2022-701305

特許第７０９９９７８号発明「ジクロロシランの精製方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７０９９９７８号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１－１２〕について訂正することを認める。 特許第７０９９９７８号の請求項１ないし１２に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第７０９９９７８号の請求項１～１２に係る特許についての出願は、平成３１年 ４月２２日を出願日とする出願であり、令和 ４年 ７月 ４日にその特許権の設定登録がされ、同年同月１２日に特許公報が発行され、その後、同年１２月２６日に、その請求項１～１２に係る特許を対象として、特許異議申立人中川 賢治（以下、「申立人」という。）により、特許異議の申立てがなされ、令和５年 ３月１５日付けで取消理由が通知され、その指定期間内である同年 ５月１８日に特許権者より意見書の提出及び訂正の請求があったものである。 なお、当審は申立人に、上記訂正請求があった旨を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、申立人はそれに対し応答しなかった。 第２ 訂正の適否 １ 訂正事項 上記令和 ５年 ５月１８日に請求された訂正の請求（以下、この訂正を「本件訂正」という。）は、本件特許請求の範囲を、訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１～１２について訂正することを求めるものであって、その具体的な訂正事項は次のとおりである。（下線は訂正箇所を示す。） （１）訂正事項１ 特許請求の範囲の請求項１に 「該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、 前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で０．２ｍｏｌ％以上である」 とあるのを、 「該蒸留精製工程が、シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含み、 該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、 前記不活性ガスの供給量は、前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で０．２ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下であり、 前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」 に訂正する。 （請求項１を直接又は間接的に引用する請求項４～７、１０～１２についても同様に訂正する。） （２）訂正事項２ 特許請求の範囲の請求項２に 「該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、 前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下である」 とあるのを、 「該蒸留精製工程が、シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含み、 該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、 前記不活性ガスの供給量は、前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であり、 前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」 に訂正する。 （請求項２を直接又は間接的に引用する請求項４～７、１０～１２についても同様に訂正する。） （３）訂正事項３ 特許請求の範囲の請求項３に 「シラン系ガス中に占めるジクロロシランの割合が９０ｗｔ％を超える地点よりも上流側で実行する」 とあるのを、 「シラン系ガス中に占めるジクロロシランの割合が９０ｗｔ％を超える地点よりも上流側で実行し、 前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」 に訂正する。 （請求項３を直接又は間接的に引用する請求項４～７、１０～１２についても同様に訂正する。） （４）訂正事項４ 特許請求の範囲の請求項８に 「前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度を２５℃以下とする、請求項１～７の何れか１項に記載のジクロロシランの精製方法。」 とあるのを、 「ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法であって、 前記シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え、 該蒸留精製工程が、シラン系ガスを、シラン系ガス供給口から供給する工程と、蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含み、 該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、 前記不活性ガスの供給量は、前記シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であり、 前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下であることを特徴とするジクロロシランの精製方法。」 に訂正する。 （請求項８を直接又は間接的に引用する請求項９～１２についても同様に訂正する。） ２ 訂正の目的の適否、新規事項の有無及び特許請求の範囲の拡張・変更の在否 （１）訂正事項１について ア 目的の適否、特許請求の範囲の拡張・変更の在否 訂正事項１は、「蒸留精製工程」が「シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含」むことを限定し、「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率」における「精製対象である前記シラン系ガス」が「前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和」であることを限定し、「不活性ガスの供給量」が「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で」「３０ｍｏｌ％以下」であることを限定し、さらに、「蒸留精製工程」に関し「蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」ことを限定する訂正であるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 そして、上記訂正は特許請求の範囲の減縮を行う訂正であるので、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 イ 新規事項の有無 （ア）訂正事項１における訂正の内、「該蒸留精製工程が、シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含」む点について 願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面（以下「本件特許明細書等」という。）の明細書の【００２５】に「蒸留塔１の上部に着目すると、シラン系ガスに含まれている上記不純物は、蒸留塔１内に供給された不活性ガスに同伴されるかたちで塔頂部へと導かれ、ジクロロシランガスとともに、凝縮器２へと送られる。凝縮器２では、ジクロロシランガスが液化され、低沸点物ガスは流路９を介して系外排出される一方、ジクロロシラン液は還流タンク３へと送られる。還流タンク３では、液化したジクロロシランが流路８を介して系外へと取り出される一方、ガス成分は流路７を介して蒸留塔１に戻される。」との記載があり、「シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程」に相当するジクロロシランであるシラン系ガスの流れが記載されていること、また、【００２７】に「蒸留塔１の底部に着目すると、塔底の液は、その一部が流路６Ａを介してポンプにより強制的に供給側の流路５に送液される」との記載があり、「蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程」に相当する液の流れが記載されていることから、訂正事項１における訂正の内、「該蒸留精製工程が、シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含」む点は、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （イ）訂正事項１における訂正の内、「前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して」について 本件特許明細書等の【００４３】には「上記の還流量および戻し量の総和(ペーパーロード量）に対して１．３ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６Ｎｍ3／ｈｒ導入した。」との記載がある。 ここで本件特許明細書等の【００４２】には「次いで、蒸留塔の内部圧力を０．０３ＭＰａ、塔頂温度を１６．５℃に維持する条件で蒸留運転を行った。なお、運転中の還流は２トン／ｈｒであり、缶出からの蒸留塔への戻し量は１トン／ｈｒであった。」との記載があり、【図２】からは、流路６Ａを介して供給側の流路５に送液されるシラン系ガス缶出戻しの液量が１０００ｋｇ／ｈｒであることが読み取れる。１トンと１０００ｋｇは等しいので、【００４２】及び【００４３】における「戻し量」とは、「流路６Ａを介して供給側の流路５に送液されるシラン系ガス缶出戻し」の液量を指していることが分かる。 このことから、訂正事項１における訂正の内、「前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して」との記載は、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 【図２】 ［図：0001404793000001.jpg］ （ウ）訂正事項１における訂正の内、「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で」「３０ｍｏｌ％以下であ」る点について 本件特許明細書等の【００３２】には「不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であることが好ましく」との記載があることから、訂正事項１における訂正の内、「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で」「３０ｍｏｌ％以下であ」る点は、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （エ）訂正事項１における訂正の内、「前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」点について 訂正前の請求項８には「前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度を２５℃以下とする、請求項１～７の何れか１項に記載のジクロロシランの精製方法。」との記載があり、訂正事項１における訂正の内、「前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」点は、前記訂正前の請求項８に記載されていた事項を請求項１に組み込むものであるから、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （オ）上記（ア）～（エ）に記載したとおり、訂正事項１は本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （２）訂正事項２について ア 目的の適否、特許請求の範囲の拡張・変更の在否 訂正事項２は、「蒸留精製工程」が「シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含」むことを限定し、「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率」における「精製対象である前記シラン系ガス」が「前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和」であることを限定し、さらに、「蒸留精製工程」に関し「蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」ことを限定する訂正であるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 そして、上記訂正は特許請求の範囲の減縮を行う訂正であるので、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 イ 新規事項の有無 （ア）訂正事項２における訂正の内、「該蒸留精製工程が、シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含」む点について この点は、前記（１）イ（ア）で述べた訂正事項１における点と同じであるから、前記（１）イ（ア）で述べたように、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （イ）訂正事項２における訂正の内、「前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して」について この点は、前記（１）イ（イ）で述べた訂正事項１における点と同じであるから、前記（１）イ（イ）で述べたように、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （ウ）訂正事項２における訂正の内、「前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」点について この点は、前記（１）イ（エ）で述べた訂正事項１における点と同じであるから、前記（１）イ（エ）で述べたように、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （エ）上記（ア）～（ウ）に記載したとおり、訂正事項２は本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （３）訂正事項３について ア 目的の適否、特許請求の範囲の拡張・変更の在否 訂正事項３は、「蒸留精製工程」に関し「蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」ことを限定した訂正であるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 そして、上記訂正は特許請求の範囲の減縮を行う訂正であるので、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 イ 新規事項の有無 訂正前の請求項８には「前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度を２５℃以下とする、請求項１～７の何れか１項に記載のジクロロシランの精製方法。」との記載があり、訂正事項３は、前記訂正前の請求項８に記載されていた事項を請求項３に組み込むものであるから、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （４）訂正事項４について ア 目的の適否、特許請求の範囲の拡張・変更の在否 （ア）訂正事項４の内、「ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法であって、 前記シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え、」 「該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、 前記不活性ガスの供給量は、」「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であり、 前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下であることを特徴とするジクロロシランの精製方法。」と訂正する点については、「請求項１～７の何れか１項」を引用する従属請求項であった請求項８の内、請求項２を直接引用する請求項８を独立請求項の形に書き下したものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第４号に掲げる「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項を引用しないものとすること」を目的とするものである。また併せて、請求項１、３～７を引用する請求項８が訂正後の請求項８では除かれていることになるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 （イ）訂正事項４の内、「該蒸留精製工程が、シラン系ガスを、シラン系ガス供給口から供給する工程と、蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含」む点は、「蒸留精製工程」をさらに限定した訂正であるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 （ウ）訂正事項４の内、「前記シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和に対して」の点は、「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率」における「精製対象である前記シラン系ガス」が「前記シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和」であることを限定した訂正であるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 （エ）上記（ア）～（ウ）で述べたとおり、訂正事項４は特許請求の範囲の減縮を行う訂正、及び、他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項を引用しないものとする訂正であるので、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 イ 新規事項の有無 （ア）訂正事項４の内、「ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法であって、 前記シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え、」 「該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、 前記不活性ガスの供給量は、」「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であり、 前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下であることを特徴とするジクロロシランの精製方法。」と訂正する点については、請求項２を引用する請求項８を独立請求項の形に書き下したものであるから、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （イ）訂正事項４の内、「該蒸留精製工程が、シラン系ガスを、シラン系ガス供給口から供給する工程と、蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含」む点について 願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面（以下「本件特許明細書等」という。）の明細書の【００２５】に「蒸留塔１の上部に着目すると、シラン系ガスに含まれている上記不純物は、蒸留塔１内に供給された不活性ガスに同伴されるかたちで塔頂部へと導かれ、ジクロロシランガスとともに、凝縮器２へと送られる。凝縮器２では、ジクロロシランガスが液化され、低沸点物ガスは流路９を介して系外排出される一方、ジクロロシラン液は還流タンク３へと送られる。還流タンク３では、液化したジクロロシランが流路８を介して系外へと取り出される一方、ガス成分は流路７を介して蒸留塔１に戻される。」との記載があり、「シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程」に相当するジクロロシランの流れが記載されていること、また、【００２７】に「蒸留塔１の底部に着目すると、塔底の液は、その一部が流路６Ａを介してポンプにより強制的に供給側の流路５に送液される」との記載があり、「蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程」に相当する液の流れが記載されていること、さらに、【００５４】に「仕込んだものと同じ成分の低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガスを、シラン系ガス供給口から１トン／ｈｒで供給した。」との記載があり「シラン系ガスを、シラン系ガス供給口から供給する工程」に相当するガス供給の流れが記載されていることから、訂正事項４における訂正の内、「該蒸留精製工程が、シラン系ガスを、シラン系ガス供給口から供給する工程と、蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含」む点は、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （ウ）訂正事項４の内、「前記シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和に対して」の点について ａ 本件明細書等の【００３２】には「前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であることが好ましく」との記載があり、不活性ガスの供給量は、精製対象であるシラン系ガスを基準としていることがわかる。 ｂ 本件特許明細書等の【００５５】には「上記の還流量および戻し量の総和(ペーパーロード量）に対して９．７ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６０Ｎｍ3／ｈｒ導入した。」との記載がある。 ここで本件特許明細書等の【００５４】には「次いで、蒸留塔の内部圧力を０．０３ＭＰａ、塔頂温度を１６．５℃に維持する条件で蒸留運転を行った。なお、運転中の還流は２トン／ｈｒであり、缶出からの蒸留塔への戻し量は１トン／ｈｒであった。」との記載があり、【図３】からは、流路６Ａを介して供給側の流路５に送液されるシラン系ガス缶出戻しの液量が１０００ｋｇ／ｈｒであることが読み取れる。１トンと１０００ｋｇは等しいので、【００５４】及び【００５５】における「戻し量」とは、「流路６Ａを介して供給側の流路５に送液されるシラン系ガス缶出戻し」の液量を指していることが分かると共に、不活性ガス量の供給量の基準となる精製対象であるシラン系ガスには、まず、還流工程における還流量、及び、缶出戻し工程における戻し量が含まれることがわかる。 【図３】 ［図：0001404793000002.jpg］ ｃ 本件特許明細書等の【００５４】には「仕込んだものと同じ成分の低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガスを、シラン系ガス供給口から１トン／ｈｒで供給した。」と記載されている。このクロロシラン系ガスは蒸留塔に導入されることになるので、精製対象のガスの一部であることは明らかである。 ｄ 上記ａ～ｃを踏まえると、上記ａの「精製対象である前記シラン系ガス」が、「シラン系ガス供給口から」の供給量と、「還流量」と、「シラン系ガス缶出戻し」の「戻し量」の「総和」であることが分かる。 そのため、訂正事項４の内、「前記シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和に対して」の点は、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （エ）上記（ア）～（ウ）に記載したとおり、訂正事項４は本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。 （５）別の訂正単位とする求めについて 本件訂正では、訂正後の請求項８について、当該請求項についての訂正が認められる場合には、一群の請求項の他の請求項とは別途訂正することの求めがなされているところ、訂正後の請求項９は訂正後の請求項８を引用し、訂正後の請求項８、９を直接または間接的に引用する請求項１０～１２は訂正後の請求項１～７も引用し、訂正後の請求項１～１２は、一群の請求項を構成しているため、この一群の請求項に含まれる訂正後の請求項８については、一群の請求項の他の請求項とは別途訂正することの求めを認めることはできない。 ３ 小括 本件訂正は、特許法第１２０条の５第４項の規定に従い、一群の請求項を構成する請求項〔１～１２〕について訂正することを求めるものであるところ、上記２及び３のとおり、本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号及び第４号に掲げる事項を目的とするものに該当し、且つ、同条第９項において読み替えて準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合するものであるから、訂正後の請求項〔１～１２〕について訂正することを認める。 第３ 本件発明 上記第２のとおり、本件訂正は容認し得るものであるから、異議申立ての対象及び独立特許要件の判断の対象である本件訂正後の請求項１～１２に係る発明（以下、各請求項に係る発明及び特許を項番に対応させて「本件発明１」、「本件特許１」などといい、併せて「本件発明」、「本件特許」ということがある。）は、それぞれ、その特許請求の範囲の請求項１～１２に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 「【請求項１】 ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法であって、 前記シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え、 該蒸留精製工程が、シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含み、 該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、 前記不活性ガスの供給量は、前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で０．２ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下であり、 前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下であることを特徴とするジクロロシランの精製方法。 【請求項２】 ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法であって、 前記シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え、 該蒸留精製工程が、シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含み、 該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、 前記不活性ガスの供給量は、前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であり、 前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下であることを特徴とするジクロロシランの精製方法。 【請求項３】 ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法であって、 前記シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え、 該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、 前記不活性ガスの供給を、前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔のガス導入口からガス排出口に至る経路中の、前記シラン系ガス中に占めるジクロロシランの割合が９０ｗｔ％を超える地点よりも上流側で実行し、 前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下であることを特徴とするジクロロシランの精製方法。 【請求項４】 前記不純物は、塩化水素、モノシラン、モノクロロシラン、ジシラン、ホウ素化合物である、請求項１～３の何れか１項に記載のジクロロシランの精製方法。 【請求項５】 前記不活性ガスは、ヘリウム、アルゴン、窒素、水素の何れかのガス若しくはこれらの何れかの混合ガスである、請求項１～４の何れか１項に記載のジクロロシランの精製方法。 【請求項６】 前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で０．５ｍｏｌ％以上である、請求項１～５の何れか１項に記載のジクロロシランの精製方法。 【請求項７】 前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３ｍｏｌ％以下である、請求項１～６の何れか１項に記載のジクロロシランの精製方法。 【請求項８】 ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法であって、 前記シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え、 該蒸留精製工程が、シラン系ガスを、シラン系ガス供給口から供給する工程と、蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含み、 該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、 前記不活性ガスの供給量は、前記シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であり、 前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下であることを特徴とするジクロロシランの精製方法。 【請求項９】 前記蒸留塔の塔頂の温度を１７℃以下とする、請求項８に記載のジクロロシランの精製方法。 【請求項１０】 前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度を８℃以上とする、請求項１～９の何れか１項に記載のジクロロシランの精製方法。 【請求項１１】 前記蒸留塔の塔頂の温度を１０℃以上とする、請求項１０に記載のジクロロシランの精製方法。 【請求項１２】 前記蒸留精製工程を複数備えている、請求項１～１１の何れか１項に記載のジクロロシランの精製方法。」 第４ 令和 ５年 ３月１５日付けで通知した取消理由、及びこの取消理由において採用しなかった申立人による特許異議の申立理由の概要 １ 令和 ５年 ３月１５日付けで通知した取消理由 （１）特許法第３６条第６項第１号所定の規定違反（サポート要件違反）（取消理由１） ア 訂正前の請求項１、４～６、８～１２に係る発明は、特許請求の範囲の記載が後記第５の１（１）ア（ア）の点で不備のため、その特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 イ 訂正前の請求項１～７、１０～１２に係る発明は、特許請求の範囲の記載が後記第５の１（１）ア（イ）の点で不備のため、その特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 ウ 訂正前の請求項１、２、４～１２に係る発明は、特許請求の範囲の記載が後記第５の１（２）アの点で不備のため、その特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 （２）特許法第３６条第６項第２号所定の規定違反（明確性要件違反）（取消理由２） 訂正前の請求項１、２、４～１２に係る発明は、特許請求の範囲の記載が後記第５の２（１）アの点で不備のため、その特許は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 ２ 取消理由において採用しなかった申立人による特許異議の申立理由の概要 異議申立書の２２～２４頁には、明確性要件、実施可能要件、サポート要件についての理由が（ア）～（カ）の６個列挙されているが、（ア）～（カ）のそれぞれが、どの請求項を対象とした理由であるのか、また、明確性要件、実施可能要件、サポート要件のうち、いずれを理由とするものであるのかが明確に記載されていない。そのため、異議申立書の記載を総合的に判断して、下記のとおり、申立の理由と対象の請求項を整理した。なお、（カ）の理由については、上記１（１）イが該当する。 （１）特許法第３６条第６項第２号所定の規定違反（明確性要件違反）（申立理由１） ア 訂正前の請求項１、２、４～１２に係る発明は、特許請求の範囲の記載が後記第５の３（１）アの点で不備のため、その特許は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。（異議申立書２３頁の（ア）の理由） イ 訂正前の請求項４～１２に係る発明は、特許請求の範囲の記載が後記第５の３（２）アの点で不備のため、その特許は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。（異議申立書２３頁の（イ）の理由） ウ 訂正前の請求項１～１２に係る発明は、特許請求の範囲の記載が後記第５の３（３）アの点で不備のため、その特許は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。（異議申立書２３頁の（エ）の理由）（下記の甲第３号証を参考とする。） （２）特許法第３６条第４項第１号所定の規定違反（実施可能要件違反）（申立理由２） ア 訂正前の請求項１～１２に係る発明は、発明の詳細な説明の記載が後記第５の４（１）アの点で不備のため、その特許は、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。（異議申立書２３頁の（ウ）の理由） イ 訂正前の請求項１～１２に係る発明は、発明の詳細な説明の記載が後記第５の４（２）アの点で不備のため、その特許は、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。（異議申立書２４頁の（オ）の理由） （３）特許法第２９条第２項所定の規定違反（進歩性欠如）（申立理由３） 訂正前の請求項１～１２に係る発明は、下記に記載の甲第１号証に記載された発明及び甲第２号証に記載される技術的事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 記 甲第１号証：特開２０１２－１４４４２７号公報 甲第２号証：特開２０１２－１５８５１５号公報 甲第３号証：大江修造，トコトンやさしい蒸留の本，日刊工業新聞社，２０１５年９月３０日，第５２～５３頁 （以下、甲第１号証を略して、「甲１」などという。） 第５ 当審の判断 当審は、上記第４の１の取消理由及び第４の２の申立理由のいずれにも理由がないと判断する。 以下、その理由について詳述する。 １ 取消理由１（サポート要件違反）について （１）第４の１（１）ア及びイの理由について 事案に鑑み、第４の１（１）ア及びイをまとめて検討する。 ア 第４の１（１）ア及びイの理由の概要 （ア）第４の１（１）アの理由の概要 第４の１（１）アの理由の概要は以下のとおりである。 訂正前の本件発明１においては、「前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で０．２ｍｏｌ％以上であること」と特定されているものの、「不活性ガスの供給量」の「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率」の上限について何ら特定されていない。 これに対し、本件明細書の【００３２】には、「不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であることが好ましく、より好ましくは、３ｍｏｌ％以下であ」り、「これは、不活性ガスの供給モル分率が大きすぎると回収効率が低下するためである」との記載があり、不活性ガスの供給量が精製対象であるシラン系ガスに対する比率で相当大きな値をとる場合、ジクロロシランの回収効率が著しく低くなり、本件発明の課題である「ジクロロシランの蒸留精製」が行えないことになる。 そして、訂正前の本件発明１は、「不活性ガスの供給量」の「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率」が相当大きな値をとる場合をも包含している。 したがって、訂正前の本件発明１は、本件発明の課題を解決できない場合をも包含しているものであるから、発明の詳細な説明の記載又はその示唆により当業者が本件発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるとはいえないし、また、その記載や示唆がなくとも当業者が本件出願時の技術常識に照らし本件発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるともいえない。 また、訂正前の本件発明１を直接的又は間接的に引用する訂正前の本件発明４～６、８～１２（ただし、請求項７を直接的又は間接的に引用するものを除く）について検討しても事情は同じである。 （イ） 第４の１（１）イの理由の概要 第４の１（１）イの理由の概要は以下のとおりである。 訂正前の本件発明の課題を解決するための蒸留精製方法について、本件明細書の実施例１～４の記載によれば、「蒸留塔の内部圧力を０．０３ＭＰａ、塔頂温度を１６．５℃に維持する条件」（【００４２】、【００４５】、【００５０】及び【００５４】）で、所定量の高純度Ｎ2ガスを蒸留塔に導入して蒸留運転を行い（【００４３】、【００４６】、【００５１】及び【００５５】）、その結果、「ジクロロシラン中のボロン成分の濃度」が、精製前の４．５ｐｐｂａから０．００５～０．０２ｐｐｂａにまで低減されており（【００４４】、【００４７】、【００４９】、【００５２】、【００５６】及び表１）、いずれの実施例も、ジクロロシランの蒸留精製が十分に行われているといえる。 一方、本件明細書の比較例２の記載によれば、「蒸留塔の内部圧力は０．０３ＭＰａ、塔頂温度は２８℃に維持」する条件（【００６０】）で、実施例２及び３と同じく１３．５ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを蒸留塔に導入して蒸留運転を行い（【００６１】）、その結果、「ジクロロシラン中のボロン成分の濃度」が、精製前の４．５ｐｐｂａから３．０ｐｐｂａとなっている（【００６２】及び表１）。この結果について、【００６３】によれば、比較例２において「温度（２８℃）」と「塔頂温度を高くしたことにより、ＢＣｌ3と思われるボロン成分が共沸によってジクロロシランに混入したこと」で、「ジクロロシラン中のボロン成分の濃度は、実施例１の値よりも２桁高い数字」となっているのであるから、比較例２は、ジクロロシランの蒸留精製が十分に行われているとはいえず、本件発明の課題を解決できないものであることが分かる。 そして、【００３５】の「好ましくは、蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度を２５℃以下とし」との記載も踏まえて、実施例１～４と比較例２とを比較すると、本件発明の課題を解決するためには、【００１０】に課題を解決する手段として記載される「蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させること」に加え、当該「蒸留精製工程」を実施する蒸留塔の塔頂の温度を、実施例１～４で採用される２５℃以下の温度範囲とすることが必要であるといえる。 しかしながら、訂正前の本件発明１は、蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度について何ら特定しておらず、本件発明の課題を解決できない前記比較例２を包含し得るため、発明の詳細な説明の記載又はその示唆により当業者が本件発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるとはいえないし、また、その記載や示唆がなくとも当業者が本件出願時の技術常識に照らし本件発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるともいえない。 また、訂正前の本件発明２、訂正前の本件発明３、及び訂正前の本件発明１～３のいずれかを直接的又は間接的に引用する訂正前の本件発明４～７及び１０～１２（ただし、訂正前の本件発明８を直接的又は間接的に引用するものを除く）について検討しても事情は同じである。 イ 第４の１（１）ア及びイの理由に関する当審の判断 （ア）サポート要件の判断手法 特許請求の範囲の記載が明細書のサポート要件に適合するか否かは、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載とを対比し、特許請求の範囲に記載された発明が、発明の詳細な説明に記載された発明で、発明の詳細な説明の記載又はその示唆により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否か、また、その記載や示唆がなくとも当業者が出願時の技術常識に照らし当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否かを検討して判断すべきものである。 （イ）本件発明１～１２に係る発明の課題について 本件明細書の記載によれば、「ジクロロシランはシリコン半導体関連の加工用ガス材料等として使用されており、ｐｐｔレベルでの含有金属不純物濃度管理など、その品質には厳しい要求がなされる」（【０００２】）ところ、「ジクロロシランの精製方法」として「有機物」（【０００３】）や「金属塩化物」（【０００５】）のような「添加物を必要とする蒸留精製方法の場合、本来の除去対象であるリン化合物やホウ素化合物等の不純物は勿論のこと、付加物に転化されずに残存する添加物の除去も必要になるという問題がある」（【０００８】）との事情に鑑みて、本件発明は、「有機物や金属塩化物の添加を不要とした、ジクロロシランの蒸留精製方法を提供すること」（【０００９】）を課題とするものであるといえる。 （ウ）本件発明１～１２の課題を解決することができることに関する発明の詳細な説明の記載について ａ 本件発明１～１２の課題を解決するための蒸留精製方法について、本件明細書の実施例１～４の記載によれば、「蒸留塔の内部圧力を０．０３ＭＰａ、塔頂温度を１６．５℃に維持する条件」（【００４２】、【００４５】、【００５０】及び【００５４】）で、所定量の高純度Ｎ2ガスを蒸留塔に導入して蒸留運転を行い（【００４３】、【００４６】、【００５１】及び【００５５】）、その結果、「ジクロロシラン中のボロン成分の濃度」が、精製前の４．５ｐｐｂａから０．００５～０．０２ｐｐｂａにまで低減されており（【００４４】、【００４７】、【００４９】、【００５２】、【００５６】及び表１）、いずれの実施例も、ジクロロシランの蒸留精製が十分に行われているといえる。 一方、本件明細書の比較例２の記載によれば、「蒸留塔の内部圧力は０．０３ＭＰａ、塔頂温度は２８℃に維持」する条件（【００６０】）で、実施例２及び３と同じく１３．５ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを蒸留塔に導入して蒸留運転を行い（【００６１】）、その結果、「ジクロロシラン中のボロン成分の濃度」が、精製前の４．５ｐｐｂａから３．０ｐｐｂａとなっている（【００６２】及び表１）。この結果について、【００６３】によれば、比較例２において「温度（２８℃）」と「塔頂温度を高くしたことにより、ＢＣｌ3と思われるボロン成分が共沸によってジクロロシランに混入したこと」で、「ジクロロシラン中のボロン成分の濃度は、実施例１の値よりも２桁高い数字」となっているのであるから、比較例２は、ジクロロシランの蒸留精製が十分に行われているとはいえず、本件発明１～１２の課題を解決できないものであることが分かる。 そして、【００３５】の「好ましくは、蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度を２５℃以下とし」との記載も踏まえて、実施例１～４と比較例２とを比較すると、本件発明１～１２の課題を解決するためには、【００１０】に課題を解決する手段として記載される「蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させること」に加え、当該「蒸留精製工程」を実施する蒸留塔の塔頂の温度を、実施例１～４で採用される２５℃以下の温度範囲とすることが必要であるといえる。 ｂ 本件明細書【００１０】の「本発明に係るジクロロシランの精製方法は、ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法であって、前記シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え、該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させることを特徴とする。」との記載、及び、【００３２】の「前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であることが好ましく、より好ましくは、３ｍｏｌ％以下である。これは、不活性ガスの供給モル分率が大きすぎると回収効率が低下するためである。」との記載、並びに、【００３４】の「不活性ガスの供給は、蒸留精製工程を実施する蒸留塔のガス導入口（蒸留塔の下部）からガス排出口（蒸留塔の塔頂部）に至る経路中の、シラン系ガス導入部より上側から行うことが好ましく、より好ましくは、シラン系ガス中に占めるジクロロシランの割合が９０ｗｔ％を超える地点よりも上流側から供給する。」との記載によれば、「蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ」るに際し、「前記不活性ガスの供給量」を「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」とする、又は、「不活性ガスの供給」を「シラン系ガス中に占めるジクロロシランの割合が９０ｗｔ％を超える地点よりも上流側」から行うことにより、好適な「ジクロロシランの精製」が行えることがわかる。 ｃ 上記ａ及びｂを踏まえると、上記（イ）の課題を解決するためには、「蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ」、かつ、「蒸留精製工程」を実施する蒸留塔の塔頂の温度を、「２５℃以下の温度範囲」とし、さらに、「前記不活性ガスの供給量」を「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」とする、又は、「不活性ガスの供給」を「シラン系ガス中に占めるジクロロシランの割合が９０ｗｔ％を超える地点よりも上流側」から行うことが肝要であるといえる。 （エ）本件明細書の発明の詳細な説明に記載される本件発明の課題を解決することができると認識できる範囲と本件発明１～１２の対比 ａ 上記（ウ）で述べたように、ジクロロシランの精製方法が、「蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ」、かつ、「蒸留精製工程」を実施する蒸留塔の塔頂の温度を、「２５℃以下の温度範囲」とし、さらに、「前記不活性ガスの供給量」を「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」とする、又は、「不活性ガスの供給」を「シラン系ガス中に占めるジクロロシランの割合が９０ｗｔ％を超える地点よりも上流側」から行うものであれば、課題を解決することができる。 ｂ 本件発明１、及び、本件発明１を直接又は間接的に引用する本件発明４～７、１０～１２は、「蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ」る点、「不活性ガスの供給量は」「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で０．２ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下であ」る点、及び、「蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」点を発明特定事項として備えている。 また、本件発明２、８、及び、本件発明２又は８を直接又は間接的に引用する本件発明４～７、９～１２は、「蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ」る点、「不活性ガスの供給量は」「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であ」る点、及び、「蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」点を発明特定事項として備えている。 また、本件発明３、及び、本件発明３を直接又は間接的に引用する本件発明４～７、１０～１２は、「蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ」る点、「不活性ガスの供給を、」「前記シラン系ガス中に占めるジクロロシランの割合が９０ｗｔ％を超える地点よりも上流側で実行」する点、及び、「蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」点を発明特定事項として備えている。 そうすると、本件発明１～１２は、上記ａに記載した上記（イ）の発明の課題を解決するために必要な手段を含んでいるといえ、発明の詳細な説明の記載又はその示唆により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであって、本件明細書の発明の詳細な説明に記載されたものであるといえるから、特許請求の範囲の記載はサポート要件に適合するものということができる。 （２）第４の１（１）ウの理由について ア 第４の１（１）ウの理由の概要 第４の１（１）ウの理由の概要は以下のとおりである。 本件明細書においては、「不活性ガスの供給量」の「比率」を求めるにあたり、実施例１～４のとおり、環流量及び缶出からの戻し量の総和を基準とすることが記載されており、それ以外のものを基準とすることについて本件明細書中に記載を見いだせない。 しかしながら、訂正前の本件発明１及び２には、「不活性ガスの供給量」の「比率」を求めるにあたり、「精製対象である前記シラン系ガス」の量を基準とすることについて特定があるのみであって、環流量及び缶出からの戻し量の総和を基準とすることについて特定がなく、訂正前の本件発明１及び２が、発明の詳細な説明に記載されたものであるとはいえない。 また、訂正前の本件発明１及び２のいずれかを直接的又は間接的に引用する訂正前の本件発明４～１２について検討しても事情は同じである。 イ 第４の１（１）ウの理由に関する当審の判断 （ア）サポート要件の判断手法 ａ サポート要件の判断手法は、上記（１）イ（ア）に記載したとおりである。 ｂ 上記ａによれば、請求項に記載される発明は、発明の詳細な説明に記載された発明である必要がある。そうすると、本件発明１、２、及び、本件発明１又は２を直接又は間接的に引用する本件発明４～７、１０～１２は「不活性ガスの供給量は、前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で」「３０ｍｏｌ％以下」である点を特定事項とする発明であり、本件発明８、及び、本件発明８を直接又は間接的に引用する本件発明９～１２は「不活性ガスの供給量は、前記シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」である点を特定事項とする発明であるから、上記「不活性ガスの供給量は、前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で」「３０ｍｏｌ％以下」である点、及び、「不活性ガスの供給量は、前記シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」である点が、発明の詳細な説明にされたものであるかについて、以下検討する。 （イ）本件発明１、２、及び、本件発明１又は２を直接又は間接的に引用する本件発明４～７、１０～１２の、不活性ガスの供給量の比率を求める際の基準となるシラン系ガスに関する発明の詳細な説明の記載について 本件明細書、【００３２】には「前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であることが好ましく」との記載があり、【００４３】には「上記の還流量および戻し量の総和(ペーパーロード量）に対して１．３ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６Ｎｍ3／ｈｒ導入した。」との記載がある。 当該記載からは、「不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」であり、かつ、「精製対象である前記シラン系ガス」が、より具体的には「還流量および戻し量の総和」であることが理解できる。これは、本件発明１、２、４～７、１０～１２の「不活性ガスの供給量は、前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で」「３０ｍｏｌ％以下」である点に対応するものである。 （ウ）本件発明８、及び、本件発明８を直接又は間接的に引用する本件発明９～１２の、不活性ガスの供給量の比率を求める際の基準となるシラン系ガスに関する発明の詳細な説明の記載について ａ 本件明細書、【００３２】には「前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であることが好ましく」との記載があり、【００４３】には「上記の還流量および戻し量の総和(ペーパーロード量）に対して１．３ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６Ｎｍ3／ｈｒ導入した。」との記載がある。 当該記載からは、「不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」であり、かつ、「精製対象である前記シラン系ガス」が、より具体的には「還流量および戻し量」を含むことが理解できる。 ｂ さらに、【００５４】には「仕込んだものと同じ成分の低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガスを、シラン系ガス供給口から１トン／ｈｒで供給した。」と記載されている。この「シラン系ガス供給口」から「供給」される「クロロシラン系ガス」は蒸留塔に導入されることになるので、精製対象のガスの一部であることは明らかである。 そして、【００３２】の「前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であることが好ましく」との記載によれば、精製対象のシラン系ガスは、不活性ガスの供給量の計算に用いられるものであるので、上記「シラン系ガス供給口」から「供給」される「クロロシラン系ガス」は、不活性ガスの供給量の計算に用いられることになる。 ｃ 上記ａ及びｂから、シラン系ガス供給口からの供給がある場合には、「不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」であり、かつ、「精製対象である前記シラン系ガス」が、より具体的には「シラン系ガス供給口から」「供給」される量と「還流量」と「戻し量の総和」を意味することが理解できる。これは、本件発明８～１２の「不活性ガスの供給量は、前記シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」である点に対応するものである。 （エ）上記（イ）及び（ウ）によれば、本件発明１、２、４～７、１０～１２の「不活性ガスの供給量は、前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で」「３０ｍｏｌ％以下」である点、及び、本件発明８～１２の「不活性ガスの供給量は、前記シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」である点はいずれも発明の詳細な説明に記載されていることから、特許請求の範囲の記載はサポート要件に適合するものということができる。 ２ 取消理由２（明確性要件違反）について （１）第４の１（２）の理由について ア 第４の１（２）の理由の概要 訂正前の本件発明１及び２では、「不活性ガスの供給量」が「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率」で規定されているが、「不活性ガスの供給量」の「比率」を求めるための基準となる「精製対象である前記シラン系ガス」の量が、「ジクロロシランの精製方法」におけるどの部分のものであるのかについては、何ら特定されていない。 当該「精製対象である前記シラン系ガス」の量及びこれに対する「不活性ガスの供給量」の「比率」について、本件明細書の記載をみると、【００３１】及び【００３２】には、訂正前の本件発明１及び２における前記規定と同様の記載があるにとどまっている。そこで、本件明細書の実施例における「不活性ガスの供給量」の「比率」の具体的な求め方についてみると、同（４）及び（５）によれば、実施例１～３では、「低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガス」の「仕込を行った」（【００４１】、【００４５】及び【００４９】）後、【図２】の運転状態のもとで（【００４３】、【００４６】及び【００４９】）、蒸留運転中の「２トン／ｈｒ」との「環流量」及び「１トン／ｈｒ」との「缶出からの蒸留塔への戻し量」の「総和(ペーパーロード量）」を基準として「高純度Ｎ2ガス」の比率が求められる（【００４２】、【００４３】、【００４５】、【００４６】、【００５０】及び【００５１】）一方、実施例４では、実施例１と同様の「仕込を行った」（【００５３】）後、【図３】の運転状態のもとで「仕込んだものと同じ成分の低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガスを、シラン系ガス供給口から１トン／ｈｒで供給」した上で（【００５４】）、蒸留運転中の「２トン／ｈｒ」との「環流量」及び「１トン／ｈｒ」との「缶出からの蒸留塔への戻し量」の「総和(ペーパーロード量）」を基準として「高純度Ｎ2ガス」の比率が求められている（【００５４】及び【００５５】）。ここで、「環流量」とは、蒸留塔１の塔頂部から凝縮器２及び環流タンク３を介して蒸留塔に戻される環流液の量であり（【００２３】、【００２５】、【図２】及び【図３】）、「缶出からの蒸留塔への戻し量」とは、蒸留塔１の底部から強制的に供給側の流路５に送液される缶出戻し液の量である（【００２３】、【００２７】、【図２】及び【図３】）。 そうすると、訂正前の本件発明１及び２の「不活性ガスの供給量」の「比率」を求めるための基準となる「精製対象である前記シラン系ガス」の量は、通常、蒸留精製工程を行っている系に存在する又は流れている実質的なシラン系ガス全体の量を指すものと解されるところ、本件明細書の実施例１～３では、【図２】によれば、環流タンク３からの流路８への取出及び蒸留塔１から缶出液の流路１０への排出が行われない運転状態であり、実質的に系を流れるシラン系ガス全体の量は、環流量及び缶出からの戻し量の総和になると解されるから、この総和を基準として不活性ガスの供給量の比率を求めることは、前記の通常の解釈に合致しているといえる。 一方、実施例４では、【００５４】及び【図３】によれば、環流タンク３からの流路８への取出及び蒸留塔１から缶出液の流路１０への排出が行われ、かつ、シラン系ガス供給口からの供給が行われる運転状態であり、実質的に系を流れるシラン系ガス全体の量は、蒸留塔１への流入量に着目すると、環流量、缶出からの戻し量及び供給量の総和になると解されるから、環流量及び缶出からの戻し量のみの総和を基準として不活性ガスの供給量の比率を求めることは、前記の通常の解釈に合致しているとはいえない。 したがって、本件特許の請求項１及び２における、「不活性ガスの供給量」の「比率」を求めるための基準となる「精製対象である前記シラン系ガス」の量が、本件明細書の記載を参酌しても一義的に定まらないから、訂正前の本件発明１及び２は、明確であるとはいえない。 また、訂正前の本件発明１及び２のいずれかを直接的又は間接的に引用する訂正前の本件発明４～１２について検討しても事情は同じである。 イ 第４の１（２）の理由に関する当審の判断 （ア）明確性要件の判断手法 特許を受けようとする発明が明確であるか否かは、特許請求の範囲の記載のみならず、願書に添付した明細書の記載及び図面を考慮し、また、当業者の出願当時における技術常識を基礎として、特許請求の範囲の記載が、第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるかという観点から判断されるべきである。 （イ）上記（ア）の判断手法に基づく判断 ａ 訂正前の本件発明１、２の「不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で」との記載は、令和 ５年 ５月１８日受付の訂正請求書により「不活性ガスの供給量は、前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で」との記載に訂正された。当該訂正により、不活性ガスの供給量」の「比率」を求めるための基準となる「精製対象である前記シラン系ガス」の量が「前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和」であることが明らかとなったため、本件発明１、２は、第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるということはない。 本件発明１、２のいずれかを直接的又は間接的に引用する本件発明４～７、１０～１２についても同様である。 ｂ 本件発明８には、「不活性ガスの供給量は、前記シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で」との記載がある。 当該記載からは、「不活性ガスの供給量」の「比率」を求めるための基準となる「精製対象である前記シラン系ガス」の量が「シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和」であることが明らかとなったため、本件発明８は、第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるということはない。 本件発明８を直接的又は間接的に引用する本件発明９～１２についても同様である。 ｃ 上記アに記載したとおり、実施例１～３の記載に基づけば、環流量及び缶出からの戻し量の総和を基準として不活性ガスの供給量の比率を求めることが通常の解釈に合致する。他方で、実施例４の記載に基づけば、環流量、缶出からの戻し量及び供給量の総和を基準として不活性ガスの供給量の比率を求めることが通常の解釈に合致する。そして、訂正前の本件発明１、２については、訂正前の本件発明１、２が実施例１～３に対応するものであるのか、実施例４に対応するものであるのかが明確ではなかったため、環流量及び缶出からの戻し量の総和を基準とするのか、シラン系ガス供給口からの供給量、環流量及び缶出からの戻し量の総和を基準とするのかも定かではなかった。 しかしながら、訂正後の本件発明１、２については「還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して」との特定が加わったことにより、実施例１～３に対応する発明であることが明確化され、環流量及び缶出からの戻し量の総和を基準として不活性ガスの供給量の比率を求めるものであることが明確となった。 同様に、訂正後の本件発明８については「シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和に対して」との特定が加わったことにより、実施例４に対応する発明であることが明確化され、シラン系ガス供給口からの供給量、環流量及び缶出からの戻し量の総和を基準として不活性ガスの供給量の比率を求めるものであることが明確となった。 そのため、「不活性ガスの供給量」の「比率」を求めるための基準となる「精製対象である前記シラン系ガス」の量が一義的に定まらないということはなく、取消理由は解消している。 ３ 申立理由１（明確性要件違反）について （１）第４の２（１）アの理由について ア 特許異議申立書に記載の論拠 不活性ガスの供給量に関し、訂正前の本件特許請求の範囲の【請求項１】では、「０．２ｍоｌ％以上」とされる一方、【請求項２】では「３０ｍоｌ％以下」とされている。つまり、不活性ガスの供給量は「０．２ｍоｌ％以上」でもよいし、「３０ｍоｌ％以下」でもよいのであるから、形式的にはゼロから無限大まで許容されることとなり、供給量に関しては全く何ら数値限定がされていないということになる。 したがって、本件特許請求の範囲における不活性ガスの供給量に関する数値限定は実質的な意味をなさず、不明確なものである。 イ 第４の２（１）アの理由に関する当審の判断 （ア）本件発明１、４～７、１０～１２ 本件発明１には「不活性ガスの供給量は、前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で０．２ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下」との記載があり、「不活性ガスの供給量」についての数値範囲は「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で０．２ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下」と明記されていることから、不活性ガスの供給量に関して何ら数値限定がされていないということはなく、本件発明１の「不活性ガスの供給量」が、第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるということはない。 また、数値の技術的意味についても、本件明細書【００３１】に「不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で０．２ｍｏｌ％以上であることが好ましく、より好ましくは、０．５ｍｏｌ％以上である。これは、不活性ガスの供給モル分率が大きいほど低沸物の除去効果が大きいためである。」との記載が、【００３２】に「前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であることが好ましく、より好ましくは、３ｍｏｌ％以下である。これは、不活性ガスの供給モル分率が大きすぎると回収効率が低下するためである。」との記載があることから、「低沸物の除去効果が大き」くすること、及び「回収効率」を「低下」させない範囲の不活性ガスの供給量であることが理解でき、供給量がゼロから無限大まで許容されるということはないから、不明確であるということはできない。 本件発明１を直接又は間接的に引用する本件発明４～７、１０～１２についても同様である。 （イ）本件発明２、４～７、１０～１２ 本件発明２には「不活性ガスの供給量は、前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」との記載があり、「不活性ガスの供給量」についての数値範囲は「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」と明記されている。さらに、本件発明２には「不活性ガスを供給」との記載があることから、不活性ガスの供給量がゼロではない、言い換えると、不活性ガスの供給量は、精製対象であるシラン系ガスに対する比率で少なくとも０ｍｏｌ％より大きいことが理解できる。 してみると、「不活性ガスの供給量」についての数値範囲は、「精製対象であるシラン系ガスに対する比率」で０ｍｏｌ％より大きく「３０ｍｏｌ％以下」であると理解できるため、不活性ガスの供給量に関して何ら数値限定がなされていないということはなく、本件発明２の「不活性ガスの供給量」が、第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるということはない。 また、数値の技術的意味についても、【００３１】に「不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で０．２ｍｏｌ％以上であることが好ましく、より好ましくは、０．５ｍｏｌ％以上である。これは、不活性ガスの供給モル分率が大きいほど低沸物の除去効果が大きいためである。」との記載があり、下限値が大きくなるほど低沸物の除去効果が大きくなることがわかるため、「不活性ガスの供給量」の数値限定の意味が不明確であるということはできない。 本件発明２を直接又は間接的に引用する本件発明４～７、１０～１２についても同様である。 （ウ）本件発明８～１２ 本件発明８には「不活性ガスの供給量は、前記シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」との記載があり、「不活性ガスの供給量」についての数値範囲は「精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」と明記されている。そして、下限値が明記されていないとしても上記（イ）で述べたのと同様の理由により、「不活性ガスの供給量」について不明確であるとはいえない。 本件発明８を直接又は間接的に引用する本件発明９～１２についても同様である。 （２）第４の２（１）イの理由について ア 特許異議申立書に記載の論拠 本件特許発明は、ジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去するものであるが、訂正前の請求項４では、除去すべき不純物として「ホウ素化合物」が挙げられている。しかし、ホウ素化合物であっても例えばＢＣＩ３（三塩化ホウ素）の蒸気圧はジクロロシランよりも低いから、訂正前の請求項４の記載は本件発明を不明確なものとしている。 イ 第４の２（１）イの理由に関する当審の判断 本件発明４には「前記不純物は、塩化水素、モノシラン、モノクロロシラン、ジシラン、ホウ素化合物である」との記載があり、本件発明４が引用する本件発明１～３には、いずれも「ジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物」との記載がある。 これら記載から、本件発明４の「ホウ素化合物」は、あらゆる「ホウ素化合物」を指すのではなく、「ジクロロシランよりも蒸気圧の高い」「ホウ素化合物」のみを指すことは明白である。 よって、本件発明４は不明確であるということはない。 本件発明４を直接又は間接的に引用する本件発明５～７、１０～１２についても同様である。 （３）第４の２（１）ウの理由について ア 特許異議申立書に記載の論拠 本件明細書の【図１】から【図３】には６Ａというシラン系ガス缶戻しの経路が設けられている。甲１号証の【図１】や甲第３号証の図のように、通常このような経路は設けられていないものであるが、本件発明においては設けられるとしてもこのような循環経路を設けることにより、蒸留塔に供給するシラン系ガスの量が不明確となり、ひいては「不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率」を計算結果自体に影響するものであるから、本件発明の内容が不明確となるものである。 甲１「【図１】 ［図：0001404793000003.jpg］ 」 甲３（５３頁図面） 「 ［図：0001404793000004.jpg］ 」 イ 第４の２（１）ウの理由に関する当審の判断 本件発明のように、６Ａというシラン系ガス缶戻しの経路が設けられている場合でも、例えば、缶出戻し液の流路６Ａ、及び、シラン系ガスの流路５と前記缶出戻し液の流路６Ａの合流箇所より上流の流路５内に、それぞれ流量センサを設置すれば、蒸留塔に供給するシラン系ガスの量を正確に把握可能であることは、当業者にとって技術的な常識である。そのため、蒸留塔に供給するシラン系ガスの量が不明確であるとはいえない。 また、前述のとおり、蒸留塔に供給するシラン系ガスの量が不明確であるとはいえないため、申立人の「「不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率」を計算結果自体に影響するものであるから、本件発明の内容が不明確」との主張は前提を欠き、採用することはできない。 ４ 申立理由２（実施可能要件違反）について （１）第４の２（２）アの理由について ア 特許異議申立書に記載の論拠 第４の２（２）アの理由の概要は以下のとおりである。 本件明細書の【図２】は実施例１の運転状態を示しているものであるが（【００４３】）、図２において「５」からは供給せず、「８」からは取出せず、「１０」からも排出しないのであるから、何も生産していないこととなり、詳細な説明の記載と整合せず不明確な記載である。 イ 第４の２（２）アの理由に関する当審の判断 本件明細書の【図２】は実施例１の運転状態を示しており、実施例１に対応する発明は本件発明１である。そのため、本件発明１が実施可能要件を充足するかについて以下検討を行う。 （ア）本件発明１における実施可能要件の判断手法 発明の詳細な説明の記載が特許法第３６条第４項第１号に係る規定（実施可能要件）に適合するというためには、明細書の発明の詳細な説明に、当業者が、明細書の発明の詳細な説明及び出願時の技術常識に基づいて、過度の試行錯誤を要することなく、その発明を実施することができる程度に発明の構成等の記載があることを要すると解される。そして、この規定のいう「実施」とは、物の発明においては、当該発明にかかる物の生産、使用等をいうものであるから、実施可能要件を満たすといえるためには、明細書の発明の詳細な説明の記載は、当業者が当該発明に係るものを生産し、使用することができる程度のものでなければならない。 ここでは、実施例１に対応する本件発明１を、当業者が、明細書の発明の詳細な説明及び出願時の技術常識に基づいて、過度の試行錯誤を要することなく、生産することができる程度の記載があるか否かで判断する。 （イ）本件明細書の発明の詳細な説明の記載 ａ 本件明細書には以下の記載がある。 「【００２４】 ジクロロシランを含むシラン系ガスは流路５から蒸留塔１へと導かれる。このシラン系ガスは、塩化水素、モノシラン、モノクロロシラン、ジシラン、ホウ素化合物といったような、ジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物（低沸点不純物）を含有している。このとき、例えば供給口Ａから、ヘリウム、アルゴン、窒素、水素の何れかのガス若しくはこれらの何れかの混合ガスといったような不活性ガスが蒸留塔１へと導入されている。その結果、ジクロロシランを含むシラン系ガスは、蒸留塔１内で、上記不活性ガスと接触する。 【００２５】 蒸留塔１の上部に着目すると、シラン系ガスに含まれている上記不純物は、蒸留塔１内に供給された不活性ガスに同伴されるかたちで塔頂部へと導かれ、ジクロロシランガスとともに、凝縮器２へと送られる。凝縮器２では、ジクロロシランガスが液化され、低沸点物ガスは流路９を介して系外排出される一方、ジクロロシラン液は還流タンク３へと送られる。還流タンク３では、液化したジクロロシランが流路８を介して系外へと取り出される一方、ガス成分は流路７を介して蒸留塔１に戻される。 ・・・ 【００２７】 蒸留塔１の底部に着目すると、塔底の液は、その一部が流路６Ａを介してポンプにより強制的に供給側の流路５に送液される一方、残りの液が流路６Ｂを介して加熱器４へと送液される。加熱器４で加熱された液は熱対流により蒸留塔１へと戻される。 ・・・ 【００４１】 還流冷却器および蒸留塔を備えた内容量が１３ｍ3のＳＵＳ容器を窒素ガスで十分に置換した後、該ＳＵＳ容器に、低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガス（８トン）の仕込を行った。原料ガスの成分は表１に纏めた。なお、当該表１に示したＳＴＣはテトラクロロシラン、ＴＣＳはトリクロロシラン、ＤＣＳはジクロロシラン、Ｎｍ3は流量単位のノルマルリューベ、ＭＣＳはモノクロロシラン、Ｂは硼素（ボロン）の意味である。 【００４２】 次いで、蒸留塔の内部圧力を０．０３ＭＰａ、塔頂温度を１６．５℃に維持する条件で蒸留運転を行った。なお、運転中の還流は２トン／ｈｒであり、缶出からの蒸留塔への戻し量は１トン／ｈｒであった。 【００４３】 この条件下において、上記の還流量および戻し量の総和(ペーパーロード量）に対して１．３ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６Ｎｍ3／ｈｒ導入した。このときの運転状態を図２に示した。 【００４４】 精製後のシラン系ガスの成分分析を行ったところ、ジクロロシラン濃度は９９．９ｗｔ％であり、残りの０．１ｗｔ％はモノクロロシランであった。また、ジクロロシラン中のボロン成分の濃度は０．０２ｐｐｂａであった。なお、精製前の原料中のモノクロロシラン濃度は２．４ｗｔ％であり、ボロン成分の濃度は４．５ｐｐｂａである。」 ｂ 上記ａの記載からは、「還流冷却器および蒸留塔を備えた内容量が１３ｍ3のＳＵＳ容器を窒素ガスで十分に置換した後、該ＳＵＳ容器に、低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガス（８トン）の仕込を行」い、「蒸留塔の内部圧力を０．０３ＭＰａ、塔頂温度を１６．５℃に維持」し、「不純物」を「不活性ガスに同伴されるかたちで」「ジクロロシランガスとともに」「蒸留塔」の「塔頭部」から「凝縮器へと送」り、「凝縮器」では「ジクロロシランガスが液化され」、かつ、「低沸点物ガス」が「流路」「を介して系外排出」され、「液化した」「ジクロロシラン液」は「還流タンクへと送られ」、「還流タンク」から「ジクロロシラン」の「ガス成分」が「流路」「を介して蒸留塔」「に戻され」、「運転中の還流」を「２トン／ｈｒ」とし、「還流タンク」から「液化したジクロロシランが流路」「を介して系外へと取り出され」、「塔底の液は、その一部が流路」「を介してポンプにより強制的に供給側の流路」「に送液され」、「缶出からの蒸留塔への戻し量」を「１トン／ｈｒ」とし、「還流量および戻し量の総和(ペーパーロード量）に対して１．３ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６Ｎｍ3／ｈｒ導入」し、「ジクロロシランを含むシラン系ガスは、蒸留塔」内で「不活性ガスと接触」することで、濃度９９．９ｗｔ％のジクロロシランを得ることができることが理解できる。 （ウ）上記（イ）を踏まえた実施可能要件の判断 ａ 上記（イ）ｂで述べた「還流冷却器および蒸留塔を備えた内容量が１３ｍ3のＳＵＳ容器を窒素ガスで十分に置換した後、該ＳＵＳ容器に、低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガス（８トン）の仕込を行」い、「凝縮器」で「低沸点物ガス」が「流路」「を介して系外排出」され、「還流タンク」から「液化したジクロロシランが流路」「を介して系外へと取り出」される点は、（精製前の不純物を含む）クロロシラン系ガスを仕込み、蒸留塔及び凝縮器を用いて不純物である低沸点物ガス（蒸気圧が高いガス）を除去し、純度の高められたジクロロシランを液として系外へ取り出しているものであるから、本件発明１の「シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程」点に対応する。 ｂ 上記（イ）ｂで述べた、「不純物」を「不活性ガスに同伴されるかたちで」「ジクロロシランガスとともに」「蒸留塔」の「塔頭部」から「凝縮器へと送」り、「凝縮器」で「ジクロロシランガスが液化され」、「液化した」「ジクロロシラン液」は「還流タンクへと送られ」、「還流タンク」から「ジクロロシラン」の「ガス成分」が「流路」「を介して蒸留塔」「に戻され」、「運転中の還流」を「２トン／ｈｒ」とする点は、ジクロロシランが、気体状態で蒸留塔から凝縮器へ向かい、凝縮器で液化した後に還流タンクへ向かい、還流タンク内で液体から気体に戻った後に還流タンクから蒸留塔に戻される、つまり還流しているものであるから、本件発明１の「シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程」に対応する。 ｃ 上記（イ）ｂで述べた、「塔底の液は、その一部が流路」「を介してポンプにより強制的に供給側の流路」「に送液され」、「缶出からの蒸留塔への戻し量」を「１トン／ｈｒ」とする点は、塔底の液が供給側の流路に送られて再び蒸留塔に戻る、つまり缶出戻しをしているものであるから、本件発明１の「蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程」に対応する。 ｄ 上記（イ）ｂで述べた、「高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６Ｎｍ3／ｈｒ導入」し、「ジクロロシランを含むシラン系ガスは、蒸留塔」内で、「不活性ガスと接触」する点は、不活性ガスであるＮ2ガスとシラン系ガスを接触させているものであるから、本件発明１の「前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触」する点に対応する。 ｅ 上記（イ）ｂで述べた、「還流量および戻し量の総和(ペーパーロード量）に対して１．３ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６Ｎｍ3／ｈｒ導入」する点は、０．２ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下の数値範囲に収まる「１．３ｍｏｌ％」の不活性ガス（Ｎ2ガス）を導入しているものであるから、本件発明１の「不活性ガスの供給量は、前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で０．２ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下」に対応する。 ｆ 上記（イ）ｂで述べた、「塔頂温度を１６．５℃に維持」する点は、ジクロロシランの精製を行っている蒸留塔の塔頂の温度を、２５℃よりも低い１６．５℃に維持しているものであるから、本件発明１の「蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」点に対応する。 ｇ 上記ａ～ｆを踏まえると、上記（イ）ｂで述べた、「還流冷却器および蒸留塔を備えた内容量が１３ｍ3のＳＵＳ容器を窒素ガスで十分に置換した後、該ＳＵＳ容器に、低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガス（８トン）の仕込を行」い、「蒸留塔の内部圧力を０．０３ＭＰａ、塔頂温度を１６．５℃に維持」し、「不純物」を「不活性ガスに同伴されるかたちで」「ジクロロシランガスとともに」「蒸留塔」の「塔頭部」から「凝縮器へと送」り、「凝縮器」では「ジクロロシランガスが液化され」、かつ、「低沸点物ガス」が「流路」「を介して系外排出」され、「液化した」「ジクロロシラン液」は「還流タンクへと送られ」、「還流タンク」から「ジクロロシラン」の「ガス成分」が「流路」「を介して蒸留塔」「に戻され」、「運転中の還流」を「２トン／ｈｒ」とし、「還流タンク」から「液化したジクロロシランが流路」「を介して系外へと取り出され」、「塔底の液は、その一部が流路」「を介してポンプにより強制的に供給側の流路」「に送液され」、「缶出からの蒸留塔への戻し量」を「１トン／ｈｒ」とし、「還流量および戻し量の総和(ペーパーロード量）に対して１．３ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６Ｎｍ3／ｈｒ導入」し、「ジクロロシランを含むシラン系ガスは、蒸留塔」内で「不活性ガスと接触」するという方法を採用することにより、本件発明１の「シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え、該蒸留精製工程が、シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含み、該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、前記不活性ガスの供給量は、前記還流工程における還流量と前記缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で０．２ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下であり、前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」という条件を満たすジクロロシランの精製方法を実行することは、十分可能であるといえる。 そうすると、上記（イ）ａで摘示した本件明細書の発明の詳細な説明の記載に基づけば、本件発明１のジクロロシランの精製方法を実施するのに、当業者に期待し得る程度を超える試行錯誤又は複雑高度な実験等をする必要があるとはいえず、当業者であれば、本件明細書の発明の詳細な説明の記載により、本件発明を実施することができるというべきであるから、本件明細書の詳細な説明の記載は、本件発明１について実施可能要件を満たしているといえる。 ウ 申立人の主張について 上記イで述べたように、本件明細書の発明の詳細な説明の記載は、本件発明１に対して実施可能要件を満たしているのであるから、申立人の上記アの主張は本件における実施可能要件の判断を左右するものではないが、念のため、申立人の主張についても検討する。 （ア）一般的に、生産方法は、連続式生産方法と、バッチ式生産方法とに分けられる。連続式生産方法というのは、原料供給、生産、製品取出を同時並行で行う方法であり、バッチ式生産方式というのは、原料供給、生産、製品取出を順次切り替えて行う方式である。 ここで、バッチ式生産方式の場合、生産と原料供給および製品取出は同時には実施されないが、生産中に原料供給及び製品取出しを同時に行わないからといって、生産をしていないということにはならない。 （イ）本件図面の【図２】は、「運転状態を示した」（【００４３】）ものであり、シラン系ガスの流路５については「×：供給せず」の文字が、ジクロロシラン液の流路８については「×：取出せず」との文字が付されている。 このことから、本件発明の実施例１（【図２】）として記載されたジクロロシラン液の精製方法は、運転中には、最終製品であるジクロロシラン液の取出しを行わない、つまり、バッチ式の生産方法を採用した精製方法であるとわかる。 【図２】 ［図：0001404793000005.jpg］ （ウ）申立人は、「図２において「５」からは供給せず、「８」からは取出せず、「１０」からも排出しないのであるから、何も生産していない」と主張するが、上記（イ）で述べたとおり、【図２】はバッチ式の生産方法であり、バッチ式の生産方法において、生産（精製）と、原料供給（流路５からのシラン系ガスの供給）および製品取出（流路８からのジクロロシラン液の取出）を同時に行わないからといって、生産をしていないということにはならないことは上記（ア）で述べたとおりであるから、申立人の主張は採用できない。 なお補足すると、流路１０は、精製途中の缶出液を排出する流路であり、生産中（精製中）に流路１０から缶出液を抜いてしまうと最終的に得られるジクロロシラン液が減ってしまうため、生産中（精製中）に流路１０から排出を行わないことは自然であり、生産中（精製中）に流路１０から排出を行っていないからといって、生産（精製）をしていないということにはならない。 （２）第４の２（２）イの理由について ア 特許異議申立書に記載の論拠 第４の２（２）イの理由の概要は以下のとおりである。 本件明細書の【図３】は実施例４の運転状態を示すものであるが、シラン系ガスの供給量が「１０００ｋｇ／ｈｒ」と６Ａからのシラン系ガス缶戻しが「１０００ｋｇ／ｈｒ」の合計「２０００ｋｇ／ｈｒ」であるのに対し、シラン系ガス留出が「２０００ｋｇ／ｈｒ」と６Ａからのシラン系ガス缶戻しの「１０００ｋｇ／ｈｒ」の合計「３０００ｋｇ／ｈｒ」となり、インアウトがバランスしていない。これは技術的にあり得ない状況であり、本件明細書の記載は不明確なものである。 イ 第４の２（２）イの理由に関する当審の判断 本件明細書の【図３】は実施例４の運転状態を示しており、実施例４に対応する発明は本件発明８である。そのため、本件発明８が実施可能要件を充足するかについて以下検討を行う。 （ア）本件発明における実施可能要件の判断手法 実施可能要件の判断手法については、上記（１）イ（ア）と同様であるので、実施例４に対応する本件発明８を、当業者が、明細書の発明の詳細な説明及び出願時の技術常識に基づいて、過度の試行錯誤を要することなく、生産することができる程度の記載があるか否かで判断する。 （イ）本件明細書の発明の詳細な説明の記載 ａ 本件明細書には以下の記載がある。 「【００２４】 ジクロロシランを含むシラン系ガスは流路５から蒸留塔１へと導かれる。このシラン系ガスは、塩化水素、モノシラン、モノクロロシラン、ジシラン、ホウ素化合物といったような、ジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物（低沸点不純物）を含有している。このとき、例えば供給口Ａから、ヘリウム、アルゴン、窒素、水素の何れかのガス若しくはこれらの何れかの混合ガスといったような不活性ガスが蒸留塔１へと導入されている。その結果、ジクロロシランを含むシラン系ガスは、蒸留塔１内で、上記不活性ガスと接触する。 【００２５】 蒸留塔１の上部に着目すると、シラン系ガスに含まれている上記不純物は、蒸留塔１内に供給された不活性ガスに同伴されるかたちで塔頂部へと導かれ、ジクロロシランガスとともに、凝縮器２へと送られる。凝縮器２では、ジクロロシランガスが液化され、低沸点物ガスは流路９を介して系外排出される一方、ジクロロシラン液は還流タンク３へと送られる。還流タンク３では、液化したジクロロシランが流路８を介して系外へと取り出される一方、ガス成分は流路７を介して蒸留塔１に戻される。 ・・・ 【００２７】 蒸留塔１の底部に着目すると、塔底の液は、その一部が流路６Ａを介してポンプにより強制的に供給側の流路５に送液される一方、残りの液が流路６Ｂを介して加熱器４へと送液される。加熱器４で加熱された液は熱対流により蒸留塔１へと戻される。 ・・・ 【００３２】 また、前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であることが好ましく、より好ましくは、３ｍｏｌ％以下である。これは、不活性ガスの供給モル分率が大きすぎると回収効率が低下するためである。 ・・・ 【００５３】 還流冷却器および蒸留塔を備えた内容量が１３ｍ3のＳＵＳ容器を窒素ガスで十分に置換した後、該ＳＵＳ容器に、低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガス（８トン）の仕込を行うのは実施例１と同様である。原料ガスの成分は表１に纏めた。 【００５４】 次いで、蒸留塔の内部圧力を０．０３ＭＰａ、塔頂温度を１６．５℃に維持する条件で蒸留運転を行った。なお、運転中の還流は２トン／ｈｒであり、缶出からの蒸留塔への戻し量は１トン／ｈｒであった。さらに、仕込んだものと同じ成分の低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガスを、シラン系ガス供給口から１トン／ｈｒで供給した。このときの運転状態を図３に示した。 【００５５】 この条件下において、上記の還流量および戻し量の総和(ペーパーロード量）に対して９．７ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６０Ｎｍ3／ｈｒ導入した。 【００５６】 精製後のシラン系ガスの成分分析を行ったところ、ジクロロシラン濃度は９９．９５ｗｔ％であり、残りの０．０５ｗｔ％はモノクロロシランであった。また、ジクロロシラン中のボロン成分の濃度は０．００６ｐｐｂａであった。」 ｂ 上記ａで摘記した【００５４】には「仕込んだものと同じ成分の低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガスを、シラン系ガス供給口から１トン／ｈｒで供給した。」と記載されている。このクロロシラン系ガスは蒸留塔に導入されることになるので、精製対象のガスの一部である。そして、精製対象のガスの一部であるならば、不活性ガス（Ｎ2ガス）の供給量を算出する際の対象となる「ペーパーロード量」に含まれることになる。 ｃ 上記ａ及びｂからは、「還流冷却器および蒸留塔を備えた内容量が１３ｍ3のＳＵＳ容器を窒素ガスで十分に置換した後、該ＳＵＳ容器に、低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガス（８トン）の仕込を行」い、「蒸留塔の内部圧力を０．０３ＭＰａ、塔頂温度を１６．５℃に維持」し、「不純物」を「不活性ガスに同伴されるかたちで」「ジクロロシランガスとともに」「蒸留塔」の「塔頭部」から「凝縮器へと送」り、「凝縮器」では「ジクロロシランガスが液化され」、かつ、「低沸点物ガス」が「流路」「を介して系外排出」され、「液化した」「ジクロロシラン液」は「還流タンクへと送られ」、「還流タンク」から「ジクロロシラン」の「ガス成分」が「流路」「を介して蒸留塔」「に戻され」、「運転中の還流」を「２トン／ｈｒ」とし、「還流タンク」から「液化したジクロロシランが流路」「を介して系外へと取り出され」、「塔底の液は、その一部が流路」「を介してポンプにより強制的に供給側の流路」「に送液され」、「缶出からの蒸留塔への戻し量」を「１トン／ｈｒ」とし、「仕込んだものと同じ成分の低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガスを、シラン系ガス供給口から１トン／ｈｒで供給し」、「シラン系ガス供給口から」の供給量、「還流量」および「戻し量の総和(ペーパーロード量）に対して９．７ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６０Ｎｍ3／ｈｒ導入」し、「ジクロロシランを含むシラン系ガスは、蒸留塔」内で、「不活性ガスと接触」することで、濃度９９．９５ｗｔ％のジクロロシランを得ることができることが理解できる。 （ウ）上記（イ）を踏まえた実施可能要件の判断 ａ 上記（イ）ｃで述べた「還流冷却器および蒸留塔を備えた内容量が１３ｍ3のＳＵＳ容器を窒素ガスで十分に置換した後、該ＳＵＳ容器に、低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガス（８トン）の仕込を行」い、「凝縮器」で「低沸点物ガス」が「流路」「を介して系外排出」され、「還流タンク」から「液化したジクロロシランが流路」「を介して系外へと取り出」される点は、（精製前の不純物を含む）クロロシラン系ガスを仕込み、蒸留塔及び凝縮器を用いて不純物である低沸点物ガス（蒸気圧が高いガス）を除去し、純度の高められたジクロロシランを液として系外へ取り出しているものであるから、本件発明８の「シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程」点に対応する。 ｂ 上記（イ）ｃで述べた、「仕込んだものと同じ成分の低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガスを、シラン系ガス供給口から１トン／ｈｒで供給」する点は、シラン系ガスである「仕込んだものと同じ成分の」「クロロシラン系ガス」を供給しているものであるから、本件発明８の「シラン系ガスを、シラン系ガス供給口から供給する工程」に対応する。 ｃ 上記（イ）ｃで述べた、「不純物」を「不活性ガスに同伴されるかたちで」「ジクロロシランガスとともに」「蒸留塔」の「塔頭部」から「凝縮器へと送」り、「凝縮器」で「ジクロロシランガスが液化され」、「液化した」「ジクロロシラン液」は「還流タンクへと送られ」、「還流タンク」から「ジクロロシラン」の「ガス成分」が「流路」「を介して蒸留塔」「に戻され」、「運転中の還流」を「２トン／ｈｒ」とする点は、ジクロロシランが、気体状態で蒸留塔から凝縮器へ向かい、凝縮器で液化した後に還流タンクへ向かい、還流タンク内で液体から気体に戻った後に還流タンクから蒸留塔に戻される、つまり還流しているものであるから、本件発明８の「シラン系ガスを」「蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程」に対応する。 ｄ 上記（イ）ｃで述べた、「塔底の液は、その一部が流路」「を介してポンプにより強制的に供給側の流路」「に送液され」、「缶出からの蒸留塔への戻し量」を「１トン／ｈｒ」とする点は、塔底の液が供給側の流路に送られて再び蒸留塔に戻る、つまり缶出戻しをしているものであるから、本件発明８の「蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程」に対応する。 ｅ 上記（イ）ｃで述べた、「高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６０Ｎｍ3／ｈｒ導入」し、「ジクロロシランを含むシラン系ガスは、蒸留塔」内で、「不活性ガスと接触」する点は、不活性ガスであるＮ2ガスとシラン系ガスを接触させているものであるから、本件発明８の「前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触」する点に対応する。 ｆ 上記（イ）ｃで述べた、「シラン系ガス供給口から」の供給量、「還流量」および「戻し量の総和(ペーパーロード量）に対して９．７ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６０Ｎｍ3／ｈｒ導入」する点は、３０ｍｏｌ％以下の数値範囲に収まる「９．７ｍｏｌ％」の不活性ガス（Ｎ2ガス）を導入しているものであるから、本件発明８の「不活性ガスの供給量は、前記シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下」に対応する。 ｇ 上記（イ）ｃで述べた、「塔頂温度を１６．５℃に維持」する点は、ジクロロシランの精製を行っている蒸留塔の塔頂の温度を、２５℃よりも低い１６．５℃に維持しているものであるから、本件発明８の「蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」点に対応する。 ｈ 上記ａ～ｇを踏まえると、上記（イ）ｃで述べた、「還流冷却器および蒸留塔を備えた内容量が１３ｍ3のＳＵＳ容器を窒素ガスで十分に置換した後、該ＳＵＳ容器に、低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガス（８トン）の仕込を行」い、「蒸留塔の内部圧力を０．０３ＭＰａ、塔頂温度を１６．５℃に維持」し、「不純物」を「不活性ガスに同伴されるかたちで」「ジクロロシランガスとともに」「蒸留塔」の「塔頭部」から「凝縮器へと送」り、「凝縮器」では「ジクロロシランガスが液化され」、かつ、「低沸点物ガス」が「流路」「を介して系外排出」され、「液化した」「ジクロロシラン液」は「還流タンクへと送られ」、「還流タンク」から「ジクロロシラン」の「ガス成分」が「流路」「を介して蒸留塔」「に戻され」、「運転中の還流」を「２トン／ｈｒ」とし、「還流タンク」から「液化したジクロロシランが流路」「を介して系外へと取り出され」、「塔底の液は、その一部が流路」「を介してポンプにより強制的に供給側の流路」「に送液され」、「缶出からの蒸留塔への戻し量」を「１トン／ｈｒ」とし、「仕込んだものと同じ成分の低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガスを、シラン系ガス供給口から１トン／ｈｒで供給し」、「シラン系ガス供給口から」の供給量、「還流量」および「戻し量の総和(ペーパーロード量）に対して９．７ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６０Ｎｍ3／ｈｒ導入」し、「ジクロロシランを含むシラン系ガスは、蒸留塔」内で、「不活性ガスと接触」するという方法を採用することにより、本件発明８の「シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え、該蒸留精製工程が、シラン系ガスを、シラン系ガス供給口から供給する工程と、蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程と、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程とを含み、該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、前記不活性ガスの供給量は、前記シラン系ガス供給口から供給される量、前記還流工程における還流量及び前記缶出戻し工程における戻し量の総和に対して、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であり、前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下である」との条件を満たすジクロロシランの精製方法を実行することは、十分可能であるといえる。 そうすると、上記（イ）ａで摘示した本件明細書の発明の詳細な説明の記載に基づけば、本件発明８のジクロロシランの精製方法を実施するのに、当業者に期待し得る程度を超える試行錯誤又は複雑高度な実験等をする必要があるとはいえず、当業者であれば、本件明細書の発明の詳細な説明の記載により、本件発明を実施することができるというべきであるから、本件明細書の詳細な説明の記載は、本件発明８について実施可能要件を満たしているといえる。 ウ 申立人の主張について 上記イで述べたように、本件明細書の発明の詳細な説明の記載は本件発明８に対して実施可能要件を満たしているのであるから、申立人の上記アの主張は本件における実施可能要件の判断を左右するものではないが、念のため申立人の主張についても検討する。 （ア）本件明細書【００５４】の「運転中の還流は２トン／ｈｒ」、【図３】の「シラン系ガス留出２０００ｋｇ／ｈｒ」との記載、及び、【００２５】の「蒸留塔１の上部に着目すると、シラン系ガスに含まれている上記不純物は、蒸留塔１内に供給された不活性ガスに同伴されるかたちで塔頂部へと導かれ、ジクロロシランガスとともに、凝縮器２へと送られる。凝縮器２では、ジクロロシランガスが液化され、低沸点物ガスは流路９を介して系外排出される一方、ジクロロシラン液は還流タンク３へと送られる。還流タンク３では、液化したジクロロシランが流路８を介して系外へと取り出される一方、ガス成分は流路７を介して蒸留塔１に戻される。」との記載からは、蒸留塔１の塔頂から凝縮器２へ還流として２トン（２０００ｋｇ）／ｈｒが流出（アウト）すること、２トン（２０００ｋｇ）／ｈｒから系外排出される不純物と還流タンク３に残り最終的に系外へ取り出されるジクロロシラン液を除いた残部が還流タンク３から蒸留塔１へと戻される（イン）ことがわかる。 【図３】 ［図：0001404793000006.jpg］ （イ）本件明細書【００２３】の「図１は、本発明に係るジクロロシランの精製方法を説明するためのブロック図である。図中、符号１は蒸留塔、符号２は凝縮器、符号３は還流タンク、符号４は加熱器、符号５はシラン系ガスの流路、符号６は缶出戻し液の流路、符号７は還流液の流路、符号８はジクロロシラン液の流路、符号９は低沸点物ガスの流路、符号１０は缶出液の流路である。」との記載、【００２７】の「蒸留塔１の底部に着目すると、塔底の液は、その一部が流路６Ａを介してポンプにより強制的に供給側の流路５に送液される一方、残りの液が流路６Ｂを介して加熱器４へと送液される。加熱器４で加熱された液は熱対流により蒸留塔１へと戻される。」との記載、【００５４】の「缶出からの蒸留塔への戻し量は１トン／ｈｒであった。さらに、仕込んだものと同じ成分の低沸分を不純物として含むクロロシラン系ガスを、シラン系ガス供給口から１トン／ｈｒで供給した。」との記載、及び、【図３】に図示された流路６Ａ、６Ｂ、１０の接続構成及び「シラン系ガス缶出戻し１０００ｋｇ／ｈｒ」「シラン系ガス供給１０００ｋｇ／ｈｒ」との記載からすると、蒸留塔１の底部から流路６Ａへ１トン（１０００ｋｇ）／ｈｒで流出（アウト）すること、蒸留塔１の底部から流路６Ｂへ具体的な流量は不明であるものの流出（アウト）すること、蒸留塔１の底部から流路１０へ具体的な流量は不明であるものの流出（アウト）すること、蒸留塔１の底部から流路６Ｂへ流れた全量が加熱器４から蒸留塔１へ戻される（イン）こと、「シラン系ガス缶出戻し１トン（１０００ｋｇ）／ｈｒ」と「シラン系ガス供給１トン（１０００ｋｇ）／ｈｒ」の合計である２トン／ｈｒが蒸留塔１へ供給（イン）されることがわかる。 （ウ）本件明細書【００５５】には「上記の還流量および戻し量の総和(ペーパーロード量）に対して９．７ｍｏｌ％の高純度Ｎ2ガスを、蒸留塔の中段から、６０Ｎｍ3／ｈｒ導入した。」との記載があることから、蒸留塔に対して、６０Ｎｍ3／ｈｒのＮ2ガスが導入（イン）されていることがわかる。 （エ）本件明細書の【００５４】には、「蒸留塔の内部圧力を０．０３ＭＰａ、塔頂温度を１６．５℃に維持する条件で蒸留運転を行った。」との記載がある。温度と圧力が一定であるということは、蒸留塔内のガス量が概ね等量に保たれていることを意味している。 （オ）上記（ア）～（ウ）を踏まえると、蒸留塔１へのインは、 ・還流タンク３から蒸留塔１へと戻される２トン（２０００ｋｇ）／ｈｒから系外排出される不純物と還流タンク３に残り最終的に系外へ取り出されるジクロロシラン液を除いた残部 ・蒸留塔１の底部から流路６Ｂへ流れた全量が加熱器４から蒸留塔１へと戻されるもの ・蒸留塔１へ供給供給される、「シラン系ガス缶出戻し１トン（１０００ｋｇ）／ｈｒ」と「シラン系ガス供給１トン（１０００ｋｇ）／ｈｒ」の合計である２トン／ｈｒ ・蒸留塔の中段から導入される６０Ｎｍ3／ｈｒのＮ2ガス の４種類であり、蒸留塔１からのアウトは、 ・蒸留塔１の塔頂から凝縮器２への還流、２トン（２０００ｋｇ）／ｈｒ ・蒸留塔１の底部から流路６Ａへの流れ、１トン（１０００ｋｇ）／ｈｒ ・蒸留塔１の底部から流路６Ｂへの流れ ・蒸留塔１の底部から流路１０への流れ の４種であると理解できる。そして、上記（エ）を踏まえると、蒸留塔内のガス量は概ね等量となるため、インの合計量とアウトの合計量は釣り合うことになる。 ｆ 申立人は、インをシラン系ガス供給１０００ｋｇ／ｈｒと６Ａからのシラン系ガス缶出戻し１０００ｋｇ／ｈｒの合計２０００ｋｇ／ｈｒ、アウトをシラン系ガス留出２０００ｋｇ／ｈｒと６Ａからのシラン系ガス缶出戻し１０００ｋｇ／ｈｒの合計３０００ｋｇ／ｈｒとし、インアウトがバランスしないと主張するが、インアウトの内訳は上記ｅのとおりであるため、インアウトがバランスしないとの主張は前提を欠き、採用することができない。 ５ 申立理由３（進歩性欠如）について （１）甲１～２に記載の事項（「・・・」は省略を表す。下線は当審にて付与した。） ア 甲１に記載の事項 （ア）「【請求項５】 ホウ素化合物量を低減した多結晶シリコンの製造方法であって、 流動層反応炉においてトリクロロシランを含有する反応ガスを生成するために、金属級シリコンを塩化水素と反応させるステップと、 前記流動層反応炉から蒸留ユニットへと延設されたトリクロロシランラインへ、不活性ガスを供給するステップと、 ベントガスを連続的に排出しつつ、精製のためにトリクロロシランを蒸留するステップと、 多結晶シリコンをシリコン芯棒上に析出するステップとを備えることを特徴とする方法。 【請求項６】 前記不活性ガスはＡｒガスであることを特徴とする請求項５に記載の多結晶シリコンの製造方法。 【請求項７】 蒸留後のトリクロロシランは、したがって約０．０３０ｐｐｂｗｔ未満のホウ素化合物に精製されることを特徴とする請求項５に記載の多結晶シリコンの製造方法。」 （イ）「【０００１】 本発明は、ホウ素化合物量を低減した多結晶シリコンの製造装置および製造方法に関する。特にホウ素化合物は、トリクロロシランを蒸留により精製されることで、多結晶シリコン製造プロセスにおいて除去される。 【背景技術】 【０００２】 多結晶シリコンは、シーメンス法として知られているプロセスにおいて、トリクロロシランと水素ガスとの反応により生成される。シーメンス法において、高純度多結晶シリコンは、化学式（１）で示されたトリクロロシランの水素還元および化学式（２）で示されたトリクロロシランの熱分解により、多結晶シリコンのシードロッド上に析出される。」 ・・・ 【０００８】 本発明の目的の１つは、ホウ素化合物量を低減した多結晶シリコンの製造装置および製造方法を提供することである。 ・・・ 【００１０】 本発明はまた、ホウ素化合物量を減じた多結晶シリコンの製造方法に関し、本方法は以下のステップを有する。（Ａ）流動層反応炉内における、ＴＣＳを含有する反応ガスを生成するための金属級シリコンと塩化水素との反応。（Ｂ）流動層反応炉から蒸留ユニットに延設されたＴＣＳラインへの不活性ガスの供給。（Ｃ）ベントガスを連続的に放出する処理における、ＴＣＳ精製のための蒸留。（Ｄ）多結晶シリコンのシリコン芯棒上への析出。 【００１１】 本発明の装置は、９８重量％以上の純度を有する金属級シリコン顆粒を塩化水素と反応させる流動層反応炉を備える。未精製ＴＣＳは、流動層反応炉内において、約２８０℃（５３６°Ｆ）～約３２０℃（６０８°Ｆ）での反応により生成される。この温度範囲は、金属級シリコン顆粒と塩化水素ガスとの間の反応を促進するのに有効であり、塩化水素ガスが流動層反応炉中に均一に分散される。未精製ＴＣＳはホウ素化合物を含有し、凝縮された後にＴＣＳタンクへと供給される。 【００１２】 ＴＣＳタンクは、ＴＣＳを回収するために設けられ、ＴＣＳを連続的に蒸留プロセスへと供給することができる。ＴＣＳタンクは、ＴＣＳラインを介して蒸留プロセスへと接続されている。本発明においては、例えばＨｅ、Ｎ2、Ａｒのような不活性ガスを不活性ガス供給ユニットを経由して、ＴＣＳ１ｋｇ当り約１．７×１０-4Ｎｍ3の流量（もしくはＴＣＳ１ｋｇ当り約１．０×１０-5Ｎｍ3～約３．３×１０-4Ｎｍ3の範囲の流量）でＴＣＳラインへ供給する。 【００１３】 ＴＣＳは、ＴＣＳタンクから複数の蒸留ユニットを備えた蒸留プロセスへと供給される。各蒸留ユニットは、蒸留塔（もしくはカラム）、凝縮器、リボイラ、およびポンプを有する。通常、蒸留塔では連続的な分留が行われる。次に、第１蒸留プロセスにおいて、第１蒸留塔の塔頂部の蒸留温度を、およそトリクロロシランの沸点とおよそ四塩化ケイ素の沸点との間に設定することにより、トリクロロシランを蒸発し、蒸気留分として分離する。より具体的には、９６ｋＰａ（ゲージ圧）における蒸留塔頂部の温度を、約４６℃（１１５°Ｆ）～約５６℃（１３３°Ｆ）の間に設定する。蒸留プロセスにおいては、沸点の高いホウ素化合物、四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ4、略称「ＳＴＣ」、沸点：５７．６℃）、ポリマー、および「底部残留物」としての少量のＴＣＳを分離する。プロセスからの蒸気蒸留物すなわち蒸気留分は、沸点すなわち沸騰温度の低いホウ素化合物、ＴＣＳ、および少量のジクロロシラン（略称「ＤＣＳ」、沸点：８．４℃）を含有する。 【００１４】 蒸気留分は凝縮器に供給され、液体へと凝縮される。凝縮器は排気ラインを有し、圧力変換器および圧力独立制御弁（以降「ＰＩＣ－Ｖ」と称する）が排気ライン内に設置される。圧力変換器は、凝縮器内の圧力を検出する。凝縮器内の圧力が所定の圧力を超過すると、ＰＩＣ－Ｖが開放され、凝縮器内の圧力が一定圧力付近に維持される。本発明においては、不活性ガスがＴＣＳラインに供給されることにより、ＰＩＣ－Ｖが連続的に開放される。例えばジボラン（Ｂ2Ｈ6）、トリクロロボラン（ＢＣｌ3）、テトラボラン（Ｂ4Ｈ10）のような沸点の低いホウ素化合物は、凝縮器内で気体状態に留まり、排気ラインを介してプロセスから排出される。凝縮されたＴＣＳは、ポンプにより蒸留塔へと還流される。凝縮されたＴＣＳの一部は、他の、あるいは次の蒸留塔へと供給され、次の蒸留ユニットにて蒸留が繰り返される。 【００１５】 蒸留物が蒸留塔の底部からリボイラへと供給される。残留物は加熱され、蒸留塔へ還流される。ペンタボラン（Ｂ5Ｈ9）、ペンタボラン（Ｂ5Ｈ11）、テトラクロロジボラン（Ｂ2Ｃｌ4）、ヘキサボラン（Ｂ6Ｈ10）、デカボラン（Ｂ10Ｈ14）のような沸点の高いホウ素化合物を含有した液体残留物が、リボイラから排出される。 【００１６】 その後、第２蒸留プロセスにおいては、蒸留塔頂部の蒸留温度が、およそジクロロシランの沸点とおよそトリクロロシランの沸点との間に設定される。つまり、第２蒸留塔頂部の温度は、１２５ｋＰａ（ゲージ圧）にて、約５０℃（１２２°Ｆ）～約６０℃（１４０°Ｆ）の間に設定されるのが好ましい。純粋なトリクロロシランが、蒸留により、第１蒸気留分より分離される。また沸点の低いホウ素化合物、ＤＣＳ、および少量のＴＣＳが第２蒸留プロセスでの蒸留物として分離される。 【００１７】 以上のプロセスが、追加の蒸留塔内で繰り返される。 【００１８】 ＴＣＳは、上述の蒸留プロセスにより精製される。精製されたＴＣＳは、多結晶シリコンを多結晶シリコン芯棒上に析出させる還元反応炉に供給される。 ・・・ 【００２６】 Ｈｅ、Ｎ2、Ａｒガス等の不活性ガス供給ユニット３は、ＴＣＳライン２２上に設置され、不活性ガス供給ユニット３は、ＴＣＳ１ｋｇ当り約１．７×１０-4Ｎｍ3の流量、もしくはＴＣＳ１ｋｇ当り約１．０×１０-5Ｎｍ3～約３．３×１０-4Ｎｍ3の流量の範囲で、不活性ガスを供給する。この流量は、後に述べるＰＩＣ－Ｖ４ｆ～６ｆを連続的に開放させるために選択したものであり、沸点の低いホウ素化合物とともに不活性ガスが連続的に放出されるようにするものである。不活性ガスは、ＴＣＳもしくは他のクロロシランと反応せず、多結晶シリコンを生成する際の障害とならない。 【００２７】 各蒸留ユニット４～６は、蒸留塔４ａ～６ａ、凝縮器４ｂ～６ｂ、ポンプ４ｄ～６ｄ、およびリボイラ４ｃ～６ｃを有する。蒸留塔４ａ～６ａにより、連続分留形式の蒸留が行われる。蒸留塔４ａ～６ａの塔頂部の蒸留温度が、およそＴＣＳの沸点付近とテトラクロロシランの沸点付近との間に設定されることにより、ＴＣＳは蒸発され、蒸気留分として分離される。より具体的には、８０ｋＰａ（ゲージ圧力）における第１蒸留塔頂部の温度は、約４５℃（１１３°Ｆ）～約５５℃（１３１°Ｆ）の間に設定される。蒸留塔頂部の温度は、蒸気留分の還流率と、リボイラの温度とにより制御される。 【００２８】 蒸気留分は、凝縮器４ｂ～６ｂに供給され、凝縮器４ｂ～６ｂにおいて液体へと凝縮される。凝縮器４ｂ～６ｂは、排気ライン２６と圧力変換器４ｅ～６ｅを有し、ＰＩＣ－Ｖ４ｆ～６ｆが、排気ライン２６上に設置される。圧力変換器４ｅ～６ｅは、凝縮器４ｂ～６ｂ内の圧力を測定する。凝縮器４ｂ～６ｂ内の圧力は、圧力変換器４ｅ～６ｅによる実測に基づき、ＰＩＣ－Ｖ４ｆ～６ｆにより均一に維持される。ＰＩＣ－Ｖ４ｆ～６ｆは、例えばそれぞれ、４ｆは９６ｋＰａＧ、５ｆは１２５ｋＰａＧ、６ｆは９６ｋＰａＧのような圧力で弁を開放するよう設定される。凝縮器４ｂ～６ｂ内の圧力が予め設定された圧力を超過すると、ＰＩＣ－Ｖが開放されることにより、凝縮器４ｂ～６ｂ内の圧力が一定に維持される。ベントガス２４は、凝縮器４ｂ～６ｂよりプロセスから放出される。通常ベントガス２４は、連続して排出される。これらのベントガスには、不活性ガスと、ジボラン（Ｂ2Ｈ6）、トリクロロボラン（ＢＣｌ3）、テトラボラン（Ｂ4Ｈ10）のような沸点の低い種々のホウ素化合物とが含有される。そのため、沸点の低いホウ素化合物は、蒸留ユニット４～６から不活性ガスとともに排出される。凝縮器４ｂ～６ｂおよび蒸留塔４ａ～６ａ内部の圧力は、ＴＣＳライン２２内に不活性ガスを加えることにより上昇するため、ＰＩＣ－Ｖは開放されたままとなる。凝縮したＴＣＳは、ポンプ４ｄ～６ｄにより蒸留塔へと還流される。凝縮したＴＣＳの一部は、次の蒸留塔へと供給されてもよく、蒸留塔の数に応じて蒸留が繰り返される。最終的に精製され、凝縮したＴＣＳが、ライン６ｇを経由して気化器７に供給される。」 （ウ）「１ 流動層反応炉 ２ トリクロロシラン（ＴＣＳ）タンクユニット ２ａ トリクロロシラン（ＴＣＳ）タンク ３ 不活性ガス供給ユニット ４，５，６ 蒸留ユニット ４ｅ，５ｅ，６ｅ 圧力変換器 ４ｆ，５ｆ，６ｆ 圧力独立制御弁（ＰＩＣ－Ｖ） ７ 気化器 ８ 還元反応炉 ２２ トリクロロシラン（ＴＣＳ）ライン 【図１】 ［図：0001404793000007.jpg］ 」 イ 甲２に記載の事項 （ア）「【請求項１】 ＴＣＳ、ＤＣＳ及びＳＴＣを含むクロロシランからなるホウ素含有混合物を準備する工程、及び複数の蒸留塔中でクロロシランからなる前記混合物を蒸留により精製する工程を有し、低沸点のホウ素化合物を、ホウ素濃度が高められたＤＣＳを含む塔頂流によって前記蒸留塔から分流し、及び高沸点のホウ素化合物を、高沸点物を含むホウ素濃度が高められた塔底流によって前記蒸留塔から分流する、クロロシランを蒸留により精製する方法。」 （イ）「【０００１】 本発明は、クロロシランの蒸留による製造方法に関する。 【背景技術】 【０００２】 例えば光起電力又は半導体工業において使用される多結晶シリコンの製造は、原料のトリクロロシラン（ＴＣＳ）から出発する。 【０００３】 このＴＣＳは、主に３つの異なる方法によって製造される。 【０００４】 Ａ） Ｓｉ ＋ ３ＨＣｌ → ＳｉＨＣｌ3 ＋ Ｈ2 ＋副生成物 Ｂ） Ｓｉ ＋ ３ＳｉＣｌ4 ＋２Ｈ2 → ４ＳｉＨＣｌ3 ＋ 副生成物 Ｃ） ＳｉＣｌ4 ＋ Ｈ2 → ＳｉＨＣｌ3 ＋ ＨＣｌ ＋ 副生成物 これらのプロセスの場合に、他の副生成物又は不純物の他に、大量のジクロロシラン（ＤＣＳ）が生じる。 【０００５】 （Ａ）による冶金学的シリコンの塩化水素処理の場合には、反応生成物中に約０．１～１．０％のＤＣＳが含まれていることは公知である。 【０００６】 （Ｂ）による冶金学的シリコンと四塩化ケイ素（ＳＴＣ）及び水素との反応は、特に、このプロセスのための触媒として銅を使用する場合に、原則として、反応生成物中に高いＤＣＳ含有量を生じさせる。 【０００７】 （Ｃ）によるＳＴＣの水素化の場合でも、反応生成物中に０．０５～１．０％のＤＣＳが見られる。 【０００８】 ＤＣＳはそれ自体、半導体工業においてシリコンの堆積のためにも、有機官能性シランの製造のためにも使用することができる有用な生成物である。 【０００９】 ただし、このことは、極めて高い純度を前提としている。例えば、半導体に適用するために、＜１０ｐｐｔａのホウ素の濃度であるのが好ましい。 ・・・ 【００４８】 ３５０～４００℃で流動層反応器中で市販の冶金学的シリコンをＨＣｌと反応させることにより得られた、ＴＣＳ ８６％、ＳＴＣ １３．５％、ＤＣＳ ０．３％、ホウ素 ３．２ｐｐｍ並びに微量の他の不純物（メチルクロロシラン、炭化水素、高沸点物、例えばシロキサン及びジシラン）を含有するクロロシラン１（図１）からの混合物を、分離塔２に供給する。 【００４９】 この場合、塔パラメータを、塔頂生成物３中にＳＴＣが１０ｐｐｍ未満含まれ、塔底生成物４中にＴＣＳが１０ｐｐｍ未満含まれるように選択する。 【００５０】 この塔底生成物４を更なる塔５に供給し、そこでＳＴＣの留分５ａと高沸点物（例えばシロキサン、ジシラン、メチルトリクロロシラン及び場合による金属塩化物）の留分５ｂとに分離する。 【００５１】 この高沸点の化合物５ｂを連続的に又はバッチ式で塔底から取り出すことができる、それというのもこの高沸点の化合物５ｂは、全体量の約１％だけに過ぎないためである。 【００５２】 この塔２の塔頂生成物３は次の塔６中で、精製されたＴＣＳを含む留分６ｂと、ＴＣＳの他に低沸点物を含む留分６ａとを分離する。 【００５３】 ＴＣＳを含む汚染されたＤＣＳの複数の付加的な流がＴＣＳよりも低い沸点を有する成分を無視できるほどわずかな量で含有する場合に限り、塔２からの塔頂生成物３に、塔６の前方で、このＴＣＳを含む汚染されたＤＣＳの複数の付加的な流れを導入することができる。 【００５４】 この留分６ｂは更なる後処理のために提供される。 【００５５】 この留分６ａは、ＤＣＳの他に、なおかなりの量のＴＣＳ及び低沸点の不純物、例えばＢＣｌ3を含有する。 【００５６】 この留分は付加的な塔７に供給され、特に有利な実施態様の場合に、付加的に不活性ガスを供給することができる。塔７は技術的に、前記塔７が過圧で運転できるように構成されている。 【００５７】 塔７からの塔底生成物７ｂは、塔２中で使用するために再び返送される。 【００５８】 塔７からの、かなりの量のホウ素を含有する排ガス７ｃは、スクラバーを介して更なる廃棄処理に供給することができる。 【００５９】 塔７からの塔頂生成物７ａは、ＤＣＳの他にホウ素不純物の大部分を含有する。 【００６０】 この流は、従って、この系からホウ素不純物を効果的な付加的搬出のために用いられる。 ・・・ 【００８１】 実施例３ 低沸点物含有のＴＣＳ留分３を塔６中で蒸留し、この場合、塔頂の取り出しは、塔頂生成物６ａ中に１０％のＤＣＳ濃度が生じるように選択した。 【００８２】 ６ａ中には８８ｐｐｍのホウ素濃度が見られ、この塔の塔底生成物６ｂは、ホウ素 １７ｐｐｂｗを含有していた。 【００８３】 記載された方法により、低沸点のホウ素化合物の９９％を越える量を、塔頂生成物を介して分離することに成功した。 【００８４】 このＤＣＳ含有留分６ｂを塔７中で、０．１～２．５ｂａｒの過圧で蒸留した。 【００８５】 塔底生成物７ｂ中で、ＤＣＳ＜１０ｐｐｍ及びホウ素 ２．６ｐｐｍを有する純粋なＴＣＳが得られた。この生成物を、塔２に返送した。 【００８６】 塔頂生成物７ａ中には、ＤＣＳ ９９．４％、モノクロロシラン ０．６％並びにホウ素 ７７０ｐｐｍが見られた。 【００８７】 全ての不純物の分離後に、このクロロシラン混合物１から、ホウ素 ２０ｐｐｂ未満の純粋なＴＣＳ約８３％を製造することができた。 【００８８】 ＴＣＳ留分７ｂの返送により、この収率は８６％に高められた。 【００８９】 更に、出発混合物の量に対して約１３％のＳＴＣ留分５ａ（１ｐｐｍのホウ素含有量を有する）、及び出発混合物の量に対して０．３％のＤＣＳ留分７ａ（ホウ素 約７７０ｐｐｍを有する）が生じた。 【００９０】 実施例４ 低沸点物を含有するＴＣＳ留分３を、実施例３に記載されたように蒸留した。 【００９１】 ただし、ＤＣＳを含有する、塔７への供給流６ａに、更に、Ｈ2Ｏ １ｐｐｍｖより少ない残留水分を有する窒素６ｃを２０ｍ3／ｈで供給した。 【００９２】 不活性ガスとして、Ａｒ又はＨ2を使用することもできる。 【００９３】 不活性ガスの供給する箇所は、流入箇所に行うか又は塔自体に行うこともできる。この実施例の場合には、不活性ガスを流入箇所に搬入した。」 （ウ）「【図１】 ［図：0001404793000008.jpg］ 」 （２）甲１に記載された発明 ア 上記（１）ア（ア）によれば、請求項５を引用する請求項７として、 「ホウ素化合物量を低減した多結晶シリコンの製造方法であって、 流動層反応炉においてトリクロロシランを含有する反応ガスを生成するために、金属級シリコンを塩化水素と反応させるステップと、 前記流動層反応炉から蒸留ユニットへと延設されたトリクロロシランラインへ、不活性ガスを供給するステップと、 ベントガスを連続的に排出しつつ、精製のためにトリクロロシランを蒸留するステップと、 多結晶シリコンをシリコン芯棒上に析出するステップとを備え、 蒸留後のトリクロロシランは、約０．０３０ｐｐｂｗｔ未満のホウ素化合物に精製される、 多結晶シリコンの製造方法。」 が記載されている。 イ 上記アに記載した多結晶シリコンの製造方法において、中間生成物である「トリクロロシラン」の「精製」に着目すると、多結晶シリコンの製造方法は、 「前記流動層反応炉から蒸留ユニットへと延設されたトリクロロシランラインへ、不活性ガスを供給するステップと、 ベントガスを連続的に排出しつつ、精製のためにトリクロロシランを蒸留するステップと、を備え、 蒸留後のトリクロロシランは、約０．０３０ｐｐｂｗｔ未満のホウ素化合物に精製される、 トリクロロシランの精製方法」 を包含しているといえる。 ウ 上記イの「トリクロロシランを蒸留するステップ」に関し、上記（１）ア（イ）には、「第１蒸留プロセスにおいて、第１蒸留塔の塔頂部の蒸留温度を、およそトリクロロシランの沸点とおよそ四塩化ケイ素の沸点との間に設定することにより、トリクロロシランを蒸発し、蒸気留分として分離する。より具体的には、９６ｋＰａ（ゲージ圧）における蒸留塔頂部の温度を、約４６℃（１１５°Ｆ）～約５６℃（１３３°Ｆ）の間に設定する。蒸留プロセスにおいては、沸点の高いホウ素化合物、四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ4、略称「ＳＴＣ」、沸点：５７．６℃）、ポリマー、および「底部残留物」としての少量のＴＣＳを分離する。プロセスからの蒸気蒸留物すなわち蒸気留分は、沸点すなわち沸騰温度の低いホウ素化合物、ＴＣＳ、および少量のジクロロシラン（略称「ＤＣＳ」、沸点：８．４℃）を含有する。」（【００１３】）及び「その後、第２蒸留プロセスにおいては、蒸留塔頂部の蒸留温度が、およそジクロロシランの沸点とおよそトリクロロシランの沸点との間に設定される。つまり、第２蒸留塔頂部の温度は、１２５ｋＰａ（ゲージ圧）にて、約５０℃（１２２°Ｆ）～約６０℃（１４０°Ｆ）の間に設定されるのが好ましい。純粋なトリクロロシランが、蒸留により、第１蒸気留分より分離される。また沸点の低いホウ素化合物、ＤＣＳ、および少量のＴＣＳが第２蒸留プロセスでの蒸留物として分離される。 」（【００１６】）との記載がある。 これら記載からは、「トリクロロシランを蒸留するステップ」が、具体的には、「第１蒸留プロセスにおいて」、「沸点すなわち沸騰温度の低いホウ素化合物、ＴＣＳ、および少量のジクロロシラン」を「蒸気留分」として分離すると共に、「沸点の高いホウ素化合物、四塩化ケイ素」、「ポリマー」、「少量のＴＣＳ」を「底部残留物」として「分離」し、「第２蒸留プロセスにおいて」、「純粋なトリクロロシラン」を「蒸留により」「分離」し、「沸点の低いホウ素化合物、ＤＣＳ、および少量のＴＣＳが」「蒸留物として分離」されるものであることがわかる。 エ 上記イの「不活性ガス」に関し、上記（１）ア（イ）には「本発明においては、例えばＨｅ、Ｎ2、Ａｒのような不活性ガスを不活性ガス供給ユニットを経由して、ＴＣＳ１ｋｇ当り約１．７×１０-4Ｎｍ3の流量（もしくはＴＣＳ１ｋｇ当り約１．０×１０-5Ｎｍ3～約３．３×１０-4Ｎｍ3の範囲の流量）でＴＣＳラインへ供給する。 」との記載があることから、「不活性ガス」を「ＴＣＳ１ｋｇ当り約１．７×１０-4Ｎｍ3の流量」で供給していることがわかる。（当審注：ＴＣＳはトリクロロシランの略である。） オ 上記イの「トリクロロシランを蒸留するステップ」に関し、上記（１）ア（イ）には、「第１蒸留プロセスにおいて、第１蒸留塔の塔頂部の蒸留温度を、およそトリクロロシランの沸点とおよそ四塩化ケイ素の沸点との間に設定することにより、トリクロロシランを蒸発し、蒸気留分として分離する。より具体的には、９６ｋＰａ（ゲージ圧）における蒸留塔頂部の温度を、約４６℃（１１５°Ｆ）～約５６℃（１３３°Ｆ）の間に設定する。」（【００１３】）及び「その後、第２蒸留プロセスにおいては、蒸留塔頂部の蒸留温度が、およそジクロロシランの沸点とおよそトリクロロシランの沸点との間に設定される。つまり、第２蒸留塔頂部の温度は、１２５ｋＰａ（ゲージ圧）にて、約５０℃（１２２°Ｆ）～約６０℃（１４０°Ｆ）の間に設定されるのが好ましい。」（【００１６】）との記載がある。 これら記載からは、「第１蒸留プロセスにおいて」「蒸留塔頂部の温度を、約４６℃（１１５°Ｆ）～約５６℃（１３３°Ｆ）の間に設定」し、「第２蒸留プロセスにおいて」「第２蒸留塔頂部の温度」を「約５０℃（１２２°Ｆ）～約６０℃（１４０°Ｆ）の間に設定」することがわかる。 カ 上記イの「不活性ガス」に関し、上記（１）ア（ア）には、不活性ガスが「Ａｒガス」（【請求項６】）であることが記載されている。 キ 上記ウの「第１蒸留プロセス」について、上記（１）ア（イ）の【００１４】には「蒸気留分は凝縮器に供給され、液体へと凝縮され」、「凝縮されたＴＣＳは、ポンプにより蒸留塔へと還流される」ことが記載されている。 ク 上記ア～キを踏まえると、甲１には、次の発明（以下、「甲１発明」という。）が記載されているといえる。 「流動層反応炉から蒸留ユニットへと延設されたトリクロロシランラインへ、不活性ガスを供給するステップと、 ベントガスを連続的に排出しつつ、精製のためにトリクロロシランを蒸留するステップと、を備え、 蒸留後のトリクロロシランは、約０．０３０ｐｐｂｗｔ未満のホウ素化合物に精製され、 前記トリクロロシランを蒸留するステップが、沸点すなわち沸騰温度の低いホウ素化合物、トリクロロシラン（ＴＣＳ）、および少量のジクロロシランを蒸気留分として分離すると共に、沸点の高いホウ素化合物、四塩化ケイ素、ポリマー、少量のトリクロロシラン（ＴＣＳ）を底部残留物として分離する第１蒸留プロセスと、純粋なトリクロロシランを蒸留により分離し、沸点の低いホウ素化合物、ＤＣＳ、および少量のトリクロロシラン（ＴＣＳ）を蒸留物として分離する第２蒸留プロセスとからなり、 前記不活性ガスをトリクロロシラン（ＴＣＳ）１ｋｇ当り約１．７×１０-4Ｎｍ3の流量で供給し、 前記第１蒸留プロセスにおいて蒸留塔頂部の温度を、約４６℃（１１５°Ｆ）～約５６℃（１３３°Ｆ）の間に設定し、前記第２蒸留プロセスにおいて第２蒸留塔頂部の温度を約５０℃（１２２°Ｆ）～約６０℃（１４０°Ｆ）の間に設定し、 前記不活性ガスがＡｒガスであり、 前記第１蒸留プロセスにおいて、蒸気留分は凝縮器に供給され、液体へと凝縮され、凝縮されたトリクロロシラン（ＴＣＳ）は、ポンプにより蒸留塔へと還流される、 トリクロロシランの精製方法」 （３）本件発明１について ア 対比 （ア）甲１発明の蒸留前の「トリクロロシラン」は、第１蒸留プロセスにより少量のジクロロシランが分離される（【００１３】）。つまり、甲１発明の蒸留前の「トリクロロシラン」は、少量のジクロロシランを含んでいるものであるので、本件発明１の「ジクロロシランを含むシラン系ガス」に相当する。 （イ）甲１発明の「不活性ガス」は「Ａｒガス」である。他方、本件発明１の【００３０】には「不活性ガスは、例えば、ヘリウム、アルゴン、窒素、水素の何れかのガス若しくはこれらの何れかの混合ガスである」との記載があり「アルゴン」が含まれている。そのため、甲１発明の「不活性ガス」は、本件発明１の「不活性ガス」に相当する。 （ウ）甲１発明は「流動層反応炉から蒸留ユニットへと延設されたトリクロロシランラインへ、不活性ガスを供給するステップ」を有している。ここで、トリクロロシランライン内には、トリクロロシランが流れているため、供給された不活性ガスとトリクロロシランとが接触することは明らかである。 加えて、甲１発明の「トリクロロシラン」が、本件発明１の「シラン系ガス」に相当することは、上記（ア）で述べたとおりである。 そのため、甲１発明の「流動層反応炉から蒸留ユニットへと延設されたトリクロロシランラインへ、不活性ガスを供給」し（、不活性ガスとトリクロロシランとが接触する）「ステップ」は、本件発明１の「不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ」に相当する。 （エ）甲１発明は、「蒸気留分」を「凝縮器に供給」し、「液体へと凝縮」し、「凝縮されたＴＣＳ」を「ポンプにより蒸留塔へと還流」する構成を備えている。 ここで、「蒸気留分」は「沸点すなわち沸騰温度の低いホウ素化合物」、「トリクロロシラン」、「少量のジクロロシラン」「を含有」（【００１３】）しているものであるので、本件発明１の「シラン系ガス」に相当する。 そのため、甲１発明の、「蒸気留分」を「凝縮器に供給」し、「液体へと凝縮」し、「凝縮されたＴＣＳ」を「ポンプにより蒸留塔へと還流」する点は、本件発明１の「シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程」に相当する。 （オ）甲１発明の「トリクロロシランの精製方法」と本件発明１の「ジクロロシランの精製方法」は「精製方法」である点で共通する。 （カ）上記（ア）～（オ）によると、本件発明１と甲１発明は 「シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程を含み、 不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと不活性ガスとを接触させる、 精製方法。」 の点で一致し、以下の点で一応相違する。 ＜相違点１＞ 本件発明１が、「ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法」であるのに対し、甲１発明は、ジクロロシランを精製する方法ではなく、「トリクロロシランの精製方法」であり、精製対象が異なる点。 ＜相違点２＞ 本件発明１が、「シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え」るのに対し、甲１発明は、「トリクロロシラン」よりも「沸点の低い」、すなわち蒸気圧の高い不純物を除去する「第１蒸留プロセス」及び「第２蒸留プロセス」を備えるものの、ジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程は備えていない点。 ＜相違点３＞ 本件発明１は、蒸留精製工程が、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程を含むのに対し、甲１発明は、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程を備えていない点。 ＜相違点４＞ 本件発明１では、不活性ガスの供給量が、還流工程における還流量と缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象であるシラン系ガスに対する比率で０．２ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下であるのに対し、甲１発明では、不活性ガスの供給量は、トリクロロシラン（ＴＣＳ）１ｋｇ当り約１．７×１０-4Ｎｍ3である点。 ＜相違点５＞ 本件発明１では、蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下であるのに対し、甲１発明では、第１蒸留プロセスにおいて蒸留塔頂部の温度を、約４６℃（１１５°Ｆ）～約５６℃（１３３°Ｆ）の間に設定し、第２蒸留プロセスにおいて第２蒸留塔頂部の温度を約５０℃（１２２°Ｆ）～約６０℃（１４０°Ｆ）の間に設定する点。 イ 判断 事案に鑑み、前記ア（カ）の相違点１から検討する。 甲１発明は、「ホウ素化合物量を低減した多結晶シリコンの製造装置及び製造方法を提供すること」（【０００８】）を課題としており、多結晶シリコンは、「トリクロロシランと水素ガスの反応により生成される」（【０００２】）ものであるため、多結晶シリコンの製造の中途過程において、トリクロロシランの精製を行っているものである。 つまり、甲１発明において必要とされているのは、多結晶シリコンの材料であるところの、（精製された）トリクロロシランであって、ジクロロシランではない。 加えて、甲１の【００１６】には、ジクロロシラン（ＤＣＳ）が、沸点の低いホウ素化合物と共に蒸留物として分離される点が記載されていることから、甲１発明では、ジクロロシランは、精製すべき対象ではなく、不純物の一種と見做されていることがわかる。 そのため、甲１発明において、精製対象を、トリクロロシランから、あえて不純物であるジクロロシランに変更することを動機付けるような事情は存在しない。 そうすると、甲２の記載事項にかかわらず、上記相違点１に係る本件発明１の事項は、当業者が容易に想到し得るものであるとはいえない。 念のため、甲２について検討すると、甲２には、トリクロロシラン（ＴＣＳ）、ジクロロシラン（ＤＣＳ）、四塩化ケイ素（ＳＴＣ）を含むクロロシランからなるホウ素含有混合物を蒸留し、純粋なトリクロロシランを得ると共に、ホウ素濃度の高められたジクロロシランを排出する、精製方法、が記載されている。甲２では、精製されているのはトリクロロシランであり、ジクロロシランは、精製とは真逆に、不純物（ホウ素）濃度が高められて排出されるものである。そのため、甲１発明に甲２に記載の事項を適用したとしても、前記相違点１に係る本件発明１の発明特定事項を有するものとするには至らない。 してみれば、その他の相違点について検討するまでもなく、本件発明１は甲１発明及び甲２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （ウ）小括 本件発明１は、甲１発明に基づいて、又は、甲１発明及び甲２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （４）本件発明２について ア 対比 （ア）甲１発明の蒸留前の「トリクロロシラン」は、第１蒸留プロセスにより少量のジクロロシランが分離される（【００１３】）。つまり、甲１発明の蒸留前の「トリクロロシラン」は、少量のジクロロシランを含んでいるものであるので、本件発明２の「ジクロロシランを含むシラン系ガス」に相当する。 （イ）甲１発明の「不活性ガス」は「Ａｒガス」である。他方、本件発明２の【００３０】には「不活性ガスは、例えば、ヘリウム、アルゴン、窒素、水素の何れかのガス若しくはこれらの何れかの混合ガスである」との記載があり「アルゴン」が含まれている。そのため、甲１発明の「不活性ガス」は、本件発明２の「不活性ガス」に相当する。 （ウ）甲１発明は「流動層反応炉から蒸留ユニットへと延設されたトリクロロシランラインへ、不活性ガスを供給するステップ」を有している。ここで、トリクロロシランライン内には、トリクロロシランが流れているため、供給された不活性ガスとトリクロロシランとが接触することは明らかである。 加えて、甲１発明の「トリクロロシラン」が、本件発明２の「シラン系ガス」に相当することは、上記（ア）で述べたとおりである。 そのため、甲１発明の「流動層反応炉から蒸留ユニットへと延設されたトリクロロシランラインへ、不活性ガスを供給」し（、不活性ガスとトリクロロシランとが接触する）「ステップ」は、本件発明２の「不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ」に相当する。 （エ）甲１発明は、「蒸気留分」を「凝縮器に供給」し、「液体へと凝縮」し、「凝縮されたＴＣＳ」を「ポンプにより蒸留塔へと還流」する構成を備えている。 ここで、「蒸気留分」は「沸点すなわち沸騰温度の低いホウ素化合物」、「トリクロロシラン」、「少量のジクロロシラン」「を含有」（【００１３】）しているものであるので、本件発明２の「シラン系ガス」に相当する。 そのため、甲１発明の、「蒸気留分」を「凝縮器に供給」し、「液体へと凝縮」し、「凝縮されたＴＣＳ」を「ポンプにより蒸留塔へと還流」する点は、本件発明２の「シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程」に相当する。 （オ）甲１発明の「トリクロロシランの精製方法」と本件発明２の「ジクロロシランの精製方法」は「精製方法」である点で共通する。 （カ）上記（ア）～（オ）によると、本件発明２と甲１発明は 「シラン系ガスを蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程を含み、 不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと不活性ガスとを接触させる、 精製方法。」 の点で一致し、以下の点で一応相違する。 ＜相違点６＞ 本件発明２が、「ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法」であるのに対し、甲１発明は、ジクロロシランを精製する方法ではなく、「トリクロロシランの精製方法」であり、精製対象が異なる点。 ＜相違点７＞ 本件発明２が、「シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え」るのに対し、甲１発明は、「トリクロロシラン」よりも「沸点の低い」、すなわち蒸気圧の高い不純物を除去する「第１蒸留プロセス」及び「第２蒸留プロセス」を備えるものの、ジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程は備えていない点。 ＜相違点８＞ 本件発明２は、蒸留精製工程が、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程を含むのに対し、甲１発明は、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程を備えていない点。 ＜相違点９＞ 本件発明２では、不活性ガスの供給量が、還流工程における還流量と缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象であるシラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であるのに対し、甲１発明では、不活性ガスの供給量は、トリクロロシラン（ＴＣＳ）１ｋｇ当り約１．７×１０-4Ｎｍ3である点。 ＜相違点１０＞ 本件発明２では、蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下であるのに対し、甲１発明では、第１蒸留プロセスにおいて蒸留塔頂部の温度を、約４６℃（１１５°Ｆ）～約５６℃（１３３°Ｆ）の間に設定し、第２蒸留プロセスにおいて第２蒸留塔頂部の温度を約５０℃（１２２°Ｆ）～約６０℃（１４０°Ｆ）の間に設定する点。 イ 判断 事案に鑑み、前記ア（カ）の相違点６から検討する。 相違点６は、上記（３）ア（カ）の相違点１と同様の相違点である。そのため、上記（３）イに記載した理由と同様の理由により、相違点６に係る本件発明２は、甲１発明に基づいて、又は、甲１発明及び甲２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （ウ）小括 本件発明２は、甲１発明に基づいて、又は、甲１発明及び甲２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （５）本件発明３について ア 対比 （ア）甲１発明の蒸留前の「トリクロロシラン」は、第１蒸留プロセスにより少量のジクロロシランが分離される（【００１３】）。つまり、甲１発明の蒸留前の「トリクロロシラン」は、少量のジクロロシランを含んでいるものであるので、本件発明３の「ジクロロシランを含むシラン系ガス」に相当する。 （イ）甲１発明の「不活性ガス」は「Ａｒガス」である。他方、本件発明２の【００３０】には「不活性ガスは、例えば、ヘリウム、アルゴン、窒素、水素の何れかのガス若しくはこれらの何れかの混合ガスである」との記載があり「アルゴン」が含まれている。そのため、甲１発明の「不活性ガス」は、本件発明３の「不活性ガス」に相当する。 （ウ）甲１発明は「流動層反応炉から蒸留ユニットへと延設されたトリクロロシランラインへ、不活性ガスを供給するステップ」を有している。ここで、トリクロロシランライン内には、トリクロロシランが流れているため、供給された不活性ガスとトリクロロシランとが接触することは明らかである。 加えて、甲１発明の「トリクロロシラン」が、本件発明３の「シラン系ガス」に相当することは、上記（ア）で述べたとおりである。 そのため、甲１発明の「流動層反応炉から蒸留ユニットへと延設されたトリクロロシランラインへ、不活性ガスを供給」し（、不活性ガスとトリクロロシランとが接触する）「ステップ」は、本件発明３の「不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ」に相当する。 （エ）甲１発明の「トリクロロシランの精製方法」と本件発明３の「ジクロロシランの精製方法」は「精製方法」である点で共通する。 （オ）上記（ア）～（エ）によると、本件発明３と甲１発明は 「不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと不活性ガスとを接触させる、 精製方法。」 の点で一致し、以下の点で一応相違する。 ＜相違点１１＞ 本件発明３が、「ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法」であるのに対し、甲１発明は、ジクロロシランを精製する方法ではなく、「トリクロロシランの精製方法」であり、精製対象が異なる点。 ＜相違点１２＞ 本件発明３が、「シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え」るのに対し、甲１発明は、「トリクロロシラン」よりも「沸点の低い」、すなわち蒸気圧の高い不純物を除去する「第１蒸留プロセス」及び「第２蒸留プロセス」を備えるものの、ジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程は備えていない点。 ＜相違点１３＞ 本件発明３では、不活性ガスの供給を、前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔のガス導入口からガス排出口に至る経路中の、前記シラン系ガス中に占めるジクロロシランの割合が９０ｗｔ％を超える地点よりも上流側で実行しているのに対し、甲１発明では、不活性ガスを供給してはいるものの、供給箇所とガス中のジクロロシランの割合の関係は特定されていない点。 ＜相違点１４＞ 本件発明３では、蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下であるのに対し、甲１発明では、第１蒸留プロセスにおいて蒸留塔頂部の温度を、約４６℃（１１５°Ｆ）～約５６℃（１３３°Ｆ）の間に設定し、第２蒸留プロセスにおいて第２蒸留塔頂部の温度を約５０℃（１２２°Ｆ）～約６０℃（１４０°Ｆ）の間に設定する点。 イ 判断 事案に鑑み、前記ア（カ）の相違点１１から検討する。 相違点１１は、上記（３）ア（カ）の相違点１と同様の相違点である。そのため、上記（３）イに記載した理由と同様の理由により、相違点１１に係る本件発明３は、甲１発明に基づいて、又は、甲１発明及び甲２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （ウ）小括 本件発明３は、甲１発明に基づいて、又は、甲１発明及び甲２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （６）本件発明４～７について 本件発明４～７はいずれも本件発明１～３のいずれかを直接又は間接的に引用し、本件発明１～３のいずれかの構成をすべて具備するものであるから、本件発明１～３と同様に、本件発明４～７は、甲１発明に基づいて、又は、甲１発明及び甲２に記載される技術的事項に基づいて当業者が容易に発明できたものではない。 （７）本件発明８について ア 対比 （ア）甲１発明の蒸留前の「トリクロロシラン」は、第１蒸留プロセスにより少量のジクロロシランが分離される（【００１３】）。つまり、甲１発明の蒸留前の「トリクロロシラン」は、少量のジクロロシランを含んでいるものであるので、本件発明８の「ジクロロシランを含むシラン系ガス」に相当する。 （イ）甲１発明の「不活性ガス」は「Ａｒガス」である。他方、本件発明２の【００３０】には「不活性ガスは、例えば、ヘリウム、アルゴン、窒素、水素の何れかのガス若しくはこれらの何れかの混合ガスである」との記載があり「アルゴン」が含まれている。そのため、甲１発明の「不活性ガス」は、本件発明８の「不活性ガス」に相当する。 （ウ）甲１発明は「流動層反応炉から蒸留ユニットへと延設されたトリクロロシランラインへ、不活性ガスを供給するステップ」を有している。ここで、トリクロロシランライン内には、トリクロロシランが流れているため、供給された不活性ガスとトリクロロシランとが接触することは明らかである。 加えて、甲１発明の「トリクロロシラン」が、本件発明８の「シラン系ガス」に相当することは、上記（ア）で述べたとおりである。 そのため、甲１発明の「流動層反応炉から蒸留ユニットへと延設されたトリクロロシランラインへ、不活性ガスを供給」し（、不活性ガスとトリクロロシランとが接触する）「ステップ」は、本件発明８の「不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ」に相当する。 （エ）甲１発明は、「蒸気留分」を「凝縮器に供給」し、「液体へと凝縮」し、「凝縮されたＴＣＳ」を「ポンプにより蒸留塔へと還流」する構成を備えている。 ここで、「蒸気留分」は「沸点すなわち沸騰温度の低いホウ素化合物」、「トリクロロシラン」、「少量のジクロロシラン」「を含有」（【００１３】）しているものであるので、本件発明８の「シラン系ガス」に相当する。 そのため、甲１発明の、「蒸気留分」を「凝縮器に供給」し、「液体へと凝縮」し、「凝縮されたＴＣＳ」を「ポンプにより蒸留塔へと還流」する点は、本件発明８の「シラン系ガスを」「蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程」に相当する。 （オ）甲１発明の「トリクロロシランの精製方法」と本件発明２の「ジクロロシランの精製方法」は「精製方法」である点で共通する。 （カ）甲１発明の「流動層反応炉から蒸留ユニットへと延設されたトリクロロシランライン」は、「流動層反応炉から蒸留ユニット」へと「トリクロロシラン」を供給するラインである、そのため、甲１発明の、「トリクロロシランライン」により、「流動層反応炉から蒸留ユニット」へと「トリクロロシラン」を供給する点は、本件発明８の「シラン系ガスを、シラン系ガス供給口から供給する工程」に相当する。 （キ）上記（ア）～（カ）によると、本件発明８と甲１発明は 「シラン系ガスを、シラン系ガス供給口から供給する工程と、蒸留塔から凝縮器を介して蒸留塔に戻す還流工程とを含み、 不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと不活性ガスとを接触させる、 精製方法。」 の点で一致し、以下の点で一応相違する。 ＜相違点１５＞ 本件発明８が、「ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法」であるのに対し、甲１発明は、ジクロロシランを精製する方法ではなく、「トリクロロシランの精製方法」であり、精製対象が異なる点。 ＜相違点１６＞ 本件発明８が、「シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え」るのに対し、甲１発明は、「トリクロロシラン」よりも「沸点の低い」、すなわち蒸気圧の高い不純物を除去する「第１蒸留プロセス」及び「第２蒸留プロセス」を備えるものの、ジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程は備えていない点。 ＜相違点１７＞ 本件発明８は、蒸留精製工程が、シラン系ガスを、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程を含むのに対し、甲１発明は、蒸留塔から供給側の流路に送液する缶出戻し工程を備えていない点。 ＜相違点１８＞ 本件発明８では、不活性ガスの供給量は、シラン系ガス供給口から供給される量、還流工程における還流量及び缶出戻し工程における戻し量との総和に対して、精製対象であるシラン系ガスに対する比率で３０ｍｏｌ％以下であるのに対し、甲１発明では、不活性ガスの供給量は、トリクロロシラン（ＴＣＳ）１ｋｇ当り約１．７×１０-4Ｎｍ3である点。 ＜相違点１９＞ 本件発明８では、蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度が２５℃以下であるのに対し、甲１発明では、第１蒸留プロセスにおいて蒸留塔頂部の温度を、約４６℃（１１５°Ｆ）～約５６℃（１３３°Ｆ）の間に設定し、第２蒸留プロセスにおいて第２蒸留塔頂部の温度を約５０℃（１２２°Ｆ）～約６０℃（１４０°Ｆ）の間に設定する点。 イ 判断 事案に鑑み、前記ア（カ）の相違点１５から検討する。 相違点１５は、上記（３）ア（カ）の相違点１と同様の相違点である。そのため、上記（３）イに記載した理由と同様の理由により、相違点１５に係る本件発明８は、甲１発明に基づいて、又は、甲１発明及び甲２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （ウ）小括 本件発明８は、甲１発明に基づいて、又は、甲１発明及び甲２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 （８）本件発明９～１２について 本件発明９～１２はいずれも本件発明１～３、８のいずれかを直接又は間接的に引用し、本件発明１～３、８のいずれかの構成をすべて具備するものであるから、本件発明１～３、８と同様に、本件発明９～１２は、甲１発明に基づいて、又は、甲１発明及び甲２に記載される技術的事項に基づいて当業者が容易に発明できたものではない。 第６ むすび 上記第５で検討したとおり、本件特許１～１２は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるとも、同法第３６条第６項第１号及び第２号並びに同法同条第４項第１号に規定にする要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるということはできず、同法第１１３条第２号又は第４号に該当するものではないから、上記取消理由１～２及び申立理由１～３では、本件特許１～１２を取り消すことはできない。 また、他に本件特許１～１２を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。