2019-700617

第２　本件発明

本件特許の請求項１～６に係る発明は，本件特許の願書に添付した特許請求の範囲の請求項１～６に記載された事項により特定される以下のとおりのものである（以下，それぞれ「本件発明１」等という。また，本件特許の願書に添付した明細書を「本件明細書」という。）。

【請求項１】

ポリテトラフルオロエチレンに，放射線を照射して，３８０℃における溶融粘度が１×１０２～７×１０５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレン粉末を得る工程（１），前記低分子量ポリテトラフルオロエチレン粉末を粉砕する工程（２），及び，工程（２）で粉砕された低分子量ポリテトラフルオロエチレン粉末を熱処理する工程（３）を含み，

工程（１）の前に，更に，前記ポリテトラフルオロエチレンを，その一次融点以上に加熱することにより成形品を得る工程（４）を含み，前記成形品は，比重が１．０ｇ／ｃｍ３以上であることを特徴とする低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。

【請求項２】

前記熱処理を，１００～３００℃の温度で行う請求項１記載の製造方法。

【請求項３】

前記熱処理を，１００～２００℃の温度で行う請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項４】

前記熱処理を，１０秒以上，３時間以下の時間行う請求項１，２又は３記載の製造方法。

【請求項５】

前記ポリテトラフルオロエチレンは，標準比重が２．１３０～２．２３０である請求項１，２，３又は４記載の製造方法。

【請求項６】

前記ポリテトラフルオロエチレンが粉末である請求項１，２，３，４又は５記載の製造方法。

第４　当審の判断

以下に述べるように，特許異議申立書に記載した特許異議の申立ての理由によっては，本件特許の請求項１～６に係る特許を取り消すことはできない。

１　申立理由１（進歩性）

（１）甲１に記載された発明

甲１の記載（請求項１，３，７～１２，１８～３０，【０００１】～【００１０】，【００１３】，【００１４】，【００１７】～【００１９】，【００２１】～【００３７】，実施例１（対照ブレンド１，被験ブレンド２，３），表１～３）によれば，特に，実施例１における被験ブレンド２に着目すると，甲１には，以下の発明が記載されていると認められる。

なお，「ＰＴＦＥ」は，「ポリテトラフルオロエチレン」を意味する（【０００１】，【０００９】）。

「凝固分散級ＰＴＦＥ（Ｄａｉｋｉｎから提供されるＰｏｌｙｆｌｏｎＦ－１０４）からなるＰＴＦＥ出発材料を６６°Ｆ以下の温度で取り扱い，

タンブラー内で，ＰＴＦＥ出発材料と，ｎ－テトラデセン（Ｇｕｌｆ　Ｏｉｌ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ　Ｃｏ．製のＧｕｌｆｔｅｎｅ１４）からなる不飽和湿潤剤とを混合して，８０重量％と２０重量％の各成分からなる組成物を得，

次に，該組成物を蓋のないアルミニウム製の皿に入れて２８ＭＲａｄの電子ビーム線に暴露して照射バッチ（被験バッチ）を得，

次に，１／４ｈｐペイント振盪機（Ｒｅｄ　Ｄｅｖｉｌ　Ｐａｉｎｔ　Ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｅｒ， モデル番号５４００－０２）を使って，４オンスのガラス製ジャー内で１．６～２．０ｍｍのガラスビーズ（粉砕媒体）と共に振盪して，１０ｇの照射バッチ（被験バッチ）を４０ｇのポリαオレフィン（ＰＡＯ）炭化水素油（Ａｌｂｅｍａｒｌｅ　Ｃｏｒｐ．製のＤｕｒａｓｙｎ１６２）からなる分散媒とブレンドして，５０ｇの被験ブレンド２を得，

トルエン中で２４時間抽出して遊離のｎ－テトラデセンをすべて除去した被験ブレンド２のサンプルを，１００℃のオーブン内で４時間乾燥させる，

ことからなる，サンプル中に残存するｎ－テトラデセン量を分光分析法で測定するために用いられる，被験ブレンド２のサンプルの製造方法。」（以下，「甲１発明」という。）

（２）本件発明１について

ア　対比

本件発明１と甲１発明とを対比する。

甲１発明における組成物に含まれる「凝固分散級ＰＴＦＥ（Ｄａｉｋｉｎから提供されるＰｏｌｙｆｌｏｎＦ－１０４）からなるＰＴＦＥ出発材料」は，本件発明１における「ポリテトラフルオロエチレン」に相当する。

甲１発明において，上記ＰＴＦＥ出発材料を含む組成物を「蓋のないアルミニウム製の皿に入れて２８ＭＲａｄの電子ビーム線に暴露」することは，本件発明１において，ポリテトラフルオロエチレンに「放射線を照射」することに相当する。そして，甲１発明は，上記のようにＰＴＦＥ出発材料を含む組成物を電子ビーム線に暴露して「照射バッチ（被験バッチ）を得」るものであるが，甲１の記載（【０００９】，【００１２】）によれば，それにより照射バッチ（被験バッチ）に含まれるＰＴＦＥの平均分子量が低減すると解されるから，甲１発明において「照射バッチ（被験バッチ）を得」ることは，本件発明１において「低分子量ポリテトラフルオロエチレン」「を得る」ことに相当する。

甲１発明は，ペイント振盪機により，照射バッチ（被験バッチ）と分散媒とをブレンドして被験ブレンド２を得るものであるが，甲１の記載（【００３４】，表３）によれば，それにより，被験ブレンド２に含まれるＰＴＦＥの粒径が小さくなると解されるから，甲１発明において，「１／４ｈｐペイント振盪機（Ｒｅｄ　Ｄｅｖｉｌ　Ｐａｉｎｔ　Ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｅｒ， モデル番号５４００－０２）を使って，４オンスのガラス製ジャー内で１．６～２．０ｍｍのガラスビーズ（粉砕媒体）と共に振盪して，１０ｇの照射バッチ（被験バッチ）を４０ｇのポリαオレフィン（ＰＡＯ）炭化水素油（Ａｌｂｅｍａｒｌｅ　Ｃｏｒｐ．製のＤｕｒａｓｙｎ１６２）からなる分散媒とブレンドして，５０ｇの被験ブレンド２を得」ることは，本件発明１において，「前記低分子量ポリテトラフルオロエチレン」「を粉砕する」ことに相当する。

そして，甲１発明において，上記のようにして得られた被験ブレンド２に含まれるＰＴＦＥが粉末であることは明らかであり，その被験ブレンド２について，「トルエン中で２４時間抽出して遊離のｎ－テトラデセンをすべて除去した被験ブレンド２のサンプル」としたものについても，そのサンプルに含まれるＰＴＦＥは粉末と解されるから，そのサンプルを「１００℃のオーブン内で４時間乾燥させる」ことは，本件発明１において，「粉砕された低分子量ポリテトラフルオロエチレン粉末を熱処理する」ことに相当する。

また，甲１発明において，上記のようにして製造された被験ブレンド２のサンプルによれば，上記のとおり，平均分子量が低減したＰＴＦＥが得られていることは明らかであるから，甲１発明における「サンプル中に残存するｎ－テトラデセン量を分光分析法で測定するために用いられる，被験ブレンド２のサンプルの製造方法」は，本件発明１における「低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法」に相当する。

以上によれば，本件発明１と甲１発明とは，

「ポリテトラフルオロエチレンに，放射線を照射して，低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（１），前記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを粉砕する工程（２），及び，工程（２）で粉砕された低分子量ポリテトラフルオロエチレン粉末を熱処理する工程（３）を含む，低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。」

の点で一致し，以下の点で相違する。

・相違点１

本件発明１では，「工程（１）の前に，更に，前記ポリテトラフルオロエチレンを，その一次融点以上に加熱することにより成形品を得る工程（４）を含み，前記成形品は，比重が１．０ｇ／ｃｍ３以上である」のに対して，甲１発明では，電子ビーム線に暴露する前に，ＰＴＦＥ出発材料と不飽和湿潤剤とを混合して組成物とするものの，ＰＴＦＥ出発材料を，「一次融点以上に加熱することにより」「比重が１．０ｇ／ｃｍ３以上である」「成形品」とするものではない点。

・相違点２

本件発明１では，放射線を照射して得られる低分子量ポリテトラフルオロエチレンが，「３８０℃における溶融粘度が１×１０２～７×１０５Ｐａ・ｓである」「粉末」であり，その低分子量ポリテトラフルオロエチレン「粉末」を粉砕するのに対して，甲１発明では，電子ビーム線に暴露して得られる照射バッチ（被験バッチ）に含まれるＰＴＦＥが，「３８０℃における溶融粘度が１×１０２～７×１０５Ｐａ・ｓである」「粉末」であるかどうか不明であり，そのＰＴＦＥ「粉末」を粉砕するのかどうか不明である点。

イ　相違点１の検討

（ア）甲１発明は，ＰＴＦＥ出発材料を６６°Ｆ以下の温度で取り扱い，ＰＴＦＥ出発材料と湿潤剤とを混合して組成物とし，その組成物を電子ビーム線に暴露するものである。

甲１には，ＰＴＦＥ出発材料について，５０μｍより大きい初期サイズの凝集物を含むこと（請求項７），「凝固分散級ＰＴＦＥ」としても知られている乳化重合により製造されたＰＴＦＥのほか，ペースト型ＰＴＦＥ材料（未使用または使用済）を使用できること（【０００９】，【００１２】，【００１３】）は記載されているものの，電子ビーム線に暴露する前に，ＰＴＦＥ出発材料を，「一次融点以上に加熱することにより」「比重が１．０ｇ／ｃｍ３以上である」「成形品」とすることについては，何ら記載されていない。また，甲１発明のように，ＰＴＦＥ出発材料と湿潤剤とを混合して組成物とし，その組成物を電子ビーム線に暴露し，さらに分散媒とブレンドしてＰＴＦＥ分散液（被験ブレンド）を製造する際に，電子ビーム線に暴露する前に，ＰＴＦＥ出発材料を，「一次融点以上に加熱することにより」「比重が１．０ｇ／ｃｍ３以上である」「成形品」とすることが，本件特許の優先日当時の技術常識であるともいえない。

以上によれば，甲１発明において，電子ビーム線に暴露する前に，ＰＴＦＥ出発材料を，「一次融点以上に加熱することにより」「比重が１．０ｇ／ｃｍ３以上である」「成形品」とすることが動機付けられるとはいえない。

（イ）甲２には，ＰＴＦＥの分子量を減少させ，微粉に粉砕して塗料，インクの乾燥潤滑剤として使用可能にするためのＰＴＦＥの照射，粉砕方法について記載されており（【０００１】），具体的には，ＰＴＦＥを照射，粉砕するための連続的処理方法であって，ＰＴＦＥを処理容器に供給し，そこでＰＴＦＥに対し放射線照射と粉砕を行い，空気に浮揚させた処理済みＰＴＦＥ粒子を収集のため容器から取出すことについて記載されている（請求項７，【００１７】～【００１９】）。甲２には，放射線照射と粉砕を行う処理容器に供給されるＰＴＦＥについて，スクラップテープ，チューブ，切れ端，円錐状物などの材料を粒状にしたものが望ましいことが記載されており（【００１０】），上記のうち，少なくとも「チューブ」は，本件発明１における「成形品」に相当するといえる。

そして，甲３には，ヒータを構成する電熱線を絶縁被覆するＰＴＦＥチューブとして，従来の連続ペースト押出し焼成ＰＴＦＥチューブを融点以上に再焼成し，冷却速度を調節する処理によって得られる，比重が２．１６～２．２０に調整されたものが記載されていることから（特許請求の範囲，２頁右上欄３～１６行），ＰＴＦＥチューブとして，本件発明１における「一次融点以上に加熱することにより」「比重が１．０ｇ／ｃｍ３以上である」「成形品」に相当するものが，本件特許の優先日前に知られていたとはいえる。

しかしながら，甲１発明は，上記のとおり，ＰＴＦＥ出発材料と湿潤剤とを混合して組成物とし，その組成物を電子ビーム線に暴露し，さらに分散媒とブレンドしてＰＴＦＥ分散液（被験ブレンド）を製造するものであって，単にＰＴＦＥに対し放射線照射と粉砕を行うにすぎない甲２におけるＰＴＦＥの処理方法とは，その内容が大きく異なるものであるから，そもそも，このような甲２に記載された事項を甲１発明に適用することが動機付けられるとはいえない。また，甲３には，電熱線をＰＴＦＥチューブで絶縁被覆して構成するヒータについて記載されるのみであるから，甲２の場合と同様，甲３に記載された事項を甲１発明に適用することが動機付けられるとはいえない。すなわち，甲１発明において，甲２に記載された事項を適用して，電子ビーム線に暴露する前に，ＰＴＦＥ出発材料を「成形品」とすること，さらには，甲３に記載された事項も考慮して，ＰＴＦＥ出発材料を，「一次融点以上に加熱することにより」「比重が１．０ｇ／ｃｍ３以上である」「成形品」とすることが動機付けられるとはいえない。

また，甲１には，上記（ア）のとおり，ＰＴＦＥ出発材料について，「凝固分散級ＰＴＦＥ」としても知られている乳化重合により製造されたＰＴＦＥのほか，ペースト型ＰＴＦＥ材料（未使用または使用済）を使用できることは記載されているものの，これらとは異なり，甲２におけるチューブのような「成形品」を使用できることについては，何ら記載されていないから，この点からも，甲１発明において，電子ビーム線に暴露する前に，ＰＴＦＥ出発材料を，「一次融点以上に加熱することにより」「比重が１．０ｇ／ｃｍ３以上である」「成形品」とすることが動機付けられるとはいえない。

（ウ）そして，本件明細書の記載（【０００２】～【０００９】，【００２１】，【００２４】，【００２９】，【００３７】，【００３９】，【００４０】，【００４５】，【００４６】，【００４９】，【０１０６】～【０１４１】，実施例１～１１，比較例１～１３，表１～４）によれば，本件発明１は，「ポリテトラフルオロエチレンに，放射線を照射して，３８０℃における溶融粘度が１×１０２～７×１０５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレン粉末を得る工程（１），前記低分子量ポリテトラフルオロエチレン粉末を粉砕する工程（２）」を含むとともに，「工程（１）の前に，更に，前記ポリテトラフルオロエチレンを，その一次融点以上に加熱することにより成形品を得る工程（４）を含み，前記成形品は，比重が１．０ｇ／ｃｍ３以上である」，低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法において，さらに，「工程（２）で粉砕された低分子量ポリテトラフルオロエチレン粉末を熱処理する工程（３）」を備えたものとすることによって，放射線照射により生成してしまった炭素数が８以上１４以下のパーフルオロカルボン酸及びその塩の大半を容易に低分子量ポリテトラフルオロエチレンから除去することができるという効果を奏するものである。

これに対して，甲１発明は，「トルエン中で２４時間抽出して遊離のｎ－テトラデセンをすべて除去した被験ブレンド２のサンプルを，１００℃のオーブン内で４時間乾燥させる」ものであるが，この乾燥は，サンプル中に残存するｎ－テトラデセン量を分光分析法で測定するために行われる，サンプルに対する前処理にすぎない（甲１【００３７】）。甲１～３のいずれにも，従来の条件で放射線を照射すると，上記パーフルオロカルボン酸又はその塩が生成すること，また，その後の熱処理により，上記パーフルオロカルボン酸及びその塩を除去できることについて，何ら記載されておらず，また，これらのことが本件特許の優先日当時の技術常識であるともいえないから，本件発明１の上記効果は，当業者が予測することができない格別顕著なものといえる。

（エ）そうすると，甲１発明において，電子ビーム線に暴露する前に，組成物に含まれるＰＴＦＥ出発材料を，「一次融点以上に加熱することにより」「比重が１．０ｇ／ｃｍ３以上である」「成形品」とすることが，当業者が容易に想到することができたということはできない。

ウ　小括

したがって，相違点２について検討するまでもなく，本件発明１は，甲１に記載された発明並びに甲２及び３に記載された事項に基いて，当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。

（３）本件発明２～６について

本件発明２～６は，本件発明１を直接又は間接的に引用するものであるが，上記（２）で述べたとおり，本件発明１が，甲１に記載された発明並びに甲２及び３に記載された事項に基いて，当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない以上，本件発明２～６についても同様に，甲１に記載された発明並びに甲２及び３に記載された事項に基いて，当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。

（４）まとめ

以上のとおり，本件発明１～６は，いずれも，甲１に記載された発明並びに甲２及び３に記載された事項に基いて，当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。

したがって，申立理由１（進歩性）によっては，本件特許の請求項１～６に係る特許を取り消すことはできない。

第５　むすび

以上のとおり，特許異議申立書に記載した特許異議の申立ての理由によっては，本件特許の請求項１～６に係る特許を取り消すことはできない。

また，他に本件特許の請求項１～６に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。

よって，結論のとおり決定する。