2022-700195

特許第６９３１７０７号発明「感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜の製造方法、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第６９３１７０７号の明細書および特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正明細書および訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１～１６〕について訂正することを認める。 特許第６９３１７０７号の請求項１～１６に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第６９３１７０７号の請求項１～１６に係る特許（以下「本件特許」と総称する。）についての出願（特願２０１９－５４２０３６号）は、２０１８年（平成３０年）９月７日（先の出願に基づく優先権主張 平成２９年９月１３日 平成３０年１月３１日）を国際出願日とする出願であって、令和３年８月１８日に特許権の設定の登録がされたものである。 本件特許について、令和３年９月８日に特許掲載公報が発行されたところ、発行の日から６月以内である令和４年３月７日に、本件特許のうち全請求項に係る特許（以下、それぞれ「本件特許１」～「本件特許１６」という。）に対して、特許異議申立人 中川 賢治（以下「特許異議申立人」という。）から、特許異議の申立てがされた（異議２０２２－７００１９５号、以下「本件事件」という。）。 本件事件についての、その後の手続等の経緯は、次のとおりである。 令和 ４年 ５月１１日付け：取消理由通知書 令和 ４年 ７月１４日 ：訂正請求書 令和 ４年 ７月１４日 ：意見書（特許権者） 令和 ４年 ９月 ２日 ：意見書（特許異議申立人） 令和 ４年１０月１７日付け：取消理由通知書（決定の予告） 令和 ４年１２月２２日 ：訂正請求書 令和 ４年１２月２２日 ：意見書（特許権者） 令和 ５年 ２月２４日 ：意見書（特許異議申立人） なお、令和４年７月１４日付け訂正請求書による訂正の請求は、特許法１２０条の５第７項の規定により、取り下げられたものとみなす。 第２ 令和４年１２月２２日付け訂正請求書による訂正の請求について １ 訂正の内容 令和４年１２月２２日付け訂正請求書でなされた訂正の請求による訂正（以下「本件訂正」という。）の内容は、次のとおりである（下線は、訂正箇所として特許権者が付したものである。）。 （１）訂正事項１ ア 訂正事項１Ａ（特許請求の範囲について） （ア）特許請求の範囲の請求項1に「少なくとも1種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物」と記載されているのを「少なくとも1種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物（但し、下記式（Ｎ１）～（Ｎ５）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｐ１）で表される化合物、及びトリｎ－ペンチルアミンを含有する組成物、下記式（Ｎ１Ａ）、及び式（Ｎ２）～（Ｎ５）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｐ１）で表される化合物、及びトリｎ－ペンチルアミンを含有する組成物、Ｒ４”ＳＯ３－ ［式中、Ｒ４”は、炭素数４の直鎖もしくは分岐状のアルキル基、または炭素数４の直鎖もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を表す］で表されるアニオン部を有するオニウム塩系光酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物、下記式（Ａ１）～（Ａ３）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｂ）－２で表される化合物、トリエチルアミン、及びサリチル酸を含有する組成物、下記式（Ａ１）～（Ａ３）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｂ）－４で表される化合物、トリエチルアミン、及びサリチル酸を含有する組成物、下記式（Ａ１）～（Ａ３）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｂ）－６で表される化合物、トリエチルアミン、及びサリチル酸を含有する組成物、ｐ－ヒドロキシスチレン、及びｔｅｒｔ－ブチルアクリレートからなる共重合体、トリフルオロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウム、及びトリエタノールアミンを含有するレジスト組成物、並びに、ｐ－ヒドロキシスチレン、及び １－エチル－１－シクロペンチルアクリレートからなる共重合体、トリフルオロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウム、及びトリエタノールアミンを含有するレジスト組成物を除く）」（以下、括弧書きによって特許請求の範囲から除かれた事項を「本件除外事項」という。）に訂正する。請求項１の記載を引用する請求項４～１６も同様に訂正する。 （イ）特許請求の範囲の請求項1の「繰り返し単位Ｂ１を有し、」という記載の後に「前記繰り返し単位Ｂ１は、前記酸性基を有する繰り返し単位、又は、前記酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」と追記する。請求項１の記載を引用する請求項４～１６も同様に訂正する。 （ウ）特許請求の範囲の請求項1の「全繰り返し単位に対して２０モル％超」という記載の後に「２７モル％以下」と追記する。請求項１の記載を引用する請求項４～１６も同様に訂正する。 イ 訂正事項１Ｂ（明細書について） （ア）明細書の段落【０００８】の＜１＞に「少なくとも１種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物」と記載されているのを「少なくとも１種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物（但し、本件除外事項を除く）」に訂正する。 （イ）明細書の段落【０００８】の＜１＞の「繰り返し単位Ｂ１を有し、」という記載の後に「上記繰り返し単位Ｂ１は、上記酸性基を有する繰り返し単位、又は、上記酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」を追記する。 （ウ）明細書の段落【０００８】の＜１＞の「全繰り返し単位に対して２０モル％超」という記載の後に「２７モル％以下」と追記する。 （２）訂正事項２ ア 訂正事項２Ａ（特許請求の範囲について） （ア）特許請求の範囲の請求項２に「少なくとも1種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物」と記載されているのを「少なくとも1種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物（但し、本件除外事項を除く）」に訂正する。請求項２の記載を引用する請求項４～７、１２～１６も同様に訂正する。 （イ）特許請求の範囲の請求項２の「炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位を有し、」という記載の後に「前記炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位は、前記酸性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」と追記する。請求項２の記載を引用する請求項４～７、１２～１６も同様に訂正する。 （ウ）特許請求の範囲の請求項２の「全繰り返し単位に対して２０モル％超」という記載の後に「２７モル％以下」と追記する。請求項１の記載を引用する請求項４～７、１２～１６も同様に訂正する。 イ 訂正事項２Ｂ（明細書について） （ア）明細書の段落【０００８】の＜２＞に「少なくとも1種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物」と記載されているのを「少なくとも1種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物（但し、本件除外事項を除く）」に訂正する。 （イ）明細書の段落【０００８】の＜２＞の「炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位を有し、」という記載の後に「上記炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位は、上記酸性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」を追記する。 （ウ）明細書の段落【０００８】の＜２＞の「全繰り返し単位に対して２０モル％超」という記載の後に「２７モル％以下」と追記する。 （３） 訂正事項３ ア 訂正事項３Ａ（特許請求の範囲について） （ア）特許請求の範囲の請求項３に「少なくとも１種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物」と記載されているのを「少なくとも１種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物（但し、本件除外事項を除く）」に訂正する。請求項３の記載を引用する請求項４～１６も同様に訂正する。 （イ）特許請求の範囲の請求項３の「繰り返し単位ＢＣ１を有し、」という記載の後に「前記繰り返し単位ＢＣ１は、前記酸性基を有する繰り返し単位、又は、前記酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」と追記する。請求項３の記載を引用する請求項４～１６も同様に訂正する。 （ウ）特許請求の範囲の請求項３の「全繰り返し単位に対して２０モル％超」という記載の後に「２７モル％以下」と追記する。請求項３の記載を引用する請求項４～１６も同様に訂正する。 イ 訂正事項３Ｂ（明細書について） （ア）明細書の段落【０００８】の＜３＞に「少なくとも1種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物」と記載されているのを「少なくとも1種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物（但し、本件除外事項を除く）」に訂正する。 （イ）明細書の段落【０００８】の＜３＞の「繰り返し単位ＢＣ１を有し、」という記載の後に「上記繰り返し単位ＢＣ１は、上記酸性基を有する繰り返し単位、又は、上記酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」を追記する。 （ウ）明細書の段落【０００８】の＜３＞の「全繰り返し単位に対して２０モル％超」という記載の後に「２７モル％以下」と追記する。 （４）一群の請求項について 訂正前の請求項４～７、１２～１６は、請求項１～３を直接的に又は間接的に引用しており、また、訂正前の請求項８～１１は、請求項１、３を直接的に又は間接的に引用していることから、訂正前の請求項１～１６に対応する本件訂正後の請求項１～１６は、特許法第１２０条の５第４項に規定する一群の請求項である。 ２ 訂正要件の判断 （１）訂正事項１について ア 訂正事項１Ａ（特許請求の範囲について） （ア）訂正の目的 訂正事項１Ａの上記１（１）ア（ア）は、「（但し、本件除外事項を除く）」という記載によって、「感活性光線性又は感放射線性組成物」から特定の組成物を除外するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 また、訂正事項１Ａの上記１（１）ア（イ）は、「上記繰り返し単位Ｂ１は、上記酸性基を有する繰り返し単位、又は、上記酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」という記載によって、令和４年５月１１日付け取消理由通知書の理由３を解消することを図るための訂正であり、以下の理由により特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 すなわち、訂正前の請求項１には、令和４年５月１１日付け取消理由通知書の理由３に記載したとおり、「樹脂（Ａ）は、酸性基を有する繰り返し単位と、酸分解性基を有する繰り返し単位とを含むことが規定されている。次いで、樹脂（Ａ）が、ホモポリマーとしたときのガラス転移温度が５０℃以下であるモノマーを由来とする繰り返し単位Ｂ１を有することが規定されている。樹脂（Ａ）は、酸性基を有する繰り返し単位と、酸分解性基を有する繰り返し単位と、該繰り返し単位Ｂ１との少なくとも３つの繰り返し単位を有する樹脂であるのか、該繰り返し単位Ｂ１が、酸性基を有する繰り返し単位、又は、酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、２つの繰り返し単位を有する樹脂であってもよいのか明確ではない。」という二とおりの意味に理解し得る不明確な記載があったところ、本件訂正により「前記繰り返し単位Ｂ１は、前記酸性基を有する繰り返し単位、又は、前記酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」が追記されたことから、後者の意味であることを明確にしたものであって、「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 さらに、訂正事項１Ａの上記１（１）ア（ウ）は、「全繰り返し単位に対して２０モル％超」に「２７モル％以下」を追記することで、「全繰り返し単位に対する酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量」を限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 （イ）新規事項追加の有無、特許請求の範囲の実質拡張変更の存否 上記１（１）ア（ア）は「感活性光線性又は感放射線性組成物」から本件除外事項を除外するものであって、新たな技術的事項を導入しないものであるから、特許法第１２０条の５第９項で準用する特許法第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。 上記１（１）ア（イ）については、本件特許明細書の段落【０００８】における推定メカニズム記載「樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）を一定以下にすることで、パターンの断面形状の矩形性を維持したまま、解像性を改善させ、かつ真空処理後の膜剥がれを抑制できることを見出した。」からすると、樹脂のＴｇが一定以下になるように繰り返し単位及びその組成比を調整することができれば、Ｔｇを低下させる繰り返し単位が酸性基を有する繰り返し単位又は酸分解性基を有する繰り返し単位と同一であろうとなかろうと問題ないと判断できるものであって、「前記繰り返し単位Ｂ１は、前記酸性基を有する繰り返し単位、又は、前記酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」を追加することは、新規事項の追加には当たらない。また、二とおりの意味に理解し得る不明確な記載であったものを一方の意味であることに明確化したものであるから、特許請求の範囲の実質拡張変更にも当たらない。したがって、特許法第１２０条の５第９項で準用する特許法第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。 上記１（１）ア（ウ）は「全繰り返し単位に対して２０モル％超」に「２７モル％以下」を追記することで、「全繰り返し単位に対する酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量」を限定するものであり、本件特許明細書の段落【００６６】の記載に照らし、特許法第１２０条の５第９項で準用する特許法第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。 イ 訂正事項１Ｂについて （ア）訂正の目的 訂正事項１Ｂは、訂正事項１Ａに係る訂正に伴い特許請求の範囲の記載と明細書の記載との整合を図るための訂正であるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 （イ）新規事項追加の有無、特許請求の範囲の実質拡張変更の存否 上記ア（イ）で述べた理由により、訂正事項１Ｂは特許法第１２０条の５第９項で準用する特許法第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。 ウ 小括 したがって、訂正事項１は、訂正要件を満たす。 （２）訂正事項２について ア 訂正事項２Ａについて （ア）訂正の目的 訂正事項２Ａの上記１（２）ア（ア）は、「（但し、本件除外事項を除く）」という記載によって、「感活性光線性又は感放射線性組成物」から本件除外事項の組成物を除外するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 また、訂正事項２Ａの上記１（２）ア（イ）は、「前記炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位は、前記酸性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」という記載によって、令和４年５月１１日付け取消理由通知書の理由３を解消することを図るための訂正であり、以下の理由により特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 すなわち、訂正前の請求項２には、令和４年５月１１日付け取消理由通知書の理由３に記載したとおり、「樹脂（Ａ）は、酸性基を有する繰り返し単位と、酸分解性基を有する繰り返し単位と、炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位との少なくとも３つの繰り返し単位を有する樹脂であるのか、該炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位が、酸性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、２つの繰り返し単位を有する樹脂も含まれるのか明確ではない。」という二とおりの意味に理解し得る不明確な記載があったところ、本件訂正により「上記炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位は、上記酸性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」が追記されたことから、後者の意味であることを明確にしたものであって、「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 訂正事項２Ａの上記１（２）ア（ウ）は「全繰り返し単位に対して２０モル％超」に「２７モル％以下」を追記することで、「全繰り返し単位に対する酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量」を限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 （イ）新規事項追加の有無、特許請求の範囲の実質拡張変更の存否 上記１（２）ア（ア）は、「感活性光線性又は感放射線性組成物」から本件除外事項を除外するものであって、新たな技術的事項を導入しないものであるから、特許法第１２０条の５第９項で準用する特許法第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。 上記１（２）ア（イ）については、本件特許明細書の段落【０００８】に「本発明者らは、樹脂中の酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量をより多くしたことで、溶解コントラストを向上させ、解像性が向上したと推定している。また、樹脂のＴｇを一定以下としたことで、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物により形成された膜の流動性が高くなり、溶剤の揮発性が向上し、その結果、膜剥がれの原因となる膜中の残留溶剤量が減少し、真空処理後の膜剥がれが抑制されたと推定している。」と記載されていることから、溶剤の揮発性を向上することでその結果、膜剥がれの原因となる膜中の残留溶剤量が減少し、真空処理後の膜剥がれが抑制されるというメカニズムを推定することができる。そして、本件特許明細書の段落【００２９】における「繰り返し単位Ｂ１としては、残留溶剤をより揮発しやすくできる点で、ヘテロ原子を含んでいてもよい、炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位であることが好ましい。」との記載からして、溶剤の揮発性が向上し残存溶剤量を減少させることができれば、上記炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位は、上記酸性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であろうとなかろうと問題ないと判断できるものであって、「炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位を有し、」という記載の後に「前記炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位は、前記酸性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」を追加することは、新規事項の追加には当たらない。また、二とおりの意味に理解し得る不明確な記載であったものを一方の意味であることに明確化したものであるから、特許請求の範囲の実質拡張変更にも当たらない。したがって、特許法第１２０条の５第９項で準用する特許法第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。 上記１（２）ア（ウ）は「全繰り返し単位に対して２０モル％超」に「２７モル％以下」を追記することで、「全繰り返し単位に対する酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量」を限定するものであり、本件特許明細書の段落【００６６】の記載に照らし、特許法第１２０条の５第９項で準用する特許法第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。 イ 訂正事項２Ｂについて （ア）訂正の目的 訂正事項２Ｂは、訂正事項２Ａに係る訂正に伴い特許請求の範囲の記載と明細書の記載との整合を図るための訂正であるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 （イ）新規事項追加の有無、特許請求の範囲の実質拡張変更の存否 上記（２）ア（イ）で述べた理由と同様の理由により、訂正事項２Ｂは特許法第１２０条の５第９項で準用する特許法第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。 ウ 小括 したがって、訂正事項２は、訂正要件を満たす。 （３）訂正事項３について ア 訂正事項３Ａについて （ア）訂正の目的 訂正事項３Ａの上記１（３）ア（ア）は、「（但し、本件除外事項を除く）」という記載によって、「感活性光線性又は感放射線性組成物」から本件除外事項の組成物を除外するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 また、訂正事項３Ａの上記１（３）ア（イ）は、「前記繰り返し単位ＢＣ１は、前記酸性基を有する繰り返し単位、又は、前記酸分柑性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」という記載によって、令和４年５月１１日付け取消理由通知書の理由３を解消することを図るための訂正であり、以下の理由により特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 すなわち、訂正前の請求項３には、令和４年５月１１日付け取消理由通知書の理由３に記載したとおり、「樹脂（Ａ）は、酸性基を有する繰り返し単位と、酸分解性基を有する繰り返し単位と、ハンセン溶解度パラメーターが１９．５（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下であり、かつ、ホモポリマーとしたときのガラス転移温度が５０℃以下であるモノマーを由来とする繰り返し単位ＢＣ１との少なくとも３つの繰り返し単位を有する樹脂であるのか、該繰り返し単位ＢＣ１を有する繰り返し単位が、酸性基を有する繰り返し単位、又は、酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、２つの繰り返し単位を有する樹脂も含まれるのか明確ではない。」という二とおりの意味に理解し得る不明確な記載があったところ、本件訂正により「上記繰り返し単位ＢＣ１は、上記酸性基を有する繰り返し単位、又は、上記酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」が追記されたことから、後者の意味であることを明確にしたものであって、「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 訂正事項３Ａの上記１（３）ア（ウ）は、「全繰り返し単位に対して２０モル％超」に「２７モル％以下」を追記することで、「全繰り返し単位に対する酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量」を限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。 （イ）新規事項追加の有無、特許請求の範囲の実質拡張変更の存否 上記１（３）ア（ア）は、「（但し、本件除外事項を除く）」という記載によって、「感活性光線性又は感放射線性組成物」から本件除外事項の組成物を除外するものであって、新たな技術的事項を導入しないものであるから、特許法第１２０条の５第９項で準用する特許法第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。 上記１（３）ア（イ）については、本件特許明細書の段落【０００８】に「本発明者らは、樹脂中の酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量をより多くしたことで、溶解コントラストを向上させ、解像性が向上したと推定している。また、樹脂のＴｇを一定以下としたことで、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物により形成された膜の流動性が高くなり、溶剤の揮発性が向上し、その結果、膜剥がれの原因となる膜中の残留溶剤量が減少し、真空処理後の膜剥がれが抑制されたと推定している。」とあることから、膜剥がれの原因となる膜中の残留溶剤量が減少し、真空処理後の膜剥がれが抑制されるというメカニズムを推定することができる。そして、本件特許明細書の段落【００４３】における「樹脂（Ａ）のハンセン溶解度パラメーターは２０．５（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下であることで、膜中の残留溶剤量を更に低減することができるため、真空処理後の膜剥がれをより抑制することができる。また、パターンの断面形状の矩形性を改良することができる。」との記載からして、膜中の残留溶剤量を減少させることができれば、繰り返し単位ＢＣ１は、上記酸性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であろうとなかろうと問題ないと判断できるものであって、「繰り返し単位ＢＣ１を有し、」という記載の後に「上記繰り返し単位ＢＣ１は、上記酸性基を有する繰り返し単位、又は、上記酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、」を追記することは、新規事項の追加には当たらない。また、二とおりの意味に理解し得る不明確な記載であったものを一方の意味であることに明確化したものであるから、特許請求の範囲の実質拡張変更にも当たらない。したがって、特許法第１２０条の５第９項で準用する特許法第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。 上記１（３）ア（ウ）は「全繰り返し単位に対して２０モル％超」に「２７モル％以下」を追記することで、「全繰り返し単位に対する酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量」を限定するものであり、本件特許明細書の段落【００６６】の記載に照らし、特許法第１２０条の５第９項で準用する特許法第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。 イ 訂正事項３Ｂについて （ア）訂正の目的 訂正事項３Ｂは、訂正事項３Ａに係る訂正に伴い特許請求の範囲の記載と明細書の記載との整合を図るための訂正であるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。 （イ）新規事項追加の有無、特許請求の範囲の実質拡張変更の存否 上記（３）ア（イ）で述べた理由と同様の理由により、訂正事項３Ｂは特許法第１２０条の５第９項で準用する特許法第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。 ウ 小括 したがって、訂正事項３は、訂正要件を満たす。 （４）小括 以上（１）～（３）のとおり、本件訂正は、訂正要件を満たす。 したがって、明細書及び特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正明細書及び訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項［１～１６］について訂正することを認める。 第３ 本件訂正発明 本件訂正は上記第２のとおり認められたので、本件訂正後の請求項１～１６に係る発明（以下「本件訂正発明１」～「本件訂正発明１６」といい、これらを総称して「本件訂正発明」という。）は、訂正特許請求の範囲の請求項１～１６に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。 【本件訂正発明１】 樹脂（Ａ）及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、 前記樹脂（Ａ）は、酸性基を有する繰り返し単位と、酸分解性基を有する繰り返し単位とを含み、 前記酸性基を有する繰り返し単位の含有量が、前記樹脂（Ａ）中の全繰り返し単位に対して１５モル％以上であり、 前記酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量が、前記樹脂（Ａ）中の全繰り返し単位に対して２０モル％超２７モル％以下であり、 前記樹脂（Ａ）のガラス転移温度が１４５℃以下であり、 膜厚２μｍ以上の膜を形成するために用いられ、 前記樹脂（Ａ）が、ホモポリマーとしたときのガラス転移温度が５０℃以下であるモノマーを由来とする繰り返し単位Ｂ１を有し、 前記繰り返し単位Ｂ１は、前記酸性基を有する繰り返し単位、又は、前記酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、 前記活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（ＺＩ）、一般式（ＺＩＩ）又は一般式（ＺＩＩＩ）で表される化合物であり、 前記組成物が、溶剤を含有し、前記溶剤がアルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、アルキレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル、アルコキシプロピオン酸アルキル、２－へプタノン、及びアルコキシ酢酸アルキルからなる群より選ばれる少なくとも１種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物（但し、下記式（Ｎ１）～（Ｎ５）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｐ１）で表される化合物、及びトリｎ－ペンチルアミンを含有する組成物、下記式（Ｎ１Ａ）、及び式（Ｎ２）～（Ｎ５）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｐ１）で表される化合物、及びトリｎ－ペンチルアミンを含有する組成物、Ｒ４”ＳＯ３－ ［式中、Ｒ４”は、炭素数４の直鎖もしくは分岐状のアルキル基、または炭素数４の直鎖もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を表す］で表されるアニオン部を有するオニウム塩系光酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物、下記式（Ａ１）～（Ａ３）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｂ）－２で表される化合物、トリエチルアミン、及びサリチル酸を含有する組成物、下記式（Ａ１）～（Ａ３）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｂ）－４で表される化合物、トリエチルアミン、及びサリチル酸を含有する組成物、下記式（Ａ１）～（Ａ３）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｂ）－６で表される化合物、トリエチルアミン、及びサリチル酸を含有する組成物、ｐ－ヒドロキシスチレン、及びｔｅｒｔ－ブチルアクリレートからなる共重合体、トリフルオロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウム、及びトリエタノールアミンを含有するレジスト組成物、並びに、ｐ－ヒドロキシスチレン、及び １－エチル－１－シクロペンチルアクリレートからなる共重合体、トリフルオロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウム、及びトリエタノールアミンを含有するレジスト組成物を除く）。 【本件訂正発明２】 樹脂（Ａ）及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、 前記樹脂（Ａ）は、酸性基を有する繰り返し単位と、酸分解性基を有する繰り返し単位とを含み、 前記酸性基を有する繰り返し単位の含有量が、前記樹脂（Ａ）中の全繰り返し単位に対して１５モル％以上であり、 前記酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量が、前記樹脂（Ａ）中の全繰り返し単位に対して２０モル％超２７モル％以下であり、 前記樹脂（Ａ）のガラス転移温度が１４５℃以下であり、 膜厚２μｍ以上の膜を形成するために用いられ、 前記樹脂（Ａ）が、炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位を有し、 前記炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位は、上記酸性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、 前記活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（ＺＩ）、一般式（ＺＩＩ）又は一般式（ＺＩＩＩ）で表される化合物であり、 前記組成物が、溶剤を含有し、前記溶剤がアルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、アルキレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル、アルコキシプロピオン酸アルキル、２－へプタノン、及びアルコキシ酢酸アルキルからなる群より選ばれる少なくとも１種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物（但し、下記式（Ｎ１）～（Ｎ５）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｐ１）で表される化合物、及びトリｎ－ペンチルアミンを含有する組成物、下記式（Ｎ１Ａ）、及び式（Ｎ２）～（Ｎ５）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｐ１）で表される化合物、及びトリｎ－ペンチルアミンを含有する組成物、Ｒ４”ＳＯ３－ ［式中、Ｒ４”は、炭素数４の直鎖もしくは分岐状のアルキル基、または炭素数４の直鎖もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を表す］で表されるアニオン部を有するオニウム塩系光酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物、下記式（Ａ１）～（Ａ３）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｂ）－２で表される化合物、トリエチルアミン、及びサリチル酸を含有する組成物、下記式（Ａ１）～（Ａ３）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｂ）－４で表される化合物、トリエチルアミン、及びサリチル酸を含有する組成物、下記式（Ａ１）～（Ａ３）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｂ）－６で表される化合物、トリエチルアミン、及びサリチル酸を含有する組成物、ｐ－ヒドロキシスチレン、及びｔｅｒｔ－ブチルアクリレートからなる共重合体、トリフルオロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウム、及びトリエタノールアミンを含有するレジスト組成物、並びに、ｐ－ヒドロキシスチレン、及び １－エチル－１－シクロペンチルアクリレートからなる共重合体、トリフルオロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウム、及びトリエタノールアミンを含有するレジスト組成物を除く）。 【本件訂正発明３】 樹脂（Ａ）及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、 前記樹脂（Ａ）は、酸性基を有する繰り返し単位と、酸分解性基を有する繰り返し単位とを含み、 前記酸性基を有する繰り返し単位の含有量が、前記樹脂（Ａ）中の全繰り返し単位に対して１５モル％以上であり、 前記酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量が、前記樹脂（Ａ）中の全繰り返し単位に対して２０モル％超で２７モル％以下であり、 前記樹脂（Ａ）のガラス転移温度が１４５℃以下であり、 膜厚２μｍ以上の膜を形成するために用いられ、 前記樹脂（Ａ）が、ハンセン溶解度パラメーターが１９．５（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下であり、かつ、ホモポリマーとしたときのガラス転移温度が５０℃以下であるモノマーを由来とする繰り返し単位ＢＣ１を有し、 前記繰り返し単位ＢＣ１は、前記酸性基を有する繰り返し単位、又は、前記酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、 前記活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（ＺＩ）、一般式（ＺＩＩ）又は一般式（ＺＩＩＩ）で表される化合物であり、 前記組成物が、溶剤を含有し、前記溶剤がアルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、アルキレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル、アルコキシプロピオン酸アルキル、２－へプタノン、及びアルコキシ酢酸アルキルからなる群より選ばれる少なくとも１種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物（但し、下記式（Ｎ１）～（Ｎ５）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｐ１）で表される化合物、及びトリｎ－ペンチルアミンを含有する組成物、下記式（Ｎ１Ａ）、及び式（Ｎ２）～（Ｎ５）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｐ１）で表される化合物、及びトリｎ－ペンチルアミンを含有する組成物、Ｒ４”ＳＯ３－ ［式中、Ｒ４”は、炭素数４の直鎖もしくは分岐状のアルキル基、または炭素数４の直鎖もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を表す］で表されるアニオン部を有するオニウム塩系光酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物、下記式（Ａ１）～（Ａ３）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｂ）－２で表される化合物、トリエチルアミン、及びサリチル酸を含有する組成物、下記式（Ａ１）～（Ａ３）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｂ）－４で表される化合物、トリエチルアミン、及びサリチル酸を含有する組成物、下記式（Ａ１）～（Ａ３）で表される繰り返し単位を有する共重合体、下記（Ｂ）－６で表される化合物、トリエチルアミン、及びサリチル酸を含有する組成物、ｐ－ヒドロキシスチレン、及びｔｅｒｔ－ブチルアクリレートからなる共重合体、トリフルオロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウム、及びトリエタノールアミンを含有するレジスト組成物、並びに、ｐ－ヒドロキシスチレン、及び １－エチル－１－シクロペンチルアクリレートからなる共重合体、トリフルオロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウム、及びトリエタノールアミンを含有するレジスト組成物を除く）。 【本件訂正発明４】 前記酸性基が、カルボキシル基、フェノール性水酸基、又はスルホ基である請求項１～３のいずれか１項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【本件訂正発明５】 前記樹脂（Ａ）が有する繰り返し単位のいずれか少なくとも１種が芳香環を有する請求項１～４のいずれか１項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【本件訂正発明６】 前記酸性基を有する繰り返し単位の含有量が、前記樹脂（Ａ）中の全繰り返し単位に対して４５モル％以上である請求項１～５のいずれか１項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【本件訂正発明７】 前記樹脂（Ａ）のハンセン溶解度パラメーターが２０．５（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下である請求項１～６のいずれか１項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【本件訂正発明８】 前記繰り返し単位Ｂ１、又はＢＣ１が、ホモポリマーとしたときのガラス転移温度が－２０℃以下であるモノマーを由来とする繰り返し単位である請求項１、３～７のいずれか１項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【本件訂正発明９】 前記繰り返し単位Ｂ１、又はＢＣ１が、ハンセン溶解度パラメーターが１６．０（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下のモノマーを由来とする繰り返し単位である請求項１、３～８のいずれか１項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【本件訂正発明１０】 前記繰り返し単位Ｂ１、又はＢＣ１が、下記一般式（１－２）で表される繰り返し単位である請求項１、３～９のいずれか１項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【本件訂正発明１１】 前記繰り返し単位Ｂ１、又はＢＣ１の含有量が、前記樹脂（Ａ）中の全繰り返し単位に対して５モル％以上である請求項１、３～１０のいずれか１項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【本件訂正発明１２】 前記樹脂（Ａ）が、下記一般式（１－２）で表される繰り返し単位、下記一般式（１－３）で表される繰り返し単位、及び下記一般式（１－４）で表される繰り返し単位を含有する、請求項１～１１のいずれか１項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【本件訂正発明１３】 前記活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物が下記一般式（ＺＩ－３）で表される化合物である請求項１～１２のいずれか１項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【本件訂正発明１４】 請求項１～１３のいずれか１項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いてレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、 前記レジスト膜を露光する露光工程と、 露光された前記レジスト膜を、現像液を用いて現像する現像工程と、を含むパターン形成方法。 【本件訂正発明１５】 請求項１４に記載のパターン形成方法を含む、電子デバイスの製造方法。 【本件訂正発明１６】 請求項１～１３のいずれか１項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物により形成する膜厚が２μｍ以上のレジスト膜の製造方法。 なお、【化１】～【化１８】は省略する。 第４ 取消理由通知（決定の予告）に記載した取消理由 本件訂正前の請求項１～１６に係る特許に対して、当審が令和４年１０月１７日付けで特許権者に通知した取消理由（決定の予告）の要旨は、次のとおりである。 請求項１～１６に係る発明は、甲７に記載された発明であり、また、甲７に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。よって、請求項１～１６に係る特許は、特許法第２９条第１項および第２項の規定に違反してされたものであり、取り消されるべきものである。 引用文献等一覧 甲７ 国際公開第２００５／１０５８６９号 第５ 当審の判断 １ 甲７の記載及び甲７に記載された発明の認定 （１）甲７の記載 甲７には、以下の記載がある。なお、下線は引用発明の認定及び判断で活用した箇所であって、当審で付したものである。 [0001] 本発明は、半導体リソグラフィ一において使用されるレジスト膜、反射防止膜および 多層レジストの下層膜等の塗膜形成用として好適な共重合体とその製造方法、および該共重合体を含んでなる半導体リソグラフィー用組成物に関する。 [0062] （４）レジストパターン評価 共重合体 ６０重量部、ＰＧＭＥＡ３６０重量部からなる １５重量％ＰＧＭＥＡ溶液に、光酸発生剤としてトリフルォロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウム１．０重量部、トリエタノールアミン０．１重量部を加えて溶解し、０．０５μｍのメンブランフィルターでろ過してレジスト組成物を調製した。このレジスト組成物をＳｉウェハー上にスピンコーティングし、ホットプレート上で１２０℃、９０秒間乾燥させて、膜厚５００ｍのレジスト薄膜を調製した。ＫｒＦエキシマレーザーステッパー（ニコン社製ＮＡ＝０．６)を用いて 露光し、露光後、直ちに １２０℃で９０秒間ベークした。次いで、２．３８重量％の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いて、室温で６０秒間現像し、次いで純水でリンスしてレジストパターンを得た。２００ｎｍのラインアンドスペースパターン（１：１）を得るための最適露光量を求め、これを感度とした。また、その時のパターン形状を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察した。感度とパターン形状の観察結果を表１にまとめた。 [0063］ (実施例１) 窒素雰囲気に保ったモノマー溶液調製槽にｐ－ヒドロキシスチレン (以下、「ＰＨＳ」と記す。）２４％、メタノール２３％、水１０％を含むｐ－エチルフエノール溶液１５８ｋｇ、ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート１９．０ｋｇ、 ＡＩＢＮ１．５ｋｇを仕込んで溶解し、モノマー溶液を調製した。このモノマー溶液３５ｋｇを重合槽に移送し、撹拌しながら８０℃に昇温した後、残りのモノマー溶液を２時間かけて８０℃に保った重合槽内に供給して重合させた。供給終了後、重合温度を８０℃に保ったまま２時間熟成させ、室温まで冷却した。得られた重合液をトルエン６２０ｋｇに滴下してポリマーを沈殿させた後、上澄みを除去した。次いで、メタノール３６ｋｇで溶解し、トルエン６２０ｋｇに再沈殿させ、上澄みを除去する操作を２回繰り返した後、メタノール９０ｋｇに再溶解した。さらに、水５５ｋｇを加えて再沈殿させ、上澄み液を除去した後、メタノール９０ｋｇで再溶解させる操作を２回繰り返し、得られたメタノール溶液を、キュノ製フィルター４０ＱＳＨに通液した。通液後のメタノール溶液の一部をサンプリングし、減圧乾燥器にて乾燥し、得られた淡黄色固体を１３Ｃ－ＮＭＲと ＧＰＣ－ＩＲにて分析し、共重合体の平均組成と Ｍｗ、Ｍｗ／Ｍｎ、共重合体ピークの５％に相当する低分子量域での共重合体組成を求めた。また、残りのメタノール溶液を減圧下で加熱してメタノールなどの低沸点溶媒を追い出しながらプロピレングリコールメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」と記す 。）を投入し、共重合体１５％を含むＰＧＭＥＡ溶液を調製した。その後、上記（４）に記載した方法でレジスト組成物を調製し、レジストパターン評価を行った。結果を表１に示した。 ［0071］ 表１ ［図：0001399333000001.jpg］ （２）甲７発明 上記（１）より、甲第７号証には、実施例１に係る以下の発明（以下「甲７発明」という。）が記載されていると認められる。 なお、参考までに、証拠に記載された発明等の認定に用いた当該証拠中の記載等に係る箇所を括弧内に付している。 （甲７発明） 「ｐ－ヒドロキシスチレンとｔｅｒｔ－ブチルアクリレートとを重合して得られる共重合体（モル％比 ＰＨＳ：ＴＢＡ＝６５．４：３４．６）と、ＰＧＭＥＡとを含有するレジスト組成物であって、（［0063］） 光酸発生剤としてトリフルオロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウムを含み、トリエタノールアミンを含み、膜厚５００μｍのレジスト薄膜を調製するために用いられるレジスト組成物。（［0062］）」 ３ 本件訂正発明１ （１）対比 甲７発明の「ｐ－ヒドロキシスチレン」は、本件訂正発明１の「酸性基を有する繰り返し単位」に相当する。 甲７発明の「ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート」は、本件訂正発明１の「酸分解性基を有する繰り返し単位」に相当する。 甲７発明の「ｐ－ヒドロキシスチレンとｔｅｒｔ－ブチルアクリレートとを重合して得られる共重合体」は、本件訂正発明１の「樹脂Ａ」に相当する。 甲７発明の「ＰＨＳ：ＴＢＡ＝６５．４：３４．６」は、ｐ－ヒドロキシスチレン：ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート＝６５．４：３４．６の意味であることは明らかであり、本件訂正発明１の「酸性基を有する繰り返し単位の含有量が、前記樹脂（Ａ）中の全繰り返し単位に対して１５モル％以上であり、」に相当する。 甲７発明の「ＰＧＭＥＡ」は、本件訂正発明１の「アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート」に相当する。 甲７発明の「光酸発生剤」としての「トリフルオロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウム」は、本件訂正発明１の「活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物」としての「一般式（Ｚ１）で表される化合物」に相当する。 甲７発明の「膜厚５００μｍのレジスト薄膜を調整するために用いられる」は、本件訂正発明１の「膜厚２μｍ以上の膜を形成するために用いられ」に相当する。 とすると、本件訂正発明１と甲７発明とを対比すると、両者は以下の点で一致し、また一応相違する。 （一致点） 樹脂（Ａ）及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、 前記樹脂（Ａ）は、酸性基を有する繰り返し単位と、酸分解性基を有する繰り返し単位とを含み、 前記酸性基を有する繰り返し単位の含有量が、前記樹脂（Ａ）中の全繰り返し単位に対して１５モル％以上であり、 膜厚２μｍ以上の膜を形成するために用いられ、 前記活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（ＺＩ）、一般式（ＺＩＩ）又は一般式（ＺＩＩＩ）で表される化合物であり、 前記組成物が、溶剤を含有し、前記溶剤がアルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、アルキレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル、アルコキシプロピオン酸アルキル、２－へプタノン、及びアルコキシ酢酸アルキルからなる群より選ばれる少なくとも１種の溶剤である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （相違点１） 本件訂正発明１では、樹脂（Ａ）が、ホモポリマーとしたときのガラス転移温度が５０℃以下であるモノマーを由来とする繰り返し単位Ｂ１を有するが、甲７発明は当該繰り返し単位Ｂ１を有するが不明である点。 （相違点２） 本件訂正発明１では、樹脂（Ａ）のガラス転移温度が１４５℃以下であるのに対し、甲７発明では、共重合体のガラス転移温度が不明である点。 （相違点３） 本件訂正発明１では、酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量が前記樹脂（Ａ）中の全繰り返し単位に対して２０モル％超２７モル％以下であるのに対し、甲７発明では３４.７モル％である点。 （相違点４） 甲７発明は、本件除外事項とされた組成物である「ｐ－ヒドロキシスチレン、及びtert－ブチルアクリレートからなる共重合体、トリフルオロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウム、及びトリエタノールアミンを含有するレジスト組成物」に包含されることから、本件訂正発明１では本件除外事項が除かれているのに対し、甲７発明は本件訂正発明１の「（但し、本件除外事項を除く）」との要件を満たさない点。 （２）判断 事案に鑑み、相違点４、２について検討する。 甲７発明は「ｐ－ヒドロキシスチレンとｔｅｒｔ－ブチルアクリレートとを重合して得られる共重合体（モル％比 ＰＨＳ：ＴＢＡ＝６５．４：３４．６）と、ＰＧＭＥＡとを含有するレジスト組成物であって、光酸発生剤としてトリフルオロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウムを含み、トリエタノールアミンを含み、膜厚５００μｍのレジスト薄膜を調製するために用いられるレジスト組成物。」であり、本件訂正発明１の樹脂組成物から除外されている「ｐ－ヒドロキシスチレン、及びtert－ブチルアクリレートからなる共重合体、トリフルオロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウム、及びトリエタノールアミンを含有するレジスト組成物」に該当することは明らかである。とすると、甲７発明のいずれかの構成要素自体を削除または構成要素を別異の構成要素に変更しない限り、当業者が如何にしても甲７発明から本件訂正発明１に到達することはない。そして、甲第７号証全体の記載を参酌しても、これらいずれかの構成要素を削除または変更する動機は見当たらない。したがって、当業者が甲７発明から相違点４に係る構成に到達するとは認められない。 また、仮にいずれかの構成要素を削除または構成要素を別異の構成要素に変更したとしても、当該変更によりレジスト組成物のガラス転移温度に影響があると認められ、その場合のレジスト組成物のガラス転移温度が１４５℃以下であるかは不明である。したがって、当業者が甲７発明から相違点２に係る構成に到達するとは認められない。 したがって、その他の相違点について検討するまでもなく、本件訂正発明発明１は、当業者が甲７発明から容易になし得たものではない。 ４ 本件訂正発明２～１６ 本件訂正発明２～１６と甲７発明とを対比すると、いずれの場合においても上記３（１）で述べた相違点４、２が存在する。そして、それに対する判断は上記３（２）で述べたとおりである。とすると、本件訂正発明２～１６は甲７発明ではないし、当業者が甲７発明から容易になし得たものでもない。 第６ 取消理由通知（決定の予告）において採用しなかった申立理由について １ 特許異議申立人の申立理由 特許異議申立人は、特許異議申立書で以下（１）～（３）の申立をし、また、令和５年２月２４日付け意見書で以下（４）～（５）の申立をしている。 （１）本件訂正前の請求項１～１６に係る発明は、それぞれ甲第１号証（特開２０１５－１９４７１５号公報）の比較例１、２から、甲第２号証（特開２０１４－１０６３０６号公報）の実施例１の上層膜形成用のポジ型レジスト組成物に係る発明から、甲第３号証（特開２００７－２０６４２５号公報）の実施例１から、新規性、進歩性が欠如する。 （２）本件訂正前の請求項１において、「繰り返し単位Ｂ１」が、酸性基を有する繰り返し単位、又は、酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよく、２つの繰り返し単位を有する樹脂であってもよいのか否かが明確ではない。本件訂正前の請求項２における「炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位」や本件訂正前の請求項３における「繰り返し単位ＢＣ１」についても同様である。 （３）本件訂正前の請求項１において、「繰り返し単位Ｂ１」が、酸性基を有する繰り返し単位、又は、酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であり、樹脂（Ａ）が、２つの繰り返し単位を有する樹脂である場合にも、実施例１と同様に本件発明の効果が奏されるとは、当業者には理解できず、サポート要件や実施可能要件が満たされていない。本件訂正前の請求項２における「炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位」や本件訂正前の請求項３における「繰り返し単位ＢＣ１」についても同様である。 （４）本件訂正発明１～１６は甲第８号証から新規性、進歩性が欠如する。 （５）本件訂正発明１～１６では、甲第１号証の比較例が除かれた組成物であればなぜレジストパターンが形成できるかについて、本件明細書等に記載がなく、実施可能要件が満たされていない。 ２ 判断 上記１（１）～（５）についての判断は以下のとおりである。 （１）について 本件訂正により、甲第１号証の比較例１、２、甲第３号証の実施例１は本件訂正発明１～１６から除かれており、甲第１号証の比較例１、２に係る発明、甲第３号証の実施例１に係る発明のいずれかの構成要素自体を削除または構成要素を別異の構成要素に変更しない限り、当業者が如何にしても甲第１号証の比較例１、２に係る発明、甲第３号証の実施例１に係る発明から本件訂正発明１に到達することはない。そして、甲第１号証、甲第２号証全体の記載を参酌しても、甲第１号証の比較例１、２に係る発明、甲第３号証の実施例１に係る発明のいずれかの構成要素を削除または変更する動機は見当たらない。 また、仮に甲第１号証の比較例１、２に係る発明、甲第３号証の実施例１に係る発明のいずれかの構成要素を削除または構成要素を別異の構成要素に変更したとしても、当該変更によりレジスト組成物のガラス転移温度に影響があると認められ、その場合のレジスト組成物のガラス転移温度が１４５℃以下であるかは不明である。 したがって、本件訂正発明１～１６は甲第１号証の比較例１、２に係る発明、甲第３号証の実施例１に係る発明から新規性、進歩性を否定されない。 また、甲第２号証については、異議申立人は酸性基を有する繰り返し単位の含有量は５９．６モル％、酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量は２３．３モル％であると主張するが（異議申立書ｐ５２、ｐ５３）、これは樹脂Ｂにおける含有量であって、実施例１の上層膜形成用のポジ型レジスト組成物における含有量ではない。そして、実施例１の上層膜形成用のポジ型レジスト組成物は樹脂Ａを５０質量％、樹脂Ｂを２０質量％、樹脂Ｃを３０質量％含むものであって、酸性基を有する繰り返し単位や酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量は、それぞれ６５．１モル％、１１．４モル％であり、本件訂正発明１～１６の特定を満たさない。したがって、本件訂正発明１～１６は甲第２号証の実施例１や樹脂Ｂから新規性、進歩性を否定されない。また、実施例３の上層膜形成用のポジ型レジスト組成物についても同様である。 （２）について 本件訂正により、「繰り返し単位Ｂ１は、上記酸性基を有する繰り返し単位、又は、上記酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよ」いことが明確になった。同様に「炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位」や「繰り返し単位ＢＣ１」についても「酸性基を有する繰り返し単位、又は、上記酸分解性基を有する繰り返し単位と同一の繰り返し単位であってもよ」いことが明確になった。これにより上記１（２）で主張する明確性違反は明らかに解消している。 （３）について 上記第２の２（１）ア（イ）でのべたとおり、本件特許明細書の段落【０００８】における推定メカニズム記載「樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）を一定以下にすることで、パターンの断面形状の矩形性を維持したまま、解像性を改善させ、かつ真空処理後の膜剥がれを抑制できることを見出した。」からすると、樹脂のＴｇが一定以下になるように繰り返し単位及びその組成比を調整することができれば、Ｔｇを低下させる繰り返し単位が酸性基を有する繰り返し単位又は酸分解性基を有する繰り返し単位と同一であろうとなかろうと問題ないと判断できる。 「炭素数が４以上の非酸分解性鎖状アルキル基を有する繰り返し単位」や「繰り返し単位ＢＣ１」についても、上記第２の２（２）ア（イ）、第２の２（３）ア（イ）に述べたとおりである。よって、上記１（３）で主張するサポート要件違反や実施可能要件違反はない。 （４）（５）について これらの主張は、実質的に新たな理由及び証拠を提示しており、特許異議の申立て期間が特許掲載公報発行の日から６月以内に制限されている趣旨を踏まえ、採用しない。 第７ むすび 以上のとおりであるから、取消理由通知に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した特許異議申立理由によっては、本件訂正発明１～１６に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に本件訂正発明１～１６を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。