2021-700878

特許第６８４１４６２号発明「無電解めっき用触媒付与液」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第６８４１４６２号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１、４～１２〕、２、３、１３について訂正することを認める。 特許第６８４１４６２号の請求項１～１３に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第６８４１４６２号（請求項の数１３。以下、「本件特許」という。）は、令和２年７月３日を出願日とする特許出願（特願２０２０－１１５４７４号）に係るものであって、令和３年２月２２日に設定登録されたものである（特許掲載公報の発行日は、令和３年３月１０日である。）。 その後、令和３年９月１０日に、本件特許の請求項１～１３に係る特許に対して、特許異議申立人である平居博美（以下、「申立人」という。）により、特許異議の申立てがされた。 本件特許異議の申立てにおける手続の経緯は、以下のとおりである。 令和３年 ９月１０日提出 特許異議申立書 １１月２６日付け 取消理由通知書 令和４年 １月２８日提出 意見書、訂正請求書 ２月１４日付け 手続補正指令書（方式）（訂正請求書について） ３月１６日提出 手続補正書（方式）（訂正請求書について） ３月２５日付け 通知書（訂正請求があった旨の通知） ４月２５日提出 意見書（申立人） ６月１３日付け 取消理由通知書（決定の予告） ８月１０日提出 意見書、訂正請求書 ９月１２日付け 通知書（訂正請求があった旨の通知） １０月１４日提出 意見書（申立人） 第２ 訂正の請求について １ 請求の趣旨及び請求の理由（訂正の内容） 令和４年８月１０日提出の訂正請求書による訂正（以下、「本件訂正」という。）の請求は、本件特許の特許請求の範囲を上記訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１～１３について訂正することを求めるものであり、その内容は、以下のとおりである。下線は、訂正箇所を示す。 なお、令和４年１月２８日提出の訂正請求書による訂正の請求は、本件訂正の請求がされたことに伴い、特許法１２０条の５第７項の規定により、取り下げられたものとみなす。 （１）訂正事項１ 特許請求の範囲の請求項１に「コバルト化合物及び還元剤を含有する、無電解パラジウムめっき、無電解ニッケルめっき、及び無電解金めっきからなる群より選択される少なくとも１種の無電解めっき（但し、触媒金属として銀を使用する無電解めっきを除く）に用いるための触媒付与液。」とあるのを、「コバルト化合物及び還元剤を含有する、無電解パラジウムめっき、及び無電解ニッケルめっきからなる群より選択される少なくとも１種の無電解めっき（但し、触媒金属として銀を使用する無電解めっきを除く）に用いるための触媒付与液。」に訂正する。 （２）訂正事項２ 特許請求の範囲の請求項２に「前記還元剤がアミン化合物を含む、請求項１に記載の触媒付与液。」とあるのを、「コバルト化合物及び還元剤を含有し、前記還元剤がアミン化合物を含む、無電解パラジウムめっきである無電解めっき（但し、触媒金属として銀を使用する無電解めっきを除く）、又は触媒側から無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっきの順に行う無電解めっき（但し、触媒金属として銀を使用する無電解めっきを除く）に用いるための触媒付与液。」に訂正する。 （３）訂正事項３ 特許請求の範囲の請求項３に「前記アミン化合物が、アミンボラン、ヒドラジン、及びヒドラジン誘導体からなる群より選択される少なくとも１種を含む、請求項２に記載の触媒付与液。」とあるのを、「コバルト化合物及び還元剤を含有し、前記還元剤がアミン化合物を含み、前記アミン化合物が、アミンボラン、ヒドラジン、及びヒドラジン誘導体からなる群より選択される少なくとも１種を含む、無電解パラジウムめっきである無電解めっき（但し、触媒金属として銀を使用する無電解めっきを除く）に用いるための触媒付与液。」に訂正する。 （４）訂正事項４ 特許請求の範囲の請求項１３に「前記金属上の触媒核１（但し、触媒金属として銀を含有する触媒核を除く）」とあるのを、「前記金属上に還元析出により形成された前記金属上の触媒核１（但し、触媒金属として銀を含有する触媒核を除く）」に訂正する。 （５）訂正事項５ 特許請求の範囲の請求項１３に「前記皮膜２が無電解パラジウムめっき皮膜、無電解ニッケルめっき皮膜、及び無電解金めっき皮膜からなる群より選択される少なくとも１種の無電解めっき皮膜である、」とあるのを、「前記皮膜２が無電解パラジウムめっき皮膜、及び無電解ニッケルめっき皮膜からなる群より選択される少なくとも１種の無電解めっき皮膜である、」に訂正する。 （６）訂正事項６ 特許請求の範囲の請求項４に「請求項１～３のいずれかに記載の触媒付与液。」とあるのを、「請求項１に記載の触媒付与液。」に訂正する。 （７）訂正事項７ 特許請求の範囲の請求項７に「請求項１～６のいずれかに記載の触媒付与液。」とあるのを、「請求項１及び４～６のいずれかに記載の触媒付与液。」に訂正する。 （８）訂正事項８ 特許請求の範囲の請求項８に「請求項１～７のいずれかに記載の触媒付与液。」とあるのを、「請求項１及び４～７のいずれかに記載の触媒付与液。」に訂正する。 （９）訂正事項９ 特許請求の範囲の請求項９に「請求項１～８のいずれかに記載の触媒付与液。」とあるのを、「請求項１及び４～８のいずれかに記載の触媒付与液。」に訂正する。 （１０）訂正事項１０ 特許請求の範囲の請求項１０に「請求項１～９のいずれかに記載の触媒付与液。」とあるのを、「請求項１及び４～９のいずれかに記載の触媒付与液。」に訂正する。 （１１）訂正事項１１ 特許請求の範囲の請求項１１に「請求項１～１０のいずれかに記載の触媒付与液。」とあるのを、「請求項１及び４～１０のいずれかに記載の触媒付与液。」に訂正する。 （１２）訂正事項１２ 特許請求の範囲の請求項１２に「請求項１～１０のいずれかに記載の触媒付与液。」とあるのを、「請求項１及び４～１０のいずれかに記載の触媒付与液。」に訂正する。 （１３）一群の請求項について 訂正前の請求項１～１２について、請求項２～１２は、請求項１を直接又は間接的に引用するものであり、上記の訂正事項１によって記載が訂正される請求項１に連動して訂正されるものである。したがって、訂正前の請求項１～１２は、一群の請求項である。そして、本件訂正は、その一群の請求項ごとに請求がされたものである。 ２ 訂正の適否についての当審の判断 （１）訂正事項１について 訂正事項１に係る訂正は、訂正前の請求項１における「無電解めっき」の種類について、「無電解パラジウムめっき、無電解ニッケルめっき、及び無電解金めっきからなる群より選択される少なくとも１種」を「無電解パラジウムめっき、及び無電解ニッケルめっきからなる群より選択される少なくとも１種」とするものである。 この訂正は、「無電解めっき」の種類について、「無電解金めっき」を削除し、「無電解パラジウムめっき、及び無電解ニッケルめっきからなる群より選択される少なくとも１種」に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。そして、この訂正は、本件特許の願書に添付した明細書又は特許請求の範囲（以下、「訂正前明細書等」という。）に記載した事項の範囲内においてするものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 （２）訂正事項２について ア 訂正事項２に係る訂正は、訂正前の請求項１を引用する請求項２について、引用形式の記載から独立形式の記載に改める訂正を含むものである。 この訂正は、請求項の記載について、訂正前の引用形式の記載を独立形式の記載に改めるものであるから、「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること」を目的とするものに該当する。そして、この訂正は、訂正前明細書等に記載した事項の範囲内においてするものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 イ 訂正事項２に係る訂正は、訂正前の請求項１を引用する請求項２における「無電解めっき」の種類について、「無電解パラジウムめっき、無電解ニッケルめっき、及び無電解金めっきからなる群より選択される少なくとも１種」を「無電解パラジウムめっき」又は「触媒側から無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっきの順に行う」ものとする訂正を含むものである。 この訂正は、「無電解めっき」の種類について、「無電解金めっき」を削除した上で、残された２つの選択肢である「無電解パラジウムめっき」と「無電解ニッケルめっき」のいずれか１種のみを行うものと、２種のいずれも行うもの（その順序により２つの場合がある。）のうち、「無電解パラジウムめっき」を行うものと、「無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっきの順に行う」ものに限定するとともに、後者について「触媒側から」順に行うものに限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。 また、訂正前明細書等には、以下の記載がある。 「本発明は、その一態様において、（１）無電解めっき対象材料と、本発明の触媒付与液とを接触させる工程、及び（２）工程（１）後に、無電解めっき処理する工程を含む、無電解めっき皮膜を含む材料を製造する方法、或いは、無電解めっき対象材料を無電解めっきする方法（本明細書において、「本発明の方法２」と示すこともある。）に関する。」（【００７１】） 「また、工程（２）で無電解ニッケルめっき液又は無電解ニッケル合金めっき液を使用した場合は、さらに無電解パラジウムめっき又は無電解パラジウム合金めっきを行うことが好ましく、これに続いてさらに無電解金めっき又は無電解金合金めっきを行うことがより好ましい。」（【００７５】） 訂正前明細書等の上記記載によれば、訂正前明細書等には、無電解めっき対象材料と触媒付与液とを接触させた後、無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっきを順に行うことが記載されており、「触媒側から無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっきの順に行う」ことが記載されているといえるから、この訂正は、訂正前明細書等に記載した事項の範囲内においてするものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 （３）訂正事項３について ア 訂正事項３に係る訂正は、訂正前の請求項１を引用する請求項２を引用する請求項３について、引用形式の記載から独立形式の記載に改める訂正を含むものである。 この訂正は、請求項の記載について、訂正前の引用形式の記載を独立形式の記載に改めるものであるから、「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること」を目的とするものに該当する。そして、この訂正は、訂正前明細書等に記載した事項の範囲内においてするものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 イ 訂正事項３に係る訂正は、訂正前の請求項１を引用する請求項２を引用する請求項３における「無電解めっき」の種類について、「無電解パラジウムめっき、無電解ニッケルめっき、及び無電解金めっきからなる群より選択される少なくとも１種」を「無電解パラジウムめっき」とする訂正を含むものである。 この訂正は、「無電解めっき」の種類について、「無電解ニッケルめっき」及び「無電解金めっき」を削除し、「無電解パラジウムめっき」に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。そして、この訂正は、訂正前明細書等に記載した事項の範囲内においてするものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 （４）訂正事項４について 訂正事項４に係る訂正は、訂正前の請求項１３に対して、「前記金属上に還元析出により形成された」との記載を追加するものである。 この訂正は、訂正前の請求項１３における「金属上の触媒核１」が「金属上に還元析出により形成された」ものに限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。 また、訂正前明細書等には、以下の記載がある。 「本発明は、その一態様において、コバルト化合物及び還元剤を含有する、無電解めっき用触媒付与液（本明細書において、「本発明の触媒付与液」と示すこともある。）に関する。」（【００２３】） 「還元剤としては、コバルト金属を析出させることが可能な還元剤である限り特に制限されず、還元めっきで使用され得る還元剤を使用することができる。」（【００２８】） 「本発明は、その一態様において、（１）無電解めっき対象材料と、本発明の触媒付与液とを接触させる工程を含む、触媒核を含む無電解めっき対象材料を製造する方法、或いは、無電解めっき対象材料を触媒付与処理する方法（本明細書において、「本発明の方法１」と示すこともある。）に関する。」（【００５９】） 「本発明の方法１により、無電解めっき対象材料の表面金属上にコバルトを含む触媒核が形成される。」（【００６５】） 訂正前明細書等の上記記載によれば、訂正前明細書等には、コバルト化合物を還元剤により還元しコバルト金属を析出させ、無電解めっき対象材料の表面金属上にコバルトを含む触媒核を形成することが記載されており、「金属上の触媒核１」が「金属上に還元析出により形成された」ものであることが記載されているといえるから、この訂正は、訂正前明細書等に記載した事項の範囲内においてするものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 （５）訂正事項５について 訂正事項５に係る訂正は、訂正前の請求項１３における「無電解めっき皮膜」の種類について、「無電解パラジウムめっき皮膜、無電解ニッケルめっき皮膜、及び無電解金めっき皮膜からなる群より選択される少なくとも１種」を「無電解パラジウムめっき皮膜、及び無電解ニッケルめっき皮膜からなる群より選択される少なくとも１種」とするものである。 この訂正は、「無電解めっき皮膜」の種類について、「無電解金めっき皮膜」を削除し、「無電解パラジウムめっき皮膜、及び無電解ニッケルめっき皮膜からなる群より選択される少なくとも１種」に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。そして、この訂正は、訂正前明細書等に記載した事項の範囲内においてするものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 （６）訂正事項６～１２について 訂正事項６に係る訂正は、訂正前の請求項４における引用請求項について、「請求項１～３のいずれか」を「請求項１」に訂正するものである。 訂正事項７に係る訂正は、訂正前の請求項７における引用請求項について、「請求項１～６のいずれか」を「請求項１及び４～６のいずれか」に訂正するものである。 訂正事項８に係る訂正は、訂正前の請求項８における引用請求項について、「請求項１～７のいずれか」を「請求項１及び４～７のいずれか」に訂正するものである。 訂正事項９に係る訂正は、訂正前の請求項９における引用請求項について、「請求項１～８のいずれか」を「請求項１及び４～８のいずれか」に訂正するものである。 訂正事項１０に係る訂正は、訂正前の請求項１０における引用請求項について、「請求項１～９のいずれか」を「請求項１及び４～９のいずれか」に訂正するものである。 訂正事項１１に係る訂正は、訂正前の請求項１１における引用請求項について、「請求項１～１０のいずれか」を「請求項１及び４～１０のいずれか」に訂正するものである。 訂正事項１２に係る訂正は、訂正前の請求項１２における引用請求項について、「請求項１～１０のいずれか」を「請求項１及び４～１０のいずれか」に訂正するものである。 これらの訂正は、いずれも、上記の訂正事項２及び３による訂正（引用関係の解消を目的とする訂正）に伴い、請求項間の引用関係を整理するものであるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当する。そして、これらの訂正は、訂正前明細書等に記載した事項の範囲内においてするものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。 （７）独立特許要件について 本件においては、訂正前の全ての請求項１～１３について特許異議の申立てがされているので、特許法１２０条の５第９項において読み替えて準用する同法１２６条７項の独立特許要件は課されない。 ３ まとめ 上記２のとおり、各訂正事項に係る訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書１号、３号又は４号に掲げる事項を目的とするものに該当し、同条９項において準用する同法１２６条５項及び６項に適合するものである。 また、訂正後の請求項２及び３に係る訂正事項２及び３は、上記２のとおり、いずれも認められるものであるところ、特許権者は、訂正後の請求項２及び３についての訂正が認められる場合には、これらの請求項については、一群の請求項の他の請求項とは別途訂正することを求めている。 したがって、結論のとおり、訂正後の請求項〔１、４～１２〕、２、３、１３ について訂正することを認める。 第３ 本件発明 前記第２で述べたとおり、本件訂正は認められるので、本件特許の請求項１～１３に係る発明は、本件訂正後の特許請求の範囲の請求項１～１３に記載された事項により特定される以下のとおりのものである（以下、それぞれ「本件発明１」等という。また、本件特許の願書に添付した明細書を「本件明細書」という。）。 【請求項１】 コバルト化合物及び還元剤を含有する、 無電解パラジウムめっき、及び無電解ニッケルめっきからなる群より選択される少なくとも１種の無電解めっき（但し、触媒金属として銀を使用する無電解めっきを除く）に用いるための触媒付与液。 【請求項２】 コバルト化合物及び還元剤を含有し、 前記還元剤がアミン化合物を含む、 無電解パラジウムめっきである無電解めっき（但し、触媒金属として銀を使用する無電解めっきを除く）、又は触媒側から無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっきの順に行う無電解めっき（但し、触媒金属として銀を使用する無電解めっきを除く）に用いるための触媒付与液。 【請求項３】 コバルト化合物及び還元剤を含有し、 前記還元剤がアミン化合物を含み、 前記アミン化合物が、アミンボラン、ヒドラジン、及びヒドラジン誘導体からなる群より選択される少なくとも１種を含む、 無電解パラジウムめっきである無電解めっき（但し、触媒金属として銀を使用する無電解めっきを除く）に用いるための触媒付与液。 【請求項４】 錯化剤を含有する、請求項１に記載の触媒付与液。 【請求項５】 前記錯化剤がカルボン酸を含む、請求項４に記載の触媒付与液。 【請求項６】 前記カルボン酸がヒドロキシカルボン酸又はジカルボン酸を含む、請求項５に記載の触媒付与液。 【請求項７】 前記還元剤が、ホウ素含有化合物及びリン含有化合物からなる群より選択される少なくと も１種を含む、請求項１及び４～６のいずれかに記載の触媒付与液。 【請求項８】 さらに、金属塩を含有する、請求項１及び４～７のいずれかに記載の触媒付与液。 【請求項９】 コバルト含有量が金属１００質量％に対して５０質量％以上である、請求項１及び４～８のいずれかに記載の触媒付与液。 【請求項１０】 前記還元剤が、ホウ素含有化合物及びリン含有化合物からなる群より選択される少なくとも１種を含み、且つ 前記無電解めっきが、銅及び／又は銅合金が表面に露出している材料に対する無電解めっきである、 請求項１及び４～９のいずれかに記載の触媒付与液。 【請求項１１】 （１）無電解めっき対象材料と、請求項１及び４～１０のいずれかに記載の触媒付与液とを接触させる工程を含む、触媒核を含む無電解めっき対象材料を製造する方法。 【請求項１２】 （１）無電解めっき対象材料と、請求項１及び４～１０のいずれかに記載の触媒付与液とを接触させる工程、及び （２）工程（１）後に、無電解めっき処理する工程 を含む、無電解めっき皮膜を含む材料を製造する方法。 【請求項１３】 金属が表面に露出している材料、前記金属上に還元析出により形成された前記金属上の触媒核１（但し、触媒金属として銀を含有する触媒核を除く）、及び前記触媒核１上の皮膜２を含み、且つ 前記触媒核１がコバルトを含有し、 前記皮膜２が無電解パラジウムめっき皮膜、及び無電解ニッケルめっき皮膜からなる群より選択される少なくとも１種の無電解めっき皮膜である、 材料。 第４ 特許異議の申立ての理由及び取消理由の概要 １ 特許異議申立書に記載した特許異議の申立ての理由 本件特許の請求項１～１３に係る特許は、下記（１）～（４）のとおり、特許法１１３条２号及び４号に該当する。証拠方法は、甲第１号証～甲第１７号証（以下、単に「甲１」等という。下記（５）を参照。）である。 （１）申立理由１（サポート要件） 本件訂正前の請求項１～１３に係る発明については、特許請求の範囲の記載が特許法３６条６項１号に適合するものではないから、本件特許の請求項１～１３に係る特許は、同法１１３条４号に該当する。 （２）申立理由２（実施可能要件） 本件訂正前の請求項１～１３に係る発明については、発明の詳細な説明の記載が特許法３６条４項１号に適合するものではないから、本件特許の請求項１～１３に係る特許は、同法１１３条４号に該当する。 （３）申立理由３（新規性、進歩性） 本件訂正前の請求項１～１２に係る発明は、甲１に記載された発明であり、特許法２９条１項３号に該当し、特許を受けることができないものであるから、本件特許の請求項１～１２に係る特許は、同法１１３条２号に該当する。 本件訂正前の請求項１～１３に係る発明は、甲１に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下、「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであり、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができないものであるから、本件特許の請求項１～１３に係る特許は、同法１１３条２号に該当する。 （４）申立理由４（新規性、進歩性） 本件訂正前の請求項１～１２に係る発明は、甲２に記載された発明であり、特許法２９条１項３号に該当し、特許を受けることができないものであるから、本件特許の請求項１～１２に係る特許は、同法１１３条２号に該当する。 本件訂正前の請求項１～１３に係る発明は、甲２に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができないものであるから、本件特許の請求項１～１３に係る特許は、同法１１３条２号に該当する。 （５）証拠方法 ・甲１ 特開２０１２－２１６７２２号公報 ・甲２ 特開昭５５－１０２２９７号公報 ・甲３ 特開２０１９－７０６７号公報 ・甲４ 特開２０２０－３３６２８号公報 ・甲５ 特開２０１９－７０６８号公報 ・甲６ 特開２０１７－１２８７９１号公報 ・甲７ 特表２０１８－５３５３２５号公報 ・甲８ 特開２０１６－２１１０１４号公報 ・甲９ 特願２０２０－１１５４７４に対する令和２年９月２５日付け拒絶理由通知書 ・甲１０ 特願２０２０－１１５４７４に対する令和２年１１月２４日提出の意見書 ・甲１１ 特表２００９－５２２４４５号公報 ・甲１２ 特開平２－９３０７６号公報 ・甲１３ 特開平２－８１６２７号公報 ・甲１４ 特開２０１５－１５５５６６号公報 ・甲１５ 特開２００７－２４６９８１号公報 ・甲１６ 特開２００５－０８２８８３号公報 ・甲１７ 特開２００２－１８０２６１号公報 ２ 取消理由通知書に記載した取消理由 （１）令和３年１１月２６日付けの取消理由通知書 ア 取消理由１（サポート要件） 上記１の申立理由１（サポート要件）と同旨 イ 取消理由２（サポート要件） 本件訂正前の請求項１３に係る発明については、「触媒核１」が置換めっきにより形成されるもの等を包含する点で、特許請求の範囲の記載が特許法３６条６項１号に適合するものではないから、本件特許の請求項１３に係る特許は、同法１１３条４号に該当する。 （２）令和４年６月１３日付けの取消理由通知書（決定の予告） ア 取消理由１’（サポート要件） 上記（１）の取消理由１（サポート要件）と同旨（ただし、令和４年１月２８日提出の訂正請求書による訂正後の請求項１～１３に係る発明に対するもの。） 第５ 当審の判断 以下に述べるように、取消理由通知書に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した特許異議の申立ての理由によっては、本件特許の請求項１～１３に係る特許を取り消すことはできない。 １ 取消理由１’（サポート要件）、取消理由１（サポート要件）、申立理由１（サポート要件） （１）令和３年１１月２６日付けの取消理由通知書では、概ね以下のとおり指摘した。 「本件明細書の記載（【０００６】）によれば、本件訂正前の請求項１～１３に係る発明が解決しようとする課題は、「金属材料上に無電解めっきを行う際の前処理に使用する触媒付与液であって、めっき析出性、選択析出性、バリア特性、接合性等がより優れた無電解めっき皮膜を形成するために有用であり、また浴安定性がより優れた触媒付与液を提供すること」と認められる。 本件明細書には、上記課題を解決するための手段について、コバルト化合物及び還元剤を含有する無電解めっき用触媒付与液であれば、上記課題を解決できると記載され（【０００７】）、特定の金属材料を無電解めっきする場合に限られるとは記載されていない。 しかしながら、 ・本件明細書には、あらゆる金属材料を無電解めっきする場合について、上記課題を解決できると理解できるような機序は説明されていないこと、 ・本件明細書の実施例及び比較例において上記課題を解決できることが確認されているのは、上記触媒付与液を無電解パラジウムめっきの前処理に使用する場合のみであること、 ・通常、無電解ニッケルめっき皮膜、無電解金めっき皮膜には、下地金属の拡散を防止するバリア特性がないこと（本件明細書【０００２】、甲３～６、８）、 を踏まえると、上記触媒付与液を無電解ニッケルめっき又は無電解金めっきの前処理に使用する場合については、特にバリア特性に関し上記課題を解決できるとはいえない。 以上によれば、無電解ニッケルめっき又は無電解金めっきに使用する場合を包含する本件訂正前の請求項１～１３に係る発明は、発明の詳細な説明の記載により当業者が上記課題を解決できると認識し得る範囲を超えるものである。」 また、令和４年６月１３日付けの取消理由通知書（決定の予告）でも、上記と同様の指摘をした。 （２）これに対して、前記第２のとおり、本件訂正により、無電解めっき（皮膜）の種類が、本件発明１では「無電解パラジウムめっき、及び無電解ニッケルめっきからなる群より選択される少なくとも１種」に限定され、本件発明２では「無電解パラジウムめっき」を行うものと「触媒側から無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっきの順に行う」ものに限定され、本件発明３では「無電解パラジウムめっき」に限定され、本件発明１３では「無電解パラジウムめっき皮膜、及び無電解ニッケルめっき皮膜からなる群より選択される少なくとも１種」に限定されたので、以下検討する。 （３）ア 本件発明１～１３が解決しようとする課題は、上記（１）で指摘したとおりのものである。 本件明細書には、上記（１）のとおり、コバルト化合物及び還元剤を含有する無電解めっき用触媒付与液であれば、上記課題を解決できると記載されている（【０００７】、【００２１】）。 また、本件明細書には、無電解めっき処理に用いられる無電解めっき液として、無電解パラジウムめっき液、無電解ニッケルめっき液、無電解金めっき液等を使用することが好ましく、無電解ニッケルめっき液を使用した場合は、さらに無電解パラジウムめっきを行うことが好ましく、これに続いてさらに無電解金めっきを行うことがより好ましいことも記載されている（【００７５】）。 そうすると、本件明細書には、上記触媒付与液を「無電解パラジウムめっき」の前処理に使用する場合のほか、「無電解ニッケルめっき」の前処理に使用する場合や、「触媒側から無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっきの順に行う」ものの前処理に使用する場合についても、上記課題を解決できると記載されていることが理解できる。 イ そして、本件明細書には、実施例及び比較例（【００７７】～【０１１３】、表１）として、前処理（酸性脱脂、ソフトエッチング）した無電解めっき対象材料の金属表面上に、実施例１～８及び比較例１～７の各種の触媒付与液を用いて触媒核を形成し、次いで無電解パラジウムめっき、無電解金めっきの順に処理した旨（【００９４】～【００９９】）記載されており、表１には、各種の評価試験の結果について、実施例１～８の触媒付与液を用いた場合に、比較例１～７の触媒付与液を用いた場合と比べて、バリア特性のほか、めっき析出性、選択析出性、接合性（はんだ接合性）、浴安定性がより優れたものとなることが示されている。この結果は、上記触媒付与液を「無電解パラジウムめっき」の前処理に使用する場合について、具体的に裏付けるものである。 ウ さらに、令和４年８月１０日提出の意見書には、無電解めっきの種類を「無電解パラジウムめっき、無電解金めっきの順」から「無電解ニッケルめっき、無電解金めっきの順」に変更したこと、バリア特性の評価における処理基板の熱処理時間を「１６ｈ」から「１ｈ」に変更したこと以外は、本件明細書の実施例及び比較例と同様とした試験を行ったところ、当該実施例及び比較例と同様の結果が得られたことが示されている（意見書４～１２頁）。この結果は、上記触媒付与液を「無電解ニッケルめっき」の前処理に使用する場合について、具体的に裏付けるものである。 また、同意見書には、無電解めっきの種類を「無電解パラジウムめっき、無電解金めっきの順」から「無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっき、無電解金めっきの順」に変更したこと以外は、本件明細書の実施例及び比較例と同様とした試験を行ったところ、当該実施例及び比較例と同様の結果が得られたことが示されている（意見書１３～２１頁）。この結果は、上記触媒付与液を「触媒側から無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっきの順に行う」ものの前処理に使用する場合について、具体的に裏付けるものである。 （なお、後者の試験については、意見書１６、１８～２０頁に「無電解ニッケルめっき、無電解金めっきの順」と記載されているものの、同１３頁に「訂正後の請求項２に係る発明については、無電解ニッケルめっきを使用する場合については触媒側から無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっきの順に行う無電解めっきに限定されています。・・・上記のような無電解めっきの場合であっても、本件発明の課題を解決できます。このことを確認的に示す試験結果を以下に示します。」と記載され、同１７頁に「（ｄ）無電解ニッケルめっき」、「（ｅ）無電解パラジウムめっき」、「（ｆ）無電解金めっき」と記載されていることから、後者の試験においては、実際には「無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっき、無電解金めっきの順」に行われたものと解される。） エ 以上によれば、上記触媒付与液を「無電解パラジウムめっき」の前処理に使用する場合のほか、「無電解ニッケルめっき」の前処理に使用する場合や、「触媒側から無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっきの順に行う」ものの前処理に使用する場合についても、当業者であれば、バリア特性を含め上記課題を解決できることが理解できるといえる。 オ 以上のとおり、本件明細書の記載を総合すれば、無電解めっき（皮膜）の種類が上記（２）のとおりに特定された本件発明１～１３は、本件明細書の発明の詳細な説明に記載されたものであって、当業者が出願時の技術常識に照らして発明の詳細な説明により上記課題を解決できると認識できる範囲のものということができる。 （４）ア 申立人は、事後的に実験データを提出して明細書の記載内容を記載外で補足することによって、サポート要件を満たすようにすることは、発明の公開を前提に特許を付与するという特許制度の趣旨に反し許されないから、意見書に添付された試験結果は考慮すべきではないと主張する（令和４年１０月１４日提出の意見書７～９頁）。 しかしながら、本件明細書には、上記触媒付与液を「無電解パラジウムめっき」の前処理に使用する場合のほか、「無電解ニッケルめっき」の前処理に使用する場合や、「触媒側から無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっきの順に行う」ものの前処理に使用する場合についても、上記課題を解決できると記載されていることは、上記（３）アのとおりである。このように本件明細書に記載された事項について、確認的に試験結果を示すことは許容されると解される。よって、申立人の主張は採用できない。 イ 申立人は、意見書に添付された試験結果は、バリア特性の評価について、無電解ニッケルめっき皮膜表面における下地金属検出の有無について評価していないから、無電解ニッケルめっき皮膜がバリア特性を有するか判断できないと主張する（同意見書９頁）。 しかしながら、意見書に添付された試験結果においては、本件明細書の実施例及び比較例の場合（【０１０８】）と同様に、最も上に形成されたＡｕ皮膜表面における下地金属検出の有無を評価しており、当業者であれば、Ａｕ皮膜よりも下に形成された無電解ニッケルめっき皮膜がバリア特性を有することは理解できるといえる。よって、申立人の主張は採用できない。 ウ 申立人は、意見書に添付された試験結果では、特定の組成を有する無電解ニッケルめっき液を用いて形成した特定の膜厚の無電解ニッケルめっき皮膜と金めっき皮膜との組み合わせが効果を奏することが示されているのみであるところ、通常、無電解ニッケルめっき皮膜には下地金属の拡散を防止するバリア特性がないという技術常識を考慮すると、試験結果に示された特定の構成のみでは、組成や膜厚も何ら限定されていない全ての無電解ニッケルめっき皮膜がバリア特性を有する根拠とはならないと主張する（同意見書９～１０頁）。 しかしながら、無電解ニッケルめっき液の組成や無電解ニッケルめっき皮膜の膜厚によって程度の差はあれ、一定程度のバリア特性が得られることは、当業者であれば、本件明細書の記載及び意見書に添付された試験結果から理解できるといえる。よって、申立人の主張は採用できない。 （５）以上のとおりであるから、本件発明１～１３については、特許請求の範囲の記載がサポート要件に適合するものである。 したがって、取消理由１’（サポート要件）、取消理由１（サポート要件）、申立理由１（サポート要件）によっては、本件特許の請求項１～１３に係る特許を取り消すことはできない。 ２ 取消理由２（サポート要件） 令和３年１１月２６日付けの取消理由通知書では、本件訂正前の請求項１３に係る発明について、本件明細書の記載によれば、当業者が課題を解決できると認識できるのは、コバルト化合物及び還元剤を含有する触媒付与液を使用して無電解めっきによって触媒核を形成する場合のみであるところ、本件訂正前の請求項１３に係る発明の「触媒核１」は、上記触媒付与液を使用した無電解めっきによって形成されるものに限られるものではなく、バリア特性及び接合性において不十分なおそれのある置換めっきによって形成されるもの等を包含すると解されるから、発明の詳細な説明の記載により当業者が課題を解決できると認識し得る範囲を超えるものとなっている旨、指摘した。 これに対して、前記第２のとおり、本件訂正により、本件訂正前の請求項１３における「金属上の触媒核１」が「金属上に還元析出により形成された」ものに限定された結果、バリア特性及び接合性において不十分なおそれのある置換めっきによって形成されるもの等を包含しないものとなったから、上記の点に関するサポート要件違反は解消した。 したがって、取消理由２（サポート要件）によっては、本件特許の請求項１３に係る特許を取り消すことはできない。 ３ 申立理由２（実施可能要件） （１）本件発明１～１０は、無電解めっきに用いるための触媒付与液に関するものであり、本件発明１１は、当該触媒付与液を用いて触媒核を含む無電解めっき対象材料を製造する方法に関するものであり、本件発明１２は、当該触媒付与液を用いて無電解めっき皮膜を含む材料を製造する方法であり、本件発明１３は、触媒核上の無電解めっき皮膜を含む材料に関するものである。 本件明細書には、触媒付与液、当該触媒付与液に含まれるコバルト化合物、還元剤、錯化剤及び金属塩（【００２３】～【００５８】）の各事項について、具体的な説明がなされている。 また、本件明細書には、触媒付与液の調整方法（【００７８】）について記載されており、水を溶媒として（【００５３】）、上記各成分を混合することで触媒付与液を調整できることは、当業者にとって明らかである。 さらに、本件明細書には、触媒付与液を用いて触媒核を含む無電解めっき対象材料を製造する方法、及び当該方法に用いられる無電解めっき対象材料（【００５９】～【００７０】）、触媒付与液を用いて無電解めっき皮膜を含む材料を製造する方法、当該方法に用いられる無電解めっき液、及び当該方法で得られる無電解めっき皮膜を含む材料（すなわち、触媒核上の無電解めっき皮膜を含む材料）（【００７１】～【００７６】）の各事項について、具体的な説明がなされており、また、触媒核上の無電解めっき皮膜を含む材料の用途（【０００２】）についても、具体的な説明がなされている。 そして、本件明細書には、実施例及び比較例（【００７７】～【０１１３】、表１）として、前処理（酸性脱脂、ソフトエッチング）した無電解めっき対象材料の金属表面上に、実施例１～８及び比較例１～７の各種の触媒付与液を用いて触媒核を形成し、次いで無電解パラジウムめっき、無電解金めっきの順に処理したことが記載されている（【００９４】～【００９９】）。 また、上記実施例１～８以外の場合についても、当業者であれば、本件明細書の記載に基づき、各種のコバルト化合物、還元剤、錯化剤及び金属塩を含む触媒付与液を調整し、当該触媒付与液を用いて触媒核を含む各種の無電解めっき対象材料を製造したり、各種の無電解めっき皮膜を含む材料（すなわち、触媒核上の無電解めっき皮膜を含む材料）を製造したりすることができる。 以上によれば、当業者であれば、本件明細書の発明の詳細な説明の記載及び出願時の技術常識に基づいて、本件発明１～１０に係る無電解めっきに用いるための触媒付与液、及び本件発明１３に係る触媒核上の無電解めっき皮膜を含む材料を製造し、使用することができるといえる。 また、同様に、当業者であれば、本件発明１１に係る触媒核を含む無電解めっき対象材料を製造する方法を使用することができ、当該方法により得られた無電解めっき対象材料を使用することができるとともに、本件発明１２に係る無電解めっき皮膜を含む材料を製造する方法を使用することができ、当該方法により得られた無電解めっき皮膜を含む材料（すなわち、触媒核上の無電解めっき皮膜を含む材料）を使用することができるといえる。 （２）申立人は、上記１の申立理由１（サポート要件）と同様の理由により、本件訂正前の請求項１に係る発明の「触媒付与液」と「無電解ニッケルめっき、及び無電解金めっきからなる群より選択される少なくとも１種の無電解めっき」との組み合わせにおいて上記課題を達成できるように、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものであるとはいえず、また、本件訂正前の請求項２～１３に係る発明についても同様であると主張する（特許異議申立書３７頁）。 しかしながら、そもそも、実施可能要件で問題とされるのは、本件発明１～１３の課題を解決できるかどうかではなく、物の発明については、その物を製造し、使用することができるかどうかであり、また、物の製造方法の発明については、その物の製造方法を使用し、その製造方法で得られた物を使用することができるかどうかであるから、申立人の主張は、その前提において失当である。 そして、当業者であれば、本件明細書の発明の詳細な説明の記載及び出願時の技術常識に基づいて、本件発明１～１３を実施することができるといえることは、上記（１）のとおりである。 よって、申立人の主張は採用できない。 なお、本件発明１～１３が、本件明細書の発明の詳細な説明に記載されたものであって、当業者が出願時の技術常識に照らして発明の詳細な説明の記載により課題を解決できると認識できる範囲のものということができることは、上記１で述べたとおりである。 （３）以上のとおりであるから、本件発明１～１３については、発明の詳細な説明の記載が実施可能要件に適合するものである。 したがって、申立理由２（実施可能要件）によっては、本件特許の請求項１～１３に係る特許を取り消すことはできない。 ４ 申立理由３（新規性、進歩性） （１）甲１に記載された発明 ア 甲１の記載（請求項１～１９、【０００１】、【００１０】、【００１１】、【００３２】、【００３４】～【００９３】、表１）によれば、甲１には、貫通ビア電極を有する基板について記載されているところ（【０００１】）、基板に貫通ビア電極を形成する際には、基板に形成されている孔の内周面に自己組織化単分子膜を形成し、自己組織化単分子膜上に無電解めっきの触媒となる金属ナノ粒子を吸着させ、金属ナノ粒子を触媒として孔の内周面に無電解めっき処理によりバリア層となる金属膜を形成し、このバリア層の金属膜上にシード層となる金属を無電解めっき処理により積層し、貫通ビア電極材をシード層上に電解めっきにより孔が充填されるまで堆積させ、貫通ビア電極を形成することが記載されている（請求項７、１２、【００３４】）。 ここで、甲１の実施例（【００５７】～【００９３】、表１）においては、上記のバリア層となる金属膜を形成するための無電解めっき処理に用いられる無電解めっき浴を構成するメッキ液として、表１の無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液が用いられており（【００６６】～【００７１】）、また、バリア層の金属膜上にシード層となる無電解Ｃｕを直接置換めっきにより堆積させている（【００７２】）。 以上によれば、特に表１の無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液に着目すると、甲１には、以下の発明が記載されていると認められる。 「硫酸コバルト４４ｇ／Ｌ、クエン酸１２０ｇ／Ｌ、ジメチルアミンボラン２．９ｇ／Ｌ、タングステン酸１．２５ｇ／Ｌを含有する、貫通ビア電極を有する基板におけるバリア層となる金属膜を形成するための無電解めっき処理に用いられる無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液であって、上記バリア層の金属膜上にシード層となる無電解Ｃｕを直接置換めっきにより堆積させる前に用いるための無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液。」（以下、「甲１発明１」という。） イ 甲１の上記アの記載によれば、特に、甲１の請求項７、１１、１２、１９、【００３６】、【００３８】、【００４１】の記載のほか、甲１の実施例で製造された貫通ビア電極を有する基板（【００５７】～【００７３】、表２）に着目すると、甲１には、以下の発明が記載されていると認められる。 「基板厚さ方向に、アスペクト比が７．５で形成された孔を充填している貫通ビア電極を有するＳｉ基板であって、 前記貫通ビア電極は、 トルエンを溶媒とした３－アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＰＴＥＳ）溶液であるシランカップリング剤を用いたシランカップリング処理により、前記孔の内周面に自己組織化単分子膜を形成し、ＰＶＰ（ポリビニルピロリドン）である保護剤及び平均金属粒子径４ｎｍのＰｄナノ粒子が含まれるＰｄナノコロイド溶液中に浸漬することによって、前記自己組織化単分子膜上に無電解めっきの触媒となるＰｄナノ粒子を吸着させることで、前記孔の内周面に吸着されたＰｄナノ粒子と、 前記Ｐｄナノ粒子を触媒として、無電解めっき処理により、前記孔の内周面に形成されたＣｏ－Ｗ－Ｂであるバリア層と、 前記Ｃｏ－Ｗ－Ｂであるバリア層上に無触媒置換めっきにより堆積されたコンフォーマルＣｕシード層と、 前記コンフォーマルＣｕシード層上に、前記孔を埋めるようにして堆積されたＣｕである貫通ビア電極材とを有してなり、 前記Ｃｏ－Ｗ－Ｂであるバリア層は、前記孔の内周面への密着強度が、スタッドプルテストで１４．１ＭＰａである基板。」（以下、「甲１発明２」という。） （２）本件発明１について ア 対比 本件発明１と甲１発明１とを対比する。 甲１発明１における「硫酸コバルト」は、本件発明１における「コバルト化合物」に相当する。 甲１発明１における「ジメチルアミンボラン」は、本件明細書の記載（【００２８】、【００２９】、【００３６】）に照らして、本件発明１における「還元剤」に相当する。 本件発明１における「触媒付与液」と、甲１発明１における「無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液」とは、いずれも「液」である限りで共通する。 以上によれば、本件発明１と甲１発明１とは、 「コバルト化合物及び還元剤を含有する、液。」 の点で一致し、以下の点で相違する。 ・相違点１－１ 本件発明１は、「触媒付与液」であるのに対して、甲１発明１は、「無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液」である点。 ・相違点１－２ 本件発明１では、触媒付与液が、「無電解パラジウムめっき、及び無電解ニッケルめっきからなる群より選択される少なくとも１種の無電解めっき（但し、触媒金属として銀を使用する無電解めっきを除く）に用いるための」ものであるのに対して、甲１発明１では、無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液が、「貫通ビア電極を有する基板におけるバリア層となる金属膜を形成するための無電解めっき処理に用いられる」ものであって、「上記バリア層の金属膜上にシード層となる無電解Ｃｕを直接置換めっきにより堆積させる前に用いるための」ものである点。 イ 相違点１－１の検討 （ア）まず、相違点１－１が実質的な相違点であるか否かについて検討する。 ａ 本件発明１に係る「触媒付与液」は、本件明細書の記載（【０００４】、【００５９】、【００６５】、【００７０】）によれば、基板の金属材料上に無電解めっきを行う際に、めっき析出性等を向上させる目的で、金属材料上にあらかじめ触媒核となる金属を析出させるために用いられるものと認められる。 一方、甲１発明１に係る「無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液」は、「貫通ビア電極を有する基板におけるバリア層となる金属膜を形成するための無電解めっき処理に用いられる」もの、すなわち、無電解めっき処理それ自体に用いられるメッキ液であり、本件発明１のような「触媒付与液」とは異なるものである。 ｂ この点、申立人は、触媒付与液とは、使用により被めっき物に触媒を付与できるという用途を付加しためっき液であり、本件明細書の記載（【００２４】、【００２８】、【００３７】、【００４５】、【００６２】、【００６５】）によれば、触媒付与液はすなわち、無電解Ｃｏめっき液であり、本件発明１と甲１発明１とは表現が異なるものの、いずれも無電解Ｃｏめっき液であると主張する（特許異議申立書３９～４０頁）。 しかしながら、本件発明１に係る「触媒付与液」は、上記ａで認定したとおりのものであり、甲１発明１に係る「無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液」とは異なるものであるから、申立人の主張は採用できない。 ｃ 以上によれば、相違点１－１は実質的な相違点である。 したがって、相違点１－２について検討するまでもなく、本件発明１は、甲１に記載された発明であるとはいえない。 （イ）次に、相違点１－１の容易想到性について検討する。 甲１発明１に係る「無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液」は、上記（ア）のとおり、無電解めっき処理それ自体に用いられるメッキ液である。甲１の記載全体をみても、このような甲１発明１に係る「無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液」を、本件発明１のような「触媒付与液」として用いることを動機付ける記載は見当たらず、また、そのようなことが本件特許の出願時の技術常識であるともいえない。 以上によれば、甲１発明１において、「無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液」を「触媒付与液」として用いることは、当業者が容易に想到することができたとはいえない。 したがって、相違点１－２について検討するまでもなく、本件発明１は、甲１に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 ウ 小括 以上のとおり、本件発明１は、甲１に記載された発明であるとはいえず、また、甲１に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （３）本件発明２、３について 本件発明２、３と甲１発明１とを対比すると、上記（２）アと同様に、両者は、少なくとも、相違点１－１と同様の点で相違するところ、この相違点については、上記（２）イで述べたのと同様の理由により、実質的な相違点であり、また、当業者が容易に想到することができたとはいえない。 したがって、本件発明２、３は、甲１に記載された発明であるとはいえず、また、甲１に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （４）本件発明４～１２について 本件発明４～１２は、本件発明１を直接又は間接的に引用するものであるが、上記（２）で述べたとおり、本件発明１が、甲１に記載された発明であるとはいえず、また、甲１に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない以上、本件発明４～１２についても同様に、甲１に記載された発明であるとはいえず、また、甲１に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない （５）本件発明１３について ア 対比 本件発明１３と甲１発明２とを対比する。 甲１発明２における「Ｓｉ基板」は、本件発明１３における「材料」に相当する。 本件発明１３における「コバルトを含有」する「触媒核１（但し、触媒金属として銀を含有する触媒核を除く）」と、甲１発明２における「Ｐｄナノ粒子」からなる「触媒」は、いずれも「触媒核１（但し、触媒金属として銀を含有する触媒核を除く）」である限りで共通する。 甲１発明２における「Ｃｏ－Ｗ－Ｂであるバリア層」は、Ｐｄナノ粒子を触媒として、無電解めっき処理により、孔の内周面に形成されたものであるから、Ｐｄナノ粒子からなる触媒の上に形成されたものといえる。そうすると、本件発明１３における「触媒核１上の皮膜２」である「無電解パラジウムめっき皮膜、及び無電解ニッケルめっき皮膜からなる群より選択される少なくとも１種の無電解めっき皮膜」と、甲１発明２におけるＰｄナノ粒子からなる触媒の上に形成されたと解される「無電解めっき処理によ」る「Ｃｏ－Ｗ－Ｂであるバリア層」とは、いずれも「触媒核１上の皮膜２」である限りで共通する。 以上によれば、本件発明１３と甲１発明２とは、 「材料、触媒核１（但し、触媒金属として銀を含有する触媒核を除く）、及び前記触媒核１上の皮膜２を含む、材料。」 の点で一致し、以下の点で相違する。 ・相違点１－３ 触媒核１が、本件発明１３では、「コバルトを含有」するものであるのに対して、甲１発明２では、「Ｐｄナノ粒子」からなるものである点。 ・相違点１－４ 皮膜２が、本件発明１３では、「無電解パラジウムめっき皮膜、及び無電解ニッケルめっき皮膜からなる群より選択される少なくとも１種の無電解めっき皮膜である」のに対して、甲１発明２では、「無電解めっき処理によ」る「Ｃｏ－Ｗ－Ｂであるバリア層」である点。 ・相違点１－５ 本件発明１３では、材料が「金属が表面に露出している」ものであり、また、触媒核１が「前記金属上に還元析出により形成された前記金属上の」ものであるのに対して、甲１発明２では、Ｓｉ基板が「金属が表面に露出している」ものではなく、また、Ｐｄナノ粒子からなる触媒は、「トルエンを溶媒とした３－アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＰＴＥＳ）溶液であるシランカップリング剤を用いたシランカップリング処理により、前記孔の内周面に自己組織化単分子膜を形成し、ＰＶＰ（ポリビニルピロリドン）である保護剤及び平均金属粒子径４ｎｍのＰｄナノ粒子が含まれるＰｄナノコロイド溶液中に浸漬することによって、前記自己組織化単分子膜上に」「吸着させることで、前記孔の内周面に吸着された」ものである点。 イ 相違点１－３の検討 甲１には、バリア層を無電解めっきによって形成する場合の触媒を構成する金属ナノ粒子としては、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕナノ粒子が具体的に記載されているだけであり（請求項３、８、９、１９、【００３８】、【００４１】）、「コバルトを含有」するものについては記載も示唆もないから、甲１発明２において、そのようなことが動機付けられるとはいえない。 そうすると、甲１発明２において、触媒として「Ｐｄナノ粒子」に代えて、「コバルトを含有」するものを用いることは、当業者が容易に想到することができたとはいえない。 ウ 相違点１－５の検討 甲１発明２においては、Ｐｄナノ粒子からなる触媒は、「トルエンを溶媒とした３－アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＰＴＥＳ）溶液であるシランカップリング剤を用いたシランカップリング処理により、前記孔の内周面に自己組織化単分子膜を形成し、ＰＶＰ（ポリビニルピロリドン）である保護剤及び平均金属粒子径４ｎｍのＰｄナノ粒子が含まれるＰｄナノコロイド溶液中に浸漬することによって、前記自己組織化単分子膜上に」「吸着させることで、前記孔の内周面に吸着された」ものである。 甲１には、Ｐｄナノ粒子からなる触媒を孔の内周面に吸着させる際に、「金属上に還元析出により形成」させることについては記載も示唆もないから、甲１発明２において、そのようなことが動機付けられるとはいえない。 そうすると、甲１発明２において、Ｐｄナノ粒子からなる触媒を孔の内周面に吸着させる際に、上記のような方法に代えて、「金属上に還元析出により形成」させることは、当業者が容易に想到することができたとはいえない。 エ 申立人の主張について 申立人は、Ｓｉ基板表面にＰｄＰＶＰ触媒（当審注：ＰＶＰ（ポリビニルピロリドン）により保護されたＰｄナノ粒子からなる触媒の意味と解される。）が付着しているから、本件発明１３の「金属が表面に露出している材料」を充足し、当該ＰｄＰＶＰを触媒として無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液でＣｏを含むバリア層を形成しているから、本件発明１３の「金属上に触媒核１」、「触媒核１がコバルトを含む」を充足し、バリア層上に無電解Ｃｕめっき皮膜を形成しているから、本件発明１３の「触媒核１上の皮膜２」を充足すると主張する（特許異議申立書４５頁）。 しかしながら、上記（２）イ（ア）で指摘したとおり、触媒付与液は、基板の金属材料上に無電解めっきを行う際に、めっき析出性等を向上させる目的で、金属材料上にあらかじめ触媒核となる金属を析出させるために用いられるものであるのに対して、甲１で用いられている無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液は、無電解めっき処理それ自体に用いられるメッキ液であり、触媒付与液とは異なるものである。 そうすると、そのような無電解Ｃｏ－Ｗ－Ｂメッキ液を用いて形成されたＣｏ－Ｗ－Ｂであるバリア層は、単なる無電解めっき皮膜であり、本件発明１３における「Ｃｏを含有する」「触媒核１」に相当するものとはいえない。また、そうであれば、バリア層上に形成された無電解Ｃｕめっき皮膜も、本件発明１３における「触媒核１上の皮膜２」ということもできない。 よって、申立人の主張採用できない。 オ 小括 したがって、相違点１－４について検討するまでもなく、本件発明１３は、甲１に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （６）まとめ 以上のとおり、本件発明１～１２は、甲１に記載された発明であるとはいえない。 また、本件発明１～１３は、甲１に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 したがって、申立理由３（新規性、進歩性）によっては、本件特許の請求項１～１３に係る特許を取り消すことはできない。 ５ 申立理由４（新規性、進歩性） （１）甲２に記載された発明 ア 甲２の記載（特許請求の範囲、３頁左下欄１７行～右下欄６行、９頁左下欄１５行～１１頁左下欄１５行）によれば、特に、実施例１０に着目すると、甲２には、以下の発明が記載されていると認められる。 「グルコヘプトン酸のタングステンエステル０．２モル／ｌ、硫酸コバルト０．１モル／ｌ、ジメチルアミンボラン０．０６モル／ｌ、チオ尿素１ｐｐｍを有する、引き続くコバルトの重ね被覆のための、触媒化フィルムを施す錯化剤の水性浴。」（以下、「甲２発明１」という。） イ 甲２の実施例１０においては、どのような材料を対象に触媒フィルムを施し、引き続くコバルトの重ね被覆が行われたかは明記されていないものの、甲２の実施例１では、「銅合金上に密着した触媒フィルムを形成し、次いでこれに無電解ニッケルを重ねめっきした。印刷回路板が製造され」と記載され、また、実施例２では、「他の触媒化浴を、一般的に実施例１に従い製造し」と記載され、さらに、実施例３でも、「触媒化剤として使用に適する、調製した他の浴」と記載されていることから、実施例１０においても、実施例１に従い、銅合金上に密着した触媒フィルムを形成し、次いでこれに無電解コバルトを重ねめっきし、印刷回路板を製造したものと理解できる。 以上によれば、甲２には、以下の発明が記載されていると認められる。 「銅合金上に、グルコヘプトン酸のタングステンエステル０．２モル／ｌ、硫酸コバルト０．１モル／ｌ、ジメチルアミンボラン０．０６モル／ｌ、チオ尿素１ｐｐｍを有する錯化剤の水性浴を用いて、密着した触媒フィルムを形成し、次いでこれに無電解コバルトを重ねめっきした、印刷回路板。」（以下、「甲２発明２」という。） （２）本件発明１について ア 対比 本件発明１と甲２発明１とを対比する。 甲２発明１における「硫酸コバルト」は、本件発明１における「コバルト化合物」に相当する。 甲２発明１における「ジメチルアミンボラン」は、本件明細書の記載（【００２８】、【００２９】、【００３６】）に照らして、本件発明１における「還元剤」に相当する。 甲２発明１における「触媒化フィルムを施す錯化剤の水性浴」は、本件発明１における「触媒付与液」に相当する。 以上によれば、本件発明１と甲２発明１とは、 「コバルト化合物及び還元剤を含有する、触媒付与液。」 の点で一致し、以下の点で相違する。 ・相違点２－１ 触媒付与液が、本件発明１では、「無電解パラジウムめっき、及び無電解ニッケルめっきからなる群より選択される少なくとも１種の無電解めっき（但し、触媒金属として銀を使用する無電解めっきを除く）に用いるための」ものであるのに対して、甲２発明１では、「引き続くコバルトの重ね被覆のための」ものである点。 イ 相違点２－１の検討 （ア）まず、相違点２－１が実質的な相違点であるか否かについて検討する。 甲２発明１における「引き続くコバルトの重ね被覆」は、甲２の記載（３頁左下欄１７行～右下欄３行、４頁右下欄１～１１行等）によれば、引き続く無電解めっきによるコバルトの重ね被覆を意味すると解されるところ、本件発明１と甲２発明１とは、適用される無電解めっきの種類が異なる。 以上によれば、相違点２－１は実質的な相違点である。 したがって、本件発明１は、甲２に記載された発明であるとはいえない。 （イ）次に、相違点２－１の容易想到性について検討する。 ａ 甲２には、引き続く無電解めっきによる重ね被覆の種類について、コバルトのほかに、ニッケルも記載されている（請求項１、４頁右下欄１～１１行等）。 しかしながら、甲２の実施例１～１４に示されるとおり、触媒化フィルムを施す錯化剤の水性浴において、コバルト化合物を含むものを用いる場合は、引き続く無電解めっきによるコバルトの重ね被覆が行われており（実施例１０）、一方、触媒化フィルムを施す錯化剤の水性浴において、ニッケル化合物を含むもの（実施例１～９）を用いる場合は、引き続く無電解めっきによるニッケルの重ね被覆が行われている（実施例１３、１４）。 すなわち、甲２には、コバルト化合物を含む触媒化フィルムを施す錯化剤の水性浴を用いて、引き続く無電解めっきによるニッケルの重ね被覆を行うことは、記載されているとはいえない。また、甲２には、コバルト化合物を含む触媒化フィルムを施す錯化剤の水性浴を用いて、引き続く無電解めっきによるパラジウムの重ね被覆を行うことについても、記載されているとはいえない。そうである以上、甲２発明１において、これらのことが動機付けられるとはいえない。 そして、本件明細書の実施例及び比較例の記載（【００７７】～【０１１３】、表１）のほか、令和４年８月１０日提出の意見書における試験の結果（４～２１頁）によれば、本件発明１は、金属材料上に「無電解パラジウムめっき」、「無電解ニッケルめっき」、「触媒側から無電解ニッケルめっき、無電解パラジウムめっきの順に行う無電解めっき」を行う際の前処理に使用する触媒付与液であって、めっき析出性、選択析出性、バリア特性、接合性等がより優れた無電解めっき皮膜を形成するために有用であり、また浴安定性がより優れた触媒付与液を提供することができる（【００２１】）という、当業者が予測することができない格別顕著な効果を奏するものである。 以上によれば、甲２発明１において、触媒化フィルムを施す錯化剤の水性浴を、「引き続くコバルトの重ね被覆のための」ものに代えて、引き続く「ニッケル」又は「パラジウム」の重ね被覆のためのものとすることは、当業者が容易に想到することができたとはいえない。 ｂ この点、申立人は、少なくとも「無電解ニッケルめっきに用いる」という記載については、用途発明の要件（審査基準）を充足せず、一般に、触媒付与液を所定の無電解めっきと組み合わせることができるとの有用性を示しているにすぎないから、考慮すべきでないと主張する（特許異議申立書４８頁（４０頁も参照））。 しかしながら、本件明細書の記載（【０００４】～【０００７】、【００２１】、【００７５】、【００７７】～【０１１３】、表１）によれば、本件発明１は、所定の成分を含む触媒付与液を無電解めっきに用いた場合に、上記ａで指摘した効果を奏することを見出したことに基づいて、所定の成分を含む触媒付与液を特定の無電解めっきに用いるという技術思想を特定した発明と理解することができるものであるから、「一般に、触媒付与液を所定の無電解めっきと組み合わせることができるとの有用性を示しているにすぎない」などということはできない。そして、そのような技術思想を特定した本件発明１について、当業者が容易に想到することができないことは、上記ａのとおりである。よって、申立人の主張は採用できない。 ｃ したがって、本件発明１は、甲２に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （３）本件発明２、３について 本件発明２、３と甲２発明１とを対比すると、上記（２）アと同様に、両者は、少なくとも、相違点２－１と同様の点、すなわち、適用される無電解めっきの種類の点で相違するところ、この相違点については、上記（２）イで述べたのと同様の理由により、実質的な相違点であり、また、当業者が容易に想到することができたとはいえない。 したがって、本件発明２、３は、甲２に記載された発明であるとはいえず、また、甲２に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （４）本件発明４～１２について 本件発明４～１２は、本件発明１を直接又は間接的に引用するものであるが、上記（２）で述べたとおり、本件発明１が、甲２に記載された発明であるとはいえず、また、甲２に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない以上、本件発明４～１２についても同様に、甲２に記載された発明であるとはいえず、また、甲２に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない （５）本件発明１３について ア 対比 本件発明１３と甲２発明２とを対比する。 甲２発明２における「印刷回路板」を構成する「銅合金」は、本件発明１３における「金属が表面に露出している材料」に相当する。 甲２発明２における「触媒フィルム」は、硫酸コバルトを含む錯化剤の水性浴を用いて、銅合金上に密着して形成されるから、本件発明１３における「コバルトを含有」する「前記金属上の触媒核１（但し、触媒金属として銀を含有する触媒核を除く）」に相当する。 本件発明１３における「触媒核１上の皮膜２」である「無電解パラジウムめっき皮膜、及び無電解ニッケルめっき皮膜からなる群より選択される少なくとも１種の無電解めっき皮膜」と、甲２発明２における触媒フィルムの上に形成される「無電解コバルト」の「重ねめっき」とは、いずれも「触媒核１上の皮膜２」である限りで共通する。 以上によれば、本件発明１３と甲２発明２とは、 「金属が表面に露出している材料、前記金属上の触媒核１（但し、触媒金属として銀を含有する触媒核を除く）、及び前記触媒核１上の皮膜２を含み、且つ前記触媒核１がコバルトを含有する、材料。」 の点で一致し、以下の点で相違する。 ・相違点２－２ 皮膜２が、本件発明１３では、「無電解パラジウムめっき皮膜、及び無電解ニッケルめっき皮膜からなる群より選択される少なくとも１種の無電解めっき皮膜である」のに対して、甲２発明２では、甲２発明２では、「無電解コバルト」の「重ねめっき」である点。 ・相違点２－３ 本件発明１３では、触媒核１が「金属上に還元析出により形成された」ものであるのに対して、甲２発明２では、「金属上に還元析出により形成された」ものであるか不明である点。 イ 相違点２－２の検討 上記（２）イ（イ）ａでも述べたとおり、甲２には、引き続く無電解めっきによる重ね被覆の種類について、コバルトのほかに、ニッケルも記載されているものの、甲２には、コバルト化合物を含む触媒化フィルムを施す錯化剤の水性浴を用いて、引き続く無電解めっきによるニッケルの重ね被覆を行ったり、同パラジウムの重ね被覆を行ったりすることについては、記載されているとはいえないから、甲２発明２において、これらのことが動機付けられるとはいえない。 そして、本件発明１３は、上記（２）イ（イ）ａでも述べたとおりの、当業者が予測することができない格別顕著な効果を奏するものである。 以上によれば、甲２発明２において、「無電解コバルト」の「重ねめっき」に代えて、「無電解パラジウムめっき皮膜、及び無電解ニッケルめっき皮膜からなる群より選択される少なくとも１種の無電解めっき皮膜」とすることは、当業者が容易に想到することができたとはいえない。 したがって、相違点２－３について検討するまでもなく、本件発明１３は、甲２に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （６）まとめ 以上のとおり、本件発明１～１２は、甲２に記載された発明であるとはいえない。 また、本件発明１～１３は、甲２に記載された発明及び本件特許の出願時の技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 したがって、申立理由４（新規性、進歩性）によっては、本件特許の請求項１～１３に係る特許を取り消すことはできない。 第６ むすび 以上のとおり、取消理由通知書に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した特許異議の申立ての理由によっては、本件特許の請求項１～１３に係る特許を取り消すことはできない。また、他に本件特許の請求項１～１３に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。