2023-009032

特願２０２１－ １７６１８「有効気密封止状態で基板を受け入れる容器」拒絶査定不服審判事件〔令和 ３年１１月１８日出願公開、特開２０２１－１７９５９５〕について、次のとおり審決する。

結 論 本件審判の請求は、成り立たない。

理 由 第１ 手続の経緯 本願は、令和３年２月５日（パリ条約による優先権主張２０２０年５月１４日、米国、２０２１年１月１２日、米国）の出願であって、その手続の経緯は次のとおりである。 令和 ４年 １月１１日付け：拒絶理由通知書 令和 ４年 ５月１０日 ：意見書、手続補正書の提出 令和 ４年 ８月 ２日付け：拒絶理由（最後の拒絶理由）通知書 令和 ４年１１月 ４日 ：意見書、手続補正書の提出 令和 ５年 １月２６日付け：拒絶査定 令和 ５年 ６月 １日 ：審判請求書の提出 第２ 本願発明 本願の請求項１～３７に係る発明は、令和４年１１月４日に提出された手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１～３７に記載された事項によって特定されるものと認められるところ、その請求項１３の記載は次のとおりである（以下、その請求項１３に係る発明を「本願発明」という。）。 ＜本願発明＞ 「【請求項１３】 基板を収容する容器であって、 頂部水平面を備えた基部と、 少なくとも１つのフィルタチャネルおよび貯蔵空間を備えた蓋とを有し、前記蓋は、前記基部に接触し、前記貯蔵空間および前記頂部水平面は、前記基板を収容するための収容空間を構成し、前記蓋と前記基部との間には、前記頂部水平面を包囲し、それにより前記収容空間を封止する少なくとも１つの接触インターフェースが形成され、前記接触インターフェースは、０．０８ｍｍ未満の隙間を有する、容器。」 第３ 原査定における拒絶の理由 原査定の拒絶の理由は、本願発明は、本願の最先の優先日前に頒布された刊行物である、又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった次の引用文献１に記載された発明に基づいて、その最先の優先日前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、という内容を含むものである。 引用文献１：特開２０１８－１２０２２１号公報 第４ 引用文献の記載及び引用発明 １ 引用文献に記載された事項 原査定が引用した引用文献１には、次の事項が記載されている（下線は当審が付した。）。 「【技術分野】 【０００１】 本願発明はフォトマスクポットであって、とりわけ二重収容構造を有する極紫外線フォトマスクポッド関するものである。 【背景技術】 【０００２】 近年半導体製造技術が飛躍的に進歩しており、その中でもフォトリソグラフィ技術が重要な役割を果たしている。フォトリソグラフィ技術は設計された回路を特定の形状でフォトマクスを透過できるようし製作し、フォトマクス上のパターンをウエハ上に光源投影した後、ウエハによって特定のパターンを露光する。 【０００３】 フォトリソグラフィ過程中において、例えば埃や粉塵或いは有機物などの、フォトマスクに付着した微粒子は投影画質を劣化させてしまう。特に近年の業界の傾向はより小型で高論理密度のチップの開発に向けられており、リソグラフィ装置によって使用される光波長は極紫外線（Extreme Ultraviolet Light,EUV）範囲にまで進んでおり、フォトマスク上の微粒子の数、粒子サイズ、更にはフォトマスクが収容されているフォトマスクポッドの清浄度など、これはより厳しい要求をされている。 【０００４】 一般的に、半導体制作過程では抗汚染フォトマスクポッドを使用してフォトマスクを保存及び搬送することで、フォトマスクの清浄度を維持しており、通常フォトマスク或いは他の半導体部品用の容器は、SMIF標準(Standard Mechanical Interface, SMIF)に適した清浄度を要求される。しかしながら従来のフォトマスクポッドでは、たとえ管理された環境下であっても、気圧の変化或いは、容器移動によって内部の空気を乱し、微粒子をフォトマスクと容器との間まで移動し、フォトマスク上へ付着させてしまい、フォトマスクへの微粒子及び汚染の防止を効果的に提供することが出来ない。」 「【００１８】 図１を参照すると、本願発明に係る実施例における極紫外線フォトマスクポッドの分解立体図を示している。極紫外線フォトマスクポッド１は、極紫外線フォトマスクRを容置するために用いられ、前記極紫外線フォトマスクポッド１は、外部ケース１０と内部ケース２０とを包括し、前記外部ケース１０は、互いに対応するケース上部１１とケース下部１２とを包含し、収容空間１３を定義しており、前記内部ケース２０を収容するために用いられる。 【００１９】 実施例に係る前記外部ケース１０は、前記ケース上部１１と前記ケース下部１２とはおおよそ長方形であり、両者が当接する際、密閉状態を形成でき、前記外部ケース１０と収容空間１３を区別するために用いられる。前記ケース上部１１と前記ケース下部１２とは、一つ或いは複数のバルブ（図示していない）を包括することができ、且つ前記バルブの位置に対応して、濾紙などの濾過材を設置し、気体が収容空間１３を進入或いは退去する際、気体の清潔度を保つために用いられる。前記ケース上部１１は、前記ケース上部１１と前記ケース下部１２が当接する際、両者を対応する位置に、或いは前記内部ケース２０を正しい位置に導くために用いる複数の導引部（図示していない）を包含することもできる。前記ケース下部１２は、前記内部ケース２０を支持するために用いる複数個の支持部（図示していない）を包含することもできる。これらの部品は必要に応じて配置することができ、本願発明はこれに制限されない。 【００２０】 図１と図２を参照すると、図２は図１中のベース立体図を開示している。本願発明に係る実施例において、前記内部ケース２０は、ベース２１及び上蓋２２を包含している。前記ベースは上表面２１０と枠縁２１５とを有し、前記枠縁２１５は前記ベース２１の側壁であって、前記上表面２１０を連接且つ囲繞している。前記上表面２１０は前記ベース２１が前記上蓋２２に向かって上向きの表面であり、複数個の凸出する定位部２１４を設けている。 【００２１】 前記定位部２１４は、前記ベース２１と異なる素材からできており、例えば前記ベース２１をアルミ或いはその他の金属または合金から作成し、前記定位部２１４は耐摩プラスチック等の低微粒子材料から製作される。前記定位部２１４は例えば、固着する方法によって前記ベース２１上に固定することができ、且つ前記上表面２１０から突出している。その他に、前記定位部２１４は長方形の前記極紫外線フォトマスクRの四つ角に対応して配置し、前記極紫外線フォトマスクRの位置を導引するために各前記定位部２１４は導引斜面を有することができる。前記定位部２１４の位置により、前記ベース２１上に前記極紫外線フォトマスクRのフォトマスク搭載位置２３を定義することができる。しかしながら、前記定位部２１４の構造、数量、固定方式、配置方法は図２に開示している状態に限らず、前記ベース２１上に前記フォトマスク搭載位置２３を定義できるものであれば、本願発明に係る前記定位部２１４に属する。 【００２２】 前記ベース２１にある前記上表面２１０は、搭載面２１１と、スリット２１２と第一接面２１３とを包含し、本願発明に係る実施例において、前記搭載面２１１と、前記スリット２１２と、前記第一接面２１３は、前記上表面２１０の内側から前記枠縁２１５に向かって配置されている。つまり、前記上表面２１０の中心から外に向かって前記搭載面２１１、前記スリット２１２、前記第一接面２１３の順で設置される。前記極紫外線フォトマスクRは前記フォトマスク搭載位置２３に設置するために用いられ、前記搭載面２１１上に搭載される。前記スリット２１２は、連続環状構造であって、且つ前記スリット２１２の底部は前記搭載面２１１より低い。本願実施例において、前記搭載面２１１はおおよそ平面であり、前記スリット２１２は完全連続に前記搭載面２１１を囲繞して周りを囲うような前記スリット２１２を形成しており、図２を参照すると、前記第一接面２１３は完全連続に前記スリット２１２の外側を囲繞している。 【００２３】 図２と図３を参照すると、図３は図１に係る内部ケース及び極紫外線フォトマスクの部分断面図を開示している。図３は、内部ケース２０及び収納されている極紫外線フォトマスクRの部分断面図を示しており、図３の左側は前記搭載面２１１中央位置に近い側であり、図３の右側は前記内部ケース２０の縁（つまりは前記枠縁２１５の近い位置）としている。前記上表面２１０は中心から外（図３の左側から右側）へ前記搭載面２１１、前記スリット２１２、第一接面２１３の順に設置されている。前記第一接面２１３は前記搭載面２１１より低く、前記スリット２１２の底部は前記第一接面２１３よりも低い。前記スリット２１２は、下方に凹む構造であり、前記スリット２１２の底部からすると、前記スリット２１２と前記搭載面２１１とが連接する側壁の高さが、前記スリット２１２と前記第一接面２１３とが連接する側壁の高さより高い。その他に、前記スリット２１２の両側の側壁と底部の間はR角（丸角）設計ではなく、鋭角であり、実際応用する際も、R角（丸角）はあまり使用されない。 【００２４】 前記スリット２１２は、微粒子を捕獲或いは収容するために設計であり、更に詳細に言うと、前記スリット２１２内の微粒子が気体によって浮上した際、前記スリット２１２と前記搭載面２１１とが連接する側壁により阻まれ、前記搭載面２１１上に移動しづらいため、前記搭載面２１１と前記極紫外線フォトマスクRとの間に微粒子が入ることを防ぎ、前記搭載面２１１上が微粒子によって汚染させることを低減している。もう一つのメリットは、実際の製造において前記第一接面２１３と第二接面２２３の気密性が生産の問題（例えば表面処理のミス）により、気密性不足に至ることを考慮している点である。その為、上述の状況が発生した場合、実施例に係る前記スリット２１２の両側にある側壁に高低差がある特性に基づき、例えば前記第一接面２１３と前記第二接面２２３が要求されているチミ性に達し得なかった場合、前記第一接面２１３と前記第二接面２２３との間に極小な導引通路を形成し、微粒子を自ら前記スリット２１２内に引導して収容することで、前記搭載面２１１と前記極紫外線フォトマスクRの領域に進入することを防いでいる。 ・・・略・・・ 【００２７】 続いて実施例における前記内部ケース２０にある前記上蓋２２について説明すると、図６と図７を参照すると、図６は、図１に係る上蓋の立体斜視図である。図７は、図１に係る上蓋のもう一つの斜視立体図である。前記上蓋２２は、前記ベース２１と当接するために用いられ、且つ凹チャンバー２２１と第二接面２２３を有している。前記凹チャンバー２２１は、前記極紫外線フォトマスクRを収容するために用いられ、前記第二接面２２３と前記第一接面２１３は互いに当接し、図３のように密閉状態を形成するために用いられる。本実施例において、前記第二接面２２３と前記第一接面２１３は水平であって、前記ベース２１と前記上蓋２２が当接する際、密閉状態にすることができる。 ・・・略・・・ 【００３１】 本実施例に係る前記上蓋２２は吸気口２２６を設け、且つ前記吸気口２２６に対応して濾過材を設けている。前記吸気口２２６は前記凹チャンバー２２１内に気体を入れるために用いられ、気体が前記凹チャンバー２２１に流入した際、前記搭載面２１１の外周にある前記スリット２１２に向かって微粒子を連動することができ、微粒子は前記スリット２１２或いは前記収容溝２１６内に捕獲または収容される。」 図１、図２、図３及び図７は、以下のとおりである。 ［図：0001413895000001.jpg］ ［図：0001413895000002.jpg］ ［図：0001413895000003.jpg］ ２ 引用発明の認定 上記１によれば、引用文献１には、実施するための形態（図２、図３及び図７）に記載された内部ケースについて、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。なお、参考までに、引用発明の認定に用いた引用文献の記載に係る段落番号等を括弧内に付してある。 ＜引用発明＞ 「極紫外線フォトマスクRを容置するために用いられる極紫外線フォトマスクポッド１が包括する内部ケース２０であって、（【００１８】） 前記内部ケース２０は、ベース２１及び上蓋２２を包含し、前記ベースは上表面２１０と枠縁２１５とを有し、（【００２０】） 前記ベース２１にある前記上表面２１０は、搭載面２１１と、スリット２１２と第一接面２１３とを包含し、極紫外線フォトマスクRは前記搭載面２１１上に搭載され、前記搭載面２１１はおおよそ平面であり、前記スリット２１２は完全連続に前記搭載面２１１を囲繞して周りを囲うような前記スリット２１２を形成しており、前記第一接面２１３は完全連続に前記スリット２１２の外側を囲繞し、（【００２２】） 前記上蓋２２は、前記ベース２１と当接するために用いられ、且つ凹チャンバー２２１と第二接面２２３を有し、前記凹チャンバー２２１は、前記極紫外線フォトマスクRを収容するために用いられ、前記第二接面２２３と前記第一接面２１３は互いに当接し、密閉状態を形成するために用いられ、前記ベース２１と前記上蓋２２が当接する際、密閉状態にすることができ、（【００２７】） 前記上蓋２２は吸気口２２６を設け、且つ前記吸気口２２６に対応して濾過材を設けている、（【００３１】） 内部ケース２０。（【００２０】）」 第５ 本願発明と引用発明との対比・判断 １ 対比、一致点及び相違点の認定 （１）本願発明と引用発明を対比すると、以下のとおりである。 ア 本願発明の「基板を収容する容器であって、」「容器」との特定事項について 引用発明の「内部ケース２０」は、本願発明の「容器」に、相当する。 また、本願の明細書【０００２】の「レチクル用の基板」との記載に照らせば、本願発明の「基板」は、レチクル用の基板も含むと解され、引用発明の「極紫外線フォトマスクR」を容置するために用いられる極紫外線フォトマスクポッド１の「内部ケース２０」は、本願発明の「基板を収容する容器」に相当する。 したがって、引用発明は、上記特定事項を備えている。 イ 本願発明の「頂部水平面を備えた基部と、」との特定事項について 引用発明の「ベース２１」は、本願発明の「基部」に相当する。 引用発明の「ベース２１」にある「上表面２１０」は、「搭載面２１１」「を包含し、」「搭載面２１１はおおよそ平面であ」ることから、引用発明の「上表面２１０」の「平面である」「搭載面２１１」は、本願発明の「頂部水平面」に相当する。 したがって、引用発明は、上記特定事項を備えている。 ウ 本願発明の「少なくとも１つのフィルタチャネルおよび貯蔵空間を備えた蓋とを有し、」との特定事項について 引用発明の「凹チャンバー２２１」は、前記極紫外線フォトマスクRを収容するために用いられるから、本願発明の「貯蔵空間」に、 引用発明の「上蓋２２」は、本願発明の「蓋」に、 それぞれ相当する。 そして、引用発明の「上蓋２２」は「吸気口２２６を設け、吸気口２２６に対応して濾過材を設けている」ことから、吸気口２２６は、濾過材を通して気体を流通させるための経路にあたるといえ、本願発明の「フィルタチャネル」に相当する。 そうすると、引用発明の「吸気口２２６を設け、」「凹チャンバー２２１」「を有」する「上蓋２２」は、本願発明の「少なくとも１つのフィルタチャネルおよび貯蔵空間を備えた蓋」に相当する。 したがって、引用発明は、上記特定事項を備えている。 エ 本願発明の「前記蓋は、前記基部に接触し、前記貯蔵空間および前記頂部水平面は、前記基板を収容するための収容空間を構成し、前記蓋と前記基部との間には、前記頂部水平面を包囲し、それにより前記収容空間を封止する少なくとも１つの接触インターフェースが形成され、」との特定事項について （ア）引用発明の「前記上蓋２２は、前記ベース２１と当接する」は、本願発明の「前記蓋は、前記基部に接触し」に相当する。 （イ）引用発明の「前記凹チャンバー２２１は、前記極紫外線フォトマスクRを収容するために用いられ、」「極紫外線フォトマスクRは前記搭載面２１１上に搭載され」ることは、上蓋２２の「凹チャンバー２２１」及びベース２１の「搭載面２１１」は、紫外線フォトマスクRを収容するための空間を構成するといえるから、本願発明の「前記貯蔵空間および前記頂部水平面は、前記基板を収容するための収容空間を構成し」に相当する。 （ウ）引用発明の「第一接面２１３」は、搭載面２１１を囲繞しており、「前記第二接面２２３と前記第一接面２１３は互いに当接し」ているから、「上蓋２２」の「第二接面２２３」と「ベース２１」の「第一接面２１３」が「互いに当接し」ている領域が「搭載面２１１を包囲している」といえる。 そうすると、引用発明の「上蓋２２」の「第二接面２２３」と「ベース２１」の「第一接面２１３」が「互いに当接し」ていることは、本願発明の「前記蓋と前記基部との間には、前記頂部水平面を包囲」する「少なくとも１つの接触インターフェースが形成され」に相当する。 また、引用発明が「前記第二接面２２３と前記第一接面２１３は互いに当接し、密閉状態を形成する」ものであることは、本願発明の「接触インターフェース」が「前記収容空間を封止する」ことに相当する。 （エ）上記（ア）～（ウ）から、引用発明は、上記特定事項を備えている。 オ 本願発明の「前記接触インターフェースは、０．０８ｍｍ未満の隙間を有する、」との特定事項について 上記エによれば、本願発明と引用発明は、「接触インターフェースが形成され」る点で共通するものの、本願発明は「接触インターフェースは、０．０８ｍｍ未満の隙間を有する」のに対し、引用発明はそうであるか不明である。 （２）以上によれば、本願発明と引用発明とは、次の点で一致し、次の点で相違する。 【一致点】 「基板を収容する容器であって、 頂部水平面を備えた基部と、 少なくとも１つのフィルタチャネルおよび貯蔵空間を備えた蓋とを有し、前記蓋は、前記基部に接触し、前記貯蔵空間および前記頂部水平面は、前記基板を収容するための収容空間を構成し、前記蓋と前記基部との間には、前記頂部水平面を包囲し、それにより前記収容空間を封止する少なくとも１つの接触インターフェースが形成される、容器。」 【相違点】 接触インターフェースは、本願発明は「０．０８ｍｍ未満の隙間を有する」のに対し、引用発明はそうであるか不明である。 ２ 判断 （１）相違点について ア 引用発明は「極紫外線フォトマスクR」を収容する「容器」に関する発明であって、「第二接面２２３と」「第一接面２１３」が「互いに当接し」ている領域を有するところ、部材の表面には、精密に研磨しても微細な凹凸が存在することが技術常識であるから、第二接面２２３と第一接面２１３が互いに当接して密閉空間を形成している場合に、上蓋２２の「第二接面２２３」とベース２１の「第一接面２１３」が「互いに当接し」ている領域に、所定の隙間ができていると考えるのが自然である。このことは、引用文献１の【０００５】において、「本願発明は、連続環状構造のスリットを利用し、微粒子を捕獲或いは収容することで、微粒子がフォトマスク及び搭載面の間に移動すること低減、或いは微粒子がフォトマスク上に移動し、汚染をする機会を低減している。」と記載され、微粒子がフォトマスク及び搭載面の間に移動することが皆無ではないことが説明されていることとも整合する。そうである以上、「第二接面２２３と」「第一接面２１３」が「互いに当接し」ている領域の隙間をできるだけ小さくし、微粒子がフォトマスク及び搭載面の間に移動することを低減することが当然に求められるから、引用発明から出発した当業者は、「第二接面２２３と」「第一接面２１３」が「互いに当接し」ている領域の隙間をできるだけ小さくするという課題を認識できるといえる。 イ 一方、フォトマスクを収容する容器において、５０～１００ｎｍの大きさの汚染粒子を通さないようにすることは、周知の課題解決の方向性（必要ならば、特開２００５－１０９４９７号公報（特に、【００３１】）、特開２００９－１４１１０８号公報（特に、【０００２】及び【０００３】）を参照されたい。）であり、上記アの課題を認識している当業者は、同じ技術分野に属する上記の周知の課題解決の方向性に従い、引用発明において、「第二接面２２３と」「第一接面２１３」が「互いに当接し」ている領域の隙間の大きさを、５０～１００ｎｍの大きさの汚染粒子をできるだけ通さないような大きさにして、相違点に係る本願発明の構成とすることは、当業者が適宜なし得た設計的事項といえる。 （３）本願発明の効果について 上記相違点を総合的に勘案しても、本願発明の作用効果は、本願発明の構成が奏するものとして、引用発明の奏する作用効果に基づいて予測される範囲内のものにすぎず、格別顕著なものということはできない。 （４）請求人の主張について 請求人は、本発明では、基部と蓋の接触面の構造的特徴として「平坦度」を定めることで、技術的な解決策を得たのであるが、引用文献１には、接触面の「平坦度」を定めるための有用な手段等に関する開示も示唆もない旨主張する。 しなしながら、本願発明は「平坦度」を特定しているものではないので、当該主張は、本願発明に基づかないものである。 （５）小括 以上によれば、本願発明は、引用発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 第６ むすび 上記のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。 よって、結論のとおり審決する。