2025-700353

特許第７５６１１９４号発明「方向性電磁鋼板およびその磁区微細化方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７５６１１９４号の請求項１～７に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第７５６１１９４号（以下「本件特許」という。）の請求項１～７に係る特許についての出願は、２０２０年（令和 ２年）１２月１８日（パリ条約による優先権主張外国庁受理 ２０１９年１２月２０日（ＫＲ）大韓民国）を国際出願日とする出願（特願２０２２－５３７５７２号。以下、「本願」という。）であって、令和 ６年 ９月２５日にその特許権の設定登録がなされ、同年１０月 ３日にその特許掲載公報が発行されたものである。 その後、令和 ７年 ３月２７日に、請求項１～７（全請求項）に係る特許に対し、特許異議申立人である前田 洋志（以下「申立人」という。）により特許異議の申立てがされた。 本件特許異議の申立てにおける手続の経緯は、以下のとおりである。 令和 ７年 ３月２７日提出 特許異議申立書 同年 ８月１２日付け 取消理由通知書 同年１１月１７日提出 意見書（特許権者） 令和 ８年 ２月 ９日提出 上申書（申立人） 第２ 本件発明 本件特許の請求項１～７に係る発明は、本願の願書に添付した特許請求の範囲の請求項１～７に記載された事項により特定される次のとおりのものである（以下、請求項１～７に係る発明を、それぞれ「本件発明１」～「本件発明７」といい、これらを総称して「本件発明」という。また、本願の願書に添付した明細書を「本願明細書」という。）。 「【請求項１】 電磁鋼板の表面に存在するグルーブ、および 前記グルーブに当接した再結晶粒と前記グルーブに当接していないその他の再結晶粒を含み、 前記グルーブに当接した再結晶粒と前記その他の再結晶粒の平均配向度差が０．５～１０゜であり、 前記グルーブに当接した再結晶粒は亜結晶粒界を含み、グルーブに当接する再結晶粒一つ当たり１０μｍ～７００μｍ長さの亜結晶粒界が存在することを特徴とする方向性電磁鋼板。 【請求項２】 前記グルーブ上に当接した絶縁被膜をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方向性電磁鋼板。 【請求項３】 前記グルーブ深さは鋼板厚さの３～１５％であり、グルーブ幅は１０～５０μｍであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の方向性電磁鋼板。 【請求項４】 冷延鋼板を準備する段階、 前記冷延鋼板を一次再結晶焼鈍する段階、 前記冷延鋼板を二次再結晶焼鈍する段階、 前記二次再結晶焼鈍過程で一次再結晶焼鈍時形成された酸化層とＭｇＯの反応による金属酸化物被膜にレーザーを照射してグルーブを形成する段階、および 前記グルーブが形成された鋼板上に絶縁被膜を形成する段階を含み、 前記レーザー照射時、レーザーのエネルギー密度は２．５～８．０Ｊ／ｍｍ２であり、 前記レーザービームの長さは１００～４５０μｍであり、前記レーザービームの幅は１０～２７μｍであり、 前記グルーブに当接した再結晶粒と前記グルーブに当接していないその他の再結晶粒の平均配向度差が０．５～１０゜であり、 前記グルーブに当接した再結晶粒は亜結晶粒界を含み、グルーブに当接する再結晶粒一つ当たり１０μｍ～７００μｍ長さの亜結晶粒界が存在することを特徴とする方向性電磁鋼板の磁区微細化方法。 【請求項５】 前記レーザー出力が５００Ｗ以上であり、レーザー走査速度が５ｍ／ｓ以上であり、レーザー走査距離が１００ｍｍ以上であることを特徴とする請求項４に記載の方向性電磁鋼板の磁区微細化方法。 【請求項６】 前記レーザーの波長は１．０６～１０．６μｍであることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の方向性電磁鋼板の磁区微細化方法。 【請求項７】 前記絶縁被膜を形成する段階は７５０～９５０℃の温度で熱処理する段階を含むことを特徴とする請求項４乃至請求項６のいずれか一項に記載の方向性電磁鋼板の磁区微細化方法。」 第３ 申立理由、取消理由の概要 １ 申立理由 申立人は、証拠方法として、後記する甲第１号証、甲第２号証を提出し、以下の理由により、本件請求項１～７に係る特許は取り消されるべきものであると主張している。 （１）申立理由１（明確性要件、取消理由として採用） 本件特許の請求項１、４には、「前記グルーブに当接した再結晶粒と前記その他の再結晶粒の平均配向度差が０．５～１０°であり」、「グルーブに当接した再結晶粒」内に「亜結晶粒界」が形成されている、という構成が記載されているが、本願明細書のいずれを見ても、このような場合における「配向度差」の測定方法は、全く記載されておらず、明らかではない。 また、本件特許の請求項１、４には、「平均配向度差」が規定されているが、本願明細書には「平均」の定義が何ら記載されておらず、その意味内容を当業者が理解できないから不明確である。 これらは、本件特許の請求項１、４を引用する請求項２、３、５～７についても同様である。 したがって、本件特許の請求項１～７に係る特許は、特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから、同法第１１３条第４号に該当し、取り消されるべきものである。 （２）申立理由２（進歩性、取消理由として不採用） 本件発明１～３は、甲第１号証に記載された発明及び甲第２号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。 （３）証拠方法 甲第１号証：特開２０１９－１４７９８０号公報 甲第２号証：特開２００８－１１１１５２号公報 （以下、甲第１号証、甲第２号証を、それぞれ「甲１」、「甲２」という。） ２ 取消理由 当合議体は、職権により、以下の取消理由１－１を通知すると共に、上記１（１）の申立理由１を採用し、以下の取消理由１－２を通知した。 （１）取消理由１－１（明確性要件） 本件特許の請求項１、４には、「グルーブに当接する再結晶粒一つ当たり１０μｍ～７００μｍ長さの亜結晶粒界が存在する」との記載があるが、「再結晶粒」は立体物であるから、その「結晶粒」の界面である「粒界」は面であり、その「長さ」とは何を定義しているのかが定かでない。 また、本願明細書【００２０】の記載を考慮しても、本件特許の請求項１、４の「グルーブに当接する再結晶粒一つ当たり１０μｍ～７００μｍ長さの亜結晶粒界が存在する」の意味は判然としないから、本件発明１、４について、特許請求の範囲の記載は、第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確である。また、請求項１、４の記載を直接又は間接的に引用する本件発明２、３、５～７についても同様である。 よって、本件発明１～７については、特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第２号に適合するものではないから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第４号に該当し、取り消されるべきものである。 （２）取消理由１－２（明確性要件） 本件特許の請求項１、４には、「前記グルーブに当接した再結晶粒と前記（グルーブに当接していない）その他の再結晶粒の平均配向度差が０．５～１０゜であり、前記グルーブに当接した再結晶粒は亜結晶粒界を含み」と記載されている。ここで、「平均配向度差」を算出するためには、「グルーブに当接した再結晶粒」と「その他の再結晶粒」の「平均配向度」を算出する必要がある。 ここで、本願明細書の【００１７】、【図２】の記載からみて、「平均配向度」はＴＤ面での断面観察において定義されるものであることが把握されるところ、このＴＤ面での断面観察を行う際の観察範囲が不明であるから、「平均配向度」は一意に定まらず、不明瞭である。 また、本願明細書の【００２０】の記載によれば、「亜結晶粒界」は「結晶方位」について「０．５～１０°の差が現れる部分」と定義されているところ、そのように再結晶粒内部に結晶方位差が存在する場合における、個々の「二次再結晶３１」の「配向度」がどのように定義されるのかが判然とせず、不明瞭である。 よって、本願明細書の記載を考慮しても、本願特許の請求項１、４の「前記グルーブに当接した再結晶粒と前記（グルーブに当接していない）その他の再結晶粒の平均配向度差が０．５～１０゜であり、前記グルーブに当接した再結晶粒は亜結晶粒界を含み」との記載における「平均配向度差」を算出するための、「前記グルーブに当接した再結晶粒」及び「前記（グルーブに当接していない）その他の再結晶粒」の各「平均配向度」は不明瞭であるから、本件発明１、４について、特許請求の範囲の記載は、第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確である。また、請求項１、４の記載を直接又は間接的に引用する本件発明２、３、５～７についても同様である。 よって、本件発明１～７については、特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第２号に適合するものではないから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第４号に該当し、取り消されるべきものである。 第４ 当合議体の判断 当合議体は、以下に示すとおり、上記第３の申立理由１、２及び取消理由１－１、１－２によっては、本件特許の請求項１～７に係る特許を取り消すことはできないと判断する。 １ 明確性要件（取消理由１－１）について （１）本件特許の請求項１、４には、「グルーブに当接する再結晶粒一つ当たり１０μｍ～７００μｍ長さの亜結晶粒界が存在する」との記載がある。 ここで、「亜結晶粒界」について、「１０μｍ～７００μｍ長さ」と記載されているから、この「亜結晶粒界」は何らかの断面により観察されるものであることが推認されるものの、請求項１、４にはその定義がなされていない。 （２）この点について、本願明細書には、以下の記載がある。なお、「…」は記載の省略を表す。以下同様。 ア「【００１７】 図２は、本発明の一実施形態による方向性電磁鋼板の断面（ＴＤ面）の模式図である。 図２に示したとおり、本発明の一実施形態による方向性電磁鋼板は表面にグルーブ２０が存在し、グルーブ２０下部に当接した二次再結晶３１を含む。本発明の一実施形態では、この二次再結晶３１の配向度を制御することによって、グルーブ２０形成による磁性劣化を最少化することができる。 グルーブ２０下部に当接した二次再結晶３１は、その他の再結晶３２と区分される。その他の二次再結晶３２はグルーブ２０と当接しない二次再結晶３２であって、グルーブ２０が形成されない表面付近に形成された二次再結晶３２または鋼板内部に形成された二次再結晶３２である。 … 【００１９】 二次再結晶が完了した鋼板にレーザーを照射する時、グルーブ２０下部にはレーザー熱による衝撃が発生し、これらのうちの一部は亜結晶粒界（ｓｕｂ ｂｏｕｎｄａｒｙ）３３として形成される。グルーブ２０形成以後、絶縁被膜形成工程で熱処理時、この亜結晶粒界３３が成長する。 亜結晶粒界（ｓｕｂ－ｂｏｕｎｄａｒｙ）３３は熱あるいは機械的応力を局部的に印加することによって同一結晶粒内で電位あるいはツイン（ｔｗｉｎ）のような格子欠陥部密度が局部的に増加して発生した結晶粒内の欠陥発生部と定義し、結晶格子が限定された領域のみで現れるため、一般的な結晶粒界（ｇｒａｉｎ ｂｏｕｎｄａｒｙ）とは異なる。 【００２０】 亜結晶粒界は、グルーブ２０と当接した二次再結晶３１内でグルーブ１個当り１０μｍ～７００μｍの連続あるいは不連続的な長さで存在する。基準面はグルーブ２０の長さ方向を切断する面であり、ＳＥＭあるいはＥＢＳＤ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ ＢａｃｋＳｃａｔｔｅｒ Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）で測定した写真でグルーブ２０と当接した二次再結晶３１分析時、結晶粒内に位置したグルーブ２０下部近所で結晶方位が０．５～１０°の差が現れる部分を亜結晶粒界３３と判断し、これらの長さを測定して検出することができる。 亜結晶粒界３３の長さが過度に長いか短い場合、グルーブ２０と当接した二次再結晶３１の配向度に悪影響を与え、窮極的に磁性が劣位になる。さらに具体的に、亜結晶粒界３３の長さは３００～７００μｍであることがよい。」 イ「【実施例】 … 【００３４】 …圧延垂直方向断面（ＴＤ面）でグルーブ下部に当接した再結晶３１およびその他の再結晶３２粒径、配向度差、亜結晶粒界長さをＥＢＳＤで測定して下記表１に整理した。」 ウ「【図２】 ［図：0001433093000001.jpg］ 」 （３）ここで、上記（２）アの【００２０】の記載によれば、「亜結晶粒界」は「グルーブ２０の長さ方向を切断する面」を「基準面」とした断面観察において定義されるものであることが把握される。 （４）また、令和 ７年１１月１７日に特許権者から提出された意見書には、以下のとおり記載されている。 「亜結晶粒界およびその長さに対する断面は、ＴＤ面であります。 亜結晶粒界は結晶粒内に存在する欠陥発生部（ＴｗｉｎまたはＳｈｅａｒ ｂａｎｄ）であって、結晶格子が限定された領域のみで線状に示されるため、閉鎖曲線状で存在する結晶粒界（ｇｒａｉｎ ｂｏｕｎｄａｒｙ）とは異なります。 したがって、線状である亜結晶粒界の長さを特定することができます。」 （５）上記（４）の意見書の記載を踏まえ、また上記（２）イに記載されるように、本願明細書の実施例においてＴＤ面で亜結晶粒界長さを測定していることを併せ鑑みれば、「亜結晶粒界」は「ＴＤ面」で観察されるものであることは明らかである。 （６）以上によれば、本件特許の請求項１、４の「亜結晶粒界」とは、ＴＤ面で観察されるものであることが明らかであるから、本件発明１、４は明確である。また、請求項１、４の記載を直接又は間接的に引用する本件発明２、３、５～７についても同様である。 よって、本件発明１～７については、特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第２号に適合するものであるから、同発明に係る特許は、取消理由１－１により取り消すことはできない。 ２ 明確性要件（申立理由１、取消理由１－２）について （１）本件特許の請求項１、４には、「前記グルーブに当接した再結晶粒と前記（グルーブに当接していない）その他の再結晶粒の平均配向度差が０．５～１０゜であり、前記グルーブに当接した再結晶粒は亜結晶粒界を含み」と記載されている。ここで、「グルーブに当接した再結晶粒」と「その他の再結晶粒」の「平均配向度差」を算出するためには、「グルーブに当接した再結晶粒」の「平均配向度」と「その他の再結晶粒」の「平均配向度」をそれぞれ算出する必要がある。 （２）ここで、本願明細書には、以下の記載がある。 ア「【００１７】 図２は、本発明の一実施形態による方向性電磁鋼板の断面（ＴＤ面）の模式図である。 図２に示したとおり、本発明の一実施形態による方向性電磁鋼板は表面にグルーブ２０が存在し、グルーブ２０下部に当接した二次再結晶３１を含む。本発明の一実施形態では、この二次再結晶３１の配向度を制御することによって、グルーブ２０形成による磁性劣化を最少化することができる。 グルーブ２０下部に当接した二次再結晶３１は、その他の再結晶３２と区分される。その他の二次再結晶３２はグルーブ２０と当接しない二次再結晶３２であって、グルーブ２０が形成されない表面付近に形成された二次再結晶３２または鋼板内部に形成された二次再結晶３２である。」 イ「【００２０】 亜結晶粒界は、グルーブ２０と当接した二次再結晶３１内でグルーブ１個当り１０μｍ～７００μｍの連続あるいは不連続的な長さで存在する。基準面はグルーブ２０の長さ方向を切断する面であり、ＳＥＭあるいはＥＢＳＤ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ ＢａｃｋＳｃａｔｔｅｒ Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）で測定した写真でグルーブ２０と当接した二次再結晶３１分析時、結晶粒内に位置したグルーブ２０下部近所で結晶方位が０．５～１０°の差が現れる部分を亜結晶粒界３３と判断し、これらの長さを測定して検出することができる。」 ウ「【図２】 ［図：0001433093000002.jpg］ 」 （３）「平均」の定義について ア 上記（２）ア、ウの記載からみて、「平均配向度」はＴＤ面での断面観察において定義されるものであることが把握される。 イ また、このＴＤ面での断面観察を行う範囲について、令和 ７年１１月１７日に特許権者から提出された意見書には、以下のとおり記載されている。 「十分な面積で十分な回数を通じてＥＢＳＤ分析し、鋼板全体の厚さでの再結晶を求め、このとき、グルーブ下部に当接する再結晶（３１）及びその他の再結晶（３２）のそれぞれの算出平均配向度を求め、これらの差異を計算して求めることができます。 図２は一つのその他の再結晶（３２）のみが存在しますが、これはグルーブ下部に当接する再結晶（３１）および亜結晶粒界（３３）を説明するための模式的な例示であり、実際は、グルーブ下部に当接する再結晶（３１）および亜結晶粒界（３３）が存在しないＥＢＳＤ写真とともに鋼板全体の厚さでその他の再結晶（３２）の配向度を求め、これらの算出平均を求めることになります。 このような算出平均配向を求める方法は、当業者にとって自明な事項であると思料致します。」 ウ 上記イの意見書の記載を踏まえると、「平均配向度」は、図２のように「グルーブに当接した再結晶粒」（再結晶３１）が２つ、「その他の再結晶粒」（再結晶３２）が１つ観察される範囲において平均を算出するものではなく、ＥＢＳＤ分析を十分な面積で十分な回数行い、「グルーブに当接した再結晶粒」及び「その他の再結晶粒」を鋼板全体で観察して平均を算出するものであることが把握される。 そして「方向性電磁鋼板」における「グルーブに当接した再結晶粒」の「平均配向度」と「その他の再結晶粒」の「平均配向度」をそれぞれ算出する際に、鋼板全体を観察して多数の「グルーブに当接した再結晶粒」の配向度と「その他の再結晶粒」の配向度をそれぞれ測定し、これらそれぞれの平均を取ることにより算出することは、当業者にとって自明な事項であるといえる。 （４）「グルーブに当接した再結晶粒」の配向度について ア 上記（２）イの記載によれば、「亜結晶粒界」は「結晶方位」について「０．５～１０°の差が現れる部分」と定義されており、上記（２）ア、ウの記載から「亜結晶粒界３３」は「グルーブに当接した再結晶粒」（再結晶３１）内部に存在することも把握される。 ここで、「グルーブに当接した再結晶粒」の配向度について、上記（３）の「平均」を取るためには、内部に「亜結晶粒界３３」が存在するものも含めた個々の再結晶３１について、配向度を測定し定める必要がある。 イ この個々の「グルーブに当接した再結晶粒」の配向度の測定、特に内部に「亜結晶粒界３３」が存在する個々の再結晶３１の配向度の測定について、令和 ７年１１月１７日に特許権者から提出された意見書には、以下のとおり記載されている。 「亜結晶粒界は、結晶粒内に存在する欠陥発生部であり、結晶格子が限定された領域のみで線状で示されるために、全体の再結晶（３１）における配向度に与える影響は極めて少ないのであります。 したがって、線状で示される亜結晶粒界を除外し、再結晶（３１）の配向図を求めることになります。」 ウ 上記イの意見書の記載を踏まえると、内部に「亜結晶粒界３３」が存在する個々の再結晶３１の配向度の測定において、亜結晶粒界による局所的な欠陥は、除外して測定しても差し支えない程度のものであることが把握される。 そうすると、個々の「グルーブに当接した再結晶粒」（再結晶３１）の配向度を測定し定めるにあたって、内部の「亜結晶粒界３３」は除外して測定し得るものであり、個々の「グルーブに当接した再結晶粒」の配向度は明確である。 （５）上申書（申立人）について ア 申立人は、令和 ８年 ２月 ９日提出の上申書において「３．２．６ 反論事項」として、「亜結晶粒界においては、その周辺領域を含めて、結晶方位が連続的に変化しているのであるから…、「亜結晶粒界を除外」するとしても、その場合、亜結晶粒界の周辺について、どの程度の領域を除外すればよいか不明である。」（主張１）、「亜結晶粒界が形成されていない部分には、結晶方位の配向度に差は存在しないのであるから…、「結晶方位」について「０．５～１０°の差が現れる部分」を全て除外してしまった場合、そもそも再結晶粒（３１）の「配向度」（その他の再結晶粒（３２）の配向度との差）という概念は生じず、不明である。」（主張２）としたうえで、これらのことから、依然として、「再結晶粒内部に結晶方位差が存在する場合における、個々の「二次再結晶（粒）３１」の「配向度」がどのように定義されるのか判然とせず、不明瞭」である」と主張している（主張３）。 イ そこで、まず上記主張１について検討すると、上記（４）イ、ウで検討したとおり、再結晶３１の内部の「亜結晶粒界３３」は局所的な欠陥であり、除外しても差し支えない程度のものであることが把握される。 してみれば、「結晶方位が連続的に変化している」ような局所的な欠陥部位を除いて再結晶３１の配向度を求めればよいことは明確であり、上記主張１は採用することができない。 ウ 次に、上記主張２について検討すると、結晶方位について０．５～１０°の差が現れる局所的な欠陥部位である亜結晶粒界３３を「全て除外」したとしても、再結晶３１は「再結晶粒」である以上、隣接する再結晶粒との間に結晶粒界を定義し得る結晶の配向を当然に有しており、「配向度」は明確である。 したがって、上記主張２も採用することができない。 エ 以上より、主張１、主張２のいずれも採用することができないから、これらを前提とする主張３も採用することはできない。 （６）以上によれば、本願特許の請求項１、４の「前記グルーブに当接した再結晶粒と前記（グルーブに当接していない）その他の再結晶粒の平均配向度差が０．５～１０゜であり、前記グルーブに当接した再結晶粒は亜結晶粒界を含み」との記載における「グルーブに当接した再結晶粒」と「その他の再結晶粒」の「平均配向度差」は明確であるから、本件発明１、４は明確である。また、請求項１、４の記載を直接又は間接的に引用する本件発明２、３、５～７についても同様である。 よって、本件発明１～７については、特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第２号に適合するものであるから、同発明に係る特許は、申立理由１、取消理由１－２により取り消すことはできない。 ３ 進歩性（申立理由２）について （１）甲１に記載された事項について 本願の優先日前に公知となった甲１には、「方向性電磁鋼板の製造方法」に関して、以下の記載がある。なお、下線は当合議体が強調のために付した。 ア「【請求項１】 最終仕上げ焼鈍された方向性電磁鋼板の表面にレーザ加工によって溝を形成するレーザ溝形成工程と、 前記溝が形成された前記方向性電磁鋼板を９００℃以上に加熱する熱処理工程と、 を備える方向性電磁鋼板の製造方法。」 イ「【０００８】 第１態様に係る方向性電磁鋼板の製造方法によれば、レーザ溝形成工程と、熱処理工程とを備える。レーザ溝形成工程では、最終仕上げ焼鈍された方向性電磁鋼板の表面にレーザ加工によって溝を形成する。これにより、方向性電磁鋼板の磁区が分割され、方向性電磁鋼板の鉄損が低減される。 【０００９】 次に、熱処理工程では、表面に溝が形成された方向性電磁鋼板を９００℃以上に加熱する。ここで、例えば、第１態様に係る熱処理工程を経験していない方向性電磁鋼板によって形成された巻鉄心が、巻トランスの製造工程において約８００℃でひずみ取り焼鈍されると、溝に対する方向性電磁鋼板の厚み方向の中央側に亜粒界が発生する。この結果、巻鉄心（方向性電磁鋼板）の鉄損が劣化する。なお、亜粒界とは、方位差（結晶方位差）が１５°以下の小角粒界（low-angle grain boundary）を意味する。 【００１０】 これに対して第１態様では、熱処理工程において、方向性電磁鋼板を９００℃以上に加熱する。これにより、巻トランスの製造工程において、方向性電磁鋼板によって形成された巻鉄心が約８００℃でひずみ取り焼鈍されても、溝に対する方向性電磁鋼板の厚み方向の中央側に亜粒界が発生することが抑制される。この結果、巻鉄心（方向性電磁鋼板）の鉄損の劣化が抑制される。」 ウ「【００６５】 （レーザ溝の加工条件） また、レーザ溝形成工程において、方向性電磁鋼板の表面に形成する溝（レーザ溝）の加工条件は、次のとおりである。 レーザビームの種類：ファイバーレーザ レーザビームの波長：１０８０ｎｍ レーザビームの出力：１０００Ｗ レーザビームの直径：０．１×０．３ｍｍ レーザビームの走査速度：３０ｍ／ｓ 溝の間隔（ピッチ）：３ｍｍ 溝の深さ：２０μｍ 溝の幅：５０μｍ … 【００８０】 図４Ａ、図４Ｂ、及び図４Ｃには、ひずみ取り焼鈍された巻鉄心２０が示されている。なお、図４Ａ～図４Ｃは、巻鉄心２０を構成する方向性電磁鋼板１０の表面１０Ａの溝１２と直交する断面である。 … 【００８２】 図４Ａは、熱処理工程の熱処理温度が８００℃の方向性電磁鋼板１０によって形成され、ひずみ取り焼鈍された巻鉄心２０である。この図４Ａでは、溝１２に対する方向性電磁鋼板１０の中央側の点線で囲まれた領域Ｋに、亜粒界１４が確認された。 【００８３】 次に、図４Ｂは、熱処理工程の熱処理温度が８５０℃の方向性電磁鋼板１０によって形成され、ひずみ取り焼鈍された巻鉄心２０である。この図4Bでも、溝１２に対する方向性電磁鋼板１０の中央側の点線で囲まれた領域Ｋに、亜粒界１４が確認された。 … 【００８５】 このことから、熱処理工程の熱処理温度が９００℃未満（８００℃、８５０℃）の方向性電磁鋼板１０によって形成された巻鉄心２０をひずみ取り焼鈍すると、溝１２に対する方向性電磁鋼板１０の中央側に亜粒界１４が発生し、巻鉄心２０の鉄損が劣化することが分かる。 【００８６】 一方、図４Ｃは、熱処理工程の熱処理温度が９００℃の方向性電磁鋼板１０によって形成され、ひずみ取り焼鈍された巻鉄心２０である。この図４Ｃでは、溝１２に対する方向性電磁鋼板１０の中央側の領域に、亜粒界が確認されなかった。 … 【００８８】 このことから、熱処理工程の熱処理温度が９００℃以上（９００℃、９５０℃、１００℃、１１００℃）の方向性電磁鋼板１０によって形成された巻鉄心２０は、ひずみ取り焼鈍しても、溝１２に対する方向性電磁鋼板１０の中央側に亜粒界が発生せず、方向性電磁鋼板１０の鉄損の劣化が抑制されることが分かる。つまり、溝１２に対する方向性電磁鋼板１０の中央側の亜粒界の有無によって、ひずみ取り焼鈍された巻鉄心２０の鉄損を評価することができる。」 エ「【図４Ａ】 ［図：0001433093000003.jpg］ 【図４Ｂ】 ［図：0001433093000004.jpg］ 【図４Ｃ】 ［図：0001433093000005.jpg］ 」 （２）甲１に記載された発明 上記（１）アの請求項１、上記（１）イの【０００９】、上記（１）ウの【００６５】、【００８２】、上記（１）エの【図４Ａ】の記載を総合すると、甲１には以下の発明が記載されているといえる。 「最終仕上げ焼鈍された方向性電磁鋼板の表面にレーザ加工によって溝を形成するレーザ溝形成工程と、 前記溝が形成された前記方向性電磁鋼板を８００℃に加熱する熱処理工程と、 を備える方向性電磁鋼板の製造方法によって製造された方向性電磁鋼板であって、 溝の深さが２０μｍ、溝の幅が５０μｍであり、 溝に対する中央側の領域に、方位差（結晶方位差）が１５°以下の小角粒界である亜粒界が確認された、 方向性電磁鋼板。」（以下「甲１発明」という。） （３）本件発明１について ア 対比 （ア）甲１発明における「方向性電磁鋼板の表面にレーザ加工によって」「形成」された「レーザ溝」は、本件発明１の「電磁鋼板の表面に存在するグルーブ」に相当する。 （イ）甲１発明における「溝に対する中央側の領域に」「確認された」方位差（結晶方位差）が１５°以下の小角粒界である亜粒界」は、粒界を形成するに至らないものの所定以下の結晶方位差が存在する領域である限りにおいて、本件発明１の「亜結晶粒界」に相当する。 （ウ）以上（ア）、（イ）を踏まえると、本件発明１と甲１発明とは、以下ａの点で一致し、以下ｂの点で相違する。 ａ 一致点 電磁鋼板の表面に存在するグルーブ、および亜結晶粒界を含む、方向性電磁鋼板。 ｂ 相違点 本件発明１は、「前記グルーブに当接した再結晶粒と前記グルーブに当接していないその他の再結晶粒を含み、前記グルーブに当接した再結晶粒と前記その他の再結晶粒の平均配向度差が０．５～１０゜であり、前記グルーブに当接した再結晶粒は亜結晶粒界を含み、グルーブに当接する再結晶粒一つ当たり１０μｍ～７００μｍ長さの亜結晶粒界が存在する」のに対し、甲１発明は、そのような２種の再結晶粒を含むのか不明であり、これらの平均配向度差も不明であり、「亜結晶粒界」がそのうちの「グルーブに当接した再結晶粒」に含まれ、かつ「グルーブに当接する再結晶粒一つ当たり１０μｍ～７００μｍ長さ」であるのかも不明である点（相違点１）。 イ 判断 （ア）上記ア（ウ）ｂの相違点１について検討すると、甲１発明の認定の基礎とされた甲１の図４Ａから亜粒界１４があることは把握することができるものの、溝１２に当接した再結晶粒と溝１２に当接していないその他の再結晶粒があることは把握することができない。 また、仮に、図４Ａの解像度や範囲において観察できないものの、そのような２種の再結晶粒が含まれていたとしても、両者の平均配向度差については甲１には何ら記載されておらず、不明である。 したがって、相違点１は実質的な相違点である。 （イ）また、上記（１）ア、イの【００１０】、ウの【００８６】、【００８８】、エの【図４Ｃ】に記載されるように、甲１の実施例においては、亜粒界１４は観察されていないところ、上記（２）で甲１発明として認定した亜粒界１４が観察された態様は、甲１における比較例と解される。 したがって、甲１における比較例に基づいて認定した甲１発明において、亜粒界の発生を抑制することは動機付けられるとしても、それ以外の何らかの改変を施すこと、例えば、所定の２種の再結晶粒が形成されるようにすることやその平均配向度差を調節することが動機付けられるとはいえず、甲１に触れた当業者が容易に想到し得たこととはいえない。このことは、配向度について記載される甲２の記載を考慮しても変わるものではない。 ウ 申立人の主張について 申立人は、特許異議申立書（第１４頁最下行～第１７頁第１行）において、本件発明１の「平均配向度差」が「亜結晶粒界」の「結晶方位差」そのものを規定している蓋然性が高いとし、そのような解釈の元で、甲１発明の「亜粒界」の「結晶方位差」を適正な範囲、すなわち、「０．５～１０°」の範囲にすることは、当業者が適宜行う設計的事項に過ぎない、と主張している。 しかし、本件発明１における「グルーブに当接した再結晶粒」と「その他の再結晶粒」の「平均配向度差」は、上記２で述べたとおり、「グルーブに当接した再結晶粒」の「平均配向度」と「その他の再結晶粒」の「平均配向度」の差であって、「亜結晶粒界」の「結晶方位差」そのものではない。 したがって、申立人の上記主張はその前提において誤りがあるから、採用することができない。 エ 本件発明１についてのむすび 以上より、本件発明１は、甲１に記載された発明及び甲第２号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （４）本件発明２、３について 本件発明２、３と甲１発明とを対比すると、両者は少なくとも上記（３）ア（ウ）ｂの相違点１と同様の相違点で相違するところ、当該相違点は、上記（３）イ、ウにて判断したのと同様の理由により、実質的な相違点であり、当業者が容易に想到し得たものとはいえない。 したがって、その余の相違点について検討するまでもなく、本件発明２、３は、甲１に記載された発明及び甲第２号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （５）小括 以上より、本件発明１～３は、甲１に記載された発明及び甲第２号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 よって、上記第３の申立理由２によっては、本件特許の請求項１～３に係る特許を取り消すことはできない。 第５ むすび 以上のとおり、上記第３の申立理由１、２及び取消理由１－１、１－２のいずれによっても、本件特許の請求項１～７に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に本件特許の請求項１～７に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。