2022-700343

特許第６９５３１１４号発明「シリカ系中空粒子、コアシェル粒子及びポリスチレン粒子、並びに、それらの製造方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第６９５３１１４号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１、２〕、〔４、９〕、〔５～７〕について訂正することを認める。 特許第６９５３１１４号の請求項１～９に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第６９５３１１４号（以下、「本件特許」という。）の請求項１～９に係る特許についての出願は、平成２８年６月２１日に出願され、令和３年１０月１日にその特許権の設定登録がされ、同年同月２７日に特許掲載公報が発行された。 その後、その請求項１～９に係る特許について、令和４年４月２６日に特許異議申立人 堀 久美子（以下、「申立人」という。）により特許異議の申立てがされ、同年８月１６日付けで取消理由が通知され、同年１０月２０日に特許権者により意見書の提出及び訂正の請求（以下、「先の訂正請求」という。）がされ、同年１２月６日に申立人により意見書の提出がされ、令和５年１月１７日付けで取消理由（決定の予告）が通知され、同年３月２３日に特許権者により意見書の提出及び訂正の請求（以下、「本件訂正請求」という。）がされ、同年５月１５日に申立人により意見書の提出がされた。 なお、本件訂正請求がされたので、先の訂正請求は、特許法第１２０条の５第７項の規定により取り下げられたものとみなす。 第２ 訂正の適否について １ 訂正の内容 本件訂正請求（以下、本件訂正請求による訂正を「本件訂正」という。）は、次の訂正事項１～３からなる。なお、下線は訂正箇所を示す。 (１) 訂正事項１ 特許請求の範囲の請求項１に 「アスペクト比が１．５以下の粒子が全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であるシリカ系中空粒子であって、 平均粒子径が３０～１５０ｎｍであり、」 と記載されているのを 「アスペクト比が１．５以下の粒子が全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～２６．１％であるシリカ系中空粒子であって、 平均粒子径が３０～５５．２ｎｍであり、」 に訂正する。請求項１の記載を引用する請求項２も同様に訂正する。 (２) 訂正事項２ 特許請求の範囲の請求項４に 「請求項１又は２に記載のシリカ系中空粒子、又は、請求項３に記載のコアシェル粒子を製造するためのカチオン性ポリスチレン粒子」 と記載されているのを 「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であるシリカ系中空粒子であって、平均粒子径が３０～１５０ｎｍであり、シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されているシリカ系中空粒子、又は、請求項３に記載のコアシェル粒子を製造するためのカチオン性ポリスチレン粒子」 に訂正する。請求項４の記載を引用する請求項９も同様に訂正する。 (３) 訂正事項３ 特許請求の範囲の請求項５に 「請求項１又は２に記載のシリカ系中空粒子の製造方法」 と記載されているのを 「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であるシリカ系中空粒子であって、平均粒子径が３０～１５０ｎｍであり、シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されているシリカ系中空粒子の製造方法」 に訂正する。請求項５の記載を引用する請求項６及び７も同様に訂正する。 (４) 一群の請求項及び別の訂正単位とする求めについて 訂正前の請求項１、２、４～７、９は一群の請求項であるところ、本件訂正事項１～３に係る特許請求の範囲の訂正は、特許法第１２０条の５第４項の規定に従い、この一群の請求項〔１、２、４～７、９〕を訂正の単位として請求されたものである。 また、特許権者は、訂正後の請求項４～７及び９に係る訂正について、当該訂正が認められる場合には、同請求項１、２に係る訂正と別の訂正単位として扱われることを求めている。 ２ 訂正要件（訂正の目的の適否、新規事項の有無、特許請求の範囲の拡張・変更の存否について）の判断 (１) 訂正事項１について ア 訂正の目的、特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項１は、請求項１における粒子径の変動係数を「２０～２６．１％」に限定し、平均粒子径を「３０～５５．２ｎｍ」に限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 イ 新規事項の有無 願書に添付した明細書（以下、「本件明細書」といい、特許請求の範囲及び図面と併せて「本件明細書等」という。）の【００２０】には、「本発明のシリカ系中空粒子の粒子径の変動係数は、２０～６０％である。２０～５０％が好ましく、２０～４０％がより好ましい。」と、【００２４】には「シリカ系中空粒子の平均粒子径は、３０～１５０ｎｍが好ましく、３５～１２０ｎｍがより好ましく、３５～１００ｎｍが更に好ましい。」と記載されている。また、【表１】の実施例３には、シリカ系中空粒子の粒子径の変動係数が２６．１％、平均粒子径が５５．２ｎｍであることが記載されている。 そうすると、訂正事項１は、【００２０】、【００２４】、【表１】実施例３の前記記載に基づき、粒子径の変動係数を「２０～２６．１％」とし、平均粒子径を「３０～５５．２ｎｍ」とする訂正であって、新たな技術的事項を導入するものでないから、当該訂正事項１は、本件明細書等に記載した事項の範囲内においてされたものである。 (２) 訂正事項２について ア 訂正の目的、特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項２は、訂正前の請求項４の記載が訂正前の請求項１又は２の記載を引用する記載であったものを、訂正前の請求項１の記載のみを引用する形式とした上で、請求項間の引用関係を解消する訂正であって、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」及び同第４号に掲げる「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること」を目的とするものであり、実質上特許請求の範囲を拡張、又は変更するものでない。 イ 新規事項の有無 上記アのとおり、訂正事項２は、訂正前の請求項１の記載のみを引用する形式とした上で、請求項間の引用関係を解消するものであるから、本件明細書等に記載した事項の範囲内においてされたものである。 (３) 訂正事項３について ア 訂正の目的、特許請求の範囲の拡張・変更の存否 訂正事項３は、訂正前の請求項５の記載が訂正前の請求項１又は２の記載を引用する記載であったものを、訂正前の請求項１の記載のみを引用する記載とした上で、請求項間の引用関係を解消する訂正であって、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」及び同第４号に掲げる「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること」を目的とするものであり、実質上特許請求の範囲を拡張、又は変更するものでない。 イ 新規事項の有無 上記アのとおり、訂正事項３は、訂正前の請求項１の記載のみを引用する形式とした上で、請求項間の引用関係を解消するものであるから、本件明細書等に記載した事項の範囲内においてされたものである。 (４) 独立特許要件について 特許異議の申立ては、請求項１～９についてされているので、訂正事項１～３に関して、特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する同法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。 ３ 小括 以上のとおり、本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号及び第４号に掲げる事項を目的とするものに該当し、同法同条第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合する。 そして、特許権者から、上記１(４)のとおり、訂正後の請求項４～７、９については、一群の請求項の他の請求項とは別の訂正単位とする求めがあったことから、訂正後の請求項〔４、９〕、〔５～７〕についての訂正は、それぞれ、請求項〔１、２〕とは別の訂正単位として扱う。 したがって、本件特許の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１、２〕、〔４、９〕、〔５～７〕について訂正することを認める。 第３ 訂正後の本件発明 本件訂正がされた請求項１～９に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」などといい、これらをまとめて「本件発明」という。）は、訂正特許請求の範囲の請求項１～９に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 「【請求項１】 アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～２６．１％であるシリカ系中空粒子であって、 平均粒子径が３０～５５．２ｎｍであり、 シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている、シリカ系中空粒子。 【請求項２】 反射防止フィルム材料、絶縁膜材料又は断熱材材料である、請求項１に記載のシリカ系中空粒子。 【請求項３】 分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子をコアとし、前記カチオン性ポリスチレン粒子を被覆するシリカ系シェルを有するコアシェル粒子であって、 アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であり、 平均粒子径が３０～１５０ｎｍであり、 前記分散剤が、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、コラーゲン、及び多糖類から選択される少なくとも１種であり、 シリカ系シェルを形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている、コアシェル粒子。 【請求項４】 アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であるシリカ系中空粒子であって、平均粒子径が３０～１５０ｎｍであり、シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されているシリカ系中空粒子、又は、請求項３に記載のコアシェル粒子を製造するためのカチオン性ポリスチレン粒子であって、 アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であり、 ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、コラーゲン、及び多糖類から選択される少なくとも１種の分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子。 【請求項５】 アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であるシリカ系中空粒子であって、平均粒子径が３０～１５０ｎｍであり、シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されているシリカ系中空粒子の製造方法であって、 （１）スチレンモノマーと、分散剤と、カチオン性重合開始剤と、混合溶媒とを含む溶液中で、前記スチレンモノマーの重合反応を行い、カチオン性ポリスチレン粒子を調製する工程であって、前記混合溶媒は、水とアセトンとの混合溶媒であり、前記分散剤は、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、コラーゲン、及び多糖類から選択される少なくとも１種である工程１、 （２）溶媒に、（ｉ）前記カチオン性ポリスチレン粒子と、（ｉｉ）トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランから選択される少なくとも１種と、（ｉｉｉ）塩基性触媒とを添加撹拌して溶液を調製することにより、前記溶液中で、前記カチオン性ポリスチレン粒子をコアとし、前記カチオン性ポリスチレン粒子を被覆するシリカ系シェルを有するコアシェル粒子を形成する工程２、及び （３）前記コアシェル粒子のコアである、前記カチオン性ポリスチレン粒子を熱分解することにより、前記カチオン性ポリスチレン粒子を除去する工程３ を含む、製造方法。 【請求項６】 前記工程１で用いられる混合溶媒は、水とアセトンとの混合比が質量比で９０：１０～２０：８０である、請求項５に記載の製造方法。 【請求項７】 前記分散剤は、ポリビニルピロリドン、及びヒドロキシプロピルセルロースから選択される少なくとも１種である、請求項５又は６に記載の製造方法。 【請求項８】 請求項３に記載のコアシェル粒子の製造方法であって、 （１）スチレンモノマーと、分散剤と、カチオン性重合開始剤と、混合溶媒とを含む溶液中で、前記スチレンモノマーの重合反応を行い、カチオン性ポリスチレン粒子を調製する工程であって、前記混合溶媒は、水とアセトンとの混合溶媒であり、前記分散剤は、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、コラーゲン、及び多糖類から選択される少なくとも１種である工程１、及び （２）溶媒に、（ｉ）前記カチオン性ポリスチレン粒子と、（ｉｉ）トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランから選択される少なくとも１種と、（ｉｉｉ）塩基性触媒とを添加撹拌して溶液を調製することにより、前記溶液中で、前記カチオン性ポリスチレン粒子をコアとし、前記カチオン性ポリスチレン粒子を被覆するシリカ系シェルを有するコアシェル粒子を形成する工程２ を含む、製造方法。 【請求項９】 請求項４に記載のカチオン性ポリスチレン粒子の製造方法であって、（１）スチレンモノマーと、分散剤と、カチオン性重合開始剤と、混合溶媒とを含む溶液中で、前記スチレンモノマーの重合反応を行い、カチオン性ポリスチレン粒子を調製する工程であって、前記混合溶媒は、水とアセトンとの混合溶媒であり、前記分散剤は、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、コラーゲン、及び多糖類から選択される少なくとも１種である工程１を含む、製造方法。」 第４ 特許異議申立の理由、及び取消理由通知に記載した取消理由について １ 証拠について 申立人が提出した証拠は、下記(１)、(２)のとおりである。なお、以下では甲第１号証、甲第２号証等を、それぞれ「甲１」、「甲２」等という。 (１) 特許異議申立書に添付して提出された証拠 甲１：江上美紀、“機能性ナノ粒子を用いたナノコンポジット薄膜とその 応用”、粉砕、２０１２年１２月１５日、Ｎｏ．５６、第４２～４ ７ページ 甲２：鈴木道隆、“粒子の付着性や充填性に及ぼす微粒子の影響”、化学 装置、２０１４年２月号、第１７～２０ページ（甲２の２からみて 、２０１４年１月２８日に発行） 甲２の２：「化学装置２０１４年０１月２８日発売号」のウェブサイト 甲３：神谷秀博、他１名、“超微粒子凝集体の充填シミュレーションと Brownian dynamic methodによる凝集過程の解析”、化学工学論文 集、１９９１年、第１７巻、第４号、第８３７～８４５ページ（甲 ３の２からみて、１９９１年７月１０日に発行） 甲３の２：「化学工学論文集」のウェブサイト 甲４：“２０１５年３月期決算説明会”，［online］，２０１５年５月１ ５日，扶桑化学工業株式会社，［令和４年８月４日検索］，インタ ーネット＜URL：https://fusokk.co.jp/wp-content/uploads/2019/ 06/file01c82Kkid7g_.pdf＞ 甲５：扶桑化学工業株式会社のウェブサイト「ＩＲカレンダー」 甲６：２０１５年７月５日のインターネットアーカイブ 甲７：２０１５年７月５日のインターネットアーカイブ 甲８：甲４の電子ファイルのプロパティ画面 甲９：特許第４８８３３８３号公報 甲１０：特許第４２３８１４７号公報 甲１１：特開２０１１－２２５７５６号公報 甲１２：特開２００９－１１４０１０号公報 甲１３：特開２００９－２３４８４８号公報 甲１４：特開２０１３－２２６５３９号公報 甲１５：特開２０１０－１８９６４８号公報 甲１６：M Fuji, et al.，“Synthesis and shell structure design of hollow silica nanoparticles using polyelectrolyte as templ ate”，Journal of Physics: Conference Series，２０１５年， 596，012007，p.1-6（甲１６の２からみて、２０１５年４月８日 に公開） 甲１６の２：Journal of Physics Conference Series, Vol. 596, 2015のウェブサイト 甲１７：特開２０１４－９４８６７号公報 甲１８：Yi Du, et al.，“Hollow Silica Nanoparticles in UV-Visible Antireflection Coatings for Poly(methyl methacrylate) Substrates”，ACS NANO，２０１０年６月１０日，Vol.4，No.7 ，p.4308-4316 甲１９：特開２００６－７９０６８号公報 甲２０：特開２００１－２３３６１１号公報（甲１９の明細書で示された 文献） 甲２１：特開２０１２－３０４８９号公報 甲２２：特表２０００－５００１１３号公報（甲１２の明細書で示された 文献） (２) 令和５年５月１５日提出の意見書に添付して提出された証拠 甲２３：特開２０１４－５８６８３号公報 甲２４：Yong Wan et al., “Polyelectrolyte Controlled Large-Scale Sysnthesis of Hollow Silica Spheres with Tunable Sizes and Wall Thicknesses”, Journal of Physics C, ２００８年２ 月２１日, Vol.112, p.3641-3647（甲１６の明細書で示された文 献） (３) 証拠の補足説明 甲１～３は、後記２(７)「申立理由７（サポート要件違反）」における技術常識の証拠として示されたものである。 甲２の２、甲３の２、甲５～８、甲１６の２は、それぞれ甲２、甲３、甲４、甲１６の公知日の証拠として示されたものである。 甲４、甲９、甲１０、甲１４～１６及び甲１８は、進歩性欠如に関する後記申立理由１～６（後記２(１)～(６)。主たる証拠は、甲４、甲１２、甲１６、甲１８、甲１９、甲２１。）に関して、周知技術又は技術常識の証拠として示されたものである。 ２ 特許異議申立理由の概要 申立人が主張する特許異議申立理由は、概略、以下のとおりである。 (１) 申立理由１（甲４を主たる証拠とした新規性、進歩性欠如） 請求項１～２に係る発明は、本件特許の出願前に日本国内又は外国において頒布された、甲４に記載された発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当するから、請求項１～２に係る特許は特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものである。 また、請求項１～９に係る発明は、甲４に記載された発明並びに甲１１～１３に記載された事項及び周知技術に基いて当業者が容易に発明することができたものであるから、請求項１～９に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 (２) 申立理由２（甲１６を主たる証拠とした新規性、進歩性欠如） 請求項１～２に係る発明は、本件特許の出願前に日本国内又は外国において頒布された、甲１６に記載された発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当するから、請求項１～２に係る特許は特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものである。 また、請求項１～９に係る発明は、甲１６に記載された発明並びに甲１１～甲１３、甲１７に記載された事項及び周知技術に基いて当業者が容易に発明することができたものであるから、請求項１～９に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 (３) 申立理由３（甲１８を主たる証拠とした新規性、進歩性欠如） 請求項１～２に係る発明は、本件特許の出願前に日本国内又は外国において頒布された、甲１８に記載された発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当するから、請求項１～２に係る特許は特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものである。 また、請求項１～９に係る発明は、甲１８に記載された発明並びに甲１３、甲１７に記載された事項及び周知技術に基いて当業者が容易に発明することができたものであるから、請求項１～９に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 (４) 申立理由４（甲１９を主たる証拠とした進歩性欠如） 請求項１～９に係る発明は、本件特許の出願前に日本国内又は外国において頒布された、甲１９に記載された発明並びに甲１３、甲１７に記載された事項及び周知技術に基いて当業者が容易に発明することができたものであるから、請求項１～９に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 (５) 申立理由５（甲２１を主たる証拠とした新規性、進歩性欠如） 請求項１～２に係る発明は、本件特許の出願前に日本国内又は外国において頒布された、甲２１に記載された発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当するから、請求項１～２に係る特許は特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものである。 また、請求項１～９に係る発明は、上記甲２１に記載された発明並びに甲１３、甲１７に記載された事項及び周知技術に基いて当業者が容易に発明することができたものであるから、請求項１～９に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 (６) 申立理由６（甲１２を主たる証拠とした新規性、進歩性欠如） 請求項１～２に係る発明は、本件特許の出願前に日本国内又は外国において頒布された、甲１２に記載された発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当するから、請求項１～２に係る特許は特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものである。 また、請求項１～９に係る発明は、上記甲１２に記載された発明並びに甲１３、甲１７に記載された事項及び周知技術に基いて当業者が容易に発明することができたものであって、請求項１～９に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 (７) 申立理由７（サポート要件違反） 請求項１～９に係る特許は、特許請求の範囲の記載が下記５(８)オ(ア)の点で不備のため、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 ３ 令和５年１月１７日付け取消理由通知書（決定の予告）に記載した取消理由の概要 先の訂正請求の内容を踏まえて、令和５年１月１７日付けで当審が通知した取消理由（決定の予告）の内容は、概略、以下のとおりである。 (１) 取消理由１（実施可能要件違反） 請求項１、２に係る特許は、発明の詳細な説明の記載が下記５(１)ア(ア)の点で不備のため、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり、取り消されるべきものである。 (２) 取消理由２（明確性要件違反） 請求項１、２に係る特許は、特許請求の範囲の記載が下記５(１)ア(イ)の点で不備のため、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 (３) 取消理由３（甲４を主たる証拠とした新規性、進歩性欠如） 請求項１に係る発明は、本件特許の出願前に日本国内又は外国において頒布された、甲４に記載された発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当するから、請求項１に係る特許は特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものであるか、又は同文献に記載された発明に基いて当業者が容易に発明することができたものであって、同特許は、同条第２項の規定に違反してされたものである。 また、請求項２に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において頒布された、甲４に記載された発明に基いて当業者が容易に発明することができたものであるから、請求項２に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 (４) 取消理由４（甲１６を主たる証拠とした新規性、進歩性欠如） 請求項１に係る発明は、本件特許の出願前に日本国内又は外国において頒布された、甲１６に記載された発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当するから、請求項１に係る特許は特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものであるか、又は同文献に記載された発明に基いて当業者が容易に発明することができたものであるから、同特許は、同条第２項の規定に違反してされたものである。 また、請求項２に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において頒布された、甲１６に記載された発明に基いて当業者が容易に発明することができたものであるから、請求項２に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 (５) 取消理由５（甲１８を主たる証拠とした新規性、進歩性欠如） 請求項１に係る発明は、本件特許の出願前に日本国内又は外国において頒布された、甲１８に記載された発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当するから、請求項１に係る特許は特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものであるか、又は同文献に記載された発明に基いて当業者が容易に発明することができたものであるから、同特許は、同条第２項の規定に違反してされたものである。 また、請求項２に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において頒布された、甲１８に記載された発明に基いて当業者が容易に発明することができたものであるから、請求項２に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 ４ 各甲号証の記載 (１) 甲１の記載事項 甲１には、以下の事項が記載されている。 ア 「 機能を付与するためのナノ粒子をマトリックス成分と組み合わせてナノコンポジット化することで、簡易なプロセスで効果的な機能性薄膜を得ることができる。マトリックス成分は、有機樹脂と無機重合体に大別される。高温プロセスに耐えられないフィルム基材等の場合には、紫外線硬化型有機樹脂バインダーが有効である。溶剤や添加剤によっても性能が左右されるので、最適化が必要である。マトリックス成分に、組成、粒子径、分布などを最適化した機能性ナノ粒子を単分散させることで、まずは透明性に優れた機能性薄膜を得ることができた（第一世代）。」（４２ページ右欄最下行～４３ページ左欄１０行） イ 「 得られた中空シリカ粒子をフィラーとして、有機樹脂マトリックスと配合したナノコンポジット塗料を設計し、およそ100nm膜厚の低屈折率層を形成した断面写真を図6に示す。空孔(Core部分)を有した比較的均一な粒子が、二列に制御された形で密にパッキング良く配列されていることが分かる。」（４５ページ右欄１０行～４６ページ左欄１行） (２) 甲２の記載事項 甲２には、「２．粒子充填に及ぼす粒子径の影響」（１７ページ）及び「３．充填性に及ぼす粒子径分布の影響」（１９ページ）の章立てがされている。 (３) 甲４の記載事項 甲４には、以下の事項が記載されている。 ア 「・中空シリカ 粒子径数十ｎｍの内部が空洞のシリカ粒子。低屈折材料、絶縁材料、ＤＤＳ材料等への利用が期待される。」（スライド番号３６） イ 「 ［図：0001404737000001.jpg］ 」（スライド番号３６）（以下、「画像」という。） ウ 「 ［図：0001404737000002.jpg］ 」（スライド番号３６） (４) 甲１１の記載事項 甲１１には、以下の事項が記載されている。 「【０００９】 〔低誘電樹脂組成物、及び低誘電膜〕 本発明の低誘電樹脂組成物は、平均粒子径が０．０５～３μｍ、空孔率が３０～９０％、ＢＥＴ比表面積が３０ｍ2／ｇ未満である中空シリカ粒子（Ｃ）が、マトリクス樹脂中に分散されてなることを特徴とし、本発明の低誘電膜は該低誘電樹脂組成物からなることを特徴とする。 本発明の低誘電樹脂組成物、及び低誘電膜では、前記特定の構造を有する中空シリカ粒子（Ｃ）を分散して含有していることにより、樹脂組成物中の空気の体積割合が好ましくは３～６０％となるため、その誘電率、誘電正接の低下が図られる。・・・」 (５) 甲１２の記載事項 甲１２には、以下の事項が記載されている（下線は当審が付与した。以下同様。）。 ア 「【００１９】 ［粒子径分布］ 前記中空シリカ微粒子については、その粒子径分布が単分散状態にあるものが好ましい。具体的には、粒子径変動係数（ＣＶ値）が５０％以下にあるものが好ましい。本発明に係る球状シリカ粒子は、このような粒子径分布の均一性の高い中空シリカ微粒子が集合し、決着してなる中空シリカ微粒子集合体、または中空シリカ微粒子集合体とその表面に形成された外層とからなるものであり、特に粒子径分布が単分散状態にあるため〔半導体用途〕に適用した場合に〔絶縁性または耐熱性〕の効果が優れるものとなる。粒子径変動係数（ＣＶ値）が５０％を超える場合は、粒子径の均一性が低いためこのような効果は生じ難くなる。なお、中空シリカ微粒子の粒子径変動係数（ＣＶ値）については、１０％以上５０％以下であれば、〔絶縁性または耐熱性〕の効果が充分に得られるため、１０％未満であることは必ずしも求められない。 ・・・ 【００２１】 ［形状］ 前記中空シリカ微粒子の形状については、球状が好ましい。ここで球状については、目視により、棒状、勾玉状、細長い形状、数珠状、卵状などの異形粒子であると認められない程度であれば構わないが、より好適には、真球度が０．９０～１．００の範囲にあるものが推奨される。ここで真球度とは、透過型電子顕微鏡により写真撮影して得られる写真投影図における任意の５０個の粒子について、それぞれその最大径（ＤＬ）と、これと直交する短径（ＤＳ）との比（ＤＳ／ＤＬ）の平均値を意味する。真球度が０．９０未満の場合は、微粒子が球状であるとは云えず、前記の異形粒子に該当するものを含む場合が生じる。本発明に係る球状シリカ粒子は、前記の粒子径の均一性に加えて、真球度が０．９０～１．００の範囲にあることにより、構造的に安定するため球状シリカ粒子の強度の点で好ましいものとなる。なお、真球度が０．９０に満たない中空シリカ微粒子については、いわゆる水熱処理を行って、真球度を０．９０～１．００の範囲に調整してから、本発明における中空シリカ微粒子として適用することができる。水熱処理の条件としては、温度１００～２００℃にて、１～２４時間の処理を行う方法を挙げることができる。また、水熱処理には、オートクレーブを使用することも推奨される。 【００２２】 ［組成］ 前記中空シリカ微粒子の組成については、シリカを含有するものであれば格別に制限されるものではなく、中空シリカ微粒子の製造原料に起因してシリカ以外の元素または化合物が残存していても構わない。このような残存する元素および化合物の例としては、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化スズ、酸化セリウム、ナトリウム、カリウムなどを挙げることができる。 【００２３】 ［製造方法］ 本発明における中空シリカ微粒子については、従来公知の製造方法により調製されたもので構わない。公知の製造方法の例としては、特表２０００－５００１１３号公報に記載されたような珪酸アルカリ金属水溶液から活性シリカをシリカ以外の材料からなるコア上に沈殿させ、該材料をシリカシェルを破壊させることなく除去することによって、稠密なシリカシェルからなる中空粒子を製造する方法、特開２００１－２３３６１１号公報に記載されているようなシリカとシリカ以外の無機酸化物からなる複合酸化物の核粒子にシリカ被覆層を形成し、ついでシリカ以外の無機酸化物を除去し、必要に応じてシリカを被覆してなるナノメーターサイズの中空シリカ系微粒子の製造方法などを挙げることができるがこれらに限定されるものではない。」 イ 「[合成例１] 【００６４】 特開２００１－２３３６１１号実施例２に準じて、以下の方法にて中空シリカ微粒子を調製した。 平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０重量％のシリカゾル１００ｇと純水１９００ｇの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2として１．１７重量％の珪酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ2Ｏ3として０．８３重量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、殆ど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０重量％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子分散液を調製した。（工程(a)） 【００６５】 この核粒子分散液５００ｇに純水１，７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、珪酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られた珪酸液（ＳｉＯ2濃度３．５重量％）３，０００ｇを添加して第１シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。（工程(b)） 【００６６】 限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３重量％になった第１シリカ被覆層を形成した核粒子分散液５００ｇに純水１，１２５ｇを加え、さらに濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3多孔質粒子の分散液を調製した（工程(c)）。上記多孔質粒子分散液１５００ｇと、純水５００ｇ、エタノール１，７５０ｇおよび２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ2２８重量％）１０４ｇを添加し、第１シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第２シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０重量％のシリカ系微粒子の分散液を調製した。得られたシリカ系微粒子を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察したところ、平均粒子径が４６ｎｍで、外層の厚さが１０ｎｍの中空シリカ微粒子であることが分かった。 ・・・ 【実施例１】 【００６８】 合成例１と同様な製造方法で得られたシリカ濃度２０質量％の中空シリカゾル５Ｌを遠心分離機(株式会社コクサン製、連続高速遠心機Ｈ－６６０)のローター（型式：ＱＮＳ、容量：１Ｌ）に連続的に注入し、７０００Ｇにて４００ｇ／分の速度で通液し、液を連続して回収することにより、粗大粒子の遠心分離処理を行った。粗大粒子はローター内に沈殿した。 【００６９】 この中空シリカゾルは、平均粒子径４６ｎｍ、比表面積１２１ｍ2／ｇ、真球度０．９３のシリカ微粒子が水に分散してなる中空シリカゾルであった。なお、この中空シリカゾルの粒子変動係数（ＣＶ値）は、３０％であり中空シリカ微粒子が単分散しているものであることが分かった。 ・・・ 【００７４】 得られたスラリーをヌッチェにて脱水し、得られたケーキに６０℃の純水を１５００ｇ加えて洗浄し、脱水処理を行った。得られた該洗浄ケーキを１１０℃の温度で１８時間乾燥したところ、球状の粉体を２４０ｇ得た。更にこの粉体を温度８００℃で６時間焼成することにより球状シリカ粒子を得た。この球状シリカ粒子の分析結果を表４に記す。また、使用した中空シリカ微粒子の物性値、および球状シリカ粒子の製造条件を表１～３に記す。 ・・・ 【００９４】 【表１】 ［図：0001404737000003.jpg］ 」 ウ 「【００９８】 本発明の球状シリカ粒子は、低比重で良好な粒子破壊強度を示すものであり、この球状シリカ粒子は断熱特性を有することから、断熱材、消音材、防音材等、軽量骨材として、好適である。また、化粧料に用いれば、非常に軽く、ソフトで伸びのよいファンデーションが得られる。 【００９９】 このほか、インク用体質顔料、トナー、剥離性改良剤、潤滑剤、自動車用ワックス等の研磨材、樹脂・ゴム耐摩耗性改良用高硬度フィラー剤、流動性改良剤、艶消フィラー、無収縮フィラー、パテ用充填剤、吸着剤、クロマト用担体、香料包括ビーズ、殺菌剤・殺虫剤・防黴剤包括ビーズ、液晶包括ビーズ等の用途も例示することができる。」 (６) 甲１３の記載事項 甲１３には、以下の事項が記載されている。 ア 「【発明を実施するための最良の形態】 【０００６】 以下に本発明の実施の形態に係る中空粒子の製造方法について説明する。 本発明の実施の形態に係るシリカ系中空粒子の製造方法は、重合体粒子にシリカ系被覆層を形成してコア・シェル粒子を得る工程と、前記工程により得られたコア・シェル粒子を加熱することにより重合体粒子を分解する工程を含むことを特徴とする。 【０００７】 以下、本実施形態に係るシリカ系中空粒子分散体の製造方法の各工程について説明する。 １．工程（ａ） 工程（ａ）は、重合体粒子およびアニオン系界面活性剤を含有する水系の分散媒中で、下記一般式（１）で表される少なくとも１種の化合物を加水分解縮合させることにより、シリカ系被覆層を有するコア・シェル粒子を形成する工程である。まず、該コア・シェル粒子のコア粒子となる重合体粒子について説明する。 【０００８】 １．１．重合体粒子 重合体粒子としては、特に限定されるものではないが、重合体粒子を構成する重合体の重量平均分子量は、１，０００～１００，０００であることが好ましく、５，０００～８０，０００であることがより好ましく、１０，０００～５０，０００であることが特に好ましい。なお、この重量平均分子量はＧＰＣ測定装置を用いて測定することができる。本発明の重合体の場合、通常、標準物質としてポリスチレンを用い、カラムは超高分子測定用カラムを使用し、溶出液としてはテトラヒドロフランを使用し、４０℃において測定する。 また、この重合体粒子の大きさは特に限定されないが、１０～５０００ｎｍとすることができ、３０～１０００ｎｍとすることが好ましく、５０～５００ｎｍとすることがより好ましい。尚、この平均粒子径は透過型電子顕微鏡により測定することができる。 また、重合体粒子の形状としては、特に限定されるものではないが、球状であることが好ましい。 【０００９】 また、重合体粒子の組成としては、特に限定されるものではないが、カチオン性基を有する重合体粒子を用いることが好ましい。 カチオン性基を有する重合体粒子を構成する重合体として、例えばアクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ樹脂、アイオノマー樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ブタジエン樹脂等の熱可塑性樹脂あるいは熱硬化性樹脂が挙げられる。そして重合体粒子を構成する上記重合体の少なくとも一部はカチオン性基を有していることが必須である。本発明では、カチオン性基は、アミノ基等のプロトンと結合してカチオンを形成し得る基および該基が酸と反応して塩を生成し、塩のカチオン部を形成している基を包含する。カチオン性基の具体例として、１級アミノ基、２級アミノ基、３級アミノ基；４級アミノ基、２級イミノ基、３級イミノ基、４級イミノ基；各級のアミジノ基、イミジノ基、ヒドラジノ基；さらにピリジル基等の窒素原子を含む環状基等を挙げることができる。 重合体粒子中のカチオン性基の濃度は、好ましくは０．０５～３００ｍｍｏｌ／１００ｇ粒子、より好ましくは１～１００ｍｍｏｌ／１００ｇ粒子である。 ・・・ 【００１４】 重合開始剤としては、油溶性の重合開始剤あるいは水溶性の重合開始剤のいずれも使用することができる。粒子径が１μｍ以下の重合体粒子を製造するための重合を行なう場合には、水溶性重合開始剤を用いることが好ましく、このことにより、重合体粒子に膨潤されない大粒径のモノマー液滴が重合することを防止することができる。また、粒子径が１μｍを越える重合体粒子を製造するための重合を行なう場合には、不要の空孔を有しないポリマー粒子が生成することを防止するために、油溶性重合開始剤を使用することが好ましい。 上記水溶性重合開始剤としては、過硫酸塩類、あるいは過酸化水素－塩化第一鉄、クメンヒドロペルオキシド－アスコルビン酸ナトリウム等のレドックス系の開始剤が例示される。上記油溶性重合開始剤としては、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ－ブチルペルオキシ－２－エチルヘキサノエート、アゾビスイソブチロニトリル等が例示される。 また、本発明においては、後述するカチオン基を有するラジカル重合開始剤も使用することができる。 また、本発明においては、必要に応じて界面活性剤、分散安定剤などを使用することもできる。」 イ 「【００１６】 上記有機系の懸濁保護剤としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール等の親水性合成高分子物質、ゼラチン、水溶性澱粉等の天然親水性高分子物質、カルボキシメチルセルロース等の親水性半合成高分子物質等を挙げることができる。また、前記無機系の懸濁保護剤としては、例えばマグネシウム、バリウム、カルシウム等のリン酸塩、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、亜鉛華、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム等を挙げることができる。」 ウ 「【００２２】 １．２．コア・シェル粒子の形成 コア・シェル粒子は、例えば、上記重合体粒子とアニオン系界面活性剤を含有する水系の分散体中において、下記一般式（１）で表される少なくとも１種の化合物（以下、「化合物１」ともいう。）を加水分解縮合することでシリカ系被覆層を重合体粒子に対して形成することで得られる。 Ｒ１ｄＳｉ（ＯＲ２）４－ｄ・・・・・（１） （式中、Ｒ１、Ｒ２は独立して１価の有機基を示し、ｄは０～３の整数を示す。） 上記一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２で表される１価の有機基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アリル基、グリシジル基等を挙げることができる。なかでも、Ｒ１、Ｒ２で表される１価の有機基は、アルキル基またはフェニル基であることが好ましい。 ここで、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、好ましくは炭素数１～５であり、これらのアルキル基は鎖状でも、分岐していてもよく、さらに水素原子がフッ素原子等に置換されていてもよい。アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基等を挙げることができる。アルケニル基としては、例えばビニル基、プロペニル基、３－ブテニル基、３－ペンテニル基、３－ヘキセニル基を挙げることができる。 また、ｄは０または１であることが好ましく、０であることが特に好ましい。 化合物１の具体例としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ－ｎ－プロポキシシラン、テトラ－ｉｓｏ－プロポキシシラン、テトラ－ｎ－ブトキシラン、テトラ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、テトラ－ｔｅｒｔ－ブトキシシラン、テトラフェノキシシランなどを挙げることができ、特に好ましい化合物としてはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが挙げられる。これらは、１種あるいは２種以上を同時に使用してもよい。 ・・・ 【００２５】 加水分解縮合における反応温度は０～１００℃、好ましくは２０～８０℃、反応時間は３０～１０００分間、好ましくは３０～３００分間である。 また、上記一般式（１）で表される化合物の加水分解縮合を行う際には、加水分解縮合を促進させるために塩基性化合物を触媒として使用するのが好ましい。 ・・・ 【００２８】 ・・・ また、あらかじめ水系の分散媒中にアニオン系界面活性剤と上記化合物１を添加し混合撹拌することによりＯ／Ｗ型エマルジョンを調製しておいて、該Ｏ／Ｗ型エマルジョンを重合体粒子を含む水系の分散媒中に加えることによっても、上記と同様にコア・シェル粒子を作製することができる。」 エ 「【００３０】 ２．工程（ｂ）コア・シェル粒子を加熱することにより重合体粒子を分解する工程 以下にコア・シェル粒子を加熱することにより重合体粒子を分解することで内部に空孔を有するシリカ系中空粒子を製造する方法について述べる。 シリカ系中空粒子の製造は、前記で得られるコア・シェル粒子を、コアの重合体の種類により異なるが好ましくは１００℃以上、さらに好ましくは４５０℃以上に加熱して、コアを構成する重合体粒子を分解しガス化させてコア・シェル粒子内部から飛散させ粒子内部に空孔を形成することによりなされる。加熱する際の雰囲気は、特に限定されず、空気、酸素存在下以外にも、真空中、不活性ガス雰囲気中で行うことができる。」 (７) 甲１６の記載事項 甲１６には、以下の事項が記載されている。 ア 「Abstract. Hollow silica (Si02) nanoparticles with tunable shell microstructures were synthesized in ethanol solvent by using a polyelectrolyte as template. The polyelectrolyte template was composed of poly (acrylic acid) (PAA) with small amount of ammonia solution (NH40H) and prepared by dispersion of the PAA-NH4OH mixture in ethanol. Upon the addition of silica precursor, tetraethoxysilane (TEOS), into the PAA-NH4OH/ethanol suspension, a certain thickness of Si02 shell could be gradually formed outside the template through the sol-gel reaction of TEOS, which was supposed to be driven by the catalytic effect of NH4+ ions suspended on the surface of the template.・・・」 （当審訳：要約。テンプレートとして高分子電解質を用い、調節可能なシェルの微細構造を有する中空シリカ（ＳｉＯ２）ナノ粒子をエタノール溶媒中で合成した。高分子電解質テンプレートは、ポリ（アクリル酸）（ＰＡＡ）と少量のアンモニア溶液（ＮＨ４ＯＨ）からなり、ＰＡＡ－ＮＨ４ＯＨ混合溶液をエタノールに分散させて調製した。シリカ前駆体であるテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）をＰＡＡ－ＮＨ４ＯＨ／エタノール懸濁液に添加すると、テンプレートの表面に浮遊しているＮＨ４＋イオンの触媒作用によるものと推察される、ＴＥＯＳのゾル－ゲル反応によって、テンプレートの外側に一定の厚さのＳｉＯ２シェルが徐々に形成された。・・・） イ 「1. Introduction Hollow silica (Si02) nanoparticles, with a unique structure of hollow interior and solid shell, can provide solid/liquid loading, thermal/electrical insulation, special optical properties, and so on [1,2]. Therefore, they have received increasing attention and have been applied in diverse fields including catalysis, drug delivery, security protection, biological detection, etc. The current approaches to the synthesis of hollow Si02 nanoparticles are generally divided into two categories: (1) sacrificial template method and (2) template-free method. Of the two methods, the first one is the most effective and commonly used strategy, because it is relatively easy to control the shape and size of the resulting hollow Si02 nanoparticles by a simple copy surrounding the template and a subsequent removement of the template [3].・・・」 （当審訳：１．緒言 中空内部及び固体シェルの独自の構造を持つ中空シリカ（ＳｉＯ２）ナノ粒子は、固体／液体負荷、熱／電気絶縁、特殊光学特性などを提供することができる［１、２］。そのため、中空シリカ（ＳｉＯ２）ナノ粒子は注目を集めており、触媒作用、ドラッグデリバリー、セキュリティー保護、生物学的検出など多様な分野に応用されている。 中空ＳｉＯ２ナノ粒子合成への現在のアプローチは、一般に（Ｉ）犠牲テンプレート法と（２）テンプレートフリー法の２つのカテゴリーに分けられる。２つの方法のうち、最初の方法は最も効果的でよく使用されている方法である。なぜなら、テンプレート周囲の単純なコピーとその後のテンプレートの除去によって得られる中空ＳｉＯ２ナノ粒子の形状とサイズの制御が比較的容易であるからである［３］。・・・） ウ 「2.1. Synthesis of hollow silica particle Synthesis of hollow silica nanoparticles without addition of water was conducted according to Yu's groups [13]. A 0.08g of poly(acrylic acid) (PAA, molecular weight 5,000) powder was dissolved in 1.5ml of ammonium hydroxide solution (NH40H, 25wt%) under stirring condition. The PAANH40H solution was dropped in 30ml of ethanol (EtOH) and stirred to form PAA-NH40H template suspension. Then, 0.15ml of tetraethoxysilane (TEOS) was separately added in the suspension per 2h during 10h stirring. After another 4h stirring, the suspension was separated and washed by ethanol and distilled water using centrifugation. The precipitates were dried and hollow silica particles were obtained.・・・」 （当審訳：２．１．中空シリカ粒子の分成 Ｙｕらに従って、水を添加することなく、中空シリカナノ粒子の合成を行った［１３］。ポリ（アクリル酸）（ＰＡＡ、分子量５０００）粉末０．０８ｇを、攪拌条件下で水酸化アンモニウム溶液（ＮＨ４ＯＨ、重量％）１．５ｍｌに溶解した。ＰＡＡ－ＮＨ４ＯＨ溶液をエタノール（ＥｔＯＨ）３０ｍｌに滴下し、撹拌して、ＰＡＡ－ＮＨ４ＯＨ テンプレート懸濁液を形成した。次に、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）０．１５ｍｌを懸濁液に１０時間撹拌しながら２時間ごとに別々に添加した。さらに４時間撹拌した後、遠心分離を用いて、懸濁液を分離し、エタノール及び蒸留水で洗浄した。沈殿物を乾燥し、中空シリカ粒子を得た。・・・） エ 「3. Results and discussion Figure 1 shows SEM and TEM micrographs of a) PAA-NH4OH template and b) hollow silica nanoparticles, which were prepared according to Yu's group [13]. The template shapes were totally spherical and have wide particle size distribution from several tens of nm to several hundreds of nm (Fig. 1a)). The shape and size distribution of the hollow silica nanoparticles (Fig. 1b)) were similar to that of the template. It can be said that the hollow silica nanoparticles formed as a replica of the PAANH40H template. ・・・ Figure 3 shows STEM images of obtained samples with NH40H additions of a) 1.5, b) 3.0, c) 6.0ml, respectively. In the 1.5ml NH40H addition, hollow particles were obtained (Fig. 3a)). They were spherical particles with wide particle size distribution.・・・」 （当審訳：３．結果及び考察 図１に、Ｙｕら［１３］に従って作製したａ）ＰＡＡ－ＮＨ４ＯＨテンプレートとｂ）中空シリカナノ粒子のＳＥＭ及びＴＥＭ顕微鏡写真を示す。テンプレートの形状は完全に球形であり、数十ｎｍから数百ｎｍの広い粒子径分布を示した（図１ａ））。中空シリカナノ粒子（図１ｂ））の形状及び粒子径分布はテンプレートと類似していた。中空シリカナノ粒子は、ＰＡＡ－ＮＨ４ＯＨテンプレートのレプリカとして形成されたといえる。 ・・・ ＮＨ４ＯＨをそれぞれａ）１．５ｍｌ、ｂ）３．０ｍｌ、及びｃ）６．０ｍｌ添加して得られた試料のＳＴＥＭ画像を図３に示す。ＮＨ４ＯＨ１．５ｍｌの添加で、中空粒子が得られた（図３ａ））。それらは、粒子径分布の広い球状粒子であった。・・・） オ 「 ［図：0001404737000004.jpg］ 」 （Figure 1b））（当審訳：図１ｂ）） カ 「 ［図：0001404737000005.jpg］ 」 （Figure 3a））（当審訳：図３ａ）） (８) 甲１７の記載事項 甲１７には、以下の事項が記載されている。 「【００５８】 （中空シリカ粒子の製造） １００ｍＬの二ツ口フラスコ、マグネティックスタラー、マントルヒーター、冷却装置を備える反応装置を用意した。上記で製造したポリスチレン粒子をイオン交換水で０．４０ｗｔ％に希釈し、二ツ口フラスコに投入して６０℃の温度に保ちながら、５００ｒｐｍで３０分間強撹拌して、溶媒としてのイオン交換水中にポリスチレン粒子を均一に分散させた。 【００５９】 ３０分撹拌後、シリカ触媒として、塩基性アミノ酸であるリジン（アルドリッチ社製）と、シリカ源としてテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ９８％、アルドリッチ社製）とを添加して６時間撹拌することにより溶液を調製し、室温まで冷却して、溶液中で、ポリスチレン粒子をコアとし、ポリスチレン粒子を被覆したシリカをシェルとするコアシェル粒子を形成した。 【００６０】 得られた溶液を、遠心分離機を用いて１５０００ｒｐｍ、３０分間の条件で分離させた。コアシェル粒子を含む、沈降した部分の溶液を乾燥させ、５００℃の温度で熱処理することにより、ポリスチレン粒子、リジン、及びその他の有機化合物を除去して、中空シリカ粒子を製造した。 ・・・ 【００６７】 製造された中空シリカ粒子の構造を解析するために、ＦＴＩＲ解析を行った（図１（ｇ））。ポリスチレン粒子と、ポリスチレン／シリカのコアシェル粒子と、中空シリカ粒子とで、異なるピークが観察された（図１（ｇ））。アルキル基（ＣｎＨ２ｎ＋１）のピーク（５００～１０００ｃｍ、１４００～１７００ｃｍ、２８００～３２００ｃｍ）は、ポリスチレン粒子、及びコアシェル粒子の解析ピークに見られた。しかしながら、これらのピークは、中空シリカ粒子では観察されず、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ構造のピーク（１０００～１２００ｃｍ）が観察された。これらの結果から、ポリスチレン粒子、及びシリカは、コアシェル粒子を形成し、ポリスチレン粒子が熱分解により完全に除去され、シリカのみが最終生成物として残ったことが分かった（図１（ｇ））。」 (９) 甲１８の記載事項 甲１８には、以下の事項が記載されている。 ア 「ABSTRACT We have demonstrated the utility of hollow silica nanoparticles in fabricating conformal thin film nanoporous antireflection(AR) coatings on both poly(methyl methacrylate) (PMMA) and glass substrates. Layer-by-layer (LbL) assembly was successfully used to produce ultrathin AR coatings on planar and textured surfaces. Hollow silica nanoparticles were synthesized to extend the range of apparent refractive indices possible in an AR coating, enabling the design of both single index and graded index AR coatings on PMMA substrates. The diameter and shell thickness of the silica nanoparticles are the two independent, controllable parameters that we manipulated to tune the refractive index of the coating. The AR coatings reduced the minimum reflection of PMMA from 7% to 0.5%, while the maximum transmission increased from 92% to 98% at the optimized wavelength region that could be adjusted from the near UV into the visible. Cross sectional SEM showed that conformal coatings can be achieved on grooved PMMA Fresnel lenses. AFM was used to study surface topography on flat substrates.」 （当審訳：要約 我々は、ポリ（メタクリル酸メチル）（ＰＭＭＡ）及びガラス基板のコンフォーマルな薄膜のナノ多孔性反射防止（ＡＲ）コーティングの製造において、中空シリカナノ粒子が有用であることを実証した。ｌａｙｅｒ－ｂｙ－ｌａｙｅｒ （ＬｂＬ） ａｓｓｅｍｂｌｙ（交互積層法）を用いて、平面及びテクスチャー加工の表面に極薄のＡＲコーティングを作製するのに成功した。 ＡＲコーティングで可能な見かけの屈折率の範囲を拡大するために、中空シリカナノ粒子を合成し、ＰＭＭＡ基板のシングルインデックス及びグレーデッドインデックスＡＲコーティングの設計を可能にした。シリカナノ粒子の径とシェル厚は、コーティングの屈折率を調整するために操作した２つの独立した制御可能なパラメータである。ＡＲコーティングは、ＰＭＭＡの最小反射率を７％から０．５％に低下させ、近紫外線（ＵＶ）から可視まで調節できる最適化された波長領域で、最大透過率を９２％から９８％に増加させた。断面走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像では、溝付きＰＭＭＡのフレネルレンズでコンフォーマルなコーティングが得られることが示された。原子間力顕微鏡を用いて、平面基板表面のトポグラフィーを検討した。） イ 「Reflections from lenses in an optical system are undesirable because they contribute to a significant loss of transmitted light, which decreases the quality of the final image.1-5 Any coating that is designed to reduce these reflections must also minimize extra scattering losses from the film, a requirement that is more difficult to achieve at lower wavelengths.6-8 Hence, scattering of light within the coating can play an important role in AR films designed to operate in the near UV region, and it remains a challenge to maximize transmission in this region of the spectrum. To overcome this difficulty, a relatively smooth coating with small feature sizes (less than 1/10th of the target wavelength) is required. One example of the need for a UV AR coating can be found in telescopes used in space to study cosmic ray showers in the atmosphere.9,10 Cosmic ray showers emit light in a very narrow band of the near UV region with wavelengths of 300-400nm. In particular NASA intended to launch a telescope on the International Space Station to observe this phenomenon. The lens used in this telescope is a 2.5m diameter PMMA Fresnel lens with micrometer-scale [～150μm] grooves etched into its surface. Achieving a satisfactory AR coating on a PMMA Fresnel lens requires a process which employs low temperatures (PMMA Tg～（当審注：「～」は「～」を上下に２つ重ねたもの）105℃),canbescaleduptocoatlargesubstrates,andyieldsanARfilmwhichisconformal,hasatunableandlowrefractiveindex,andexhibitsveryprecisecontrolofcompositiononthenanometerscale.Inthispaper,wewilladdress the above requirements and demonstrate feasible coatings for this application.・・・」 （当審訳：光学システムにおけるレンズからの反射は、透過光の著しい損失の一因となり最終画像の質を低下させるため好ましくない。１－５これらの反射を抑制するよう設計されたコーティングは、フィルムからの余分な散乱損失も最小限に抑える必要がある。これは、低波長で実現するのがより困難な要件である。６－８したがって、コーティング内の光の散乱は、近ＵＶ領域で機能するよう設計されたＡＲフィルムにおいて重要な役割を果たし、スペクトルのこの領域での透過率を最大化することは依然として課題である。この問題を克服するには、小さな形状（ターゲット波長の１／１０未満）の比較的滑らかなコーティングが必要である。ＵＶ ＡＲコーティングの必要性の一例として、大気中の宇宙線シャワーを研究するために宇宙で使用するテレスコープが挙げられる。９、１０宇宙線シャワーは、近ＵＶ領域（波長３００－４００ｎｍ）の非常に狭い帯域の光を放出する。特にアメリカ航空宇宙局（ＮＡＳＡ）は、この現象を観察するために、国際宇宙ステーションにテレスコープの打ち上げを意図していた。このテレスコープに使用されるレンズは、直径２．５ｍのＰＭＭＡフレネルレンズで、マイクロメータースケール［約１５０μｍ］の溝が表面にエッチングされている。ＰＭＭＡフレネルレンズで良好なＡＲコーティングを得るには、低温（ＰＭＭＡ Ｔｇ～（当審注：「～」は「～」を上下に２つ重ねたもの）１０５℃）を使用し、大きな基板をコーティングするためにスケールアップすることができ、コンフォーマルで、調節可能な低屈折率を有し、極めて正確にナノメータースケールで組成を示すＡＲフィルムを形成するプロセスが必要である。本稿では、上記の要件に取り組み、この用途のために実現可能なコーティングを示す。・・・） ウ 「RESULTS AND DISCUSSION Synthesis of Hollow Silica Nanoparticles. There are a number of synthetic methods41,42 that have been used to synthesize hollow silica nanoparticles. Wan and Yu reported a facile one-step solution-based synthetic route to produce high yields of hollow silica nanoparticles using controlled hydrolysis of TEOS via the Stober（当審注：「o」は「o」の上に「・・」） method.41 By implementing this method, we can control the nanoparticle's size and shell thickness independently, allowing us to design an AR coating which is optimized for a particular wavelength region. Changing the reactant ratios allows one to tune the diameter of the hollow silica nanoparticles from 50 to 400nm and the wall thickness from 1O to 33nm.41-43 Using a similar synthesis protocol, we created hollow silica nanoparticles with quite uniform wall thicknesses. Figure 1 panels a, b, and c show hollow silica spheres synthesized with 0.27g/2.25mL, 0.36g/1.5mL, and 0.60g/1.5mL of PAA to TEOS (g to mL), respectively, while the amounts of ethanol, and ammonia as well as the synthesis conditions were held constant as described in the Experimental Section. The mean diameter and shell thickness were measured to be around 76 and 22nm for sample H80 (Figure 1a), 97 and 11nm for sample H150 (Figure lb), and 228 and 22nm for H300 (Figure 1c). Table 1 shows the relationship between synthetic conditions and the resulting hollow silica nanoparticle structures. An attempt to produce thinner shells by further increasing the relative amount of PAA to TEOS to 0.36g/0.9mL resulted in ruptured particles as shown in Figure 1d. The minimum shell thickness achieved for stable hollow silica nanoparticles was 1Onm. From the data collected, we found that the amount of TEOS controls shell thickness, whereas the ratio of PAA to ethanol determines particle size. These findings are in agreement with the results of Wan and Yu.41 To further understand the mechanism of the Stober（当審注：「o」は「o」の上に「・・」） method, HRTEM was performed before rinsing the synthesized particles with DI water. We observed some ultrafine 5nm silica nanoparticles within the cavity of the larger, hollow silica nanoparticles. These ultrafine silica nanoparticles and the silica shell itself densified and the silica shell shrank until there was no longer void space in the shell when exposed to the electron beam during TEM imaging. This observation may be due to the presence of both PAA and TEOS in the hollow silica structure before the DI water rinsing step, resulting in further TEOS precipitation to form very small nanoparticles. A detailed discussion and representative HRTEM images (Figure S1) are shown in the Supporting Information. Synthesized hollow silica nanoparticles, in particular samples H80 and H150 showed uniform shell thickness and a highly reproducible core-shell structure. Consequently, H80 and H15O were employed as starting materials for LbL assembly of a single index and graded index AR coatings, respectively.・・・」 （当審訳：結果及び考察 中空シリカナノ粒子の合成。中空シリカナノ粒子の合成に用いられてきた多くの合成方法４１、４２がある。Ｗａｎ及びＹｕは、Ｓｔｏｂｅｒ（当審注：「ｏ」は「ｏ」の上に「・・」）法によるテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）の制御された加水分解を用いて、中空シリカナノ粒子を高収率で生産するための簡便な一段階溶液ベースの合成方法を報告した。４１この方法を用いることで、ナノ粒子のサイズとシェル厚を別々に制御することができ、特定の波長領域に最適化されたＡＲコーティングの設計が可能となる。反応剤の比率を変えることにより、中空シリカナノ粒子の径を５０から４００ｎｍまでに、壁厚を１０から３３ｎｍまで調節することができる。４１－４３我々は、同様の合成プロトコルを用いて、壁厚が非常に均一な中空シリカナノ粒子を作製した。図１のパネルａ、ｂ、ｃは、実験の項で述べたようにエタノール及びアンモニア量と合成条件は一定に保ちながら、ＰＡＡ（ｇ）／ＴＥＯＳ（ｍＬ）をそれぞれ０．２７ｇ／２．２５ｍＬ、０．３６ｇ／１．５ｍＬ、０．６０ｇ／１．５ｍＬで合成した中空シリカ球体を示している。平均径及びシェル厚は、サンプルＨ８０（図１ａ）が約７６ｎｍと２２ｎｍ、サンプルＨ１５０（図１ｂ）が９７ｎｍと１１ｎｍ、Ｈ３００（図１ｃ）が２２８ｎｍと２２ｎｍと測定された。表１に合成条件と得られた中空シリカナノ粒子構造の関係を示す。ＴＥＯＳに対するＰＡＡの相対量を０．３６ｇ／０．９ｍＬに増加させて、より薄いシェルの作製を試みたところ、図１ｄに示すように破裂粒子が生じた。安定した中空シリカナノ粒子で得られた最小シェル厚は１０ｎｍであった。収集したデータから、ＴＥＯＳ量はシェルの厚さを制御するのに対し、エタノールに対するＰＡＡの比率が粒子径を決定することが明らかになった。これらの結果はＷａｎ及びＹｕの結果と一致している。４１Ｓｔｏｂｅｒ（当審注：「ｏ」は「ｏ」の上に「・・」）法の機序をより詳細に理解するために、合成した粒子を脱イオン化（ＤＩ）水で洗浄する前に高分解能透過電子顕微鏡（ＨＲＴＥＭ）を用いて観察した。大きな中空シリカナノ粒子の空洞内に超微細な５ｎｍのシリカナノ粒子が認められた。これらの超微細なシリカナノ粒子とシリカシェル自体は、高密度化し、シリカシェルは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）撮像時に電子ビームの照射を受けるとシェル内の空隙がなくなるまで収縮した。この観察は、ＰＡＡとＴＥＯＳの両方がＤＩ水洗浄工程の前に中空シリカ構造内に存在し、その結果ＴＥＯＳがさらに沈殿し、非常に小さなナノ粒子が形成されたためと考えられる。詳細な考察及び代表的なＨＲＴＥＭ画像（図Ｓ１）を補足情報に示す。合成された中空シリカナノ粒子、特にサンプルＨ８０とＨ１５０は、均一なシェル厚と高い再現性のあるコアシェル構造を示した。それゆえ、Ｈ８０とＨ１５０を、それぞれシングルインデックスとグレーデッドインデックスＡＲコーティングのＬｂＬ法の出発物質として用いた。・・・） エ 「CONCLUSIONS We have successfully synthesized hollow silica nanoparticles with variable particle size and shell thickness to achieve UV AR coatings via single and graded index designs. When we deposited these nanoparticles onto substrates, specifically glass and PMMA, their internal voids allowed the assembly of coatings with porosities as high as 75% and an apparent refractive indices as low as 1.11. Single index AR coatings can be achieved with optimized AR performance at any wavelength between 300 and 650nm; reflection near the targeted wavelength was reduced from 7% to 0% and transmission was increased from 92% to 97%. In addition, a graded index AR design was also successfully achieved, yielding reflectance of below 2% over the whole UV-vis region (200-800nm).」 （当審訳：結論 粒子径とシェル厚さを変えることができる中空シリカナノ粒子の合成に成功し、シングルインデックス及びグレーデッドインデックス設計による、ＵＶ ＡＲコーティングを実現した。これらのナノ粒子を基板、特にガラス及びＰＭＭＡに堆積させた場合、それらの内部空隙により、７５％の高い空隙率、１．１１の低い見かけの屈折率を有するコーティングの形成が可能となった。シングルインデックスＡＲコーティングは、３００から６５０ｎｍの間の波長で最適化されたＡＲ性能により達成できる。ターゲット波長付近の反射率は７％から０％に低下し、透過率は９２％から９７％に上昇した。また、ＵＶ－ｖｉｓの全領域（２００－８００ｎｍ）の反射率が２％未満となる、グレーデッドインデックスＡＲ設計にも成功した。） オ 「EXPERIMENTAL SECTION Mateials. Silica nanoparticles Ludox SM-30 (30wt% Si02 suspension in water, average particle size 7nm) were purchased from Sigma-Aldrich (St. Louis, MO). Tetraethoxysilane (TEOS, 98% reagent grade), poly(acrylic acid) (PAA, Mw～（当審注：「～」は「～」を上下に２つ重ねたもの）5000; 50wt% in aqueous solution) was purchased from Polysciences, Inc. Poly(allylamine hydrochloride) (PAH, Mw～（当審注：「～」は「～」を上下に２つ重ねたもの）56000) and ammonium hydroxide (28% NH3 in water) were purchased from Sigma-Aldrich. Zirconium(IV) oxide (20wt% ZrO2 suspension in water, average particle size = 7nm) was purchased from Alfa Aesar. The information on average size of the nanoparticles was provided by the suppliers. Glass slides were purchased from VWR International, and UV transparent PMMA substrates were provided by Agiltron, lnc. Synthesis of Hollow Silica Nanoparticles. Uniform hollow silica spheres were prepared by a modified Stober（当審注：「o」は「o」の上に「・・」） method.41,42First, 0.27g of PAA dissolved in 4.5mL of ammonium hydroxide was mixed with 90mL of absolute ethanol, followed by injection of 5 TEOS aliquots totaling 2.25mL at 1h time intervals under vigorous magnetic stirring at room temperature.41,42 After 10h, a white colloid containing 80nm hollow silica nanoparticles formed. This colloid was centrifuged several times with deionized water (>18MΩ・cm, Millipore Milli-Q) and then dried at room temperature. Hollow silica spheres with different diameters and/or wall thicknesses were prepared by varying the concentrations of polyelectrolyte in ammonia and/or TEOS in ethanol (Table 1). During synthesis, vigorous continuous stirring is crucial for the formation of hollow silica nanoparticles.」 （当審訳：実験 材料。シリカナノ粒子Ｌｕｄｏｘ ＳＭ－３０（３０ｗｔ％ ＳｉＯ２懸濁液、平均粒子径７ｎｍ）はシグマアルドリッチ（ミズーリ州セントルイス）から購入した。テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ ９８％、試薬１級）、ポリ（アクリル酸）（ＰＡＡ、分子量～（当審注：「～」は「～」を上下に２つ重ねたもの）５０００、５０ｗｔ％水溶液）はポリサイエンス社から購入した。ポリ（アリルアミン塩酸塩）（ＰＡＨ、分子量～（当審注：「～」は「～」を上下に２つ重ねたもの）５６０００）及び水酸化アンモニウム（２８％ ＮＨ３水溶液）はシグマアルドリッチから購入した。酸化ジルコニウム（ＩＶ）（２０ｗｔ％ ＺｒＯ２懸濁液、平均粒子径＝７ｎｍ）はアルファエイサー社から購入した。ナノ粒子の平均サイズに関する情報は供給業者から提供された。ガラススライドはＶＷＲ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌより購入し、ＵＶ透過ＰＭＭＡ基板はＡｇｉｌｔｒｏｎ社より提供を受けた。 中空シリカナノ粒子の合成。均一な中空シリカ球は、改変Ｓｔｏｂｅｒ（当審注：「ｏ」は「ｏ」の上に「・・」）法により調製した。４１、４２最初にＰＡＡ ０．２７ｇを水酸化アンモニウム４．５ｍＬに溶解し、無水エタノール９０ｍＬと混合した後、合計２．２５ｍＬのＴＥＯＳの５分割のアリコートを室温で激しく磁気撹拌しながら１時間間隔で注入した。４１、４２１０時間後、８０ｎｍの中空シリカナノ粒子を含有する白色コロイドが形成された。このコロイドは、脱イオン水（＞１８ＭΩ・ｃｍ、Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ Ｍｉｌｌｉ－Ｑ）で数回遠心分離した後、室温で乾燥させた。異なる粒子径及び／または壁厚の中空シリカ球は、アンモニア中の高分子電解質及び／またはエタノール中のＴＥＯＳ濃度を変化させることにより調製した（表１）。中空シリカナノ粒子の形成には、合成中の激しい連続撹拌が不可欠である。） カ 「 ［図：0001404737000006.jpg］ 」（Figure 1a）（当審訳：図１ａ） キ 「 ［図：0001404737000007.jpg］ 」（Figure 1b）（当審訳：図１ｂ） ク 「 ［図：0001404737000008.jpg］ 」（Figure 1c）（当審訳：図１ｃ） (１０) 甲１９の記載事項 甲１９には、以下の事項が記載されている。 ア 「【請求項７】 中空の無機微粒子が中空シリカ微粒子であり、該中空シリカ微粒子の屈折率が１．４０以下であることを特徴とする、請求項４～６のいずれかに記載の反射防止フィルム。 【請求項８】 中空シリカ微粒子が、粒子サイズが４５～８０ｎｍであり、屈折率が１．３０以下の中空シリカ微粒子であることを特徴とする、請求項７に記載の反射防止フィルム。」 イ 「【発明が解決しようとする課題】 【０００５】 中空シリカ粒子を低屈折率層に含有した反射防止膜では、確かに従来のものに対して耐擦傷性や指紋等の汚れの付着耐性は向上したが、偏光板作成時の鹸化により膜が破壊されたり、また新たに水滴が付着した場合にその跡が残るという問題が明らかになった。反射防止膜はディスプレイの最表面に使用されるため、日常の使用で水滴が付着する場合があり、実用的な耐久性を付与する観点で、改良が必要であった。 本発明の目的は、反射率が低くぎらつきが押さえられ、水滴付着跡・防汚性に優れた反射防止フィルムを提供することにある。更には、そのような反射防止フィルムを用いた偏光板や画像表示装置を提供することにある。 【課題を解決するための手段】 【０００６】 本発明者は、鋭意検討の結果、以下の構成の反射防止フィルム、偏光板、及びそれを用いた画像表示装置により本発明の上記目標が達成できることを見出した。 ・・・ （７）中空の無機微粒子が中空シリカ微粒子であり、該中空シリカ微粒子の屈折率が１．４０以下であることを特徴とする、上記（４）～（６）のいずれかに記載の反射防止フィルム。 （８）中空シリカ微粒子が、粒子サイズが４５～８０ｎｍであり、屈折率が１．３０以下の中空シリカ微粒子であることを特徴とする、上記（７）に記載の反射防止フィルム。 ・・・」 ウ 「【００１２】 ［空孔含有微粒子の調製方法］ これらの空孔含有微粒子（多孔質又は中空の微粒子）を使用する際に、構造・種類に制限は無いが、好ましくは多孔質の無機酸化物微粒子、最も好ましくは中空の有機ポリマーラテックスか中空の無機酸化物微粒子である。無機酸化物微粒子の場合には、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化スズを主成分とする微粒子が好ましい。 中空微粒子の好ましい製造方法は、以下の工程よりなる。第１段階として後処理で除去可能なコア粒子形成、第２段階としてシェル層形成、第３段階としてコア粒子の溶解、必要に応じて第４段階として追加シェル相の形成である。具体的には中空粒子の製造は、例えば特開２００１－２３３６１１号公報に記載されている中空シリカ微粒子の製造方法に準じて行うことができる。 多孔質粒子の好ましい製造方法は、第１段階としてアルコキシドの加水分解や縮合の程度、共存物質の種類や量を制御し多孔質のコア粒子を製造し、第２段階としてその表面にシェル層を形成する方法である。具体的には多孔質粒子の製造は、例えば、特開２００３－３２７４２４号、同２００３－３３５５１５号、同２００３－２２６５１６号、同２００３－２３８１４０号等の各公報に記載された方法で行うことができる。 ・・・ 【００１４】 [空孔含有微粒子の粒子サイズの測定] 本発明の空孔含有微粒子のサイズの測定は、粒子を透過型電子顕微鏡で観察し、円相当径を１０００個の平均で算出した。直径は２０～１００ｎｍが好ましく、更に好ましくは３５～１００ｎｍ、最も好ましくは４５～８０ｎｍである。粒子径が小さ過ぎると屈折率の上昇や吸着水量の増大が認められ好ましくなく、粒子径が大きすぎると反射防止フィルムを構成した際の塗膜での散乱が大きくなり好ましくない。 本発明においては、空孔含有微粒子はサイズ分布を有していても良く、その変動係数は好ましくは６０％～５％、更に好ましくは５０％～１０％である。また、平均粒子サイズの異なる２種又は３種以上の粒子を混合して用いることもできる。」 エ 「【０１２０】 調製例４［無機微粒子（Ｐ－４）の調製］ 平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０質量％のシリカゾル９０ｇとイオン交換水１７１０ｇとを混合して反応母液を調製し、９５℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2として１．５質量％のケイ酸ナトリウム水溶液２４，９００ｇと、Ａｌ2Ｏ3として０．５質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液３６，８００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を９１℃に保持した。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3コア粒子の分散液（Ａ）を調製した。（第１調製工程） 次いで、このコア粒子の分散液（Ａ）５００ｇを採取し、イオン交換水１，７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ2濃度３．５質量％）２，１００ｇを添加してコア粒子表面にシリカ保護膜を形成した。得られたシリカ保護膜を有するコア粒子の分散液を、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％に調整したのち、コア粒子の分散液５００ｇにイオン交換水１，１２５ｇを加え、さらに濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行ったのち、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌとイオン交換水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、粒子前駆体分散液を調製した。（第２調製工程） 上記粒子前駆体分散液１５００ｇと、イオン交換水５００ｇおよびエタノール１，７５０ｇとの混合液を３０℃に加温した後、テトラエトキシシラン（ＳｉＯ2２８質量％）４０ｇと２８％アンモニア水６２６ｇを速度を制御しながら添加し、粒子前駆体表面にテトラエトキシシランの加水分解重縮合物でシリカ外殻層を形成することによって、外殻層内部に空洞を有する粒子を作製した。次いで、エバポレーターで固形分濃度５質量％まで濃縮した後、濃度１５質量％のアンモニア水を加えてｐＨ１０とし、オートクレーブで１８０℃、４時間加熱処理し、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％の中空シリカ微粒子ゾル（空孔含有無機微粒子）（Ｐ－４）の分散液を調製した。（第３調製工程） ・・・ 【０１３９】 【表１】 ［図：0001404737000009.jpg］ 」 (１１) 甲２１の記載事項 甲２１には、以下の事項が記載されている。 ア 「【背景技術】 【０００２】 従来より、ガラス、プラスチックシート、プラスチックレンズ等の基材表面の反射を防止するため、その表面に反射防止膜を形成することが知られており、たとえば、コート法、蒸着法、ＣＶＤ法等によって、フッ素樹脂、フッ化マグネシウムのような低屈折率の物質の被膜をガラスやプラスチックの基材表面に形成したり、シリカ微粒子等の低屈折率微粒子を含む塗布液を基材表面に塗布して、反射防止被膜を形成する方法が知られている（たとえば、特開平７-１３３１０５号公報など参照）。このとき、反射防止性能を高めるために反射防止被膜の下層に高屈折率の微粒子等を含む高屈折率膜を形成することも知られている。 ・・・ 【発明が解決しようとする課題】 【０００８】 しかしながら、低屈折率シリカ系中空微粒子を用いた透明被膜において、白化現象が起きる問題があった。また、さらに、反射防止性能を更に向上させることが求められていた。 ・・・ 【発明の効果】 【００１１】 本発明によれば、平均粒子径が所定の範囲にあり、均一な粒子径分布を有する屈折率の低いシリカ系中空微粒子を含み、該シリカ系中空微粒子と大きさ、形状がかけ離れたシリカ系中空微粒子を含まないために白化が抑制された反射防止性能、強度、耐擦傷性等に優れた透明被膜付基材および該透明被膜形成用塗料を提供することができる。」 イ 「【００１６】 シリカ系中空微粒子 本発明に用いるシリカ系中空微粒子は、シリカを主成分として内部に空洞を有する粒子である。かかるシリカ系中空微粒子は、シリカ以外に、アルミナ、マグネシアなどの酸化物や、アルカリ金属の酸化物・水酸化物を含んでいてもよい。ただし、透明被膜の用途という点では、実質的にシリカからなることが好ましい。 【００１７】 平均粒子径(Dn)が５０～１２０ｎｍ、さらには７０～８０ｎｍの範囲にあることが好ましい。 シリカ系中空微粒子の平均粒子径が小さすぎると、シリカ系中空微粒子の粒子径の割に殻が厚く、粒子内部の空洞の割合が小さいために屈折率が高く、屈折率が充分に低い透明被膜が得られない場合がある。 ・・・ 【００２２】 このため、本発明では、シリカ系中空微粒子中の異形シリカ系中空微粒子の個数割合が１％以下とし、さらには０．５％以下であることが好ましい。 なお、異形シリカ系中空微粒子とは、平均粒子径(Dn)の２倍以上の粒子径であり、かつ球状シリカ系中空微粒子または球状シリカ系中空微粒子が２個以上結合したシリカ系中空微粒子を意味している。 【００２３】 本発明で使用されるシリカ系中空微粒子の粒子径変動係数（ＣＶ値）が１～５０％、さらには２～３０％の範囲にあることが好ましい。 シリカ系中空微粒子の粒子径変動係数（ＣＶ値）が小さい粒子は得ることが困難である。 シリカ系中空微粒子の粒子径変動係数（ＣＶ値）が大きすぎると、シリカ系中空微粒子の粒子径の差が大きく密に充填できないために透明被膜の強度が低下したり、屈折率が充分に低い透明被膜が得られない場合がある。 【００２４】 本発明に用いるシリカ系中空微粒子の平均粒子径(Dn)は、電子顕微鏡写真を撮影し、任意の１０００個の粒子について粒子径を測定し、その平均値として得られる。 また、本発明に用いるシリカ系中空微粒子の粒子径変動係数（ＣＶ値）は下記式によって計算される。 ＣＶ（％）＝〔粒子径標準偏差（σ）／平均粒子径（Ｄn）〕×１００ 【００２５】 ［図：0001404737000010.jpg］ Ｄi：個々の粒子の粒子径、ｎ＝1000 本発明で使用されるシリカ系中空微粒子は内部が中空のため、単なるシリカ粒子に比べて屈折率が低く、通常、屈折率は１．１０～１．３０、さらには１．１０～１．２５の範囲にあることが好ましい。 ・・・ 【００２８】 シリカ系中空微粒子の製法 本発明に用いるシリカ系中空微粒子としては、前記した異形シリカ系中空微粒子の数割合が１％以下で、平均粒子径、屈折率および粒子径変動係数が前記した範囲にあれば特に制限はないが、特開２００１－２３６１１号公報、特開２００４－２０３６８３号公報、特開２００６－２１９３８号公報等に開示したシリカ系微粒子の製造方法に準拠して製造することができる。 【００２９】 具体的には、シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる複合酸化物微粒子を核とし、必要に応じてシリカ被覆層(1)を形成した後、シリカ以外の無機酸化物を除去し、さらに必要に応じてシリカ被覆層(2)を形成し、必要に応じて高温で水熱処理することによって得ることができるが、シリカ以外の無機酸化物を除去する前の段階の粒子を調製する工程での濃度、即ち、シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる複合酸化物微粒子を調製する工程、必要に応じてシリカ被覆層(1)を形成する工程での濃度を低濃度にすることによって異形シリカ系中空微粒子の少ないシリカ系中空微粒子を得ることができる。」 ウ 「【００９０】 ［実施例5］ シリカ系中空微粒子(P-3)の調製 シリカゾル（日揮触媒化成（株）製：ＳＩ－５５０、平均粒子径５ｎｍ、ＣＶ値１７％、ＳｉＯ2濃度２０質量％）１０ｇに純水３９０ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ＳｉＯ2として濃度１．２質量％の珪酸ナトリウム水溶液１０,５００ｇとＡl2Ｏ3としての濃度０.４質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液１０,５００ｇを２５時間で添加して、ＳｉＯ2・Ａl2Ｏ3一次粒子分散液を得た。このときの反応液のｐＨは１１．８、固形分濃度は０．８質量％であった。また、平均粒子径は５１ｎｍであった。 【００９１】 ついで、ＳｉＯ2として濃度１.２質量％の珪酸ナトリウム水溶液３３，５６０ｇとＡl2Ｏ3としての濃度０.４質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液１１，１９０ｇを２５時間で添加して複合酸化物微粒子(3)（二次粒子）の分散液を得た。このとき、反応液のｐＨは１１．６、固形分濃度は０．９質量％であった。 【００９２】 分散液を、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％にした後、目開き１μｍのカプセルフィルターで濾過し複合酸化物微粒子(3)分散液を得た。このとき、平均粒子径は７８ｎｍ、ＣＶ値＝２８.０％であった。 【００９３】 この複合酸化物微粒子(3)の分散液５００ｇに純水１,１２５ｇを加え、さらに濃塩酸（濃度３５.５質量％）を滴下してｐＨ１.０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離・洗浄して固形分濃度２０質量％のシリカ系微粒子(P-3-1)の水分散液を得た。 【００９４】 つぎに、シリカ系微粒子(P-3-1)分散液にアンモニア水を添加して分散液のｐＨを１０．５に調整し、ついで２００℃にて１１時間熟成した後、常温に冷却し、陽イオン交換樹脂（三菱化学（株）製：ダイヤイオンＳＫ１Ｂ）４００ｇを用いて３時間イオン交換し、ついで、陰イオン交換樹脂（三菱化学（株）製：ダイヤイオンＳＡ２０Ａ）２００ｇを用いて３時間イオン交換し、さらに陽イオン交換樹脂（三菱化学（株）製：ダイヤイオンＳＫ１Ｂ）２００ｇを用い、８０℃で３時間イオン交換して洗浄を行い、固形分濃度２０質量％のシリカ系微粒子(P-3-2)の水分散液を得た。 【００９５】 ついで限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％のシリカ系微粒子（P-3）のアルコール分散液を調製した。 固形分濃度２０質量％のシリカ系微粒子（P-3）のアルコール分散液１００ｇにメタクリルシランカップリング剤（γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン）（信越化学（株）製：KBM-503、ＳｉＯ2成分８１．９質量％）３ｇを添加し、５０℃で加熱処理を行い、再び限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％のシリカ系中空微粒子（P-3）のアルコール分散液を調製した。 このシリカ系中空微粒子（P-3）の平均粒子径、ＣＶ値、屈折率および異形シリカ系中空微粒子の割合を表に示す。 【００９６】 反射防止用透明被膜形成用塗料(5)の製造 実施例１において、固形分濃度２０質量％のシリカ系中空微粒子（P-3）のアルコール分散液を用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗料(5)を調製した。 【００９７】 反射防止用透明被膜付基材(5)の製造 実施例１と同様にしてハードコート膜を形成した後、反射防止用透明被膜形成用塗布液(5)をバーコーター法（バー＃４）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、Ｎ2雰囲気下で６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて反射防止用透明被膜付基材(5)を作製した。このときの反射防止用透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。 この反射防止用透明被膜付基材(5)の全光線透過率、ヘイズ、５５０ｎｍの光線の反射率、被膜の屈折率、密着性および鉛筆硬度、耐擦傷性を表に示す。 ・・・ 【０１４６】 【表１】 ［図：0001404737000011.jpg］ 」 (１２) 甲２２の記載事項 甲２２には以下の事項が記載されている。 ア 「 本発明の方法を実施する際に支持体として使用できる材料としては、活性シリカ（ヒドロキシル化シリカ）に関して不活性であり、スラリー形成操作のｐＨ及び温度条件下で水に不溶性であり、任意の形状（球形状、針状など）を有し且つその化学的及び物理的性質に依存する処理によってそれを含有する粒子から除去できる任意の無機又は有機固体又は液体状の化合物が挙げられる。該支持体は好ましくは固体状である。 用語“シリカに関して不活性である化合物”とは、シリカの沈殿のための条件下で安定のままである任意の化合物を意味するものと理解されたい。 “水に不溶性である化合物”とは、２５℃でほぼ０．５重量％未満の水溶解度を示す任意の化合物を意味するものと理解されたい。 支持体（コア）構成材料の除去操作に関しては、これは、該材料の性状に従がって、固体については溶解（酸又は非極性溶媒を使用して）、次いで分離操作による処理；材料の如何を問わず熱処理；或いはそれが液体であるときは単純な分離操作であってよい。材料の性状（固体、液体、無機又は有機）の如何を問わず、後者は、該材料の蒸発又は分解温度に少なくとも等しいがシリカシェルを損なわない温度での熱処理によって除去することができる。使用できる固体材料には、無機又は有機酸を８以下、好ましくは２～７のｐＨで使用して或いは非極性溶媒を使用して溶解させることによって除去できるものが挙げられるが、この溶解操作に続いて分離、例えば遠心分離、ろ過、蒸留、蒸発、透析、浸透などが行われる。酸、好ましくは水溶液状の酸を使用して溶解させることにより除去することができる固体材料のうちでは、例えば炭酸カルシウム、炭酸バリウムなどのような無機塩類、例えば銅などのような金属、例えばアミン含有重合体（例えば、ビニルピリジンから誘導されるもの）、架橋多糖類などのような酸に可溶性の有機重合体が挙げられる。もちろん、使用すべき酸の性状は、該材料の化学的性質の関数である。非極性溶媒により溶解することができる固体材料のうちでは、アルカリに可溶性でない有機重合体、特にポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリエチレン、ポリアミド、ポリエステルなどが挙げられる。もちろん、使用すべき非極性溶媒の性状は、該材料の化学的性質の関数である。塩素化溶媒（ジクロルメタンなど）、テトラヒドロフランなどが一般に十分に好適である。」（８ページ下から２行～９ページ下から２行） イ 「例１ 炭酸カルシウムコアとシリカシェルとからなる粒子の製造 初期容器底部装入物を、１５リットルの反応器に、５リットルの水、塩化ナトリウムとして０．６８モル（容器底部装入物１リットル当たり）のナトリウム、４μｍの粒度及び１６ｍ2／ｇのＢＥＴ比表面積を示す１１５０ｇの沈降炭酸カルシウム及び容器底部装入物１リットル当たり３ｇのＳｉＯ2の濃度に相当する量の珪酸ナトリウム（これは１３０ｇ／ｌのＳｉＯ2を含有する水溶液であり、３．５のＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏ比を有する）を導入することによって製造する。９のｐＨの容器底部装入物を９０℃にもたらし、攪拌し続ける。 続いて、下記の物質： ・濃度が１３０ｇ／ｌのＳｉＯ2であって、３．５のＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏ比を有する珪酸ナトリウム水溶液、及び ・８０ｇ／ｌの酸を含有する硫酸水溶液 を３０分間で２３０ｇのシリカを形成させるように同時に導入する。 ３０分間熟成した後、得られたスラリーをろ過し、ろ過ケーキを水洗し、次いで８０℃のオーブンで乾燥する。 生成物を電子顕微鏡（ＴＥＭ）により分析すると、付着したシリカ層の厚みが５ｎｍ程度であることが示された。 粒子のＢＥＴ比表面積は、２１ｍ2／ｇであった。 珪酸ナトリウムの添加速度は０．４ｇ（ＳｉＯ2）／ｈ／ｇ（ＣａＣＯ3）であったが、これに対して従来技術（米国特許第２，８８５，３６６号）に従う場合は０．０８ｇ（ＳｉＯ2）／ｈ／ｇ（ＣａＣＯ3）である。 コアの除去 上で得た３００ｇの乾燥粒子を２．７リットルの水に再分散させる。濃塩酸（８．５Ｍ）を２以下のｐＨをもたらすように添加する。酸の添加をこのｐＨが安定化するまで３０分間続ける。 次いで、得られた生成物をろ過し、十分に洗浄し、オーブンで８０℃で乾燥する。 得られた中空粒子は下記の特性： ・２０７ｍ2／ｇのＢＥＴ比表面積、 ・シリカ１００ｇ当たり６１２ｍｌのＤＯＰ吸油量、 ・５ｎｍ程度のシェル厚 を示した。」（１４ページ下から２行～１６ページ２行） (１３) 甲２３の記載事項 甲２３には、以下の事項が記載されている。 ア 「【０００７】 このため、平均粒子径が小さいシリカ系微粒子を用いた透明被膜は屈折率が十分に低くならず反射防止性能が不十分となることがあった。 他方、平均粒子径が大きいシリカ系微粒子を用いた透明被膜は屈折率が低く、反射防止性能は優れているものの、表面の平滑性が低下し、透明被膜の強度、耐擦傷性が十分でないことがあった。 ・・・ 【課題を解決するための手段】 【０００９】 このような情況のもと、上記問題点を解消すべく、鋭意検討した結果、シリカ系中空微粒子として、平均粒子径が特定の範囲にあるだけではなく、粒子径変動係数（CV値）の小さいものであれば、上記課題をいずれも解消し、反射防止性能に優れ、かつ膜表面が平滑で、耐擦傷性にすぐれた透明被膜付基材が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。」 イ 「【００１５】 シリカ系中空微粒子 本発明に用いるシリカ系中空微粒子は平均粒子径(Dn)が２０～８０ｎｍ、好ましくは３０～７５ｎｍの範囲にあるものが望ましい。該中空微粒子は殻層と中芯部からなり、殻層がシリカからなり、中芯部は液体（溶媒や珪酸水溶液など）、気体で充満されている。 【００１６】 殻は一定の厚さよりも薄くできないので、平均粒子径が小さければ、粒子内部の空洞の割合が小さくなり、粒子の屈折率が高くなってしまう。このため、屈折率が充分に低い透明被膜が得られない場合がある。平均粒子径が大きすぎると、粒子が大きいために透明被膜の強度が不充分で、しかも透明被膜表面の平滑性が低下するために耐擦傷性も不充分となる場合がある。 【００１７】 また、シリカ系中空微粒子の粒子径変動係数（ＣＶ値）が１～５０％、さらには２～３０％の範囲にあることが好ましい。 粒子径変動係数（ＣＶ値）が小さいものは、得ること自体困難であり、粒子径によっても異なるが、得られたとしてもシリカ系中空微粒子の粒子径が均一すぎて密に充填できないために透明被膜の強度が低下したり、屈折率が充分に低い透明被膜が得られない場合がある。粒子径変動係数（ＣＶ値）が大きすぎても、シリカ系中空微粒子の粒子径の差が大きく密に充填できないために透明被膜の強度が低下したり、屈折率が充分に低い透明被膜が得られない場合がある。」 ウ 「【００８３】 [実施例3] シリカ系中空微粒子(P-3)の調製 ・・・ 【００９０】 ついで限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０重量％のシリカ系微粒子（P-3）のアルコール分散液を調製した。固形分濃度２０重量％のシリカ系微粒子（P-3）のアルコール分散液１００ｇにメタクリルシランカップリング剤（信越化学（株）製：KBM-503）３ｇを添加し、５０℃で加熱処理を行い、再び限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０重量％のシリカ系中空微粒子（P-3）のアルコール分散液を調製した。 このシリカ系微粒子（P-3）の平均粒子径、ＣＶ値および屈折率を表１に示す。 ・・・ 【０１５２】 【表１】 ［図：0001404737000012.jpg］ 」 ５ 当審の判断 事案に鑑み、(１)取消理由１と取消理由２、(２)取消理由３と申立理由１、(３)取消理由４と申立理由２、(４)取消理由５と申立理由３は、それぞれ纏めて検討する。 (１) 取消理由１（実施可能要件違反）、取消理由２（明確性要件違反）について ア 上記取消理由１及び上記取消理由２は、先の訂正請求における訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲の【請求項１】の「・・・会合していない、シリカ系中空粒子。」に着目したものであって、各取消理由の概要は、以下(ア)、(イ)のとおりである。 (ア) 本件明細書には、会合していないシリカ系中空粒子を生産できるように記載されているとはいえないから、発明の詳細な説明は、当業者が先の訂正請求により訂正された請求項１、２に係る発明を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されたものでない。 (イ) 先の訂正請求により訂正された請求項１に記載された「シリカ系中空粒子」が「会合していない」ことをどのように判断すればよいのか不明であるため、当該請求項１の記載、及びこれを引用する請求項２は不明確である。 イ しかしながら、上記第１のとおり、先の訂正請求は取り下げられたものとみなされ、上記第３のとおり、本件訂正後の本件発明に「会合していない」との特定事項はないから、上記取消理由１、２に理由はない。 (２) 取消理由３、申立理由１（甲４を主たる証拠とした新規性、進歩性欠如）について ア 甲４に記載された発明 甲４には、上記４(３)ア及びウによれば、内部が空洞のシリカ粒子を構成するシリカ層がシリカのみで構成されていることが記載されている。 以上を踏まえつつ、上記４(３)に記載された事項を、内部が空洞のシリカ粒子に注目して整理すると、甲４には、 「画像で示される内部が空洞のシリカ粒子であって、 粒子径が数十ｎｍであり、 内部が空洞のシリカ粒子を構成するシリカ層がシリカのみで構成されている、内部が空洞のシリカ粒子。」 の発明（以下、「甲４発明」という。）が記載されているといえる。 イ 本件発明１について (ア) 対比 本件発明１と甲４発明を対比すると、甲４発明の「内部が空洞のシリカ粒子」、「構成」及び「シリカ層がシリカのみで構成」は、それぞれ、本件発明１の「シリカ系中空粒子」、「形成」及び「シリカ系化合物がシリカのみで形成」に相当する。 すると、両者は、 「シリカ系中空粒子であって、 シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている、 シリカ系中空粒子」 の点で一致し、以下の点で相違する。 （相違点１－１） 本件発明１では、シリカ系中空粒子に関して「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～２６．１％であ」って、「平均粒子径が３０～５５．２ｎｍ」であるのに対して、甲４発明では、シリカ系中空粒子が「画像で示される」ものであって、「粒子径が数十ｎｍ」であることが特定されている点。 (イ) 相違点１－１について 甲４の上記画像（上記４（３）イ）から見て取れる４５個の内部が空洞のシリカ粒子について、本件明細書の【００２１】及び【００２３】に記載された手順に準じて、粒子径の変動係数及びアスペクト比が１．５以下の粒子の割合を解析すると、アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の１００％を占め、粒子径の変動係数が２７．３％となる（異議申立書の７４ページの表も参考にした。）。 また、「数個」とは「二～三個から五～六個ほどの個数をいう語。」（広辞苑第四版、株式会社岩波書店、１９９１年１１月１５日、第１３６３頁）であることを踏まえると、甲４発明の「数十ｎｍ」は２０～６０ｎｍ程度といえる。 そうすると、甲４発明の粒子径の変動係数は、本件発明１の数値範囲に含まれず、また、甲４発明の粒子径は、本件発明１の平均粒子径に係る数値範囲と異なるから、上記相違点１－１は、実質的な相違点である。 そして、上記４(３)のとおり、甲４には、シリカ系中空粒子に関して、「粒子径の変動係数」を「２０～２６．１％」としつつ、「平均粒子径が３０～５５．２ｎｍ」とすることは記載も示唆もないし、このような事項は甲１１～１３に記載されておらず（上記４(６)～(８)参照）、また周知技術ともいえないから、甲４発明において、当該相違点に係る本件発明１の構成とすることは、当業者にとって容易に想到し得ることであったということはできない。 したがって、本件発明１は、甲４に記載された発明でなく、また甲４に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものとはいえない。 (ウ) 申立人の主張について ａ 令和５年５月１５日提出の意見書における申立人の主張は、概略、以下(ａ)、(ｂ)のとおりと理解できる。 (ａ) 甲１、甲２及び甲２３の記載（上記４(１)、(２)、(１３)参照）によれば、ナノ粒子の技術分野において、充填性が関心の対象であること並びに充填性が粒子径及び粒子径分布による影響を受けることは技術常識であるから、甲４発明に接した当業者は、所望の設計に応じ、シリカ系中空粒子の充填性を適宜調整するため、通常の創作能力の発揮として粒子径及び粒子径分布を変更する動機付けがあり、その結果、相違点１－１に係る本件発明１の構成に容易に想到することができたものである。 (ｂ) 甲２３の実施例３には、シリカ系中空微粒子の粒子径変動係数（ＣＶ値）を２３％、平均粒子径を５２ｎｍとした例が記載されている（上記４(１３)ウ参照）から、当業者には甲４発明に対し、シリカ系中空微粒子の低屈折材料等に用いる同一の技術分野における文献である甲２３に記載された技術的事項を適用し、粒子径変動係数を２３％、平均粒子径を５２ｎｍとすることに動機付けがあり、当業者が容易に想到し得たものである。 ｂ 上記ａの各主張について検討する。 上記ａ(ａ)についていうと、仮に充填性が粒子径及び粒子径分布による影響を受けることが技術常識だったとしても、上記相違点１－１に係る本件発明１の構成である「粒子径の変動係数が２０～２６．１％であ」って、「平均粒子径が３０～５５．２ｎｍ」とすることまで出願時の技術常識であったということはできない。また、上記ａ(ｂ)についてみても、確かに甲２３の実施例３にはシリカ系中空微粒子の粒子径変動係数（ＣＶ値）を２３％、平均粒子径を５２ｎｍとしたことは記載されているものの、甲４発明において、甲２３の実施例３における粒子径変動係数（ＣＶ値）及び平均粒子径という、特定の文献中の特定のパラーメータのみを採用する動機付けまでは見出せない。 よって、申立人の上記主張は採用できない。 ウ 本件発明２について 本件発明１を引用する本件発明２についても、上記イと事情は同じであるから、本件発明２は、甲４に記載された発明でなく、また甲４に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものとはいえない。 エ 本件発明３について (ア) 対比 本件発明３と甲４発明を対比すると、甲４発明の「内部が空洞のシリカ粒子」、「構成」は、それぞれ、本件発明３の「シリカ系シェルを有する」「粒子」、「形成」に相当する。 甲４発明の「シリカ層がシリカのみで構成」は、本件発明３の「シリカ系化合物がシリカのみで形成」に相当する。 そうすると、両者は、 「シリカ系シェルを有する粒子であって、 シリカ系シェルを形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている、粒子。」 の点で一致し、以下の点で相違する。 （相違点１－２） 本件発明３が「分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子をコアとし、前記カチオン性ポリスチレン粒子を被覆するシリカ系シェルを有するコアシェル粒子」であって、「前記分散剤が、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、コラーゲン、及び多糖類から選択される少なくとも１種であ」るのに対し、甲４発明は「内部が空洞のシリカ粒子」である点。 （相違点１－３） 本件発明３の粒子が「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であり、平均粒子径が３０～１５０ｎｍであ」るのに対し、甲４発明の粒子は「画像で示される」ものであって、「粒子径が数十ｎｍ」である点。 (イ) 相違点について 事案に鑑み、上記相違点１－２について検討する。 甲４の記載をみても（上記４(３)参照）、甲４発明のシリカ系中空粒子により、所定のカチオン性ポリスチレン粒子を被覆してコアシェル粒子とすることは記載も示唆もないし、このような事項は甲１１～１３に記載されておらず（上記４(６)～(８)参照）、また周知技術ともいえないから、甲４発明において、当該相違点に係る本件発明３の構成とすることは、当業者にとって容易に想到し得ることであったということはできない。 したがって、上記相違点１－３について検討するまでもなく、本件発明３は、甲４発明に基いて当業者が容易に想到し得たものといえない。 (ウ) 申立人の主張について 申立人は、概略、甲４発明に対し、技術常識又は中空のシリカ粒子として技術分野を同じくする甲１３に記載された方法（上記４(６)参照）を採用することにより、本件発明３を容易に想到することができる旨を主張する（異議申立書の８２頁下から３行～８９頁下から２行）。 しかしながら、甲４発明のシリカ系中空粒子により、所定のカチオン性ポリスチレン粒子を被覆してコアシェル粒子とすることは技術常識とは認められず、また甲１３をみても、甲４発明に係るシリカ粒子のコアを所定のスチレン粒子とすることについて記載も示唆もないから、申立人の上記主張は採用できない。 オ 本件発明４～９について 上記第３に示したとおり、本件発明４は、シリカ系中空粒子又はコアシェル粒子を製造するための「カチオン性ポリスチレン粒子」に係る発明であり、本件発明５～８は、「カチオン性ポリスチレン粒子」を製造する工程を含むシリカ系中空粒子又はコアシェル粒子の製造方法に係る発明であり、また、本件発明９は、シリカ系中空粒子又はコアシェル粒子を製造するための「カチオン性ポリスチレン粒子」の製造方法に係る発明であるから、上記エで検討した相違点１－２と同様な理由により、本件発明４～９は、甲４に記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得たものとはいえない。 カ 取消理由３及び申立理由１のまとめ 以上のとおりであるから、特許法第２９条第１項第３号及び同条第２項に係る取消理由３及び申立理由１に理由はない。 (３) 取消理由４、申立理由２（甲１６を主たる証拠とした新規性、進歩性欠如）について ア 甲１６に記載された発明 甲１６には、上記４(７)アによれば、中空シリカナノ粒子を構成するシェルがＳｉＯ２（シリカ）シェルであることが記載されていること、また、上記４(７)ア及びウによれば、中空シリカナノ粒子が、ポリ（アクリル酸）（ＰＡＡ）と少量のアンモニア溶液（ＮＨ４ＯＨ）からなる高分子電解質テンプレートをエタノールに分散させた懸濁液に、シリカ前駆体であるテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を添加し、撹拌、分離、洗浄、乾燥するという製造方法で得られることを踏まえると、中空シリカナノ粒子を構成するシェルはシリカのみで構成されていると認められる。 さらに、甲１６には、上記４(７)イによれば、中空シリカナノ粒子は、固体／液体負荷、熱／電気絶縁、特殊光学特性などを提供し、多様な分野に応用されていることが記載されている。 以上を踏まえつつ、上記４(７)に記載された事項を、中空シリカナノ粒子に注目して整理すると、甲１６には、 「図１ｂ）又は図３ａ）で示される中空シリカナノ粒子であって、 中空シリカナノ粒子を構成するシェルがシリカのみで構成されていて、 固体／液体負荷、熱／電気絶縁、特殊光学特性などを提供する、中空シリカナノ粒子。」 の発明（以下、「甲１６発明」という。）が記載されているといえる。 イ 本件発明１について (ア) 対比 本件発明１と甲１６発明を対比すると、甲１６発明の「中空シリカナノ粒子」、「構成」及び「シェルがシリカのみで構成」は、それぞれ、本件発明１の「シリカ系中空粒子」、「形成」及び「シリカ系化合物がシリカのみで形成」に相当する。 すると、両者は、 「シリカ系中空粒子であって、 シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている、シリカ系中空粒子」 の点で一致し、以下の点で相違する。 （相違点２－１） 本件発明１では、シリカ系中空粒子に関して「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～２６．１％であ」り、「平均粒子径が３０～５５．２ｎｍであ」るのに対して、甲１６発明では、「図１ｂ）又は図３ａ）で示される」ことが特定されている点。 (イ) 相違点について 甲１６の上記図１ｂ）（上記４(７)オ参照）から見て取れる１０個の中空シリカナノ粒子について、本件明細書の【００２１】及び【００２３】に記載された手順に準じて、粒子径の変動係数及びアスペクト比が１．５以下の粒子の割合を解析すると、アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の１００％を占め、粒子径の変動係数が５０．５％となり、平均粒子径が１４４．９ｎｍとなる（異議申立書の１０７ページの表も参照されたい。）。 また、甲１６の上記図３ａ）（上記４(７)カ参照）から見て取れる１３個の中空シリカナノ粒子について、粒子径及びアスペクト比を解析すると、アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の１００％を占め、粒子径の変動係数が４６．２％となり、平均粒子径が６４．６ｎｍとなる（異議申立書の１０９ページの表も参考にした。）。 そうすると、甲１６発明の粒子径の変動係数と平均粒子径は、本件発明１の数値範囲に含まれず、上記相違点２－１は、実質的な相違点である。 そして、上記４(７)のとおり、シリカ系中空粒子に関して、「粒子径の変動係数」を「２０～２６．１％」としつつ、「平均粒子径が３０～５５．２ｎｍ」とすることは、甲１６には記載も示唆もないし、このような事項は甲１１～１３、甲１７に記載されておらず（上記４(４)～(６)、(８)参照）、また周知技術ともいえないから、甲１６発明において、当該相違点に係る本件発明１の構成とすることは、当業者にとって容易に想到し得ることであったということはできない。 したがって、本件発明１は、甲１６に記載された発明でなく、また、甲１６に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものとはいえない。 (ウ) 申立人の主張について 申立人の主張は、上記(２)イ(ウ)ａと同様であるから、上記(２)イ(ウ)ｂと同様の理由により、当該主張は採用できない。 ウ 本件発明２について 本件発明１を引用する本件発明２についても、上記イと事情は同じであるから、本件発明２は、甲１６に記載された発明でなく、また、甲１６に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものとはいえない。 エ 本件発明３について (ア) 対比 本件発明３と甲１６発明とを対比すると、甲１６発明の「中空シリカナノ粒子」、「構成」及び「シェルがシリカのみで構成」は、それぞれ本件発明３の「シリカ系シェルを有する」「粒子」、「形成」及び「シリカ系化合物がシリカのみで形成」に相当する。 すると両者は、 「シリカ系シェルを有する粒子であって、 シリカ系シェルを形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている、粒子。」 の点で一致し、以下の点で相違する。 （相違点２－２） 本件発明３が「分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子をコアとし、前記カチオン性ポリスチレン粒子を被覆するシリカ系シェルを有するコアシェル粒子」であって、「前記分散剤が、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、コラーゲン、及び多糖類から選択される少なくとも１種であ」るのに対し、甲１６発明は「中空シリカナノ粒子」である点。 （相違点２－３） 本件発明３の粒子が「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であり、平均粒子径が３０～１５０ｎｍであ」るのに対し、甲１６発明の粒子は「図１ｂ）又は図３ａ）で示される」ものである点。 (イ) 相違点について 上記相違点２－２について検討する。 甲１６の記載をみても（上記４(７)）、甲１６発明の中空シリカナノ粒子により、所定のカチオン性ポリスチレン粒子を被覆してコアシェル粒子とすることは記載も示唆もないし、このような事項は甲１１～１３、甲１７に記載されておらず（上記４(４)～(６)、(８)参照）、また周知技術ともいえないから、甲１６に記載された発明において、当該相違点に係る本件発明３の構成とすることは、当業者にとって容易に想到し得ることであったということはできない。 したがって、上記相違点２－３について検討するまでもなく、本件発明３は、甲１６発明に基いて当業者が容易に想到し得たものといえない。 (ウ) 申立人の主張について 申立人の主張は、上記(２)エ(ウ)に示した主張と同様であるから（異議申立書の１２１ページ下から５行～１２６ページ１０行）、上記(２)エ(ウ)での検討と同様の理由により、当該主張は採用できない。 オ 本件発明４～９について 上記第３に示したとおり、本件発明４は、シリカ系中空粒子又はコアシェル粒子を製造するための「カチオン性ポリスチレン粒子」に係る発明であり、本件発明５～８は、「カチオン性ポリスチレン粒子」を製造する工程を含むシリカ系中空粒子又はコアシェル粒子の製造方法に係る発明であり、また、本件発明９は、シリカ系中空粒子又はコアシェル粒子を製造するための「カチオン性ポリスチレン粒子」の製造方法に係る発明であるから、上記エで検討した相違点２－２と同様な理由により、本件発明４～９は、甲１６に記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得たものとはいえない。 カ 取消理由４及び申立理由２のまとめ 以上のとおりであるから、特許法第２９条第１項第３号及び同条第２項に係る取消理由４及び申立理由２に理由はない。 (４) 取消理由５、申立理由３（甲１８を主たる証拠とする新規性、進歩性欠如）について ア 甲１８に記載された発明 甲１８には、上記４(９)ウによれば、中空シリカナノ粒子を構成するシェルがシリカシェルであることが記載されていること、また、上記４(９)ウ及びオによれば、中空シリカナノ粒子が、ポリ（アクリル酸）（ＰＡＡ）を水酸化アンモニウムに溶解し、無水エタノールと混合した後、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を注入し、撹拌、脱イオン水で分離、乾燥するという製造方法で得られることを踏まえると、中空シリカナノ粒子を構成するシェルはシリカのみで構成されていると認められる。 さらに、甲１８には、上記４(９)ア及びイによれば、中空シリカナノ粒子は、反射防止（ＡＲ）コーティングに使用されることが記載されている。 以上を踏まえつつ、上記４(９)に記載された事項を、中空シリカナノ粒子に注目して整理すると、甲１８には、 「図１ａ、図１ｂ又は図１ｃで示される中空シリカナノ粒子であって、 中空シリカナノ粒子を構成するシェルがシリカのみで構成されていて、 反射防止（ＡＲ）コーティングに使用される、中空シリカナノ粒子。」 の発明（以下、「甲１８発明」という。）が記載されているといえる。 イ 本件発明１について (ア) 対比 本件発明１と甲１８発明を対比すると、甲１８発明の「中空シリカナノ粒子」、「構成」及び「シェルがシリカのみで構成」は、それぞれ、本件発明１の「シリカ系中空粒子」、「形成」及び「シリカ系化合物がシリカのみで形成」に相当する。 すると、両者は、 「シリカ系中空粒子であって、 シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている、 シリカ系中空粒子。」 の点で一致し、以下の点で相違する。 （相違点３－１） 本件発明１では、シリカ系中空粒子に関して「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～２６．１％であ」り、「平均粒子径が３０～５５．２ｎｍであ」るのに対して、甲１８発明では、「図１ａ、図１ｂ又は図１ｃで示される」ことが特定されている点。 (イ) 相違点３－１について 甲１８の上記図１ａ（上記４(９)カ参照）から見て取れる２７個の中空シリカナノ粒子について、本件明細書の【００２１】及び【００２３】に記載された手順に準じて、粒子径の変動係数及びアスペクト比が１．５以下の粒子の割合を解析すると、アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の１００％を占め、粒子径の変動係数が２８．２％となり、平均粒子径が５９．８ｎｍとなる（異議申立書第１４２頁の表も参考にした。）。 また、甲１８の上記図１ｂ（上記４(９)キ参照）から見て取れる２１４個の中空シリカナノ粒子について、粒子径及びアスペクト比を解析すると、アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の１００％を占め、粒子径の変動係数が３８．６％となり、平均粒子径が６０．０ｎｍとなる（異議申立書第１４５～１４６頁の表も参考にした。）。 さらに、甲１８の上記図１ｃ上記（４(９)ク参照）から見て取れる１７０個の中空シリカナノ粒子について、粒子径及びアスペクト比を解析すると、アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の１００％を占め、粒子径の変動係数が４９．９％となり、平均粒子径が８３．７ｎｍとなる（異議申立書第１４９頁の表も参考にした。）。 そうすると、甲１８発明の粒子径の変動係数と平均粒子径は、本件発明１の数値範囲に含まれず、上記相違点３－１は、実質的な相違点である。 そして、上記４(９)のとおり、シリカ系中空粒子に関して、「粒子径の変動係数」を「２０～２６．１％」としつつ、「平均粒子径が３０～５５．２ｎｍ」とすることは、甲１８には記載も示唆もないし、このような事項は甲１３、甲１７に記載されておらず（上記４(６)、(８)参照）、また周知技術ともいえないから、甲１８発明において、当該相違点に係る本件発明１の構成とすることは、当業者にとって容易に想到し得ることであったということはできない。 したがって、本件発明１は、甲１８に記載された発明でなく、また、甲１８に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものとはいえない。 (ウ) 申立人の主張について 申立人の主張は、上記(２)イ(ウ)ａと同様であるから、上記(２)イ(ウ)ｂと同様の理由により、当該主張は採用できない。 したがって、本件発明１は、甲１８に記載された発明並びに甲１３、１７に記載された事項及び周知技術に基いて、当業者が容易になし得たものとはいえない。 ウ 本件発明２について 本件発明１を引用する本件発明２についても、上記イと事情は同じであるから、本件発明２は、甲１８に記載された発明でなく、また、甲１８に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものとはいえない。 エ 本件発明３について (ア) 対比 本件発明３と甲１８発明を対比すると、甲１８発明の「中空シリカナノ粒子」、「構成」及び「シェルがシリカのみで構成」は、それぞれ、本件発明１の「シリカ系シェルを有する」「粒子」、「形成」及び「シリカ系化合物がシリカのみで形成」に相当する。 すると、両者は、 「シリカ系シェルを有する粒子であって、 シリカ系シェルを形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている、粒子。」 の点で一致し、以下の点で相違する。 （相違点３－２） 本件発明３が「分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子をコアとし、前記カチオン性ポリスチレン粒子を被覆するシリカ系シェルを有するコアシェル粒子」であって、「前記分散剤が、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、コラーゲン、及び多糖類から選択される少なくとも１種であ」るのに対し、甲１８発明は「中空シリカナノ粒子」である点。 （相違点３－３） 本件発明３の粒子が「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であり、平均粒子径が３０～１５０ｎｍであ」るのに対し、甲１８発明の粒子は「図１ａ、図１ｂ又は図１ｃで示される」ものである点。 (イ) 相違点について 上記相違点３－２について検討する。 甲１８の記載をみても（上記４(９)）、甲１８発明の中空シリカナノ粒子により、所定のカチオン性ポリスチレン粒子を被覆してコアシェル粒子とすることは記載も示唆もないし、このような事項は甲１３、甲１７に記載されておらず（上記４(６)、(８)参照）、また周知技術ともいえないから、甲１８発明において、当該相違点に係る本件発明３の構成とすることは、当業者にとって容易に想到し得ることであったということはできない。 したがって、上記相違点３－３について検討するまでもなく、本件発明３は、甲１８発明に基いて当業者が容易に想到し得たものといえない。 (ウ) 申立人の主張について 申立人の主張は、上記(２)エ(ウ)に示した主張と同様であるから（異議申立書の１６０ページ８行～１６４ページ７行）、上記(２)エ(ウ)での検討と同様の理由により、当該主張は採用できない。 オ 本件発明４～９について 上記第３に示したとおり、本件発明４は、シリカ系中空粒子又はコアシェル粒子を製造するための「カチオン性ポリスチレン粒子」に係る発明であり、本件発明５～８は、「カチオン性ポリスチレン粒子」を製造する工程を含むシリカ系中空粒子又はコアシェル粒子の製造方法に係る発明であり、また、本件発明９は、シリカ系中空粒子又はコアシェル粒子を製造するための「カチオン性ポリスチレン粒子」の製造方法に係る発明であるから、上記エで検討した相違点３－２と同様な理由により、本件発明４～９は、甲１８に記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得たものとはいえない。 カ 取消理由５及び申立理由３のまとめ 以上のとおりであるから、特許法第２９条第１項第３号及び同条第２項に係る取消理由５及び申立理由３に理由はない。 (５) 申立理由４（甲１９を主たる証拠とした進歩性欠如）について ア 甲１９に記載された発明 上記４(１０)ウ（【００１２】）によれば、甲１９における中空微粒子の好ましい製造方法が、「第１段階として後処理で除去可能なコア粒子形成、第２段階としてシェル層形成、第３段階としてコア粒子の溶解、必要に応じて第４段階として追加シェル相の形成」という工程よりなることが理解できる。 上記４(１０)ウ（【００１４】）によれば、甲１９に記載された「空孔含有微粒子はサイズ分布を有していても良く、その変動係数は好ましくは６０％～５％、更に好ましくは５０％～１０％である」ことが理解できる。 以上を踏まえつつ、上記４(１０)に記載された事項を、上記４(１０)エの「無機微粒子Ｐ－４」に着目して整理すると、甲１９には以下の発明が記載されていると認められる（以下、「甲１９発明１」という。また、以下、甲１９発明１に係る［調整工程］を「甲１９調整工程１」ともいう）。 ＜甲１９発明１＞ 「 下記［調整工程］により得られる中空シリカ微粒子であって、 当該中空シリカ微粒子の粒子サイズが５０ｎｍであり、 当該中空シリカ微粒子のサイズの変動係数が、好ましくは５０～１０％である、中空シリカ系微粒子。 ［調整工程］ 平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０質量％のシリカゾル９０ｇとイオン交換水１７１０ｇとを混合して反応母液を調製し、９５℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2として１．５質量％のケイ酸ナトリウム水溶液２４，９００ｇと、Ａｌ2Ｏ3として０．５質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液３６，８００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を９１℃に保持した。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3コア粒子の分散液（Ａ）を調製した。（第１調製工程） 次いで、このコア粒子の分散液（Ａ）５００ｇを採取し、イオン交換水１，７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ2濃度３．５質量％）２，１００ｇを添加してコア粒子表面にシリカ保護膜を形成した。得られたシリカ保護膜を有するコア粒子の分散液を、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％に調整したのち、コア粒子の分散液５００ｇにイオン交換水１，１２５ｇを加え、さらに濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行ったのち、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌとイオン交換水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、粒子前駆体分散液を調製した。（第２調製工程） 上記粒子前駆体分散液１５００ｇと、イオン交換水５００ｇおよびエタノール１，７５０ｇとの混合液を３０℃に加温した後、テトラエトキシシラン（ＳｉＯ2２８質量％）４０ｇと２８％アンモニア水６２６ｇを速度を制御しながら添加し、粒子前駆体表面にテトラエトキシシランの加水分解重縮合物でシリカ外殻層を形成することによって、外殻層内部に空洞を有する粒子を作製した。次いで、エバポレーターで固形分濃度５質量％まで濃縮した後、濃度１５質量％のアンモニア水を加えてｐＨ１０とし、オートクレーブで１８０℃、４時間加熱処理し、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％の中空シリカ微粒子ゾル（空孔含有無機微粒子）（Ｐ－４）の分散液を調製した。（第３調製工程）」 また、上記４(１０)に記載された事項を、上記４(１０)エの「シリカ保護膜を有するコア粒子」に着目して整理すると、甲１９には以下の発明が記載されていると認められる（以下、「甲１９発明２」という。また、以下、甲１９発明２に係る［調整工程］を「甲１９調整工程２」ともいう）。 ＜甲１９発明２＞ 「 下記［調整工程］によって得られるシリカ保護膜を有するコア粒子。 ［調整工程］ 平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０質量％のシリカゾル９０ｇとイオン交換水１７１０ｇとを混合して反応母液を調製し、９５℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2として１．５質量％のケイ酸ナトリウム水溶液２４，９００ｇと、Ａｌ2Ｏ3として０．５質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液３６，８００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を９１℃に保持した。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3コア粒子の分散液（Ａ）を調製した。（第１調製工程） 次いで、このコア粒子の分散液（Ａ）５００ｇを採取し、イオン交換水１，７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ2濃度３．５質量％）２，１００ｇを添加してコア粒子表面にシリカ保護膜を形成した。」 イ 本件発明１について (ア) 対比 本件発明１と甲１９発明１とを対比すると、甲１９発明１の「中空シリカ系微粒子」は、本件発明１の「シリカ系中空粒子」に相当する。 甲１９発明１に係る中空シリカ系微粒子は「粒子サイズが５０ｎｍ」であるから、本件発明１の「平均粒子径が３０～５５．２ｎｍ」を満足する。 そうすると、両者は、 「シリカ系中空粒子であって、 平均粒子径が３０～５５．２ｎｍである、 シリカ系中空粒子」 の点で一致し、以下の点で相違する。 （相違点４－１） 本件発明１が、シリカ系中空粒子に関して「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～２６．１％」であって、「シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている」ことを特定するのに対し、甲１９発明１は「変動係数が、好ましくは５０～１０％であり」、「甲１９調整工程１」により得られることが特定されている点。 (イ) 相違点４－１の検討 甲１９調整工程１を子細にみても、甲１９発明１に係る中空シリカ微粒子における「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体」に占める割合は不明であるし、粒子径の変動係数も不明である。また、甲１９調整工程１では「ＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3コア粒子」を用いているところ、コア粒子の溶解がどの程度完全に行われているか不明であって、中空シリカ微粒子中にＡｌ２Ｏ３成分が残存している可能性もあるから、「シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている」か否かは不明である。 そして、甲１９には、「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め」るようにし、「粒子径の変動係数」を「２０～２６．１％」とし、加えて「シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている」ようにすることは記載も示唆もないし、このような事項は甲１３、甲１７に記載されておらず（上記４(６)、(８)参照）、また周知技術ともいえないから、甲１９発明１において、当該相違点に係る本件発明１の構成とすることは、当業者にとって容易に想到し得ることであったということはできない。 したがって、本件発明１は、甲１９に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものとはいえない。 (ウ) 申立人の主張について 申立人は、甲１９内に記載された特開２００１－２３３６１１号公報（異議申立書の甲２０）によれば、甲１９に係る中空シリカ微粒子は「球状」であり、「シリカ単一層」であるから、本件発明１の「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め」、「シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている」点と相違せず、仮に相違するとしても「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め」ることは周知技術であるし、甲１７を適用すれば「シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている」こととするのは、当業者が容易に想到し得ることと主張する（異議申立書第１７６頁６行～１８５頁２行）。 しかしながら、上記アのとおり、甲１９発明１に係る中空シリカ微粒子の製造方法は「甲１９調整工程１」であって、特開２００１－２３３６１１号公報のものでなく、仮にこれを採用するとしても「球状」であることをもって、「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め」るものということはできない。また上記(イ)のとおりＡｌ２Ｏ３成分の残存量が不明であるから、「シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている」ともいえない。さらに、周知技術及び甲１７に記載された技術的事項を適用する動機付けも見出すことはできない。 よって、上記主張は採用できない。 ウ 本件発明２について 本件発明１を引用する本件発明２についても、上記イと事情は同じであるから、本件発明２は、甲１９に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものとはいえない。 エ 本件発明３について (ア) 対比 本件発明３と甲１９発明２とを対比すると、甲１９発明２の「シリカ保護膜を有するコア粒子」は、本件発明１の「シリカ系シェルを有する」「コアシェル粒子」に相当する。 そうすると、両者は、 「シリカ系シェルを有するコアシェル粒子。」 の点で一致し、以下の点で相違する。 （相違点４－２） 本件発明３が、「分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子をコア」とするコアシェル粒子であって、シリカ系シェルは「前記カチオン性ポリスチレン粒子を被覆する」ものであり、「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であり、平均粒子径が３０～１５０ｎｍであり」、「前記分散剤が、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、コラーゲン、及び多糖類から選択される少なくとも１種であり、シリカ系シェルを形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている」ことを特定するのに対し、甲１９発明２は「甲１９調整工程２」により得られることが特定されている点。 (イ) 相違点４－２について 甲１９調整工程２を子細にみても、甲１９発明２に係るコアシェル粒子における「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体」に占める割合は不明であるし、粒子径の変動係数も不明である。また、甲１９調整工程２では「ＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3コア粒子」を用いているから、本件発明３においてコアが「分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子」である点も、実質的な相違点である。 そして、甲１９には、コアシェル粒子の「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め」るようにし、「粒子径の変動係数」を「２０～６０％」とし、加えてコアを所定の「分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子」にすることは記載も示唆もないし、このような事項は甲１３、甲１７に記載されておらず（上記４(６)、(８)参照）、また周知技術ともいえないから、甲１９発明２において、当該相違点に係る本件発明３の構成とすることは、当業者にとって容易に想到し得ることであったということはできない。 したがって、本件発明３は、甲１９に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものとはいえない。 (ウ) 申立人の主張 申立人の主張は、上記イ(ウ)に示した主張と同様であるから（異議申立書の１８５ページ下から２行～１８９ページ下から２行）、上記イ(ウ)での検討と同様の理由により、当該主張は採用できない。 オ 本件発明４～９について 上記第３に示したとおり、本件発明４は、シリカ系中空粒子又はコアシェル粒子を製造するための「カチオン性ポリスチレン粒子」に係る発明であり、本件発明５～８は、「カチオン性ポリスチレン粒子」を製造する工程を含むシリカ系中空粒子又はコアシェル粒子の製造方法に係る発明であり、また、本件発明９は、シリカ系中空粒子又はコアシェル粒子を製造するための「カチオン性ポリスチレン粒子」の製造方法に係る発明であるから、上記エで検討した相違点４－２と同様な理由により、本件発明４～９は、甲１９に記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得たものとはいえない。 カ 申立理由４のまとめ 以上のとおりであるから、特許法第２９条第２項に係る申立理由４に理由はない。 (６) 申立理由５（甲２１を主たる証拠とした新規性、進歩性欠如）について ア 甲２１に記載された発明 甲２１に記載された事項（上記４(１１)ウ参照）を、甲２１に記載された実施例５のシリカ系中空微粒子（Ｐ－３）に着目して整理すると、甲２１には以下の発明が記載されているといえる（以下、「甲２１発明１」という。また、甲２１発明１に係る調整工程を「甲２１調整工程１」ともいう。） ＜甲２１発明１＞ 「 下記［調整工程］により得られるシリカ系中空微粒子であって、 異形シリカ系中空微粒子の数割合が０．８％であり、 平均粒子径が７３ｎｍ、ＣＶ値が２９％である、シリカ系中空微粒子。 ［調整工程］ シリカゾル（日揮触媒化成（株）製：ＳＩ－５５０、平均粒子径５ｎｍ、ＣＶ値１７％、ＳｉＯ2濃度２０質量％）１０ｇに純水３９０ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ＳｉＯ2として濃度１．２質量％の珪酸ナトリウム水溶液１０,５００ｇとＡl2Ｏ3としての濃度０.４質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液１０,５００ｇを２５時間で添加して、ＳｉＯ2・Ａl2Ｏ3一次粒子分散液を得た。このときの反応液のｐＨは１１．８、固形分濃度は０．８質量％であった。また、平均粒子径は５１ｎｍであった。 ついで、ＳｉＯ2として濃度１.２質量％の珪酸ナトリウム水溶液３３，５６０ｇとＡl2Ｏ3としての濃度０.４質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液１１，１９０ｇを２５時間で添加して複合酸化物微粒子(3)（二次粒子）の分散液を得た。このとき、反応液のｐＨは１１．６、固形分濃度は０．９質量％であった。 分散液を、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％にした後、目開き１μｍのカプセルフィルターで濾過し複合酸化物微粒子(3)分散液を得た。このとき、平均粒子径は７８ｎｍ、ＣＶ値＝２８.０％であった。 この複合酸化物微粒子(3)の分散液５００ｇに純水１,１２５ｇを加え、さらに濃塩酸（濃度３５.５質量％）を滴下してｐＨ１.０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離・洗浄して固形分濃度２０質量％のシリカ系微粒子(P-3-1)の水分散液を得た。 つぎに、シリカ系微粒子(P-3-1)分散液にアンモニア水を添加して分散液のｐＨを１０．５に調整し、ついで２００℃にて１１時間熟成した後、常温に冷却し、陽イオン交換樹脂（三菱化学（株）製：ダイヤイオンＳＫ１Ｂ）４００ｇを用いて３時間イオン交換し、ついで、陰イオン交換樹脂（三菱化学（株）製：ダイヤイオンＳＡ２０Ａ）２００ｇを用いて３時間イオン交換し、さらに陽イオン交換樹脂（三菱化学（株）製：ダイヤイオンＳＫ１Ｂ）２００ｇを用い、８０℃で３時間イオン交換して洗浄を行い、固形分濃度２０質量％のシリカ系微粒子(P-3-2)の水分散液を得た。 ついで限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％のシリカ系微粒子（P-3）のアルコール分散液を調製した。 固形分濃度２０質量％のシリカ系微粒子（P-3）のアルコール分散液１００ｇにメタクリルシランカップリング剤（γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン）（信越化学（株）製：KBM-503、ＳｉＯ2成分８１．９質量％）３ｇを添加し、５０℃で加熱処理を行い、再び限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％のシリカ系中空微粒子（P-3）のアルコール分散液を調製した。」 また、甲２１に記載された事項を、実施例５における「複合酸化物微粒子(3)」（上記４(１１)ウ）に着目して整理すると、甲２１には以下の発明が記載されているといえる（以下、「甲２１発明２」という。また、甲２１発明２に係る調整工程を「甲２１調整工程２」ともいう。） ＜甲２１発明２＞ 「 下記［調整工程］により得られる複合酸化物微粒子であって、 平均粒子径が７８ｎｍ、ＣＶ値が２８．０％である、複合酸化物微粒子。 ［調整工程］ シリカゾル（日揮触媒化成（株）製：ＳＩ－５５０、平均粒子径５ｎｍ、ＣＶ値１７％、ＳｉＯ2濃度２０質量％）１０ｇに純水３９０ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ＳｉＯ2として濃度１．２質量％の珪酸ナトリウム水溶液１０,５００ｇとＡl2Ｏ3としての濃度０.４質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液１０,５００ｇを２５時間で添加して、ＳｉＯ2・Ａl2Ｏ3一次粒子分散液を得た。このときの反応液のｐＨは１１．８、固形分濃度は０．８質量％であった。また、平均粒子径は５１ｎｍであった。 ついで、ＳｉＯ2として濃度１.２質量％の珪酸ナトリウム水溶液３３，５６０ｇとＡl2Ｏ3としての濃度０.４質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液１１，１９０ｇを２５時間で添加して複合酸化物微粒子(3)（二次粒子）の分散液を得た。このとき、反応液のｐＨは１１．６、固形分濃度は０．９質量％であった。 分散液を、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％にした後、目開き１μｍのカプセルフィルターで濾過し複合酸化物微粒子(3)分散液を得た。」 イ 本件発明１について (ア) 対比 本件発明１と甲２１発明１とを対比すると、甲２１発明１の「シリカ系中空微粒子」は、本件発明１の「シリカ系中空粒子」に相当する。 そうすると、両者は「シリカ系中空粒子」の点で一致し、以下の点で相違する。 （相違点５－１） 本件発明１におけるシリカ系中空粒子が、「粒子径の変動係数が２０～２６．１％」であるのに対し、甲２１発明１は「ＣＶ値が２９％」である点。 （相違点５－２） 本件発明１におけるシリカ系中空粒子が、「平均粒子径が３０～５５．２ｎｍ」であるのに対し、甲２１発明１は「平均粒子径が７３ｎｍ」である点。 （相違点５－３） 本件発明１におけるシリカ系中空粒子が、「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め」、「シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている」のに対し、甲２１発明１は「甲２１調整工程１」で得られたものである点。 (イ) 相違点について 事案に鑑み、相違点５－２について検討する。 上記４(１１)イ（【００１７】）によれば、甲２１に係るシリカ系中空微粒子は「平均粒子径(Dn)が５０～１２０ｎｍ、さらには７０～８０ｎｍの範囲にあることが好ましい」のであって、平均粒子径を「３０～５５．２ｎｍ」とすることは記載も示唆もないし、このような事項は甲１３、甲１７に記載されておらず（上記４(６)、(８)参照）、また周知技術ともいえないから、甲２１発明１において、相違点５－２に係る本件発明１の構成とすることは、当業者にとって容易に想到し得ることであったということはできない。 したがって、相違点５－１及び相違点５－３について検討するまでもなく、本件発明１は、甲２１に記載された発明でなく、また、甲２１に記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得たものとはいえない。 ウ 本件発明２について 本件発明１を引用する本件発明２についても、上記イと事情は同じであるから、本件発明２は、甲２１に記載された発明でなく、また、甲２１に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものとはいえない。 エ 本件発明３について (ア) 対比 本件発明３と甲２１発明２とを対比すると、甲２１発明２の「複合酸化物微粒子」は、本件発明３の「粒子」に相当する。 甲２１発明２に係る複合酸化物微粒子は「平均粒子径が７８ｎｍ」、「ＣＶ値が２８．０％」であるから、本件発明３の「平均粒子径が３０～１５０ｎｍ」、「粒子径の変動係数が２０～６０％」を満足する。 そうすると、両者は 「粒子であって、 粒子径の変動係数が２０～６０％であり、 平均粒子径が３０～１５０ｎｍである粒子。」 で一致し、以下の点で相違する。 ＜相違点５－４＞ 本件発明３が「分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子をコアとし、前記カチオン性ポリスチレン粒子を被覆するシリカ系シェルを有するコアシェル」粒子であって、「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め」、「前記分散剤が、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、コラーゲン、及び多糖類から選択される少なくとも１種であり、シリカ系シェルを形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている」のに対し、甲２１発明２は「甲２１調整工程２」で得られたものである点。 (イ) 相違点について 甲２１調整工程２を子細にみても、甲２１発明２に係る複合酸化物微粒子における「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体」に占める割合は不明である。また、甲１９調整工程２から、甲２１発明２に係る複合酸化物微粒子が「ＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3一次粒子」をコアとし、その表面をケイ素、ナトリウム、アルミニウムを含む酸化物が被覆していることが理解できるから、本件発明３においてコアが「分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子」であり、「前記カチオン性ポリスチレン粒子を被覆するシリカ系シェルを有」し、「シリカ系シェルを形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている」点も、実質的な相違点である。 そして、甲２１には、コアシェル粒子の「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め」るようにし、コアを所定の「分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子」とし、「前記カチオン性ポリスチレン粒子を被覆するシリカ系シェルを有」し、「シリカ系シェルを形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成」することは記載も示唆もないし、このような事項は甲１３、甲１７に記載されておらず（上記４(６)、(８)参照）、また周知技術ともいえないから、甲２１発明２において、当該相違点に係る本件発明３の構成とすることは、当業者にとって容易に想到し得ることであったということはできない。 したがって、本件発明３は、甲２１に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものとはいえない。 (ウ) 申立人の主張について 申立人の主張は、上記(５)イ(ウ)に示した主張と同様であるから（異議申立書の２１２ページ７行～２１６ページ３行）、上記(５)イ(ウ)での検討と同様の理由により、当該主張は採用できない。 オ 本件発明４～９について 上記第３に示したとおり、本件発明４は、シリカ系中空粒子又はコアシェル粒子を製造するための「カチオン性ポリスチレン粒子」に係る発明であり、本件発明５～８は、「カチオン性ポリスチレン粒子」を製造する工程を含むシリカ系中空粒子又はコアシェル粒子の製造方法に係る発明であり、また、本件発明９は、シリカ系中空粒子又はコアシェル粒子を製造するための「カチオン性ポリスチレン粒子」の製造方法に係る発明であるから、上記エで検討した相違点５－４と同様な理由により、本件発明４～９は、甲２１に記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得たものとはいえない。 カ 申立理由５のまとめ 以上のとおりであるから、特許法第２９条第１項第３号及び同条第２項に係る申立理由５に理由はない。 (７) 申立理由６（甲１２を主たる証拠とした新規性、進歩性欠如）について ア 甲１２に記載された発明 上記４(５)に記載された事項を、甲１２に記載された実施例１の「中空シリカゾル」（特に【００６４】～【００６９】）に着目して整理すると、甲１２には以下の発明が記載されていると認められる（以下、「甲１２発明１」という。また、甲１２発明１に係る［製造方法］を「甲１２製造方法１」ともいう。） ＜甲１２発明１＞ 「 真球度０．９３であり、粒子変動係数（ＣＶ値）が３０％である、中空シリカゾルであって、 平均粒子径が４６ｎｍであって、下記［製造方法］により製造された中空シリカゾル。 ［製造方法］ 平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０重量％のシリカゾル１００ｇと純水１９００ｇの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2として１．１７重量％の珪酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ2Ｏ3として０．８３重量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、殆ど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０重量％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子分散液を調製した。（工程(a)） この核粒子分散液５００ｇに純水１，７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、珪酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られた珪酸液（ＳｉＯ2濃度３．５重量％）３，０００ｇを添加して第１シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。（工程(b)） 限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３重量％になった第１シリカ被覆層を形成した核粒子分散液５００ｇに純水１，１２５ｇを加え、さらに濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3多孔質粒子の分散液を調製した（工程(c)）。上記多孔質粒子分散液１５００ｇと、純水５００ｇ、エタノール１，７５０ｇおよび２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ2２８重量％）１０４ｇを添加し、第１シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第２シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０重量％のシリカ系微粒子の分散液を調製した。 得られたシリカ濃度２０質量％の中空シリカゾル５Ｌを遠心分離機(株式会社コクサン製、連続高速遠心機Ｈ－６６０)のローター（型式：ＱＮＳ、容量：１Ｌ）に連続的に注入し、７０００Ｇにて４００ｇ／分の速度で通液し、液を連続して回収することにより、粗大粒子の遠心分離処理を行った。」 また、上記４(５)に記載された事項を、甲１２の合成例１における「第１シリカ被覆層を形成した核粒子」（【００６４】～【００６５】）に着目して整理すると、甲１２には以下の発明が記載されていると認められる（以下、「甲１２発明２」という。また、甲１２発明２に係る［製造方法］を、「甲１２製造方法２」ともいう。） ＜甲１２発明２＞ 「 下記［製造方法］により製造された、第１シリカ被覆層を形成した核粒子。 ［製造方法］ 平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０重量％のシリカゾル１００ｇと純水１９００ｇの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2として１．１７重量％の珪酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ2Ｏ3として０．８３重量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、殆ど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０重量％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子分散液を調製した。 この核粒子分散液５００ｇに純水１，７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、珪酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られた珪酸液（ＳｉＯ2濃度３．５重量％）３，０００ｇを添加して第１シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。」 イ 本件発明１について (ア) 対比 本件発明１と甲１２発明１とを対比する。 甲１２発明１の「中空シリカゾル」は、本件発明１の「シリカ系中空粒子」に相当する。 甲１２発明１の「平均粒子径が４６ｎｍ」は、本件発明１の「平均粒子径が３０～５５．２ｎｍ」を満足する。 そうすると、両者は、 「平均粒子径が３０～５５．２ｎｍである シリカ系中空粒子。」 の点で一致し、以下の点で相違する。 （相違点６－１） 本件発明１が「アスペクト比が１．５以上の粒子が粒子全体の９５％以上を占め」ることを特定するのに対し、甲１２発明１は「真球度が０．９３」である点。 （相違点６－２） 本件発明１が「粒子径の変動係数が２０～２６．１％であ」るのに対し、甲１２発明１は「粒子変動係数（ＣＶ値）が３０％」である点。 （相違点６－３） 本件発明１が「シリカ系中空粒子を形成するシリカ化合物がシリカのみで形成されている」のに対し、甲１２発明１は、「甲１２製造方法１」で製造されたものである点。 (イ) 相違点について 事案に鑑み、上記（相違点６－３）について検討する。 甲１２製造方法１では「ＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子」に第１シリカ層を形成し、その後脱アルミニウム処理を行っているところ、脱アルミニウム処理がどの程度完全に行われているか不明であって、中空シリカゾル中にＡｌ２Ｏ３成分が残存している可能性もあるから、「シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている」か否かは不明である。 そして、甲１２には、「シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている」ようにすることは記載も示唆もないし、このような事項は甲１３、甲１７に記載されておらず（上記４(６)、(８)参照）、また周知技術ともいえないから、甲１２発明１において、当該相違点に係る本件発明１の構成とすることは、当業者にとって容易に想到し得ることであったということはできない。 したがって、本件発明１は、甲１２に記載された発明でなく、また、甲１２に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものとはいえない。 (ウ) 申立人の主張 申立人は、本件明細書の段落【００２２】をみると、中空シリカ微粒子の「シリカ以外の元素または化合物が残存してい」る場合を許容可能な組成としているから、甲１２に記載された発明に係る中空シリカ微粒子は、「シリカ以外の元素または化合物が残存していない」ものであると主張する（異議申立書の２３１ページ７～２０行）。 しかしながら、上記(イ)で検討のとおり、Ａｌ２Ｏ３成分の残存量が不明であるから、「シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている」とはいえず、上記主張は採用できない。 ウ 本件発明２について 本件発明１を引用する本件発明２についても、上記イと事情は同じであるから、本件発明２は、甲１２に記載された発明でなく、また、甲１２に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものとはいえない。 エ 本件発明３について (ア) 対比 本件発明３と甲１２発明２とを対比すると、甲１２発明２における「第１シリカ被覆層を形成した核粒子」は、本件発明１の「シリカ系シェルを有する」「コアシェル粒子」に相当する。 そうすると、両者は、 「シリカ系シェルを有するコアシェル粒子。」 の点で一致し、以下の点で相違する。 （相違点６－４） 本件発明３が、「分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子をコア」とするコアシェル粒子であって、シリカ系シェルは「前記カチオン性ポリスチレン粒子を被覆する」ものであり、「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であり、平均粒子径が３０～１５０ｎｍであり」、「前記分散剤が、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、コラーゲン、及び多糖類から選択される少なくとも１種であり、シリカ系シェルを形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されている」ことを特定するのに対し、甲１２発明２は「甲１２製造方法２」により得られることが特定されている点。 (イ) 相違点について 甲１２製造方法２を子細にみても、甲１２発明２に係る「第１シリコン被覆層を形成した核粒子」における「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体」に占める割合は不明である。また、甲１２製造方法２では「ＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子」を用いているから、本件発明３においてコアが「分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子」である点は、実質的な相違点である。 そして、甲１２には、第１シリコン被覆層を形成した核粒子の「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め」るようにし、「粒子径の変動係数」を「２０～６０％」とし、加えて核粒子を所定の「分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子」にすることは記載も示唆もないし、このような事項は甲１３、甲１７に記載されておらず（上記４ (６)、(８)参照）、また周知技術ともいえないから、甲１２発明２において、当該相違点に係る本件発明３の構成とすることは、当業者にとって容易に想到し得ることであったということはできない したがって、本件発明３は、甲１２に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものとはいえない。 (ウ) 申立人の主張 申立人は、甲１２の明細書の段落【００２３】において、甲２２（特表２０００－５００１１３号公報）を引用しているから、甲１２における中空シリカ微粒子の製造方法として、ポリスチレンを支持体とし、溶媒を撹拌し続け、ｐＨを８～１０に保ちながら珪酸塩溶液を添加して支持体にシリカを形成するシリカスラリーの形成方法、及びシリカスラリーをオーブン又はキルンを用いて乾燥し、支持体を除去する方法が記載されており、「ポリスチレン粒子をコア」とするコアシェル粒子であって、シリカ系シェルは「ポリスチレン粒子を被覆する」ものである点で相違せず、さらに甲１３に記載された事項を適用し、「分散剤を含むカチオン性」のスチレン粒子とすることも当業者が容易になし得たものと主張する（異議申立書の２３２ページ１行～２３３ページ末行、同２３９ページ１３行～２４３ページ１７行）。 当該主張を検討するに、上記(イ)で検討のとおり、甲１２発明２に係る「第１シリコン被覆層を形成した核粒子」において、コアに相当するものは「ＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子」であるから、上記主張は採用できない。さらに、甲１２発明２に係る「甲１２製造方法２」に代えて、甲２２に記載された方法を採用する動機付けも見出せない。 オ 本件発明４～９について 上記第３に示したとおり、本件発明４は、シリカ系中空粒子又はコアシェル粒子を製造するための「カチオン性ポリスチレン粒子」に係る発明であり、本件発明５～８は、「カチオン性ポリスチレン粒子」を製造する工程を含むシリカ系中空粒子又はコアシェル粒子の製造方法に係る発明であり、また、本件発明９は、シリカ系中空粒子又はコアシェル粒子を製造するための「カチオン性ポリスチレン粒子」の製造方法に係る発明であるから、上記エで検討した相違点６－４と同様な理由により、本件発明４～９は、甲１２に記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得たものとはいえない。 カ 申立理由６のまとめ 以上のとおりであるから、特許法第２９条第１項第３号及び同条第２項に係る申立理由６に理由はない。 (８) 申立理由７（サポート要件違反）について ア サポート要件の判断手法 特許請求の範囲の記載がサポート要件に適合するか否かは、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載とを対比し、特許請求の範囲に記載された発明が、発明の詳細な説明に記載された発明で、発明の詳細な説明の記載により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否か、また、その記載や示唆がなくとも当業者が本件特許の出願時の技術常識に照らし当該発明の課題を解決できる範囲のものであるか否かを検討して判断すべきものであるので、以下、この観点に立って検討する。 イ 本件特許明細書の記載事項 本件特許明細書には、以下の記載がある。 (ア) 「【０００１】 本発明は、シリカ系中空粒子、コアシェル粒子及びポリスチレン粒子、並びに、それらの製造方法に関する。 【背景技術】 【０００２】 近年、無機酸化物微粒子に関する研究が行われている。無機酸化物はナノサイズになると、物質の性質が変化して、電気的、光学的、熱的性質等の特性も大きく変わる。そのため、新しい高機能性材料として応用の可能性がある。 【０００３】 無機酸化物微粒子の構造として、緻密型、多孔質型、中空型がある。中でも中空型の中空粒子は、密度が低い、比表面積が大きいなどの特徴があることから、新しい高機能性材料として注目されている。 【０００４】 中空の無機酸化物微粒子の製造方法として、ポリスチレン粒子をコアとして用いる中空シリカ粒子の製造方法、及び当該製造方法で製造された中空ポリスチレン粒子が提案されている（例えば、非特許文献１参照。）。 【０００５】 しかしながら、非特許文献１に記載の中空シリカ粒子及びその製造方法では、中空シリカ粒子の粒度分布については十分に検討されていない。非特許文献１に記載の中空シリカ粒子のように、製造される中空シリカ粒子の粒度分布が小さいと、高機能性材料として様々な物品に充填された際に、充填率が低くなり、高機能性材料として期待される特性を十分に発揮できないという問題がある。 【０００６】 また、非特許文献１に記載の中空シリカ粒子は、分散性について十分に検討されておらず、凝集するという問題がある。中空シリカ粒子が凝集すると高機能性材料として様々な物品に充填された場合、均一に充填され難いという問題がある。 【０００７】 本発明者は、更に、鋭意検討の結果、アスペクト比が大きいシリカ径中空粒子は、高機能性材料として様々な物品に充填された際に充填率が低くなることに着目した。このようなシリカ系中空粒子は、高機能性材料として期待される特性を十分に発揮できないという問題がある。 【０００８】 従って、凝集が抑制されており、粒度分布が大きく、アスペクト比が小さいシリカ系中空粒子、当該シリカ径中空粒子を製造することができるコアシェル粒子及びポリスチレン粒子の開発が求められており、また、当該シリカ径中空粒子、コアシェル粒子及びポリスチレン粒子を製造することができる製造方法の開発が求められている。 ・・・ 【発明の概要】 【発明が解決しようとする課題】 【００１０】 本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、凝集が抑制されており、アスペクト比が小さい粒子が特定範囲の割合を占め、粒子径の変動係数が特定の範囲であることにより、様々な物品に充填された場合、均一に充填され易いシリカ系中空粒子、当該シリカ系中空粒子を製造することができるコアシェル粒子、及び、これらの製造に好適に用いることができるポリスチレン粒子を提供することを目的とする。また、本発明は、当該シリカ系中空粒子、コアシェル粒子及びポリスチレン粒子を製造することができる製造方法を提供することを目的とする。」 (イ) 「【００１７】 １．シリカ系中空粒子 本発明のシリカ系中空粒子は、粒子径のアスペクト比１．５以下の粒子が全体の９５％以上を占め、変動係数が２０～６０％である。 【００１８】 シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物としてはシリカを含有していれば特に限定されず、シリカのみで形成されていてもよい。 【００１９】 上記シリカ系化合物がシリカ以外の化合物を含有する場合は、シリカ系中空粒子はシリカ及び金属酸化物を含んでいることが好ましい。金属酸化物としては、金属アルコキシドを形成することができる金属の酸化物が挙げられ、具体的には、アルミニウム、チタン、ジルコニウム等の酸化物が挙げられる。アルミニウムの酸化物を用いると、シリカ系シェルの表面電荷（ゼータ電位等）を調整することができる。また、チタン、ジルコニウムの酸化物を用いると、シリカ系シェルの屈折率を調整することができる。 【００２０】 本発明のシリカ系中空粒子の粒子径の変動係数は、２０～６０％である。２０～５０％が好ましく、２０～４０％がより好ましい。シリカ系中空粒子の粒子径の変動係数が上記範囲であることにより、シリカ系中空粒子の凝集が抑制でき、且つ、様々な物品に充填された場合、均一に充填され易くなる。 【００２１】 本明細書において、上記シリカ系中空粒子及び後述するコアシェル粒子の変動係数は、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡：ＪＥＭ－２０１０、日本電子株式会社製）を用いて、加速電圧２００ｋＶの条件で粒子の写真を撮影し、任意に選んだ１００個の粒子短径を測長して平均値を求め、下記式に基いて算出した値である。 （変動係数）＝［（粒子短径の標準偏差）÷（粒子短径の平均値）］×１００ 【００２２】 本発明のシリカ系中空粒子は、アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％を占める。アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％未満であると、シリカ系中空粒子の凝集が抑制できず、様々な物品に充填された場合、均一に充填され難い。アスペクト比が１．５以下の粒子は、９７％以上が好ましく、９９％がより好ましい。 【００２３】 本明細書において、上記シリカ系中空粒子のうちアスペクト比が１．５以下の粒子の粒子全体に占める割合、及び、後述するコアシェル粒子のうちアスペクト比が１．５以下の粒子の粒子全体に占める割合は、以下の方法により測定される。すなわち、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡：ＪＥＭ－２０１０、日本電子株式会社製）を用いて、倍率２０万倍、加速電圧２００ｋＶの条件で粒子の写真を撮影し、任意に選んだ１００個のそれぞれの粒子の粒子長径及び粒子短径を測長して、下記式に基いてそれぞれの粒子のアスペクト比を求める。次いで、粒子１００個中アスペクト比が１．５以下の粒子の数を数え、当該数を、アスペクト比が１．５以下の粒子の粒子全体に占める割合（％）とする。 （アスペクト比）＝（粒子長径）÷（粒子短径） 【００２４】 シリカ系中空粒子の平均粒子径は、３０～１５０ｎｍが好ましく、３５～１２０ｎｍがより好ましく、３５～１００ｎｍが更に好ましい。平均粒子径が上記範囲であることにより、シリカ系中空粒子の凝集をより抑制することができ、且つ、様々な物品に充填された場合に、より均一に充填され易くなる。 【００２５】 本明細書において、上記平均粒子径は、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡：ＪＥＭ－２０１０、日本電子株式会社製）を用いて加速電圧２００ｋＶの条件で測定される値である。 【００２６】 シリカ系中空粒子を形成する膜（シェル）の膜厚は、２～４０ｎｍが好ましく、２～２０ｎｍがより好ましい。膜の厚みが上記範囲であることにより、シリカ系中空粒子の空孔率を高くしつつ、シェル強度を維持することができる。なお、本明細書において、上記膜の厚みは、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡：ＪＥＭ－２０１０、日本電子社製）により２００ｋＶの条件で粒子の写真を撮影し、任意に選んだ１００個の粒子のシェル厚みを測長した平均値である。 【００２７】 本発明のシリカ系中空粒子は、実質的に会合していないことが好ましい。シリカ系中空粒子が会合していない状態であると、様々な物品に充填された場合、より均一に充填され易くなる。なお、本明細書において、シリカ系中空粒子が会合している状態とは、複数のシリカ系中空粒子の中空部同士が接合して、一つの中空部を形成している状態を示しており、シリカ系中空粒子が実質的に会合していないとは、シリカ系中空粒子の中空部が接合していない状態をいう。また、本発明のシリカ系中空粒子が会合していないことは、上記ＴＥＭを用いて撮影されたシリカ系中空粒子の写真を観察することにより確認することができる。 【００２８】 本発明のシリカ系中空粒子は、上述のように凝集が抑制されており、粒度分布が大きく、アスペクト比が小さいため、様々な物品に充填された場合、均一に充填され易くなっている。このため、高機能材料として適しており、特に、反射防止フィルム材料、絶縁膜材料又は断熱材材料として好適に用いることができる。」 (ウ) 「【００２９】 ２．コアシェル粒子 本発明のコアシェル粒子は、分散剤を含むポリスチレン粒子をコアとし、上記ポリスチレン粒子を被覆するシリカ系シェルを有しており、アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％である。上記コアシェル粒子は凝集が抑制されており、粒度分布が大きく、アスペクト比が小さくなっており、ポリスチレン粒子を熱分解することにより、上記本発明の中空シリカ粒子を容易に製造することができる。 【００３０】 上記ポリスチレン粒子を被覆するシリカ系シェルは、上述のシリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物と同一である。また、シリカ系シェルの厚みは、上述のシリカ系中空粒子を形成する膜（シェル）の膜厚と同一である。 【００３１】 ポリスチレン粒子の平均粒子径は２０～１５０ｎｍが好ましく、２５～１２０ｎｍがより好ましく、２５～１００ｎｍが更に好ましい。ポリスチレン粒子の平均粒子径を上記範囲とすることにより、シリカ系中空粒子の平均粒子径を適切な範囲とすることができる。 【００３２】 上記ポリスチレン粒子は分散剤を含む。ポリスチレン粒子が分散剤を含むことにより、ポリスチレン粒子の表面に分散剤が存在することとなり、ポリスチレン粒子の凝集をより抑制することができる。分散剤としては、ポリスチレン粒子を製造することができれば特に限定されず、公知の分散剤を用いることができる。上記分散剤としては、例えば、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、コラーゲン、多糖類（アラビアガム）等が挙げられ、中でも、ポリスチレン粒子の凝集を抑制し、後述する工程２で形成されるコアシェル粒子の凝集を抑制することができる点で、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロースが好ましい。上記分散剤は、１種単独で、又は２種以上を混合して用いることができる。 【００３３】 ポリスチレン粒子中の分散剤の含有量は特に限定されないが、上記ポリスチレン粒子１００質量％に対して０．０１～１００質量％が好ましく、０．０５～１００質量％がより好ましい。分散剤の含有量が上記範囲であることにより、ポリスチレン粒子の凝集をより抑制することができる。 【００３４】 本発明のコアシェル粒子の粒子径の変動係数は、２０～６０％である。２０～５０％が好ましく、２０～４０％がより好ましい。コアシェル粒子の粒子径の変動係数が上記範囲であることにより、コアシェル粒子のコアであるポリスチレン粒子を熱分解することにより得られるシリカ系中空粒子の粒子径の変動係数を、上述の範囲とすることができ、当該シリカ系中空粒子の凝集が抑制され、且つ、シリカ系中空粒子が様々な物品に充填された場合、均一に充填され易くなる。 【００３５】 本発明のコアシェル粒子は、アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％を占める。アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％未満であると、コアシェル粒子のコアであるポリスチレン粒子を熱分解することにより得られるシリカ系中空粒子の凝集が抑制できず、様々な物品に充填された場合、均一に充填され難い。アスペクト比が１．５以下の粒子は、９７％以上が好ましく、９９％がより好ましい。 【００３６】 コアシェル粒子の平均粒子径は、３０～１５０ｎｍが好ましく、３５～１２０ｎｍがより好ましく、３５～１００ｎｍが更に好ましい。平均粒子径が上記範囲であることにより、シリカ系中空粒子の凝集をより抑制することができ、且つ、様々な物品に充填された場合に、より均一に充填され易くなる。 【００３７】 コアシェル粒子を形成する膜（シェル）の膜厚は、２～４０ｎｍが好ましく、２～２０ｎｍがより好ましい。膜の厚みが上記範囲であることにより、シリカ系中空粒子の空孔率を高くしつつ、シェル強度を維持することができる。 【００３８】 本発明のコアシェル粒子は、実質的に会合していないことが好ましい。コアシェル粒子が会合していない状態であると、コアシェル粒子のコアであるポリスチレン粒子を熱分解することにより得られるシリカ系中空粒子が様々な物品に充填された場合、より均一に充填され易くなる。なお、本明細書において、コアシェル粒子が会合している状態とは、複数のコアシェル粒子のコアであるポリスチレン粒子が接合して、一つの二次粒子を形成している状態を示しており、コアシェル粒子が実質的に会合していないとは、コアシェル粒子のコアであるポリスチレン粒子が接合していない状態をいう。また、本発明のコアシェル粒子が会合していないことは、上記ＴＥＭを用いて撮影されたコアシェル粒子の写真を観察することにより確認することができる。」 (エ) 「【０１００】 実施例１ 表１の製造条件により、表２の配合でポリスチレン粒子及びコアシェル粒子を調整し、シリカ系中空粒子を製造した。具体的には以下の通りである。 ・・・ 【０１０８】 実施例２、３、比較例１～４ 製造条件を表１及び２の製造条件とし、表２の配合でポリスチレン粒子及びコアシェル粒子を調整した以外は実施例１と同様にして、シリカ系中空粒子を製造した。 ・・・ 【０１１３】 【表１】 ［図：0001404737000013.jpg］ 【０１１４】 比較例１～３では、ＴＥＭ写真において明確に計上を判別できる粒子の数が少ないため、粒子径の変動係数、アスペクト比が１．５以下の粒子の割合、平均粒子径を測定できなかった。」 ウ 本件発明が解決しようとする課題（以下、「本件課題」という。） 上記イ(ア)の記載によれば、本件発明は、「シリカ系中空粒子、コアシェル粒子及びポリスチレン粒子、並びに、それらの製造方法」に関するものであって、従来、中空の無機酸化物微粒子の製造方法として、ポリスチレン粒子をコアとして用いる中空シリカ粒子の製造方法が提案されていたが、当該中空シリカ粒子は粒度分布が小さく、また凝集するので、高機能性材料として様々な物品に充填された際に、充填率が低くなり、高機能性材料として期待される特性を十分に発揮できず、また、アスペクト比が大きいシリカ系中空粒子は、充填率が低くなる、という問題があったことに鑑み、「凝集が抑制されており、アスペクト比が小さい粒子が特定範囲の割合を占め、粒子径の変動係数が特定の範囲である」「シリカ系中空粒子、当該シリカ系中空粒子を製造することができるコアシェル粒子、及び、これらの製造に好適に用いることができるポリスチレン粒子を提供すること、また、当該シリカ系中空粒子、コアシェル粒子及びポリスチレン粒子を製造することができる製造方法を提供すること」を目的とするものということができる。 そして、上記イ(イ)（【００２０】、【００２２】）をみるに、具体的には、「アスペクト比が小さい粒子が特定範囲の割合を占め」とは、「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め」ることを意味し、「粒子径の変動係数が特定の範囲」とは、「粒子径の変動係数が２０～６０％」であることを意味すると解される。 よって、本件課題は、「凝集が抑制されており、アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であるシリカ系中空粒子、当該シリカ系中空粒子を製造することができるコアシェル粒子、及び、これらの製造に好適に用いることができるポリスチレン粒子を提供すること、また、当該シリカ系中空粒子、コアシェル粒子及びポリスチレン粒子を製造することができる製造方法を提供すること」、と認められる。 エ 判断 (ア) 本件発明１、２について 本件特許明細書の実施例３（上記イ(エ)参照）には、本件発明１、２のシリカ系中空粒子が記載されている。 そして、上記第３のとおり、本件発明１、２は、本件課題に係る「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％である」ことを満足するものであって、上記イ(イ)の発明の詳細な説明の記載から把握されるような、上述した粒度分布及びアスペクト比に関する従来の問題に対する解決手段をすでに具備するものである。また、「凝集が抑制されて」いる点について、本件発明１、２に係る請求項１、２には明示的に記載されていないものの、本件発明１、２が粒子径変動係数、アスペクト比が１．５以下の粒子割合、及び平均粒子径を評価できることからして、本件発明１、２は、実質的に「凝集が抑制されて」いることが特定されていると認められる。 よって、本件発明１、２は、本件課題を解決できると認識できる範囲のものであるといえる。 (イ) 本件発明３、８について 本件特許明細書の実施例１～３（上記イ(エ)参照）には、本件発明３のコアシェル粒子が記載されている。 そして、発明の詳細な説明（特に実施例１～３。上記イ(エ)参照）をみると、シリカ系中空粒子の粒子径変動係数、アスペクト比が１．５以下の粒子割合、及び平均粒子径は、コアシェル粒子と同等の値となることが理解できるし、当該コアシェル粒子のコアに所定の分散剤を有することで、コアシェル粒子及びシリカ系中空粒子の凝集が抑制されることも理解できる。 そうすると、「アスペクト比１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であり、平均粒子径が３０～１５０ｎｍであり」、所定の分散剤を含むカチオン性ポリスチレン粒子をコアとする、本件発明３のコアシェル粒子は、本件課題を解決できると認識できる範囲のものであるといえる。 本件発明３を引用する本件発明８についても、同様に本件課題を解決できると認識できる範囲のものといえる。 (ウ) 本件発明４、９について 上記第３に示したとおり、本件発明４は、下記（ｉ）又は（ｉｉ）を製造するための「カチオン性ポリスチレン粒子」である。 （ｉ）「アスペクト比が１．５以下の粒子が粒子全体の９５％以上を占め、粒子径の変動係数が２０～６０％であるシリカ系中空粒子であって、平均粒子径が３０～１５０ｎｍであり、シリカ系中空粒子を形成するシリカ系化合物がシリカのみで形成されているシリカ系中空粒子」 （ｉｉ）「請求項３に記載のコアシェル粒子」 そして、上記（ｉ）のシリカ系中空粒子は、上記(ア)と同様の理由により、本件課題を解決できると認識できる範囲のものであるし、上記（ｉｉ）のコアシェル粒子は、上記(イ)と同様の理由により、本件課題を解決できると認識できる範囲のものである。そうすると、上記（ｉ）又は（ｉｉ）を製造するための「カチオン性ポリスチレン粒子」も本件課題を解決できると認識できる範囲のものといえる。 本件発明４を引用する本件発明９についても、同様に本件課題を解決できると認識できる範囲のものといえる。 (エ) 本件発明５～７ 本件発明５は、上記（ｉ）（上記(ウ)参照）を製造するための「シリカ系中空粒子の製造方法」であって、上記(ア)と同様の理由により、上記（ｉ）のシリカ系中空粒子は、本件課題を解決できると認識できる範囲のものである。 よって、本件発明５は、本件課題を解決できると認識できる範囲のものといえる。 本件発明５を引用する本件発明６、７についても、同様に本件課題を解決できると認識できる範囲のものといえる。 オ 申立人の主張について (ア) サポート要件違反に関し、申立人は、異議申立書において、概略、以下ａ～ｃの点を主張する。 ａ 本件発明が解決しようする課題は、「凝集が抑制されており、アスペクト比が小さい粒子が特定範囲の割合を占め、粒子径の変動係数が特定の範囲であることにより、様々な物品に充填された場合、均一に充填され易いシリカ系中空粒子、当該シリカ系中空粒子を製造することができるコアシェル粒子、及び、これらの製造に好適に用いることができるポリスチレン粒子を提供すること」であり、甲１～甲３をみるに、シリカ系中空粒子が充填されやすいかどうかは、実験によらなければ判断することができないのであるから、物品に充填する試験を行っていない本件発明は、本件課題を解決できることを認識できたとはいえない（異議申立書の５９ページ下から３行～６５ページ１０行）。 ｂ 実施例１～３及び比較例３は、いずれもコアシェル粒子とシリカ系中空粒子との間で、「粒子変動係数」、「アスペクト比が１．５以下の粒子の割合」、「平均粒子径」の各数値が完全に一致しており、これは統計的にも極めて確率の低い事象であって不自然であり、実施例１～３、比較例３で測定された数値が実際に何を測定したものか不明である。よって、実施例１～３、比較例３が何を裏付けるものか把握することができず、本件発明が課題を解決できると認識することができない（異議申立書の６５ページ１１行～６７ページ１４行）。 ｃ 本件発明における「粒子径変動係数」、「アスペクト比が１．５以下の粒子の割合」、「平均粒子径」の範囲が、実施例に対して広すぎるため、拡張ないし一般化できない（異議申立書の６７ページ１５行～６８ページ１６行）。 (イ) 上記(ア)の各主張について検討する。 上記(ア)ａの主張について、本件発明の課題は上記ウのとおりであるから、物品へ充填する試験を行っていないことを理由として、サポート要件違反ということはできず、当該主張は採用できない。 上記(ア)ｂの主張について、本件特許明細書の表１に示された実施例１～３、比較例３の結果が起こり難いことをもって、直ちに当該結果が誤りということはできないから、当該主張は採用できない。 上記(ア)ｃの主張について、実施例が示されている範囲に対して、本件発明の数値範囲が広いことのみをもって、サポート要件違反ということはできず、当該主張は採用できない。 カ 申立理由７のまとめ 以上のとおりであるから、特許法第３６条第６項第１号に係る申立理由７に理由はない。 第５ むすび 以上のとおり、申立人による特許異議の申立ての理由及び証拠、並びに取消理由通知書に記載した取消理由及び証拠によっては、請求項１～９に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に請求項１～９に係る特許を取り消すべき理由を発見しない よって、結論のとおり決定する。