2022-014629

第２ 本件発明

本願の請求項１～１２に係る発明（以下、それぞれ、「本件発明１」～「本件発明１２」といい、これらを総称して「本件発明」という。）は、令和４年９月１５日の補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１～１２に記載された事項により特定されるものと認められるところ、その請求項１及び５の記載は以下のとおりである。

【請求項１】

基板を支持するように構成され、半径ｒ０を有する支持テーブルであって、

ベース面と、

前記支持テーブルのエッジの周りにある第１シールと、

前記第１シールと二重シールを形成するように、前記エッジの周りにある前記第１シールの半径方向内側にある第２シールと、

前記第２シールの半径方向内側にあり、ピンが垂直に延びることを可能にするように構成された複数のホールと、

前記第２シールの半径方向内側にあり、前記ベース面と前記基板の間のギャップからガスを抽出するように構成された複数の第１ガス流開口と、を備え、

前記複数の第１ガス流開口は前記支持テーブルの中心から半径距離ｒ２に配置され、前記複数の第１ガス流開口は、ｒ２：ｒ０が０．５と０．８の間になるように配置される、支持テーブル。

【請求項５】

基板を支持するように構成され、半径ｒ０を有する支持テーブルであって、

ベース面と、

前記支持テーブルのエッジの周りにある第１シールと、

前記第１シールと二重シールを形成するように、前記エッジの周りにある前記第１シールの半径方向内側にある第２シールと、

前記第２シールの半径方向内側にあり、ピンが垂直に延びることを可能にするように構成された複数のホールと、

前記第２シールの半径方向内側にあり、前記ベース面と前記基板の間のギャップからガスを抽出するように構成された複数の第２ガス流開口と、を備え、

前記複数の第２ガス流開口は、前記支持テーブルの中心から半径距離ｒ１に配置され、前記複数の第２ガス流開口は、ｒ１：ｒ０が０．２と０．５の間になるように配置される、支持テーブル。

第３ 原査定における拒絶の理由

原査定の拒絶の理由は、以下の理由を含むものである。

この出願の令和４年１月１２日補正書により補正された請求項１～１４に係る発明は、本願の最先の優先権主張の日（以下「優先日」という。）前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。

第４ 引用文献

原査定の拒絶の理由で引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった文献である特開２０１５－０１８９２７号公報（平成２７年１月２９日出願公開。以下「引用文献１」という。）には、次の事項が記載されている。

２ 引用文献１から読み取れる事項

ウエハホルダの外径について、上記１に示した図１０（ｂ）では、ウエハホルダ５４の左右の端部は、ウエハＷの左右の端部よりも少し外側にまで存在する形状であることがみてとれるから、ウエハホルダ５４はウエハＷの外径よりも少し大きい外径ｒ（ウエハホルダ）を有しているといえる。

３ 引用発明の認定

上記１及び２からみて、引用文献１には、第２の実施形態に係るウエハ保持装置８Ａに備えられるウエハホルダ５４について、以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる（なお、参考までに引用発明の認定に用いた段落番号等を括弧内に記載してある。）。

「ウエハ保持装置８Ａに備えられるウエハホルダ５４であって、（【００６５】）

前記ウエハホルダ５４は、ウエハＷの外径よりも少し大きい外径ｒ（ウエハホルダ）を有し、上面に環状の側壁部５４ｃ及び多数の突部５４ｂが形成され、（【００６５】・【００６６】・上記２）

前記側壁部５４ｃはその外径がウエハＷの外径よりわずかに小さいリング状であり、（【００６５】）

前記ウエハホルダ５４の前記側壁部５４ｃで囲まれた領域において、ウエハＷを真空吸着によって保持した状態でＺ方向に昇降可能なＺ方向に細長い円筒状のセンターピン４４Ａが配置されており、当該複数のセンターピン４４Ａは、それぞれウエハホルダ５４に設けられた開口に挿通されており、（【００６９】）

前記ウエハホルダ５４の上面の側壁部５４ｃで囲まれた領域には、ほぼ中心にセンター吸着穴５５Ａが形成され、センター吸着穴５５Ａを囲む第１円周４７Ａに沿って複数の第１の周辺吸着穴５５Ｂが形成され、センター吸着穴５５Ａを囲む当該第１円周４７Ａよりも大きい第２円周４７Ｂに沿って複数の第２の周辺吸着穴５５Ｃが形成され、センター吸着穴５５Ａを囲む当該第２円周４７Ｂよりも大きい第３円周４７Ｃに沿って複数の第３の周辺吸着穴５５Ｄが形成されており、（【００６６】）

ウエハＷの裏面が載置面５４ａに近づいたときに、ウエハホルダ５４のセンター吸着穴５５Ａを介する真空吸着が開始され、その後、次第にセンター吸着穴５５Ａに近い前記周辺吸着穴５５Ｂ～５５Ｄの順に真空吸着が開始され、ウエハＷはその中心部から周縁部の順に前記ウエハホルダ５４に吸着される、（【００７４】）

ウエハホルダ５４。」

第５ 対比

１ 本件発明１について

本件発明１と引用発明を対比すると、以下のとおりとなる。

引用発明の「ウエハＷ」、外径ｒ（ウエハホルダ）を有する「ウエハホルダ５４」、ウエハホルダの「上面」、「センターピン４４Ａ」、複数のセンターピン４４Ａが挿通されている「開口」及び「複数の第２の周辺吸着穴５５Ｃ」は、それぞれ本願発明１の「基板」、「半径ｒ０を有する支持テーブル」、「ベース面」、「ピン」、「複数のホール」及び「第１ガス流開口」に相当する。

また、引用発明における「側壁部５４ｃ」は、その構造及び形状からみて、当該側壁部の内部にある周辺吸着穴から真空吸着を行う際に、ウエハＷの周辺から前記内部方向に向かう空気の流れに対する抵抗となる凸状部材であることは明らかであるから、当該「側壁部５４ｃ」と本件発明１における「第１シール」及び「第２シール」とは、支持テーブルのエッジの周りにある環状の凸状部材であり、当該凸状部材の内部のガス流開口から真空吸着を行う際に、基板の周辺から前記内部方向に向かう空気の流れに対する抵抗となる凸状部材である点で共通する。

また、引用発明の「複数の第２の周辺吸着穴５５Ｃ」は、半径方向においてより内側の第１の周辺吸着穴５５Ｂとより外側の第３の周辺吸着穴５５Ｄの間となる半径方向中間領域に存在するから、当該「複数の第２の周辺吸着穴５５Ｃ」と本件発明１の「第１ガス流開口」は、半径方向中間領域に存在するように配置される点で共通する。

そうすると、本件発明１と引用発明は、以下の点において一致する。

「基板を支持するように構成され、半径ｒ０を有する支持テーブルであって、

ベース面と、

前記支持テーブルのエッジの周りにある環状の凸状部材であり、当該凸状部材の内部のガス流開口から真空吸着を行う際に、基板の周辺から前記内部方向に向かう空気の流れに対する抵抗となる凸状部材と、

前記環状の凸状部材の半径方向内側にあり、ピンが垂直に延びることを可能にするように構成された複数のホールと、

前記環状の凸状部材の半径方向内側にあり、前記ベース面と前記基板の間のギャップからガスを抽出するように構成された複数の第１ガス流開口と、を備え、

前記複数の第１ガス流開口は前記支持テーブルの中心から半径距離ｒ２に配置され、前記複数の第１ガス流開口は、半径方向中間領域に存在するように配置される、支持テーブル。」

そして、本件発明１と引用発明は、以下の点で相違する。

相違点１

「空気の流れに対する抵抗となる凸状部材」について、本件発明１は、第１シール及び第２シールからなる二重シールであるのに対して、引用発明は、側壁部５４ｃであって、二重シールではない点。

相違点２

「複数の第１ガス流開口」の配置について、本件発明１は、複数の第１ガス流開口の半径距離ｒ２が、ｒ２：ｒ０が０．５と０．８の間になるように配置されるのに対して、引用発明は、複数の第２の周辺吸着穴５５Ｃの配置が、ウエハホルダの外径ｒ（ウエハホルダ）に対して、０．５と０．８の距離に配置されることは具体的に記載されているものではない点。

２ 本件発明５について

本件発明５と引用発明との一致点及び相違点１は、上記本件発明１と引用発明との一致点及び相違点１と同じであり、また、下記相違点３において相違する。

相違点３

「複数の第２ガス流開口」の配置について、本件発明５は、複数の第２ガス流開口の半径距離ｒ１が、ｒ１：ｒ０が０．２と０．５の間になるように配置されるのに対して、引用発明は、複数の第２の周辺吸着穴５５Ｃの配置が、ウエハホルダの外径ｒ（ウエハホルダ）に対して、０．２と０．５の距離に配置されることは具体的に記載されているものではない点。

第６ 判断（相違点についての検討）

１ 本件発明１について

（１）相違点１について

支持テーブルのエッジの周りにある環状の凸状部材であって、当該凸状部材の内部のガス流開口から真空吸着を行う際に、基板の周辺から前記内部方向に向かう空気の流れに対する抵抗となる凸状部材を２つ設けた二重シールを有する基板テーブルは周知であり（文献２（特開２０１３－３８４２０号公報）の【００９８】～【０１００】及び図８に見られる２つの周辺流れ制限構造５０Ａ及び５０Ｂが形成する二重シール、文献３（特開平１－３１９９６５号公報）の３頁右下欄１８行～４頁左上欄６行、４頁右上欄６～１１行、４頁右下欄１９行～５頁左上欄７行、図１、図５及び図８に見られる環状凸部１０ａ及び１０ｂが形成する二重シール、文献４（特開平１０－２３３４３３号公報）の【００２８】～【００２９】及び図１２に見られる環状凸部２７ａ及び２７ｂが形成する二重シール、文献５（特開２０１１－２３７１６号公報）の【００５４】～【００５６】及び図７に見られる２つの突起９１、９２が形成する二重シール、文献６（特開２０１３－４２１２８号公報）の【０１０６】～【０１０７】、【０１１２】、図１９及び図２０に見られる環帯を形成する細長隆起凸部４５及び２つのシール４７が形成する二重及び多重シール）、引用発明における側壁部５４ｃを、基板の周辺から前記内部方向に向かう空気の流れに対する抵抗となる適切な凸状部材を構成するうえで、凸状部材を２つ設けた上記周知の二重シールとすることは当業者が適宜採用し得ることである。

よって、相違点１に係る本件発明１の構成は、引用発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に想到することができたものである。

（２）相違点２について

引用文献１には、第２の円周上に沿って形成された複数の第２の周辺吸着穴５５Ｃの配置が、ウエハホルダの外径ｒ（ウエハホルダ）に対して、具体的に０．５と０．８の距離に配置されることは記載されていないが、引用発明では、ウエハＷの裏面が載置面５４ａに近づいたときに、ウエハホルダ５４のセンター吸着穴５５Ａを介する真空吸着が開始され、その後、次第にセンター吸着穴５５Ａに近い第１の周辺吸着穴５５Ｂ、第２の周辺吸着穴５５Ｃ、第３の周辺吸着穴５５Ｄによる吸着が開始され、ウエハはその中心部から周縁部の順にウエハホルダに吸着されるところ、そうすることによって、ウエハＷが大型の基板であっても、ウエハＷをウエハホルダ５４の載置面５４ａに載置したときに、ウエハＷの皺状の変形、反り又は歪み等が生じにくくなり、ウエハＷの裏面と載置面５４ａ（側壁部５４ｃ及び多数の突部５４ｂの上面）との間に部分的に隙間（空間）が生じにくくなり、ウエハＷは高い平面度でウエハホルダ５４に保持されるものである（引用文献１の【００７４】）。

このように、引用発明は、ウエハＷをその中心部から周縁部の順にウエハホルダ５４に吸着させることによって、ウエハＷを高い平面度でウエハホルダ５４に保持されるようにするものであることから、そのような吸着をさせるための、ウエハホルダ５４の径方向中心から順に形成されたセンター吸着穴５５Ａ、複数の第１の周辺吸着穴５５Ｂ、複数の第２の周辺吸着穴５５Ｃ及び複数の第３の周辺吸着穴５５Ｄは、センター吸着穴５５Ａを中心にして、径方向におおむね等間隔に配置されるのが自然であるといえる。そうだとすれば、（最外の周辺吸着穴である）第３の周辺吸着穴５５Ｄの配置がウエハの外径の３／４程度～１程度の半径距離となると解されることになるから、第２の周辺吸着穴５５ＣはウエハＷの外径の１／２程度～２／３程度の半径距離に配置されるのが自然であるといえる。

そして、引用発明では、ウエハホルダ５４はウエハＷの外径よりも少し大きい外径ｒ（ウエハホルダ）を有している。

そうすると、引用発明において、第２の周辺吸着穴５５Ｃの配置を、相違点２に係る本件発明１で特定された程度の半径距離である０．５～０．８の間とすることは、当業者が適宜なし得たことであるというべきである。

（３）小括

上記（１）及び（２）のとおり、相違点１及び２に係る本件発明１の構成は当業者が容易に想到し得たものであり、当該相違点１及び２を備える本件発明１の効果は、本件発明１の構成が奏するものとして当業者が容易に予測できる範囲のものである。

以上のとおりであるから、本件発明１は、引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明することができたものである。

２ 本件発明５について

（１）相違点１について

相違点１については、上記１（１）と同様である。

（２）相違点３について

上記１（２）で説示したとおり、引用発明において、第２の周辺吸着穴５５ＣはウエハＷの外径の１／２程度～２／３程度の半径距離に配置されるのが自然であり、ウエハホルダ５４はウエハＷの外径よりも少し大きい外径ｒ（ウエハホルダ）を有している。

そうすると、引用発明において、第２の周辺吸着穴５５Ｃの配置を、相違点３に係る本件発明５で特定された程度の半径距離である０．２～０．５の間とすることは、当業者が適宜なし得たことであるというべきである。

（３）小括

上記（１）及び（２）のとおり、相違点１及び３に係る本件発明５の構成は当業者が容易に想到し得たものであり、当該相違点１及び３を備える本件発明５の効果は、本件発明５の構成が奏するものとして当業者が容易に予測できる範囲のものである。

以上のとおりであるから、本件発明５は、引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明することができたものである。

３ 請求人の主張について

（１）請求人は、引用文献１には、「第２円周をウエハテーブルの半分程度の大きさとすること」について、何ら記載されていないことを主張するが、上記１（２）のとおり、当該構成とすることは、引用文献１の記載に基づいて当業者が適宜なし得たことである。

（２）請求人は、引用文献１には、基板の平坦度を向上させるために、支持テーブルの所定の範囲内にガス流開口を配置することについて記載されていないことを主張するが、上記１（２）で説示したとおり、引用文献１には、引用発明のようにウエハホルダ５４のセンター吸着穴５５Ａを介する真空吸着が開始され、その後、次第にセンター吸着穴５５Ａに近い第１の周辺吸着穴５５Ｂ、第２の周辺吸着穴５５Ｃ、第３の周辺吸着穴５５Ｄによる吸着が開始されることによって、ウエハＷはその中心部から周縁部の順にウエハホルダ５４に吸着されることにより、ウエハＷは高い平面度でウエハホルダ５４に保持されることが記載されているから、請求人の主張は採用できない。

第７ むすび

以上のとおり、本願発明１及び５は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。

よって、結論のとおり審決する。