オ）及び（カ）によれば、甲１の発泡ウレタンシートに形成される溝は格子パターンであることから、四方の溝に隣接して形成される「枕型状構造」の「側方弧状壁」は、上部の凸形状の「研磨面」から四方すべての溝に向かってそれぞれ形成されていることが理解できる。そのため、甲１には、「下向きに傾斜した側方弧状壁が、各枕型状構造のすべての側方弧状壁に相当」することが記載されている、といえる。 （ク）甲１の【図２】（申立人が作成した以下の＜図２－説明４＞を参照。）によれば、甲１の気泡の一部分は、下向きに傾斜した側方弧状壁に開口していることがわかる（上記（カ）のとおり、凸形状の研磨面と側方弧状壁との境界位置は不明であるものの、例えば、５０°の説明が付された「気泡」は、「研磨面」ではなく「側方弧状壁」に開口していると理解できる。）。 ＜図２－説明４＞（申立書２７ページ） 「 ［図：0001406670000010.jpg］ 」 （ケ）上記（イ）のとおり「上部の研磨面に開口している気泡」は、垂直な配向を有して上方に伸長している（【図２】、＜図２－説明４＞の垂直孔の説明が付された気泡を参照。）のに対し、甲１の【図２】から、上記（ク）の「側方弧状壁に開口している気泡」は、垂直ではなく斜めの方向に開口している（【図２】、＜図２－説明４＞の２３°、２７°、５０°の説明が付された各気泡を参照。）ことがわかる。また、側方弧状壁に開口する気泡の方向は、側方弧状壁に対して、より直角の方向になるように伸長しており、「上部の研磨面に開口している気泡」の伸長する垂直の方向（【図２】の上下方向）からは斜めにオフセットしていることがわかる。 （コ）甲１の段落【００５４】の「溝幅を１ｍｍ、溝間隔を３ｍｍとした断面矩形状で格子パターンの溝」との記載、及び、甲１の【図２】からみて、甲１に記載の発泡ウレタンシートにおいて、複数の溝が何かしらの平均幅を有すること、また、枕型状構造の上部である凸形状の研磨面が何かしらの平均幅を有することがわかる。 ただし、甲１においては、枕型状構造のうち、どの範囲までが研磨面として作用するのか明示的な記載がないことから、複数の溝の平均幅と、複数の枕型状構造の研磨面の平均幅との大小関係については不明である。 ウ 甲１発明 甲１に記載された事項（上記アに示した段落番号、図番号等を参照）、及び、上記イに示した事項を本件発明１に倣って整理すると、甲１には次の発明（以下「甲１発明」という。）が記載されているといえる（なお、括弧内には相当関係にある本件発明１の発明特定事項、甲１又は上記イの参照箇所を示している。）。 「研磨層としての発泡ウレタンシートを表面に備えた研磨パッドＢ（多孔性ポリウレタン研磨パッド）であって（上記イ（ア））、： 基材（ベース）表面から上向きに伸長し、上部の研磨面（上部研磨表面）に開口している気泡（大孔）を有する発泡ウレタンシート（多孔性ポリウレタンマトリックス）であって（上記イ（イ））、 前記発泡ウレタンシート（多孔性ポリウレタンマトリックス）内で前記気泡（大孔）が微細孔（小孔）と連通接続され（上記イ（ウ））、 前記気泡（大孔）の一部分が前記上部の研磨面（研磨表面）に開口し（上記イ（イ））、 前記微細孔（小孔）が、前記気泡（大孔）の平均直径より小さい平均直径を有し（上記イ（エ））、 前記気泡（大孔）が、垂直な配向を有して前記上部の研磨面（上部研磨表面）に伸長する（上記イ（イ））、 前記発泡ウレタンシート（多孔性ポリウレタンマトリックス）と； 前記気泡（大孔）および前記微細孔（小孔）を包含する前記発泡ウレタンシート（多孔性ポリウレタンマトリックス）から形成された一連の枕型状構造（ピロー構造）であって（上記イ（オ））、 前記各枕型状構造（ピロー構造）が、前記上部の研磨面（上部研磨表面）に対して３０～６０度の範囲を含む角度（３０～６０度の角度）で下向きに傾斜した側方弧状壁（側壁）を形成するために、前記上部の研磨面（上部研磨表面）に対して下向きの表面を有し（上記イ（カ））、 前記下向きに傾斜した側方弧状壁（側壁）が、前記各枕型状構造（ピロー構造）のすべての側方弧状壁（側壁）に相当し（上記イ（キ））、 前記気泡（大孔）の一部分が、前記下向きに傾斜した側方弧状壁（側壁）に開口しており（上記イ（ク））、 前記下向きに傾斜した側方弧状壁（側壁）に開口している前記気泡（大孔）が、前記上部の研磨面（上部研磨表面）に開口している前記気泡（大孔）より垂直ではなく、前記下向きに傾斜した側方弧状壁（側壁）に開口する前記気泡（大孔）の方向が、前記下向きに傾斜した側方弧状壁（側壁）に対して、より直角の方向になるように、前記垂直の方向からオフセットする（上記イ（ケ）） 前記枕型状構造（ピロー構造）と； 前記枕型状構造（ピロー構造）間に直線的に伸長する複数の溝（上記イ（オ））と； を含み、 前記研磨パッドＢ（多孔性ポリウレタン研磨パッド）が、半導体デバイスなどの材料（半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つ）を、スラリー（研磨流体）ならびに前記研磨パッドＢ（多孔性ポリウレタン研磨パッド）と前記半導体デバイスなどの材料（半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つ）との間の相対運動で研磨するまたは平坦化するための前記研磨パッドＢ（多孔性ポリウレタン研磨パッド）であり（段落【０００２】、【００５４】）、 前記複数の溝が、前記上部の研磨面（上部研磨表面）に隣接して計測された平均幅を有し（上記イ（コ））、 前記一連の枕型状構造（ピロー構造）が、前記上部の研磨面（上部研磨表面）を形成する凸形状上部を有し（上記イ（カ））、 前記一連のピロー構造の前記上部研磨表面が、前記上部研磨表面の平均幅を有する（上記イ（コ）） 研磨層としての発泡ウレタンシートを表面に備えた研磨パッドＢ（多孔性ポリウレタン研磨パッド）。」 （３）本件発明１と甲１発明との対比 本件発明１と甲１発明とを対比すると、以下の相違点１～７で相違し、その余の点で一致する。 ＜相違点＞ ア 相違点１ 本件発明１においては、小孔が「大孔の間」を連通接続しているのに対して、 甲１発明においては、微細孔（小孔）が「気泡（大孔）」に連通接続しているものの、「気泡（大孔）の間」を連通接続しているかまでは、不明である点。 イ 相違点２ 本件発明１においては、小孔が、「流体の輸送を可能にするのに十分な直径」を有しているのに対して、 甲１発明においては、微細孔（小孔）の直径がどの程度であるのか、不明である点。 ウ 相違点３ 本件発明１においては、側壁に開口する大孔の方向が、「垂直の方向から１０～６０度オフセット」しているのに対して、 甲１発明においては、側方弧状壁（側壁）に開口する気泡（大孔）の方向が、側方弧状壁（側壁）に対して、より直角の方向になるように、前記垂直の方向からオフセットしているものの、そのオフセットされた角度が本件発明１にて特定される数値範囲に含まれるか、不明である点。 エ 相違点４ 本件発明１においては、「複数の溝」が、固定された速度で回転する半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つの上の点が複数の溝の幅にわたって通過する「研磨くず除去滞留時間」を有するのに対し、 甲１発明においては、「研磨くず除去滞留時間」を有するか、不明である点。 オ 相違点５ 本件発明１においては、「一連のピロー構造」が、上部研磨表面を形成する「非尖形上部」を有しているのに対し、 甲１発明においては、「一連の枕型状構造（ピロー構造）」が、上部の研磨面（上部研磨表面）を形成する「凸形状上部」を有している点。 カ 相違点６ 本件発明１においては、「一連のピロー構造」が、固定された速度で回転する半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも一つの上の点が複数の溝の幅と隣接する一連のピロー構造にわたって通過する「研磨滞留時間」を有するのに対し、 甲１発明においては、「研磨滞留時間」を有するか、不明である点。 キ 相違点７ 本件発明１においては、「一連のピロー構造」が、「前記一連のピロー構造の研磨滞留時間を低減させ、溝領域の研磨くず除去滞留時間を前記研磨滞留時間より大きい値まで増加させるため」に、「複数の溝の平均幅を下回る上部研磨表面の平均幅」を有するのに対し、 甲１発明においては、凸形状上部を有する「一連の枕型状構造（ピロー構造）」が、何かしらの「上部の研磨面の平均幅」を有するものの、その平均幅が「複数の溝の平均幅を下回る」かは不明であり、「研磨滞留時間」を低減させ、「研磨くず除去滞留時間」を「研磨滞留時間」より大きい値まで増加させるために、平均幅が設定されるのかも不明である点。 （４）当審の相違点に対する判断 事案に鑑み、まず、相違点７について検討する。 ア 本件発明１における、「研磨くず除去滞留時間」及び「研磨滞留時間」との発明特定事項は、それぞれ、半導体基板等上の任意の点が「溝の幅」及び「ピロー構造の上部研磨表面の幅」を通過するために要する時間、すなわち、「溝の幅」及び「ピロー構造の上部研磨表面の幅」を半導体基板等の回転する速度で除した時間であって、速度が固定であることから、「溝の幅」及び「ピロー構造の上部研磨表面の幅」に相関する値であることがわかる。 そして、それぞれの「幅」は、半導体基板等上の任意の点が固定の速度で回転する時の「溝の幅」及び「ピロー構造の上部研磨表面の幅」を通過するために要する時間を算出するためのパラメータであることから、研磨加工時における「幅」であることがわかる。 その上で、本件発明１において特定される「複数の溝の平均幅」と「上部研磨表面の平均幅」との大小関係は、非研磨加工時における「上部研磨表面の平均幅」が「複数の溝の平均幅」よりも単に小さいだけでは、こと足りず、研磨加工時におけるピロー構造の変形等も考慮して「一連のピロー構造の研磨滞留時間を低減させ、溝領域の研磨くず除去滞留時間を前記研磨滞留時間より大きい値まで増加させる」関係となる程度に、非研磨加工時における「前記複数の溝の平均幅」を下回る「前記上部研磨表面の平均幅を有する」ことを特定するものであると解するのが妥当である。 イ 他方、甲１発明においては、研磨加工時の「溝の幅」を「枕型状構造（ピロー構造）の上部の研磨面（上部研磨表面）の幅」よりも大きくすることについて、甲１に記載も示唆もされておらず、むしろ、段落【００２９】の「研磨加工時に研磨パッドが変形し易く」との記載や、段落【００５４】の「溝幅を１ｍｍ、溝間隔を３ｍｍとした断面矩形状で格子パターンの溝を、エンボス加工・・・により形成した」との記載からみて、研磨加工時においても枕型状構造（ピロー構造）の上部の研磨面（上部研磨表面）の幅が溝の幅よりも大きくなることを想定しているものであるとも解される。 ウ そして、甲２～甲２２のいずれにも、「一連のピロー構造が、一連のピロー構造の研磨滞留時間を低減させ、溝領域の研磨くず除去滞留時間を前記研磨滞留時間より大きい値まで増加させるために、前記複数の溝の平均幅を下回る前記上部研磨表面の平均幅を有する」に相当する技術思想が開示されておらず、また、当該技術思想が技術常識であるとも、周知技術であるとも裏付ける根拠がない。また、仮にそのような技術思想が公知であったとしても、甲１発明において、研磨加工時の「溝の幅」が「一連のピロー構造の上部の研磨面の幅」よりも大きくなるようにするという、相違点７に係る本件発明１の当該技術思想を適用することを動機付ける記載や示唆は見当たらない。 エ 以上のとおりであるから、本件発明１は、他の相違点について検討するまでもなく、少なくとも上記相違点７の点で、甲１発明、並びに、周知技術及び技術常識に基づいて、当業者が容易に想到し得たものであるとはいえない。 （５）本件発明２～４について 本件発明２～４は、本件訂正後の請求項１の記載を引用する発明であって、本件発明１の発明特定事項を全て含むから、本件発明１と同様に、本件発明２～４についても、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。 （６）小括 よって、本件発明１～４は、甲１に記載された発明、並びに甲２～甲２２に記載された周知技術及び技術常識に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものではないから、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるとはいえず、決定の予告にて示した取消理由Ｂにより、本件発明１～４に係る特許を取り消すことはできない。 第６ 申立人が主張するその他の申立ての理由について １ 申立書による申立ての理由 申立人は、申立書において、以下の取消理由を申立てているところ、上記第２及び第５に示したとおり、理由がない。 （１）理由１（第６～９ページ） 明確性要件違反、実施可能要件違反、新規事項の追加、及びサポート要件違反 上記第５の１（１）及び（２）に示したとおり、本件特許は、実施可能要件を満たすものである。また、上記第２の２（２）イ及び（４）イに示したように、新規事項の追加に該当せず、サポート要件を満たすものでもある。さらに、上記第５の２の２－１（１）に示したように、明確性要件を満たすことも明らかである。 （２）理由２（第９～１１ページ） 実施可能要件違反、サポート要件違反、及び明確性要件違反 上記第５の１（１）に示したとおり、本件特許は、実施可能要件を満たすものである。また、上記第２の２（２）イに示したようにサポート要件を満たすものであり、さらに、上記第５の２の２－１（１）に示したように、明確性要件を満たすものでもある。 （３）理由３（第１１～１２ページ） 明確性要件違反 上記第５の２の２－１（３）に示したとおり、本件特許は、明確性要件を満たすものである。 （４）理由４（第１２～１３ページ） 新規事項の追加、明確性要件違反、実施可能要件違反、及びサポート要件違反 上記第２の２（８）イに示したように、本件特許は、新規事項の追加に該当せず、サポート要件を満たすものでもある。また、上記第５の２の２－２のとおり、請求項２の記載は明確化され、実施可能要件も満たすものである。 （５）理由５（第１３～６８ページ） 進歩性欠如 上記第５の４のとおり、本件訂正後の本件発明１～４は、甲１に記載された発明、並びに甲２～甲２２に記載された周知技術及び技術常識に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものではないから、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるとはいえない。 ２ 申立人意見書１による申立ての理由 申立人は、申立人意見書１において、訂正請求書１による訂正により、以下の新たな取消理由を申立てているところ、上記第５に示したとおり、理由がない。 （１）訂正事項８により生じる新たな理由（第１５～１６ページ、３－４．） 明確性要件違反 上記第５の３の３－２に示したように、本件発明２は明確であるから、本件特許は、明確性要件を満たすものである。 ３ 申立人意見書２による申立ての理由 申立人は、申立人意見書２において、訂正請求書２による本件訂正により、以下の新たな取消理由を申立てているところ、以下のとおり、理由がない。 （１）訂正事項１０により生じる新たな理由（第６～７ページ、３－４．（２）） サポート要件違反 ア 申立人は、訂正事項１０が許容される場合、訂正後の請求項１においては、「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁（下向きの表面）」と「上部研磨表面」との間に、請求項２において規定する「５～３０度の最初のテーパー区域」が存在することを許容するだけではなく、それ以外の様々な形状の領域（様々な角度のテーパー領域あるいは弧状領域）を様々な長さにおいて含む態様を許容するものとなる。その場合、「パッド誘発性欠陥をさらに低減させ研磨速度を増加させる」（段落【０００８】）との本件発明が解決しようとする課題を解決し得ない態様が本件発明１の発明の範囲に含まれることとなるから、サポート要件を満たさない旨、主張する。 イ しかしながら、請求項１における訂正事項１０に係る発明特定事項は、「上部研磨表面」に対して「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁」を形成することを特定し明確にしているにすぎず、本件発明が解決しようとする課題を解決できないような「３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁（下向きの表面）」と「上部研磨表面」との間の様々な形状・長さを特定するものではないことは本件特許明細書等を参酌すれば明らかである。してみると、当該訂正事項１０に係る発明特定事項にて請求項１を特定したことをもって、本件発明１が発明の詳細な説明に記載した範囲を超えて特許を請求するものである、とはいえない。 （２）訂正事項６及び１０により生じる新たな理由（第７～８ページ、３－４．（３）） 明確性要件違反 ア 申立人は、訂正事項６及び１０により、本件発明１は「前記上部研磨表面に対して３０～６０度の角度で下向きに傾斜した側壁が、前記各ピロー構造のすべての側壁に相当し」なる記載に訂正されたことに等しいものの、訂正事項１０では、「５～３０度の最初のテーパー区画」等を含む側壁を有する態様を許容しており、両者は矛盾することから本件発明１及び２は明確でない旨、主張する。 イ しかしながら、上記第５の３－２で示したとおり、本件発明１と本件発明２は整合し、本件発明１～２は明確であるから、本件特許は、明確性要件を満たすものである。 （３）訂正事項１０及び１５により生じる新たな理由（第８～１０ページ、３－４．（４）） 明確性要件違反 ア 申立人は、次の旨を主張する。 「訂正事項１５により、本件発明１は「上部研磨表面」が「非尖形上部」を有すると訂正している。一般的に「非尖形」とは「先端・先が尖った形」（甲２３－１、甲２３－２）ではないことを意味することから、断面が曲線で構成される、半球形、ドーム型、あるいは弧状形状といった形状が「非尖形」に含まれることとなる。他方、訂正事項１０は、「上部研磨表面」に対して「下向きに傾斜した側壁」が３０～６０度の角度であることを規定することから、所定の角度を決める基準となる「上部研磨表面」は平面であると考えられるところ、「上部研磨表面」は平面であるのか、非尖形であるのか不明である。」 イ しかしながら、以下の点を総合してみれば、本件訂正後の請求項１における「非尖形上部」とは、先が尖った形ではない上部であって、実質的に平面形状を意味するものと解釈することができるから、明確でないとはいえない。 （ア）本件特許明細書等の段落【００１６】の「複数の溝内の複数の突出ランド領域は、複数の突出ランド領域の研磨表面の上部または平面から外側かつ下側に伸長するテーパー状支持構造で支えられる。好ましくは、研磨表面の平面から計測された３０～６０度の傾斜である。」との記載を参酌すれば、「上部研磨表面」に対して「下向きに傾斜した側壁」が３０～６０度の角度を有することを特定している本件発明１の「上部研磨表面」は、実質的に平面形状であるといえること。 （イ）本件特許明細書等の段落【００１８】の「複数の突出ランド領域は、突出ランド領域の研磨滞留時間を低減させ、溝領域の研磨くず除去滞留時間を研磨滞留時間より大きい値まで増加させるために、複数の溝の平均幅を下回る平均幅を有する。」との記載を参酌すれば、「上部研磨表面」は所定の幅を有することが規定されるところ、仮に甲１の図２のように、上部研磨表面と側壁とが連続した曲線である場合に、「上部研磨表面」の「幅」を特定することができないこと。 （ウ）本件特許明細書等の段落【００１９】の「好ましくは、下向きに傾斜した側壁は、下向きに傾斜した側壁に通じる、研磨表面から計測された５～３０度の最初のテーパー区域を有する。」との記載を参酌すれば、「上部研磨表面」は５度（最初のテーパー区域）よりも小さな傾きであり、実質的に平面形状であるといえること。 （エ）本件特許明細書等の段落【００１６】に「複数のランド領域は、垂直孔を含有するポリマーマトリックスから研磨表面を形成する錐形または非尖形上部を有する。通常、突出ランド領域は、複数の溝が突出ランド領域間に直線的に伸長する、半球形、錐形－ピラミッド形、錐形－台形およびそれらの組み合わせから選択される形状を有する。」と記載されるところ、本件訂正の訂正事項１５は、本件特許の関連特許である特許７０１０６１９号に対する特許異議申立事件（異議２０２２－７００７１６号）において訂正事項４として訂正された内容に準じて訂正されたものである。当該異議事件では、訂正事項４として、「錐形または非尖形上部」との選択事項から「非尖形上部」に限定し、合わせて訂正事項６として、「半球形、錐形－ピラミッド形、錐形－台形およびそれらの組み合わせ」との選択事項から「錐形－台形」に対応する「四角錐台」のみに限定し、「半球形」等をその対象から削除していることからみても、「非尖形上部」に「半球形」を含まないことを意図していた、といえること。 （オ）権者意見書２において、甲１の図２に示されるような凸形状が、本件発明１の「上部研磨表面」とは異なることを主張していること。 ウ なお、申立人は申立人意見書２の第９～１０ページにおいて、図５Ａの研磨パッドと、当該図５Ａを左右反転させた図とを重ね合わせた以下の説明図をもって、上部研磨表面がどの部分に相当するか不明であり、中央部分が「尖形」状であるようにもみえる旨の指摘をするものの、当該図は申立人が仮定したものにすぎず、特許請求の範囲や発明の詳細な説明には、上部研磨表面が非尖形であることが明記され、上述のとおり実質的に平面形状を意味するものと解されることから、当該説明図に基づく主張に首肯することはできない。 ＜申立人意見書２説明図＞（申立人意見書２の第１０ページ） 「 ［図：0001406670000011.jpg］ 」 エ したがって、本件訂正の訂正事項１０と訂正事項１５とは矛盾するものではなく、本件発明１における「上部研磨表面」は非尖形であって平面であることが明確であるから、本件発明１は明確であり、本件特許は、明確性要件を満たすものである。 第７ むすび 以上のとおり、請求項１～４に係る特許は、取消理由通知及び決定の予告に記載した取消理由、並びに、特許異議申立書及び申立人意見書１～２に記載した申立ての理由によっては、取り消すことはできない。 また、他に請求項１～４に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。