2022-700212

特許第６９３９９６０号発明「ウェハ洗浄水供給装置」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第６９３９９６０号の請求項１、３に係る特許を取り消す。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第６９３９９６０号の請求項１～７に係る特許についての出願は、令和２年７月３０日に出願され、令和３年９月６日にその特許権の設定登録がされ、同年同月２２日に特許掲載公報が発行された。 そして、特許異議申立人中村健（以下「申立人」という。）により、令和４年３月１１日に差し出された特許異議申立書によりその請求項１、３に係る特許について特許異議の申立てがされ、当審は、同年６月６日付けで取消理由を通知した。 それに対し、特許権者は、その指定期間内である同年８月５日に意見書の提出及び訂正の請求（以下「第１訂正請求」という。）を行い、第１訂正請求に対して、申立人は、同年９月６日付けで意見書を提出した。 その後、当審は、同年１０月１７日付けで取消理由（決定の予告）を通知し、それに対し、特許権者は、その指定期間内である同年１２月１４日に意見書の提出及び訂正の請求（以下「第２訂正請求」という。）を行い、当審は申立人に対して、令和５年１月２３日付けで訂正請求があった旨の通知を行ったが、申立人は第２訂正請求に対する意見書を提出しなかった。 その後、当審は、同年３月３１日付けで第２訂正請求についての訂正拒絶理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、特許権者は指定期間内に応答しなかった。 第２ 第２訂正請求の適否について １ 訂正の内容 令和４年１２月１４日に提出された訂正請求書による訂正の請求（第２訂正請求）の、訂正の趣旨は、特許第６９３９９６０号の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１～７〕について訂正することを求めるものであり、その内容は、以下のとおりである。（下線は、訂正請求書の記載のとおり。） （１） 訂正事項１ 特許請求の範囲の請求項１を削除する。 （２） 訂正事項２ 特許請求の範囲の請求項２に、 「 前記薬剤が液体であり、該薬剤の超純水への添加機構が、給液ポンプ又は薬剤を充填した密閉タンクと該密閉タンクに不活性ガスを供給する加圧手段とによる圧送手段である、請求項１に記載のウェハ洗浄水供給装置。」 と記載されているのを、独立形式に改め、 「 超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解することで、所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水を製造するウェハ洗浄水製造部と、 この製造されたウェハ洗浄水を貯留する貯留槽と、 前記ウェハ洗浄水を洗浄機に供給するウェハ洗浄水供給配管と、 前記ウェハ洗浄水供給配管から分岐して前記洗浄機での余剰のウェハ洗浄水を前記貯留槽にまで返送する返送配管と、を備えるウェハ洗浄水供給装置であって、 前記余剰のウェハ洗浄水を前記貯留槽にまで返送する返送配管が、前記洗浄機のウェハ洗浄水の吐出部から１０ｍ以下の箇所で前記ウェハ洗浄水供給配管から分岐しており、 前記返送配管と前記ウェハ洗浄水供給配管との分岐部が、前記洗浄機の内部に配置され、前記貯留槽と前記ウェハ洗浄水供給配管と前記返送配管とで前記ウェハ洗浄水を循環可能となっており、 前記薬剤が液体であり、該薬剤の超純水への添加機構が、給液ポンプ又は薬剤を充填した密閉タンクと該密閉タンクに不活性ガスを供給する加圧手段とによる圧送手段である、ウェハ洗浄水供給装置。」 に訂正する。（請求項２の記載を直接的又は間接的に引用する請求項３～７も同様に訂正する。） （３） 訂正事項３ 特許請求の範囲の請求項３に、 「 前記貯留槽に水位を検知する検知手段が設けられているとともに、この検知手段の液位情報に基づいて前記ウェハ洗浄水製造部におけるウェハ洗浄水の製造開始・停止を制御する制御手段を備える、請求項１又は２に記載のウェハ洗浄水供給装置。」 と記載されているのを、請求項１を引用しないものに訂正する。（請求項３の記載を直接的又は間接的に引用する請求項５～７も同様に訂正する。） （４） 訂正事項４ 特許請求の範囲の請求項４に、 「 前記ウェハ洗浄水製造部におけるウェハ洗浄水の製造量が多段階に調整可能であり、前記貯留槽の水位に応じて前記ウェハ洗浄水製造部におけるウェハ洗浄水の製造量を多段階に調整する制御手段を備える、請求項１又は２に記載のウェハ洗浄水供給装置。」 と記載されているのを、請求項１を引用しないものに訂正する。（請求項４の記載を直接的又は間接的に引用する請求項５～７も同様に訂正する。） （５） 訂正事項５ 特許請求の範囲の請求項５に、 「 前記ウェハ洗浄水製造部と前記貯留槽との間に排出機構が設けられている、請求項１～４のいずれか１項に記載のウェハ洗浄水供給装置。」 と記載されているのを、請求項１を引用しないものに訂正する。（請求項３の記載を直接的又は間接的に引用する請求項６、７も同様に訂正する。） （６） 訂正事項６ 特許請求の範囲の請求項７に、 「 前記ウェハ洗浄水製造部に超純水又はウェハ洗浄水の溶存酸素を除去する機構を有する、請求項１～６のいずれか１項に記載のウェハ洗浄水供給装置。」 と記載されているのを、請求項１を引用しないものに訂正する。 （７） 一群の請求項について 訂正前の請求項１～７について、請求項２～７はそれぞれ同一カテゴリーで表現された請求項１を引用しているものであって、訂正事項１によって記載が訂正される請求項１に連動して訂正されるものである。したがって、訂正前の請求項１～７に対応する訂正後の請求項１～７は、特許法１２０条の５第４項に規定する一群の請求項である。 （８） 独立特許要件 本件特許異議申立事件においては、訂正前の請求項１、３が特許異議申立の請求の対象とされているので、訂正前の請求項１、３に係る訂正事項１、３に関して、特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。 ２ 訂正の適否について 事案に鑑み請求項４についての訂正要件について検討する。 （１） 訂正事項４の訂正の目的 訂正事項４は、訂正前の請求項１又は２を引用すると規定された請求項４を、請求項２のみを引用すると規定する訂正であって、多数項を引用している請求項の引用請求項数を削減するものであるから、特許法第１２０条の５第２項第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。 （２） 訂正事項４に係る独立特許要件 上記（１）のとおり訂正事項４は特許請求の範囲の減縮を目的するものであり、かつ、請求項４に係る特許は、特許異議申立ての対象ではない。 そこで、訂正事項２及び４により訂正された請求項４に係る発明が特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の規定に適合するか（特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか）について、以下、検討する。 ア 本件訂正発明 訂正事項２及び４により訂正された、請求項４に係る発明（以下「本件訂正発明」という。）は次の記載により特定されるものである。 「【請求項２】 超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解することで、所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水を製造するウェハ洗浄水製造部と、 この製造されたウェハ洗浄水を貯留する貯留槽と、 前記ウェハ洗浄水を洗浄機に供給するウェハ洗浄水供給配管と、 前記ウェハ洗浄水供給配管から分岐して前記洗浄機での余剰のウェハ洗浄水を前記貯留槽にまで返送する返送配管と、を備えるウェハ洗浄水供給装置であって、 前記余剰のウェハ洗浄水を前記貯留槽にまで返送する返送配管が、前記洗浄機のウェハ洗浄水の吐出部から１０ｍ以下の箇所で前記ウェハ洗浄水供給配管から分岐しており、 前記返送配管と前記ウェハ洗浄水供給配管との分岐部が、前記洗浄機の内部に配置され、前記貯留槽と前記ウェハ洗浄水供給配管と前記返送配管とで前記ウェハ洗浄水を循環可能となっており、 前記薬剤が液体であり、該薬剤の超純水への添加機構が、給液ポンプ又は薬剤を充填した密閉タンクと該密閉タンクに不活性ガスを供給する加圧手段とによる圧送手段である、ウェハ洗浄水供給装置。 【請求項４】 前記ウェハ洗浄水製造部におけるウェハ洗浄水の製造量が多段階に調整可能であり、前記貯留槽の水位に応じて前記ウェハ洗浄水製造部におけるウェハ洗浄水の製造量を多段階に調整する制御手段を備える、請求項２に記載のウェハ洗浄水供給装置。」 イ 甲第４号証の記載、引用発明 （ア） 甲第４号証の記載 申立人が提出した甲第４号証（特開２０１８－１８２０９９号公報）には次の記載がある。（下線は、引用箇所を示すために、当審が付加した。） 「【発明の詳細な説明】 【技術分野】 【０００１】 本発明は、超純水にｐＨ調整剤、酸化還元電位調整剤などを添加して、半導体ウェハ等の洗浄水を製造し、供給する装置に関するものであって、特にｐＨ調整剤、酸化還元電位調整剤等の溶質をごく低濃度にて含むウェハ洗浄水を製造し供給するのに好適な装置に関する。 ・・・＜中略＞・・・ 【発明の概要】 【発明が解決しようとする課題】 【０００７】 本発明は、半導体用ウェハ等の洗浄・リンス工程に供給するのに好適な、アルカリ・酸化剤等のごく低濃度の溶質を含む洗浄水を安定供給することができ、しかも余剰水を全く又は殆ど排出させることがない洗浄水供給装置を提供することを目的とする。 ・・・＜中略＞・・・ 【００１４】 本発明では、洗浄水製造部で、一定濃度となった洗浄水が製造される。この一定濃度の洗浄水が貯留槽に貯留され、貯留槽内の洗浄水がウェハ洗浄機に供給される。貯留槽内の安定した水質の洗浄水が洗浄機に供給される。 【００１５】 本発明によると、多数のバルブが不規則に開閉する多チャンバー枚葉式洗浄機において、洗浄・リンス工程で極めて重要な液質を所望の値に精度良く安定に保つ供給が実現でき、かつ余剰水の排出をなくし超純水の無駄遣いを防止できる。 ・・・＜中略＞・・・ 【００１８】 図１は本発明の洗浄水供給装置の実施の形態の一例を示す系統図である。 【００１９】 この洗浄水供給装置は、超純水にｐＨ調整剤及び／又は酸化還元電位調整剤等を添加して水質調整水を製造し、洗浄機に供給するためのものであり、超純水が定量にて流れる超純水ライン１と、該超純水ラインに溶質を定量添加して洗浄水を製造する製造部２と、製造された洗浄水が配管３を介して導入される貯留槽４と、該貯留槽４から洗浄水が供給される第１ないし第ｎのｎ個の洗浄機５Ａ，５Ｂ………５Ｎ等を有する。配管３にはバルブ３ａが設けられている。バルブ３ａの上流側において、配管３からドレン配管６が分岐している。配管６にバルブ６ａが設けられている。 【００２０】 貯留槽４には水位センサ４ａが設けられ、該水位センサ４ａの検出信号が制御器２ａに入力されている。該制御器２ａからの信号によって洗浄水製造部２とバルブ３ａ，６ａが制御される。 【００２１】 貯留槽４には、酸素をパージするための窒素ガス等の不活性ガス供給配管４ｂが接続されている。 【００２２】 アンモニア水、塩酸などのアルカリや、酸、過酸化水素水などの酸化剤といった、一般的にＥＬグレードの薬液添加で製造される希薄洗浄水の液質は安定である。このため、極端な長時間でなければ作り貯めして貯留槽４に貯留しておいても、洗浄水の溶質濃度は殆ど変化しない。また、この実施の形態では、Ｎ２ガス等によって酸素をパージするので、大気中の酸素が洗浄水に溶解することもない。 【００２３】 貯留槽４の水位が一定以上のときは、製造部２での洗浄水の製造を停止する。洗浄機５Ａ～５Ｎでの消費に伴い、貯留槽４の水位が規定の下限レベルまで低下したときは、製造部２での洗浄水の製造及び貯留槽４への供給を開始する。この際の製造流量は、洗浄機５Ａ～５Ｎでの使用の最大流量（合計流量）より大きく設定しておき、必ず水位が上昇するようにする。水位が規定の上限レベルに達したならば、洗浄水の製造、供給を停止する。以下、これを繰り返すことにより、貯留槽４内には常に上述の下限レベルと上限レベルとの間の水位となるように洗浄水が貯留される。 ・・・＜中略＞・・・ 【００２７】 洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎへは、それぞれ、貯留槽４から分岐配管７、バルブ８、ポンプ９、配管１０を介して洗浄水が供給される。配管１０にフィルターが設けられてもよい。配管１０からはリターン配管１１が分岐しており、該リターン配管１１の末端側は貯留槽４に接続されている。リターン配管１１にバルブ１２が設けられている。 【００２８】 超純水ライン１には、定量ポンプ、定流量弁、流量制御装置等を備えた定量供給装置によって超純水が一定流量にて流れている。製造部２では溶質が一定供給量にて超純水に添加され、これにより、高精度にて目的濃度となった洗浄水が貯留槽４に供給される。 【００２９】 洗浄水製造部２の構成の一例を図３～８に示す。 【００３０】 図３では、洗浄水製造部は、薬液タンク１５と、薬注ポンプ１６と、薬注配管１７とで構成されている。薬液タンク１５内には、ｐＨ調整剤、酸化還元電位調整剤等の１種以上が所定濃度にて溶解した薬液が収容されている。薬注ポンプ１６としては定量ポンプ又は流量制御装置付きポンプが用いられる。図４のように、薬液タンク１５と、薬注ポンプ１６と、薬注配管１７とからなる薬注ユニットが２以上設置されてもよい。 【００３１】 図３，４では、薬液タンク１５内の薬液を薬注ポンプ１６によって超純水ライン１に薬注するようにしているが、図５のように薬液タンク１５に窒素ガス等の不活性ガスを定量供給して薬液を超純水ライン１に定量添加するよう構成してもよい。図５は図３に関連するものであるが、図４も同様に構成することができる。後述の図６～８においても、薬液タンク１５内の薬液を窒素ガス等のガス圧によって薬注するようにしている。 ・・・＜中略＞・・・ 【００４５】 本発明では、精度よく所望濃度の希薄洗浄水を製造できる流量条件を２段階（高流速条件、低流速条件）定めておき、貯留槽４の水位が上昇して所定レベル（例えば、上限レベルと中間レベルとの間のレベル）に達したならば、製造流量条件を高流速条件から低流速条件に切り替え、また水位が低下して所定レベル（例えば、下限レベルと中間レベルとの間のレベル）に達したならば、製造流量条件を低流速条件から高流速条件に切り替えることもできる。この場合、製造開始時の濃度安定化に要する間の排水が無くなり、より無駄の無いシステムとなる。」 「【図１】 ［図：0001400429000001.jpg］ 」 「【図３】 ［図：0001400429000002.jpg］ 」 「【図５】 ［図：0001400429000003.jpg］ 」 （イ） 引用発明 ａ 甲第４号証の図１において、配管１０とリターン配管１１との分岐部が、洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎの外側に配置されていることが見てとれる。 ｂ 以上を踏まえると、甲第４号証には次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているといえる。 「ｐＨ調整剤、酸化還元電位調整剤等の溶質をごく低濃度にて含むウェハ洗浄水を製造し、洗浄機に供給するのに好適な装置（段落０００１、００１９）であって、 超純水が定量にて流れる超純水ライン１と、該超純水ラインに溶質を定量添加して洗浄水を製造する製造部２と、製造された洗浄水が配管３を介して導入される貯留槽４と、を有し（段落００１９）、 洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎへは、それぞれ、貯留槽４から分岐配管７、バルブ８、ポンプ９、配管１０を介して洗浄水が供給され（段落００２７）、 配管１０からはリターン配管１１が分岐しており、該リターン配管１１の末端側は貯留槽４に接続され（段落００２７）、 配管１０とリターン配管１１との分岐部が、洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎの外側に配置され（上記ａ）、 余剰水を全く又は殆ど排出させることがない洗浄水供給装置（段落０００７）であって、 洗浄水製造部２が、薬液タンク１５内の薬液を薬注ポンプ１６によって超純水ライン１に薬注する（段落００２９、００３１、図３）、又は、薬液タンク１５に窒素ガス等の不活性ガスを定量供給して薬液を超純水ライン１に定量添加する（段落００３１、図５）よう構成され、 精度よく所望濃度の希薄洗浄水を製造できる流量条件を２段階（高流速条件、低流速条件）定めておき、貯留槽４の水位が上昇して所定レベル（例えば、上限レベルと中間レベルとの間のレベル）に達したならば、製造流量条件を高流速条件から低流速条件に切り替え、また水位が低下して所定レベル（例えば、下限レベルと中間レベルとの間のレベル）に達したならば、製造流量条件を低流速条件から高流速条件に切り替える（段落００４５） 洗浄水供給装置。」 ウ 対比 本件訂正発明と引用発明とを対比する。 （ア） ウェハ洗浄水を製造し、洗浄機に供給する洗浄水供給装置の発明である引用発明は、「ウェハ洗浄水供給装置」の発明といえる点で本件訂正発明と共通する。 （イ） 引用発明の超純水が定量にて流れる「該超純水ラインに溶質を定量添加して洗浄水を製造する製造部２」は、本件訂正発明の「超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解することで、所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水を製造するウェハ洗浄水製造部」に相当する。 （ウ） 引用発明の「製造された洗浄水が配管３を介して導入される貯留槽４」は、本件訂正発明の「この製造されたウェハ洗浄水を貯留する貯留槽」に相当する。 （エ） 引用発明の、洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎへ、それぞれ、貯留槽４から洗浄水を供給する「分岐配管７、バルブ８、ポンプ９、配管１０」は、本件訂正発明の「前記ウェハ洗浄水を洗浄機に供給するウェハ洗浄水供給配管」に相当する。 （オ） 引用発明の、配管１０から分岐し、末端側が貯留槽４に接続されるリターン配管１１は、洗浄水を貯留層４に返送するものであることが明らかであるから、本件訂正発明の「前記ウェハ洗浄水供給配管から分岐してウェハ洗浄水を前記貯留槽にまで返送する返送配管」に対応するといえる。 （カ） 引用発明において、「貯留槽４」と「分岐配管７、バルブ８、ポンプ９、配管１０」と「リターン配管１１」とで洗浄水を循環していることは明らかであるから、引用発明は「前記貯留槽と前記ウェハ洗浄水供給配管と前記返送配管とで前記ウェハ洗浄水を循環可能となっている」といえる点で本件訂正発明と共通する。 （キ） 「洗浄水製造部２が、薬液タンク１５内の薬液を薬注ポンプ１６によって超純水ライン１に薬注する、又は、薬液タンク１５に窒素ガス等の不活性ガスを定量供給して薬液を超純水ライン１に定量添加するよう構成され」る引用発明は、「前記薬剤が液体であり、該薬剤の超純水への添加機構が、給液ポンプ又は薬剤を充填した密閉タンクと該密閉タンクに不活性ガスを供給する加圧手段とによる圧送手段である」といえる点で本件訂正発明と一致する。 （ク） 「精度よく所望濃度の希薄洗浄水を製造できる流量条件を２段階（高流速条件、低流速条件）定めておき、貯留槽４の水位が上昇して所定レベル（例えば、上限レベルと中間レベルとの間のレベル）に達したならば、製造流量条件を高流速条件から低流速条件に切り替え、また水位が低下して所定レベル（例えば、下限レベルと中間レベルとの間のレベル）に達したならば、製造流量条件を低流速条件から高流速条件に切り替える」引用発明は、「前記ウェハ洗浄水製造部におけるウェハ洗浄水の製造量が多段階に調整可能であり、前記貯留槽の水位に応じて前記ウェハ洗浄水製造部におけるウェハ洗浄水の製造量を多段階に調整する制御手段を備える」といえる点で本件訂正発明と一致する。 （ケ） 一致点・相違点 以上を踏まえると、本件訂正発明と引用発明は次の点で一致し、相違する。 ａ 一致点 「 超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解することで、所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水を製造するウェハ洗浄水製造部と、 この製造されたウェハ洗浄水を貯留する貯留槽と、 前記ウェハ洗浄水を洗浄機に供給するウェハ洗浄水供給配管と、 前記ウェハ洗浄水供給配管から分岐してウェハ洗浄水を前記貯留槽にまで返送する返送配管と、を備えるウェハ洗浄水供給装置であって、 前記貯留槽と前記ウェハ洗浄水供給配管と前記返送配管とで前記ウェハ洗浄水を循環可能となっており、 前記薬剤が液体であり、該薬剤の超純水への添加機構が、給液ポンプ又は薬剤を充填した密閉タンクと該密閉タンクに不活性ガスを供給する加圧手段とによる圧送手段であり、 前記ウェハ洗浄水製造部におけるウェハ洗浄水の製造量が多段階に調整可能であり、前記貯留槽の水位に応じて前記ウェハ洗浄水製造部におけるウェハ洗浄水の製造量を多段階に調整する制御手段を備える ウェハ洗浄水供給装置。」 ｂ 相違点１ 本件訂正発明の返送配管が「前記洗浄機での余剰の」ウェハ洗浄水を前記貯留槽にまで返送するものであるのに対し、 引用発明の「リターン配管１１」が返送する洗浄水が「前記洗浄機での余剰の」と特定されていない点。 ｃ 相違点２ 本件訂正発明が「前記余剰のウェハ洗浄水を前記貯留槽にまで返送する返送配管が、前記洗浄機のウェハ洗浄水の吐出部から１０ｍ以下の箇所で前記ウェハ洗浄水供給配管から分岐しており、 前記返送配管と前記ウェハ洗浄水供給配管との分岐部が、前記洗浄機の内部に配置され」ることを特定しているのに対し、 引用発明の「分岐部」は、「洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎの外側に配置され」、分岐部と洗浄水の吐出部との距離が特定されていない点。 エ 相違点の検討 （ア） 相違点１について 引用発明の「リターン配管１１」が返送する洗浄水は、洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎへは供給されない洗浄水であり、「前記洗浄機での余剰の」洗浄水といえるから、相違点１は実質的なものではない。 （イ） 相違点２について ａ 甲第５号証の記載、甲第５号証記載の発明 （ａ） 甲第５号証の記載 申立人が提出した甲第５号証（特開２０１８－１６３９７６号公報）には次の記載がある。（下線は、引用箇所を示すために、当審が付加した。） 「【発明の詳細な説明】 【技術分野】 【０００１】 この発明は、基板処理装置および基板処理方法に関する。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。 【背景技術】 【０００２】 半導体装置や液晶表示装置の製造工程では、半導体ウエハや液晶表示装置用ガラス基板などの基板に対して処理液を用いた処理が行われる。たとえば、基板を一枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置は、基板を水平に保持して回転させるスピンチャックと、このスピンチャックに保持された基板の表面に処理液を供給するノズルとを備えている。ノズルに対し、所定の高温に温度調整された処理液が供給されるものがある（たとえば特許文献１）。 【先行技術文献】 【特許文献】 【０００３】 【特許文献１】特開２０１３－１７２０７９号公報 【発明の概要】 【発明が解決しようとする課題】 【０００４】 このような基板処理装置では、ノズルからの吐出停止状態では、ノズルの管壁や処理液配管の管壁が温度低下する。したがって、高温の処理液を用いた前回の処理から長期間が経過した後に、高温の処理液を用いた処理を再開する際には、処理液配管やノズルに送り出された高温の処理液が、温度の低いノズルの管壁や処理液配管の管壁と熱交換して冷却される恐れがある。そのため、高温の処理液を用いた処理の再開時に、温度低下した処理液が基板に供給されるおそれがある。高温の処理液が所望の温度よりも低いと処理レートが低下するなどの問題が発生する。そして、その後に連続して処理が行われる場合には、処理を重ねるごとに管壁が温度上昇し、ノズルからは所期の高温を有する処理液が吐出されるようになる。したがって、このような熱影響に起因して基板間の処理がばらつくおそれがある。 【０００５】 すなわち、複数枚の基板に対し高温処理を繰り返し連続的に施す場合に、このような熱影響に起因する基板間の処理のばらつきを抑制または防止することが求められている。 そこで、本発明の目的は、基板間の処理のばらつきを抑制または防止できる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 ・・・＜中略＞・・・ 【００４９】 図４は、複数のノズル２２を示す模式的な正面図である。図４では、複数のノズル２２が基板Ｗの上面上に設定された処理位置Ｐ１に配置されている状態を示す。図４では、複数のノズル２２のノズルヘッド２６のうち、第２のノズルヘッド２６Ｂのみ内部を詳細に記載しているが、第２のノズルヘッド２６Ｂ以外の各ノズルヘッド２６の内部の構成も同様である。 【００５０】 第１のノズル２２Ａは、１つの吐出口３１を有している。第２のノズル２２Ｂ、第３２のノズル２２Ｃおよび第４のノズル２２Ｄは、それぞれ３つの吐出口３１を有している。すなわち、複数のノズル２２に設けられた吐出口３１の総数が１０個である。 第１～第４のノズル２２Ａ～２２Ｄは、それぞれ吐出バルブ２８をさらに含む。各吐出バルブ２８はノズルヘッド２６内に設けられている。各吐出バルブ２８は、２つのチューブ２９，３０が接続されている。チューブ２９，３０は、それぞれ処理液を案内する流路を形成している。 【００５１】 第１のノズルヘッド２６Ａの吐出バルブ２８には、吐出口部７０が結合されている。吐出口部７０の内部には、処理液を案内する１つの流路が形成されている。吐出口部７０の１つの流路は、各吐出口部７０の下面で開口して、１つの吐出口３１（３１Ａ）を形成している。 第２のノズルヘッド２６Ｂ～第４のノズルヘッド２６Ｄの各吐出バルブ２８には、吐出口ボディ３４が結合されている。吐出口ボディ３４は、処理液を案内する複数（たとえば３つ）の流路を形成している。第２のノズルヘッド２６Ｂの吐出口ボディ３４の複数の流路は、各吐出口ボディ３４の下面で開口して、複数（たとえば３つ）の吐出口３１（３１Ｂ）を形成している。第３のノズルヘッド２６Ｃの吐出口ボディ３４の複数の流路は、各吐出口ボディ３４の下面で開口して、複数（たとえば３つ）の吐出口３１（３１Ｃ）を形成している。第４のノズルヘッド２６Ｄの吐出口ボディ３４の複数の流路は、各吐出口ボディ３４の下面で開口して、複数（たとえば３つ）の吐出口３１（３１Ｄ）を形成している。 【００５２】 各吐出口ボディ３４に設けられた３つの吐出口３１（３１Ｂ，３１Ｃ，３１Ｄ）は、３つの吐出口３１のうちで回転軸線Ａ１に最も近い内側吐出口と、３つの吐出口３１のうちで回転軸線Ａ１から最も遠い外側吐出口と、内側吐出口と外側吐出口との間に配置された中間吐出口とを含む。複数の吐出口３１は、平面視で略直線状に並んでいる。隣接する２つの吐出口３１の間隔は、他のいずれの間隔と同じであってもよいし、他の間隔の少なくとも一つと異なっていてもよい。また、複数の吐出口３１は、２つ以上の異なる高さに配置されていてもよいし、同じ高さに配置されていてもよい。 【００５３】 各吐出口３１は、基板Ｗの上面に対して垂直な吐出方向に処理液を吐出する。複数の吐出口３１は、基板Ｗの上面内の複数の着液位置に向けて処理液を吐出する。複数の着液位置は、回転軸線Ａ１からの距離が異なる別々の位置である。 複数のノズルヘッド２６が処理位置に配置された状態で、複数の吐出口３１は、回転軸線Ａ１からの距離（平面視での最短距離）が異なる複数の位置にそれぞれ配置される。複数の吐出口３１は、平面視で基板Ｗの回転は回転半径方向に沿って一列に配列されている。第１のノズルヘッド２６Ａに設けられた第１の吐出口３１Ａは、基板Ｗの上面中央部に対向するように配置されている。また、第１のノズルヘッド２６Ａ以外の各ノズルヘッド２６に設けられた第２の吐出口３１Ｂ、第３の吐出口３１Ｃおよび第４の吐出口３１Ｄは、中央部以外の基板Ｗの上面に対向するように配置されている。この状態で、複数の吐出口３１のうちで回転軸線Ａ１に最も近い最内吐出口（第１の吐出口３１Ａ）は、基板Ｗの中央部の上方に配置され、複数の吐出口３１のうちで回転軸線Ａ１から最も遠い最外吐出口（第４の吐出口３１Ｄ）は、基板Ｗの周縁部の上方に配置される。 【００５４】 チューブ２９から各吐出口３１に至る流路は、薬液タンク６（図１参照）から供給される処理液を、吐出口３１に向けて案内する薬液供給流路３２（後述する）の一部に該当する。吐出バルブ２８内で薬液供給流路３２から分岐してチューブ３０に続く流路は、薬液供給流路３２を流通している処理液を薬液タンク６に戻す第２の帰還流路３３（後述する）の一部に該当する。 【００５５】 図５は、吐出バルブ２８の一例の内部を示す断面図である。 吐出バルブ２８は、処理液を導く流路３５が形成された本体３６と、流路３５を開閉する弁体３７と、弁体３７を軸方向Ｘ１に進退させて流路３５を開閉させる空圧アクチュエータ３８と、吐出口３１とを含む。 本体３６は、空圧アクチュエータ３８を構成するシリンダ３９と、弁体３７を進退させる弁室４０と、チューブ２９と連通して弁室４０に至る流路３５ａと、流路３５ａの、弁室４０よりも上流の位置で、流路３５ａに接続された、チューブ３０と連通する流路３５ｂと、弁室４０から吐出口３１に至る流路３５ｃとを含む。シリンダ３９と弁室４０とは、軸方向Ｘ１に並んでいる。シリンダ３９と弁室４０との間は、隔壁４１によって隔てられている。 【００５６】 流路３５ｃは、吐出口ボディ３４の内部を挿通し、かつ吐出口３１に連通する連通路６９が形成されている。この実施形態では、連通路６９は、弁室４０側の主連通路６９Ａと、主連通路６９Ａと各吐出口３１とを接続する複数の分岐路６９Ｂとを含む。 空圧アクチュエータ３８は、シリンダ３９、ピストン４２、バネ４３およびロッド４４を含む。シリンダ３９は、ピストン４２によって、隔壁４１側の前室と、当該ピストン４２を挟んで軸方向Ｘ１の反対側の後室とに隔てられている。本体３６には、シリンダ３９の前室および後室にそれぞれ別個に空気圧を伝達するチューブ（図４に示すチューブ４５）を接続するためのジョイント４７が、各々接続されている。ピストン４２は、チューブ４５およびジョイント４７を介して、シリンダ３９の前室または後室のいずれ一方に空気圧を伝達することにより、シリンダ３９内を、軸方向Ｘ１に沿って進退される。 【００５７】 バネ４３は、シリンダ３９の後室側において、ピストン４２と本体３６との間に介挿されて、ピストン４２を、隔壁４１の方向に押圧している。 ロッド４４は、基部がピストン４２に連結され、先端部が、隔壁４１を貫通して弁室４０に突出されている。弁室４０に突出されたロッド４４の先端部には、弁体３７が連結されている。弁体３７は円板状に形成され、ロッド４４の先端部に、径方向を軸方向Ｘ１と直交させて連結されている。弁体３７は、シリンダ３９内で、ピストン４２が軸方向Ｘ１に沿って進退されると、ロッド４４を介して、弁室４０内で、軸方向Ｘ１に沿って進退される。 【００５８】 弁室４０は、隔壁４１と対向し、軸方向Ｘ１と直交する円環状の弁座面４６を含み、弁座面４６の中心位置に、流路３５ａが同心状に開口されている。流路３５ｃは、弁室４０の、弁体３７の進退方向（軸方向Ｘ１）の側方に開口されている。 チューブ２９と流路３５ａ、チューブ３０と流路３５ｂは、それぞれジョイント４８を介して接続される。 【００５９】 本体３６は、先端に吐出口３１が形成され、ノズルヘッド２６の下面から下方へ突出される筒部４９を含む。第１のノズルヘッド２６Ａ以外の各ノズルヘッド２６では、図示していないが、筒部４９に、処理液を案内する複数の流路が形成された吐出口ボディ３４が接続され、吐出口ボディ３４の複数の流路が下面で開口されて、複数の吐出口３１が形成されている。 【００６０】 吐出バルブ２８において処理液に接する部分（接液部）は、処理液に対する耐性を有する材料（たとえば、フッ素樹脂等の合成樹脂）によって作製されるか、もしくは処理液に対する耐性を有する材料からなる被膜によって被覆されている。流路３５や弁室４０の内面、あるいは弁体３７やロッド４４の外面は、接液部に含まれる。 シリンダ３９の前室および後室のいずれにも空気圧を作用させず、空圧アクチュエータ３８を作動させない状態では、ピストン４２が、バネ４３によって、シリンダ３９内で前進位置、つまり、図８に示すように、隔壁４１側に近接した位置に押圧され、それによって弁室４０内で、弁体３７が弁座面４６に接触されて、流路３５ａの開口が閉鎖される。そのため、流路３５ａと流路３５ｃとの間が閉じられて、薬液タンク６からチューブ２９と流路３５ａとを通して供給される処理液は、流路３５ｂとチューブ３０とを通して薬液タンク６に帰還させられる（吐出停止状態）。 【００６１】 この吐出停止状態において、シリンダ３９の前室に空気圧を伝達して、ピストン４２を、バネ４３の押圧力に抗して、シリンダ３９の後室方向に後退させると、弁室４０内で、弁体３７が弁座面４６から離れて、流路３５ａの開口が弁室４０に解放される。そのため、流路３５ａと流路３５ｃとが、弁室４０を介して繋がれて、薬液タンク６からチューブ２９と流路３５ａとを通して供給される処理液が、流路３５ｃを通して、吐出口３１から吐出される（吐出状態）。 【００６２】 この吐出状態において、シリンダ３９の前室への空気圧の伝達を停止し、代わって、シリンダ３９の後室に空気圧を伝達して、ピストン４２を、バネ４３の押圧力とともに、シリンダ３９の前室方向、すなわち、隔壁４１に近接する方向に前進させると、弁室４０内で、弁体３７が弁座面４６に接触されて、流路３５ａの開口が閉鎖される。そのため、流路３５ａと流路３５ｃとの間が閉じられて、薬液タンク６からチューブ２９と流路３５ａとを通して供給される処理液は、流路３５ｂとチューブ３０とを通して薬液タンク６（図１参照）に帰還させられる吐出停止状態に復帰する。 ・・・＜中略＞・・・ 【００６８】 次に、図６を参照して、複数の吐出口３１からの処理液の吐出が停止された吐出停止状態の処理液供給システムについて説明する。図６では、開いているバルブを黒色で示しており、閉じているバルブを白色で示している。 吐出停止状態では、第１の帰還バルブ５３が閉じられかつ供給バルブ５４が開かれる。これにより、第１の循環流路５０を循環している薬液が、複数の薬液供給流路３２に流れ、第２の循環流路６７を循環する。具体的には、薬液供給流路３２に供給された処理液は、第２の循環ヒータ５７によって加熱された後、チャンバー９内に配置された吐出口３１の近傍の、第２の帰還流路３３との接続位置まで送られて、当該接続位置から、第２の帰還流路３３を介して、薬液タンク６に帰還させられる。 【００６９】 この吐出停止状態においては、複数の薬液供給流路３２と、そのそれぞれに接続された第２の帰還流路３３とを介して処理液を循環させ続けることにより、それぞれの薬液供給流路３２内の処理液を、チャンバー９内の（すなわち吐出口３１の近傍の）第２の帰還流路３３との接続位置まで、所定の高温に維持することができる。 次に、図７を参照して、複数の吐出口３１から処理液が吐出される吐出状態の処理液供給システムについて説明する。図７では、やはり、開いているバルブを黒色で示しており、閉じているバルブを白色で示している。 【００７０】 薬液タンク６内の処理液は、ポンプ５２によって第１の循環流路５０に送られる。ポンプ５２によって送られた処理液は、第１の循環ヒータ５１によって加熱された後、第１の循環流路５０から複数の薬液供給流路３２に流れる。薬液供給流路３２に供給された処理液は、第２の循環ヒータ５７によって加熱された後、チャンバー９内に配置された複数の吐出口３１に供給される。 【００７１】 第１の薬液供給流路３２Ａに供給された処理液は、第１のノズルヘッド２６Ａに設けられた１つの第１の吐出口３１Ａに供給される。第２の薬液供給流路３２Ｂに供給された処理液は、第２のノズルヘッド２６Ｂに設けられた複数の第２の吐出口３１Ｂに供給される。第３の薬液供給流路３２Ｃおよび第４の薬液供給流路３２Ｄについても、第２の薬液供給流路３２Ｂと同様である。これにより、全ての吐出口３１から処理液が吐出される。 【００７２】 この吐出状態においては、複数の吐出口３１から、基板Ｗの上面内の異なる複数の位置に処理液を供給することで、処理液の温度の均一性の低下を抑制できる。また、基板Ｗを回転軸線まわりに回転させながら、当該回転軸線からの距離が異なる複数の位置に、複数の吐出口３１から吐出させた処理液を着液させる場合には、基板Ｗの上面の全域に、速やかに、処理液を行き渡らせることができる。 ・・・＜中略＞・・・ 【０１１３】 また、高温の処理液として、高温の薬液を例に挙げたが、高温の処理液が、高温の水であってもよい。この場合、水は、たとえば、純水（脱イオン水：Deionized water）であるが、純水に限らず、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水、および希釈濃度（たとえば、１０～１００ｐｐｍ程度）の塩酸水のいずれかであってもよい。 また、前述の実施形態では、ノズル２２が複数設けられる場合について説明したが、ノズル２２が退避位置Ｐ２において、温度調整ユニット８０によって加熱（温度変更）されるのであれば、温度変更対象のノズル２２は複数でなく１つであってもよい。」 「【図４】 ［図：0001400429000004.jpg］ 」 「【図５】 ［図：0001400429000005.jpg］ 」 「【図６】 ［図：0001400429000006.jpg］ 」 「【図７】 ［図：0001400429000007.jpg］ 」 （ｂ） 甲第５号証記載の発明 上記（ａ）によると甲第５号証には次の発明（以下「甲第５号証記載の発明」という。）が記載されているといえる。 「半導体ウエハを処理対象となる基板とする基板処理装置が備える吐出バルブ２８（段落０００１、００５５）であって、 吐出バルブ２８は、処理液を導く流路３５が形成された本体３６と、流路３５を開閉する弁体３７と、弁体３７を軸方向Ｘ１に進退させて流路３５を開閉させる空圧アクチュエータ３８と、基板Ｗの上面に対して垂直な吐出方向に処理液を吐出する吐出口３１とを含み（段落００５３、５５）、 空圧アクチュエータ３８の作動によって 薬液タンク６からチューブ２９と流路３５ａとを通して供給される処理液を、流路３５ｂとチューブ３０とを通して薬液タンク６に帰還させる（吐出停止状態）と（段落００６０）、 薬液タンク６からチューブ２９と流路３５ａとを通して供給される処理液を、流路３５ｃを通して、吐出口３１から吐出させる（吐出状態）とを選択し（段落００６１）、 高温の処理液は、高温の純水に限らず、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水、および希釈濃度（たとえば、１０～１００ｐｐｍ程度）の塩酸水のいずれかであってもよい（段落０１１３）、 吐出バルブ２８。」 ｂ 相違点２の検討 引用発明と甲第５号証記載の発明とは、貯留槽４（甲第５号証記載の発明の薬液タンク６と対応）から、ウェハに対して供給する洗浄水や処理液を、リターン配管１１（甲第５号証記載の発明の流路３５ｂとチューブ３０と対応）とを通して、貯留槽４（甲第５号証記載の発明の薬液タンク６と対応）に帰還させるという共通する技術分野に属する。 そうすると、引用発明の配管１０からリターン配管１１が分岐する構成として、技術分野が共通する甲第５号証記載の発明の吐出バルブ２８を採用することは、当業者が容易に想到し得る事項といえる。 そして、処理対象の基板の半導体ウエハの大きさからすると、甲第５号証記載の発明の吐出バルブ２８における吐出口３１と、流路３５ａと流路３５ｂとの接続点、すなわち分岐部との距離が１０ｍ以下であることは明らかである。 また、引用発明に甲第５号証記載の発明の吐出バルブ２８を採用した場合、吐出バルブ２８が洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎそれぞれの内部に配置され、それにともない、配管１０からのリターン配管１１の分岐もそれぞれ洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎの内部でなされることになる。 したがって、引用発明に甲第５号証記載の発明を採用することにより相違点２は解消するから、本件訂正発明は、引用発明及び甲第５号証記載の発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものといえる。 オ 特許権者の主張について 特許権者は、訂正事項がすべての訂正要件に適合している事実の説明として、「本件においては、訂正前の全ての請求項１～７について特許異議申立てがされているので、訂正前の請求項４に係る訂正事項４に関して、特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。」（令和４年１２月１４日提出の訂正請求書１０ページ８～１１行）と主張しているが、請求項４については特許異議申立ての対象ではないから、特許権者の主張は採用できない。 カ 訂正事項４に係る独立特許要件についての小括 以上のとおり、本件訂正発明は、引用発明及び甲第５号証記載の発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 （３） 訂正の適否についての結論 上記１（７）のとおり、訂正前の請求項１～７は特許法第１２０条の５第４項に規定する一群の請求項であり、上記（２）のとおり、訂正前の請求項４に対する訂正事項４は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の規定に適合しない。 よって、他の訂正事項を検討するまでもなく、一群の請求項である請求項〔１～７〕についての第２訂正請求は認めることができない。 第３ 取消理由通知に記載した取消理由について １ 本件発明１、３ 上記第２のとおり、第２訂正請求は認められない。また、第１訂正請求は、第２訂正請求があったときに取り下げられたとみなされる。 したがって、特許異議申立ての対象である、本件請求項１及び３に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」、「本件発明３」という。）は、特許掲載公報に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。 「【請求項１】 超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解することで、所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水を製造するウェハ洗浄水製造部と、 この製造されたウェハ洗浄水を貯留する貯留槽と、 前記ウェハ洗浄水を洗浄機に供給するウェハ洗浄水供給配管と、 前記ウェハ洗浄水供給配管から分岐して洗浄機での余剰のウェハ洗浄水を貯留槽にまで返送する返送配管と、を備えるウェハ洗浄水供給装置であって、 前記余剰のウェハ洗浄水を貯留槽にまで返送する返送配管が、前記洗浄機のウェハ洗浄水の吐出部から１０ｍ以下の箇所で分岐しており、 前記返送配管が洗浄機側に設けられており、前記貯留槽と前記ウェハ洗浄水供給配管と前記返送配管とで前記ウェハ洗浄水を循環可能となっている、ウェハ洗浄水供給装置。 【請求項３】 前記貯留槽に水位を検知する検知手段が設けられているとともに、この検知手段の液位情報に基づいて前記ウェハ洗浄水製造部におけるウェハ洗浄水の製造開始・停止を制御する制御手段を備える、請求項１又は２に記載のウェハ洗浄水供給装置。」 ２ 取消理由の概要 当審が令和４年６月６日付けで特許権者に通知した取消理由は、本件特許１、３は、特許請求の範囲の記載が不備のため、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるというものである。 ３ 当審の判断 請求項１の「前記返送配管が洗浄機側に設けられており、」との記載がどのような技術事項を特定しているのか下記の点で明らかでない。 （１） 「側」とは、「物事の一つの面、方向、立場。また、そのような面、方向、立場などにあるものや人。」（精選版 日本国語大辞典）のことであるが、請求項１の上記記載において「洗浄機側」が何の洗浄機側、または何に対する洗浄機側を意味しているのか明らかでない。 （２） 請求項１に係る発明は、「ウェハ洗浄水製造部」と、「貯留槽」と、「ウェハ洗浄水供給配管」と、「返送配管」と、を備える「ウェハ洗浄水供給装置」の発明であり、「ウェハ洗浄水供給装置」が「洗浄機」を備えることは特定されていない。 そうすると、請求項１に係る発明において、「貯留層」及び「洗浄機での余剰のウェハ洗浄水を貯留槽にまで返送する返送配管」は、（洗浄機側ではなく）「ウェハ洗浄水供給装置」側に設けられているものと理解するのが自然である。 そして、請求項１の「前記返送配管が洗浄機側に設けられており」とのさらなる記載は、「返送配管」が（ウェハ洗浄水供給装置側ではなく）「洗浄機側」に設けられることを特定すると解し得るが、上記理解と整合しない。 したがって、本件発明１は、「返送配管」と、「洗浄機」及び「貯留槽」との関係が明確とはいえない。 （３） 本件の発明の詳細な説明の段落００１０の「上記発明（発明１）においては、前記返送配管が洗浄機側に設けられており、」との記載、また、段落００２４の「このウェハ洗浄水供給配管６には、洗浄機４側に洗浄ノズル４Ａの先端から距離（ｔ）で分岐して、返送配管７が接続されていて、洗浄機４での余剰のウェハ洗浄水Ｗ１を貯留槽３にまで返送可能となっている。」との記載、及び図面を踏まえても、上記（２）の点が明確とはいえない。 したがって、本件発明１は明確ではない。 また、本件発明１の発明特定事項をすべて含む本件発明３も同様の点で明確でない。 ４ 特許権者の主張について 特許権者は、令和４年８月５日に第１訂正請求に基づく意見書、及び同年１２月１４日に第２訂正請求に基づく意見書を提出した。 しかしながら、上記第２のとおり、第２訂正請求は認められず、また、第１訂正請求は、第２訂正請求があったときに取り下げられたとみなされるから、第１訂正請求、及び第２訂正請求により訂正された特許請求の範囲の記載を根拠とする、これらの意見書における主張は採用できない。 第４ 取消理由通知、及び取消理由通知（決定の予告）で採用しなかった申立理由について １ 申立理由１（進歩性） 申立人が提出した甲第１号証（特開２０１３－２０７０７６号公報）、甲第２号証（特開２０２０－８８０８５号公報）、甲第３号証（特開２００１－２５７１５号公報）をそれぞれ主引用例とする進歩性について検討する。 （１） 甲第１号証を主引用例とする進歩性について 申立人は甲第１号証について次の主張を行った。 「甲第１号証には、超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解することで、所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水を製造するウェハ洗浄水製造部（段落００３３、図１）と、この製造されたウェハ洗浄水を貯留する貯留槽（段落００２４、図１）と、ウェハ洗浄水を洗浄機に供給するウェハ洗浄水供給配管（段落００２４、図１）と、ウェハ洗浄水供給配管から分岐して洗浄機での余剰のウェハ洗浄水を貯留槽にまで返送する返送配管（段落００２５、図１）と、を備えるウェハ洗浄水供給装置（段落００２２、００５６）であって、返送配管が洗浄機側に設けられており、貯留槽とウェハ洗浄水供給配管と返送配管とでウェハ洗浄水を循環可能となっている（段落００２５、図１）、ウェハ洗浄水供給装置が開示されている。」（特許異議申立書１０ページ７～１５行） そして、甲第１号証には「薬液ノズル５に供給される薬液としては、たとえば、高温（室温以上の温度）にすることで処理能力が向上する薬液である硫酸が用いられている。 また、高温にすることで処理能力が向上する薬液としては、前述の薬液以外に、ＳＣ－１（アンモニアと過酸化水素水との混合液）や、ＳＣ－２（塩酸と過酸化水素水との混合液）などを用いることができる。ＳＣ－１は、たとえば、パーティクルや各種金属不純物などの不要物を除去する洗浄処理に用いられる薬液であり、ＳＣ－２は、たとえば、パーティクルや各種金属不純物などの不要物を除去する洗浄またはエッチング処理に用いられる薬液である。これらの薬液は、たとえば４０～６０℃に温度調節される。」（段落００５６）との記載がある。 ここで、甲第１号証には、洗浄に用いられる薬液として例示されるＳＣ－１（アンモニアと過酸化水素水との混合液）や、ＳＣ－２（塩酸と過酸化水素水との混合液）を、「超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解することで、所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水」として製造することについての開示はないから、少なくともこの点で本件発明１と、甲第１号証記載の発明とは相違する。 そして、ＳＣ－１や、ＳＣ－２を、「超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解すること」によって、「所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水」として製造することはない。 また、「ｐＨや酸化還元電位の制御に有効な溶質を超純水にごく低濃度溶解した水」（本件明細書段落０００２）による洗浄と、ＳＣ－１やＳＣ－２による洗浄とは、洗浄の目的が異なることから、甲第１号証記載の発明においてＳＣ－１やＳＣ－２を、「超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解すること」によって製造される「所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水」と置換する動機付けは認められない。 そうすると、上記「第２の２（２）ウ（イ）」のとおり、「超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解することで、所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水を製造する」ことが、甲第４号証に開示された公知技術であったとしても、甲第１号証記載の発明におけるＳＣ－１や、ＳＣ－２を、「超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解すること」によって、「所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水」として製造することは容易想到ではない。 したがって、他の相違点を検討するまでもなく、甲第１号証を主引用例として、本件発明１に係る特許を取り消すことはできない。 また、本件発明１の発明特定事項をすべて含む本件発明３に係る特許についても同様である。 （２） 甲第２号証を主引用例とする進歩性について 申立人は甲第２号証について次の主張を行った。 「甲第２号証には、超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解することで、所定の薬剤濃度の処理液を製造するとともに、この製造された処理液を貯留する貯留槽（段落００９９、０１１４、図７）と、処理液を処理ユニットに供給するとともに、処理ユニットでの余剰の処理液を貯留槽にまで返送する返送配管（段落００４２、０１００、図７）と、を備え、返送配管が処理ユニット側に設けられており、貯留槽と返送配管とで処理液を循環可能となっている（図７）、基板処理装置が開示されている。」（特許異議申立書１０ページ１６～２２行） そして、甲第２号証には次の記載がある。 「【発明が解決しようとする課題】 【０００４】 特許文献１に記載の基板処理装置では、ＴＭＡＨ中の溶存酸素濃度を調整するために、窒素ガスおよびドライエアーの少なくとも一方をタンク内に供給し、ＴＭＡＨ中に多数の気泡を形成する。これはバブリングと呼ばれる。 ＴＭＡＨ中のガスは、ＴＭＡＨの液面まで浮上した後、タンク内のガスと共に排気ラインに排出される。タンクから排出された排出ガスには、窒素ガスおよびドライエアーの少なくとも一方だけでなく、ＴＭＡＨの蒸気やＴＭＡＨのミストが含まれる。排出ガスに含まれるＴＭＡＨは極僅かではあるが、バブリングを続けると、タンク内のＴＭＡＨが排気ラインを通じて徐々に排出される。そのため、新しいＴＭＡＨをタンクに供給する頻度が高まり、基板の処理に要するランニングコストが増加する。 【０００５】 さらに、タンク内の処理液に複数の成分が含まれる場合は、これらの成分の蒸気圧が互いに異なるので、バブリングを続けると、処理液の濃度が徐々に変化する。特に、気化し易い成分が処理液に含まれる場合は、処理液の濃度が大幅に変化する。処理液の濃度が時間の経過に伴って変化すると、処理液によって処理された基板の品質も時間の経過に伴って変化してしまう。したがって、基板の品質の安定性が損なわれる。 【０００６】 そこで、本発明の目的の一つは、溶存酸素濃度の調整に伴うタンク内での処理液の減少量を減らすことができる基板処理方法および基板処理装置を提供することである。」 ここで、甲第２号証には、処理液としてのＴＭＡＨを、「超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解することで、所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水」として製造することについての開示はないから、少なくともこの点で本件発明１と、甲第２号証記載の発明とは相違する。 そして、ＴＭＡＨを、「超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解すること」によって、「所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水」として製造することはなく、また、上記「第２の２（２）ウ（イ）」のとおり、「超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解することで、所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水を製造する」ことが、甲第４号証に開示された公知技術であったとしても、甲第２号証の上記「発明が解決しようとする課題」の記載を踏まえれば、甲第２号証には、処理液としてのＴＭＡＨを、「超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解すること」によって製造される「所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水」と置換することを阻害する要因が認められる。 したがって、甲第２号証記載の発明におけるＴＭＡＨを、「超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解することで、所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水」として製造することは容易想到ではないから、他の相違点を検討するまでもなく、甲第２号証を主引用例として、本件発明１に係る特許を取り消すことはできない。 また、本件発明１の発明特定事項をすべて含む本件発明３に係る特許についても同様である。 （３） 甲第３号証を主引用例とする進歩性について 申立人は甲第３号証について次の主張を行った。 「甲第３号証には、超純水の流量に対して所定量の薬剤を溶解することで、所定の薬剤濃度のウェハ洗浄水を製造するウェハ洗浄水製造部（段落００３４、００３５、図２）と、この製造されたウェハ洗浄水を貯留する貯留槽（段落００３５、図２）と、ウェハ洗浄水を洗浄機に供給するウェハ洗浄水供給配管（段落００３４、図２）と、ウェハ洗浄水供給配管から分岐して洗浄機での余剰のウェハ洗浄水を一次純水受入れタンクを介して貯留槽にまで返送する返送配管（段落００３４、図２）と、を備えるウェハ洗浄水供給装置であって、返送配管が洗浄機側に設けられており、貯留槽とウェハ洗浄水供給配管と返送配管とでウェハ洗浄水を循環可能となっている（図２）、ウェハ洗浄水供給装置が開示されている。」（特許異議申立書１０ページ２３行～１１ページ２行） そして甲第３号証には次の記載がある。 「【００３４】次に、本発明の第２の実施の形態における機能水製造装置について、図２を参照して説明する。図２は第２の実施の形態例の機能水製造装置をブロック図で示す。図２中、機能水製造装置５０ｂは一次純水製造装置７と、一次純水受入れタンク８と、超純水製造装置１と、電解水製造装置６Ａ及びアルカリ添加装置２Ｂを組み込んだ電解水製造装置ユニット６と、アニオン吸着膜９１、カチオン吸着膜２１及びキレート膜２２を組み込んだ洗浄機ユニット９とからなり、超純水製造装置１と電解水製造装置ユニット６は超純水供給配管４で連接され、電解水製造装置ユニット６と洗浄機ユニット９とは電解水供給配管５ａ及び洗浄配管５ｂで連接されている。また、電解水供給配管５ａはアニオン吸着膜９１の手前で主配管と分岐管とに分かれ、分岐管は一次純水受入れタンク８に連接する戻り配管１１３となり、戻り配管１１３中にアニオン交換樹脂塔１０を設置している。 【００３５】電解水製造装置６Ａにおいて、電解槽６１は３槽式電解槽であり、陰極６２を配する陰極室６２ａと、陽極６３を配する陽極室６３ａと、陰極室と陽極室の間に更に中間室６４ａを配し、中間室６４ａには図示しないイオン交換樹脂が充填されている。各部屋はイオン交換膜で仕切られているため、陰極室６２ａ側から陽極室６３ａ側、また陽極室６３ａ側から陰極室６２ａ側へのイオンの移動は制限されるから、生成した電解水中での塩の生成を防止できる。 ・・・＜中略＞・・・ 【００３７】図２において、超純水は超純水供給配管４を通って、流量計２３１で流量制御されながら電解槽６１に供給される。電解後、陰極室６２ａには水素を溶解する陰極水（電解水）が得られる。一方、陰極室６２ａには、例えばアンモニウム等のアルカリ薬液が添加される。すなわち、アルカリ薬液槽２５のアルカリ薬液は薬液添加ポンプ２１３を駆動させることにより、薬液供給管２１５を通って陰極室６２ａ内へ供給される。薬液の添加量はｐＨ計２１１によって管理され、薬液添加ポンプ２１３の吐出量をアルカリ薬液量指示流量計２１４を監視しつつ調整することで任意の値とすることができる。符号６４は両電極に印加する直流電源装置を示し、符号１１１は電解槽出口圧力計を示す。」 ここで、上記記載によると、本件発明１と甲第３号証記載の発明とは、少なくとも、本件発明１の「返送配管」は、「洗浄機での余剰のウェハ洗浄水を」「製造されたウェハ洗浄水を貯留する貯留槽」「にまで返送する」ものであるの対し、甲第３号証記載の発明の「戻り配管１１３」が、電解水製造装置ユニット６の前段に位置する、超純水製造装置１の「一次純水受入れタンク８」に連接するものである点で相違する。 そして、仮に、甲第３号証記載の発明の「電解槽６１」が、本件発明１の「製造されたウェハ洗浄水を貯留する貯留槽」に相当するとしても、「一次純水受入れタンク８」に連接する甲第３号証記載の発明の「戻り配管１１３」を、流量計２３１で流量制御されながら超純水が供給される、電解水製造装置ユニット６の「電解槽６１」に直接連接する動機付けは見いだせない。 したがって、甲第３号証記載の発明の「一次純水受入れタンク８に連接する戻り配管１１３」を、「一次純水受入れタンク８」ではなく「電解槽６１」に連接することは容易想到ではないから、他の相違点を検討するまでもなく、甲第３号証を主引用例として、本件発明１に係る特許を取り消すことはできない。 また、本件発明１の発明特定事項をすべて含む本件発明３に係る特許についても同様である。 （４） 小括 以上のとおり、甲第１号証、甲第２号証、及び甲第３号証をそれぞれ主引用例として、本件発明１及び本件発明３に係る特許を取り消すことはできない。 ２ 申立理由２（サポート要件） （１） 申立人は次の申立理由２（サポート要件）を主張した。 「請求項１について、「余剰のウェハ洗浄水を貯留槽にまで返送する返送配管が、洗浄機のウェハ洗浄水の吐出部から１０ｍ以下の箇所で分岐しており」と記載されている。そして、本願特許の発明の詳細な説明の段落００７４～００８０、および図１５～図１７には、実施例１では、返送配管の分岐位置が吐出部から５ｍの箇所であることが記載されており、比較例２では、返送配管の分岐位置が吐出部から１５ｍの箇所であることが記載されている。しかしながら、本願特許の発明の詳細な説明には、返送配管の分岐位置を吐出部から１０ｍ以下とすることの臨界的意義についての記載がない。その結果、請求項１に記載の発明は、明細書の適切なサポートがない。また、請求項３の発明についても同様に明細書の適切なサポートがない。このため、請求項１および３に記載の発明は、明細書の適切なサポートがなく、特許請求の範囲に記載した特許を受けようとする発明が発明の詳細な説明に記載したものではない。」（特許異議申立書１４ページ１～１２行） （２） 本件の発明の詳細な説明には、「ウェハ洗浄水でウェハを処理する直前に、ウェハ洗浄水の洗浄機入口からノズル先端に残留した洗浄水をノズルから吐出させ排液し、高清浄度かつ所定液質の洗浄水と入れ替えるプリディスペンスという動作が洗浄機側で必要になる」ところ、「プリディスペンスは洗浄工程ごとに実施され、排出された洗浄水は排水設備に送られるが、返送配管が洗浄機に入る直前に接続されているので、洗浄水の排出量が多くなり、用排水設備への負担が大きく、薬液を過剰に使用する、などの問題点があ」り、「このため、プリディスペンスで排出されるウェハ洗浄水（余剰水）を最低限に抑えることが要望されていた」との課題（段落０００６）について、「プリディスペンスで排出される洗浄水をできるだけ回収し、洗浄水として再利用するために、ウェハ洗浄水の吐出部から１０ｍ以下の箇所で分岐している構造を採用し」、「これによりプリディスペンス時に排出される洗浄水量の大幅削減が可能になる」発明（段落０００９）が記載されているといえる。 そして、当該発明について、発明の詳細な説明には、「本実施形態においては、洗浄ノズル４Ａの先端から１０ｍ以内の所定の地点に返送配管７を接続して、この返送配管７からウェハ洗浄水Ｗ１を貯留槽３に戻しているので、洗浄機４が停止してウェハ洗浄水Ｗ１の未使用時でも洗浄機４側のウェハ洗浄水供給配管６に滞留するウェハ洗浄水Ｗ１の水量の削減と滞留による洗浄水質の悪化を最低限に抑制することが可能になる。さらに、プリディスペンスが不要もしくは最低限で済むので、用排水設備への負荷低減および薬液の過剰使用の改善にもつながる、という効果も奏する。返送配管７の接続箇所が洗浄ノズル４Ａの先端から１０ｍ超えると、上述したウェハ洗浄水Ｗ１の水量の削減と滞留による洗浄水質の悪化を最低限に抑制する効果が十分でない。」（段落００３８）と、その臨界的意義についての記載もある。 以上を踏まえると、「前記余剰のウェハ洗浄水を貯留槽にまで返送する返送配管が、前記洗浄機のウェハ洗浄水の吐出部から１０ｍ以下の箇所で分岐しており」と規定される請求項１に係る発明は、「発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲」を超えるものとはいえず、本件の発明の詳細な説明には、返送配管の分岐位置を吐出部から１０ｍ以下とすることの臨界的意義についての記載がないとはいえないから、申立理由２（サポート要件）によっては、本件発明１に係る特許を取り消すことはできない。 また、本件発明１の発明特定事項をすべて含む本件発明３に係る特許についても同様である。 第５ むすび 上記第２のとおり、第２訂正請求を認めることはできない。 また、上記第３のとおり、本件請求項１、３に係る発明は明確でなく、特許請求の範囲の記載が不備のため、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていないから、特許法第１１３条第４号に該当し、取り消されるべきものである。 よって、結論のとおり決定する