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特許異議申立

2022-700940

球状シリカ粒子及びそれを用いた樹脂組成物

審判番号
2022-700940
法域
特許
審判種別
異議申立(異議の決定)
出願番号
特願2021-171458
登録番号
7041788
請求日
2022年09月26日
審決日
2023年08月01日
公報発行日
2023年11月24日
結論
訂正認容
当事者
  • 【権利者】デンカ株式会社
  • 【権利者代理人】園田・小林弁理士法人
  • 【異議申立人】田中 都子
審判長/審判官
  • 審判長 三崎 仁
  • 審判官 原 賢一
  • 審判官 後藤 政博
分類
P1651.113-YAA(C01B) / P1651.121-YAA(C01B) / P1651.536-YAA(C01B) / P1651.537-YAA(C01B)
条文(本文から自動抽出・参考)
特許法第29条第1項、特許法第36条第4項第1号、特許法第29条第1項第3号、特許法第29条第2項、特許法第36条第6項第2号、特許法第120条の5第2項
データ出所
審決公報(XML)

事件の表示

特許第7041788号発明「球状シリカ粒子及びそれを用いた樹脂組成物」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結論

結 論 特許第7041788号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔1-6〕、7について訂正することを認める。 特許第7041788号の請求項1ないし7に係る特許を維持する。

理由

理 由 第1 手続の経緯 特許第7041788号の請求項1~6に係る特許についての出願は、令和3年10月20日を出願日とする出願であり、令和4年3月15日にその特許権の設定登録がされ、同年同月24日に特許掲載公報が発行され、その後、同年9月26日に、その請求項1~6に係る特許を対象として特許異議申立人田中都子(以下、「異議申立人」という。)により、特許異議の申立てがなされ、同年12月26日付けで取消理由が通知され、その指定期間内である令和5年3月1日に特許権者より意見書の提出及び訂正の請求がなされ、同年同月10日に特許権者より訂正請求書に対する手続補正(方式)がなされ、これに対し、異議申立人からは意見書の提出がなされなかったものである。 第2 訂正の適否 1 訂正事項 上記令和5年3月1日にされた訂正の請求(以下、その訂正を「本件訂正」という。)は、本件特許請求の範囲を、訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔1~6〕、7について訂正することを求めるものであって、その具体的な訂正事項は次のとおりである。 (1)訂正事項1 特許請求の範囲の請求項1に「表面フラクタル次元(Ds)が1.0~2.3であり」とあるのを、「表面フラクタル次元(Ds)が1.0~1.9であり」に訂正する。 (請求項1を直接又は間接的に引用する請求項2、4~6も同様に訂正する。) (2)訂正事項2 特許請求の範囲の請求項3に「前記球状シリカ粒子(X)の平均粒子径が1~30μmである、請求項1または2に記載の球状シリカ粒子(X)。」とあるのを、「表面フラクタル次元(Ds)が1.0~2.3であり、平均円形度が0.85以上であり、前記球状シリカ粒子(X)の平均粒子径が2.5~30μmである、球状シリカ粒子(X)。」に訂正する。 (請求項3を直接又は間接的に引用する請求項4~6も同様に訂正する。) (3)訂正事項3 特許請求の範囲の請求項3に「前記球状シリカ粒子(X)の平均粒子径が1~30μmである、請求項1または2に記載の球状シリカ粒子(X)。」とあるのを、「表面フラクタル次元(Ds)が1.0~1.9であり、平均円形度が0.85以上であり、比表面積が0.1~2.0m2/gであり、平均粒子径が1~30μmである、球状シリカ粒子(X)。」に訂正して請求項7とする。 2 訂正の目的の適否、新規事項の有無及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否 (1)訂正事項1について ア 訂正事項1は、球状シリカ粒子(X)の表面フラクタル次元(Ds)の範囲を、「1.0~2.3」から「1.0~1.9」に狭めるものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。 イ 訂正事項1は、本件明細書の【0014】の「本発明に係る球状シリカ粒子(X)の表面フラクタル次元は、1.0~2.3であり、1.0~2.1であることがより好ましく、1.0~1.9であることがさらに好ましい。」との記載に基づくものであるから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面(以下、「特許明細書等」という。)に記載した事項の範囲内の訂正である。 ウ 訂正事項1は、球状シリカ粒子(X)の表面フラクタル次元(Ds)の範囲を狭めるものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 (2)訂正事項2について ア 訂正事項2は、訂正前の請求項1を引用する訂正前の請求項3の引用関係を解消し、独立形式へ改めるものであると共に、訂正前の請求項3の球状シリカ粒子(X)の平均粒子径の範囲を「1~30μm」から「2.5~30μm」に狭めるものであるから、他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること及び特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。 イ 訂正事項2の、訂正前の請求項1を引用する訂正前の請求項3の引用関係を解消し、独立形式へ改める訂正が、特許明細書等に記載した事項の範囲内の訂正であることは明らかである。また、球状シリカ粒子(X)の平均粒子径の範囲を「1~30μm」から「2.5~30μm」にする訂正は、訂正前の請求項1に係る発明の態様である実施例3における球状シリカ粒子の平均粒子径(μm)が「2.5」である(【0056】【表2】)ことに基づくものであるから、特許明細書等に記載した事項の範囲内の訂正である。 ウ 訂正事項2は、訂正前の請求項1を引用する訂正前の請求項3の引用関係を解消し、独立形式へ改めるものであると共に、訂正前の請求項3の球状シリカ粒子(X)の平均粒子径の範囲を狭めるものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 (3)訂正事項3について ア 訂正事項3は、訂正前の請求項1を引用する訂正前の請求項2をさらに引用する訂正前の請求項3の引用関係を解消し、独立形式へ改めるものであると共に、訂正前の請求項1の球状シリカ粒子(X)の表面フラクタル次元(Ds)の範囲を、「1.0~2.3」から「1.0~1.9」に狭めるものであるから、他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること及び特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。 イ 訂正事項3の、訂正前の請求項1を引用する訂正前の請求項2をさらに引用する訂正前の請求項3の引用関係を解消し、独立形式へ改める訂正が、特許明細書等に記載した事項の範囲内の訂正であることは明らかである。また、球状シリカ粒子(X)の表面フラクタル次元(Ds)の範囲を、「1.0~2.3」から「1.0~1.9」に狭める訂正が、特許明細書等に記載した事項の範囲内の訂正であることは、上記(1)イで述べたとおりである。 ウ 訂正事項3は、訂正前の請求項1を引用する訂正前の請求項2をさらに引用する訂正前の請求項3の引用関係を解消し、独立形式へ改めるものであると共に、訂正前の請求項3の球状シリカ粒子(X)の表面フラクタル次元(Ds)の範囲を、「1.0~2.3」から「1.0~1.9」に狭めるものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 (4)別の訂正単位とする求めについて 本件訂正請求では、訂正後の請求項3、7について、本件訂正が認められる場合には、一群の請求項の他の請求項とは別途訂正することの求めがなされているところ、訂正後に他の請求項との連関のない訂正後の請求項7については、これを認める。 一方、訂正後の請求項3を引用する請求項4~6は、訂正後の請求項1、2も引用し、訂正後の請求項1~6は、一群の請求項を構成しているため、この一群の請求項に含まれる訂正後の請求項3については、一群の請求項の他の請求項とは別途訂正することの求めを認めることはできない。 3 小括 本件訂正は、請求項1~7について訂正することを求めるものであるところ、上記2のとおり、特許法第120条の5第2項ただし書第1号及び第4号に掲げる事項を目的とするものに該当し、かつ、同条第9項において準用する同法第126条第5項及び第6項の規定に適合するものであるから、訂正後の請求項〔1~6〕、7について訂正することを認める。 第3 本件発明 上記第2のとおり、本件訂正は認容し得るものであるから、本件訂正後の請求項1~7に係る発明(以下、各請求項に係る発明及び特許を項番に対応させて「本件発明1」、「本件特許1」などといい、併せて「本件発明」、「本件特許」ということがある。)は、次のとおり特定されるものである。 「【請求項1】 表面フラクタル次元(Ds)が1.0~1.9であり、平均円形度が0.85以上である、球状シリカ粒子(X)。 【請求項2】 前記球状シリカ粒子(X)の比表面積が0.1~2.0m2/gである、請求項1に記載の球状シリカ粒子(X)。 【請求項3】 表面フラクタル次元(Ds)が1.0~2.3であり、平均円形度が0.85以上であり、 前記球状シリカ粒子(X)の平均粒子径が2.5~30μmである、球状シリカ粒子(X)。 【請求項4】 前記球状シリカ粒子(X)が表面処理剤で表面処理されている、請求項1から3のいずれか一項に記載の球状シリカ粒子(X)。 【請求項5】 樹脂充填用である、請求項1から4のいずれか一項に記載の球状シリカ粒子(X)。 【請求項6】 請求項1から5のいずれか一項に記載の球状シリカ粒子(X)と、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂から選択される少なくとも1つの樹脂とを含む、樹脂組成物。 【請求項7】 表面フラクタル次元(Ds)が1.0~1.9であり、平均円形度が0.85以上であり、比表面積が0.1~2.0m2/gであり、平均粒子径が1~30μmである、球状シリカ粒子(X)。」 第4 令和4年12月26日付けで通知した取消理由及びこの取消理由において採用しなかった異議申立人による特許異議の申立理由の概要 1 令和4年12月26日付けで通知した取消理由の概要 ・特許法第29条第1項所定の規定違反(新規性欠如)及び同法同条第2項所定の規定違反(進歩性欠如)(以下、「取消理由」とする。) (1)訂正前の請求項1~3、5、6に係る発明は、下記甲第1号証に記載された発明であって(下記甲第3号証、甲第4号証及び参考文献1を参考とする)、特許法第29条第1項第3号に該当するから、その特許は、特許法第29条第1項の規定に違反してされたものであり、また、訂正前の請求項1~6に係る発明は、下記甲第1号証に記載された発明及び下記甲第2号証~甲第4号証、参考文献1に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第29条第2項の規定に違反してされたものである(以下、「取消理由1」とする。)。 (2)訂正前の請求項1~6に係る発明は、下記甲第2号証に記載された発明であって(下記甲第3号、甲第4号証及び参考文献1を参考とする)、特許法第29条第1項第3号に該当するから、その特許は、特許法第29条第1項の規定に違反してされたものであり、また、訂正前の請求項1~6に係る発明は、下記甲第2号証に記載された発明及び下記甲第3号証、甲第4号証、参考文献1に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第29条第2項の規定に違反してされたものである(以下、「取消理由2」とする。)。 記 甲第1号証:特開2014-80582号公報 甲第2号証:特開2013-10848号公報 甲第3号証:2022年3月25日付けの株式会社アドマテックスから異議申立人宛ての、品名SO-C6(ロットLCA228、数量1kg×1、平均粒径:2.2μm、比表面積:1.7m2/g、生産日:2018年1月22日)他のサンプル送付案内 甲第4号証:令和4年9月23日付け異議申立人による実験成績証明書(2022年9月2日付け 株式会社リガク 応用技術センター 粉末・薄膜解析グループ(PDX/TFX) 山本泰司による分析結果報告書、及び散乱ベクトルqと強度I(q)の関係を示す両対数グラフである「表面フラクタル次元(Ds)の指数部α及びDsの算出」と題する書面を添付) 参考資料1:国際公開第2020/195205号 (以下、甲第1号証を「甲1」などという。) 2 取消理由において採用しなかった異議申立人による特許異議の申立理由の概要 ・特許法第36条第4項第1号所定の規定違反(実施可能要件違反)及び同法同条第6項第2号所定の規定違反(明確性要件違反)(以下、「申立理由」とする。) 本件特許は、訂正前の請求項2~6に対応する本件明細書の発明の詳細な説明の記載が後記第5の2(1)の点で不備のため、特許法第36条第4項第1号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり、また、訂正前の請求項2~6の記載が同じく後記第5の2(1)の点で不備のため、特許法第36条第6項第2号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 なお、上記取消理由及び上記申立理由の判断においては、訂正前の請求項1を引用する訂正前の請求項2をさらに引用する訂正前の請求項3に係る発明にさらに限定が加えられて、本件訂正により新設された本件発明7も含めて判断を行う。 第5 当審の判断 1 取消理由(新規性欠如及び進歩性欠如)について (1)甲1~4、参考資料1に記載された事項 ア 甲1に記載された事項 (ア)「【請求項1】 熱硬化性樹脂及び無機充填材を含有する樹脂組成物を織布基材に含浸させると共に、半硬化状態となるまで加熱乾燥して形成されたプリプレグであって、前記プリプレグの動的粘弾性測定によるガラス転移温度が120~170℃であることを特徴とするプリプレグ。」 (イ)「【技術分野】 【0001】 本発明は、プリプレグ、前記プリプレグを用いて形成された金属張積層板、前記金属張積層板を用いて形成されたプリント配線板及び多層プリント配線板に関するものである。 ・・・ 【発明が解決しようとする課題】 【0004】 しかし、従来のプリプレグでは、樹脂の粉落ちが発生しやすいという問題がある。またこのようなプリプレグを用いて金属張積層板を製造する場合には、熱硬化性樹脂と無機充填材とが分離して金属張積層板に外観不良が発生しやすいという問題もある。さらにこのような金属張積層板を用いて製造したプリント配線板の絶縁信頼性、導通信頼性が低下するおそれもある。 【0005】 本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、粉落ちを低減することができると共に、外観が良好な積層板を製造することができるプリプレグ、外観が良好な金属張積層板、プリント配線板及び多層プリント配線板を提供することを目的とするものである。 【課題を解決するための手段】 【0006】 本発明に係るプリプレグは、熱硬化性樹脂及び無機充填材を含有する樹脂組成物を織布基材に含浸させると共に、半硬化状態となるまで加熱乾燥して形成されたプリプレグであって、前記プリプレグの動的粘弾性測定によるガラス転移温度が120~170℃であることを特徴とするものである。」 (ウ)「【0018】 また無機充填材としては、例えば、シリカ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、タルク、アルミナ等を用いることができる。 【0019】 また無機充填材は、樹脂組成物全量に対して60~85質量%含有されていることが好ましい。このように、無機充填材の含有量が60質量%以上であることによって、プリプレグ、積層板(金属張積層板及びプリント配線板)の熱膨張率(CTE:coefficient of thermal expansion)を低くしたり、弾性率を上げたりすることができると共に、これらの寸法安定性も向上させることができるものである。また無機充填材の含有量が85質量%以下であれば、粘度の上昇を抑制しながら無機充填材を樹脂組成物に含有させることができると共に、プリプレグの粉落ちをより低減し、さらに外観が良好な積層板(金属張積層板及びプリント配線板)を得ることができるものである。 【0020】 また無機充填材全量に対して50質量%以上(上限は100%)が平均粒径3μm以下(下限は0.2μm)の球状シリカであることが好ましく、平均粒径2μm以下(下限は0.2μm)の球状シリカであることがより好ましい。このように、無機充填材の半分以上が粒径の小さい球状シリカであることによって、無機充填材の凝集を抑制し、熱硬化性樹脂と無機充填材との分離をさらに抑制することができるものである。なお、平均粒径は、レーザ回折式粒度分布測定装置を用いてメディアン径(50%径)として測定することができる。 ・・・ 【0027】 そして、本発明に係るプリプレグは、上記の樹脂組成物を織布基材に含浸させると共に、これを半硬化状態となるまで加熱乾燥して製造することができるが、このようにして得られたプリプレグの動的粘弾性測定によるガラス転移温度は120~170℃である。好ましくはプリプレグのガラス転移温度は130~160℃であり、より好ましくは140~160℃である。このようなガラス転移温度を示すプリプレグを得るためには、例えば、樹脂含有率、加熱温度、加熱時間等を適宜調整すればよい。具体的には、加熱温度を高く、加熱時間を長くすれば、熱硬化性樹脂の硬化が進み、プリプレグのガラス転移温度は加熱前に比べて高くなる。一例を挙げると、ガラス転移温度が100℃のプリプレグを乾燥炉内において100~180℃で1~6分間、追加的に加熱すれば、ガラス転移温度が120~170℃のプリプレグを得ることができる。そして、プリプレグのガラス転移温度は、通常、金属張積層板のガラス転移温度を測定するのに使用されているDMA法(dynamic mechanical analysis method)を転用して測定することができる。」 (エ)「【0035】 (実施例1) 熱硬化性樹脂として、多官能エポキシ樹脂である日本化薬株式会社製「EPPN502H」を用いた。 【0036】 また無機充填材として、球状シリカである株式会社アドマテックス製「SO-C6」(平均粒径2μm)を用いた。 【0037】 また硬化剤として、フェノール系硬化剤である明和化成株式会社製「MEH7600」を用いた。 【0038】 また硬化促進剤として、2-エチル-4-メチルイミダゾール(四国化成工業株式会社製)を用いた。 【0039】 また織布基材として、ガラスクロスである旭化成株式会社製「1037クロス」(厚み30μm)を用いた。 【0040】 そして、上記の熱硬化性樹脂、無機充填材、硬化剤、硬化促進剤を表1に示す配合量で配合し、さらに溶剤(メチルエチルケトン)で希釈することによって樹脂組成物のワニスを調製した。 【0041】 次に、上記の樹脂組成物を織布基材に含浸させると共に、これを半硬化状態となるまで100~200℃で5~15分間、乾燥炉内において加熱乾燥(一次加熱)することによってプリプレグを製造した。さらにこのプリプレグを120℃で2分間、追加的に加熱乾燥(二次加熱)した。 【0042】 次に、上記のプリプレグを2枚重ね、この両面に金属箔として銅箔(三井金属鉱業株式会社製「3EC-VLP」、厚み18μm)を積層して成形することによって、金属張積層板として銅張積層板(CCL)を製造した。上記の積層成形は、多段真空プレスを用いて加熱・加圧して行った。成形条件は、温度が220℃、圧力が6.0MPa、時間が160分間である。」 イ 甲2に記載された事項 (ア)「【請求項1】 熱硬化性樹脂(A)と、平均粒径が5μm以下であり、前記熱硬化性樹脂(A)と反応可能な官能基を有する表面処理剤Xで予め表面処理された球状の表面処理シリカ(B)と、前記表面処理シリカ(B)よりも小さい平均粒径を有し、表面処理剤Xで表面処理がされていない球状の未処理シリカ(C)とを含有してなる樹脂組成物。」 (イ)「【0002】 電子機器の小型化、多機能化、通信高速化などの追求に伴い、電子機器に用いられる回路基板のさらなる高密度化が要求されており、このような高密度化の要求に応えるために、回路基板の多層化が図られている。このような多層回路基板は、例えば、電気絶縁層とその表面に形成された導体層とからなる内層基板の上に、電気絶縁層を積層し、この電気絶縁層の上に導体層を形成させ、さらに、これら電気絶縁層の積層と、導体層の形成と、を繰り返し行なうことにより形成される。 【0003】 このような多層回路基板の電気絶縁層を構成するための材料としては、一般的にセラミックや熱硬化性樹脂が用いられている。熱硬化性樹脂としては、経済性と性能のバランスの点で優れるため、エポキシ樹脂が広く用いられている。また、電気絶縁層が十分な機械強度や低い線膨張率を有するものとなるように、通常、フィラーなどの充填剤を熱硬化性樹脂に添加して用いられている。 【0004】 ところで、電気絶縁層の形成に用いられる樹脂組成物への充填剤の添加に関する技術として、たとえば、エポキシ樹脂と同様、電気絶縁層を構成しうる樹脂材料として知られるノルボルネン系樹脂を用いる場合について、特許文献1には、付加型ノルボルネン系樹脂と、表面処理剤により予め表面処理された平均粒径2μm以下の球状シリカとを含有してなる樹脂組成物が開示されている。 ・・・ 【発明が解決しようとする課題】 【0006】 しかしながら、本発明者らが検討したところ、上述した特許文献1に記載の技術では、得られる電気絶縁層は表面粗度が著しく低く、無電解めっきなどにより導体層を形成した場合に、金属めっき膜の形成性が低く、導体層を良好に形成できないという不具合があった。 【0007】 本発明の目的は、配線埋め込み性に優れ、表面粗度を低く保ちながら、無電解めっきによる導体層を良好に形成可能なフィルム及び硬化物を与える樹脂組成物、ならびに、これを用いて得られるフィルム、積層体、硬化物、及び複合体を提供することである。 【課題を解決するための手段】 【0008】 本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究した結果、熱硬化性樹脂に、平均粒径が5μm以下であり、熱硬化性樹脂と反応可能な官能基を有する表面処理剤で予め表面処理された球状の表面処理シリカと、表面処理シリカよりも小さい平均粒径を有し、前記表面処理剤で表面処理がされていない球状の未処理シリカとを配合してなる樹脂組成物により、上記目的が達成できることを見出し、本発明を完成させるに至った。」 (ウ)「【0023】 本発明で用いる表面処理シリカ(B)の平均粒径は、5μm以下であり、好ましくは4μm以下、より好ましくは3μm以下である。表面処理シリカ(B)の平均粒径が大きすぎると、絶縁不良を起こすため、薄い絶縁層を作成することができない。なお、表面処理シリカ(B)の平均粒径の下限は特に限定されず、後述する未処理シリカ(C)の平均粒径よりも大きなものであればよいが、通常、0.01μm以上である。また、表面処理シリカ(B)の平均粒径は、たとえば、レーザー回折法により測定することができる。【0024】 本発明の樹脂組成物中における、表面処理シリカ(B)の配合量は、熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して、好ましくは80~230重量部、より好ましくは110~200重量部、さらに好ましくは130~180重量部の範囲である。表面処理シリカ(B)の配合量が少なすぎると、フィルム及び硬化物とした場合における、配線埋め込み性が悪くなり、一方、配合量が多すぎると、銅めっきの析出性が低くなるおそれがある。」 (エ)「【0083】 実施例1 (樹脂組成物) 熱硬化性樹脂(A)としてのビスフェノールA型エポキシ樹脂(「jER 828EL」、三菱化学社製、エポキシ当量184~194)10部、同じく熱硬化性樹脂(A)としてのジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂(「エピクロン(登録商標) HP7200L」、大日本インキ化学工業社製、エポキシ当量240~250)10部、同じく熱硬化性樹脂(A)としてのジシクロペンタジエン骨格を有するノボラック型フェノール樹脂(「レヂトップ (登録商標)GDP-6095LR」、群栄化学工業社製、水酸基当量160~175)10部、オキサゾリン基含有ポリスチレン(「エポクロス(登録商標) RPS-1005」日本触媒社製)5部、表面処理シリカ(B)としてのアミノ基含有シランカップリング剤処理シリカ(「アドマファイン(登録商標) SC2500-SXJ」、アドマテックス社製、平均粒径0.5μm)52部、未処理シリカ(C)としての表面未処理シリカ(「アドマファイン(登録商標) SO-C1」、アドマテックス社製、平均粒径0.25μm)13部、老化防止剤としてのトリス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)-イソシアヌレート(「Irganox3114」、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製)0.2部、紫外線吸収剤としての2-[2-ヒドロキシ-3,5-ビス(α,α-ジメチルベンジル)フェニル]-2H-ベンゾトリアゾール0.1部、及び硬化剤としての1-ベンジル-2-フェニルイミダゾール0.14部を、アニソールに混合して、配合剤濃度が65%になるように混合することで、樹脂組成物のワニスを得た。 ・・・ 【0100】 実施例2 表面処理シリカ(B)として、平均粒径0.5μmのアミノ基含有シランカップリング剤処理シリカに代えて、平均粒径2.2μmのアミノ基含有シランカップリング剤処理シリカを使用した以外には、実施例1と同様にして、樹脂組成物のワニス、フィルム成形体及び多層プリント配線板を得て、同様に評価を行った。結果を表1に示す。なお、実施例2では、平均粒径2.2μmのアミノ基含有シランカップリング剤処理シリカとして、シリカ(「アドマファイン SO-C6」、アドマテックス社製、平均粒径2.2μm、「アドマファイン」は登録商標)を、アミノ基含有シランカップリング剤で処理したものを使用した。 ・・・ 【0107】 【表1】 [図:0001403650000001.jpg] 【0108】 表1に示すように、本発明の樹脂組成物を用いることにより、得られる電気絶縁層(樹脂層)を、配線埋め込み性に優れ、表面粗度を小さく抑えながら、無電解めっき膜の析出性に優れたものとすることができ、さらには、絶縁層と金属層との密着性(ピール強度)も良好であった(実施例1,2)。」 ウ 甲3に記載された事項 (ア)「 [図:0001403650000002.jpg] 」 (イ)「 [図:0001403650000003.jpg] 」 エ 甲4に記載された事項 (ア)「 [図:0001403650000004.jpg] [図:0001403650000005.jpg] 」 (イ)「 [図:0001403650000006.jpg] [図:0001403650000007.jpg] [図:0001403650000008.jpg] [図:0001403650000009.jpg] 」 (ウ)「 [図:0001403650000010.jpg] 」 オ 参考資料1に記載された事項 (ア)「特許請求の範囲 [請求項1] 樹脂に配合してシート状に成形した後、共振器法にて周波数35~40GHzの条件で測定した該シートの誘電正接(tanδc)から、下記の式(I)を用いて算出される球状シリカ粉末の誘電正接において、誘電正接低減処理前の球状シリカ粉末の誘電正接(tanδfA)をA、誘電正接低減処理後の球状シリカ粉末の誘電正接(tanδfB)をBとしたとき、B/Aが0.70以下であり、誘電正接低減処理後の球状シリカ粉末の比表面積が1~30m2/gであることを特徴とする球状シリカ粉末。 [数1] ・・・ [請求項3] 平均円形度が0.85以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の球状シリカ粉末。」 (イ)「[0019] 本発明の球状シリカ粉末は、平均円形度が0.85以上であり、好ましくは0.90以上である。平均円形度が0.85未満であると、樹脂と混合した際に、粘度の増加や流動性の低下が生じ、加工性や充填性が悪くなる。」 (ウ)「[0032][原料シリカ粉末1] 球状シリカ(デンカ社製:FB-5D、比表面積2.4m2/g)を加熱処理せずにそのまま、後述の実施例1と同様に評価を行った。評価結果を表1に示す。なお、誘電正接低減処理をしていない原料シリカ粉末1の粉末換算誘電正接(tanδfA)は、樹脂にポリエチレン(PE)を使用した場合は2.9×10-3、ポリプロピレン(PP)を使用した場合は3.0×10-3であった。 [0033][原料シリカ粉末2] 球状シリカ(デンカ社製:SFP-30M、比表面積6.0m2/g)を加熱処理せずにそのまま、後述の実施例1と同様に評価を行った。評価結果を表1に示す。なお、誘電正接低減処理をしていない原料シリカ粉末2の粉末換算誘電正接(tanδfA)は、1.2×10-2であった。 [0034][原料シリカ粉末3] 球状シリカ(デンカ社製:UFP-30、比表面積30m2/g)を加熱処理せずにそのまま、後述の実施例1と同様に評価を行った。評価結果を表1に示す。なお、誘電正接低減処理をしていない原料シリカ粉末3の粉末換算誘電正接(tanδfA)は、5.0×10-2であった。 [0035][原料シリカ粉末4] 球状シリカ(デンカ社製:FB-40R、比表面積0.4m2/g)を加熱処理せずにそのまま、後述の実施例1と同様に評価を行った。評価結果を表1に示す。なお、誘電正接低減処理をしていない原料シリカ粉末4の粉末換算誘電正接(tanδfA)は、3.7×10-4であった。」 (エ)「[0054][比表面積] 測定用セルに試料を1g充填し、Mountech社製 MacsorbHM model-1201全自動比表面積系測定装置(BET一点法)により比表面積を測定した。測定前の脱気条件は、200℃-10分とした。吸着ガスは窒素とした。 ・・・ [0058] [表1] [図:0001403650000011.jpg] 」 (2)甲1、甲2に記載された発明及び甲3、甲4から認定できる事項 ア 甲1に記載された発明 甲1の上記(1)ア(ア)には、「熱硬化性樹脂及び無機充填材を含有する樹脂組成物を織布基材に含浸させると共に、半硬化状態となるまで加熱乾燥して形成されたプリプレグであって、前記プリプレグの動的粘弾性測定によるガラス転移温度が120~170℃であることを特徴とするプリプレグ。」が記載され、同(エ)には、このプリプレグの実施例が記載されているところ、同(エ)の【0036】には、実施例1で用いられる無機充填材として、「球状シリカである株式会社アドマテックス製「SO-C6」(平均粒径2μm)」が記載されている。この球状シリカに着目すれば、甲1には、以下の発明(以下、「甲1発明」という。)が記載されているといえる。 「球状シリカである株式会社アドマテックス製「SO-C6」(平均粒径2μm)。」 イ 甲2に記載された発明 甲2の上記(1)イ(ア)には、「熱硬化性樹脂(A)と、平均粒径が5μm以下であり、前記熱硬化性樹脂(A)と反応可能な官能基を有する表面処理剤Xで予め表面処理された球状の表面処理シリカ(B)と、前記表面処理シリカ(B)よりも小さい平均粒径を有し、表面処理剤Xで表面処理がされていない球状の未処理シリカ(C)とを含有してなる樹脂組成物。」が記載され、同(エ)には、この樹脂組成物の実施例が記載されているところ、同(エ)の【0100】には、実施例2で用いられる表面処理シリカ(B)について、「平均粒径2.2μmのアミノ基含有シランカップリング剤処理シリカとして、シリカ(「アドマファイン SO-C6」、アドマテックス社製、平均粒径2.2μm、「アドマファイン」は登録商標)を、アミノ基含有シランカップリング剤で処理したものを使用した。」との記載がある。 そして、このシリカに着目すれば、甲2には、以下の発明(以下、「甲2発明」という。)が記載されているといえる。 「アミノ基含有シランカップリング剤で処理した、アドマテックス社製、平均粒径2.2μmのアドマファイン SO-C6。」 ウ 甲3から認定できる事項 (ア)甲3の上記(1)ウ(ア)及び(イ)によれば、2022年3月25日、株式会社アドマテックスより異議申立人に、平均粒径:2.2μm、比表面積:1.7m2/g、生産日:2018年1月22日、ロットがLCA228である品名SO-C6が1kg送付されたことを認めることができる。 (イ)甲3の上記(1)ウ(ア)及び(イ)によれば、サンプル送付案内には、「SO-C6」と記載されているが、実際の商品に貼付されるラベルには「C6」と記載されていることから、「SO-C6」は、「C6」とも称されることを認めることができる。 エ 甲4から認定できる事項 (ア)甲4の上記(1)エ(イ)の「分析結果報告書」の頁の記載によれば、株式会社リガク 応用技術センター 粉末・薄膜解析グループ(PDX/TFX) 山本泰司氏により、同(イ)の「装置構成(超小角USAXS)」の頁の記載によれば、X線源:CuKα、管電圧・管電流:45kV-200mA、スキャン範囲:0~0.5°、ステップ:0.0006°、スキャンスピード:0.03°/minの条件のもと、超小角USAXSの測定が、同(イ)の「測定データ(縦軸:線形)」、及び「測定データ(縦軸:指数)」の頁の右上に記載されるロットがLCA228である品名C6に対して行われ、同(ウ)の「測定データ(縦軸:線形)」、及び「測定データ(縦軸:指数)」の頁に記載される散乱角度2θに対する強度の関係を示す測定データが得られたことを認めることができる。 (イ)甲4の上記(1)エ(ア)及び(ウ)によれば、上記の散乱角度2θに対する強度の関係を示す測定データの散乱角度2θを基に、q=4πsinθ/λの式より散乱ベクトルqを求め、このqに対する強度I(q)の関係を示す両対数グラフが、同(ウ)に示される点線のグラフであること、このグラフのq=0.0124~0.0627nm-1(2θ=0.174~0.0882°)において累乗近似を行ったものが、同(ウ)に示される実線のグラフであること、この近似式が、y=0.9847x-4.009と表され、指数部(α)が-4.009であり、DS=6+αで表される表面フラクタル次元(DS)が約2.0と算出されることを認めることができる。 (ウ)以上のとおり、ロットがLCA228である品名C6の表面フラクタル次元(DS)は約2.0であることを認めることができる。 (3)取消理由1について ア 本件発明1について (ア)対比 本件発明1と甲1発明を対比すると、甲1発明の「球状シリカである株式会社アドマテックス製「SO-C6」(平均粒径2μm)。」は、本件発明1の「表面フラクタル次元(Ds)が1.0~1.9であり、平均円形度が0.85以上である、球状シリカ粒子(X)」と、「球状シリカ粒子(X)」である点で一致し、以下の点で相違しているといえる。 <相違点1> 球状シリカ粒子(X)について、本件発明1では、表面フラクタル次元(Ds)が1.0~1.9であるのに対し、甲1発明の株式会社アドマテックス製「SO-C6」では、表面フラクタル次元(Ds)が明らかでない点。 <相違点2> 球状シリカ粒子(X)について、本件発明1では、平均円形度が0.85以上であるのに対し、甲1発明では、平均円形度が明らかでない点。 (イ)相違点についての検討 a まず、相違点1について検討する。上記2(3)及び(4)の認定によれば、少なくとも本件出願前の株式会社アドマテックス製のロットがLCA228である品名「SO-C6」の表面フラクタル次元(DS)は約2.0であると認めることができるから、甲1発明の株式会社アドマテックス製「SO-C6」の表面フラクタル次元(Ds)も、約2.0であるといえる。 そうすると、甲1発明の株式会社アドマテックス製「SO-C6」の表面フラクタル次元(Ds)は、上記相違点1に係る本件発明1の表面フラクタル次元(Ds)の範囲内にはないから、上記相違点1は、実質的な相違点である。 b 次に、甲1発明の株式会社アドマテックス製「SO-C6」の表面フラクタル次元(Ds)を、上記相違点1に係る本件発明1の表面フラクタル次元(Ds)の範囲内にすることが当業者にとり容易に想到し得るものであるか否かについて検討する。 甲1の上記(1)ア(イ)の記載によれば、甲1に記載される技術は、プリプレグ、前記プリプレグを用いて形成された金属張積層板、前記金属張積層板を用いて形成されたプリント配線板及び多層プリント配線板を対象とするもの(【0001】)で、従来のプリプレグでは、樹脂の粉落ちが発生しやすいという問題があり、またこのようなプリプレグを用いて金属張積層板を製造する場合には、熱硬化性樹脂と無機充填材とが分離して金属張積層板に外観不良が発生しやすいという問題もあり、さらにこのような金属張積層板を用いて製造したプリント配線板の絶縁信頼性、導通信頼性が低下するおそれもあった(【0004】)。これに対し、甲1に記載の技術は、粉落ちを低減することができると共に、外観が良好な積層板を製造することができるプリプレグ、外観が良好な金属張積層板、プリント配線板及び多層プリント配線板を提供することを目的とするものであり(【0005】)、この目的を、熱硬化性樹脂及び無機充填材を含有する樹脂組成物を織布基材に含浸させると共に、半硬化状態となるまで加熱乾燥して形成したプリプレグであって、前記プリプレグの動的粘弾性測定によるガラス転移温度を120~170℃とすることにより達成するものである(【0006】)。 ここで、上記の無機充填材については、甲1の同(ウ)の記載によれば、樹脂組成物全量に対して60~85質量%含有されていることが好ましいとされ、特に、無機充填材の含有量が85質量%以下であれば、粘度の上昇を抑制しながら無機充填材を樹脂組成物に含有させることができると共に、プリプレグの粉落ちをより低減し、さらに外観が良好な積層板(金属張積層板及びプリント配線板)を得ることができる(【0019】)とし、また、無機充填材全量に対して50質量%以上(上限は100%)が平均粒径3μm以下(下限は0.2μm)の球状シリカであることが好ましく、平均粒径2μm以下(下限は0.2μm)の球状シリカであることがより好ましいとされ、このように、無機充填材の半分以上が粒径の小さい球状シリカであることによって、無機充填材の凝集を抑制し、熱硬化性樹脂と無機充填材との分離をさらに抑制することができる(【0020】)としている。 以上によれば、甲1に記載される技術は、その目的を達成するために、プリプレグの動的粘弾性測定によるガラス転移温度を120~170℃とすること、無機充填材については、樹脂組成物全量に対する含有量、及び、より好ましくは平均粒径2μm以下とされるような粒径の小さい球状シリカには着目しているものの、何ら、無機充填材であるシリカ粒子の表面フラクタル次元(Ds)に着目するものではない。 そうすると、甲1発明には、球状シリカである株式会社アドマテックス製「SO-C6」の表面フラクタル次元(Ds)を調整しようとする動機付けがないのであるから、上記球状シリカの表面フラクタル次元(Ds)を、上記相違点1に係る本件発明1の表面フラクタル次元(Ds)の範囲内にすることが当業者にとり容易に想到し得るものであるとはいえない。 さらに、甲2の上記(1)イ、甲3の同ウ、甲4の同エ、及び参考資料1の同オの記載を見ても、上記相違点1に係る本件発明1の表面フラクタル次元(Ds)の範囲に関する記載はないから、甲2~甲4及び参考資料1を考慮したとしても、甲1発明において、球状シリカである株式会社アドマテックス製「SO-C6」の表面フラクタル次元(Ds)を、上記相違点1に係る本件発明1の表面フラクタル次元(Ds)の範囲内にすることが当業者にとり容易に想到し得るものであるとはいえない。 (ウ)小括 上記(イ)a及びbで述べたように、上記相違点1は、実質的な相違点であると共に、上記相違点1に係る本件発明1の構成は、当業者が容易に想到し得るものであるとはいえないから、上記相違点2を検討するまでもなく、本件発明1は、甲1発明ではないし、また甲1発明及び甲2~甲4、参考資料1に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明できたものであるとはいえない。 イ 本件発明2について 本件発明2は、少なくとも本件発明1の構成をすべて具備するものであるから、本件発明1と同様に、本件発明2は、甲1発明ではないし、甲1発明及び甲2~4、参考資料1に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明できたものではない。 ウ 本件発明3について (ア)対比 本件発明3と甲1発明を対比すると、甲1発明の「平均粒径」は、本件発明3の「平均粒子径」に相当し、両者は、「平均粒子径」が所定の値である点では共通しているから、甲1発明の「球状シリカである株式会社アドマテックス製「SO-C6」(平均粒径2μm)。」は、本件発明3の「表面フラクタル次元(Ds)が1.0~2.3であり・・・平均粒子径が2.5~30μmである、球状シリカ粒子(X)」と、「平均粒子径が所定の値である球状シリカ粒子(X)」である点で一致し、以下の点で相違しているといえる。 <相違点3> 球状シリカ粒子(X)について、本件発明3では、表面フラクタル次元(Ds)が1.0~2.3であるのに対し、甲1発明の株式会社アドマテックス製「SO-C6」では、表面フラクタル次元(Ds)が明らかでない点。 <相違点4> 球状シリカ粒子(X)について、本件発明3では、平均円形度が0.85以上であるのに対し、甲1発明では、平均円形度が明らかでない点。 <相違点5> 球状シリカ粒子(X)の平均粒子径について、本件発明3では、2.5~30μmであるのに対し、甲1発明では、2μmである点。 (イ)相違点についての検討 a 事案に鑑み、相違点5について検討する。 甲1発明の株式会社アドマテックス製「SO-C6」の平均粒子径は、上記相違点5に係る本件発明3の平均粒子径の範囲内にないから、上記相違点5は、実質的な相違点である。 b 次に、甲1発明の株式会社アドマテックス製「SO-C6」の平均粒子径を、上記相違点5に係る本件発明3の平均粒子径の範囲内にすることが当業者にとり容易に想到し得るものであるか否かについて検討する。 上記ア(イ)bで述べたように、甲1に記載される技術では、その目的を達成するために、無機充填材については、無機充填材全量に対して50質量%以上(上限は100%)が平均粒径3μm以下(下限は0.2μm)の球状シリカであることが好ましく、平均粒径2μm以下(下限は0.2μm)の球状シリカであることがより好ましいとされ、このように、無機充填材の半分以上が粒径の小さい球状シリカであることによって、無機充填材の凝集を抑制し、熱硬化性樹脂と無機充填材との分離をさらに抑制することができる(【0020】)とされている。 以上によれば、甲1発明における球状シリカである株式会社アドマテックス製「SO-C6」の平均粒子径(2μm)は、既に「より好ましいとされ」る範囲内にあるものであるから、甲1発明には、この平均粒子径をさらに調整しようとする動機付けはないし、仮に、平均粒子径をさらに調整しようとしたとしても、甲1の上記の「平均粒径2μm以下(下限は0.2μm)の球状シリカであることがより好ましい」、及び「無機充填材の半分以上が粒径の小さい球状シリカであることによって、無機充填材の凝集を抑制し、熱硬化性樹脂と無機充填材との分離をさらに抑制する」との記載によれば、甲1発明は、平均粒径2μm以下の平均粒子径を指向しているものといえ、この指向に反し、平均粒子径をあえて大きくして、上記相違点5に係る本件発明3の平均粒子径の範囲内にする動機付けが、甲1発明にあるとはいえない。 さらに、甲1発明において、株式会社アドマテックス製「SO-C6」の平均粒子径を大きくして、上記相違点5に係る本件発明3の平均粒子径の範囲内にすることは、甲1発明における球状シリカの平均粒子径の指向に反するのであるから、甲2の上記(1)イ、甲3の同ウ、甲4の同エ、及び参考資料1の同オの記載にかかわらず、甲1発明において、球状シリカである株式会社アドマテックス製「SO-C6」の平均粒子径を、上記相違点5に係る本件発明3の平均粒子径の範囲内にすることが当業者にとり容易に想到し得るものであるとはいえない。 (ウ)小括 上記(イ)a及びbで述べたように、上記相違点5は、実質的な相違点であると共に、上記相違点5に係る本件発明3の構成は、当業者が容易に想到し得るものであるとはいえないから、上記相違点3及び4を検討するまでもなく、本件発明3は、甲1発明ではないし、また甲1発明及び甲2~甲4、参考資料1に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明できたものであるとはいえない。 エ 本件発明4~6について 本件発明4~6は、少なくとも本件発明1又は3の構成をすべて具備するものであるから、本件発明1又は3と同様に、本件発明5、6は、甲1発明ではないし、本件発明4~6は、甲1発明及び甲2~4、参考資料1に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明できたものではない。 オ 本件発明7について 本件発明7は、本件発明1と同じく、球状シリカ(X)について、「表面フラクタル次元(Ds)が1.0~1.9であり」との特定を有するものであるから、本件発明7と甲1発明を対比すると、本件発明7と甲1発明は、少なくとも、上記ア(ア)で述べた<相違点1>で相違する。 そして、上記相違点は、上記同(イ)で述べたように、実質的な相違点であると共に、上記相違点1に係る本件発明7の構成は、当業者が容易に想到し得るものであるとはいえないから、本件発明7と甲1発明との間に上記相違点1が存在する以上、本件発明7は、甲1発明ではないし、また甲1発明及び甲2~甲4、参考資料1に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明できたものであるとはいえない。 (4)取消理由2について ア 本件発明1について (ア)対比 本件発明1と甲2発明を対比すると、甲2発明の「アドマテックス社製」「アドマファイン SO-C6」は、甲1の上記(1)ア(エ)の【0036】の「球状シリカである株式会社アドマテックス製「SO-C6」」との記載によれば、球状シリカであるから、甲2発明の「アミノ基含有シランカップリング剤で処理した、アドマテックス社製、平均粒径2.2μmのアドマファイン SO-C6」は、本件発明1の「表面フラクタル次元(Ds)が1.0~1.9であり、平均円形度が0.85以上である、球状シリカ粒子(X)」と、「球状シリカ粒子(X)」である点で一致し、以下の点で相違しているといえる。 <相違点6> 球状シリカ粒子(X)について、本件発明1では、表面フラクタル次元(Ds)が1.0~1.9であるのに対し、甲2発明の「アドマファイン SO-C6」では、表面フラクタル次元(Ds)が明らかでない点。 <相違点7> 球状シリカ粒子(X)について、本件発明1では、平均円形度が0.85以上であるのに対し、甲2発明では、平均円形度が明らかでない点。 (イ)相違点についての検討 a まず、相違点6について検討する。上記(3)ア(イ)aで述べたのと同様に、甲2発明の「アドマファイン SO-C6」の表面フラクタル次元(Ds)は、約2.0であるといえる。 そうすると、甲2発明の「アドマファイン SO-C6」の表面フラクタル次元(Ds)は、上記相違点6に係る本件発明1の表面フラクタル次元(Ds)の範囲内にはないから、上記相違点6は、実質的な相違点である。 b 次に、甲2発明の「アドマファイン SO-C6」の表面フラクタル次元(Ds)を、上記相違点6に係る本件発明1の表面フラクタル次元(Ds)の範囲内にすることが当業者にとり容易に想到し得るものであるか否かについて検討する。 甲2の上記(1)イ(イ)の記載によれば、従来、電気絶縁層の形成に用いられる樹脂組成物への充填剤の添加に関する技術として、たとえば、エポキシ樹脂と同様、電気絶縁層を構成しうる樹脂材料として知られるノルボルネン系樹脂を用いる場合について、付加型ノルボルネン系樹脂と、表面処理剤により予め表面処理された平均粒径2μm以下の球状シリカとを含有してなる樹脂組成物が開示されている(【0004】)が、この技術では、得られる電気絶縁層は表面粗度が著しく低く、無電解めっきなどにより導体層を形成した場合に、金属めっき膜の形成性が低く、導体層を良好に形成できないという不具合があった(【0006】)のに対し、甲2に記載される技術は、配線埋め込み性に優れ、表面粗度を低く保ちながら、無電解めっきによる導体層を良好に形成可能なフィルム及び硬化物を与える樹脂組成物、ならびに、これを用いて得られるフィルム、積層体、硬化物、及び複合体を提供すること(【0007】)を目的とし、この目的を、熱硬化性樹脂に、平均粒径が5μm以下であり、熱硬化性樹脂と反応可能な官能基を有する表面処理剤で予め表面処理された球状の表面処理シリカと、表面処理シリカよりも小さい平均粒径を有し、前記表面処理剤で表面処理がされていない球状の未処理シリカとを配合してなる樹脂組成物により達成している(【0008】)。 ここで、甲2発明の(アミノ基含有シランカップリング剤で処理した)「アドマファイン SO-C6」に対応する上記の表面処理シリカについて、甲2の同(ウ)の記載によれば、平均粒径は、5μm以下、好ましくは4μm以下、より好ましくは3μm以下とされ、表面処理シリカ(B)の平均粒径が大きすぎると、絶縁不良を起こすため、薄い絶縁層を作成することができず、平均粒径の下限は通常、0.01μm以上であるとされ(【0023】)、樹脂組成物中における、表面処理シリカ(B)の配合量は、熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して、好ましくは80~230重量部、より好ましくは110~200重量部、さらに好ましくは130~180重量部の範囲とされ、表面処理シリカ(B)の配合量が少なすぎると、フィルム及び硬化物とした場合における、配線埋め込み性が悪くなり、一方、配合量が多すぎると、銅めっきの析出性が低くなるおそれがあるとされている。 以上によれば、甲2に記載される技術は、その目的を達成するために、熱硬化性樹脂に、平均粒径が5μm以下であり、熱硬化性樹脂と反応可能な官能基を有する表面処理剤で予め表面処理された球状の表面処理シリカと、表面処理シリカよりも小さい平均粒径を有し、前記表面処理剤で表面処理がされていない球状の未処理シリカとを配合すること、表面処理シリカについて、より好ましくは3μm以下とされる平均粒径、及び熱硬化性樹脂に対する配合量には着目しているものの、何ら、表面処理シリカの表面フラクタル次元(Ds)に着目するものではない。 そうすると、甲2発明には、球状シリカである「アドマファイン SO-C6」の表面フラクタル次元(Ds)を調整しようとする動機付けがないのであるから、上記球状シリカの表面フラクタル次元(Ds)を、上記相違点6に係る本件発明1の表面フラクタル次元(Ds)の範囲内にすることが当業者にとり容易に想到し得るものであるとはいえない。 さらに、甲3の上記(1)ウ、甲4の同エ、及び参考資料1の同オの記載を見ても、上記相違点6に係る本件発明1の表面フラクタル次元(Ds)の範囲に関する記載はないから、甲3、甲4及び参考資料1を考慮したとしても、甲2発明において、球状シリカである「アドマファイン SO-C6」の表面フラクタル次元(Ds)を、上記相違点6に係る本件発明1の表面フラクタル次元(Ds)の範囲内にすることが当業者にとり容易に想到し得るものであるとはいえない。 (ウ)小括 上記(イ)a及びbで述べたように、上記相違点6は、実質的な相違点であると共に、上記相違点6に係る本件発明1の構成は、当業者が容易に想到し得るものであるとはいえないから、上記相違点7を検討するまでもなく、本件発明1は、甲2発明ではないし、また甲2発明及び甲3、甲4、参考資料1に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明できたものであるとはいえない。 イ 本件発明2について 本件発明2は、少なくとも本件発明1の構成をすべて具備するものであるから、本件発明1と同様に、本件発明2は、甲2発明ではないし、甲2発明及び甲3、甲4、参考資料1に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明できたものではない。 ウ 本件発明3について (ア)対比 本件発明3と甲2発明を対比すると、上記ア(ア)で述べたように、甲2発明の「アドマテックス社製」「アドマファイン SO-C6」は、球状シリカであると共に、甲2発明の「平均粒径」は、本件発明3の「平均粒子径」に相当し、両者は、「平均粒子径」が所定の値である点では共通しているから、甲2発明の「アミノ基含有シランカップリング剤で処理した、アドマテックス社製、平均粒径2.2μmのアドマファイン SO-C6」は、本件発明3の「表面フラクタル次元(Ds)が1.0~2.3であり・・・平均粒子径が2.5~30μmである、球状シリカ粒子(X)」と、「平均粒子径が所定の値である球状シリカ粒子(X)」である点で一致し、以下の点で相違しているといえる。 <相違点8> 球状シリカ粒子(X)について、本件発明3では、表面フラクタル次元(Ds)が1.0~2.3であるのに対し、甲2発明の「アドマファイン SO-C6」では、表面フラクタル次元(Ds)が明らかでない点。 <相違点9> 球状シリカ粒子(X)について、本件発明3では、平均円形度が0.85以上であるのに対し、甲2発明では、平均円形度が明らかでない点。 <相違点10> 球状シリカ粒子(X)の平均粒子径について、本件発明3では、2.5~30μmであるのに対し、甲2発明では、2.2μmである点。 (イ)相違点についての検討 a 事案に鑑み、相違点10について検討する。 甲2発明の「アドマファイン SO-C6」の平均粒子径は、上記相違点10に係る本件発明3の平均粒子径の範囲内にないから、上記相違点10は、実質的な相違点である。 b 次に、甲2発明の「アドマファイン SO-C6」の平均粒子径を、上記相違点10に係る本件発明3の平均粒子径の範囲内にすることが当業者にとり容易に想到し得るものであるか否かについて検討する。 上記ア(イ)bで述べたように、甲2に記載される技術は、表面処理シリカを、より好ましくは3μm以下、平均粒径の下限として通常、0.01μm以上とすることにより、絶縁不良を防ぎ、薄い絶縁層を作成することができるものである(【0023】)。 以上によれば、甲2発明における「アドマファイン SO-C6」の平均粒子径(2.2μm)は、既に「より好ましいとされ」る範囲内にあるものであるから、この平均粒子径をさらに調整しようとする動機付けはないし、仮に、平均粒子径をさらに調整しようとしたとしても、甲2に記載される技術の目的である、「配線埋め込み性に優れ、表面粗度を低く保ちながら、無電解めっきによる導体層を良好に形成可能なフィルム」を得る(甲2の上記(1)イ(イ)の【0007】)点からすれば、表面処理シリカによる表面の凹凸が小さい方が良いのであるから、表面処理シリカの平均粒径は、3μm以下であってもより小さい方が好ましいことが理解できる。さらに、甲2に記載される「熱硬化性樹脂に、平均粒径が5μm以下であり、熱硬化性樹脂と反応可能な官能基を有する表面処理剤で予め表面処理された球状の表面処理シリカと、表面処理シリカよりも小さい平均粒径を有し、前記表面処理剤で表面処理がされていない球状の未処理シリカとを配合してなる樹脂組成物」により形成されるフィルムのフィルム成形性、配線埋め込み性、無電解めっき膜析出性、ピール強度及び表面粗度(Ra)の評価を記載した、甲2の上記(1)イ(エ)の【0107】【表1】には、表面処理シリカとして平均粒径が0.5μmのものを用いるか、2.2μmのもの(甲2発明に対応するもの)を用いるか以外の条件は同一である実施例1と実施例2について、平均粒径が0.5μmと実施例2の2.2μmより小さいものを用いた実施例1のフィルムの方が実施例2のフィルムよりも表面粗度が小さく、他の指標は実施例1と実施例2で同等である結果が示されている。 そうすると、甲2発明における「アドマファイン SO-C6」の平均粒子径をさらに調整しようとするのであれば、平均粒径2.2μm以下の平均粒子径を指向するものといえ、甲2発明におけるシリカの平均粒子径の指向に反し、平均粒子径をあえて大きくして、上記相違点10に係る本件発明3の平均粒子径の範囲内にする動機付けが、甲2発明にあるとはいえない。 さらに、甲2発明において、「アドマファイン SO-C6」の平均粒子径を大きくして、上記相違点10に係る本件発明3の平均粒子径の範囲内にすることは、甲2発明におけるシリカの平均粒子径の指向に反するのであるから、甲3の上記(1)ウ、甲4の同エ、及び参考資料1の同オの記載の内容にかかわらず、甲2発明において、「アドマファイン SO-C6」の平均粒子径を、上記相違点10に係る本件発明3の平均粒子径の範囲内にすることが当業者にとり容易に想到し得るものであるとはいえない。 (ウ)小括 上記(イ)a及びbで述べたように、上記相違点10は、実質的な相違点であると共に、上記相違点10に係る本件発明3の構成は、当業者が容易に想到し得るものであるとはいえないから、上記相違点8及び9を検討するまでもなく、本件発明3は、甲2発明ではないし、また甲2発明及び甲3、甲4、参考資料1に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明できたものであるとはいえない。 エ 本件発明4~6について 本件発明4~6は、少なくとも本件発明1又は3の構成をすべて具備するものであるから、本件発明1又は3と同様に、本件発明4~6は、甲2発明ではないし、甲2発明及び甲3、甲4、参考資料1に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明できたものではない。 オ 本件発明7について 本件発明7は、本件発明1と同じく、球状シリカ(X)について、「表面フラクタル次元(Ds)が1.0~1.9であり」との特定を有するものであるから、本件発明7と甲2発明を対比すると、本件発明7と甲2発明は、少なくとも、上記ア(ア)で述べた<相違点6>で相違する。 そして、上記相違点は、上記同(イ)で述べたように、実質的な相違点であると共に、上記相違点6に係る本件発明7の構成は、当業者が容易に想到し得るものであるとはいえないから、本件発明7と甲2発明との間に上記相違点6が存在する以上、本件発明7は、甲2発明ではないし、また甲2発明及び甲3、甲4、参考資料1に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明できたものであるとはいえない。 (5)取消理由1及び取消理由2に関するまとめ 以上のとおり、本件特許1~7は、特許法第29条第1項及び同条第2項の規定に違反してされたものではないから、取消理由1及び取消理由2には、理由がない。 2 申立理由(実施可能要件違反及び明確性要件違反)について (1)申立理由 申立理由は、以下のとおりである。 明細書及び特許請求の範囲には、BET法にて本件発明2を特定することが開示されているが吸着ガスについてはどのように選択すべきかの指標すら開示されていない。 ここで、BET法の測定においては吸着ガスの選定が測定された比表面積の値に与える影響が大きいことが技術常識である。 従って、本件発明2の構成要件についてBET法により特定することができず、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものであるとはいえず、また、発明を特定するための事項であるBET法の技術的意味を理解することができないため明確では無い。 また、本件発明3以下については本件発明2と同様に明確では無い。 なお、BET法にて比表面積を測定する場合には、一般的に窒素ガスを利用するとの意見もあるが、一般的に使用されるガスが窒素であることと本願の明細書のように発明を特定する主要要素であるBET法に用いるガスが特定されていないときに一般的に使用されるガスが窒素ガスであることのみをもって窒素ガスに訂正することはできない。例えば、比表面積の測定対象として孔径が小さい孔まで含ませようとすると測定ガスとしてヘリウムガスを用いる場合もあり、測定目的によってどのような測定ガスを採用するかが決定されるため、どの測定ガスを 採用するのが一般的であるかは一義的ではない(特許異議申立書9頁8行~10頁3行)。 (2)申立理由についての検討 ア 上記(1)にも記載されているように、BET法にて比表面積を測定する場合、吸着ガスとして窒素ガスを用いることが一般的である。 イ そして、本件発明の球状シリカ粒子(X)の比表面積の測定方法について、本件明細書の【0047】には、「<比表面積の測定方法> 測定用セルに球状シリカ粒子を1g充填し、全自動比表面積径測定装置(Mountech社製、製品名:Macsorb HM model-1201(BETー点法))を用いて、球状シリカ粒子の比表面積を測定した。なお、測定前の脱気条件は、200℃、10分間とした。」との記載があるところ、本件発明の球状シリカ粒子(X)と同様の球状シリカ粒子の比表面積の測定について、例えば、本件出願前に公開されている参考資料1には、比表面積が0.4~30m2/g、平均円形度が0.90~0.96のシリカ粉末(上記1(1)オ(ウ)及び(エ)の[0058][表1])の比表面積の測定について、同(エ)の[0054]には、「[比表面積] 測定用セルに試料を1g充填し、Mountech社製 MacsorbHM model-1201全自動比表面積系測定装置(BET一点法)により比表面積を測定した。測定前の脱気条件は、200℃-10分とした。吸着ガスは窒素とした。」と記載されるように、本件発明の球状シリカ粒子(X)と同程度の比表面積を有する球状シリカ粒子の比表面積の測定に、本件発明の場合と同じ測定装置(Mountech社製、製品名:Macsorb HM model-1201)を用いる場合、吸着ガスとして窒素を用いることが記載されている。 ウ また、上記(1)では、「比表面積の測定対象として孔径が小さい孔まで含ませようとすると測定ガスとしてヘリウムガスを用いる場合もあ」るとされているが、本件発明が対象とする球状シリカに対して、あえてヘリウムガス等を使用しなければならないこと、さらにその様な場合に、測定値が窒素を用いた場合と、測定値が一義的に定まらないといえるほどの違いがでることを認めるに足る証拠は提出されていない。 むしろ、甲3の上記(1)ウ(ア)の「サンプル送付案内」には、「SO-C6」について、単に「比表面積:1.7m2/g」と記載され、比表面積の測定方法、この測定方法がBET法であるとしても、比表面積を測定する場合の吸着ガスの種類の明示がない。そして、このことは、比表面積の表示において、BET法による場合の吸着ガスの種類の明示を含め測定方法を明示しなくとも、当業者にとって、比表面積の値を一義的に把握できないといった特段の支障までを生じていないことを示しているといえる。 エ 上記ア~ウによれば、本件明細書において、球状シリカ粒子(X)の比表面積の測定における吸着ガスの明示がないとしても、当業者であれば、一般的に用いられる窒素ガスを用いていることを認識できると共に、本件発明が対象とする球状シリカに対して、あえてヘリウムガス等を使用しなければならないこと、さらにそのような場合に、測定値が窒素を用いた場合と、測定値が一義的に定まらないといえるほどの違いがでることを認めるに足る証拠は提出されていないのであるから、本件発明2~7に対応する本件明細書は、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものではないということはできないし、請求項2~7の記載が、比表面積の値が一義的に定まらないため、明確でないということはできない。 (3)申立理由に関するまとめ 以上のとおり、本件特許は、請求項2~7に対応する本件明細書の発明の詳細な説明の記載が不備のため、特許法第36条第4項第1号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものではないし、請求項2~7の記載が不備のため、特許法第36条第6項第2号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものではないから、上記申立理由には、理由がない。 第6 むすび 上記第5で検討したとおり、本件特許1~7は、特許法第29条第1項及び同法同条第2項の規定に違反してされたものであるということはできないし、本件特許2~7は、同法第36条第4項第1号及び同法同条第6項第2号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるということもできず、同法第113条第2号又は第4号に該当するものではないから、上記取消理由及び申立理由では、本件特許1~7を取り消すことはできない。 また、他に本件特許1~7を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。

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2022-700940

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