2021-009483

特願２０１９－５２７３９２「エッチング後残留物を除去するための洗浄組成物」拒絶査定不服審判事件〔平成３０年 ５月３１日国際公開、ＷＯ２０１８／０９８１３９、令和 ２年 ５月１４日国内公表、特表２０２０－５１３４４０〕について、次のとおり審決する。

結 論 本件審判の請求は、成り立たない。

理 由 第１ 手続の経緯 本願は、２０１７年（平成２９年）１１月２１日（優先権主張外国庁受理２０１６年１１月２５日 （ＵＳ）米国）を国際出願日とする出願であって、令和元年８月１日に手続補正書が提出され、令和２年７月１０日付けで拒絶理由が通知され、その指定期間内の同年１０月９日に意見書及び手続補正書が提出され、令和３年３月１０日付けで拒絶査定がなされ（謄本送達は同月１６日）、これに対して、同年７月１６日に拒絶査定不服の審判が請求されると同時に手続補正書が提出されたものである。 第２ 令和３年７月１６日受付けの手続補正についての補正の却下の決定 ［補正却下の決定の結論］ 令和３年７月１６受付けの手続補正を却下する。 ［理由］ １．本件補正の内容 特許法第１７条の２第１項第４号に該当する手続補正である令和３年７月１６日受付けの手続補正（以下「本件補正」ともいう。）は、特許請求の範囲についてするものであって、そのうち請求項１についての補正は以下のとおりである。 （１）本件補正前の請求項１（すなわち、令和２年１０月９日受付けの手続補正書の請求項１） 「 【請求項１】 式［ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４］ＯＨ（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は互いに同じ又は異なり、Ｈ、及びＣ１－Ｃ６アルキルからなる群から選択される）を有する塩基又は第四級トリアルキルアルカノールアミン塩基と； 腐食抑制剤と； 少なくとも２種以上の酸又はその塩の組み合わせと を含むストック組成物であって、少なくとも１種の前記酸又はその塩がリンを含有する組成物。」 （２）本件補正後の請求項１（すなわち、令和３年７月１６日付け手続補正書の請求項１） 「 【書類名】特許請求の範囲 【請求項１】 式［ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４］ＯＨ（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は互いに同じ又は異なり、Ｈ、及びＣ１－Ｃ６アルキルからなる群から選択される）を有する塩基又は第四級トリアルキルアルカノールアミン塩基と； 腐食抑制剤と； 少なくとも２種以上の酸又はその塩の組み合わせと を含む洗浄組成物を形成するためのストック組成物であって、少なくとも１種の前記酸又はその塩がリンを含有し、 組成物中の式［ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４］ＯＨを有する塩基又は第四級トリアルキルアルカノールアミン塩基の量が５重量％－２０重量％の間であり、 ストック組成物のｐＨが１０－１４の間である、組成物。」（以下、「本件補正発明」ともいう。） （３）本件補正の前後の両請求項を対比すると、本件補正は、補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「ストック組成物」なる事項について「洗浄組成物を形成するためのストック組成物」及び「ストック組成物のｐＨが１０－１４の間である」と限定し、補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「式［ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４］ＯＨを有する塩基又は第四級トリアルキルアルカノールアミン塩基」なる事項について「式［ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４］ＯＨを有する塩基又は第四級トリアルキルアルカノールアミン塩基の量が５重量％－２０重量％の間であり」と限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものといえる。 そして、本件補正前の請求項１に係る発明と本件補正発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題は同一であるから、本件補正は、特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる特許請求の範囲の限定的減縮を目的とするものといえる。 そこで、上記本件補正発明が、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に適合するか（すなわち、いわゆる独立特許要件を満たすか）について以下検討する。 ２．独立特許要件の検討 （１）引用文献及びその記載事項 引用文献Ａ：特開２０１１－１７０９５２号公報（原査定の引用文献２） Ａ．引用文献Ａ 原査定で引用され本願優先日前に頒布された引用文献Ａには、次の記載がある。 （１ａ）「【請求項１】 カルボキシル基を分子内に有するキレート剤（Ａ１）、ホスホン酸基もしくはリン酸基を分子内に有するキレート剤（Ａ２）、および脂肪族アルカノールアミン（Ｂ）を必須成分とすることを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤。」 （１ｂ）「【００６６】 本発明の洗浄剤は、水溶性有機溶剤（Ｈ）を含有することにより洗浄剤中の成分が基板表面に残留することを防止することで洗浄性が更に向上する。 水溶性有機溶剤（Ｈ）としては、２０℃における水に対する溶解度（ｇ／１００ｇＨ2Ｏ）が３以上、好ましくは１０以上の有機溶剤が挙げられる。 【００６７】 その他、酸化防止剤、防錆剤、ｐＨ調整剤、緩衝剤、消泡剤、防腐剤、ハイドロトロープ剤等を適宜添加することができる。」 （１ｃ）「【００７６】 以下、実施例及び比較例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。特に限定がない限り以下において部は重量部を示す。ポリマーのＧＰＣによる分子量の測定条件は前述の方法により測定した。 なお、以下において超純水は比抵抗値が１８ＭΩ・ｃｍ以上のものを使用した。 ・・・ 【００７８】 ［製造例２］ 温度調節及び攪拌が可能な反応容器にイソプロピルアルコール３００部、超純水１００部を仕込み、窒素置換後、７５℃に昇温した。撹拌下で、アクリル酸の７５％水溶液４０７部及びジメチル－２，２’－アゾビスイソブチレートの１５％イソプロピルアルコール溶液９５部を３．５時間かけて同時に滴下した。滴下終了後、７５℃で５時間撹拌した後、系内が固化しないように超純水を間欠的に投入し、イソプロピルアルコールが検出できなくなるまで水とイソプロピルアルコールの混合物を留去した。 得られたポリアクリル酸水溶液にＤＢＵ約４５０部を加えてｐＨが７．０になるまで中和し、超純水で濃度４０％になるように調整することにより、アニオン性界面活性剤であるポリアクリル酸ＤＢＵ塩（Ｃ１－２）の４０％水溶液を得た。なお、（Ｃ１－２）のＭｗは１０，０００であった。 ・・・ 【００８２】 実施例１～１２および比較例１～４ 表１に記載の配合部数の各配合成分を均一撹拌・混合し、実施例１～１２および比較例１～４の洗浄剤を作製した。 【００８３】 【表１】 ［図：0001392584000001.jpg］ 【００８４】 なお、表１中のキレート剤（Ａ）、脂肪族アルカノールアミン（Ｂ）、アルカリ成分（Ｅ）の略号は下記の通りである。 （Ａ１－１）：エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ） （Ａ１－２）：ジエチレントリアミンペンタ酢酸（ＤＴＰＡ） （Ａ２－１）：１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ） （Ａ２－２）：ニトリロトリスメチレンホスホン酸（ＮＴＭＰ） ＭＥＡ：モノエタノールアミン ＭＤＥＡ：Ｎ－メチルジエタノールアミン ＭＩＰＡ：モノイソプロパノールアミン ＢＥＡ：Ｎ－ベンジルエタノールアミン ＴＭＡＨ：テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド 【００８５】 得られた洗浄剤を超純水で５０倍希釈して性能評価のための洗浄液とし、以下の方法で、ｐＨ、ニッケルイオンの再析出防止性（再析出防止性－１）、鉄イオンの再析出防止性（再析出防止性－２）、、シリカ粒子洗浄性（洗浄性－１）、酸化セリウム粒子の洗浄性（洗浄性－２）、ダイヤモンド粒子の洗浄性（洗浄性－３）、アルミナ粒子の洗浄性（洗浄性－４）、酸化ニッケル粒子の洗浄性（洗浄性－５）を評価した結果を表２に示す。 【００８６】 【表２】 ［図：0001392584000002.jpg］ 【００８７】 ＜ｐＨの測定方法＞ 洗浄液のｐＨを２５℃でｐＨメーター（東亜ディーケーケー社製ＨＭ－３０Ｒ）で測定した。 【００８８】 ＜ニッケルイオンの再析出防止性（再析出防止性－１）の評価方法＞ 水酸化ニッケル０．５ｇを０．５重量%硝酸水溶液４９．５ｇで溶解させ、０．６重量％ニッケルイオン水溶液を作成し、２５℃に保持した。 実施例または比較例の洗浄液１，０００ｇをガラス製ビーカーに入れ、上記の０．６重量％ニッケルイオン水溶液を撹拌しながら５０ｇずつ添加して、混合した。２５℃で１２時間静置後、混合液を観察し、固形物の析出がないか目視で確認した。固形物が析出する場合は沈殿が見られる。 固形物の析出がない場合は、５０ｇのニッケルイオン水溶液を追加し１２時間静置後に同様に観察した。固形物の析出が見られるまで上記操作を繰り返し、固形物の析出が見られた重量（ｇ）を、再析出防止性として下記評価基準で評価した。 【００８９】 ５：２５０ｇ ４：２００ｇ ３：１５０ｇ ２：１００ｇ １：５０ｇ 【００９０】 ＜鉄イオンの再析出防止性（再析出防止性－２）の評価方法＞ 水酸化ニッケルの代わりに水酸化第二鉄を用いる以外は、上記ニッケルの再析出防止性と同様におこない、鉄イオンの再析出防止性を評価した。 【００９１】 ＜シリカ粒子の洗浄性（洗浄性－１）の評価方法＞ 研磨剤として市販のコロイダルシリカスラリー（粒径約３０ｎｍ）１００部及びウレタン製の研磨布を用いて、３．５インチのＮｉ－Ｐメッキされた磁気ディスク用基板を研磨した。超純水で表面をすすぎ、窒素でブローして乾燥させることにより、汚染基板を作製した。 実施例、比較例の洗浄剤１，０００ｇを１Ｌガラス製ビーカーにとり、作製した汚染基板を浸漬し、超音波洗浄機（２００ｋＨｚ）内で、３０℃、５分間洗浄を行った。洗浄後、基板を取り出し、超純水で再び１分間リンスを行った後、窒素ガスでブローして乾燥し、アルミ基板表面を表面検査装置（ビジョンサイテック社製「Ｍｉｃｒｏ－Ｍａｘ ＶＭＸ－６１００」）で観察し、パーティクル付着数を数えた。 また、洗浄液の代わりにブランクとして超純水で同様に試験した。 その際のブランクのパーティクル付着数は１５０個であった。 以下の評価基準で洗浄性試験を評価し、評価結果を表２に示した。 なお、本評価は大気からの汚染を防ぐため、クラス１，０００（ＨＥＤ－ＳＴＤ－２０９Ｄ、米国連邦規格、１９８８年）のクリーンルーム内で実施した。 【００９２】 [洗浄性試験の評価基準] ５：パーティクル付着数がブランクの１／１００未満 ４：パーティクル付着数がブランクの１／１００～１／２０ ３：パーティクル付着数がブランクの１／２０～１／５ ２：パーティクル付着数がブランクの１／５～１／２ １：パーティクル付着数がブランクの１／２以上 【００９３】 ＜酸化セリウム粒子の洗浄性（洗浄性－２）の評価方法＞ 洗浄性－１の評価方法において、研磨剤としてコロイダルシリカスラリーを市販の酸化セリウムスラリー（フジミインコーポレーティド社製、ＣＥＰＯＬ－１２０）に変更し、基板を２．５インチの磁気ディスク用ガラス基板に変更した以外は洗浄性－１と同様にして評価した。判断基準も洗浄性－１と同様である。 【００９４】 ＜ダイヤモンド粒子の洗浄性（洗浄性－３）の評価方法＞ 洗浄性－１の評価方法において、研磨剤としてコロイダルシリカスラリーを市販のダイヤモンドスラリー（ユシロ化学工業製、ユシロンテックＷＤ）に変更した以外は洗浄性－１ と同様にして評価した。判断基準も洗浄性－１と同様である。 【００９５】 ＜アルミナ粒子の洗浄性（洗浄性－４）の評価方法＞ 洗浄性－１の評価方法において、研磨剤としてコロイダルシリカスラリーをアルミナ懸濁液（フジミインコーポレーティド社製、Ｄｉｓｋ－ｌｉｔｅを超純水で３倍希釈したもの）に変更した以外は洗浄性－１と同様にして評価した。判断基準も洗浄性－１と同様である。 なお、このアルミナは、アルミナ砥粒とアルミ基板の研磨くず由来を想定したものである。 【００９６】 ＜酸化ニッケル粒子の洗浄性（洗浄性－５）の評価方法＞ 洗浄性－１の評価方法において、研磨剤としてコロイダルシリカスラリーを酸化ニッケル懸濁液（和光純薬製の酸化ニッケルを１ｗｔ％となるように超純水に懸濁させたもの）に変更した以外は洗浄性－１と同様にして評価した。判断基準も洗浄性－１と同様である。 なお、この酸化ニッケルは、Ｎｉ－Ｐメッキしたアルミ基板の研磨くず由来を想定したものである。 【００９７】 表１で明らかなように、本発明のキレート剤（Ａ１）、（Ａ２）および脂肪族アルカノールアミン（Ｂ）を用いた実施例１～１２はいずれも、金属イオンの再析出防止並びにパーティクルの洗浄性が優れていることがわかる。 一方、カルボキシル基を分子内に含有するキレート剤（Ａ１）とホスホン酸基もしくはリン酸基を分子内に含有するキレート剤（Ａ２）とを併用しない比較例１、２は、金属イオンの再析出残さに対する洗浄性が十分でない。また、脂肪族アルカノールアミン（Ｂ）を使用しない比較例３並びに比較例４は、パーティクルの除去性が十分でないため、洗浄性が劣る。」 （２）引用文献Ａに記載された発明 上記引用文献Ａには実施例８として「（Ａ１－１）：エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）を３．０重量部、（Ａ２－１）：１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）を３．０重量部、ＭＥＡ：モノエタノールアミンを２０．０重量部、アニオン性界面活性剤であるポリアクリル酸ＤＢＵ塩（Ｃ１－２）を１．０重量部、ＴＭＡＨ：テトラメチルアンモニウムハイドロキサイドを５．５重量部及び水を６７．５重量部からなり、性能評価のための洗浄液とするために超純水で５０倍希釈し、使用時のｐＨが１２．０である、洗浄剤。」の発明（以下、「引用発明」という。）が、記載されている（摘記１ｃ参照）。 （３）対比 本件補正発明と引用発明とを対比する。 引用発明の「（Ａ１－１）：エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）」及び「（Ａ２－１）：１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）」は、いずれも酸であり、「（Ａ２－１）：１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）」リンを含有するから、本件補正発明の「少なくとも２種以上の酸又はその塩の組み合わせと を含む」及び「少なくとも１種の前記酸又はその塩がリンを含有し」に相当する。 引用発明の「ＴＭＡＨ：テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド」は本件補正発明の「式［ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４］ＯＨ（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は互いに同じ又は異なり、Ｈ、及びＣ１－Ｃ６アルキルからなる群から選択される）を有する塩基」においてＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４がＣ１アルキルであるものに相当し、引用発明の組成の部数（重量部）の合計は１００であるから、引用発明の「ＴＭＡＨ：テトラメチルアンモニウムハイドロキサイドを５．５重量部」は、本件補正発明の「式［ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４］ＯＨ（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は互いに同じ又は異なり、Ｈ、及びＣ１－Ｃ６アルキルからなる群から選択される）を有する塩基又は第四級トリアルキルアルカノールアミン塩基」及び「組成物中の式［ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４］ＯＨを有する塩基又は第四級トリアルキルアルカノールアミン塩基の量が５重量％－２０重量％の間であり」に相当する。 引用発明の「性能評価のための洗浄液とするために超純水で５０倍希釈する、洗浄剤」は本件補正発明の「洗浄組成物を形成するためのストック組成物」に相当する。 そうすると、本件補正発明と引用発明は「式［ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４］ＯＨ（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は互いに同じ又は異なり、Ｈ、及びＣ１－Ｃ６アルキルからなる群から選択される）を有する塩基又は第四級トリアルキルアルカノールアミン塩基と； 少なくとも２種以上の酸又はその塩の組み合わせと を含む洗浄組成物を形成するためのストック組成物であって、少なくとも１種の前記酸又はその塩がリンを含有し、 組成物中の式［ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４］ＯＨを有する塩基又は第四級トリアルキルアルカノールアミン塩基の量が５重量％－２０重量％の間である、組成物。」である点で一致し、下記の点で相違する。 ＜相違点１＞ 本件補正発明は腐食抑制剤を含有するのに対し、引用発明はそのような特定がない点。 ＜相違点２＞ ストック組成物のｐＨが、本件補正発明では１０－１４であるのに対し、引用発明は超純水で５０倍希釈した使用時のｐＨが１２．０である点。 （４）相違点の検討 ＜相違点１＞について 引用文献Ａには、引用発明の洗浄剤は防錆剤を添加できることが記載されており（摘記１ｂ参照）、防錆剤は金属の腐食を抑制する作用を有する成分からなるものであるから、本件補正発明の「腐食抑制剤」と共通する成分を包含するものである。 そうすると、引用発明において上述の洗浄剤に防錆剤を添加し、腐食抑制剤を含有するものとすることは、引用文献Ａに示唆されていることから、当業者が容易に想到し得る程度の事項といえる。 ＜相違点２＞について 引用発明の洗浄剤は、使用時のｐＨが１２．０であり、使用時に超純水で５０倍に希釈されたものである。そうすると、ｐＨの定義である水素イオン濃度は１０倍～１００倍希釈の間であるから、使用前は、ｐＨが１３．０から１４．０の間となっているといえる。 そうすると、相違点２は実質的な相違点とはならない。 （５）本件補正発明の効果について 本願明細書の表１及び表５からみて、本件補正発明が腐食抑制剤に相当する防錆剤を含むことにより、本件補正発明の効果が、腐食抑制剤に相当する防錆剤を含まない引用発明と比較して、当業者の予測を超える顕著なものであるとはいえない。 また、本件補正発明の腐食抑制剤を本願明細書【００３３】に記載のようにＣｕ及びＣｏなどの接触金属を保護することができるものであると限定して解釈しても、引用発明を上記防錆剤を含有するものとすれば、接触金属を保護することは明らかであり、本件補正発明の効果が、腐食抑制剤に相当する防錆剤を含まない引用発明と比較して、当業者の予測を超える顕著なものであるとはいえない。 そして、本願明細書の表１及び表５に示される、本件補正発明の窒化チタンハードマスクに対する高いエッチング速度選択性、制御可能であるが、低い窒化アルミニウムエッチング速度、並びに低いが実質的に等しくされた銅及びコバルトエッチング速度を有するという効果は、引用発明において腐食抑制剤に相当する防錆剤を含むものとして、本件補正発明のような洗浄剤とすれば、当然に奏されるものであり、当業者が予測し得ない顕著なものであるとはいえない。 （６）審判請求人の主張 請求人は、令和３年７月１６日付け審判請求書において、「本願発明が引用文献１－７に対して新規性及び進歩性を有することは令和２年１０月９日付の意見書に記載したとおりです。 ・・・ 補正後の本願発明は、引用文献に記載の発明との差異がより明確化されています。 以上の通り、出願人は、補正後の本願発明が引用文献１－７に対して新規性及び進歩性を有するものと確信致します。」と主張する。 そして、上記意見書には「引用文献２も本願発明とは無関係です。引用文献２は、磁気ディスク基板の洗浄剤に関するものです。したがって、そもそも、引用文献２の技術分野は、本願発明の技術分野とは異なります。さらに、引用文献２の発明は、必須構成として脂肪族アルカノールアミン（Ｂ）を必要としますが（請求項１）、本願発明は、そのような脂肪族アルカノールアミンなしで予想外に有意な効果を発揮することができます。なお、引用文献２の脂肪族アルカノールアミンは、本願発明の請求項１に記載の第四級トリアルキルアルカノールアミン塩と、名前の一部こそ共通していますが、これらは互いに完全に異なる物質です。」と主張し、ここで、引用文献２は上記引用文献Ａである。 しかし、本件補正発明は、補正後の請求項１の記載からみて、洗浄組成物を形成するためのストック組成物であって、磁気ディスク基板の洗浄剤を含まないような特定はなく、本件補正発明の洗浄組成物の引用文献Ａの洗浄剤は技術分野が異なるとはいえない。 また、引用文献Ａの脂肪族アルカノールアミンは、本件補正発明の第四級トリアルキルアルカノールアミン塩と、これらは互いに完全に異なる物質であるが、本件補正発明は脂肪族アルカノールアミンを含まないような特定はないから、本件補正発明は、補正後の請求項１の記載からみて、そのような脂肪族アルカノールアミンなしで予想外に有意な効果を発揮することができるという主張は、請求項の記載に基づくものではない。 したがって、請求人の上記主張は採用できない。 （７）小括 したがって、本件補正発明は、引用文献Ａに記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 ３．むすび 以上のとおりであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法１２６条第７項の規定に違反するから、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 第３ 本願発明について １．本願発明 上記第２のとおり、本件補正は却下されたので、本願発明は、令和２年１０月９日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１～１０に記載された事項により特定されるとおりのものであって、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は前記第２ １．（１）に示したとおりである。 ２ 原査定の拒絶理由 原査定の拒絶の理由は、「令和２年７月１０日付け拒絶理由通知書に記載した理由２」を含むものであって、要するに、この出願の請求項１～１０に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、という理由を含むものである。 そして、該拒絶の理由において引用された刊行物は次のとおりである。 ＜引用文献等一覧＞ 引用文献２：特開２０１１－１７０９５２号公報 ３ 引用文献 原査定の拒絶の理由で引用された引用文献２は上記引用文献Ａであって、引用文献Ａの記載事項は、前記「第２ ２（１）」に記載したとおりである。 ４ 対比・判断 本願発明は、前記「第２ １（１）」で検討した本件補正発明の「ストック組成物」なる事項について「洗浄組成物を形成するためのストック組成物」及び「ストック組成物のｐＨが１０－１４の間である」との限定がなく、本件補正発明の「式［ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４］ＯＨを有する塩基又は第四級トリアルキルアルカノールアミン塩基」なる事項について「式［ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４］ＯＨを有する塩基又は第四級トリアルキルアルカノールアミン塩基の量が５重量％－２０重量％の間であり」との限定がないものである。 そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、さらに上記事項によって限定したものに相当する本件補正発明が、前記「第２ ２（７）」に記載したとおり、当該引用文献Ａに記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、当該引用文献Ａ（引用文献２）に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 第４ むすび 以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないから、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。 よって、結論のとおり審決する。