2023-700807

特許第７２２２９５１号発明「表面処理銅箔」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７２２２９５１号の請求項１～１４に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第７２２２９５１号の請求項１～１４に係る特許についての出願は、令和２年７月２９日（パリ条約による優先権主張２０１９年８月１２日、米国）の出願であって、令和５年２月７日にその特許権の設定登録がされ、同年２月１５日に特許掲載公報が発行された。その後、その特許に対し、令和５年８月４日に特許異議申立人神尾喜代子（以下「申立人」という。）により、その請求項１～１４に対して本件特許異議の申立がされたものである。 それ以降の経緯は以下のとおりである。 令和５年１１月１０日付け 取消理由通知書 令和６年 ２月 ９日 意見書（特許権者） 第２ 本件発明 請求項１～１４に係る発明（以下「本件発明１」等といい、これらを総称して「本件発明」という場合がある。）は、それぞれ、本件の特許請求の範囲の請求項１～１４に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 「【請求項１】 （ａ）銅箔と、 （ｃ）前記（ａ）銅箔に設けられた有機層と、 （ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｓｎまたはそれらの混合物を含むバリア層と、 を含み、 前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、 前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、 前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であり、 前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、 前記一つまたは複数の有機分子は、ポルフィリンの亜鉛錯体、［（アミノエチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、１－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、トリアジントリチオール、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる、 クロムフリー表面処理銅箔。 【請求項２】 前記（ａ）銅箔の片面または両面にノジュールを有する、請求項１に記載のクロムフリー表面処理銅箔。 【請求項３】 前記（ａ）銅箔の厚さは、１μｍ～５０μｍである、請求項１に記載のクロムフリー表面処理銅箔。 【請求項４】 前記バリア層の厚さは、０．２μｍ～１００μｍである、請求項１に記載のクロムフリー表面処理銅箔。 【請求項５】 第二のバリア層および第二の有機層をさらに含み、 前記バリア層と前記第二のバリア層は、前記銅箔の両面に設けられ、 前記有機層と前記第二の有機層は、前記バリア層に設けられる、請求項１に記載のクロムフリー表面処理銅箔。 【請求項６】 前記（ｃ）有機層は、有機層の総重量に基づいて、４０正規化原子％以下のＯ元素を含む、請求項１に記載のクロムフリー表面処理銅箔。 【請求項７】 ＺｎとＮｉの重量比（Ｚｎ／Ｎｉ）は、０．８～８の間にある、請求項１に記載のクロムフリー表面処理銅箔。 【請求項８】 前記（ａ）銅箔は、ノジュールを含まず、表面粗さ（Ｒｚ）が０．５μｍ～２．５μｍである沈積面を有する、請求項１に記載のクロムフリー表面処理銅箔。 【請求項９】 下式で示す劣化率は２０％未満である、請求項１に記載のクロムフリー表面処理銅箔。 【数１】 ［図：0001409132000001.jpg］ 【請求項１０】 前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計が下記関係を満たす、請求項１に記載のクロムフリー表面処理銅箔。 ５正規化原子％＜（Ｎ＋Ｓ＋Ｓｉ）≦３２．８正規化原子％ 【請求項１１】 前記有機層におけるＣの含有量が下記関係を満たす、請求項１に記載のクロムフリー表面処理銅箔。 ３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５１．４正規化原子％ 【請求項１２】 前記有機層におけるＣの含有量が下記関係を満たす、請求項１に記載のクロムフリー表面処理銅箔。 ４３．９正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％ 【請求項１３】 前記有機層におけるＯ元素に対するＳｉ元素の比率が、１１％～３０％の間にある、請求項１に記載のクロムフリー表面処理銅箔。 【請求項１４】 樹脂基板と請求項１に記載の表面処理銅箔とを含む、プリント回路板。」 第３ 取消理由の概要 １ 取消理由通知書に記載した取消理由 本件の請求項１～１４に係る特許に対して、当審が令和５年１１月１０日付けで特許権者に通知した取消理由の概要は、次のとおりである。 （１）取消理由１（明確性） 特許請求の範囲の記載が以下の点で不備のため、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 本件特許の請求項１には「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であり」という記載及び「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、ポルフィリンの亜鉛錯体、［（アミノエチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、１－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、トリアジントリチオール、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる」との記載があるが、【００１０】、【００４９】～【００５６】、【００６２】、【００６５】及び【００８５】の記載を鑑みると、本件特許の請求項１の上記のように特定されている「有機層の」「正規化原子％」は、有機層の厚み方向のどの厚みの部分を測定しているのか特定できず、また深さ分解能も特定されていないため、当該「有機層の」「正規化原子％」の数値は多義的に解釈されるため、明確でない。 本件特許の請求項１の記載を引用する本件特許の請求項２～１４に係る発明についても同様に明確でない。 （２）取消理由２（実施可能要件） 本件特許は、明細書の記載が以下の点で不備のため、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 本件特許の請求項１の「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であり」との有機層をどのようにして得るのかについて、本件特許明細書の発明の詳細な説明には一切記載されておらず、本件特許明細書の発明の詳細な説明に記載されている実施例及び比較例の記載は、以下のア～オの点で不明であるから、当業者といえども、発明の詳細な説明及び出願時の技術常識に基づき、過度の試行錯誤を要することなく、本件特許の請求項１～１４に係る発明の物を生産でき、かつ、使用できる程度の記載があるとはいえない。 ア 【００８５】に記載の測定方法では、有機層の厚み方向のどの厚みの部分を測定しているのか特定できず、また深さ分解能も特定されていない。また、Ｘ線源やＸ線の入射角等の測定パラメータが特定できない。 イ 比較例１、２、１３～１５は有機処理が行われていないにもかかわらず、これらの原子組成には、Ｏ原子やＣ原子が検出されている。 ウ 実施例２、３で利用されている有機層形成用の化合物には酸素が含まれていないにもかかわらず、これらの有機層の元素含有量に多量のＯ原子があるとされている。 エ 実施例及び比較例において５つの原子の総量を基準値とした場合における各々の原子の相対量のみ測定されており、リファレンス原子に由来する光電子の測定強度を基準値とする５つの原子の相対強度が特定されておらず、表２－１及び２－２を用いても、本件特許の請求項１に係る発明で特定している正規化原子％に調整することができない。 オ 実施例及び比較例のメッキ層の厚みが不明で、また、有機層を施す手段及びその後の乾燥温度が不明であり、当業者といえども実施例及び比較例を実施（再現）することができない。 よって、本件特許の請求項１～１４に係る発明に関して、発明の詳細な説明は、実施可能要件を充足するものとはいえない。 ２ 取消理由通知に採用しなかった特許異議申立書に記載の取消理由 取消理由通知に採用しなかった取消理由の概要は次のとおりである。 （１）甲第１号証を引用例とする拡大先願 請求項１、３、５、６、８及び１０～１４に係る発明は、この特許の出願日（優先日）前の特許出願であって、その出願後に出願公開がされた下記の甲第１号証に記載された発明と同一であり、しかも、この出願の発明者がその出願日（優先日）前の特許出願に係る上記の発明をした者と同一ではなく、またこの出願の時において、その出願人が上記特許出願の出願人と同一でもないから、当該請求項に係る特許は、特許法第２９条の２の規定に違反してされたものである。 （２）甲第３号証を引用例とする拡大先願 請求項１、３、５、６及び１０～１４に係る発明は、この特許の出願日（優先日）前の特許出願であって、その出願後に出願公開がされた下記の甲第３号証に記載された発明と同一であり、しかも、この出願の発明者がその出願日（優先日）前の特許出願に係る上記の発明をした者と同一ではなく、またこの出願の時において、その出願人が上記特許出願の出願人と同一でもないから、当該請求項に係る特許は、特許法第２９条の２の規定に違反してされたものである。 （３）甲第２８号証を引用例とする進歩性 請求項１、３、１０～１２及び１４に係る発明は、この特許の出願日（優先日）前に日本国内又は外国において頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった下記の甲第２８号証に記載された発明に基いて、その出願日（優先日）前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、当該請求項に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 （４）甲第２９号証を引用例とする進歩性 請求項１、３、６及び１０～１４に係る発明は、この特許の出願日（優先日）前に日本国内又は外国において頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった下記の甲第２９号証に記載された発明に基いて、その出願日（優先日）前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、当該請求項に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 （５）甲第３０号証を主引用例とする進歩性 請求項１、３、６及び１０～１４に係る発明は、この特許の出願日（優先日）前に日本国内又は外国において頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった下記の甲第３０号証、甲第３１号証及び甲第３２号証に記載された発明に基いて、その出願日（優先日）前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、当該請求項に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 （６）サポート要件違反 本件特許の請求項１～１４に係る発明は、発明の詳細な説明に記載されたものではなく、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 ３ 甲各号証の記載 甲第１号証：特願２０１９－８９１１９号（特開２０２０－１８３５７２号） 甲第２号証：岡本尚樹他３名、「電解銅箔より発生するノジュールの析出に関する検討」、化学工学会第４１回秋季大会（２００９） 研究発表講演要旨集、Ｈ３２１、Ｐ４７３ 甲第３号証：特願２０１９－１５２５５２号（特開２０２０－１８６４６４号） 甲第４号証：特開２００３－１２４５８９号公報 甲第５号証：特開２０１７－１２２２７４号公報 甲第６号証：特開２００６－１４３９１４号公報 甲第７号証：「ＸＰＳによる表面分析の基礎と分析事例の紹介」、株式会社島津製作所 分析計測事業部、２０２２年１１月１９日（印刷日） 甲第８号証：「【技術資料】ＥＳＣＡによる高分子膜の深さ方向分析」、株式会社東ソー分析センター、２０２２年１１月１９日（印刷日） 甲第９号証：特開２０１７－３１４７６号公報 甲第１０号証：加藤拓司他２名、「有機単分子膜のＸＡＮＥＳ測定」、株式会社リコー先端技術研究所等、２０２２年１１月１９日（印刷日） 甲第１１号証：特願２０００－６５３０１号（特開２００１－２５５７００号） 甲第１２号証：特願２０００－６５３０１号（甲第１１号証）の審査記録 甲第１３号証：特願２０００－６５３０１号（甲第１１号証）について平成１７年８月９日付け（起案日）の拒絶理由通知書 甲第１４号証：特開平１１－８４７４０号公報 甲第１５号証：特開２０００－２６７３４４号公報 甲第１６号証：特開２０００－２４２０４５号公報 甲第１７号証：特開平９－３１９１５７号公報 甲第１８号証：特開平９－４３８９７号公報 甲第１９号証：「光電子分光用の前処理装置～より付着物の少ない前処理へ～」、株式会社ＵＢＥ科学分析センター、２０２２年１１月２２日（印刷日） 甲第２０号証：本件特許の審査における令和３年１０月２８日付けの意見書 甲第２１号証：本件特許の審査における令和３年７月２７日付け（起案日）の拒絶理由通知書 甲第２２号証：本件特許の審査における令和４年１１月２５日付け刊行物等提出書 甲第２３号証：本件特許の審査における令和３年１２月２１日付け（起案日）の拒絶査定 甲第２４号証：本件特許の審査における令和４年４月２６日付け審判請求書 甲第２５号証：特開２０１６－３３２６１号公報 甲第２６号証：特開２０１５－１９３８８４号公報 甲第２７号証：特開２０１１－２１０９８４号公報 甲第２８号証：特開昭５９－２０６２１号公報 甲第２９号証：特開２０１４－１２９５６０号公報 甲第３０号証：特開２００９－１１７７０６号公報 甲第３１号証：特開２０１８－１７１８９９号公報 甲第３２号証：特開２０１７－１０６０６９号公報 甲第３３号証：特開２０１７－１０６０６８号公報 以下、甲第１～３３号証等を「甲１」等という。 （１）甲１について 甲１の、【００２１】～【００２３】及び【００４０】の【表１】より、【００３３】に記載の「電解めっき処理」は「ニッケルめっき処理」であることは明らかである。 そうすると、甲１の【請求項１】～【請求項４】、【００２１】～【００２３】、【００２９】～【００３４】、【００４０】には、特に【００４０】の【表１】の実施例１～２、５～９より、以下の発明（以下「先願発明１」という。）が記載されている。 「銅箔と、 銅箔にアルカリ脱脂処理、酸洗浄処理、プレディップ処理及び酸化処理をこの順で行い、 酸化処理を行った銅箔にニッケルめっき処理を行い、 前記ニッケルめっき処理を行った銅箔にカップリング処理を行い、 カップリング処理は、１重量％のγ－アミノプロピルトリエトキシシランを室温で１分間処理し、１１０℃で１分間焼付した、 銅部材。」 （２）甲３について 甲３の、【請求項１】～【請求項３】、【００４６】、【００４８】～【００５３】、【００６２】には、特に【００６２】の【表１】の実施例１～７より、以下の発明（以下「先願発明３」という。）が記載されている。 「銅箔と、 銅箔にアルカリ脱脂処理、酸洗浄処理、プレディップ処理及び酸化処理をこの順で行い、 酸化処理を行った銅箔にニッケルめっき用電解液を用いて電解めっきを施し、 前記銅箔にニッケルめっき用電解液を用いて電解めっきを施した銅箔にカップリング処理を行い、 カップリング処理は、１重量％の３－アミノプロピルトリエトキシシランを室温で１分間処理し、１１０℃で１分間焼付した、 複合銅部材。」 （３）甲２８について 甲２８の第１頁右下欄第６行～第９行及び第３頁右上欄第１７行～第４頁左上欄第３行には、以下の発明（以下「引用発明２８」という。）が記載されている。 「銅箔と、銅箔に亜鉛メッキ浴に浸漬し亜鉛薄膜を形成させ、つぎにシランカップリング剤であるγ－アミノプロピルトリエトキシシランの濃度０．０３％、０．３％及び３．０％の３種類の溶液中に常温で１分間浸漬し、乾燥させた、 印刷回路用銅箔。」 （４）甲２９について 甲２９の【０００２】、【００５６】～【００５８】及び【００６８】～【００６９】には、以下の発明（以下「引用発明２９」という。）が記載されている。 「圧延銅箔に粗化処理を施し、粗化処理を施した圧延銅箔にニッケルめっき層を形成し、ニッケルめっき表面に酸化ニッケル層を形成した後、５ｍＬ／Ｌの３－アミノプロピルトリメトキシシラン水溶液に１０秒間浸漬し、大気中にて２００℃で１分間の乾燥を行った、 表面処理銅箔。」 （５）甲３０について 甲３０の、【請求項１】～【請求項３】、【０００１】、【００５８】～【００６２】及び【００８０】には、特に【００８０】の【表１】の実施例１より、以下の発明（以下「引用発明３０」という。）が記載されている。 「圧延銅箔をアルカリ電解脱脂処理した後、酸洗処理、粗化めっき処理に連続してニッケルめっきを施し熱風乾燥し、シランカップリング剤として３－アミノプロピルトリメトキシシランの水溶液を用いてシランカップリング処理を行った後、大気中にて２００℃で１分間熱風乾燥した、 フレキシブルプリント配線板用銅箔。」 （６）甲３１について 甲３１の【０１３２】には、シランカップリング処理において、シラン化合物としてｎ－プロピルトリメトキシシランを用い、シラン濃度を０．４ｖｏｌ％とすることが記載されている。 （７）甲３２について 甲３２には、シランカップリング剤の調整方法として以下のように記載されている。 「【００４８】 ３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学株式会社製 ＫＢＭ－４０２）：純水で０．３ｗｔ％溶液を調製。 ３－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学株式会社製 ＫＢＭ－９０３）：純水で０．２５ｗｔ％溶液を調製。 ビニルトリメトキシシラン（信越化学株式会社製 ＫＢＭ－１００３）：純水に硫酸を添加してｐＨ３に調整した溶液で０．２ｗｔ％溶液を調製。 ３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学株式会社製 ＫＢＭ－５０２）：純水に硫酸を添加してｐＨ３に調整した溶液で０．２５ｗｔ％溶液を調製。 ３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（信越化学株式会社製 ＫＢＥ－９００７）：純水に硫酸を添加してｐＨ３に調整した溶液で０．２ｗｔ％溶液を調製。 ３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン（信越化学株式会社製 ＫＢＥ－５８５）：エタノールと純水を１：１で混合した溶液で０．３ｗｔ％溶液を調製。」 （８）甲３３について 甲３３には、シランカップリング剤の調整方法として以下のように記載されている。 「【００４７】 ３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学株式会社製 ＫＢＭ－４０２）：純水で０．３ｗｔ％溶液を調製。 ３－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学株式会社製 ＫＢＭ－９０３）：純水で０．２５ｗｔ％溶液を調製。 ビニルトリメトキシシラン（信越化学株式会社製 ＫＢＭ－１００３）：純水に硫酸を添加してｐＨ３に調整した溶液で０．２ｗｔ％溶液を調製。 ３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学株式会社製 ＫＢＭ－５０２）：純水に硫酸を添加してｐＨ３に調整した溶液で０．２５ｗｔ％溶液を調製。 ３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（信越化学株式会社製 ＫＢＥ－９００７）：純水に硫酸を添加してｐＨ３に調整した溶液で０．２ｗｔ％溶液を調製。 ３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン（信越化学株式会社製 ＫＢＥ－５８５）：エタノールと純水を１：１で混合した溶液で０．３ｗｔ％溶液を調製。」 第４ 当審の判断 １ 取消理由通知書に記載した取消理由 （１）取消理由１（明確性） ア 明確性についての判断 本件特許の請求項１～１４の記載によって、本件発明を特定することができ、文言上も不明確とするところはないので、請求項１～１４の記載は、第三者に不利益を及ぼすほどに不明確とはいえないものであり、明確である。 イ 当審が特許権者に通知した取消理由１について 本件特許の請求項１の「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であり」という記載及び「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、ポルフィリンの亜鉛錯体、［（アミノエチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、１－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、トリアジントリチオール、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる」との記載は、文言上、それぞれその特定するところは明確である。本件特許の請求項１の「有機層の」「正規化原子％」は、有機層の厚み方向のどの厚みの部分を測定しているのか特定できず、また深さ分解能も特定されてはいないが、これらの特定の有無にかかわらず、他の技術との異同を判別できる程度に明確であるといえ、また当該「有機層の」「正規化原子％」の数値が多義的に解釈されるものでもない。 （２）取消理由２（実施可能要件） ア 実施可能要件についての判断 本件特許の発明の詳細な説明の記載において、【００４２】～【００５６】、【００６２】及び【００６５】には、実施例２～５、１１及び１４が実施できる程度に記載されているものである。そして、当該実施例２～５、１１及び１４の記載、【００８５】の有機層の原子比の測定方法及び【００８３】の【表１－２】を参酌すれば、本件特許の請求項１の「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であり、」という構成とするにあたり過度の試行錯誤を要するとはいえず、したがって、本件発明１～１４の実施に際して、本件特許の詳細な説明の記載は、実施可能要件を有していないとはいえないものである。 イ 当審が特許権者に通知した取消理由２について 本件特許の請求項１の「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であり」との有機層については、上記アでも説示したとおり、当業者であれば実施することができるものである。 本件発明の「有機層の」「正規化原子％」は、本件特許の詳細な説明を参酌すると、【００８５】の有機層の原子比の測定方法により求めることができるものであり、これは有機層の全体を反映するものであるから、有機層の厚み方向のどの厚みの部分を測定しているのか及び深さ分解能によらないものである。すなわち、【００８５】の記載の測定方法で本件発明は実施可能である。 比較例１、２、１３～１５のＯ原子やＣ原子が検出、実施例２、３のＯ原子の検出については、層形成の過程を鑑みるとなんら矛盾が存在するものでもない。 リファレンス原子に由来する光電子の測定強度を基準値とする５つの原子の相対強度の特定の有無にかかわらず、特定の正規化原子％の調整は可能である。 【００４２】～【００９２】には有機層を施す手段について記載されており、当業者であれば実施例及び比較例を実施することができる。 ２ 取消理由通知に採用しなかった特許異議申立書に記載の取消理由 （１）甲第１号証を引用例とする拡大先願 ア 本件発明１について （ア） 対比 本件発明１と先願発明１を対比する。 先願発明１の「カップリング処理は、１重量％のγ－アミノプロピルトリエトキシシランを室温で１分間処理し、１１０℃で１分間焼付した、」は、有機層を設けることにほかならず、先願発明１の「銅箔と、 銅箔にアルカリ脱脂処理、酸洗浄処理、プレディップ処理及び酸化処理をこの順で行い、 酸化処理を行った銅箔にニッケルめっき処理を行い、 前記ニッケルめっき処理を行った銅箔にカップリング処理を行い カップリング処理は、１重量％のγ－アミノプロピルトリエトキシシランを室温で１分間処理し、１１０℃で１分間焼付した、」は、本件発明１の「（ａ）銅箔と、 （ｃ）前記（ａ）銅箔に設けられた有機層と、」に相当する。 本件発明１の「（ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｓｎまたはそれらの混合物を含むバリア層と、 を含み、」と、先願発明１の「銅箔にアルカリ脱脂処理、酸洗浄処理、プレディップ処理及び酸化処理をこの順で行い、 酸化処理を行った銅箔にニッケルめっき処理を行い、 前記ニッケルめっき処理を行った銅箔にカップリング処理を行い」とは、「（ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉを含む層と、 を含み、」の限りで一致する。 また、本件発明１の「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、 前記一つまたは複数の有機分子は、ポルフィリンの亜鉛錯体、［（アミノエチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、１－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、トリアジントリチオール、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる、」と先願発明１の「カップリング処理は、１重量％のγ－アミノプロピルトリエトキシシランを室温で１分間処理し、１１０℃で１分間焼付した、」とは、先願発明１の「γ－アミノプロピルトリエトキシシラン」が本件発明１の「３－アミノプロピルトリメトキシシラン」に相当するから、「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む」の限りにおいて一致する。 また、本件発明１の「クロムフリー表面処理銅箔」と先願発明１の「銅部材」とは、先願発明１の「銅部材」が銅箔の表面に処理を施したものであるから「表面処理銅箔」である限りにおいて一致する。 したがって、両者は以下の点で一致し、また相違する。 ＜一致点＞ （ａ）銅箔と、 （ｃ）前記（ａ）銅箔に設けられた有機層と、 （ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉを含む層と、 を含み、 前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む 表面処理銅箔。 ＜相違点１＞ 「（ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉを含む層と、 を含み、」について、本件発明１では、（ａ）銅箔と（ｃ）有機層との間にはＮｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｓｎまたはそれらの混合物を含むバリア層を含むのに対し、先願発明１では、ニッケルめっき処理を行うとしている点。 ＜相違点２＞ 本件発明１が「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、 前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、 前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であ」るのに対し、先願発明１では、これらの点について不明である点。 ＜相違点３＞ 「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む」ことについて、本件発明１は「前記有機層は、ポルフィリンの亜鉛錯体、［（アミノエチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、１－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、トリアジントリチオール、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる、」のに対し、先願発明１では、「カップリング処理は、１重量％のγ－アミノプロピルトリエトキシシランを室温で１分間処理し、１１０℃で１分間焼付した」ものである点。 ＜相違点４＞ 「表面処理銅箔」について、本件発明１では「クロムフリー表面処理銅箔」であるのに対して、先願発明１ではクロムフリーであるか否か不明である点。 （イ） 判断 事案に鑑み、＜相違点２＞から検討する。 有機層について先願発明１は、本件発明１で特定される有機分子である３－アミノプロピルトリエトキシシランを含むものである。 一方で有機層の形成方法について、本件発明１が「有機処理剤（０．２５％のトリアジントリチオール、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体又は、０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体と０．２％の３－アミノプロピルトリエトキシシランとの組み合わせ）を１０秒間施し、若しくは有機処理剤（０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体と０．２％の３－アミノプロピルトリエトキシシランとの組み合わせ）を３０秒間施し、５０℃から１５０℃の温度で乾燥した」（【００４６】～【００５６】、【００６５】）ものであるのに対し、先願発明１では、「カップリング処理は、１重量％のγ－アミノプロピルトリエトキシシランを室温で１分間処理し、１１０℃で１分間焼付した」ものであり、両者には有機分子の濃度と処理時間に有為な差が存在していることは明らかである。当該事情を鑑みると、先願発明１の有機層が、「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、 前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、 前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であ」るとはいえない。 よって、＜相違点２＞は実質的な相違点であるといえる。 （ウ） まとめ 以上から、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明１は先願発明１と同一ではない。 イ 本件発明３、５、６、８及び１０～１４について 本件発明３、５、６、８及び１０～１４は、直接あるいは間接的に本件発明１を引用し、本件発明１の発明特定事項を全て有したうえでさらに限定する発明であるから、上記に示したことと同様に、先願発明１と同一ではない。 （２）甲第３号証を引用例とする拡大先願 ア 本件発明１について （ア） 対比 本件発明１と先願発明３を対比する。 先願発明３の「カップリング処理は、１重量％の３－アミノプロピルトリエトキシシランを室温で１分間処し、１１０℃で１分間焼付した、」は、有機層を設けることにほかならず、先願発明３の「銅箔と、 銅箔にアルカリ脱脂処理、酸洗浄処理、プレディップ処理及び酸化処理をこの順で行い、 酸化処理を行った銅箔にニッケルめっき用電解液を用いて電解めっきを施し、 前記銅箔にニッケルめっき用電解液を用いて電解めっきを施した銅箔にカップリング処理を行い カップリング処理は、１重量％の３－アミノプロピルトリエトキシシランを室温で１分間処理し、１１０℃で１分間焼付した、」は、本件発明１の「（ａ）銅箔と、 （ｃ）前記（ａ）銅箔に設けられた有機層と、」に相当する。 本件発明１の「（ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｓｎまたはそれらの混合物を含むバリア層と、 を含み、」と、先願発明３の「銅箔にアルカリ脱脂処理、酸洗浄処理、プレディップ処理及び酸化処理をこの順で行い、 酸化処理を行った銅箔にニッケルめっき用電解液を用いて電解めっきを施し、 前記ニッケルめっき処理を行った銅箔にカップリング処理を行い」とは、「ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉを含む層と、 を含み、」の限りで一致する。 また、本件発明１の「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、 前記一つまたは複数の有機分子は、ポルフィリンの亜鉛錯体、［（アミノエチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、１－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、トリアジントリチオール、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる、」と先願発明３の「カップリング処理は、１重量％の３－アミノプロピルトリエトキシシランを室温で１分間処理し、１１０℃で１分間焼付した、」とは、「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む」の限りにおいて一致する。 また、本件発明１の「クロムフリー表面処理銅箔」と先願発明３の「複合銅部材」とは、先願発明３の「複合銅部材」が銅箔の表面に処理を施したものであるから「表面処理銅箔」である限りにおいて一致する。 したがって、両者は以下の点で一致し、また相違する。 ＜一致点＞ （ａ）銅箔と、 （ｃ）前記（ａ）銅箔に設けられた有機層と、 （ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉを含む層と、 を含み、 前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む 表面処理銅箔。 ＜相違点１＞ 「（ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉを含む層と、 を含み、」について、本件発明１では、（ａ）銅箔と（ｃ）有機層との間にはＮｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｓｎまたはそれらの混合物を含むバリア層を含むのに対し、先願発明３では、ニッケルめっき用電解液を用いて電解めっきを施すとしている点。 ＜相違点２＞ 本件発明１が「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、 前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、 前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であ」るのに対し、先願発明３では、これらの点について不明である点。 ＜相違点３＞ 「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む」ことについて、本件発明１は「前記有機層は、ポルフィリンの亜鉛錯体、［（アミノエチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、１－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、トリアジントリチオール、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる、」のに対し、先願発明３では、「カップリング処理は、１重量％の３－アミノプロピルトリエトキシシランを室温で１分間処理し、１１０℃で１分間焼付した」ものである点。 ＜相違点４＞ 「表面処理銅箔」について、本件発明１では「クロムフリー表面処理銅箔」であるのに対して、先願発明３ではクロムフリーであるか否か不明である点。 （イ） 判断 事案に鑑み、＜相違点２＞から検討する。 有機層について先願発明３は、本件発明１で特定される有機分子である３－アミノプロピルトリエトキシシランを含むものである。 一方で有機層の形成方法が、本件発明１が「有機処理剤（０．２５％のトリアジントリチオール、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体又は、０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体と０．２％の３－アミノプロピルトリエトキシシランとの組み合わせ）を１０秒間施し、若しくは有機処理剤（０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体と０．２％の３－アミノプロピルトリエトキシシランとの組み合わせ）を３０秒間施し、５０℃から１５０℃の温度で乾燥した」（【００４６】～【００５６】、【００６５】）ものであるのに対し、先願発明３では、「カップリング処理は、１重量％の３－アミノプロピルトリエトキシシランを室温で１分間処理し、１１０℃で１分間焼付した」ものであり、両者には有機分子の濃度と処理時間に有為な差が存在していることは明らかである。当該事情を鑑みると、先願発明３の有機層が、「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、 前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、 前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であ」るとはいえない。 よって、＜相違点２＞は実質的な相違点であるといえる。 （ウ） まとめ 以上から、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明１は先願発明３と同一ではない。 イ 本件発明３、５、６及び１０～１４について 本件発明３、５、６及び１０～１４は、直接あるいは間接的に本件発明１を引用し、本件発明１の発明特定事項を全て有したうえでさらに限定する発明であるから、上記に示したことと同様に、先願発明３と同一ではない。 （３）甲第２８号証を引用例とする進歩性 ア 本件発明１について （ア） 対比 本件発明１と引用発明２８を対比する。 引用発明２８の「シランカップリング剤であるγ－アミノプロピルトリエトキシシランの濃度０．０３％、０．３％及び３．０％の３種類の溶液中に常温で１分間浸漬し、乾燥させた」は、有機層を設けることにほかならず、引用発明２８の「銅箔と、銅箔に亜鉛メッキ浴に浸漬し亜鉛薄膜を形成させ、つぎにシランカップリング剤であるγ－アミノプロピルトリエトキシシランの濃度０．０３％、０．３％及び３．０％の３種類の溶液中に常温で１分間浸漬し、乾燥させた、」は、本件発明１の「（ａ）銅箔と、 （ｃ）前記（ａ）銅箔に設けられた有機層と、」に相当する。 本件発明１の「（ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｓｎまたはそれらの混合物を含むバリア層と、 を含み、」と、引用発明２８の「銅箔に亜鉛メッキ浴に浸漬し亜鉛薄膜を形成させ、つぎにシランカップリング剤であるγ－アミノプロピルトリエトキシシランの濃度０．０３％、０．３％及び３．０％の３種類の溶液中に常温で１分間浸漬し、乾燥させた、」とは、「（ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、亜鉛を含む層と、 を含み、」の限りで一致する。 また、本件発明１の「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、 前記一つまたは複数の有機分子は、ポルフィリンの亜鉛錯体、［（アミノエチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、１－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、トリアジントリチオール、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる、」と引用発明２８の「シランカップリング剤であるγ－アミノプロピルトリエトキシシランの濃度０．０３％、０．３％及び３．０％の３種類の溶液中に常温で１分間浸漬し、乾燥させた、」とは、引用発明２８の「γ－アミノプロピルトリエトキシシラン」が本件発明１の「３－アミノプロピルトリメトキシシラン」に相当するから、「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む」の限りにおいて一致する。 また、本件発明１の「クロムフリー表面処理銅箔」と引用発明２８の「印刷回路用銅箔」とは、引用発明２８の「印刷回路用銅箔」が銅箔の表面に処理を施したものであるから「表面処理銅箔」である限りにおいて一致する。 したがって、両者は以下の点で一致し、また相違する。 ＜一致点＞ （ａ）銅箔と、 （ｃ）前記（ａ）銅箔に設けられた有機層と、 （ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、亜鉛を含む層と、 を含み、 前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む 表面処理銅箔。 ＜相違点１＞ 「（ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、亜鉛を含む層と、 を含み、」について、本件発明１では、（ａ）銅箔と（ｃ）有機層との間にはＮｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｓｎまたはそれらの混合物を含むバリア層を含むのに対し、引用発明２８では、亜鉛メッキ浴に浸漬し亜鉛薄膜を形成させるとしている点。 ＜相違点２＞ 本件発明１が「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、 前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、 前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であ」るのに対し、引用発明２８では、これらの点について不明である点。 ＜相違点３＞ 「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む」ことについて、本件発明１は「前記有機層は、ポルフィリンの亜鉛錯体、［（アミノエチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、１－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、トリアジントリチオール、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる、」のに対し、引用発明２８では、「シランカップリング剤であるγ－アミノプロピルトリエトキシシランの濃度０．０３％、０．３％及び３．０％の３種類の溶液中に常温で１分間浸漬し、乾燥させた」ものである点。 ＜相違点４＞ 「表面処理銅箔」について、本件発明１では「クロムフリー表面処理銅箔」であるのに対して、引用発明２８ではクロムフリーであるか否か不明である点。 （イ） 判断 事案に鑑み、＜相違点２＞から検討する。 有機層について引用発明２８は、本件発明１で特定される有機分子である３－アミノプロピルトリエトキシシランを含むものである。 一方で有機層の形成方法が、本件発明１が「有機処理剤（０．２５％のトリアジントリチオール、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体又は、０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体と０．２％の３－アミノプロピルトリエトキシシランとの組み合わせ）を１０秒間施し、若しくは有機処理剤（０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体と０．２％の３－アミノプロピルトリエトキシシランとの組み合わせ）を３０秒間施し、５０℃から１５０℃の温度で乾燥した」（【００４６】～【００５６】、【００６５】）ものであるのに対し、引用発明２８では、「シランカップリング剤であるγ－アミノプロピルトリエトキシシランの濃度０．０３％、０．３％及び３．０％の３種類の溶液中に常温で１分間浸漬し、乾燥させた、」ものであり、両者には処理時間に有為な差が存在していることは明らかである。当該事情を鑑みると、引用発明２８の有機層が、「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、 前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、 前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であ」るとはいえない。 そして、引用発明２８の有機層を、「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、 前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、 前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％」とすることは当業者といえども容易に想到することはできないものである。 よって、引用発明２８に基いて、＜相違点２＞の本件発明１の構成とすることは、当業者が容易になし得たものではない。 （ウ） まとめ 以上から、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明１は引用発明２８に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 イ 本件発明３、１０～１２及び１４について 本件発明３、１０～１２及び１４は、直接あるいは間接的に本件発明１を引用し、本件発明１の発明特定事項を全て有したうえでさらに限定する発明であるから、上記に示したことと同様に、引用発明２８に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。 （４）甲第２９号証を引用例とする進歩性 ア 本件発明１について （ア） 対比 本件発明１と引用発明２９を対比する。 引用発明２９の「５ｍＬ／Ｌの３－アミノプロピルトリメトキシシラン水溶液に１０秒間浸漬し、大気中にて２００℃で１分間の乾燥を行った、」は、有機層を設けることにほかならず、また、引用発明２９の「圧延銅箔」は、本件発明１の「銅箔」に相当するから、引用発明２９の「圧延銅箔に粗化処理を施し、粗化処理を施した圧延銅箔にニッケルめっき層を形成し、ニッケルめっき表面に酸化ニッケル層を形成した後、５ｍＬ／Ｌの３－アミノプロピルトリメトキシシラン水溶液に１０秒間浸漬し、大気中にて２００℃で１分間の乾燥を行った、」は、本件発明１の「（ａ）銅箔と、 （ｃ）前記（ａ）銅箔に設けられた有機層と、」に相当する。 本件発明１の「（ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｓｎまたはそれらの混合物を含むバリア層と、 を含み、」と、引用発明２９の「粗化処理を施した圧延銅箔にニッケルめっき層を形成し、ニッケルめっき表面に酸化ニッケル層を形成した後、５ｍＬ／Ｌの３－アミノプロピルトリメトキシシラン水溶液に１０秒間浸漬し、大気中にて２００℃で１分間の乾燥を行った、」とは、「（ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉを含む層と、 を含み、」の限りで一致する。 また、本件発明１の「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、 前記一つまたは複数の有機分子は、ポルフィリンの亜鉛錯体、［（アミノエチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、１－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、トリアジントリチオール、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる、」と引用発明２９の「５ｍＬ／Ｌの３－アミノプロピルトリメトキシシラン水溶液に１０秒間浸漬し、大気中にて２００℃で１分間の乾燥を行った、」とは、「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む」の限りにおいて一致する。 また、本件発明１の「クロムフリー表面処理銅箔」と引用発明２９の「表面処理銅箔」とは、「表面処理銅箔」である限りにおいて一致する。 したがって、両者は以下の点で一致し、また相違する。 ＜一致点＞ （ａ）銅箔と、 （ｃ）前記（ａ）銅箔に設けられた有機層と、 （ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉを含む層と、 を含み、 前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む 表面処理銅箔。 ＜相違点１＞ 「（ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉを含む層と、 を含み、」について、本件発明１では、（ａ）銅箔と（ｃ）有機層との間にはＮｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｓｎまたはそれらの混合物を含むバリア層を含むのに対し、引用発明２９では、ニッケルめっき層を形成するとしている点。 ＜相違点２＞ 本件発明１が「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、 前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、 前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であ」るのに対し、引用発明２９では、これらの点について不明である点。 ＜相違点３＞ 「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む」ことについて、本件発明１は「前記有機層は、ポルフィリンの亜鉛錯体、［（アミノエチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、１－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、トリアジントリチオール、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる、」のに対し、引用発明２９では、「５ｍＬ／Ｌの３－アミノプロピルトリメトキシシラン水溶液に１０秒間浸漬し、大気中にて２００℃で１分間の乾燥を行った」ものである点。 ＜相違点４＞ 「表面処理銅箔」について、本件発明１では「クロムフリー表面処理銅箔」であるのに対して、引用発明２９ではクロムフリーであるか否か不明である点。 （イ） 判断 事案に鑑み、＜相違点２＞から検討する。 有機層について引用発明２９は、本件発明１で特定される有機分子である３－アミノプロピルトリエトキシシランを含むものである。 一方で有機層の形成方法が、本件発明１が「有機処理剤（０．２５％のトリアジントリチオール、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体又は、０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体と０．２％の３－アミノプロピルトリエトキシシランとの組み合わせ）を１０秒間施し、若しくは有機処理剤（０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体と０．２％の３－アミノプロピルトリエトキシシランとの組み合わせ）を３０秒間施し、５０℃から１５０℃の温度で乾燥した」（【００４６】～【００５６】、【００６５】）ものであるのに対し、引用発明２９では、「５ｍＬ／Ｌの３－アミノプロピルトリメトキシシラン水溶液に１０秒間浸漬し、大気中にて２００℃で１分間の乾燥を行った」ものであり、両者には有機分子の濃度に有為な差が存在していることは明らかである。当該事情を鑑みると、引用発明２９の有機層が、「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、 前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、 前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であ」るとはいえない。 そして、引用発明２９の有機層を、「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、 前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、 前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％」とすることは当業者といえども容易に想到することはできないものである。 よって、引用発明２９に基いて、＜相違点２＞の本件発明１の構成とすることは、当業者が容易になし得たものではない。 （ウ） まとめ 以上から、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明１は引用発明２９に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 イ 本件発明３、６及び１０～１４について 本件発明３、６及び１０～１４は、直接あるいは間接的に本件発明１を引用し、本件発明１の発明特定事項を全て有したうえでさらに限定する発明であるから、上記に示したことと同様に、引用発明２９に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。 （５）甲第３０号証を主引用例とする進歩性 ア 本件発明１について （ア） 対比 本件発明１と引用発明３０を対比する。 引用発明３０の「シランカップリング剤として３－アミノプロピルトリメトキシシランの水溶液を用いてシランカップリング処理を行った後、大気中にて２００℃で１分間熱風乾燥した、」は、有機層を設けることにほかならず、引用発明３０の「圧延銅箔をアルカリ電解脱脂処理した後、酸洗処理、粗化めっき処理に粗化めっき処理に連続してニッケルめっきを施し熱風乾燥し、シランカップリング剤として３－アミノプロピルトリメトキシシランの水溶液を用いてシランカップリング処理を行った後、大気中にて２００℃で１分間熱風乾燥した、」は、本件発明１の「（ａ）銅箔と、 （ｃ）前記（ａ）銅箔に設けられた有機層と、」に相当する。 本件発明１の「（ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｓｎまたはそれらの混合物を含むバリア層と、 を含み、」と、引用発明３０の「圧延銅箔をアルカリ電解脱脂処理した後、酸洗処理、粗化めっき処理に粗化めっき処理に連続してニッケルめっきを施し熱風乾燥し、シランカップリング剤として３－アミノプロピルトリメトキシシランの水溶液を用いてシランカップリング処理を行った後、大気中にて２００℃で１分間熱風乾燥した、」とは、「（ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉを含む層と、 を含み、」の限りで一致する。 また、本件発明１の「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、 前記一つまたは複数の有機分子は、ポルフィリンの亜鉛錯体、［（アミノエチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、１－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、トリアジントリチオール、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる、」と引用発明３０の「シランカップリング剤として３－アミノプロピルトリメトキシシランの水溶液を用いてシランカップリング処理を行った後、大気中にて２００℃で１分間熱風乾燥した、」とは、「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリメトキシシランを含む」の限りにおいて一致する。 また、本件発明１の「クロムフリー表面処理銅箔」と引用発明３０の「フレキシブルプリント配線板用銅箔」とは、引用発明３０の「フレキシブルプリント配線板用銅箔」が銅箔の表面に処理を施したものであるから「表面処理銅箔」である限りにおいて一致する。 したがって、両者は以下の点で一致し、また相違する。 ＜一致点＞ （ａ）銅箔と、 （ｃ）前記（ａ）銅箔に設けられた有機層と、 （ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉを含む層と、 を含み、 前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリメトキシシランを含む 表面処理銅箔。 ＜相違点１＞ 「（ｂ）前記（ａ）銅箔と前記（ｃ）有機層との間にあり、Ｎｉを含む層と、 を含み、」について、本件発明１では、（ａ）銅箔と（ｃ）有機層との間にはＮｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｓｎまたはそれらの混合物を含むバリア層を含むのに対し、引用発明３０では、ニッケルめっきを施すとしている点。 ＜相違点２＞ 本件発明１が「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、 前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、 前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であ」るのに対し、引用発明３０では、これらの点について不明である点。 ＜相違点３＞ 「前記有機層は、一つまたは複数の有機分子を含み、前記一つまたは複数の有機分子は、３－アミノプロピルトリメトキシシランを含む」ことについて、本件発明１は「前記有機層は、ポルフィリンの亜鉛錯体、［（アミノエチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、１－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、トリアジントリチオール、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる、」のに対し、引用発明３０では、「シランカップリング剤として３－アミノプロピルトリメトキシシランの水溶液を用いてシランカップリング処理を行った後、大気中にて２００℃で１分間熱風乾燥した」ものである点。 ＜相違点４＞ 「表面処理銅箔」について、本件発明１では「クロムフリー表面処理銅箔」であるのに対して、引用発明３０ではクロムフリーであるか否か不明である点。 （イ） 判断 事案に鑑み、＜相違点２＞から検討する。 有機層について引用発明３０は、本件発明１で特定される有機分子である３－アミノプロピルトリメトキシシランを含むものである。 一方で有機層の形成方法が、本件発明１が「有機処理剤（０．２５％のトリアジントリチオール、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体又は、０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体と０．２％の３－アミノプロピルトリエトキシシランとの組み合わせ）を１０秒間施し、若しくは有機処理剤（０．３％のポルフィリンの亜鉛錯体と０．２％の３－アミノプロピルトリエトキシシランとの組み合わせ）を３０秒間施し、５０℃から１５０℃の温度で乾燥した」（【００４６】～【００５６】、【００６５】）ものであるのに対し、引用発明３０では、「シランカップリング剤として３－アミノプロピルトリメトキシシランの水溶液を用いてシランカップリング処理を行った後、大気中にて２００℃で１分間熱風乾燥した」ものであり、引用発明３０の有機分子の濃度と処理時間については特定しておらず、引用発明３０の有機層が、「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、 前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、 前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％であ」るとはいえない。 そして、甲３１～甲３３に記載の技術事項を参酌したとしても、引用発明３０の有機層を、「前記有機層におけるＮ、Ｓ、およびＳｉ元素の合計は、５正規化原子％を超え、 前記正規化原子％は、分析されたＣ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｉの原子％の合計を分母として、分析されたＮ、ＳまたはＳｉの原子％を分子とすることにより計算され、 前記有機層において、３．８正規化原子％≦Ｎ≦２４．４正規化原子％であり、３６．１正規化原子％≦Ｃ≦５９．８正規化原子％であり、２７正規化原子％≦Ｏ≦４８．７正規化原子％であり、Ｓｉを含む場合はＳｉ≦８．４正規化原子％」とすることは当業者といえども容易に想到することはできないものである。 よって、引用発明３０及び甲３１～甲３３の記載事項に基いて、＜相違点２＞の本件発明１の構成とすることは、当業者が容易になし得たものではない。 （ウ） まとめ 以上から、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明１は引用発明３０に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 イ 本件発明３、６及び１０～１４について 本件発明３、６及び１０～１４は、直接あるいは間接的に本件発明１を引用し、本件発明１の発明特定事項を全て有したうえでさらに限定する発明であるから、上記に示したことと同様に、引用発明３０に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。 （６）サポート要件違反 本件発明の解決しようとする課題は【０００５】に示されるとおりであり、「前記プリント回路板を適切に機能させるために、銅箔の腐食（ｃｏｒｒｏｓｉｏｎ）と変色（ｄｉｓｃｏｌｏｒａｔｉｏｎ）を防止する必要がある。このような腐食および変色に対する防止は、現在、クロムメッキまたはクロメート処理で銅箔にクロム系成分を施すことにより行われている。しかし、クロムは環境に悪影響を及ぼすため、プリント回路板における銅箔の腐食と変色を防ぐための代替手段が望まれる。」ものである。 そして、【００８７】に記載の表面処理銅箔の耐腐食性の測定の記載、【００９１】の【表２－１】及び【００９２】の【表２－２】及び【００９３】の記載より、実施例１～５、１１及び１４は、耐腐食性にすぐれたクロムフリーの表面処理銅箔であることが示されているから、本件特許の請求項１～１４の記載により、発明の詳細な説明の記載から把握される課題が解決できることを当業者が認識できるものであり、特許を受けようとする発明が発明の詳細な説明に記載されたものではないとすることはできない。 第５ むすび したがって、取消理由通知に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載された特許異議申立理由及び証拠によっては、請求項１～１４に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に請求項１～１４に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。