2023-701066

特許第７２５２９０２号発明「低鉄損の方向性ケイ素鋼およびその製造方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７２５２９０２号の請求項１～３に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 本件の特許第７２５２９０２号（以下、「本件特許」という。）の請求項１～８に係る特許についての出願（特願２０１９－５５２１４１号。以下、「本願」という。）は、２０１８年（平成３０年） １月２４日（パリ条約による優先権主張外国庁受理：２０１７年 ３月２７日 中国（ＣＮ））を国際出願日とする出願であって、令和 ５年 ３月２８日にその特許権の設定登録がされ、同年 ４月 ５日に特許掲載公報が発行され、その後、同年１０月 ５日に、その請求項１～３に係る特許について、特許異議申立人である前田 洋志（以下、「申立人」という。）により特許異議の申立てがされたものである。 第２ 本件特許発明 本件特許の特許請求の範囲の請求項１～８に係る発明は、本願の願書に添付した特許請求の範囲の請求項１～８に記載された事項により特定されるとおりのものであるところ、その内、請求項１～３に係る発明は、以下のとおりのものである。なお、以下において、本件特許の請求項１～８に係る発明をそれぞれ「本件特許発明１」～「本件特許発明８」といい、総称して「本件特許発明」という。 「【請求項１】 表面に複数の溝を有する低鉄損の方向性ケイ素鋼板であって、前記溝の幅が１０～６０μｍ、深さが５～４０μｍであり、隣接する溝同士間の間隔が１．０～１０ｍｍであり； 応力除去焼鈍を行う前と後の鉄損相対変化率ΔＰ１７／５０（％）が５％以下であり、ここで、 ［図：0001406747000001.jpg］ （上式中、Ｐ１７／５０は方向性ケイ素鋼板の鉄損値であり、単位はＷ／ｋｇであり、ここで、Ｐ１７／５０（焼鈍後）＞Ｐ１７／５０（焼鈍前）である）であることを特徴とする、 低鉄損の方向性ケイ素鋼板。 【請求項２】 前記溝と鋼板の幅方向との間に３０°以下の交角を有することを特徴とする、請求項１に記載の低鉄損の方向性ケイ素鋼板。 【請求項３】 一方の表面または両方の表面に溝を有することを特徴とする、請求項１に記載の低鉄損の方向性ケイ素鋼板。」 第３ 申立理由の概要 申立人は、証拠方法として下記４の甲第１号証～甲第７号証（以下、「甲１」等という。）を提出し、以下の理由により、本件特許の請求項１～３に係る特許を取り消すべきものである旨主張している。 １ 申立理由１（新規性） （１）申立理由１－１（甲１を主たる引用文献とするもの） 本件特許発明１～３は、甲１に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号に該当し特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。 （２）申立理由１－２（甲２を主たる引用文献とするもの） 本件特許発明１～３は、甲２に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号に該当し特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。 （３）申立理由１－３（甲３を主たる引用文献とするもの） 本件特許発明１～３は、甲３に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号に該当し特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。 ２ 申立理由２（進歩性） （１）申立理由２－１（甲１を主たる引用文献とするもの） 本件特許発明１～３は、甲１に記載された発明、及び甲４、甲５の記載事項に基いて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下、「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。 （２）申立理由２－２（甲２を主たる引用文献とするもの） 本件特許発明１～３は、甲２に記載された発明、及び甲４、甲５の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。 （３）申立理由２－３（甲３を主たる引用文献とするもの） 本件特許発明１～３は、甲３に記載された発明、及び甲４、甲５の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。 ３ 申立理由３（サポート要件） 本件特許の特許請求の範囲の請求項１～３の記載は、溝形成の方法がレーザースクライビングに限定されていない点で、特許を受けようとする発明が発明の詳細な説明に記載したものであるとはいえず、特許法第３６条第６項第１号に適合しないものであるから、同請求項に係る特許は、同法第１１３条第４号に該当し、取り消されるべきものである。 ４ 証拠方法 甲１：特開平９－２７９２４７号公報 甲２：特開平１０－１３０７２６号公報 甲３：特開平１０－１３０７２７号公報 甲４：特開２００３－５５７１７号公報 甲５：特開２００１－３１６８９６号公報 甲６：特開平１－３１６４２４号公報 甲７：特開２００７－１６９７５５号公報 第４ 当審の判断 以下に述べるとおり、当審は、上記第３の１～３のいずれの申立理由によっても、本件特許の請求項１～３に係る特許を取り消すことはできないと判断する。 １ 申立理由１－１（新規性）、申立理由２－１（進歩性）について （１）甲１の記載事項、及び甲１に記載された発明 ア 甲１の記載事項 本願の優先日前に公知となった甲１には、「磁束密度の高い一方向性電磁鋼板の製造方法」（発明の名称）に関して、以下の記載がある（なお、下線は当審が付したものであり、「・・・」は記載の省略を表す。以下同様。）。 （ア）「【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、主として変圧器やその他の電気機器等の鉄心として利用される方向性電磁鋼板の製造方法に関するものである。・・・」 （イ）「【０００２】 【従来の技術】一方向性電磁鋼板は、軟磁性材料として主にトランスその他の電気機器の鉄心材料に使用されているもので、磁気特性としては励磁特性と鉄損特性が良好でなくてはならない。この励磁特性を表す指標として、通常は磁束密度Ｂ8 （磁場の強さ８００Ａ／ｍにおける磁束密度）が用いられ、鉄損特性を表す指標として、Ｗ17/50 （５０Ｈｚで１．７Ｔまで磁化させたときの単位重量あたりの鉄損）が用いられる。」 （ウ）「【０００９】これに対して本発明者らは、一方向性電磁鋼板の溶鋼中にＢｉを含有させることにより、工業的手段により磁束密度を従来の高磁束密度一方向性電磁鋼板レベルから超高磁束密度一方向性電磁鋼板レベルまで高める方法を、特開平６－８８１４号公報、特開平６－８８１７３公報等で提案した。この方法により初めて磁束密度Ｂ8 が１．９６Ｔを越える超高磁束密度一方向性電磁鋼板が生産できるようになった。」 （エ）「【００２６】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、Ｂｉ添加超高磁束密度一方向性電磁鋼板製造において、焼鈍分離剤を静電塗布することにより二次再結晶仕上焼鈍時の鋼板層間のガス通気性を高めて、コイル内雰囲気の均一化を促進し、前者の工業化における欠点を補い極めて安定的に製造する方法を提供するものである。」 （オ）「【００４１】そこで、Ｂｉ添加超高磁束密度一方向性電磁鋼板を工業規模で安定して製造するためには、二次再結晶仕上焼鈍中の鋼板層間のガス通気性を向上させる必要があり、焼鈍分離剤の静電塗布法の適用が有効である可能性を見出した。」 （カ）「【００６６】仕上げ焼鈍後引き続き余分の焼鈍分離剤を除去後、コイル巻きぐせ等を矯正するための連続張力焼鈍を行い、同時に絶縁皮膜コーティングを塗布、焼き付けする。このとき必要に応じて、該鋼板にレーザー照射、機械的溝形成、張力被膜コーティング等の磁区細分化処理を施す。本発明はＢｉ添加により超高磁束密度化を行うと同時に二次再結晶粒径を大きく制御するものであるため、鉄損特性を改善する意味から磁区細分化処理は有効である。磁区細分化の方法は特に限定する必要はない。 ・・・ 【００６８】局部的な溝を形成することで磁区細分化を行う場合、歯車ロール法（例えば特公平４－４８８４７号公報）や金型プレス法（例えば特公平６－６３０３７号公報）等の機械的な塑性加工による方法、フォトエッチング法（例えば特公平５－６９２８４号公報）やレジストインキエッチング法（特公平２ー４６６７３号公報、特公平３－６９９６８号公報）等の化学エッチングや電解エッチングを用いる方法などを採用すればよい。 【００６９】鋼板に形成する溝は圧延方向に対して直角もしくは直角から４５度の範囲内で、その間隔は２～１0mmが鉄損低下の観点から好ましい。溝の形状は連続的、不連続または点状のいずれでも良い。溝の幅、及び深さはそれぞれ１０～３００μｍ、５～５０μｍの範囲が鉄損低下の観点から好ましい。溝の幅を狭くすると曲率半径の小さな曲げ加工を施す際に折れの起点となりやすい。また溝の幅を広くすると磁束密度が低下してしまう。溝の深さも同様にあまり深くすると磁束密度が低下してしまう。」 （キ）「【００７６】［実施例２］重量％で、Ｓｉ：３．３％，Ｍｎ：０．１％，Ｃ：０．０５％，Ｓ：０．００７％，酸可溶性Ａｌ：０．０３％，Ｎ：０．００８％，Ｓｎ：０．０５％を基本成分とし、（Ａ：Ｂｉ添加）Ｂｉ：０．０１％と、（Ｂ：従来法）Ｂｉ：０％の２水準の珪素鋼を溶製し、それぞれ鋳片に分注鋳造後、１２００℃に加熱し、抽出後直ちに２．３mm板厚まで熱間圧延した。 【００７７】その後、酸洗し、１．４mmまで冷延した冷延板を１１２０℃の温度で３０秒、９００℃で９０秒焼鈍し、７５０℃まで空冷後８０℃の水中に急冷した後、最終板厚０．１５mmに冷延した。この冷延板を窒素と水素の混合ガス中において、酸化度０．４４で８３０℃の温度で７０秒焼鈍して一次再結晶させた。次いでアンモニア雰囲気中で焼鈍することにより、窒素量を０．０２５％に増加して、インヒビターの強化を行った。 【００７８】これらの鋼板をその後、マグネシアを主成分とする水スラリーで塗布した後にアルミナを静電塗布したもの（Ｃ：静電塗布）と、そのままのもの（Ｄ：従来法）を積層し、低いガス流量のもとで仕上げ焼鈍を施した。これら仕上焼鈍後の試料に圧延方向と直角方向に、幅３０μｍ、深さ１０μｍの溝をフォトエッチング法で形成した後、アルミナ・ゾルとホウ酸を主成分とするコーテイング液を塗布して８７０℃で２分間焼き付けた。これらの試料の磁気特性を測定した後、更に８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った。得られた製品の磁気特性を表２に示す。 【００７９】 【表２】 ［図：0001406747000002.jpg］ 」 イ 甲１に記載された発明 上記ア（ア）～（キ）に摘記した事項を総合勘案し、特に、「実施例２」に記載された、「素材」として「Ａ（Ｂｉ添加）」を採用し、「製造方法」として、「Ｄ（従来法）」を採用した「比較例」に着目すると、甲１には、次の発明が記載されていると認められる。 「重量％で、Ｓｉ：３．３％，Ｍｎ：０．１％，Ｃ：０．０５％，Ｓ：０．００７％，酸可溶性Ａｌ：０．０３％，Ｎ：０．００８％，Ｓｎ：０．０５％を基本成分とし、Ｂｉ：０．０１％を添加して珪素鋼を溶製し、 その鋳片に分注鋳造後、１２００℃に加熱し、抽出後直ちに２．３mm板厚まで熱間圧延し、 その後、酸洗し、１．４mmまで冷延した冷延板を１１２０℃の温度で３０秒、９００℃で９０秒焼鈍し、７５０℃まで空冷後８０℃の水中に急冷した後、最終板厚０．１５mmに冷延し、この冷延板を窒素と水素の混合ガス中において、酸化度０．４４で８３０℃の温度で７０秒焼鈍して一次再結晶させ、次いでアンモニア雰囲気中で焼鈍することにより、窒素量を０．０２５％に増加して、インヒビターの強化を行い、 その後、そのままのもの（Ｄ：従来法）を積層し、低いガス流量のもとで仕上げ焼鈍を施し、この仕上焼鈍後の試料に圧延方向と直角方向に、幅３０μｍ、深さ１０μｍの溝をフォトエッチング法で形成した後、アルミナ・ゾルとホウ酸を主成分とするコーテイング液を塗布して８７０℃で２分間焼き付けて得られた製品であって、 ８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行う前の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．８２Ｗ／ｋｇであり、 上記８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った後の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．８３Ｗ／ｋｇである、 製品。」（以下、「甲１発明」という。） （２）甲４、甲５の記載事項 ア 甲４の記載事項 本願の優先権主張の日前に公知となった甲４には、「脱炭性の良好な鏡面方向性電磁鋼板の製造方法」（発明の名称）に関して、以下の記載がある。 （ア）「【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、主として変圧器の鉄心として利用される方向性電磁鋼板の製造方法において、その表面を効果的に仕上げることにより、鉄損特性の向上を図ることができる鏡面方向性電磁鋼板の製造方法に関するものである。」 （イ）「【０００３】積み鉄心の場合、仕上げ焼鈍後の鋼板にレーザービームを照射して局部的な微小歪を与えることにより磁区を細分化して鉄損を低減させる方法が、例えば、特開昭５８－２６４０５号公報に開示されている。また、巻き鉄心の場合には、鉄心に加工した後、歪取り焼鈍（Ｓｔｒｅｓｓ Ｒｅｌｅａｓｅ Ａｎｎｅａｌｉｎｇ：応力除去焼鈍）を施しても磁区細分化効果が消失しない方法が、例えば、特開昭６２－８６１７号公報に開示されている。これらの技術的手段を用いて磁区を細分化することにより、鉄損は大きく低減されるようになってきている。」 イ 甲５の記載事項 本願の優先権主張の日前に公知となった甲５には、「低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法」（発明の名称）に関して、以下の記載がある。 （ア）「【請求項１】 仕上げ焼鈍後に絶縁皮膜を施した方向性電磁鋼板の片面あるいは両面の皮膜の一部を線状あるいは点列状に除去し地鉄を露出させた後、中性塩溶液を用いた電解エッチングにより、鋼板の少なくとも片面の地鉄露出部に、深さ5～40μmの溝を形成することを特徴とする低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。 【請求項２】 前記皮膜の一部を除去する際に、圧延方向と45°～90°をなす方向において、幅50～400μm、間隔2～8mmの線状、あるいは、直径50～400μmの点が点の中心間距離50～1000μm、列間隔2～8mmの点列状に除去することを特徴とする請求項１に記載の低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。」 （イ）「【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、トランスなどの鉄心に用いられる方向性電磁鋼板の製造方法に関するものであり、更に詳しく述べると、歪みとり焼鈍を行っても磁気特性が劣化しない低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法に関するものである。」 （ウ）「【０００５】 【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、積み巻き両鉄心に使用可能とするため、巻き鉄心の製造過程での歪み取り焼鈍にも耐えられる磁区細分化効果を持ち、工業化も容易で、かつ、安定して鉄損低減が図れる低鉄損電磁鋼板の製造方法を提供することにある。」 （エ）「【００１０】 【発明の実施の形態】以下、本発明の低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法を詳細に説明する。本発明に使用する方向性電磁鋼板素材は、二次再結晶法によりSiを固溶するFe結晶のGOSS方位を発達させたものであり、その一般的な製造法は以下のとおりである。 【００１１】Si4.5%以下を含むスラブを加熱し、中間板厚まで熱延する。更に、熱延板を焼鈍後、あるいは、焼鈍することなしに、酸洗する。一回冷延工程の場合は、そのまま最終板厚まで圧延する。二回冷延工程の場合は、中間焼鈍をはさんだ二回の圧延で最終板厚とする。その後、脱炭焼鈍し、必要に応じて、窒化処理し、MgOを主成分とする焼鈍分離材を塗布した後に仕上げ焼鈍する。 【００１２】ここまでの工程で二次再結晶が完了しており、鋼板表面には、無機質のフォルステライト皮膜（一次皮膜）が形成されている。更に、この鋼板の上に絶縁皮膜（二次皮膜）を施し、形状矯正の焼鈍を行い、本発明で使用する方向性電磁鋼板素材となる。本発明では、まず、この素材鋼板の片面あるいは両面の皮膜を、連続的な線状か、あるいは、不連続な点列状に部分的に除去する。後の工程で、除去された皮膜の形状で溝が加工されることになるので、この形状は磁気特性に大きな影響を与える。皮膜除去部分が線状の場合、その幅は50～400μm、間隔は2～8mmでなければならない。また、点列形状の場合、点の直径は50～400μmであり、隣り合う点同士の中心間距離は50～1000μm、列間隔は2～8mmでなければならない。また、線や点列の方向は圧延方向から45°～90°の方向でなくてはならない。 【００１３】これらの限定理由は以下のとおりである。線幅や点の直径が50μm未満では、皮膜を除去するのが困難であるので、線幅や点の直径を50μm以上とする。また、それらを400μm超にすると、溝加工後の鋼板の磁束密度の低下が著しく、特に、高磁場での鉄損が劣化してしまうので、線幅や点の直径を400μm以下とする。また、点列の場合、隣り合う点同士の中心間距離が50μm未満では線状になるので、該中心間距離を50μm以上とする。一方、上記中心間距離が、1000μm超になると、溝加工しても磁区細分化効果が十分に得られないので、1000μm以下とする。また、それぞれの列間隔が2mm未満では、やはり溝加工後の磁束密度の低下が著しいので、列間隔は2mm以上とする。一方、列間隔が8mm超では、磁区細分化効果が小さいので、8mm以下とする。 【００１４】更に、線や点列の方向は、磁区細分化効果が効率よく得られるように、圧延方向から45°～90°の方向とする。皮膜を除去する方法は、レーザー照射が適しているが、電子ビームやプラズマ炎なども用いることができる。次に、皮膜を除去し地鉄が露出した部分を、電解エッチングにより溝加工する。このとき、少なくとも鋼板の片面に深さ5～40μmの溝を形成する。溝深さが5μm未満では磁区細分化効果が十分ではなく、また、40μm超では磁束密度の低下が著しい。溝深さは、電解時の電流密度と時間で制御できる。また、電流密度を変化させることによってエッチング速度を制御することができる。従って、設備の状況によってライン速度が変化しても、容易に対応することができる。」 （オ）「【００１７】 【実施例】（実施例１）仕上げ焼鈍後に絶縁皮膜を施した厚さ0.23mmの方向性電磁鋼板を素材として、その絶縁皮膜及びフォルステライト被膜をＹＡＧレーザーで除去し、部分的に地鉄を露出させ、その後、10% NaCl溶液で電解エッチングを行い溝を形成した。被膜除去の条件と溝深さを表１に示す。この溝加工後の状態における磁気特性(W17/50)と、更に、800℃、2時間の焼鈍を施した後状態における磁気特性(W17/50)を表２に示す。なお、磁気特性(W17/50)は、ＳＳＴによって測定した。また、比較のために、磁区制御を行っていないものと、レーザー照射で歪みを導入し磁区制御を行ったものの磁気特性(W17/50)についても表２に示す。本発明で製造した材料は、鉄損が小さく、800℃、2時間の焼鈍後も鉄損劣化がみられない。 【００１８】 【表１】 ［図：0001406747000003.jpg］ 【００１９】 【表２】 ［図：0001406747000004.jpg］ 」 （３）本件特許発明１について ア 本件特許発明１と甲１発明との対比 本件特許発明１と甲１発明とを対比する。 （ア）甲１発明の「製品」は、溶製された「珪素鋼」から、鋳造、熱間圧延、酸洗、冷延、焼鈍、急冷、冷延の各工程を経て、「最終板厚０．１５mm」の「冷延板」とし、これを焼鈍後、積層、仕上げ焼鈍し、フォトエッチング法で「圧延方向と直角方向に、幅３０μｍ、深さ１０μｍの溝」を形成し、さらに「アルミナ・ゾルとホウ酸を主成分とするコーテイング液を塗布して８７０℃で２分間焼き付けて得られた」ものであるところ、甲１の【０００１】、【０００２】、【０００９】、【００６６】、【００６９】の記載からすると、これは、本件特許発明１の「表面に複数の溝を有する低鉄損の方向性ケイ素鋼板」に相当する。 （イ）また、甲１発明の「製品」に形成された「圧延方向と直角方向に、幅３０μｍ、深さ１０μｍの溝」と、本件特許発明１の「低鉄損の方向性ケイ素鋼板」が有する「溝の幅が１０～６０μｍ、深さが５～４０μｍであり、隣接する溝同士の間隔が１．０～１０ｍｍであ」ることとは、「溝の幅が１０～６０μｍ、深さが５～４０μｍ」である限りにおいて一致する。 （ウ）さらに、甲１発明の「製品」が、「８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行う前の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．８２Ｗ／ｋｇであり、上記８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った後の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．８３Ｗ／ｋｇである」ことと、本件特許発明１の「低鉄損の方向性ケイ素鋼板」が、「応力除去焼鈍を行う前と後の鉄損相対変化率ΔＰ１７／５０（％）が５％以下であり、ここで、 ［図：0001406747000005.jpg］ （上式中、Ｐ１７／５０は方向性ケイ素鋼板の鉄損値であり、単位はＷ／ｋｇであり、ここで、Ｐ１７／５０（焼鈍後）＞Ｐ１７／５０（焼鈍前）である）であること」について、以下対比する。 ａ 上記（２）ア（イ）に摘記した甲４の【０００３】の記載を考慮すると、甲１発明の「歪み取り焼鈍」は、本件特許発明１の「応力除去焼鈍」に相当する。 ｂ 上記（１）ア（イ）に摘記した甲１の【０００２】の記載を考慮すると、甲１発明の「鉄損Ｗ１７／５０は、本件特許発明１の「方向性ケイ素鋼板の鉄損値」である「Ｐ１７／５０」に相当する。 ｃ 甲１発明の「製品」の歪み取り焼鈍を行う前の「鉄損Ｗ１７／５０」が「０．８２Ｗ／ｋｇ」であるのに対して、８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った後の上記「鉄損Ｗ１７／５０」が「０．８３Ｗ／ｋｇ」であり、歪み取り焼鈍後の鉄損Ｗ１７／５０が、歪み取り焼鈍前よりも大きくなっているのに加えて、焼鈍前後の鉄損相対変化率を上式に従って計算すると、（０．８３－０．８２）／０．８３≒１．２％となり、５％以下である。 ｄ したがって、甲１発明の「製品」が、「８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行う前の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．８２Ｗ／ｋｇであり、上記８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った後の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．８３Ｗ／ｋｇである」ことは、本件特許発明１の「低鉄損の方向性ケイ素鋼板」が、「応力除去焼鈍を行う前と後の鉄損相対変化率ΔＰ１７／５０（％）が５％以下であり、ここで、 ［図：0001406747000006.jpg］ （上式中、Ｐ１７／５０は方向性ケイ素鋼板の鉄損値であり、単位はＷ／ｋｇであり、ここで、Ｐ１７／５０（焼鈍後）＞Ｐ１７／５０（焼鈍前）である）であること」に相当するといえる。 （エ）そうすると、本件特許発明１と甲１発明とは、 「表面に複数の溝を有する低鉄損の方向性ケイ素鋼板であって、前記溝の幅が１０～６０μｍ、深さが５～４０μｍであり；応力除去焼鈍を行う前と後の鉄損相対変化率ΔＰ１７／５０（％）が５％以下であり、ここで、 ［図：0001406747000007.jpg］ （上式中、Ｐ１７／５０は方向性ケイ素鋼板の鉄損値であり、単位はＷ／ｋｇであり、ここで、Ｐ１７／５０（焼鈍後）＞Ｐ１７／５０（焼鈍前）である）である、低鉄損の方向性ケイ素鋼板。」の点で一致し、次の点で相違する。 ＜相違点１＞ 本件特許発明１の「低鉄損の方向性ケイ素鋼板」が表面に有する「溝」について、「隣接する溝同士間の間隔が１．０～１０ｍｍであ」るのに対して、甲１発明の「製品」に形成された「溝」については、隣接する溝同士の間隔がどの程度であるのか不明である点。 イ 相違点についての判断 （ア）上記（１）ア（カ）に摘記したとおり、甲１の【００６９】には、「鋼板に形成する溝は圧延方向に対して直角から４５度の範囲内で、その間隔は２～１０ｍｍが鉄損低下の観点から好ましい。」との記載はあるものの、甲１発明の認定の基礎となった「実施例２」に記載された、「素材」として「Ａ（Ｂｉ添加）」を採用し、「製造方法」として、「Ｄ（従来法）」を採用した「比較例」については、溝の間隔が記載されておらず、本願優先権主張の日当時の技術常識を考慮しても、その溝の間隔が「１．０～１０ｍｍ」に包含される値であるとはいえない。 （イ）したがって、上記相違点１は実質的な相違点であるから、本件特許発明１が甲１に記載された発明であるとはいえない。 （ウ）次に、上記相違点１の容易想到性について検討する。 ａ 上記（ア）のとおり、甲１の【００６９】には、鉄損低下の観点から、溝の間隔を２～１０ｍｍとすることが好ましい旨の記載はあるものの、この記載は、「Ｂｉ添加超高磁束密度一方向性電磁鋼板製造において、焼鈍分離剤を静電塗布することにより二次再結晶仕上げ焼鈍時の鋼板の層間のガス通気性を高めて、コイル内雰囲気の均一化を促進し、安定的に製造する方法を提供する」（甲１の【００２６】等参照）との技術を前提として、鉄損低下の観点からさらに好ましい態様について述べたものである。 ｂ そうすると、焼鈍分離剤の静電塗布を行っていない「比較例」に基づいて認定された上記甲１発明と、甲１の【００６９】の記載とは、前提を異にするものと言わざるを得ず、甲１の【００６９】に溝の間隔を２～１０ｍｍとすることが好ましい旨の記載があるからといって、これを甲１発明に適用する動機付けがあるとはいえない。 ｃ また、仮に、甲１の【００６９】の上記記載から、甲１発明の溝の間隔を「１．０～１０ｍｍ」とすることが動機付けられるとしても、甲１の【表２】に記載された実施例や他の比較例を参照すると、甲１発明の溝の間隔を１．０～１０ｍｍに設定した結果、歪み取り焼鈍後の鉄損Ｗ１７／５０＞歪み取り焼鈍前の鉄損Ｗ１７／５０の関係が維持されるか否かは不明と言わざるを得ない。 ｄ そして、甲１の他の記載事項や、上記（２）ア、イに摘記した甲４、甲５の記載事項を考慮しても、甲１発明において、歪み取り焼鈍後の鉄損Ｗ１７／５０＞歪み取り焼鈍前の鉄損Ｗ１７／５０の関係を有していることについての技術的意義は不明であるから、当該関係を維持しつつ、その溝の間隔を「１．０～１０ｍｍ」とする動機付けがあるとはいえない。 ｅ したがって、甲１発明において、上記相違点１に係る特定事項を備えようとすることは、当業者が容易に想到し得たこととはいえない。 （エ）よって、本件特許発明１によって奏される効果について検討するまでもなく、本件特許発明１は、甲１に記載された発明、及び甲４、甲５の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （４）本件特許発明２、３について 本件特許発明２、３は、本件特許発明１の発明特定事項をすべて備えたものであるから、上記（３）イ（イ）、（エ）のとおり、本件特許発明１が甲１に記載された発明であるとはいえず、甲１に記載された発明、及び甲４、甲５の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない以上、同様に、甲１に記載された発明であるとはいえず、甲１に記載された発明、及び甲４、甲５の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （５）小括 したがって、本件特許発明１～３は、特許法第２９条第１項第３号に該当するとはいえず、また、同法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものともいえないから、申立理由１－１、２－１によっては、本件特許の請求項１～３に係る特許を取り消すことはできない。 ２ 申立理由１－２（新規性）、申立理由２－２（進歩性）について （１）甲２の記載事項、及び甲２に記載された発明 ア 甲２の記載事項 本願の優先日前に公知となった甲２には、「磁束密度が高い低鉄損鏡面一方向性電磁鋼板の製造方法」（発明の名称）に関して、以下の記載がある。 （ア）「【請求項１】 重量％で、Ｃ：０．０２～０．１％ Ｓｉ：２．０～４．８％、 酸可溶性Ａｌ：０．０１２～０．０５０％、 Ｎ：０．００３０～０．０１５０％、 Ｂｉ：０．０００５～０．０３％ を基本成分とし、残部はＦｅおよび不可避的不純物をからなる溶鋼を鋳造し、熱間圧延し、６５～９５％の最終強冷延を含む１回あるいは中間焼鈍を介入する２回以上の冷間圧延により最終板厚とし、一次再結晶を兼ねた脱炭焼鈍を施し、脱炭焼鈍から二次再結晶仕上焼鈍の工程間で必要に応じて窒化処理を行い、二次再結晶仕上焼鈍を行う工程からなる一方向性電磁鋼板の製造方法において、鋼板表面に、焼鈍分離剤１００重量部に対してＢｉの塩化物が塩素重量部で０．２～１５重量部含有する焼鈍分離剤を塗布後、二次再結晶仕上焼鈍することを特徴とする磁束密度の高い鏡面一方向性電磁鋼板の製造方法。 ・・・ 【請求項５】 請求項１記載の鋼板に圧延方向に対して直角もしくは直角から４５度の範囲内で間隔２～１０mmで幅１０～３００μｍ、深さ５～５０μｍの範囲で連続的、不連続または点状の溝あるいは局部的な溝を形成し、併せてコーティング処理による張力皮膜を形成することにより磁区細分化させることを特徴とする鉄損の低い鏡面一方向性電磁鋼板の製造方法。」 （イ）「【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は主として変圧器その他の電気機器等の鉄心として利用される方向性電磁鋼板の製造方法に関するものである。特に、｛１１０｝〈００１〉方位すなわちゴス方位を高度に発達させたＢｉ添加高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法とその表面の鏡面化手段、及び磁区細分化手段を効果的に導入することにより、鉄損特性の向上を工業的に低コストで達成する製造方法を開示するものである。 【０００２】 【従来の技術】一方向性電磁鋼板は、軟磁性材料として主にトランスその他の電気機器の鉄心材料に使用されているもので、磁気特性としては励磁特性と鉄損特性が良好でなくてはならない。この励磁特性を表す指標として、通常は磁束密度Ｂ8 （磁場の強さ８００Ａ／ｍにおける磁束密度）が用いられ、鉄損特性を表す指標として、Ｗ17/50 （５０Hzで１．７Ｔまで磁化させたときの単位重量あたりの鉄損）が用いられる。」 （ウ）「【０００６】これに対して本出願人は、工業的規模で安価に鋼板表面を鏡面化する方法を開発した（例えば特開平６－３４６２４７号公報、特開平７－１８３３３号公報、特開平７－５４１５５号公報）。これらは、脱炭焼鈍後の鋼板表面にＢｉの塩化物を含有した焼鈍分離剤を塗布し二次再結晶仕上焼鈍を行うことにより二次再結晶に悪影響を及ぼさない約９００℃以上で発生するＣｌ2 ガスの気相エッチングにより一次皮膜を剥離し、その後の高温焼鈍で表面をサーマルエッチングし表面化する方法である。すなわち、鋼板表面の鏡面化と高磁束密度の二次再結晶形成を両立させるものである。これらの技術は、磁区細分化処理のために鋼板表面に機械加工を加える際に歯車ロール等の磨耗が少ないため、主に巻鉄心トランス用の磁区制御材製造の低コスト化に適している。 【０００７】しかるに、これら磁区制御、鏡面化等の周辺技術の成熟に伴い、高磁束密度電磁鋼板を用いた低鉄損化が容易となるとともに、超低鉄損電磁鋼板を狙うには更なる高磁束密度を有する素材が必須条件として期待されてきている。これに対して本発明者らは、一方向性電磁鋼板の溶鋼中にＢｉを含有させることにより、工業的手段により磁束密度を従来の高磁束密度一方向性電磁鋼板レベルから超高磁束密度一方向性電磁鋼板レベルまで高める方法を特開平６－８８１４号公報、特開平６－８８１７３号公報等で提案した。この方法により初めて磁束密度Ｂ8 が１．９６Ｔを越える超高磁束密度一方向性電磁鋼板が工場規模で生産できるようになったが、従来の一次皮膜を形成する条件のなかで工場実験を繰り返した結果、コイルの全域に渡って安定に超高磁束密度を得ることは困難であった。一般に一次皮膜形成条件が磁気特性に大きな影響を及ぼすことは知られているが、Ｂｉ添加材の場合はその影響が顕著であることが想定された。そこで、このＢｉ添加による超磁束密度化と一次皮膜を形成しない鏡面化技術を効果的に組み合わせることにより、超磁束密度一方向性電磁鋼板を工場規模でより安定的に製造し、さらに磁区制御技術を組み合わせることにより従来にない超低鉄損一方向電磁鋼板を製造することが、本発明の狙いである。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のＢｉ添加技術と鏡面化技術とを有機的に組み合わせることにより極めて磁束密度の高い高磁束密度一方向性鏡面電磁鋼板素材を工場的規模で安定に製造することを可能とし、さらに磁区制御技術を組み合わせることにより極めて鉄損の低い超低鉄損一鏡面方向性電磁鋼板を低コストで製造することを目的とする。」 （エ）「【００３２】二次再結晶仕上焼鈍後引き続き余分の焼鈍分離剤を除去後、コイル巻きぐせ等を矯正するための連続張力焼鈍を行い、同時に絶縁皮膜コーティングを塗布、焼き付けする。このとき必要に応じて、該鋼板にレーザー照射、機械的溝形成、張力被膜コーティング等の磁区細分化処理を施す。本発明はＢｉ添加により超高磁束密度化を行うと同時に二次再結晶粒径を大きくするものであるため、鉄損特性を改善する意味から磁区細分化処理は有効である。磁区細分化の方法は特に限定する必要はない。 【００３３】局部的な歪みを導入することで磁区細分化を行う場合、例えば特公昭５７－２２５２号公報等に記載されるレーザー光照射を行う方法や、特開昭６２－１５１５１１号公報、特公平６－４５８２４号公報等に記載されるプラズマ炎照射を行う方法等を用いれば良い。局部的な溝を形成することで磁区細分化を行う場合、歯車ロール法（例えば特公平４－４８８４７号公報）や金型プレス法（例えば特公平６－６３０３７号公報）等の機械的な塑性加工による方法、フォトエッチング法（例えば特公平５－６９２８４号公報）やレジストインキエッチング法（特公平２－４６６７３号公報、特公平３－６９９６８号公報）等の化学エッチングや電解エッチングを用いる方法などを採用すればよい。鋼板に形成する溝は圧延方向に対して直角もしくは直角から４５度の範囲内でその間隔は２～１０mmが鉄損低下の観点から好ましい。溝の形状は連続的、不連続または点状のいずれでも良い。溝の幅、及び深さはそれぞれ１０～３００μｍ，５～５０μｍの範囲が鉄損低下の観点から好ましい。溝の幅を狭くすると曲率半径の小さな曲げ加工を施す際に折れの起点となりやすい。また溝の幅を広くすると磁束密度が低下してしまう。溝の深さも同様にあまり深くすると磁束密度が低下してしまう。また、このような局部的な溝を形成する工程は、冷延以降の工程であればいずれの工程でも良い。」 （オ）「【００３８】（実施例２）重量％で、Ｓｉ：３．３％、Ｍｎ：０．１％、Ｃ：０．０５％、Ｓ：０．００７％、酸可溶性Ａｌ：０．０３％、Ｎ：０．００８％，Ｓｎ：０．０５％を基本成分とし、（Ａ：Ｂｉ添加）Ｂｉ：０．０１％と（Ｂ：従来法）Ｂｉ：０％の２水準の珪素鋼を溶製し、それぞれ鋳片に分注鋳造後、１２００℃に加熱し、抽出後直ちに２．３mm板厚まで熱間圧延した。酸洗し１．４mmまで冷延した冷延板を１１２０℃の温度で３０秒９００℃で９０秒焼鈍し後、７５０℃まで空冷後８０℃の水中に急冷し、最終板厚０．１５mmに冷延した。この冷延板を窒素と水素の混合ガス中において酸化度０．３で８３０℃の温度で７０秒焼鈍し一次再結晶させた。次いでアンモニア雰囲気中で焼鈍することにより、窒素量を０．０２５％に増加して、インヒビターの強化を行った。 【００３９】これらの鋼板をその後、（Ｃ：鏡面化）ＺｒＯ＋ＢｉＣｌ（１０重量部）、及び（Ｄ：従来法）ＭｇＯの水スラリーを塗布した後鋼板を積層し、窒素分圧が２５％の湿水素雰囲気で低いガス流量のもとで二次再結晶仕上焼鈍を施した。これら仕上焼鈍後の試料に圧延方向と直角方向に、幅３０μｍ、深さ１０μｍの溝をフォトエッチング法で形成した後、アルミナ・ゾルとホウ酸を主成分とするコーティング液を塗布して８７０℃で２分間焼き付けた。これらの試料の磁気特性を測定した後、更に８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った。得られた製品の磁気特性を表２に示す。 【００４０】 【表２】 ［図：0001406747000008.jpg］ 」 イ 甲２に記載された発明 上記ア（ア）～（オ）に摘記した事項を総合勘案し、特に、「実施例２」に記載された、「素材」として「Ａ（Ｂｉ添加）」を採用し、「製造方法」として、「Ｄ（従来法）」を採用した「比較例」に着目すると、甲２には、次の発明が記載されていると認められる。 「重量％で、Ｓｉ：３．３％、Ｍｎ：０．１％、Ｃ：０．０５％、Ｓ：０．００７％、酸可溶性Ａｌ：０．０３％、Ｎ：０．００８％、Ｓｎ：０．０５％を基本成分とし、Ｂｉ：０．０１％を添加して珪素鋼を溶製し、 その鋳片に分注鋳造後、１２００℃に加熱し、抽出後直ちに２．３mm板厚まで熱間圧延し、 その後、酸洗し、１．４mmまで冷延した冷延板を１１２０℃の温度で３０秒９００℃で９０秒焼鈍し、７５０℃まで空冷後８０℃の水中に急冷した後、最終板厚０．１５mmに冷延し、この冷延板を窒素と水素の混合ガス中において、酸化度０．３で８３０℃の温度で７０秒焼鈍し一次再結晶させ、次いでアンモニア雰囲気中で焼鈍することにより、窒素量を０．０２５％に増加して、インヒビターの強化を行い、 その後、（Ｄ：従来法）ＭｇＯの水スラリーを塗布した後鋼板を積層し、窒素分圧が２５％の湿水素雰囲気で低いガス流量のもとで二次再結晶仕上げ焼鈍を施し、この仕上焼鈍後の試料に圧延方向と直角方向に、幅３０μｍ、深さ１０μｍの溝をフォトエッチング法で形成した後、アルミナ・ゾルとホウ酸を主成分とするコーテイング液を塗布して８７０℃で２分間焼き付けて得られた製品であって、 ８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行う前の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．７１Ｗ／ｋｇであり、 上記８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った後の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．７３Ｗ／ｋｇである、 製品。」（以下、「甲２発明」という。） （２）本件特許発明１について ア 本件特許発明１と甲２発明との対比 本件特許発明１と甲２発明とを対比する。 （ア）甲２発明の「製品」は、溶製された「珪素鋼」から、鋳造、熱間圧延、酸洗、冷延、焼鈍、急冷、冷延の各工程を経て、「最終板厚０．１５mm」の「冷延板」とし、これを焼鈍後、積層、仕上げ焼鈍し、フォトエッチング法で「圧延方向と直角方向に、幅３０μｍ、深さ１０μｍの溝」を形成し、さらに「アルミナ・ゾルとホウ酸を主成分とするコーテイング液を塗布して８７０℃で２分間焼き付けて得られた」ものであるところ、甲２の【０００１】、【０００２】、【０００７】、【００３２】、【００３３】の記載からすると、これは、本件特許発明１の「表面に複数の溝を有する低鉄損の方向性ケイ素鋼板」に相当する。 （イ）また、甲２発明の「製品」に形成された「圧延方向と直角方向に、幅３０μｍ、深さ１０μｍの溝」と、本件特許発明１の「低鉄損の方向性ケイ素鋼板」が有する「溝の幅が１０～６０μｍ、深さが５～４０μｍであり、隣接する溝同士の間隔が１．０～１０ｍｍであ」ることとは、「溝の幅が１０～６０μｍ、深さが５～４０μｍ」である限りにおいて一致する。 （ウ）さらに、甲２発明の「製品」が、「８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行う前の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．７１Ｗ／ｋｇであり、上記８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った後の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．７３Ｗ／ｋｇである」ことと、本件特許発明１の「低鉄損の方向性ケイ素鋼板」が、「応力除去焼鈍を行う前と後の鉄損相対変化率ΔＰ１７／５０（％）が５％以下であり、ここで、 ［図：0001406747000009.jpg］ （上式中、Ｐ１７／５０は方向性ケイ素鋼板の鉄損値であり、単位はＷ／ｋｇであり、ここで、Ｐ１７／５０（焼鈍後）＞Ｐ１７／５０（焼鈍前）である）であること」について、以下対比する。 ａ 上記１（２）ア（イ）に摘記した甲４の【０００３】の記載を考慮すると、甲２発明の「歪み取り焼鈍」は、本件特許発明１の「応力除去焼鈍」に相当する。 ｂ 上記（１）ア（イ）に摘記した甲２の【０００２】の記載を考慮すると、甲２発明の「鉄損Ｗ１７／５０は、本件特許発明１の「方向性ケイ素鋼板の鉄損値」である「Ｐ１７／５０」に相当する。 ｃ 甲２発明の「製品」の歪み取り焼鈍を行う前の「鉄損Ｗ１７／５０」が「０．７１Ｗ／ｋｇ」であるのに対して、８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った後の上記「鉄損Ｗ１７／５０」が「０．７３Ｗ／ｋｇ」であり、歪み取り焼鈍後の鉄損Ｗ１７／５０が、歪み取り焼鈍前よりも大きくなっているのに加えて、焼鈍前後の鉄損相対変化率を上式に従って計算すると、（０．７３－０．７１）／０．７３≒２．７％となり、５％以下である。 ｄ したがって、甲２発明の「製品」が、「８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行う前の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．７１Ｗ／ｋｇであり、上記８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った後の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．７３Ｗ／ｋｇである」ことは、本件特許発明１の「低鉄損の方向性ケイ素鋼板」が、「応力除去焼鈍を行う前と後の鉄損相対変化率ΔＰ１７／５０（％）が５％以下であり、ここで、 ［図：0001406747000010.jpg］ （上式中、Ｐ１７／５０は方向性ケイ素鋼板の鉄損値であり、単位はＷ／ｋｇであり、ここで、Ｐ１７／５０（焼鈍後）＞Ｐ１７／５０（焼鈍前）である）であること」に相当するといえる。 （エ）そうすると、本件特許発明１と甲２発明とは、 「表面に複数の溝を有する低鉄損の方向性ケイ素鋼板であって、前記溝の幅が１０～６０μｍ、深さが５～４０μｍであり；応力除去焼鈍を行う前と後の鉄損相対変化率ΔＰ１７／５０（％）が５％以下であり、ここで、 ［図：0001406747000011.jpg］ （上式中、Ｐ１７／５０は方向性ケイ素鋼板の鉄損値であり、単位はＷ／ｋｇであり、ここで、Ｐ１７／５０（焼鈍後）＞Ｐ１７／５０（焼鈍前）である）である、低鉄損の方向性ケイ素鋼板。」の点で一致し、次の点で相違する。 ＜相違点２＞ 本件特許発明１の「低鉄損の方向性ケイ素鋼板」が表面に有する「溝」について、「隣接する溝同士間の間隔が１．０～１０ｍｍであ」るのに対して、甲２発明の「製品」に形成された「溝」については、隣接する溝同士の間隔がどの程度であるのか不明である点。 イ 相違点についての判断 （ア）上記（１）ア（エ）に摘記したとおり、甲２の【００３３】には、「鋼板に形成する溝は圧延方向に対して直角もしくは直角から４５度の範囲内でその間隔は２～１０ｍｍが鉄損低下の観点から好ましい。」との記載はあるものの、甲２発明の認定の基礎となった「実施例２」に記載された、「素材」として「Ａ（Ｂｉ添加）」を採用し、「製造方法」として、「Ｄ（従来法）」を採用した「比較例」については、溝の間隔が記載されておらず、本願優先権主張の日当時の技術常識を考慮しても、その溝の間隔が「１．０～１０ｍｍ」に包含される値であるとはいえない。 （イ）したがって、上記相違点２は実質的な相違点であるから、本件特許発明１が甲２に記載された発明であるとはいえない。 （ウ）次に、上記相違点２の容易想到性について検討する。 ａ 上記（ア）のとおり、甲２の【００３３】には、鉄損低下の観点から、溝の間隔を２～１０ｍｍとすることが好ましい旨の記載はあるものの、この記載は、「Ｂｉ添加による超磁束密度化と一次皮膜を形成しない鏡面化技術を効果的に組み合わせることにより、超磁束密度一方向性電磁鋼板を工場規模でより安定的に製造し、さらに磁区制御技術を組み合わせることにより従来にない超低鉄損一方向電磁鋼板を製造する」（甲２の【０００７】等参照）との技術を前提として、鉄損低下の観点からさらに好ましい態様について述べたものである。 ｂ そうすると、一次被膜を形成しない鏡面化を行っていない「比較例」に基づいて認定された上記甲２発明と、甲２の【００３３】の記載とは、前提を異にするものと言わざるを得ず、甲２の【００３３】に溝の間隔を２～１０ｍｍとすることが好ましい旨の記載があるからといって、これを甲２発明に適用する動機付けがあるとはいえない。 ｃ また、仮に、甲２の【００３３】の上記記載から、甲２発明の溝の間隔を「１．０～１０ｍｍ」とすることが動機付けられるとしても、甲２の【表２】に記載された実施例や他の比較例を参照すると、甲２発明の溝の間隔を１．０～１０ｍｍに設定した結果、歪み取り焼鈍後の鉄損Ｗ１７／５０＞歪み取り焼鈍前の鉄損Ｗ１７／５０の関係が維持されるか否かは不明と言わざるを得ない。 ｄ そして、甲２の他の記載事項や、上記１（２）ア、イに摘記した甲４、甲５の記載事項を考慮しても、甲２発明において、歪み取り焼鈍後の鉄損Ｗ１７／５０＞歪み取り焼鈍前の鉄損Ｗ１７／５０の関係を有していることについての技術的意義は不明であるから、当該関係を維持しつつ、その溝の間隔を「１．０～１０ｍｍ」とする動機付けがあるとはいえない。 ｅ したがって、甲２発明において、上記相違点２に係る特定事項を備えようとすることは、当業者が容易に想到し得たこととはいえない。 （エ）よって、本件特許発明１によって奏される効果について検討するまでもなく、本件特許発明１は、甲２に記載された発明、及び甲４、甲５の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （３）本件特許発明２、３について 本件特許発明２、３は、本件特許発明１の発明特定事項をすべて備えたものであるから、上記（２）イ（イ）、（エ）のとおり、本件特許発明１が甲２に記載された発明であるとはいえず、甲２に記載された発明、及び甲４、甲５の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない以上、同様に、甲２に記載された発明であるとはいえず、甲２に記載された発明、及び甲４、甲５の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （４）小括 したがって、本件特許発明１～３は、特許法第２９条第１項第３号に該当するとはいえず、また、同法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものともいえないから、申立理由１－２、２－２によっては、本件特許の請求項１～３に係る特許を取り消すことはできない。 ３ 申立理由１－３（新規性）、申立理由２－３（進歩性）について （１）甲３の記載事項、及び甲３に記載された発明 ア 甲３の記載事項 本願の優先日前に公知となった甲３には、「磁束密度が高い低鉄損鏡面一方向性電磁鋼板の製造方法」（発明の名称）に関して、以下の記載がある。 （ア）「【請求項１】 重量％で、Ｃ：０．０２～０．１％、 Ｓｉ：２．０～４．８％、 酸可溶性Ａｌ：０．０１２～０．０５０％、 Ｎ：０．００３０～０．０１５０％、 Ｂｉ：０．０００５～０．０３％を基本成分とし、残部はＦｅおよび不可避的不純物をからなる溶鋼を鋳造し、熱間圧延し、６５～９５％の最終強冷延を含む１回あるいは中間焼鈍を介入する２回以上の冷間圧延により最終板厚とし、一次再結晶を兼ねた脱炭焼鈍を施し、脱炭焼鈍から二次再結晶仕上焼鈍の工程間で必要に応じて窒化処理を行い、二次再結晶仕上焼鈍を行う工程からなる一方向性電磁鋼板の製造方法において、鋼板表面に、ＭｇＯ１００重量部に対し、Ｌｉ，Ｋ，Ｎａ，Ｂａ，Ｃａ，Ｍｇ，Ｚｎ，Ｆｅ，Ｚｒ，Ｓｎ，Ｓｒ，Ａｌ等の塩化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、硫化物の中から選ばれる１種または２種以上を２～３０重量部で添加した焼鈍分離剤を塗布し、二次再結晶仕上焼鈍することを特徴とする磁束密度の高い鏡面一方向性電磁鋼板の製造方法。 ・・・ 【請求項７】 請求項１記載の鋼板に圧延方向に対して直角もしくは直角から４５度の範囲内で間隔２～１０mmで幅１０～３００μｍ、深さ５～５０μｍの範囲で連続的、不連続または点状の溝あるいは局部的な溝を形成し、併せてコーティング処理による張力皮膜を形成することにより磁区細分化させることを特徴とする鉄損の低い鏡面一方向性電磁鋼板の製造方法。」 （イ）「【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は主として変圧器その他の電気機器等の鉄心として利用される方向性電磁鋼板の製造方法に関するものである。特に、｛１１０｝＜００１＞方位すなわちゴス方位を高度に発達させたＢｉ添加高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法とその表面の鏡面化手段、及び磁区細分化手段を効果的に導入することにより、鉄損特性の向上を工業的に低コストで達成する製造方法を開示するものである。 【０００２】 【従来の技術】一方向性電磁鋼板は、軟磁性材料として主にトランスその他の電気機器の鉄心材料に使用されているもので、磁気特性としては励磁特性と鉄損特性が良好でなくてはならない。この励磁特性を表す指標として、通常は磁束密度Ｂ8 （磁場の強さ８００Ａ／ｍにおける磁束密度）が用いられ、鉄損特性を表す指標として、Ｗ17/50 （５０Hzで１．７Ｔまで磁化させたときの単位重量あたりの鉄損）が用いられる。」 （ウ）「【０００６】これに対して本出願人は、工業的規模で安価に鋼板表面を鏡面化する方法を開発した（例えば特開平５－２２２４８９号公報、特開平５－２９９２２８号公報、特開平５－３２０７７０号公報）。これらは、脱炭焼鈍後の鋼板表面にＬｉ，Ｋ，Ｎａ，Ｂａ，Ｃａ，Ｍｇ，Ｚｎ，Ｆｅ，Ｚｒ，Ｓｎ，Ｓｒ，Ａｌ等の塩化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、硫化物の中から選ばれる１種または２種以上を２～３０重量部で添加した焼鈍分離剤を塗布し二次再結晶仕上焼鈍を行うことにより二次再結晶仕上焼鈍前段で鋼板表面に適度の薄い一次皮膜が形成され二次再結晶に必要なインヒビターの変質を防止する。次いで一次皮膜の形成抑制と追加酸化が防止され、昇温後段に皮膜層中のＦｅのエッチング反応により一次皮膜を分解し、その後の高温焼鈍で表面をサーマルエッチングし表面化する方法である。すなわち、鋼板表面の鏡面化と高磁束密度の二次再結晶形成を両立させるものである。これらの技術は、磁区細分化処理のために鋼板表面に機械加工を加える際に歯車ロール等の磨耗が少ないため、主に巻鉄心トランス用の磁区制御材製造の低コストに適している。 【０００７】しかるに、これら磁区制御、鏡面化等の周辺技術の成熟に伴い、高磁束密度電磁鋼板を用いた低鉄損化が容易となるとともに、超低鉄損電磁鋼板を狙うには更なる高磁束密度を有する素材が必須条件として期待されてきている。これに対して本発明者らは、一方向性電磁鋼板の溶鋼中にＢｉを含有させることにより、工業的手段により磁束密度を従来の高磁束密度一方向性電磁鋼板レベルから超高磁束密度一方向性電磁鋼板レベルまで高める方法を特開平６－８８１４号公報、特開平６－８８１７３号公報等で提案した。この方法により初めて磁束密度Ｂ8 が１．９６Ｔを越える超高磁束密度一方向性電磁鋼板が工場規模で生産できるようになったが、従来の一次皮膜を形成する条件のなかで工場実験を繰り返した結果、コイルの全域に渡って安定に超高磁束密度を得ることは困難であった。一般に一次皮膜形成条件が磁気特性に大きな影響を及ぼすことは知られているが、Ｂｉ添加材の場合はその影響が顕著であることが想定された。そこで、このＢｉ添加による超磁束密度化と一次皮膜を形成しない鏡面化技術を効果的に組み合わせることにより、超磁束密度一方向性電磁鋼板を工場規模でより安定的に製造し、さらに磁区制御技術を組み合わせることにより従来にない超低鉄損一方向電磁鋼板を製造することが、本発明の狙いである。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のＢｉ添加技術と鏡面化技術とを有機的に組み合わせることにより極めて磁束密度の高い超高磁束密度一方向性鏡面電磁鋼板素材を工場的規模で安定に製造することを可能とし、さらに磁区制御技術を組み合わせることにより極めて鉄損の低い超低鉄損一鏡面方向性電磁鋼板を低コストで製造することを目的とする。」 （エ）「【００３３】二次再結晶仕上焼鈍後引き続き余分の焼鈍分離剤を除去後、コイル巻きぐせ等を矯正するための連続張力焼鈍を行い、同時に絶縁皮膜コーティングを塗布、焼き付けする。このとき必要に応じて、該鋼板にレーザー照射、機械的溝形成、張力被膜コーティング等の磁区細分化処理を施す。本発明はＢｉ添加により超高磁束密度化を行うと同時に二次再結晶粒径を大きくするものであるため、鉄損特性を改善する意味から磁区細分化処理は有効である。磁区細分化の方法は特に限定する必要はない。 【００３４】局部的な歪みを導入することで磁区細分化を行う場合、例えば特公昭５７－２２５２号公報等に記載されるレーザー光照射を行う方法や、特開昭６２－１５１５１１号公報、特公平６－４５８２４号公報等に記載されるプラズマ炎照射を行う方法等を用いれば良い。局部的な溝を形成することで磁区細分化を行う場合、歯車ロール法（例えば特公平４－４８８４７号公報）や金型プレス法（例えば特公平６－６３０３７号公報）等の機械的な塑性加工による方法、フォトエッチング法（例えば特公平５－６９２８４号公報）やレジストインキエッチング法（特公平２－４６６７３号公報、特公平３－６９９６８号公報）等の化学エッチングや電解エッチングを用いる方法などを採用すればよい。鋼板に形成する溝は圧延方向に対して直角もしくは直角から４５度の範囲内でその間隔は２～１０mmが鉄損低下の観点から好ましい。溝の形状は連続的、不連続または点状のいずれでも良い。溝の幅、及び深さはそれぞれ１０～３００μｍ、５～５０μｍの範囲が鉄損低下の観点から好ましい。溝の幅を狭くすると曲率半径の小さな曲げ加工を施す際に折れの起点となりやすい。また溝の幅を広くすると磁束密度が低下してしまう。溝の深さも同様にあまり深くすると磁束密度が低下してしまう。また、このような局部的な溝を形成する工程は、冷延以降の工程であればいずれの工程でも良い。」 （オ）「【００３９】（実施例２）重量％で、Ｓｉ：３．３％、Ｍｎ：０．１％、Ｃ：０．０５％、Ｓ：０．００７％、酸可溶性Ａｌ：０．０３％、Ｎ：０．００８％、Ｓｎ：０．０５％を基本成分とし、（Ａ：Ｂｉ添加）Ｂｉ：０．０１％と（Ｂ：従来法）Ｂｉ：０％の２水準の珪素鋼を溶製し、それぞれ鋳片に分注鋳造後、１２００℃に加熱し、抽出後直ちに２．３mm板厚まで熱間圧延した。酸洗し、１．４mmまで冷延した冷延板を１１２０℃の温度で３０秒９００℃で９０秒焼鈍し、７５０℃まで空冷後８０℃の水中に急冷し後、最終板厚０．１５mmに冷延した。この冷延板を窒素と水素の混合ガス中において酸化度０．５で８３０℃の温度で７０秒焼鈍し一次再結晶させた。次いでアンモニア雰囲気中で焼鈍することにより、窒素量を０．０２５％に増加して、インヒビターの強化を行った。 【００４０】これらの鋼板をその後、（Ｃ：鏡面化）ＭｇＯ＋ＳｎＣｌ2 （１０重量部）、及び（Ｄ：従来法）ＭｇＯの水スラリーを塗布した後鋼板を積層し、低いガス流量のもとでＮ2 の５０％分圧で二次再結晶仕上焼鈍を施した。これら仕上焼鈍後の試料に圧延方向と直角方向に、幅３０μｍ、深さ１０μｍの溝をフォトエッチング法で形成した後、アルミナ・ゾルとホウ酸を主成分とするコーティング液を塗布して８７０℃で２分間焼き付けた。これらの試料の磁気特性を測定した後、更に８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った。得られた製品の磁気特性を表２に示す。 【００４１】 【表２】 ［図：0001406747000012.jpg］ 」 イ 甲３に記載された発明 上記ア（ア）～（オ）に摘記した事項を総合勘案し、特に、「実施例２」に記載された、「素材」として「Ａ（Ｂｉ添加）」を採用し、「製造方法」として、「Ｄ（従来法）」を採用した「比較例」に着目すると、甲３には、次の発明が記載されていると認められる。 「重量％で、Ｓｉ：３．３％、Ｍｎ：０．１％、Ｃ：０．０５％、Ｓ：０．００７％、酸可溶性Ａｌ：０．０３％、Ｎ：０．００８％、Ｓｎ：０．０５％を基本成分とし、Ｂｉ：０．０１％を添加して珪素鋼を溶製し、 その鋳片に分注鋳造後、１２００℃に加熱し、抽出後直ちに２．３mm板厚まで熱間圧延し、 その後、酸洗し、１．４mmまで冷延した冷延板を１１２０℃の温度で３０秒９００℃で９０秒焼鈍し、７５０℃まで空冷後８０℃の水中に急冷した後、最終板厚０．１５mmに冷延し、この冷延板を窒素と水素の混合ガス中において、酸化度０．５で８３０℃の温度で７０秒焼鈍し一次再結晶させ、次いでアンモニア雰囲気中で焼鈍することにより、窒素量を０．０２５％に増加して、インヒビターの強化を行い、 その後、（Ｄ：従来法）ＭｇＯの水スラリーを塗布した後鋼板を積層し、低いガス流量のもとでＮ２の５０％分圧で二次再結晶仕上げ焼鈍を施し、この仕上焼鈍後の試料に圧延方向と直角方向に、幅３０μｍ、深さ１０μｍの溝をフォトエッチング法で形成した後、アルミナ・ゾルとホウ酸を主成分とするコーテイング液を塗布して８７０℃で２分間焼き付けて得られた製品であって、 ８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行う前の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．７４Ｗ／ｋｇであり、 上記８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った後の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．７６Ｗ／ｋｇである、 製品。」（以下、「甲３発明」という。） （２）本件特許発明１について ア 本件特許発明１と甲３発明との対比 本件特許発明１と甲３発明とを対比する。 （ア）甲３発明の「製品」は、溶製された「珪素鋼」から、鋳造、熱間圧延、酸洗、冷延、焼鈍、急冷、冷延の各工程を経て、「最終板厚０．１５mm」の「冷延板」とし、これを焼鈍後、積層、仕上げ焼鈍し、フォトエッチング法で「圧延方向と直角方向に、幅３０μｍ、深さ１０μｍの溝」を形成し、さらに「アルミナ・ゾルとホウ酸を主成分とするコーテイング液を塗布して８７０℃で２分間焼き付けて得られた」ものであるところ、甲３の【０００１】、【０００２】、【０００７】、【００３３】、【００３４】の記載からすると、これは、本件特許発明１の「表面に複数の溝を有する低鉄損の方向性ケイ素鋼板」に相当する。 （イ）また、甲３発明の「製品」に形成された「圧延方向と直角方向に、幅３０μｍ、深さ１０μｍの溝」と、本件特許発明１の「低鉄損の方向性ケイ素鋼板」が有する「溝の幅が１０～６０μｍ、深さが５～４０μｍであり、隣接する溝同士の間隔が１．０～１０ｍｍであ」ることとは、「溝の幅が１０～６０μｍ、深さが５～４０μｍ」である限りにおいて一致する。 （ウ）さらに、甲３発明の「製品」が、「８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行う前の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．７４Ｗ／ｋｇであり、上記８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った後の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．７６Ｗ／ｋｇである」ことと、本件特許発明１の「低鉄損の方向性ケイ素鋼板」が、「応力除去焼鈍を行う前と後の鉄損相対変化率ΔＰ１７／５０（％）が５％以下であり、ここで、 ［図：0001406747000013.jpg］ （上式中、Ｐ１７／５０は方向性ケイ素鋼板の鉄損値であり、単位はＷ／ｋｇであり、ここで、Ｐ１７／５０（焼鈍後）＞Ｐ１７／５０（焼鈍前）である）であること」について、以下対比する。 ａ 上記１（２）ア（イ）に摘記した甲４の【０００３】の記載を考慮すると、甲３発明の「歪み取り焼鈍」は、本件特許発明１の「応力除去焼鈍」に相当する。 ｂ 上記（１）ア（イ）に摘記した甲３の【０００２】の記載を考慮すると、甲３発明の「鉄損Ｗ１７／５０は、本件特許発明１の「方向性ケイ素鋼板の鉄損値」である「Ｐ１７／５０」に相当する。 ｃ 甲３発明の「製品」の歪み取り焼鈍を行う前の「鉄損Ｗ１７／５０」が「０．７４Ｗ／ｋｇ」であるのに対して、８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った後の上記「鉄損Ｗ１７／５０」が「０．７６Ｗ／ｋｇ」であり、歪み取り焼鈍後の鉄損Ｗ１７／５０が、歪み取り焼鈍前よりも大きくなっているのに加えて、焼鈍前後の鉄損相対変化率を上式に従って計算すると、（０．７６－０．７４）／０．７６≒２．６％となり、５％以下である。 ｄ したがって、甲３発明の「製品」が、「８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行う前の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．７４Ｗ／ｋｇであり、上記８００℃で４時間の歪取り焼鈍を行った後の磁束密度Ｂ８が１．８７Ｔ、鉄損Ｗ１７／５０が０．７６Ｗ／ｋｇである」ことは、本件特許発明１の「低鉄損の方向性ケイ素鋼板」が、「応力除去焼鈍を行う前と後の鉄損相対変化率ΔＰ１７／５０（％）が５％以下であり、ここで、 ［図：0001406747000014.jpg］ （上式中、Ｐ１７／５０は方向性ケイ素鋼板の鉄損値であり、単位はＷ／ｋｇであり、ここで、Ｐ１７／５０（焼鈍後）＞Ｐ１７／５０（焼鈍前）である）であること」に相当するといえる。 （エ）そうすると、本件特許発明１と甲３発明とは、 「表面に複数の溝を有する低鉄損の方向性ケイ素鋼板であって、前記溝の幅が１０～６０μｍ、深さが５～４０μｍであり；応力除去焼鈍を行う前と後の鉄損相対変化率ΔＰ１７／５０（％）が５％以下であり、ここで、 ［図：0001406747000015.jpg］ （上式中、Ｐ１７／５０は方向性ケイ素鋼板の鉄損値であり、単位はＷ／ｋｇであり、ここで、Ｐ１７／５０（焼鈍後）＞Ｐ１７／５０（焼鈍前）である）である、低鉄損の方向性ケイ素鋼板。」の点で一致し、次の点で相違する。 ＜相違点３＞ 本件特許発明１の「低鉄損の方向性ケイ素鋼板」が表面に有する「溝」について、「隣接する溝同士間の間隔が１．０～１０ｍｍであ」るのに対して、甲３発明の「製品」に形成された「溝」については、隣接する溝同士の間隔がどの程度であるのか不明である点。 イ 相違点についての判断 （ア）上記（１）ア（エ）に摘記したとおり、甲３の【００３４】には、「鋼板に形成する溝は圧延方向に対して直角もしくは直角から４５度の範囲内でその間隔は２～１０ｍｍが鉄損低下の観点から好ましい。」との記載はあるものの、甲３発明の認定の基礎となった「実施例２」に記載された、「素材」として「Ａ（Ｂｉ添加）」を採用し、「製造方法」として、「Ｄ（従来法）」を採用した「比較例」については、溝の間隔が記載されておらず、本願優先権主張の日当時の技術常識を考慮しても、その溝の間隔が「１．０～１０ｍｍ」に包含される値であるとはいえない。 （イ）したがって、上記相違点３は実質的な相違点であるから、本件特許発明１が甲３に記載された発明であるとはいえない。 （ウ）次に、上記相違点３の容易想到性について検討する。 ａ 上記（ア）のとおり、甲３の【００３４】には、鉄損低下の観点から、溝の間隔を２～１０ｍｍとすることが好ましい旨の記載はあるものの、この記載は、「Ｂｉ添加による超磁束密度化と一次皮膜を形成しない鏡面化技術を効果的に組み合わせることにより、超磁束密度一方向性電磁鋼板を工場規模でより安定的に製造し、さらに磁区制御技術を組み合わせることにより従来にない超低鉄損一方向電磁鋼板を製造する」（甲３の【０００７】等参照）との技術を前提として、鉄損低下の観点からさらに好ましい態様について述べたものである。 ｂ そうすると、一次被膜を形成しない鏡面化を行っていない「比較例」に基づいて認定された上記甲３発明と、甲３の【００３４】の記載とは、前提を異にするものと言わざるを得ず、甲３の【００３４】に溝の間隔を２～１０ｍｍとすることが好ましい旨の記載があるからといって、これを甲３発明に適用する動機付けがあるとはいえない。 ｃ また、仮に、甲３の【００３４】の上記記載から、甲３発明の溝の間隔を「１．０～１０ｍｍ」とすることが動機付けられるとしても、甲３の【表２】に記載された実施例や他の比較例を参照すると、甲３発明の溝の間隔を１．０～１０ｍｍに設定した結果、歪み取り焼鈍後の鉄損Ｗ１７／５０＞歪み取り焼鈍前の鉄損Ｗ１７／５０の関係が維持されるか否かは不明と言わざるを得ない。 ｄ そして、甲３の他の記載事項や、上記１（２）ア、イに摘記した甲４、甲５の記載事項を考慮しても、甲３発明において、歪み取り焼鈍後の鉄損Ｗ１７／５０＞歪み取り焼鈍前の鉄損Ｗ１７／５０の関係を有していることについての技術的意義は不明であるから、当該関係を維持しつつ、その溝の間隔を「１．０～１０ｍｍ」とする動機付けがあるとはいえない。 ｅ したがって、甲３発明において、上記相違点３に係る特定事項を備えようとすることは、当業者が容易に想到し得たこととはいえない。 （エ）よって、本件特許発明１によって奏される効果について検討するまでもなく、本件特許発明１は、甲３に記載された発明、及び甲４、甲５の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （３）本件特許発明２、３について 本件特許発明２、３は、本件特許発明１の発明特定事項をすべて備えたものであるから、上記（２）イ（イ）、（エ）のとおり、本件特許発明１が甲３に記載された発明であるとはいえず、甲３に記載された発明、及び甲４、甲５の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない以上、同様に、甲３に記載された発明であるとはいえず、甲３に記載された発明、及び甲４、甲５の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （４）小括 したがって、本件特許発明１～３は、特許法第２９条第１項第３号に該当するとはいえず、また、同法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものともいえないから、申立理由１－３、２－３によっては、本件特許の請求項１～３に係る特許を取り消すことはできない。 ４ 申立理由３（サポート要件）について （１）本件特許明細書の記載事項 本願の願書に添付した明細書（以下、「本件特許明細書」という。）には、以下の記載がある。 ア 「【技術分野】 【０００１】 本発明は、鋼種およびその製造方法に関し、特に、ケイ素鋼およびその製造方法に関する。」 イ 「【発明が解決しようとする課題】 【００１１】 本発明の目的の一つは、応力除去焼鈍の過程で磁区細分化効果が消失せず、多くの残留応力を導入することがなく、応力除去焼鈍を経ずにそのまま積層鉄心変圧器の製造に特に適し、巻鉄心変圧器の製造にも適用できる低鉄損の方向性ケイ素鋼を提供することである。 【課題を解決するための手段】 【００１２】 上記発明の目的に基づき、本発明は、表面に複数の溝を有する低鉄損の方向性ケイ素鋼であって、前記溝の幅が１０～６０μｍ、深さが５～４０μｍであり、隣接する溝同士間の間隔が１～１０ｍｍであることを特徴とする低鉄損の方向性ケイ素鋼を提供する。 【００１３】 本発明に係る技術案では、ケイ素鋼板表面に一連の溝を形成することにより、磁区を細分化し、且つ焼鈍により磁区の存在が変わることがないため、鉄損低減効果が応力焼鈍過程で消失しないので、巻鉄心に特に適用する。」 ウ 「【００１７】 本願発明者は、方向性ケイ素鋼の鉄損を効果的に低減させるために、大量の実験や検討を行ったところ、溝幅や深さが鉄損に対して影響を及ぼすことを見出した。溝の深さが５μｍ未満では、ケイ素鋼板の鉄損が著しく改善されず、溝の深さが４０μｍを超えると、溝の領域に生じる漏れ磁束が多すぎ、磁束密度が著しく低下し、ケイ素鋼の導磁能に影響を及ぼす。一方、隣接する溝同士間の間隔が１ｍｍ未満であると、溝が密集し過ぎるため、方向性ケイ素鋼の磁束密度が著しく低減し、隣接する溝同士間の間隔が１０ｍｍを超えると、磁区細分化効果に影響される領域が小さくなり過ぎ、方向性ケイ素鋼の鉄損が著しく改善されない。 【００１８】 また、本発明に係る低鉄損の方向性ケイ素鋼板を積層鉄心変圧器や巻鉄心変圧器の製造にそのまま応用することができるようにするためには、溝幅を厳密に制御する必要がある。溝幅が６０μｍを超えると、前述した低鉄損の方向性ケイ素鋼の耐食性が劣化し、変圧器の使用環境において錆びで導通のリスクがある。溝幅が１０μｍ未満であると、溝の磁区細分化に対する効果が限られ、方向性ケイ素鋼の鉄損を低減させることができず、且つ幅が小さすぎるため、生産プロセスの難易度が大きくなる。 【００１９】 そこで、本発明に係る低鉄損の方向性ケイ素鋼では、溝の寸法について、前記溝幅を１０～６０μｍ、深さを５～４０μｍ、隣接する溝同士間の間隔を１～１０ｍｍに限定する。 【００２０】 なお、本発明に係る技術案において、溝は、耐熱スクライビング技術により形成される。耐熱スクライビング技術とは、一定の手段、例えば化学的浸食や機械的圧力によって鋼板表面に溝を形成し、溝に自由磁極を生じさせて静磁気エネルギーが高くなり磁区幅が減少することにより、磁区が細分化され、鉄損が低下することである。焼鈍により溝が変わることがないため、鉄損低減効果が応力除去焼鈍過程で消失することはないので、耐熱スクライビング技術は巻鉄心に特に適している。」 エ 「【００２５】 さらに、本発明に係る低鉄損の方向性ケイ素鋼において、応力除去焼鈍を行う前と後の鉄損相対変化率ΔＰ17/50（％）が５％以下であり、ここで、 ［図：0001406747000016.jpg］ 上式中、Ｐ17/50が方向性ケイ素鋼板の鉄損値であり、単位はＷ／ｋｇである。 【００２６】 発明者らは、試験と詳細な検討を重ねた結果、耐熱スクライビング技術による材料への焼灼により溝を形成するが、ΔＰ17/50（％）が５％以下であると、焼灼による熱拡散および応力範囲が小さく、エネルギーの有効利用率が高く、得られた低鉄損の方向性ケイ素鋼の鉄損の改善率が所望の溝幅、深さおよび間隔要求に達することができるため、鉄損の改善率は６％以上に達することができ、巻鉄心変圧器の製造に適用するとともに、応力除去焼鈍を経ずに積層鉄心変圧器の製造にそのまま応用することにも適していることを見出した。ΔＰ17/50（％）が５％を超えると、このとき耐熱スクライビング技術による材料への焼灼エネルギーが拡散により損失が大きくなり、材料内部の応力が過大となるため、形成された溝が小さく、方向性ケイ素鋼の鉄損が応力除去焼鈍前に低下したとしても、焼鈍後はもとのレベルまで劣化してしまい、巻鉄心変圧器の製造に適用しない。」 オ 「【００４３】 実施例Ａ１～Ａ１９および比較例Ｂ１～Ｂ１３ 実施例Ａ１～Ａ１９の低鉄損の方向性ケイ素鋼及び比較例Ｂ１～Ｂ１３の従来のケイ素鋼は以下の工程により製造される。 （１）製鉄、製鋼、連続鋳造、熱間圧延、一次冷間圧延を経て厚さ０．２３～０．２７ｍｍまで圧延する。ここで、実施例Ａ１～Ａ１５および比較例Ｂ１～Ｂ１０の厚みは０．２３ｍｍ、実施例Ａ１６～Ａ１９および比較例Ｂ１１～Ｂ１３の厚みは０．２７ｍｍであり、８５０℃の脱炭焼鈍プロセスを経て、表面酸化被膜を形成した後、その表面にＭｇＯ焼鈍分離剤を塗布し、スチールコイルに巻き取った後、１２００℃の高温焼鈍条件で２０時間保持し、次にその表面に絶縁コーティングを塗布し、最終焼鈍を行ってケイ素鋼板を形成する。 （２）レーザーにより各実施例および比較例のケイ素鋼板表面にスクライビングを行い、前記溝を形成する。具体的なプロセスパラメータは表１に示す。 【００４４】 表１は、各実施例の低鉄損配向用鋼の工程（２）における具体的なプロセスパラメータを示す。 【００４５】 【表１ー１】 ［図：0001406747000017.jpg］ 【００４６】 【表１ー２】 ［図：0001406747000018.jpg］ 【００４７】 実施例Ａ１－Ａ３の低鉄損の方向性ケイ素鋼と比較例Ｂ１－Ｂ２の従来のケイ素鋼を、容量３１５ｋＶＡの一次エネルギー効率の巻鉄心配電変圧器に製造し、鉄心設計重量をいずれも４３０ｋｇとし、その無負荷損および負荷損を測定した結果を表２に示す。 【００４８】 【表２】 ［図：0001406747000019.jpg］ 【００４９】 ［図：0001406747000020.jpg］ 【００５０】 表２から明らかなように、本願実施例Ａ１～Ａ３のΔＰ17/50（％）はいずれも５％以下であり、いずれもスクライビングによる鉄損改善率が６％を超え、作製された配電変圧器の無負荷損が３４０Ｗ未満であり、負荷損が３０６５Ｗ以下である。一方、比較例Ｂ１～Ｂ２のΔＰ17/50（％）が５％を超え、スクライビングによる鉄損改善率が６％未満となり、配電変圧器に製造された後の無負荷損および負荷損がいずれも本願実施例Ａ１～Ａ３よりも高くなった。」 （２）サポート要件についての当審の判断 ア 上記（１）イに摘記した本件特許明細書の【００１１】の記載からすると、本件特許発明が解決しようとする課題は、「応力除去焼鈍の過程で磁区細分化効果が消失せず、多くの残留応力を導入することがなく、応力除去焼鈍を経ずにそのまま積層鉄心変圧器の製造に特に適し、巻鉄心変圧器の製造にも適用できる低鉄損の方向性ケイ素鋼を提供すること」にあると認められる。 イ そして、上記（１）イ～エに摘記した本件特許明細書の【００１２】、【００１３】、【００１７】～【００２０】、【００２５】、【００２６】の記載からすると、（ア）表面に複数の溝を有する低鉄損の方向性ケイ素鋼であって、前記溝の幅が１０～６０μｍ、深さが５～４０μｍであり、隣接する溝同士間の間隔が１～１０ｍｍである低鉄損の方向性ケイ素鋼を採用することにより、鉄損低減効果が応力焼鈍過程で消失せず、巻鉄心に特に適用可能なものとするとともに、（イ）ΔＰ17/50（％）を５％以下とすることにより、材料内部の応力が過大となることなく、鉄損の改善率を６％以上とすることを可能とし、そのことによって、巻鉄心変圧器の製造に適用するとともに、応力除去焼鈍を経ずに積層鉄心変圧器の製造にそのまま応用することも可能であって、上記アの課題が解決できることを、当業者であれば十分認識できるといえる。 また、上記（１）オに摘記した本件明細書の【００４３】～【００５０】に記載された実施例と比較例の対比によっても、上記（ア）、（イ）の特徴をいずれも備えた実施例によって、上記アの課題が解決されていることが実証されている。 ウ 一方で、上記第２のとおり、本件特許発明１は、表面に複数の溝を有する低鉄損の方向性ケイ素鋼において、溝の幅が１０～６０μｍ、深さが５～４０μｍであり、隣接する溝同士間の間隔が１～１０ｍｍであることと、ΔＰ17/50（％）を５％以下とすることとを、発明特定事項として含むものである。 エ そうすると、本件特許発明１は、発明の詳細な説明において、上記アの課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものとはいえない。 オ また、本件特許発明２、３は、本件特許発明１の発明特定事項をすべて含むものであるから、上記エと同様に、発明の詳細な説明において、上記アの課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものとはいえない。 カ したがって、本件特許の請求項１～３の記載は、特許を受けようとする発明が発明の詳細な説明に記載したものであり、特許法第３６条第６項第１号に適合するものといえる。 （３）申立人の主張について ア 申立人は、特許異議申立書の第２３頁下から１０行～第２７頁第２行において、溝形成の方法がレーザースクライビングに限定されていない本件特許発明１～３には、レーザースクライビングで溝を形成しない態様も含まれるところ、本件特許明細書の実施例を見ても、レーザースクライビング以外の方法（例えば、エッチング法）によって溝を形成した場合に、鉄損Ｐ１７／５０について、「Ｐ１７／５０（焼鈍後）＞Ｐ１７／５０（焼鈍前）」となり、かつ鉄損相対変化率ΔＰ１７／５０を５％以下に抑制できることやその効果が実証されていないこと、及び甲１～甲３、甲６、甲７の記載から、レーザースクライビングにより溝を形成しない場合であっても、鉄損相対変化率ΔＰ１７／５０が５％以下に抑制されることがあり得ることを根拠として、本件特許発明１～３は、発明の詳細な説明において「発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲」を超えている主張している。 イ そこで、上記アの主張について検討する。 （ア）確かに、本件特許明細書には、レーザースクライビング以外の方法によって溝を形成した実施例の記載はないものの、上記（２）イに説示したとおり、本件特許明細書の【００１２】、【００１３】、【００１７】～【００２０】、【００２５】、【００２６】の記載を参照すれば、本件特許発明１～３によって、上記（２）アの課題が解決することは、当業者であれば十分認識できるといえる。 （イ）また、申立人は、甲１～甲３、甲６、甲７に言及しつつ、レーザースクライビングにより溝を形成しない場合であっても、鉄損相対変化率ΔＰ１７／５０が５％以下に抑制されることがあり得る旨主張するが、この主張によって、レーザースクライビング以外の方法で溝を形成した態様も含み得る本件特許発明１～３によって、上記（２）アの課題が解決されないのではないかとの疑義が生じるとはいえない。 （ウ）したがって、上記アの主張は採用しない。 （４）小括 以上のとおりであるから、申立理由３によっては、本件特許の請求項１～３に係る特許を取り消すことはできない。 第５ むすび 以上のとおり、申立人による特許異議の申立ての理由によっては、本件特許の請求項１～３に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に本件特許の請求項１～３に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。