2021-700892

第１ 手続等の経緯

特許第６８６０２７６号の請求項１～１２に係る特許（以下「本件特許」という。）についての出願は、平成２８年９月９日の出願であって、令和３年３月３０日にその特許権の設定登録がされ、令和３年４月１４日に特許掲載公報が発行された。

本件特許について、特許掲載公報の発行の日から６月以内である令和３年９月１５日に特許異議申立人 合同会社ＳＡＳ（以下「特許異議申立人」という。）から全請求項に対して特許異議の申立てがされた。その後の手続等の経緯の概要は、以下のとおりである。

なお、令和４年４月２１日付け通知書により特許異議申立人に対して訂正請求があった旨の通知（特許法１２０条の５第５項）をしたが、特許異議申立人から意見書は提出されなかった。

第２ 本件訂正請求について

１ 訂正の趣旨

本件訂正請求の趣旨は、特許第６８６０２７６号の特許請求の範囲を、本訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項２～１２について訂正することを求める、というものである。

２ 本件訂正請求について

本件訂正請求は、一群の請求項〔２～１２〕に対して請求されたものである。

３ 訂正の内容

本件訂正請求において特許権者が求める請求項２～１２について訂正は、以下のとおりである。なお、下線は当合議体が付したものであり、訂正箇所を示す。

（１）訂正事項１

特許請求の範囲の請求項２に「成分Ｂのハンセン溶解度パラメータの座標が、δｄ＝１７．５、δｐ＝５．０、δｈ＝１１．５を中心とする半径１．５ＭＰａ０．５の球の範囲内であり、」と記載されているのを、「成分Ｂのハンセン溶解度パラメータの座標が、δｄ＝１７．５、δｐ＝５．０、δｈ＝１１．５を中心とする半径１．５ＭＰａ０．５の球の範囲内であり、成分Ｂが、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノｎ－ヘキシルエーテル、１－メチルシクロヘキサノール、２－フェニル－１－プロパノール及び１－フェニル－１－プロパノールから選ばれる１種又は２種以上の組合せであり、」に訂正する（請求項２の記載を引用して記載された、請求項３～１２についても、同様に訂正する。）。

４ 訂正の適否

（１）訂正事項１について

訂正事項１による訂正は、請求項２に記載された「成分Ｂ」を「エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノｎ－ヘキシルエーテル、１－メチルシクロヘキサノール、２－フェニル－１－プロパノール及び１－フェニル－１－プロパノールから選ばれる１種又は２種以上の組合せ」に限定する訂正である。そして、この点は、請求項２の記載を引用して記載された請求項３～１２についてみても、同じである。

そうすると、訂正事項１による訂正は、１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる事項（特許請求の範囲の減縮）を目的とする訂正に該当する。

また、訂正事項１による訂正は、本件特許の明細書の【００２８】の記載から導き出すことができる事項であり、当業者によって、明細書又は図面のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入しないものである。

そうすると、訂正事項１による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてした訂正である。

加えて、訂正事項１による訂正によって、訂正前の特許請求の範囲には含まれないこととされた発明が訂正後の特許請求の範囲に含まれることとならないことは明らかである。

そうすると、訂正事項１による訂正は、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正に該当しない。

５ 小括

以上のとおりであるから、本件訂正請求による請求項２～１２についての訂正（訂正事項１による訂正）は、特許法１２０条の５第２項ただし書、同法同条９項において準用する同法１２６条５項及び６項の規定に適合する。

したがって、本件特許の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔２～１２〕について訂正することを認める。

第３ 本件特許発明

前記「第２」のとおり、本件訂正請求による訂正は認められることとなったから、本件特許の請求項１～１２に係る発明（以下、請求項の番号とともに「本件特許発明１」などという。）は、特許請求の範囲の請求項１～１２に記載された事項によって特定されるとおりの、以下のものである。

「【請求項１】

無機アルカリ（成分Ａ）、有機溶剤（成分Ｂ）及び水（成分Ｃ）を含有し、

成分Ｂのハンセン溶解度パラメータの座標が、δｄ＝１７．５、δｐ＝５．０、δｈ＝１１．５を中心とする半径１．５ＭＰａ０．５の球の範囲内であり、

洗浄剤組成物の使用時における成分Ｃの含有量が、８５質量％以上であり、

続きを表示（全39行）

成分Ｂに対する成分Ａの質量比（Ａ／Ｂ）が、１以上６０以下であり、

露光又は現像工程後のレジスト層、露光及び現像の少なくとも一方の処理が施されたレジスト層、あるいは、硬化したレジスト層である樹脂マスクが付着した被洗浄物を洗浄するための樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物（ただし、有機アミンを０．１乃至５重量％で含有するものを除く）。

【請求項２】

無機アルカリ（成分Ａ）、有機溶剤（成分Ｂ）及び水（成分Ｃ）を含有し、

成分Ｂのハンセン溶解度パラメータの座標が、δｄ＝１７．５、δｐ＝５．０、δｈ＝１１．５を中心とする半径１．５ＭＰａ０．５の球の範囲内であり、

成分Ｂが、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノｎ－ヘキシルエーテル、１－メチルシクロヘキサノール、２－フェニル－１－プロパノール及び１－フェニル－１－プロパノールから選ばれる１種又は２種以上の組合せであり、

成分Ａは、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムの少なくとも一方であり、

洗浄剤組成物の使用時における成分Ａの含有量が、２質量％以上５質量％以下であり、

洗浄剤組成物の使用時における成分Ｂの含有量が、０．０１質量％以上３質量％以下であり、

洗浄剤組成物の使用時における成分Ｃの含有量が、８５質量％以上であり、

成分Ｂに対する成分Ａの質量比（Ａ／Ｂ）が、１以上６０以下であり、

露光又は現像工程後のレジスト層、露光及び現像の少なくとも一方の処理が施されたレジスト層、あるいは、硬化したレジスト層である樹脂マスクが付着した被洗浄物を洗浄するための樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物。

【請求項３】

成分Ｂの沸点が、１６０℃以上である、請求項１又は２に記載の洗浄剤組成物。

【請求項４】

成分Ｂの２５℃の水１００ｍＬに対する溶解度が、０．３ｇ以上である、請求項１から３のいずれかに記載の洗浄剤組成物。

【請求項５】

洗浄剤組成物中の有機物の総含有量が、３質量％以下である、請求項１から４のいずれかに記載の洗浄剤組成物。

【請求項６】

洗浄剤組成物中の窒素含有化合物及びリン含有化合物の合計含有量は０．１質量％未満である、請求項１から５のいずれかに記載の洗浄剤組成物。

【請求項７】

樹脂マスクが、露光及び現像の少なくとも一方の処理が施されたネガ型ドライフィルムレジストである、請求項１から６のいずれかに記載の洗浄剤組成物。

【請求項８】

樹脂マスクが付着した被洗浄物を請求項１から７のいずれかに記載の洗浄剤組成物で洗浄する工程を含み、

前記樹脂マスクは、露光又は現像工程後のレジスト層、露光及び現像の少なくとも一方の処理が施されたレジスト層、あるいは、硬化したレジスト層である、樹脂マスクの洗浄方法。

【請求項９】

被洗浄物が、電子部品の製造中間物である、請求項８に記載の洗浄方法。

【請求項１０】

樹脂マスクが付着した被洗浄物を請求項１から７のいずれかに記載の洗浄剤組成物で洗浄する工程を含み、

前記樹脂マスクは、露光又は現像工程後のレジスト層、露光及び現像の少なくとも一方の処理が施されたレジスト層、あるいは、硬化したレジスト層である、電子部品の製造方法。

【請求項１１】

請求項１から７のいずれかに記載の洗浄剤組成物の、電子部品の製造への使用。

【請求項１２】

請求項８又は９の洗浄方法及び請求項１０に記載の電子部品の製造方法のいずれかに使用するためのキットであって、

請求項１から７のいずれかに記載の洗浄剤組成物を構成する成分Ａ～Ｃのうちの少なくとも１成分を、他の成分と混合されない状態で含む、キット。」

第４ 取消しの理由の概要

令和４年１月２５日付け取消理由通知書により特許権者に通知した取消しの理由は、概略、次のとおりのものである。

理由１（進歩性）：本件特許の特許請求の範囲の請求項２～１２に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において頒布された下記刊行物に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、請求項２～１２に係る特許は、いずれも、特許法２９条２項の規定に違反してされたものである。

第５ 当合議体の判断

１ 引用文献の記載・引用発明

（１）甲３の記載

取消しの理由で引用された甲３（特表２００５－５０９６９３号公報）には、次の事項が記載されている。なお、【００１６】の「実施例１乃至８及び比較例１乃至４」の下線及び【００１７】の「物性試験」の下線以外の下線は当合議体が付した。

ア 「【特許請求の範囲】

【請求項１】

a）無機アルカリ化合物０．１乃至５重量％；

b）有機アミン０．１乃至５重量％；

c）有機溶剤０．１乃至３０重量％；

d）アニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤を１：５乃至２５の重量比で含む界面活性剤０．０１乃至５重量％；及び

e）水６０乃至９９重量％、

を含むことを特徴とするレジスト除去用シンナー組成物。」

イ 「【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【０００１】

本発明は、薄膜トランジスタ液晶表示装置（ＴＦＴ－ＬＣＤ）及び半導体ディバイス製造工程で使用される感光性樹脂（レジスト）膜除去用シンナー（Thinner）組成物に関し、より詳しくは、ＴＦＴ－ＬＣＤディバイスと半導体ディバイス製造工程で基板上にコーティングされるレジスト膜の縁部または基板後面に形成される不要な膜成分を効率的に除去できるシンナー組成物に関する。

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【背景技術】

【０００２】

ＴＦＴ－ＬＣＤ回路または半導体集積回路のような微細な回路パターンを形成するためには、まず基板上に形成された絶縁膜または導電性金属膜にレジスト組成物を均一にコーティングまたは塗布し、所定形状のマスクの存在下でコーティングされたレジスト組成物を露光及び現像することによって所望の形状のパターンを作製する。次に、パターン化されたレジスト膜をマスクとして前記金属膜または絶縁膜をエッチングした後、残ったレジスト膜を除去して基板上に微細回路を形成する。このようなリソグラフィ法によりＴＦＴ－ＬＣＤまたは半導体ディバイスを製造する場合には、ガラス、シリコンウエハーなどの基板上にレジスト膜を必ず形成しなければならず、形成されたレジスト膜の縁に不要に塗布されたレジスト及び基板下部に形成され得る不要な膜を基板から除去するために、レジスト膜の露光及び現象工程の前に基板をシンナーで洗浄する工程が必要である。

【０００３】

従来前記基板上のレジスト膜を洗浄、除去するシンナーとして、水、無機及び有機アルカリ系シンナー、モノエタノールアミンなどの有機アミン系シンナーなどが公知されている。しかし、前記無機アルカリ系シンナーは、不良膜除去作業の後で無機物が残留して、工程装備が汚染されてしまうおそれがあり、レジスト除去の効率が低い短所があるため、近来は有機アルカリ及び有機アミンを主成分として、無機アルカリを混用して使用している。前記有機アルカリ及び有機アミンは、溶剤揮発の後で残存する異物がほとんどないため、装備に対する腐蝕のおそれがなく、レジストに対する溶解度が優れていて優秀なレジスト除去性能を示す。

【０００４】

また、他のシンナー組成物として水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどの無機アルカリ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ及びジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリルコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ｎ－ブチルアセテートなどの有機溶剤を混合したシンナー組成物が使用されているが、前記有機溶剤では十分なレジスト除去力が期待できず、特に無機アルカリの含量が増加するほど揮発後の装備に対する腐蝕の心配が大きくなる。

【０００５】

したがって、卓越したレジストの除去力を有すると同時に、装備の腐蝕を防止できる新たなレジスト除去用シンナー組成物の開発が要求されている。」

ウ 「【発明が解決しようとする課題】

【０００６】

本発明は前記のような従来技術の問題を考慮して、レジストの除去能力が優れており、装備に対する腐蝕の心配のないＴＦＴ－ＬＣＤデバイスと、半導体デバイスレジスト除去用シンナー組成物を提供することを目的とする。前記目的を達成するために、本発明は、a）無機アルカリ化合物０．１乃至５重量％、b）有機アミン０．１乃至５重量％、c）有機溶剤０．１乃至３０重量％、d）アニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤を１：５乃至２５の重量比で含む界面活性剤０．０１乃至５重量％、及びe）水６０乃至９９重量％を含むレジスト除去用シンナー組成物を提供する。

【課題を解決するための手段】

【０００７】

本発明は前記問題を解決するために考案されたもので、本発明者らは１種以上の無機アルカリ、有機アミン、１種以上の有機溶剤、及び界面活性剤を特定比率で含む場合、レジスト除去能力が卓越し、装備に対する腐蝕の心配が無いことを見出した。

・・・省略・・・

【発明の効果】

【００１４】

本発明のレジスト除去用シンナー組成物は、ＴＦＴ－ＬＣＤディバイスと半導体ディバイス工程において、基板上にコーティングされるレジスト膜の縁部または基板の後面に形成される不要な膜成分のレジスト除去能力が優れており、装備に対する腐蝕の心配がない。」

エ 「【実施例】

【００１６】

実施例１乃至８及び比較例１乃至４

下記表１のような成分比を有する有機アミン、有機溶剤、界面活性剤及び水を混合して、実施例１乃至８及び比較例１乃至４のシンナー組成物を各々製造した。

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【００１７】

【表１】

［図：0001389385000001.jpg］

前記表１で、ＴＭＡＨはテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、ＭＥＡはモノエタノールアミン、ＤＥＧＡはジエチレングリコールアミン、ＴＥＡはトリエチルアミン、ＴＥＯＡはトリエタノールアミン、ＮＭＰはＮ－メチルピロリドン、ＰＰＯＨはプロピレングリコールフェニルエーテル、ＤＰＧＭＥはジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ＰＧＭＥＡはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ｎ－ＢＡはｎ－ブチルアセテート、ＰＧＭＥはプロピレングリコールモノメチルエーテル、ＰＯＥＯはポリオキシエチルオクチルフェニルエーテル、ＥＳはソジウムラウレートスルフェートを各々示す。

物性試験

試片製造：クロムブラックマトリックスが蒸着されているＬＣＤガラスに汎用のカラーレジスト組成物（FujiFilm Arch社製品、商品名：CR－８１３１L、CG－８１３０L、CB－８１４０L、CR-８１００L、CG－８１００L、CB－８１００L）をスピンコーティングして、最終の膜厚が１．０乃至２．０μｍになるように塗布した後で、チャンバーで６０秒間真空乾燥（０．５torr）して試片を製造した。

【００１８】

前記カラーレジストがコーティングされたガラス基板を実施例１乃至８及び比較例１乃至４のシンナー組成物に各々２秒間浸漬し、脱イオン水（D.I.Water）で洗浄した後、肉眼及び光学電子顕微鏡（LEICA社、モデル：FTM－２００）でエッジ部分の不良膜除去状態の良好、不良を観察し、その結果を下記表２に示した。

【００１９】

【表２】

［図：0001389385000002.jpg］

前記表２で示されるように、本発明による実施例１乃至８のシンナー組成物で洗浄を行った場合は、不良膜の除去状態が良好であった。これに対し、比較例１乃至４のシンナー組成物で洗浄を行った場合は、不良膜の除去状態が不良であることが分かる。」

（２）甲３発明

前記（１）ア～エ（特にエ）によると、甲３には、実施例４に係るレジスト除去用シンナー組成物として、次の発明が記載されていると認められる（以下「甲３発明」という。）。

「（ａ）無機アルカリ：水酸化カリウム（ＫＯＨ）１．０重量％及び炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）２．０重量％、

（ｂ）有機アミン：ジエチレングリコールアミン（ＤＥＧＡ）０．５重量％、

（ｃ）有機溶剤：プロピレングリコールフェニルエーテル（ＰＰＯＨ）１．０重量％及びジプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＤＰＧＭＥ）５．０重量％、

（ｄ）界面活性剤：ポリオキシエチルオクチルフェニルエーテル（ＰＯＥＯ）１．０重量％及びソジウムラウレートスルフェート（ＥＳ）０．１重量％、

（ｅ）水：８９．４重量％、

を含むレジスト除去用シンナー組成物。」

２ 本件特許発明２について

（１）対比

本件特許発明２と甲３発明とを対比する。

ア 甲３発明の「無機アルカリ」は、本件特許発明２の「無機アルカリ（成分Ａ）」に対応する。

イ 甲３発明の「有機溶剤」は、本件特許発明２の「有機溶剤（成分Ｂ）」に対応する。

ウ 甲３発明の「水」は、本件特許発明２の「水（成分Ｃ）」に対応する。

エ 上記ア～ウより、甲３発明と本件特許発明２は、「無機アルカリ（成分Ａ）、有機溶剤（成分Ｂ）及び水（成分Ｃ）を含有」する点で共通する。

オ 甲３発明の「有機溶剤」の「プロピレングリコールフェニルエーテル（ＰＰＯＨ）」のハンセン溶解度パラメータの座標は、δｄ＝１７．５、δｐ＝５．０、δｈ＝１１．５を中心とする半径１．５ＭＰａ０．５の球の範囲内である（本件特許の明細書の【００５５】【表１】参照。）。また、本件特許の明細書の【００２５】には「本開示に係る洗浄剤組成物が２種以上の有機溶剤（以下、「混合有機溶剤」ともいう）を含む場合、混合有機溶剤全体のハンセン溶解度パラメータは上記範囲内でなくてもよく、混合有機溶剤中に上記範囲内のハンセン溶解度パラメータを有する有機溶剤が少なくとも１種含まれていれば、本開示の効果は発揮されうる」と記載されている。

そうすると、甲３発明と本件特許発明２は、「成分Ｂのハンセン溶解度パラメータの座標が、δｄ＝１７．５、δｐ＝５．０、δｈ＝１１．５を中心とする半径１．５ＭＰａ０．５の球の範囲内であり」という点で共通する。

カ 甲３発明の「レジスト除去用シンナー組成物」は、「水：８９．４重量％」を含む。また、甲３の【００１９】の「本発明による実施例１乃至８のシンナー組成物で洗浄を行った場合は、不良膜の除去状態が良好であった」という記載によると、甲３発明の「除去」は、「洗浄」であるといえる。

そうすると、甲３発明と本件特許発明２は、「洗浄剤組成物の使用時における成分Ｃの含有量が、８５質量％以上であ」るという点で共通する。

キ 甲３発明の「レジスト除去用シンナー組成物」と本件特許発明２の「露光又は現像工程後のレジスト層、露光及び現像の少なくとも一方の処理が施されたレジスト層、あるいは、硬化したレジスト層である樹脂マスクが付着した被洗浄物を洗浄するための樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物」は、「洗浄剤組成物」である点で共通する。

（２）一致点

上記（１）によると、本件特許発明２と甲３発明は次の点で一致する。

「無機アルカリ（成分Ａ）、有機溶剤（成分Ｂ）及び水（成分Ｃ）を含有し、

成分Ｂのハンセン溶解度パラメータの座標が、δｄ＝１７．５、δｐ＝５．０、δｈ＝１１．５を中心とする半径１．５ＭＰａ０．５の球の範囲内であり、

洗浄剤組成物の使用時における成分Ｃの含有量が、８５質量％以上である、

洗浄剤組成物。」

（３）相違点

他方、本件特許発明２と甲３発明は次の点で相違する。

（相違点１）

本件特許発明２は、「有機溶剤（成分Ｂ）」が「エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノｎ－ヘキシルエーテル、１－メチルシクロヘキサノール、２－フェニル－１－プロパノール及び１－フェニル－１－プロパノールから選ばれる１種又は２種以上の組合せであ」り、「洗浄剤組成物の使用時における成分Ｂの含有量が、０．０１質量％以上３質量％以下であ」るのに対し、甲３発明は、「有機溶剤」が「プロピレングリコールフェニルエーテル（ＰＰＯＨ）」及び「ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＤＰＧＭＥ）」であり、「エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノｎ－ヘキシルエーテル、１－メチルシクロヘキサノール、２－フェニル－１－プロパノール及び１－フェニル－１－プロパノールから選ばれる１種又は２種以上の組合せ」は含まれていない点。

（相違点２）

本件特許発明２は、「無機アルカリ（成分Ａ）」が「水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムの少なくとも一方であ」り、「洗浄剤組成物の使用時における成分Ａの含有量が、２質量％以上５質量％以下であ」るのに対し、甲３発明は、「無機アルカリ」が「水酸化カリウム（ＫＯＨ）」及び「炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）」であり、「無機アルカリ」の「水酸化カリウム（ＫＯＨ）」の含有量が１．０重量％である点。

（相違点３）

本件特許発明２は、「成分Ｂに対する成分Ａの質量比（Ａ／Ｂ）が、１以上６０以下であ」るのに対し、甲３発明は、そのような構成ではない点。

（相違点４）

本件特許発明２は、「露光又は現像工程後のレジスト層、露光及び現像の少なくとも一方の処理が施されたレジスト層、あるいは、硬化したレジスト層である樹脂マスクが付着した被洗浄物を洗浄するための樹脂マスク剥離用」であるのに対し、甲３発明は、「レジスト除去用」である点。

（４）判断

事案に鑑み、相違点１について検討する。

ア 甲３には、有機溶剤として、「エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノｎ－ヘキシルエーテル、１－メチルシクロヘキサノール、２－フェニル－１－プロパノール及び１－フェニル－１－プロパノールから選ばれる１種又は２種以上の組合せ」（以下「特定成分Ｂ」という。）は記載されていない。また、樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物の濃縮性を向上させるために特定成分Ｂを採用することは、特許異議申立人が提出した甲号証に記載されていない。さらに、樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物の濃縮性を向上させるために特定成分Ｂを採用することが、本件出願時における周知慣用技術であることを示す証拠を発見することもできない。加えて、甲３発明において、特定成分Ｂを採用する動機付けを見いだすこともできない。

イ したがって、引用発明３において、相違点１に係る本件特許発明２の構成を採用することは、当業者が容易になし得たことであるということはできない。

そして、本件特許発明２は、上記相違点１に係る構成を有することにより、濃縮性を向上させることができるという有利な効果を奏するものである（本件特許の明細書の【００６７】【表２】参照。）。

ウ 甲３に記載された実施例１、５及び６のレジスト除去用シンナー組成物の発明を引用発明とした場合も、判断は上記（４）と同様である。

（５）小括

したがって、相違点２～４について検討するまでもなく、本件特許発明２は、甲３に記載された発明、特許異議申立人が提出した甲号証に記載された技術的事項及び周知慣用技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。

３ 本件特許発明３～１２について

本件特許の特許請求の範囲の請求項３～１２は、いずれも、請求項２を直接又は間接的に引用するものであって、本件特許発明３～１２は、本件特許発明２の構成を全て具備するものである。そうすると、前記（２）のとおり、本件特許発明２が、甲３に記載された発明、特許異議申立人が提出した甲号証に記載された技術的事項及び周知慣用技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということができない以上、本件特許発明３～１２も、甲３に記載された発明、特許異議申立人が提出した甲号証に記載された技術的事項及び本件出願時の周知慣用技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。

第６ 取消理由通知において採用しなかった特許異議申立理由について

１ 甲第４号証を主引用文献とする進歩性（申立理由１）

特許異議申立人は、申立理由１において、甲第１号証を主引用文献としているが、甲第１号証は、甲第４号証の機械翻訳文であるから、甲第４号証（中国特許出願公開第１０２４３３０４３号明細書：以下「甲４」という。）を主引用文献とする。

（１）甲４には、実施例８に係る除去剤として、次の発明が記載されていると認められる（以下「甲４発明」という。）。

「Ａ成分：エチレングリコール７５重量％、

Ｂ成分：Ｎ－オクチル－２ピロリドン１重量％、

Ｃ成分：プロピレングリコールモノフェニルエーテル１重量％、

水１０重量％、

無機強塩基：水酸化カリウム１０重量％、

を含む除去剤。」

（２）本件特許発明１について

ア 本件特許発明１と甲４発明とを対比すると、両者は少なくとも以下の点で相違する。

（相違点Ａ）

本件特許発明１は、「洗浄剤組成物の使用時における成分Ｃの含有量が、８５質量％以上であ」るのに対し、甲４発明は、水の含有量が１０重量％である点。

イ 上記相違点Ａについて検討する。

甲第４号証及びその他の甲号証の記載をみても、甲４発明において、水の含有量を、１０質量％とは大きく異なる８５質量％以上に敢えて変更する動機付けとなり得る記載を見いだすことはできない。

そうすると、仮に組成物の水の含有量を８５質量％以上とすること（甲３参照）が周知慣用技術であったとしても、甲４発明において、水の含有量を８５質量％以上とすることは、特段の動機付けとなり得る事情がない限り、当業者が容易になし得たことであるということはできない。

したがって、本件特許発明１は、甲４に記載された発明、特許異議申立人が提出した甲号証に記載された技術的事項及び周知慣用技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。

（３）本件特許発明２について

本件特許発明２と甲４発明とを対比すると、両者は少なくとも上記相違点Ａで相違する。

そして、上記相違点Ａについては上記（２）で述べたとおりである。

したがって、本件特許発明２は、甲４に記載された発明、特許異議申立人が提出した甲号証に記載された技術的事項及び周知慣用技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。

（４）本件特許発明３～１２について

本件特許の特許請求の範囲の請求項３～１２は、いずれも、請求項１又は２を直接又は間接的に引用するものであって、本件特許発明３～１２は、本件特許発明１又は２の構成を全て具備するものである。そうすると、前記（２）のとおり、本件特許発明１又は２が、甲４に記載された発明、特許異議申立人が提出した甲号証に記載された技術的事項及び周知慣用技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということができない以上、本件特許発明３～１２も、甲４に記載された発明、特許異議申立人が提出した甲号証に記載された技術的事項及び周知慣用技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。

２ 甲３（特表２００５－５０９６９３号公報）を主引用文献とする進歩性（申立理由２）

（１）本件特許発明１について

ア 本件特許発明１と甲３発明とを対比すると、両者は少なくとも以下の点で相違する。

（相違点Ｂ）

本件特許発明１は、「樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物（ただし、有機アミンを０．１乃至５重量％で含有するものを除く）」であるのに対し、甲３発明は、「有機アミン：ジエチレングリコールアミン（ＤＥＧＡ）０．５重量％」を含むレジスト除去用シンナー組成物である点。

イ 上記相違点Ｂについて検討する。

甲３発明において、「有機アミン：ジエチレングリコールアミン（ＤＥＧＡ）０．５重量％」は必須の成分である（甲３の【特許請求の範囲】の【請求項１】、【０００６】、【０００７】、【００１７】【表１】を参照のこと。）から、甲３発明において、「有機アミン：ジエチレングリコールアミン（ＤＥＧＡ）０．５重量％」を取り除く動機付けを見いだすことはできない。また、本件特許発明１と甲３発明は、有機アミンを含有するか否かによって、構成が相違し、奏する効果も異なる（甲３の【００１４】参照のこと。）から、その意味において少なくとも顕著に異なる発明であるということができる。

そうすると、組成物において、「有機アミン：ジエチレングリコールアミン（ＤＥＧＡ）０．５重量％」を含まないようにすることが周知慣用技術であったとしても、甲３発明において、「有機アミン：ジエチレングリコールアミン（ＤＥＧＡ）０．５重量％」を除くことは、当業者が容易になし得たことであるということはできない。

したがって、本件特許発明１は、甲３に記載された発明、特許異議申立人が提出した甲号証に記載された技術的事項及び周知慣用技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。

（３）本件特許発明２～１２について

上記「第５」で述べたとおりである。

３ サポート要件（申立理由３）

（１）本件特許の明細書の【００１０】には、本件特許の発明が解決しようとする課題として、「本開示は、樹脂マスク除去性に優れ、排水処理負荷の小さい樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物、該洗浄剤組成物を用いた樹脂マスクの洗浄方法及び基板の製造方法を提供する」と記載されている。

（２）本件特許の明細書の【００３２】～【００３３】及び【００５３】～【００７０】（【実施例】）によると、本件特許発明１の「成分Ｃの含有量」の数値範囲（「８５質量％以上」）は、優れた樹脂マスク除去性を期待し得ないほどの数値範囲であるということはできず、上記課題が解決できることを当業者は認識することができるというべきである。

そうすると、本件特許発明１は、発明の詳細な説明において「発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲」を超えるものとはいえない。

（３）本件特許の明細書の【００２０】～【００２２】及び【００５３】～【００７０】（【実施例】）によると、本件特許発明２の「成分Ａの含有量」の数値範囲（「２質量％以上５質量％以下」）は、優れた樹脂マスク除去性を期待し得ないほどの数値範囲であるということはできず、上記課題が解決できることを当業者は認識することができるというべきである。

そうすると、本件特許発明２は、発明の詳細な説明において「発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲」を超えるものとはいえない。

第７ むすび

請求項１～１２に係る特許は、いずれも、取消理由通知書に記載した取消しの理由及び特許異議申立書に記載した特許異議申立理由によっては取り消すことはできない。また、他に請求項１～１２に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。

よって、結論のとおり決定する。