2021-701204

特許第６８９０２１６号発明「粘着シート」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第６８９０２１６号の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正明細書および訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１～１９〕について訂正することを認める。 特許第６８９０２１６号の請求項１～３、６～１９に係る特許を維持する。 特許第６８９０２１６号の請求項４、５に係る特許についての特許異議の申立てを却下する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第６８９０２１６号の請求項１～１９に係る特許についての出願は、２０２０年（令和２年）１１月３０日（優先権主張 ２０１９年（令和元年）１２月２０日、２０２０年（令和２年）７月１日）、いずれも日本国）を国際出願日とする出願であって、令和３年５月２６日にその特許権の設定登録がされ、同年６月１８日に特許掲載公報が発行された。その後、その特許に対する特許異議申立の経緯は、以下のとおりである。 令和３年１２月１７日 特許異議申立人森川真帆（以下、「申立人」という。）による特許異議の申立て 令和４年５月２６日付け 取消理由通知 同年７月２６日 意見書の提出及び訂正の請求（特許権者） 同年９月２日 意見書の提出（申立人） 第２ 訂正の可否についての判断 １ 訂正の内容 令和４年７月２６日付けの訂正の請求（以下、「本件訂正」ともいう。）は、特許請求の範囲及び明細書の訂正に係るものであって、その内容は、下記のとおりである。 なお、特許請求の範囲の訂正は、請求項１の訂正に係るものを含むところ、訂正前の請求項２～１９は、請求項１の記載を直接又は間接的に引用する関係にあり、本件訂正は、一群の請求項である請求項１～１９について訂正が請求されている。 また、明細書の訂正は、全ての請求項に係るものであるところ、本件訂正は、全請求項について訂正が請求されている。 訂正事項アー１ 特許請求の範囲の請求項１に「ガス発生層と、ガス発生層の少なくとも片側に配置されたガスバリア層とを含む粘着シートであって、 該ガスバリア層が、該粘着シートへのレーザー光照射により、その表面が変形する層であり、 該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（１）で算出される値以下であり、かつ、 該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（２）で算出される値以上である、粘着シート； ３５０１１×ＥＸＰ（－０．８１２×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（１） ２００８１×ＥＸＰ（－１．１４５×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（２） Ｅｒは、ガスバリア層の高弾性部分の２５℃におけるナノインデンテーション法による弾性率（ＭＰａ）である、 粘着シート。」と記載されているのを、 「ガス発生層と、ガス発生層の少なくとも片側に配置されたガスバリア層とを含む粘着シートであって、 該ガスバリア層が、該粘着シートへのレーザー光照射により、その表面が変形する層であり、 該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、７μｍ～５０μｍであり、 該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（１）で算出される値以下であり、かつ、 該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（２）で算出される値以上であり、 該ガスバリア層が、粘着剤層および中間層を含む、粘着シート； ３５０１１×ＥＸＰ（－０．８１２×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（１） ２００８１×ＥＸＰ（－１．１４５×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（２） Ｅｒは、ガスバリア層の高弾性部分の２５℃におけるナノインデンテーション法による弾性率（ＭＰａ）である、 粘着シート。」に訂正する（請求項１を引用する請求項２、３及び６～１９も同様に訂正する。）。 訂正事項ア－２ 特許請求の範囲の請求項４および５を削除する。 また、請求項６～１３および１５において、従属関係を整える次の訂正を行う。 訂正前の請求項６に「請求項１から５のいずれかに」と記載されているのを、「請求項１から３のいずれかに」と訂正する。 訂正前の請求項７に「請求項１から６のいずれかに」と記載されているのを、「請求項１から３および６のいずれかに」と訂正する。 訂正前の請求項８に「請求項１から７のいずれかに」と記載されているのを、「請求項１から３、６および７のいずれか」と訂正する。 訂正前の請求項９に「請求項１から８のいずれかに」と記載されているのを、「請求項１から３、請求項６から８のいずれか」と訂正する。 訂正前の請求項１０に「請求項１から９のいずれかに」と記載されているのを、「請求項１から３、請求項６から９のいずれか」と訂正する。 訂正前の請求項１１に「請求項５から１０のいずれかに」と記載されているのを、「請求項１から３、請求項６から１０のいずれか」と訂正する。 訂正前の請求項１２に「請求項５から１１のいずれかに」と記載されているのを、「請求項１から３、請求項６から１１のいずれか」と訂正する。 訂正前の請求項１３に「請求項５から１０のいずれかに」と記載されているのを、「請求項１から３、請求項６から１０のいずれか」と訂正する。 訂正前の請求項１５に「請求項１から１４のいずれかに」と記載されているのを、「請求項１から３、請求項６からのいずれか」と訂正する。 訂正事項イ 明細書の段落０１１５、０１１６、０１１８、０１１９、０１２２、０１２５、０１２８、０１３０に記載の実施例７、実施例８、比較例３および比較例６を削除する訂正を行う。 また、明細書の段落０１２９の表４を削除する訂正を行う。 また、明細書の段落０１０９、０１１０、０１２１、０１２８における「実施例１」の記載を「参考例１」とする訂正を行う。 また、明細書の段落０１１０、０１２３および０１２８における「実施例２」の記載を「参考例２」とする訂正を行う。 ２ 訂正の目的の適否、新規事項の有無及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否 （１） 訂正事項ア－１について 訂正事項アー１は、本件訂正前の特許請求の範囲の請求項１の「ガスバリア層」について、本件訂正前の本件特許の願書に添付した明細書（以下、「本件特許明細書」ともいう。）の発明の詳細な説明の段落【００１０】の「１つの実施形態においては、ガスバリア層２０は、粘着剤層２１を含む。」、段落【００１３】の「図２は、本発明の別の実施形態による粘着シートの概略断面図である。粘着シート２００において、ガスバリア層２０は、中間層２２をさらに含む。」、段落【００１７】の「本明細書において、「ガスバリア層の高弾性部分」とは、ガスバリア層が単層構成である場合（例えば、粘着剤層単層で構成される場合）にはガスバリア層そのもの（粘着剤層単層で構成される場合には粘着剤層）を意味し、ガスバリア層が複層構成である場合（例えば、粘着剤層と中間層とから構成される場合）には、弾性率が最も高い層を意味する。１つの実施形態においては、ガスバリア層が中間層と粘着剤層と含む場合、「ガスバリア層の高弾性部分の厚み」は中間層の厚みに相当し得、「ガスバリア層の高弾性部分の２５℃におけるナノインデンター法による弾性率」は、中間層の当該弾性率に相当し得る。」、段落【００８０】の「中間層の厚みは、好ましくは０．１μｍ～２００μｍであり、より好ましくは０．５μｍ～１００μｍであり、さらに好ましくは１μｍ～５０μｍであり、特に好ましくは１μｍ～３０μｍである。このような範囲であれば、ガスバリア層として良好に機能する中間層を形成することができる。」との記載、および、実施例４（段落【０１２８】の【表３】）において、中間層の厚みが７μｍであることに基づき、「該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、７μｍ～５０μｍであり」、および、「該ガスバリア層が、粘着剤層および中間層を含む」と限定をすることを目的とするものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。 また、上記のとおりであるから、訂正事項アー１は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内においてするものであって、実質的に特許請求の範囲を拡張・変更するものでもないことが明らかであるから、特許法第１２０条の５第９項において読み替えて準用する同法第１２６条第５、６項の規定に適合する。 （２） 訂正事項アー２について 訂正事項アー２は、要するに、請求項４および５を削除すること、請求項６～１０、１５において引用する請求項から請求項４および５を削除すること、および、請求項１１～１３において引用する請求項から請求項５を削除することを目的とするものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。 また、上記のとおりであるから、訂正事項アー２は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内においてするものであって、実質的に特許請求の範囲を拡張・変更するものでもないことが明らかであるから、特許法第１２０条の５第９項において読み替えて準用する同法第１２６条第５、６項の規定に適合する。 （３） 訂正事項イについて 訂正事項イは、訂正事項ア－１によって請求項１の範囲が減縮されることにともなって、本件特許明細書の発明の詳細な説明に記載されている実施例のうち、実施例１、２、７、８、１０、１１が実施例ではなくなるので、実施例１、２をそれぞれ参考例１、２とするとともに、実施例７、８、１０、１１を削除し、さらに、比較例３、６を削除することを目的とするものであるから、訂正事項イは、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に規定する、明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。 また、上記のとおりであるから、訂正事項イは、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内においてするものであって、実質的に特許請求の範囲を拡張・変更するものでもないことが明らかであるから、特許法第１２０条の５第９項において読み替えて準用する同法第１２６条第５、６項の規定に適合する。 ３ 小括 以上のとおり、本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項第１、３号に掲げる事項を目的とするものであり、特許法第１２０条の５第９項において読み替えて準用する同法第１２６条第５、６項の規定に適合するものである。 したがって、本件特許の明細書、特許請求の範囲を、本件訂正請求書に添付した訂正明細書、特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１～１９について訂正することを認める。 第３ 本件訂正発明 上記第２のとおり、本件訂正は認められたので、本件特許の特許請求の範囲の請求項１～１９に係る発明（以下、項番により「本件訂正発明１」などといい、まとめて、「本件訂正発明」ともいう。）は、その特許請求の範囲の請求項１～１９に記載された事項により特定される以下のとおりのものである。 「【請求項１】 ガス発生層と、ガス発生層の少なくとも片側に配置されたガスバリア層とを含む粘着シートであって、 該ガスバリア層が、該粘着シートへのレーザー光照射により、その表面が変形する層であり、 該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、７μｍ～５０μｍであり、 該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（１）で算出される値以下であり、かつ、 該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（２）で算出される値以上であり、 該ガスバリア層が、粘着剤層および中間層を含む、粘着シート； ３５０１１×ＥＸＰ（－０．８１２×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（１） ２００８１×ＥＸＰ（－１．１４５×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（２） Ｅｒは、ガスバリア層の高弾性部分の２５℃におけるナノインデンテーション法による弾性率（ＭＰａ）である、 粘着シート。 【請求項２】 前記ガス発生層が、紫外線吸収可能な層である、請求項１に記載の粘着シート。 【請求項３】 前記ガス発生層が、紫外線吸収剤を含む、請求項２に記載の粘着シート。 【請求項４】 （削除） 【請求項５】 （削除） 【請求項６】 前記ガスバリア層の高弾性部分のナノインデンテーション法による弾性率が、０．０１ＭＰａ～１０ＧＰａである、請求項１から３のいずれかに記載の粘着シート。 【請求項７】 前記ガスバリア層の厚みが、０．１μｍ～２００μｍである、請求項１から３および6のいずれかに記載の粘着シート。 【請求項８】 前記ガスバリア層へのレーザー光照射による前記ガスバリア層表面の変形量が、前記ガスバリア層の垂直変位で、０．６μｍ以上である、請求項１から３、６および７のいずれかに記載の粘着シート。 【請求項９】 前記粘着シートの突き刺し強度が、１０ｍＮ～５０００ｍＮである、請求項１から３および６から８のいずれかに記載の粘着シート。 【請求項１０】 前記粘着シートの法線方向の伸びが、０．１ｍｍ以上である、請求項１から３および６から９のいずれかに記載の粘着シート。 【請求項１１】 前記中間層が、熱可塑性樹脂を含む、請求項１から３および６から１０のいずれかに記載の粘着シート。 【請求項１２】 前記中間層が、スチレン系エラストマーから形成される樹脂フィルムである、請求項１から３および６から１１のいずれかに記載の粘着シート。 【請求項１３】 前記中間層が、硬化型樹脂を含む、請求項１から３および６から１０のいずれかに記載の粘着シート。 【請求項１４】 前記硬化型樹脂が、紫外線硬化型樹脂である、請求項１３に記載の粘着シート。 【請求項１５】 請求項１から３および６から１４のいずれかに記載の粘着シート上に電子部品を貼着すること、および、該粘着シートにレーザー光を照射して該粘着シートから該電子部品を剥離することを含む、電子部品の処理方法。 【請求項１６】 前記電子部品の剥離が、位置選択的に行われる、請求項１５に記載の電子部品の処理方法。 【請求項１７】 前記粘着シートに前記電子部品を貼着した後、該粘着シートから該電子部品を剥離する前に、 該電子部品に所定の処理を行うことを含む、 請求項１５または１６に記載の電子部品の処理方法。 【請求項１８】 前記処理が、グラインド加工、ダイシング加工、ダイボンディング、ワイヤーボンディング、エッチング、蒸着、モールディング、回路形成、検査、検品、洗浄、転写、配列、リペアまたはデバイス表面の保護である、請求項１７に記載の電子部品の処理方法。 【請求項１９】 前記粘着シートから前記電子部品を剥離した後、電子部品を別のシートに配置することを含む、請求項１５から１８のいずれかに記載の電子部品の処理方法。」 第４ 取消理由通知に記載した取消理由について １ 取消理由の内容 令和４年５月２６日付けで通知した取消理由は、以下のとおりである。また、取消理由３が引用する刊行物等は下記のとおりである。 ＜取消理由＞ 取消理由１ 本件特許の特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていないから、本件特許は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない出願に対してなされたものであり、同法第１１３条第４号に該当し、取り消すべきものである。 取消理由２ 本件特許の特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていないから、本件特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない出願に対してなされたものであり、同法第１１３条第４号に該当し、取り消すべきものである。 取消理由３ 本件特許の特許請求の範囲の請求項１～４、６～８に係る発明は、本件特許の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものであり、それらの発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。 ＜刊行物等＞ 特開２００３－３１３５１７号公報（以下、「甲５」ともいう。特許異議申立人森川真帆が提出した甲第５号証。） 「【製品名】ＳＫダイン１７１７」の安全データシート、整理番号：Ａ１１０１－１７、作成日：２０１１／０１／２８、改定日：２０１４／０４／０１（以下、「甲６」ともいう。特許異議申立人森川真帆が提出した甲第６号証。） ２ 取消理由１についての判断 （１）取消理由１の概要 取消理由１は、要するに、請求項１の「ガスバリア層の高弾性部分の厚み」の範囲には、０．１μｍ～２００μｍが含まれていると認められるが、ガスバリア層の高弾性部分の厚さが１１．３μｍ以下である場合には「ナノインデンテーション法による弾性率」を測定することができないことが明らかである。そうすると、請求項１の「ガスバリア層の高弾性部分の厚み」の範囲が明確ではない、というものである。 （２）判断 ア 検討手法 特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件に適合するか否かは、特許請求の範囲の記載のみならず、願書に添付した明細書の記載及び図面を考慮し、また、当業者の出願時における技術的常識を基礎として、特許請求の範囲の記載が、第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるか否かという観点から判断されるべきである（平成２１年（行ケ）第１０４３４号）。 これを本件訂正発明にあてはめると、特許請求の範囲の請求項１には、「ガスバリア層の高弾性部分の２５℃におけるナノインデンテーション法による弾性率」と記載されているから、この記載によれば本件訂正発明１の範囲に、当該弾性率を測定することができない態様が含まれていることはない、と解することが合理的である。 したがって、上記以外の特許請求の範囲の記載、または、本件訂正後の本件特許明細書（以下、「本件明細書」ともいう。）の記載、及び、技術常識に基づき、本件訂正発明１の範囲に、当該弾性率を測定することができない態様が含まれていると解することができる場合には、本件訂正発明１の範囲が第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるといえる。 イ 請求項１には、「該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、７μｍ～５０μｍであり」と特定されているところ、ガスバリア層の高弾性部分の厚みが７、９、１５、３０μｍである場合において、その「ガスバリア層の高弾性部分の２５℃におけるナノインデンテーション法による弾性率」を測定した実施例（それぞれ、実施例４、９、３及び６、５）が記載されている。 ウ また、本件明細書には、上記「ナノインデンテーション法による弾性率」の測定方法について、その発明の詳細な説明の段落【００１８】に以下の記載がある。「ナノインデンテーション法による弾性率は、ダイヤモンド製のＢｅｒｋｏｖｉｃｈ型（三角錐型）探針を測定対象層の切り出した断面に垂直に押し当てることで得られる変位－荷重ヒステリシス曲線を、測定装置付帯のソフトウェア（ｔｒｉｂｏｓｃａｎ）で数値処理することで得られる。本明細書において、弾性率とは、ナノインデンター（ＨｙｓｉｔｒｏｎＩｎｃ社製ＴｒｉｂｏｉｎｄｅｎｔｅｒＴＩ－９５０）を用いて、所定温度（２５℃）における単一押し込み法により、押し込み速度約５００ｎｍ／ｓｅｃ、引き抜き速度約５００ｎｍ／ｓｅｃ、押し込み深さ約１５００ｎｍの測定条件で、測定された弾性率である。なお、本明細書において、断面または表面を言わず、単に、ナノインデンテーション法による弾性率というとき、当該弾性率は、断面のナノインデンテーション法による弾性率を意味する。」 エ 上記ウによれば、ナノインデンテーション法による弾性率の測定原理は、要するに、測定対象に探針を押し込んだ際の変形量と応力の関係から測定対象の弾性率を求めるというものであるから、その測定の際に、測定対象のみが変形していること（測定対象に隣接する部分から応力を受けていないこと）を要するものである。また、応力については、探針が測定対象に接している部分の面積を考慮するものであり、上記ウによれば、本件訂正発明１においては、「ダイヤモンド製のＢｅｒｋｏｖｉｃｈ型（三角錐型）探針」を「測定対象層の切り出した断面に垂直に押し当て」て、「約１５００ｎｍ」の深さまで押し込むものである。 したがって、本件訂正発明１において、その測定用のサンプルにおいて当該押し込まれた探針が測定対象と接している部分の形状が、「ガスバリア層の高弾性部分」の大きさよりも広い場合には「ガスバリア層の高弾性部分」に隣接する「ガス発生層」や「粘着剤層」にも押し込んだ探針が接触していることになる（隣接するこれらの層から応力を受けていることになる）ので、「ナノインデンテーション法による弾性率」を測定することができないといえる。 オ 本件訂正発明１において、測定用のサンプルに探針を１５００ｎｍの深さに押し込んだ際に探針が測定対象に接している部分の形状は、特許権者が令和４年７月２６日に提出した意見書の説明によれば、１辺が約６．４μｍの正三角形であり、この説明は、ガスバリア層の高弾性部分の材質が通常樹脂等であって粘弾性体であるといえるものであることから一応合理的なものであると認められる。一方、この説明に信憑性がないといえる証拠や技術常識はない。また、上記アのとおり、ガスバリア層の高弾性部分の厚みが７μｍである場合において、その「ガスバリア層の高弾性部分の２５℃におけるナノインデンテーション法による弾性率」を測定した実施例４が記載されている。 カ 以上によれば、ガスバリア層の高弾性部分の厚さが６．４μｍより厚ければ「ナノインデンテーション法による弾性率」を測定することができると認めることが合理的であるといえる。 キ 申立人は、本件訂正発明１は、ガスバリア層の高弾性部分が粘弾性体に相当する旨の規定を備えていないとか（同申立人が令和４年９月２日に提出した意見書６頁「１）上記ii)の主張について」の項）、試験結果に基づく主張は採用されるべきではないとか（同意見書６～７頁「１）上記iii)の主張について」の項）、ガスバリア層の高弾性部分の厚みとしては、探針を１５００ｎｍの深さに押し込んだ際に探針が測定対象に接している部分ではなく、ガスバリア層の高弾性部分の表面が窪み始める部分間の長さが必要である（同意見書７～８頁「３）上記i)の＜図ｂ＞に基づく主張について」の項）、と主張する。 しかし、当技術分野においては、ガスバリア層の高弾性部分の材質が粘弾性体ではない場合（例えば金属である場合等）が含まれていることを想定できない。また、特許権者が令和４年７月２６日に提出した意見書の説明（上位オ参照。）は、そもそも試験結果に基づくものではないから、申立人の主張は特許権者の主張を正解しないものである。さらに、ガスバリア層の高弾性部分の表面が窪み始める部分間の長さが必要である旨の申立人の主張も、その可能性を指摘するに留まるものであって、主張を裏付ける技術常識などの証拠はない。そして、ガスバリア層の高弾性部分の表面が窪み始める部分には探針が接触していないことを勘案すると、当該部分から探針が応力を受けていることはありえない。したがって、この主張も採用できない。 （３） 取消理由１についてのまとめ 以上のとおりであるから、特許請求の範囲の記載のみならず、願書に添付した明細書の記載及び図面を考慮し、また、当業者の出願時における技術的常識を基礎として、請求項１の記載は、第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるとはいえない。 また、請求項１の記載を直接または間接的に引用する請求項２、３、６～１９の記載についても、同様である。 したがって、本件の特許請求の範囲の請求項１～３、６～１９の発明に係る特許を、取消理由１によって取り消すべきものであるとすることはできない。 ３ 取消理由２について （１） 取消理由２の概要 取消理由２は、要するに、「ガスバリア層の高弾性部分の厚み」が１１．３μｍ以下である場合には押し込んだ探針が「ガスバリア層の高弾性部分」に隣接する「ガス発生層」や「粘着剤層」にはみ出ることになり、そもそも「ナノインデンテーション法による弾性率」を測定することができないから、本件訂正発明１のうち、「ガスバリア層の高弾性部分の厚み」が１１．３μｍ以下である場合については、実施例を示すことによって、その課題を解決することができることを裏付けることができない。また、本件特許明細書には、実施例による裏付けがなくても、その課題を解決することができるといえる理由（作用機序等）を説明した記載はないし、参照できる技術常識もない、というものである。 （２） 検討 ア 検討手法 特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件に適合するか否かは、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載とを対比し、特許請求の範囲に記載された発明が、発明の詳細な説明に記載された発明で、発明の詳細な説明の記載により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否か、また、その記載や示唆がなくとも当業者が出願時の技術常識に照らして当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否かを検討して判断すべきものである。 イ 発明の詳細な説明の記載 本件明細書の発明の詳細な説明（以下、「発明の詳細な説明」という。）には、以下の記載がある。 「【発明の概要】 【発明が解決しようとする課題】 【０００５】 本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、小型電子部品（例えば、１００μｍ□以下サイズのチップ）を良好に仮固定し、かつ、良好に剥離させ得る粘着シートを提供することにある。 【課題を解決するための手段】 【０００６】 本発明の粘着シートは、ガス発生層と、ガス発生層の少なくとも片側に配置されたガスバリア層とを含む粘着シートであって、該ガスバリア層が、該粘着シートへのレーザー光照射により、その表面が変形する層であり、該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（１）で算出される値以下であり、かつ、該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（２）で算出される値以上である、粘着シート； ３５０１１×ＥＸＰ（－０．８１２×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（１） ２００８１×ＥＸＰ（－１．１４５×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（２） Ｅｒは、ガスバリア層の高弾性部分の２５℃のおけるナノインデンテーション法による弾性率（ＭＰａ）である。 １つの実施形態においては、上記ガス発生層が、紫外線吸収可能な層である。 ・・・ 【００１７】 本明細書において、「ガスバリア層の高弾性部分」とは、ガスバリア層が単層構成である場合（例えば、粘着剤層単層で構成される場合）にはガスバリア層そのもの（粘着剤層単層で構成される場合には粘着剤層）を意味し、ガスバリア層が複層構成である場合（例えば、粘着剤層と中間層とから構成される場合）には、弾性率が最も高い層を意味する。１つの実施形態においては、ガスバリア層が中間層と粘着剤層と含む場合、「ガスバリア層の高弾性部分の厚み」は中間層の厚みに相当し得、「ガスバリア層の高弾性部分の２５℃のおけるナノインデンター法による弾性率」は、中間層の当該弾性率に相当し得る。 【００１８】 ナノインデンテーション法による弾性率は、ダイヤモンド製のＢｅｒｋｏｖｉｃｈ型（三角錐型）探針を測定対象層の切り出した断面に垂直に押し当てることで得られる変位-荷重ヒステリシス曲線を、測定装置付帯のソフトウェア（ｔｒｉｂｏｓｃａｎ）で数値処理することで得られる。本明細書において、弾性率とは、ナノインデンター（Ｈｙｓｉｔｒｏｎ Ｉｎｃ社製Ｔｒｉｂｏｉｎｄｅｎｔｅｒ ＴＩ－９５０）を用いて、所定温度（２５℃）における単一押し込み法により、押し込み速度約５００ｎｍ／ｓｅｃ、引き抜き速度約５００ｎｍ／ｓｅｃ、押し込み深さ約１５００ｎｍの測定条件で、測定された弾性率である。なお、本明細書において、断面または表面を言わず、単に、ナノインデンテーション法による弾性率というとき、当該弾性率は、断面のナノインデンテーション法による弾性率を意味する。 【００１９】 本発明においては、ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が上記式（１）で算出される値以下であるため、ガスバリア層が十分に変形して、剥離性に優れる粘着シートを提供することができる。また、ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が上記式（２）で算出される値以上であるため、ガスバリア層の過剰な変形が防止され、破れ等の不具合が生じがたい粘着シートを提供することができる。すなわち、本発明においては、ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）の上限および下限が、上記式（１）および（２）を満足するように構成されていることにより、ガス発生により好ましく変形して、変形部分の破裂等も生じがたく、小型電子部品を加工する際にも当該小型電子部品を良好に（すなわち、剥離性よく、選択的に、糊残りを防止して）剥離させることができる。」 「【００９９】 ［製造例１］粘着剤ａの調製 トルエン中に、２－エチルヘキシルアクリレート３０重量部と、エチルアクリレート７０重量部と、２－ヒドロキシエチルアクリレート４重量部と、メチルメタクリレート５重量部と、重合開始剤として過酸化ベンゾイル０．２重量部とを加えた後、７０℃に加熱してアクリル系共重合体（ポリマーＡ）のトルエン溶液を得た。 ポリマーＡのトルエン溶液（ポリマーＡ：１００重量部）とイソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン社製、商品名「コロネートＬ」）３重量部と、界面活性剤（花王社製、商品名「エキセパールＩＰＰ」）５重量部とを混合して粘着剤ａを調製した。粘着剤ａの組成を表１に示す。 ・・・ 【０１０２】 【表１】 ［図：0001397171000001.jpg］ 」 「【０１０６】 ［製造例６］ガス発生層形成用組成物ａの調製 製造例１と同様にして、ポリマーＡを得た。 ポリマーＡのトルエン溶液（ポリマーＡ：１００重量部）とイソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン社製、商品名「コロネートＬ」）１．５重量部と、紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」）２０重量部とを混合してガス発生層形成用組成物ａを調製した。ガス発生層形成用組成物ａの組成を表３に示す。 ・・・ 【０１０９】 ［参考例１］ 製造例１で得た粘着剤ａを、シリコーン離型剤処理面付きポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：７５μｍ）に、溶剤揮発（乾燥）後の厚みが５０μｍとなるように塗布し、その後、乾燥して、該ポリエチレンテレフタレートフィルム上に粘着剤層前駆層ａを形成した。 製造例５で得たガス発生層形成用組成物ａを、シリコーン離型剤処理面付きポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製、商品名「セラピール」厚み：３８μｍ）に、溶剤揮発（乾燥）後の厚みが１５μｍとなるように塗布し、その後、乾燥して、該ポリエチレンテレフタレートフィルム上にガス発生層前駆層ａを形成した。 上記粘着剤層前駆層ａと上記ガス発生層前駆層ａとをロール間でラミネートして貼り合わせ、シリコーン離型剤処理面付きポリエチレンテレフタレートフィルムに挟まれた粘着シート（粘着剤層／ガス発生層）を得た。 得られた粘着シートを上記評価（１）～（６）に供した。結果を表３に示す。 ・・・ 【０１２８】 【表３】 ［図：0001397171000002.jpg］ 」 ウ 本件訂正発明が解決しようとする課題 本件訂正発明が解決しようとする課題は、発明の詳細な説明の特に段落【０００５】の記載に基づいて、「小型電子部品（例えば、１００μｍ□以下サイズのチップ）を良好に仮固定し、かつ、良好に剥離させ得る粘着シートを提供すること」であると認められる。 エ 検討 上記２（２）カのとおり、「ガスバリア層の高弾性部分の厚み」が６．４μｍより厚ければ「ナノインデンテーション法による弾性率」を測定することができると認められる。 また、「該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、７μｍ～５０μｍであり」を充足する実施例が５例記載されていて、本件訂正発明１がその課題を解決することができるものであることが、実施例の記載によって具体的に裏付けられているし、上記理解に反する実施例等が記載されているわけでもない。 以上のとおりであるから、本件訂正発明１は、本件明細書の記載に基づいてその課題を解決することができることが裏付けられていると認められる。 また、本件訂正発明２、３、６～１９についても同様である。 オ 取消理由２についてのまとめ 本件の特許請求の範囲の請求項１～３、６～１９の発明に係る特許を、取消理由２によって取り消すべきものであるとすることはできない。 ４ 取消理由３について （１）取消理由３の概要 取消理由３は、要するに、本件訂正前の請求項１～４、６～８に係る発明は、甲５に記載された発明である、というものである。 （２）判断 ア 刊行物等の記載事項 （ア） 甲５の記載事項 特開２００３－３１３５１７号公報（以下、「甲５」ともいう。）には、以下の事項が記載されている。なお、下線は、当審で付した。 「【請求項１】 シート状基材の表面に、発泡時に前記シート状基材側とは反対側の面に凹凸を生じる発泡性層、および粘着剤層が順に積層されていることを特徴とする粘着シート。 【請求項３】 前記発砲性層が熱分解型発砲剤、もしくは電離放射線分解型発砲剤を含有するものであることを特徴とする請求項１または請求項２記載の粘着シート。」 「【００２３】熱分解性発泡剤としては、・・・アゾジカルボンライト、・・・を挙げることができる。 【００２４】電離放射線分解型発砲剤としては、上記の熱分解性発砲剤に、必要に応じて、紫外線吸収剤を配合したものを用いることができる。」 「【００３０】 【実施例】（実施例１）ポリエチレンテレフタレート樹脂からなる厚みが５０μｍのフィルム上に、アクリル樹脂の溶液中に発泡剤（アゾジカルボンアミド）を分散させた発泡性層形成用インキ組成物を用い、グラビア印刷により、直径２ｍｍ、縦横のピッチが３ｍｍの多数の円形のパターンを印刷し、印刷面上にアクリル系粘着剤（綜研化学（株）製、商品名；「ＳＫダイン１３０９」（主剤））と硬化剤（同社製、商品名；「Ｅ－ＡＸ」）とを主剤／硬化剤＝１００／３（質量基準）で配合したものを、乾燥時の塗布量が５０ｇ／ｍ２になるよう塗布して、粘着シートを得た。」 （イ） 甲６の記載事項 「【製品名】ＳＫダイン１７１７」の安全データシート（以下、「甲６」ともいう。）には、以下の事項が記載されている。 「１．製品および会社情報」として、「供給者の会社名称：ビルトマテリアル株式会社」、及び、「推奨用途及び使用上の制限：粘着剤」（１／８頁） 「３．組成及び成分情報」として、「アクリル酸エステル共重合物の含有量が３０－４０％であり、粘着付与樹脂の含有量が１－１０％であり、酢酸エチルの含有量が３０－４０％であり、酢酸ビニルの含有量が１－１０％であり、トルエンの含有量が２０－３０％である」こと（３／８頁） 「９．物理的及び科学的性質」として、「比重（密度）：約０．９５ｇ／ｃｍ３（２５℃）」（５／８頁） イ 甲５に記載された発明 甲５には、請求項１に記載されている発明の実施例として実施例１が記載されていることから、実施例１及び甲５の請求項３を考慮すると以下の発明（以下、「甲５発明」という。）が記載されていると認められる。 ＜甲５発明＞ 「シート状基材の表面に、発泡時に前記シート状基材側とは反対側の面に凹凸を生じる発泡性層、および粘着剤層が順に積層されていることを特徴とする粘着シートであって、 ポリエチレンテレフタレート樹脂からなる厚みが５０μｍのフィルム上に、 アクリル樹脂の溶液中に発泡剤（アゾジカルボンアミド）もしくは電離放射線分解型発砲剤を分散させた発泡性層形成用インキ組成物を用い、 グラビア印刷により、直径２ｍｍ、縦横のピッチが３ｍｍの多数の円形のパターンを印刷し、 印刷面上にアクリル系粘着剤（綜研化学（株）製、商品名；「ＳＫダイン１３０９」（主剤））と硬化剤（同社製、商品名；「Ｅ－ＡＸ」）とを主剤／硬化剤＝１００／３（質量基準）で配合したものを、乾燥時の塗布量が５０ｇ／ｍ２になるよう塗布して得た、 粘着シート」 ウ 本件訂正発明１について （ア） 本件訂正発明１と甲５発明の対比 甲５発明の「発泡性層」、「粘着剤層」、「粘着シート」は、それぞれ、本件訂正発明１の「ガス発生層」、「ガス発生層の少なくとも片側に配置されたガスバリア層」、「粘着シート」、に相当する。 甲５発明の「発泡性層」は、「発泡時に前記シート状基材側とは反対側の面に凹凸を生じ」るものであり、「発泡剤（アゾジカルボンアミド）」もしくは電離放射線分解型発砲剤を含有するから、本件訂正発明１の「該ガスバリア層が、該粘着シートへのレーザー光照射により、その表面が変形する層であり」を充足する。 甲５発明の「粘着剤層」は、「アクリル系粘着剤（綜研化学（株）製、商品名；「ＳＫダイン１３０９」（主剤））と硬化剤（同社製、商品名；「Ｅ－ＡＸ」）とを主剤／硬化剤＝１００／３（質量基準）で配合したものを、乾燥時の塗布量が５０ｇ／ｍ２になるよう塗布して得た」ものであり、その密度は甲６から、概ね１ｇ／ｍ３と認められるから、その厚さは概ね５０μｍであると認められる。 また、アクリル系粘着剤のヤング率は、概ね、１～３０ＭＰａ程度であり、本件訂正発明１の式（１）、（２）において「Ｅｒ」の値が１ＭＰａの時の値は、それぞれ、１２６８、２１であり、「Ｅｒ」の値が３０ＭＰａの時の値は、それぞれ、８１、３．８である。 そうすると、甲５発明は、本件訂正発明１の「該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、７μｍ～５０μｍであり、」を充足するとともに、 「該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（１）で算出される値以下であり、かつ、 該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（２）で算出される値以上である、粘着シート； ３５０１１×ＥＸＰ（－０．８１２×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（１） ２００８１×ＥＸＰ（－１．１４５×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（２） Ｅｒは、ガスバリア層の高弾性部分の２５℃のおけるナノインデンテーション法による弾性率（ＭＰａ）である」を充足している蓋然性が高いと認められる。 以上によれば、本件訂正発明１と甲５発明の一致点、相違点は、以下のとおりである。 ＜一致点＞ 「ガス発生層と、ガス発生層の少なくとも片側に配置されたガスバリア層とを含む粘着シートであって、 該ガスバリア層が、該粘着シートへのレーザー光照射により、その表面が変形する層であり、 該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、７μｍ～５０μｍであり、 該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（１）で算出される値以下であり、かつ、 該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（２）で算出される値以上であり、 該ガスバリア層が、粘着剤層を含む、粘着シート； ３５０１１×ＥＸＰ（－０．８１２×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（１） ２００８１×ＥＸＰ（－１．１４５×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（２） Ｅｒは、ガスバリア層の高弾性部分の２５℃におけるナノインデンテーション法による弾性率（ＭＰａ）である、 粘着シート。」 ＜相違点＞ 本件訂正発明１は、「該ガスバリア層が、中間層を含む」と特定されているのに対し、甲５発明はそのような特定を備えていない点 （イ） 判断 上記（ア）のとおり、本件訂正発明１と甲５発明を対比すると、相違点があるから、本件訂正発明１は、甲５に記載された発明であるとは認められない。 エ 本件訂正発明２、３、６～８について 本件訂正発明２、３、６～８は、本件訂正発明１を直接または間接的に引用し、さらに、限定したものであるが、上述のとおり、本件訂正発明１は、甲５に記載された発明であるとは認められないものである。 そうすると、本件訂正発明２、３、６～８も、本件訂正発明１と同様の理由により、本件訂正発明１は、甲５に記載された発明であるとは認められない。 オ 取消理由３についてのまとめ 以上のとおりであるから、本件の特許請求の範囲の請求項１～３、６～８の発明に係る特許を、取消理由３によって取り消すべきものであるとすることはできない。 ５ 取消理由通知書に記載した取消理由についてのまとめ 以上のとおりであるから、本件の請求項１～３、６～１９に係る特許を、取消理由１、２により取り消すべきものとすることはできない。 また、本件の請求項１～３、６～８に係る特許を、取消理由３により取り消すべきものとすることはできない。 第５ 取消理由通知で採用しなかった異議申立理由について １ 申立理由の内容 令和４年５月２６日付けで通知した取消理由通知で採用しなかった特許異議申立の理由は、以下のとおりである。また、申立理由６、７が引用する刊行物等は甲５および６（上記第４の１および４（２）ア参照。）であり、申立理由８が引用する刊行物等は下記のとおりである。 ＜申立理由＞ 申立理由４ 本件特許の特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていないから、本件特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない出願に対してなされたものであり、同法第１１３条第４号に該当し、取り消すべきものである。 申立理由５ 本件特許の特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていないから、本件特許は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない出願に対してなされたものであり、同法第１１３条第４号に該当し、取り消すべきものである。 申立理由６ 本件特許の特許請求の範囲の請求項９、１０に係る発明は、本件特許の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものであり、それらの発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。 申立理由７ 本件特許の特許請求の範囲の請求項１～４、６～１０に係る発明は、本件特許の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、本件特許の優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものであり、それらの発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。 申立理由８ 本件特許の特許請求の範囲の請求項１～４、６～１０、１５～１９に係る発明は、本件特許の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、本件特許の優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものであり、それらの発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。 ＜刊行物等＞ 特表２０１９－５２７４６５号公報（以下、「甲１」ともいう。特許異議申立人森川真帆が提出した甲第１号証。） 特開２０１７－２１９０号公報（以下、「甲２」ともいう。特許異議申立人森川真帆が提出した甲第２号証。） 特開２０００－２４８２４０号公報（以下、「甲３」ともいう。特許異議申立人森川真帆が提出した甲第３号証。） 特開２０１２－３３６３６号公報（以下、「甲４」ともいう。特許異議申立人森川真帆が提出した甲第４号証。） ２ 申立理由４について （１） 申立理由４の概要 申立理由４は、要するに、本件特許に係る発明（以下、「本件特許発明」ともいう。）は、ガスバリア層の高弾性部分の厚みの範囲を、その特許請求の範囲の請求項１に記載の式（１）および式（２）で特定するものであるところ、これらの式をどのようにして導き出したのかが不明であり（特許異議申立書の３８～４０頁の「２）理由１－２」の項。以下、「申立理由４－１」ともいう。）、また、本件特許発明は、ガス発生層が、電子部品等の被着体と直接接するような態様も包含しており（特許異議申立書の４０頁の「３）理由１－３」の項。以下、「申立理由４－２」ともいう。）、および、本件特許発明のガス発生層は、ガス発生層を構成するポリマー、架橋剤、紫外線吸収剤の有無や種類、組成が実施例で採用されたものに限られていないので十分にガスを発生させることができない態様を含んでいる（特許異議申立書の４０～４１頁の「５）理由１－５」の項。以下、「申立理由４－３」ともいう。）から、本件特許発明は、サポート要件を充足しないというものである。 （２） 判断 ア 本件訂正発明は、ガスバリア層の高弾性部分の厚みの範囲が７～５０μｍという狭い範囲に特定されているとともに、この範囲においてその課題を解決することができるものであることを裏付ける実施例が記載されている。そうすると、少なくとも、式（１）および式（２）で規定された範囲においてその課題を解決することができると十分に理解できるし、式（１）および式（２）をどのように導き出したのかが不明であることによって、サポート要件の充足性に疑義が生じる（たとえば、式（１）および式（２）で規定された範囲においてその課題を解決することができない態様が含まれていると立証できる）わけでもない。 したがって、申立理由４－１は、理由がない。 イ 本件訂正発明の粘着シートは、その粘着剤層で電子部品等の被着体と粘着させることを前提とするものであると理解できる。そうすると、そもそも、粘着剤層以外の層（ガス発生層を含む）が、電子部品等の被着体と直接接するような態様を含んでいないと解すべきものであるから、申立理由４－２は、理由がない。 ウ 本件訂正発明の粘着シートは、そのガス発生層でガスを発生することによって、電子部品等の被着体を剥離させることができるものであることを前提とするものであるから、ガス発生層の組成については当然適切に調整されていると解すべきものであり、ガス発生層の組成が不適切であるために、電子部品等の被着体を剥離させることができないような態様は、含んでいないと解すべきものであるから、申立理由４－３は、理由がない。 エ また、上記第４の３で述べたとおり、本件訂正発明は、サポート要件を充足すると認められるものである。 オ したがって、申立理由４－１～４－３は、いずれも理由がない。 ３ 申立理由５について （１） 申立理由５の概要 申立理由５は、要するに、本件訂正発明は、「ガスバリア層」の層構成が明確に規定されていないので、「ガスバリア層の高弾性部分」がどの層を意味するのかが明確ではない、というものである。 （２） 判断 本件訂正後の本件特許明細書の段落【００１７】には、「本明細書において、「ガスバリア層の高弾性部分」とは、ガスバリア層が単層構成である場合（例えば、粘着剤層単層で構成される場合）にはガスバリア層そのもの（粘着剤層単層で構成される場合には粘着剤層）を意味し、ガスバリア層が複層構成である場合（例えば、粘着剤層と中間層とから構成される場合）には、弾性率が最も高い層を意味する。１つの実施形態においては、ガスバリア層が中間層と粘着剤層と含む場合、「ガスバリア層の高弾性部分の厚み」は中間層の厚みに相当し得、「ガスバリア層の高弾性部分の２５℃のおけるナノインデンター法による弾性率」は、中間層の当該弾性率に相当し得る。」と記載されている。 そうすると、「ガスバリア層の高弾性部分」の定義は明確であるから、申立理由５は、理由がない。 ４ 申立理由６について （１） 申立理由６の概要 申立理由６は、要するに、本件訂正発明９、１０は、甲５に記載された発明である、というものである。 （２） 判断 上記第４の４に記載したとおり、本件訂正発明１は、甲５に記載された発明であるとはいえないものである。 また、本件訂正発明９、１０は、いずれも、本件訂正発明１を引用しさらに限定した発明である。 そうすると、さらに検討するまでもなく、本件訂正発明１と同様の理由により、本件訂正発明９、１０も、甲５に記載された発明である、とはいえないものである。 したがって、申立理由６は、理由がない。 ５ 申立理由７について （１） 申立理由７の概要 申立理由７は、要するに、本件訂正発明１～４、６～１０（本件訂正前の請求項５を引用する部分を除く）は、甲５および甲６に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである、というものである。 （２） 判断 本件訂正により、本件訂正発明１は、本件訂正前の請求項５に係る事項（前記バリア層が、中間層をさらに含む）を備えるものとなった。 そうすると、本件訂正発明１～４、６～１０は、申立理由７が申し立てられた発明を含まないものとなっている（申立の対象であった請求項が実質的に削除されているといえる）ことが明らかである。 したがって、申立理由７は、その対象となる請求項が実質的に削除されているので、却下すべきものである。 ６ 申立理由８について （１） 申立理由８の概要 申立理由８は、要するに、甲１を主として引用する刊行物等とするものであり、本件特許発明は、甲１に記載された発明と、甲２～４に基づいて認定できる技術常識に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである、というものである。 （２） 判断 ア 甲１～甲４の記載事項 （ア） 甲１の記載事項 「【請求項１】 複数の個別部品を第１の基板から第２の基板に移送する段階であって、 前記第１の基板に前記複数の個別部品を付着する動的剥離層の上面の複数の領域を同時に照射し、前記照射された領域の各々が前記個別部品の対応する１つと位置合わせされる段階を含み、 前記照射により、前記照射された領域の各々における前記動的剥離層の少なくとも一部のアブレーションが誘発され、 前記アブレーションにより、前記個別部品の少なくともいくつかが前記第１の基板から同時に取り外される、移送する段階、 を含む方法。 【請求項２】 前記複数の領域を照射する段階が、前記複数の領域にレーザエネルギーを照射する段階を含む、請求項１に記載の方法。 ・・・ 【請求項６】 前記動的剥離層の前記部分厚さのアブレーションが、前記照射された領域の各々における前記動的剥離層の残りの厚さの変形を誘発する、請求項５に記載の方法。 ・・・ 【請求項１３】 前記動的剥離層の付着力を低下させることが、前記動的剥離層を刺激に晒すことを含む、請求項１２に記載の方法。 【請求項１４】 前記動的剥離層を刺激に晒すことが、前記動的剥離層を１つ以上の熱及び紫外線に晒すことを含む、請求項１３に記載の方法。」 「【００２７】 図１Ａ及び図１Ｂを参照すると、レーザアシスト移送プロセスは、剛性又は可撓性基板上に個別部品を高スループット、低コスト、非接触で組み立てるために使用される。個別部品という用語は、一般に、例えば、電子、電気機械、光電池、フォトニック、光電子の部品、モジュール又はシステムなどの製品または電子デバイスの一部となる任意のユニット、例えば半導体材料の一部に回路が形成されている半導体材料を意味する。個別部品は、極薄であり、最大厚さが５０μｍ以下、４０μｍ以下、３０μｍ以下、２５μｍ以下、２０μｍ以下、１０μｍ以下、又は５μｍ以下であることを意味する。個別部品は、１辺が３００μｍ、１辺が１００μｍ、１辺が５０μｍ、１辺が２０μｍ、又は１辺が５μｍ以下の最大長又は幅寸法を持つ超小型のものを意味する。個別部品は、超薄型と超小型の両方であり得る。 【００２７】 特に図１Ａを参照すると、個別部品１２は、動的剥離層２２によって支持基板１６に付着される。 ・・・ 【００３０】 図１Ｂを参照すると、ブリスター移送プロセスでは、レーザ光線２４のエネルギーが支持基板１６の背面３０に加えられる。支持基板１６は、レーザエネルギーの波長に対して透過性である。レーザエネルギー２４は、支持基板１６を通過し、動的剥離層２２の領域に入射し、レーザエネルギー２４が入射する領域（これは、照射領域と称される）における動的剥離層の部分厚さのアブレーションを引き起こす。アブレーションは、限られた気体を発生させ、それは、膨張して動的剥離層２２の非アブレーション残部に応力を発生させる。この応力により、動的剥離層の材料が弾性変形し、ブリスター２６が形成される。弾性変形に起因する応力が動的剥離層材料の降伏強度を超えると、動的剥離層が塑性変形する。ブリスター２６は、個別部品１２に機械的な力を加える。ブリスター２６によって及ぼされる機械的な力が個別部品１２と動的剥離層２２との間の付着を克服するのに十分であるとき、（重力と組み合わせて）ブリスター２６によって及ぼされる機械的な力は、例えば、ターゲット基板２８への移送のために、個別部品を支持基板１６から離れるように前へ押し出す。」 「【００６５】 個別化された個別部品は、一時的な基板から、その上に配置された動的剥離層を有する透明な支持基板に移送される（７０２）。・・・支持基板は、ガラス又は透明ポリマーなどの材料で形成され、その後のレーザアシスト移送プロセス中に使用される波長を含む、紫外線、可視または赤外線電磁スペクトルの少なくともいくつかの波長に対して少なくとも部分的に透過性である。」 「【００６８】 いくつかの例では、個別部品は、ダイシングの前に、例えば全体または部分的なウェハとしての支持基板に移送することができる。例えば、ウェハまたは部分ウェハは、支持基板上に取り付けられ、次いで、ウェハは、個別部品にダイシングされ得る。」 「【００８１】 熱、紫外線、または他のタイプの刺激のような刺激の適用によって、動的剥離層の付着性が低下する（８０８）。次に、個別部品は、レーザアシスト移送プロセスを使用してデバイス基板に移送される（８１０）。」 「 ［図：0001397171000003.jpg］ 」 （イ） 甲２の記載事項 「【請求項１】 基材、アンカー層、熱膨張性粒子含有層および熱膨張性粒子非含有粘着剤層をこの順で積層してなる加熱剥離性粘着シートであって、 前記熱膨張性粒子非含有粘着剤層は、熱膨張性粒子を含有せず、アクリル系ポリマー（Ａ）および架橋剤（Ｂ）を含有する粘着剤組成物を架橋した粘着剤からなり、 前記アクリル系ポリマー（Ａ）の重量平均分子量は２７万～２００万であり、 前記アクリル系ポリマー（Ａ）は、 炭素数４～２２のアルキル基を有するアルキルアクリレートモノマー由来の構成単位（ａ１）； 炭素数１～１４のアルキル基を有するアルキルメタクリレートモノマー由来の構成単位（ａ２）；および 反応性官能基を有するモノマー由来の構成単位（ａ３） を有することを特徴とする加熱剥離性粘着シート。」 「【０００２】 従来から、熱膨張性粒子を含有する層を備えた粘着シートが種々提案されている。かかる粘着シート（加熱剥離性粘着シート）は、加熱処理により熱膨張性粒子を膨張させることで粘着シートの粘着力を低下させ、被着体の剥離を容易にするものであり、例えば、半導体チップや積層セラミックコンデンサといった電子部品の製造工程における仮固定手段として用いられる。」 「【０００３】 ・・・このため、熱膨張性粒子を含有しない粘着剤層を熱膨張性粒子含有層の上にさらに設けることで、加熱前の粘着力を確保した粘着シートが提案されている（例えば、特許文献１）。」 （ウ） 甲３の記載事項 「【請求項１】 熱膨張性微小球を含有して加熱により膨張する熱膨張性層の少なくとも片面に非熱膨張性の粘着層を有することを特徴とする加熱剥離型粘着シート。」 「【０００４】 【発明の技術的課題】本発明は、接着力を低減するための加熱処理による汚染度の増大が少ない加熱剥離型粘着シートを得て、半導体ウエハからなる電子部品の製造等にも実用できる加熱剥離後の被着体における汚染度が少ないものの開発を課題とする。」 「【０００６】 【発明の効果】本発明によれば、熱膨張性微小球を使用した熱膨張性層とその上に配置した粘着層により、加熱前での優れた接着力等の目的とする粘着特性を達成しつつ、加熱による優れた接着力低減を速やかに達成でき、かつその接着力低減処理による被着体における汚染度の増大が少ない加熱剥離型粘着シートを得ることができる。その汚染増大の防止効果は、熱膨張性層に対する粘着層のカバー作用によると考えられるが、接着力の低減も達成されていることを考慮すると、かかる効果の発現機能の詳細は不明である。」 （エ） 甲４の記載事項 「【請求項 1】 基材層及び粘着剤層を有する粘着シートと、この粘着シートの粘着剤層上に形成された半導体裏面用フィルムとを備え、 前記粘着シートが、加熱により前記半導体裏面フィルムとの剥離力が低下する加熱剥離型粘着シートであることを特徴とする加熱剥離シート一体型半導体裏面用フィルム。」 「【０００６】 本発明は前記問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、半導体素子を半導体裏面用フィルムと一体的にピックアップする際にも容易に剥離させることができ、これにより半導体装置製造における歩留まり及び製造効率を向上させることが可能な加熱剥離シート一体型半導体裏面用フィルム、半導体素子の回収方法及び半導体装置の製造方法を提供することにある。」 「【００１１】 前記粘着剤層として、前記熱膨張性層上に形成された非熱膨張性の粘着層を前記半導体裏面用フィルムとの間にさらに有することが好ましい。このような構成を採用することで、加熱により前記熱膨張性微小球が膨張した際に発生するガスや有機分といったミクロな汚染物質が半導体裏面用フィルムへ移行し汚染することを防止することができる。」 イ 甲１に記載された発明 甲１の図１Ａ、図１Ｂおよびその説明の記載を参照すると、個別部品１２を動的剥離層２２によって支持基板１６に付着すること、レーザー光線２４のエネルギーを動的剥離層２２に加えてアブレーションを引き起こし、気体を発生させてブリスター２６を形成し、個別部品１２を支持基板１６から離れるように前へ押し出すことが記載されていることから、以下の発明（以下、「甲１発明」ともいう。）が記載されていると認められる。 ＜甲１発明＞ 「支持基板上に動的剥離層が設けられた粘着基板であって、 前記動的剥離層は、レーザー光線のエネルギーを加えるとアブレーションを引き起こし、気体を発生させてブリスターを形成して、その上に付着している個別部品を支持基板から離れるように前へ押し出すものである、 粘着基板」 ウ 本件訂正発明１について （ア） 甲１発明と本件訂正発明１の対比 甲１発明の「粘着基板」は、動的剥離層の上に個別部品を付着させるものであるから、本件訂正発明１の「粘着シート」に相当する。 甲１発明の「動的剥離層」は、レーザー光線のエネルギーを加えるとアブレーションを引き起こし、気体を発生するものであるから、本件訂正発明１の「ガス発生層」に相当する。 そうすると、甲１発明と本件訂正発明１の一致点、相違点は、以下のとおりである。 ＜一致点＞ 「ガス発生層を含む粘着シート」 ＜相違点１＞ 本件訂正発明１は、「ガス発生層の少なくとも片側に配置されたガスバリア層とを含む」と特定されているのに対し、甲１発明は、そのような特定を備えていない点。 ＜相違点２＞ 「レーザー光照射により、その表面が変形する層」について、本件訂正発明１は、「該ガスバリア層が、該粘着シートへのレーザー光照射により、その表面が変形する層であり」と特定されているので、「ガスバリア層」が変形すると特定されているのに対し、甲１発明は、本件訂正発明１のガスバリア層に相当する層を備えず（相違点１）、「前記動的剥離層は、レーザー光線のエネルギーを加えるとアブレーションを引き起こし、気体を発生させてブリスターを形成」すると特定されている点。 ＜相違点３＞ 本件訂正発明１は、「該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、７μｍ～５０μｍであり」と特定されているのに対し、甲１発明は、そのような特定を備えていない点。 ＜相違点４＞ 本件訂正発明１は、「該ガスバリア層が、粘着剤層および中間層を含む」と特定されているのに対し、甲１発明は、そのような特定を備えていない点。 ＜相違点５＞ 本件訂正発明１は、「該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（１）で算出される値以下であり、かつ、 該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（２）で算出される値以上であり、 ３５０１１×ＥＸＰ（－０．８１２×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（１） ２００８１×ＥＸＰ（－１．１４５×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（２） Ｅｒは、ガスバリア層の高弾性部分の２５℃におけるナノインデンテーション法による弾性率（ＭＰａ）である、」と特定されているのに対し、甲１発明は、そのような特定を備えていない点。 （イ） 判断 相違点１～５は、いずれも、ガスバリア層に関するものであるから、まとめて検討する。 甲１には、ガスバリア層を設けるとともに、レーザー光照射によりその表面が変形する層を、動的剥離層に代えてガスバリア層とし、さらに、該ガスバリア層が、粘着剤層および中間層を含むものとし、かつ、該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）を７μｍ～５０μｍに限定し、その上、該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（１）で算出される値以下であり、かつ、 該ガスバリア層の高弾性部分の厚み（μｍ）が、下記式（２）で算出される値以上であり、 ３５０１１×ＥＸＰ（－０．８１２×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（１） ２００８１×ＥＸＰ（－１．１４５×ｌｏｇ１０（Ｅｒ×１０６））・・・（２） Ｅｒは、ガスバリア層の高弾性部分の２５℃におけるナノインデンテーション法による弾性率（ＭＰａ）であると特定することについて記載も示唆もない。 また、甲２～４をみても、せいぜい、ガスバリア層を有するものが周知であるといえるだけであって、甲１発明と組み合わせる動機付けすらもない。 また、本件訂正発明１は、相違点１～５に係る構成を全て同時に備えるものであって、小型電子部品（例えば、１００μｍ□以下サイズのチップ）を良好に仮固定し得る粘着シートであって、レーザー光照射によりガス発生し得るガス発生層を備えることにより、当該小型電子部品を良好に剥離させ得る粘着シートを提供することができるという効果を奏するものである。 そうすると、本件訂正発明１は、当業者が甲１～４に記載された発明に基いて容易に発明をすることができたものであるとは認められない。 エ 本件訂正発明２、３、６～１０、１５～１９について 本件訂正発明２、３、６～１０、１５～１９は、本件訂正発明１を直接または間接的に引用し、さらに、限定したものであるが、上述のとおり、本件訂正発明１は、甲１～４に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたとはいえないものである。 そうすると、本件訂正発明２、３、６～１０、１５～１９も、本件訂正発明１と同様の理由により、甲１～４に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとは認められない。 オ 申立理由８についてのまとめ 以上のとおりであるから、本件訂正発明１～３、６～１０、１５～１９に係る特許を、申立理由８によって取り消すべきものであるとすることはできない。 第６ むすび 以上のとおりであるから、取消理由通知に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した特許異議申立理由によっては、本件請求項１～３、６～１９に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に本件請求項１～３、６～１９に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 また、本件請求項４、５に係る特許異議の申立ては、対象となる請求項が存在しないものとなったから、特許法第１２０条の８第１項において準用する同法第１３５条の規定により却下する。 よって、結論のとおり決定する。