2017-390131

特許第６１８１１０７号に関する訂正審判事件について、次のとおり審決する。

【結　論】 特許第６１８１１０７号の図面を本件審判請求書に添付された訂正図面のとおり訂正することを認める。

【理　由】 第１　手続の経緯 本件訂正審判の請求に係る特許第６１８１１０７号（以下「本件特許」という。）は、平成２６年２月２８日（優先権主張平成２５年３月１日）の出願である特願２０１４－５６１６５４号の一部を平成２７年６月１１日に新たな特許出願とした特願２０１５－１１８００１号の請求項１ないし２０に係る発明について、平成２９年７月２８日に特許権の設定登録がなされたものである。 そして、平成２９年１１月２７日に本件訂正審判が請求された。 第２　請求の趣旨及び訂正の内容 本件訂正審判の請求の趣旨は、本件特許の願書に添付した図面（以下、「本件特許図面」という。）について、審判請求書に添付した訂正図面のとおりに訂正することを請求するものであり、その訂正（以下「本件訂正」という。）の内容は、以下のとおりである。 訂正事項：本件特許図面を、本件審判請求書に添付された訂正図面に示すように訂正する。当該訂正図面は、本件特許図面と比較して、図２のみが異なる。具体的には、上記訂正図面の図２（以下、「訂正図２」という。）に示すように、符号３が付された断面円形のスタイラス３が符号３４、３５、３７、３８によって指示される位置に配置されている状態が表示されるように、本件特許図面の図２を訂正する。 第３　当審の判断 １　訂正の目的 （１）本件訂正は、上記「第２」のとおり、本件特許図面の図２を訂正するものであるところ、本件特許の願書に添付した明細書（以下、「本件特許明細書」という。）の【図面の簡単な説明】の欄には、以下のとおり記載されている。（下線は当審で付与した。） ア．「【図面の簡単な説明】 【００１７】 【図１Ａ】本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の平面図。 【図１Ｂ】本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の板厚方向の断面図。 【図２】本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の外周端面の形状評価値の測定方法を説明する図。 【図３】本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の外周端面の形状評価値の測定方法を説明する図。 【図４】本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の側壁面の円筒度の測定方法を説明する図。 【図５】本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の側壁面の円筒度の測定方法を説明する図。 【図６】本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の外周側の断面の一部を拡大して示す図。」 そして、上記アの記載からみて、図２の記載内容は「磁気ディスク用ガラス基板の外周端面の形状評価値の測定方法を説明する」ために用いられるものであると解されるが、当該図２の記載内容は、「磁気ディスク用ガラス基板の板厚方向の断面図」である図１Ｂの記載内容と同一であり、外周端面の形状評価値の測定方法の説明に用いられる要素は上記断面図に対して何ら付加されていない。 （２）本件特許明細書には、磁気ディスク用ガラス基板の外周端面の形状評価値の測定方法に関して、以下のとおり記載されている。（下線は当審で付与した。） イ．「図２及び図３を参照して、ガラス基板Ｇの形状評価値について説明する。図２及び図３は、本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板Ｇの外周端面の形状評価値の測定方法を説明する図である。図２は、ガラス基板Ｇの外周端面の板厚方向の断面を示す。」（【００２８】） ウ．「形状評価値は、側壁面１１ｗ上の板厚方向に２００μｍ離れた２点の位置３７，３８における円周方向の輪郭線をそれぞれ取得し、これら輪郭線からそれぞれ求められる２つの最小二乗円３７ｃ，３８ｃの中心３７ｏ，３８ｏ間の中点を中点Ａとするとともに、さらに、２つの面取面１１ｃ，１２ｃ上の板厚方向長さの中心の位置３４，３５において円周方向の輪郭線をそれぞれ取得し、これら輪郭線から求められる最小二乗円３４ｃ，３５ｃの中心３４ｏ，３５ｏのうち、一方の面取面１１ｃから求められる中心３４ｏを中心Ｂ、他方の面取面１２ｃから求められる中心３５ｏを中心Ｃとしたとき、中点Ａおよび中心Ｂ間の距離ａと、中点Ａおよび中心Ｃ間の距離ｂとの合計である。」（【００２９】） エ．「側壁面１１ｗ上の２つの位置３７，３８は、例えば、ガラス基板Ｇの板厚方向の中心位置から１００μｍずつ主表面１１ｐ，１２ｐ側に離れた位置である。面取面１１ｃ，１２ｃの輪郭線を取得するための測定位置３４，３５は、例えば、主表面１１ｐ，１２ｐからそれぞれ板厚方向の中心位置側に等距離近づく位置（例えば、ガラス基板Ｇの面取面の板厚方向長さが０．１５ｍｍの場合、ガラス基板Ｇの主表面１１ｐ，１２ｐから中心位置に０．０７５ｍｍずつ近づく位置）である。」（【００２９】） オ．「各測定位置３７，３８，３４，３５において外周端面の形状を測定するための測定装置として、例えば、真円度・円筒形状測定装置を用いることができる。真円度・円筒形状測定装置のスタイラス３は、上下方向（板厚方向）にミクロン単位での移動が可能である。」 カ．「そして、スタイラス３の先端の、測定時にガラス基板Ｇと接触する位置が、測定装置にセットされたガラス基板Ｇの上側の主表面の高さと合わせられる。」（【００３０】） キ．「そして、スタイラス３を板厚の中央から１００μｍ上げた点３７、および、板厚の中央から１００μｍ下げた点３８において、ガラス基板Ｇの外周端部の輪郭線が測定される。」（【００３０】） ク．「また、スタイラス３の位置が、２つの面取面の、それぞれの板厚方向における中間の高さとなるよう設定され、それぞれの位置３４，３５でガラス基板Ｇの外周端部の輪郭線が測定される。」（【００３０】） そして、上記「イ」ないし「ク」の記載からみて、「磁気ディスク用ガラス基板Ｇの外周端面の形状評価値の測定方法」には、少なくとも、「スタイラス３を板厚の中央から１００μｍ上げた点３７、および、板厚の中央から１００μｍ下げた点３８において、ガラス基板Ｇの外周端部の輪郭線が測定される」こと（上記「キ」）、及び、「スタイラス３の位置が、２つの面取面の、それぞれの板厚方向における中間の高さとなるよう設定され、それぞれの位置３４，３５でガラス基板Ｇの外周端部の輪郭線が測定される」こと（上記「ク」）が含まれるが、図２には、上記「スタイラス３」や、それによって測定する位置「３４，３５，３７，３８」について何ら記載がされていない。 すなわち、本件特許明細書には「図２及び図３を参照して、ガラス基板Ｇの形状評価値について説明する。」（上記「イ」）と記載されていながら、その説明に必要な「スタイラス３」及び位置「３４，３５，３７，３８」についての記載が図２にはなされていない。 （３）一方、訂正図２には、符号３が付された断面円形のスタイラス３が符号３４、３５、３７、３８によって指示される位置に配置されている状態が表示されている。 そこで、その表示内容について検討すると、訂正図２の「３４，３５」の位置は上記「ウ」、「エ」、「ク」の記載と整合し、訂正図２の「３７，３８」の位置は上記「ウ」、「エ」、「キ」の記載と整合している。 また、訂正図２の「符号３」が付された「円」の配置については、上記「オ」ないし「ク」の記載と整合している。なお、スタイラス３を「円」で表現することは、当該スタイラス３が「測定装置のスタイラス３は、曲率半径が０．４ｍｍ以下の球面を有することが好ましい。」（【００３１】）という記載や図４においても「円」で表現されていることとも整合する。 （４）したがって、上記（１）ないし（３）を総合すると、本件訂正は、本件特許明細書の記載と整合していない図２の記載内容を、訂正図２のように本件特許明細書の記載と整合するようにするものであるから、特許法第１２６条第１項ただし書第３号に掲げられた「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものに該当する。 ２　新規事項の追加の有無 上記「１」の「（３）」で説示したように、訂正図２において、符号３が付された断面円形のスタイラス３が符号３４、３５、３７、３８によって指示される位置に配置されている状態は、本件特許明細書に記載した事項と整合している。したがって、本件訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてするものであるから、特許法第１２６条第５項の規定に適合する。 ３　特許請求の範囲の実質上の拡張、変更の有無 本件訂正は、上記「１」の「（４）」説示したとおり、本件特許明細書の記載と整合していない図２の記載内容を、訂正図２のように本件特許明細書の記載と整合するようにするものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。したがって、特許法第１２６条第６項の規定に適合する。 第４　むすび 以上のとおり、本件審判の請求は、特許法第１２６条第１項ただし書第３号に掲げる事項を目的とし、かつ、同条第５項及び第６項の規定に適合する。 よって、結論のとおり審決する。