2021-700485

特許第６７９１７６１号発明「石膏プラスターボードの製造方法およびそれにより得られる石膏プラスターボード」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第６７９１７６１号の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１～２０〕について訂正することを認める。 特許第６７９１７６１号の請求項１～１６、１８～２０に係る特許を維持する。 特許第６７９１７６１号の請求項１７に係る特許についての特許異議の申立てを却下する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許権者であるクナウフ ギブス カーゲーが保有する本件特許第６７９１７６１号の請求項１～２０に係る特許についての出願は、２０１５年（平成２７年）４月９日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２０１４年６月５日、欧州特許庁（ＥＰ））を国際出願日とする出願であって、特願２０１６－５７０９７５号として審査され、令和２年１１月９日に特許権の設定登録がされ、同年同月２５日に特許掲載公報が発行された。 その後、当該特許掲載公報の発行の日から６月以内にあたる令和３年５月２１日に、本件特許の全請求項に係る特許について、特許異議申立人である金澤毅により、特許異議の申立てがされた。 そして、令和３年９月１４日付けで当審より取消理由が通知され、同年１２月１５日に特許権者より訂正請求書及び意見書が提出され、令和４年１月２１日に特許異議申立人より意見書が提出され、さらに、同年５月１０日付けで当審より決定の予告としての取消理由が通知され、同年８月９日に特許権者より訂正請求書及び意見書が提出された。 第２ 本件訂正の適否 １ 本件訂正の内容 令和４年８月９日にされた訂正の請求（以下、その訂正を「本件訂正」という。）は、特許法第１２０条の５第４項の規定に従い、一群の請求項を構成する請求項１～２０を訂正の単位とするものであって、その内容（訂正事項）は、次のとおりである。 なお、令和３年１２月１５日にした訂正の請求（以下、その訂正を「先の訂正」という。）は、同法同条第７項の規定により、取り下げられたものとみなす。 (1) 訂正事項１ 特許請求の範囲の請求項３における「水分量」なる記載を、「水分率」と訂正する。 当該請求項３を引用する請求項についても同様に訂正をする（引用請求項について同様に訂正される部分については、以降の訂正事項では割愛をする。）。 (2) 訂正事項２ 特許請求の範囲の請求項１０及び１１における「液化手段」なる記載を、「液状化手段」と訂正し、請求項１１における「液化剤」なる記載を、「液状化剤」と訂正する。 (3) 訂正事項３ 特許請求の範囲の請求項１２における「第２の中間層（１１４）の形成中に」なる記載を、「第２の中間層（１１４）の形成のために」と訂正する。 (4) 訂正事項４ 特許請求の範囲の請求項１５における「請求項９から１４のいずれか一項」なる記載を、「請求項１２から１４のいずれか一項」と訂正する。 (5) 訂正事項５ 特許請求の範囲の請求項１６、１８及び１９における「請求項１１の共通石膏スラリー」を、「請求項１５の共通石膏スラリー」と訂正する。 (6) 訂正事項６ 特許請求の範囲の請求項１７を削除する。 (7) 訂正事項７ 特許請求の範囲の請求項１及び１２における「外層」なる記載を、「外側層」と訂正する。 (8) 訂正事項８ 特許請求の範囲の請求項１における「第１の石膏スラリーが、第２のＳ２および／または第３のＳ３の石膏スラリーよりも低い水分量（重量）で、調製され、導入される」なる記載を、「第１の石膏スラリーＳ１が、第２のおよび第３の石膏スラリーＳ２、Ｓ３よりも低い水分率（重量）で、調製され、導入される」と訂正し、請求項１２における「石膏スラリーＳ１が、石膏スラリーＳ２およびＳ３よりも低い水分量（重量）で調製され、導入され、石膏スラリーＳ１の水分量（重量）が、石膏スラリーＳ２および／またはＳ３の水分量（重量）と比較して減少されている」なる記載を、「第１の石膏スラリーＳ１が、第２のおよび第３の石膏スラリーＳ２、Ｓ３よりも低い水分率（重量）で調製され、導入され、第１の石膏スラリーＳ１の水分率（重量）が、第２のおよび第３の石膏スラリーＳ２、Ｓ３の水分率（重量）と比較して減少されている」と訂正する。 (9) 訂正事項９ 特許請求の範囲の請求項１及び２における「（実質的に）」なる記載を、削除する。 (10) 訂正事項１０ 特許請求の範囲の請求項４、５及び７における「第１の（１１２）および／または第２の（１１４）中間層」なる記載を、「第１のおよび／または第２の中間層（１１２、１１４）」と訂正する。 (11) 訂正事項１１ 特許請求の範囲の請求項１２における「コア層（１３）」なる記載を、「コア層（１１３）」と訂正する。 (12) 訂正事項１２ 特許請求の範囲の請求項１５における「中間層（１１２）が形成されるように」、「第２の中間層が形成されるように」なる記載を、それぞれ「第１の中間層（１１２）が形成されるように」、「第２の中間層（１１４）が形成されるように」と訂正する。 (13) 訂正事項１３ 特許請求の範囲の請求項１６における「，、」を、「、」と訂正する。 (14) 訂正事項１４ 特許請求の範囲の請求項１９における「第１のおよび／または第２の中間層の（平均）厚さが０．５ｍｍ以上（乾燥後）であり」を、「第１のおよび／または第２の中間層の平均厚さが、それらの乾燥状態において、０．５ｍｍ以上であり」と訂正する。 (15) 訂正事項１５ 特許請求の範囲の請求項１２における「石膏プラスターボードの製造のための方法であって」を、「請求項１～８のいずれか一項に記載の石膏プラスターボードの製造方法であって」と訂正する。 (16) 訂正事項１６ 特許請求の範囲の請求項２０における「請求項１～８のいずれか一項に記載の石膏プラスターボードの製造方法である、および／または、第１のおよび／または第２の外側層、および／または石膏層と第１のおよび／または第２の外側層との間の中間層にメチルセルロースが添加される、および／または、第１の石膏スラリーＳ１が、ＦＧＤ、天然石膏またはチタン石膏である」を、「第１のおよび／または第２の外側層、および／または石膏層と第１のおよび／または第２の外側層との間の中間層にメチルセルロースが添加される、および／または、第１の石膏スラリーＳ１が、ＦＧＤ、天然石膏またはチタン石膏である」と訂正する。 ２ 訂正の目的の適否、新規事項の有無、特許請求の範囲の拡張・変更の存否 (1) 訂正事項１について 訂正事項１は、請求項３における「水分量」が各スラリー中の水分の絶対量でないことは明らかであることにかんがみ、明細書の【００４６】などにおける「水分率」なる記載に基づいて、当該「水分量」の内容を本来意図するものとする訂正であるから、明瞭でない記載の釈明ないし誤記の訂正を目的するものであって、新規事項の追加には該当しないとともに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 (2) 訂正事項２について 訂正事項２は、請求項１０、１１における「液化手段」および請求項１１における「液化剤」が明細書に記載されている用語と齟齬していることにかんがみ、明細書の【００５５】における「液状化手段」、「液状化剤」なる記載に基づいて、用語の統一を図るための訂正であるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものであって、新規事項の追加には該当しないとともに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 (3) 訂正事項３について 訂正事項３は、請求項１２における「第２の中間層（１１４）の形成中に」なる記載の内容が判然としないことにかんがみ、本来意図する意味内容に照らし、同請求項１２における「形成のために」なる記載と平仄を合わせる訂正であるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものであって、新規事項の追加には該当しないとともに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 (4) 訂正事項４、５、１１、１３について 訂正事項４、５、１１、１３は、それぞれ請求項１５の引用請求項に関する誤記、共通石膏スラリーが初出する請求項番号に関する誤記、コア層の表記番号に関する誤記、句読点に関する誤記を正すための訂正であるから、誤記の訂正を目的とするものであって、新規事項の追加には該当しないとともに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 (5) 訂正事項６について 訂正事項６は、単に請求項１７を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、新規事項の追加には該当しないとともに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 (6) 訂正事項７について 訂正事項７は、請求項１、１２において、同一の層に対して「外層」、「外側層」という異なる用語が当てられていたことにかんがみ、これらの用語の統一を図る訂正であるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものであって、新規事項の追加には該当しないとともに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 (7) 訂正事項８について 訂正事項８は、請求項１、１２における「水分量」について、上記訂正事項１と同様の訂正を行うとともに、当該水分量（水分率）に関する規定をさらに限定するものであるから、明瞭でない記載の釈明ないし誤記の訂正と特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、新規事項の追加には該当しないとともに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 (8) 訂正事項９について 訂正事項９は、請求項１、２における「（実質的に）」を削除するものであるから、明瞭でない記載の釈明ないし特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、新規事項の追加には該当しないとともに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 (9) 訂正事項１０、１２、１４について 訂正事項１０、１２、１４は、請求項４、５、７、請求項１５、請求項１９それぞれに記載された中間層に関する事項が正確さを欠くものであったことなどにかんがみ、他の請求項の同様の記載などにも照らしながら明瞭化して正確なものとする訂正であるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものであって、新規事項の追加には該当しないとともに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 (10) 訂正事項１５、１６について 訂正事項１５は、請求項２０に記載されていた「請求項１～８のいずれか一項に記載の石膏プラスターボードの製造方法である」なる記載に基づいて、この点を請求項１２に付加して当該請求項１２に係る発明を限定するものであり、訂正事項１６は、この限定に合わせて、請求項２０に記載されていた上記の記載を削除し、結果として、当該請求項２０に係る発明を限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、新規事項の追加には該当しないとともに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 ３ 小括 以上のとおり、本件訂正に係る訂正事項１～１６は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号から第３号までに掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合するものである。 したがって、本件特許の特許請求の範囲を、令和４年８月９日提出の訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１～２０〕について訂正することを認める。 第３ 特許請求の範囲の記載（本件発明） 上記第２のとおり、本件訂正は適法にされたものであるから、本件特許の特許請求の範囲の記載は、次のとおりのものとなった（請求項１～１６、１８～２０に係る発明を、請求項の番号に合わせて「本件発明１」などといい、総じて「本件発明」という。）。 「【請求項１】 石膏プラスターボードであって、第１の外側層（１１１）、第２の石膏スラリーＳ２によって形成された第１の中間層（１１２）、第１の石膏スラリーＳ１によって形成されたコア層（１１３）、第３の石膏スラリーＳ３で形成された第２の中間層（１１４）、および第２の外側層（１１５）を含み、 第１の中間層（１１２）が、第１の外側層（１１１）とコア層（１１３）との間に配置され、第２の中間層（１１４）が、第２の外側層（１１５）とコア層（１１３）との間に配置され 中間層（１１２、１１４）が、それぞれ０．１ｍｍ～３ｍｍの一定の厚さを有し、 前記石膏プラスターボードを構成する第１の石膏スラリーが、前記石膏プラスターボードを構成する全石膏スラリー（Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３）の少なくとも８０％（重量％）を含み、 【数１】 ［図：0001390544000001.jpg］ および、第１の石膏スラリーＳ１が、第２のおよび第３の石膏スラリーＳ２，Ｓ３よりも低い水分率（重量）で、調製され、導入される、前記石膏プラスターボード。 【請求項２】 第１の外側層（１１１）および／または第２の外側層（１１５）が紙層であり、および／または、中間層（１１２、１１４）のそれぞれが０．２ｍｍ～１ｍｍの一定の厚さを有するものである、請求項１に記載の石膏プラスターボード。 【請求項３】 石膏スラリーＳ１が、石膏スラリーＳ２および／またはＳ３と比較して１０重量％以上減少された水分率で調製され、導入されることを特徴とする、請求項１または２に記載の石膏プラスターボード。 【請求項４】 コア層（１１３）、および任意選択的に第１のおよび／または第２の中間層（１１２、１１４）も、主にまたは排他的に、天然石膏またはＦＧＤ石膏によって形成され、および／または、 コア層（１１３）が、α－石膏とβ－石膏との混合物によって形成され、 α－石膏とβ－石膏との関係が、１：４～４：１であることを特徴とする、請求項１または２に記載の石膏プラスターボード。 【請求項５】 コア層（１１３）が、その乾燥状態において、第１のおよび／または第２の中間層（１１２、１１４）の、それらの乾燥状態と比較して、同じまたは同様の密度を有し、 層（１１２、１１３、１１４）間の密度の差は、２０％未満であることを特徴とする、請求項１～４のいずれか一項に記載の石膏プラスターボード。 【請求項６】 コア層（１１３）が、その乾燥状態で、第１のおよび／または第２の中間層（１１２、１１４）と比較して減少された密度を有することを特徴とする、請求項１～５のいずれか一項に記載の石膏プラスターボード。 【請求項７】 コア層（１１３）の密度が、第１のおよび／または第２の中間層（１１２、１１４）と比較して、少なくとも２０％減少された密度を有する、請求項６に記載の石膏プラスターボード。 【請求項８】 中間層（１１２、１１４）が、同じ石膏スラリーＳ２、Ｓ３（Ｓ２＝Ｓ３）によって形成されることを特徴とする、請求項１～７のいずれか一項に記載の石膏プラスターボード。 【請求項９】 コア層（１１３）が、第１のミキサー（１０）において調製された石膏スラリーＳ１によって形成され、中間層（１１２、１１４）が、第２のミキサー（１２）で調製される第２の石膏スラリーＳ２によって形成されることを特徴とする、請求項１～８のいずれか一項に記載の石膏プラスターボード。 【請求項１０】 石膏スラリーＳ１が、液状化手段を含むことを特徴とする、請求項１～７のいずれか一項に記載の石膏プラスターボード。 【請求項１１】 液状化手段が、ナフタレンスルホン酸塩、および／またはリグニンスルホネート、および／またはコア層を形成するための別の液状化剤である、請求項１０に記載の石膏プラスターボード。 【請求項１２】 請求項１～８のいずれか一項に記載の石膏プラスターボードの製造方法であって、石膏プラスターボードが、第１の外側層（１１１）、第２の石膏スラリーＳ２によって形成される第１の中間層（１１２）、第１の石膏スラリーＳ１によって形成されるコア層（１１３）、第３の石膏スラリーＳ３によって形成される第２の中間層（１１４）、および第２の外側層（１１５）を有し、以下のステップ： － 第１の中間層（１１２）の形成のために、第２の石膏スラリーＳ２を第１の外側層（１１１）の上に堆積すること、 － コア層（１１３）の形成のために、第１の石膏スラリーＳ１を第１の中間層（１１２）上に堆積すること － 第２の中間層（１１４）の形成のために、第３の石膏スラリーＳ３をコア層（１１３）または第２の外側層（１１５）の上に堆積すること、 － 第２の外層（１１５）によって第３の石膏スラリーＳ３を覆うか、または第３の石膏スラリーＳ３と共に第２の外側層（１１５）をコア層（１１３）の上に接合堆積すること、および、 － 平滑化装置によって、多層石膏プラスターボードを平滑化することを含み、 第１の石膏スラリーＳ１が、第２のおよび第３の石膏スラリーＳ２、Ｓ３よりも低い水分率（重量）で調製され、導入され、第１の石膏スラリーＳ１の水分率（重量）が、第２のおよび第３の石膏スラリーＳ２、Ｓ３の水分率（重量）と比較して減少されている、前記方法。 【請求項１３】 石膏プラスターボードが、石膏スラリーＳ１、Ｓ２、Ｓ３の硬化後に、乾燥オーブンに供給され、 石膏プラスターボードが、時間の経過と共に非対称温度曲線を具備する乾燥プロセスに供給され、 乾燥工程の前半における温度が、乾燥工程の後半における温度よりも高く設定されることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。 【請求項１４】 石膏プラスターボードが個々のプレートにおける形成後に乾燥プロセスに供給され、および／または、乾燥工程の前半における平均温度が、乾燥工程の後半における平均温度よりも少なくとも３０Ｋ高い、請求項１３に記載の方法。 【請求項１５】 請求項１２から１４のいずれか一項に記載の方法であって、以下のステップ： － 第１のミキサー（１０）の使用によって、第１の石膏スラリーＳ１を提供すること、ここにおいて原材料を第１のミキサーに供給するための第１の供給手段が提供され、 － 第１のミキサーから離間された、別の第２のミキサー（１２）の使用によって、共通スラリーの部分としての特定の種類の石膏の第２のおよび第３の石膏スラリーＳ２、Ｓ３を提供すること、ここにおいて、原材料を第２のミキサーに供給するための別個の第２の供給手段が提供され、 － 第２の石膏スラリーの第１の中間層（１１２）が形成されるように、第２の石膏スラリーＳ２を堆積すること、 － 第３の石膏スラリーの第２の中間層（１１４）が形成されるように、第３の石膏スラリーＳ３を堆積すること、 － 第１の石膏スラリーのコア層が第１のおよび第２の中間層（１１２、１１４）の間に形成されるように、第１のおよび／または第２の中間層（１１２、１１４）上へ第１の石膏スラリーＳ１の少なくとも一部を堆積すること、 を含む、前記方法。 【請求項１６】 第１のおよび第２の石膏スラリーＳ１、Ｓ２が、添加剤の種類および／または量において異なり、および／または、第１のおよび第３の石膏スラリーＳ１、Ｓ３が、添加剤の種類および／または量において異なり、第１のおよび請求項１５の共通石膏スラリーが、添加剤の種類および／または量において異なり、および／または 任意に、第１の石膏スラリーおよび／または第２の石膏スラリーおよび／または第３の石膏スラリーおよび／または請求項１５の共通石膏スラリーに、メチルセルロースが添加されることを特徴とする、請求項１２～１５のいずれか一項に記載の方法。 【請求項１７】（削除） 【請求項１８】 第２のおよび／または第３の石膏スラリーＳ２、Ｓ３および／または請求項１５の共通石膏スラリーが、第１の石膏スラリーＳ１よりも速く固化することを特徴とする、請求項１２～１７のいずれか一項に記載の方法。 【請求項１９】 第１のおよび／または第２の中間層の平均厚さが、それらの乾燥状態において、０．５ｍｍ以上であり、および／または 石膏プラスターボードの長手方向縁部の領域が、より多い量の第２のおよび／または第３の石膏スラリーＳ２、Ｓ３および／または請求項１５の共通石膏スラリーを含有することを特徴とする、請求項１２～１８のいずれか一項に記載の方法。 【請求項２０】 第１のおよび／または第２の外側層、および／または石膏層と第１のおよび／または第２の外側層との間の中間層にメチルセルロースが添加される、および／または、第１の石膏スラリーＳ１が、ＦＧＤ、天然石膏またはチタン石膏である、請求項１２～１９のいずれか一項に記載の方法。」 第４ 令和３年９月１４日付けで当審が通知した取消理由の概要と当該取消理由についての当審の判断 １ 標記取消理由の概要 標記取消理由は、先の訂正前（設定登録時）の請求項１～２０に係る特許は、以下の理由により特許法第１１３条第４号に該当するため取り消すべきものである、というものである。 ・取消理由１ （明確性要件違反）本件特許は、特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 ・取消理由２ （サポート要件違反）本件特許は、特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 ２ 取消理由１、２（明確性要件違反、サポート要件違反）についての当審の判断 上記取消理由１、２（明確性要件違反、サポート要件違反）は、本件特許の特許請求の範囲の記載につき、使用されている用語（水分量、液化手段など）が明細書中の用語と整合していないなどの軽微な記載不備を縷々指摘したものである。 これらの軽微な記載不備については、上述の本件訂正によって解消されたものと認められる。 したがって、取消理由１、２には理由がない。 第５ 令和４年５月１０日付けで当審が通知した取消理由（決定の予告）の概要と当該取消理由についての当審の判断 １ 標記取消理由（決定の予告）の概要 先の訂正後の請求項１２、１５、１６に係る発明は、以下に示す引用文献１又は引用文献２に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号に掲げる発明であるから、その特許は、同項の規定に違反してされたものであるため、同法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。 ・引用文献１：特開平１０－２１７３８４号公報 ・引用文献２：特開平１０－２１７３８５号公報 ２ 取消理由（決定の予告）についての当審の判断 上記取消理由（決定の予告）は、先の訂正後の請求項１２、１５、１６に係る発明のみを対象に、上記引用文献１又は引用文献２に記載された発明に基づいて、新規性が欠如するとしたものであるが、本件訂正により当該請求項１２に係る発明は、当該取消理由（決定の予告）が対象としていない、先の訂正後の請求項２０に係る発明の選択肢の一つにまで限定された。そのため、本件発明１２、さらには、本件発明１２の発明特定事項をすべて具備する本件発明１５、１６に、当該取消理由（決定の予告）は妥当しない。 したがって、取消理由（決定の予告）には理由がない。 なお、上記引用文献１に実施例１として記載された石膏ボードの製造方法（標記取消理由（決定の予告）において「引１発明」としたもの）、及び、上記引用文献２に実施例１として記載された石膏ボードの製造方法（同じく「引２発明」としたもの）は、いずれも本件発明１２が具備する、中間層の厚さに関する技術的事項を有していないし、引用文献１、２を子細にみても、これらの引用発明において当該技術的事項を適用ないし付加することが当業者にとって容易想到の事項であると認めるに足りる記載などは見当たらない（さらにいうと、この技術的事項は、本件発明１２に係る請求項１２が引用している請求項１に記載された事項であるから、本件発明１との対比においても事情は同じである。）。 第６ 取消理由通知において採用しなかった特許異議申立理由の概要と当該特許異議申立理由についての当審の判断 １ 取消理由通知において採用しなかった特許異議申立理由の概要 (1) 特許異議申立人が主張する特許異議申立理由のうち、明確性要件違反及びサポート要件違反に関する理由は、おおむね上記取消理由１、２の内容と重複するものであるが、これに加え、以下の明確性要件違反についても指摘するものである。 ・先の訂正前（設定登録時）の請求項５に係る発明における「乾燥状態」の程度が明らかではなく、これに起因して、当該程度に左右される「密度差」の内容も明らかではないから、当該発明は不明確である（特許申立書６６、６７頁の「第２の理由」）。 ・先の訂正前（設定登録時）の請求項１９、２０に係る発明における「および／または」で接続された選択肢は、類似の性質又は機能を有していないため、当該発明は不明確である（特許申立書６６、６７頁の「第２の理由」）。 (2) さらに、特許異議申立人は、後記甲第１号証を主たる証拠とする新規性欠如及び進歩性欠如に関する理由についても指摘する。 ２ 明確性要件違反についての当審の判断 本件発明５の「乾燥状態」とは、製品化された状態を指すものと解するのが相当であり、これ自体に不明確なところは見当たらない。 また、本件発明１９、２０における「および／または」で接続された選択肢が、類似の性質又は機能を有していないとしても、そのこと自体が、ただちに第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確であるとは言い難い。また、当該選択肢の類似性に関する指摘は、単一性要件違反についての指摘とほぼ同義のものと解されるところ、当該単一性要件違反については特許法第１１３条各号において特許異議申立理由とはされていない。これらを併せ考慮すると、特許権設定後の場面において、当該選択肢の類似性に関する指摘のみを理由として、明確性要件違反とすることは妥当ではないというべきである。 以上のとおりであるから、特許異議申立人が主張する上記明確性要件違反に関する理由はいずれも理由がない。 ３ 新規性欠如及び進歩性欠如についての当審の判断 (1) 主たる証拠 ・甲第１号証：仏国特許出願公開第２９５９４４０号明細書 (2) 従たる証拠 ・甲第２号証：欧州特許出願公開第０９５７２１２号明細書 ・甲第３号証：特開２０００－１１７８８２号公報 ・甲第４号証：特表２００４－５２８２０４号公報 ・甲第５号証：特開昭６０－２３１４７６号公報 (3) 甲第１号証の記載事項 甲第１号証には、和訳にして以下の事項が記載されている。なお、和訳については特許異議申立人が提出したものをそのまま用いた。 ア 「少なくとも１つのフェーシングと、水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材の少なくとも１つの層であり、各コーティングされた軽量充填材は２００μｍ～５ｍｍの平均直径を有している層と、フェーシングと水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材の層との間の少なくとも１つの結合層とを含み、前記結合層は、プラスターを含み、水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材を含まない、プラスターボード。」（請求項１） イ 「以下の工程を含む、請求項１～７に記載のプレートの製造方法: ａ）少なくとも第１のフェーシングをもたらす; ｂ）第１プラスターペーストを調製する； ｃ）ステップｂ）で得られたペーストを第１の結合層の第１のフェーシングに広げる； ｄ）高せん断ミキサーを用いた水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材の調製; ｅ）工程ｄ）で得られたコーティングされた軽量充填材を、コーティングされた軽量充填材の層中の工程ｃ）で得られた第１の結合層上に注ぐ; ｆ）第２フェーシングを持ってくる； ｇ）第２のプラスターペーストを調製する； ｈ）工程ｇ）で得られた第２のプラスターペーストを第２の結合層の第２のフェーシングに広げる； i）ステップ（ｈ）で得られた第２のフェーシングを、ステップ（ｅ）で得られたプリフォームでコーティングされた軽量充填材の層上に堆積させる； j）プリフォームに圧力を加える。」（請求項８） ウ 「本発明は、水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材の少なくとも１つの層を含むプラスターボードに関する。 石膏ボード製造工場は、「失水」を低減するための経済的アプローチに着手した。実際、過剰の水を排除することを目的とする石膏ボードの乾燥は、多くのエネルギーを必要とし、コストが無視できない工程である。また、プレートの乾燥によって生じる生産コストを低減し、生産速度を増加させるために、この水の低減が必須となっている。 産業界の要求を満たすために、石膏ボード中で蒸発する水の量を減少させる別の手段を見出すことが必要になってきた。 今日の石膏ボードの類型は、石膏ボード製造工場で行われる「失水」を減少させる経済的アプローチにおける解決策を表す。 また、本発明が解決しようとする課題は、製造中に必要とする水が少ない新しい石膏ボードを提供することである。 予想外にも、本発明者らは、特に水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材から得られるコアを含む改質構造を有するプレートを、このコアを作製するための流体ペーストを調製する工程なしで製造することによって、石膏ボード中で蒸発される水の量を減少させることが可能であることを実証した。」（第１頁３行目～２２行目） エ 「好ましくは、本発明による石膏ボードの水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材は、０.１８～０．３０、好ましくは０．２２～０．２７、さらにより好ましくは０．２３～０．２５のＷ／Ｐ比(水／石膏、石膏はそのＣａＳＯ４・０．５Ｈ２Ｏ形態であり、乾燥質量である)を有する。 好ましくは、本発明によるプラスターボードの結合層は、０．４～０．８、好ましくは０．５～０．７、さらにより好ましくは０．５～０．６のＷ／Ｐ比(水／石膏、石膏はそのＣａＳＯ４・０．５Ｈ２Ｏ形態であり、乾燥質量である)を有する。一変形例によれば、本発明によるプラスターボードは、同一または異なる密度を有するいくつかの結合層を含むことができる。」(第５頁１２行目～２１行目) オ 「有利には、本発明によるプラスターボードはまた、硫酸カルシウムに基づく混合物中に組み込まれた、水和された、またはされていない、種々の添加剤または補助剤を含むことができ、軽量充填材をコーティングするのに役立つか、または結合層のプラスターペースト中に組み込まれる。本発明によるプラスターボードは、流動化剤、硬化調節剤(促進剤、遅延剤)、増粘剤(例えばデンプン)、可塑剤、界面活性剤、撥水剤、発泡剤、不活性充填剤等のような通常使用される補助剤を有利に含有することができる。 本発明の種々の変形に応じて、結合層のプラスターペースト、または軽量充填材をコーティングするために使用される水和または非水和硫酸カルシウムに基づく混合物はまた、以下を含むことができる： －例えば、ポリメラミンスルホネート(PMS)、ポリナフタレンスルホネート(PNS)、ポリオキシエチレンポジカルボキシレート(PCP)などの流動化剤; －例えば、カルボキシメチルセルロース、メチルヒドロキシプロピルセルロースまたはメチルヒドロキシエチルセルロースなどのセルロース誘導体、例えば、アカシア、トラガント、イナゴム、デキストラン、ジタン、ゲラン、グアー、スクレログルカン、ウェラン、ポリエチレンオキシド、デンプンまたはその誘導体などの植物性ゴム、ゼラチン、多糖類、親水コロイド、寒天、カラギーナンなどの増粘剤; －例えばアルコール、ポリオール、特にジオールのような湿潤剤; －例えば、カルボン酸ポリマーまたはそれらの塩のような分散剤; －促進剤型硬化調節剤(例えば、生石膏、K2SO4、硫酸塩、石膏50%、デンプン40%およびリグノ硫酸カルシウム10%の混合物であるバリミルド促進剤)または遅延剤型(例えば、糖、ポリアクリレートの分解または非分解タンパク質)； －例えば、炭酸カルシウム、石膏、石膏ボード不良品から得られる石膏のような不活性充填剤； －バーミキュライト、パーライト、エアゲル、コルク等の軽質充填剤－例えば植物又は鉱物繊維、古紙等の繊維。」（第６頁４行目～３８行目） カ 「本発明によるプラスターボードは、少なくとも１つのフェーシングを含む。石膏ボードの製造に使用される従来のフェーシングは、セルロース繊維(例えば、紙、再生紙のフェーシング)または無機繊維(例えば、ガラス繊維のフェーシング)から作製されるフェーシングのように、非常に特に好適である。」(第７頁４行目～８行目) キ 「本発明によるプラスターボードは、例えばプラスター結合層のような少なくとも１つの結合層を合む。従来のプラスターボードの結合プラスター層、例えば、少なくとも主成分としてプラスター、水およびデンプンを有するＢＡ１３夕イプの従来のプラスターボードに存在する高密度層が特に適している。 一般に、石膏ボード、より詳細には、フェーシングからの距離の関数として密度が変化する石膏コアを有する石膏ボードの製造が知られている。発泡剤をペーストに組み込むことによって、低密度コア層を有する石膏ボードを製造することが知られている。このコア層は、高密度フェーシング層(緻密層または結合層)によって挟まれている。表面プラスター層は、フェーシングと一体である。一般に、このタイプのプレートを製造するための装置は、以下を含む: － フェーシングを供給する手段 － 第１のプラスターペーストを調製するための第１のミキサー － フェーシングに第１のプラスターペーストを塗布するための手段 － この第１のプラスターペーストをフェーシング上の第１のグリーンフェーシング層に広げるための手段 － 較正手段は、この第１のグリーンフェーシング層の厚さを制御することを可能にする － 第２のプラスターペーストを調製するための第２のミキサー － 第１のグリーンフェーシング層上のグリーンコア層に第２のプラスターペーストを塗布するための手段 － このグリーンコア層の厚さを較正するための手段 － 第３のプラスターペーストを調製するための第３のミキサー － 第２のフェーシングを供給するための手段、 － 第２のフェーシングの上に第３のプラスターペーストを塗布するための手段 － 第２のグリーンフェーシング層に広がるための手段 － 較正手段は、この第２のグリーンフェーシング層の厚さを制御することを可能にする － 第２のフェーシングを回転させるための手段 － 石膏ボードを成形するための方法 － フェーシング層および未加工層を駆動するための手段」（第７頁９行目～第８頁５行目） ク 「第１および第２の石膏ペーストおよび水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽質充填材は、プラスターの水和によって迅速に硬化する。・・・次に、過剰の水を除去するために、例えば乾燥機中で加熱することによって、プレートを乾燥させる。」（第８頁３６行目～第９頁５行目） ケ 「最初に図１を参照すると、本発明によるプラスターボードは、第１および第２のフェーシング（１および２）、第１および第２の緻密層（３および４）、被覆された軽量充填材（６）を含むコア層（５）を含む。」（第９頁２０行目～２３行目） コ 「１／コーテイングされた軽量充填材の準備 硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材は、以下の成分から得られる： ○石膏（合成由来の場合） 〇軽量充填材（直径１．２５ｍｍ、密度０．０５ｇ／ｃｍ３の発泡ポリスチレンボール） ○凝結遅延剤(Sicit社のRetardan P） 〇水。 硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材を形成するために使用されるこれらの成分の割合の例を以下に示す: （表の摘記は省略） コーティングされた軽量充填材の製造は、以下のプロトコールに従って実施される： 〇１／に記載した軽量充填材をミキサーに装填し、 ○ミキサーを低速（レイネリミキサーの速度１）で開始し、次いで点１／に示す量の水を約１分間かけて徐々に添加する； ○遅い速度（Rayneriミキサーの速度１）を維持し、点１／に示す量のプラスターを約２分間かけて徐々に添加する； ○混合速度（Rayerniミキサーの速度２）を上げ、３０秒間維持してから停止する； ○ミキサーを取り出す。」（第９頁２８行目～第１０頁１６行目） サ 「２／緻密層の形成に使用されるプラスターペーストの調製 ２－１／結合層（または高密度層）の形成に使用されるプラスターペーストは、プラスターペーストの調製に従来使用されているミキサー（例えば、Rayneri社のTurbotestミキサー３３/３００）を使用した、いくつかの成分の均一な混合物の結果である。プラスターペーストの成分の割合は以下の通りである： ○石膏（合成由来の場合）：６２．４ｇ 〇水：３７．５ｇ 〇デンプン(CerestarからのＣ十０５０７２)：０．１２５ｇ 〇硬化遅延剤(Sicit Retardan P）：０．００３１ｇ 結合層に使用されるペーストの調製における工程は、以下の通りである： ○成分の秤量; ○次に、混合ボウル内の水および硬化遅延剤を導入し、均質化する； 〇石膏とデンプンの均質化; 〇ミキサーの起動; ○石膏/デンプン混合物の３０秒間にわたる段階的導入; ○混合を１分間続けた後、ミキサーを停止する。」（第１０頁１８行目～第１１頁７行目） シ 「３／本発明による石膏ボードの調製 石膏ボードの調製には、以下の材料が必要である： ○遊星ミキサー(Rayneri社製)； 〇２つの対向する貯蔵ロールと、２つの対向する供給手段(それぞれ２つのローラによって形成される)と、コーティングペーストのための２つのコーティングシステムとからなる石膏ボード形成手段(Lafargeによって開発されたパイロットユニット)。緻密層を形成するプラスター(それぞれが対向する巻き戻し手段上に設置される)、コーティングされた装入物を供給するための計量ホッパー、形成されたプレートの厚さを較正するための手段。 上記の材料を用いて、石膏ボードの調製は、以下の順序で行われる： ○プラスターボード形成媒体の調製: ・石膏ボードを形成するために慣用的に使用されるセルロースサイディングを有するサイディング貯蔵ロールの装填 ・サイディング保管・取扱ローラーの整合 ・結合層の最終厚さが１ｍｍになるように、フェーシング材上に結合層を形成するペーストのためのコーティング系を調整すること ・厚さ１３ｍｍになるようなプレート較正システムの調整 〇１／に記載された組成およびプロトコールに従ったコーティングされた軽量充填材の調製 ○成形手段の計量ホッパーにコーティングされた軽量充填材を装填することは、コーティングされた軽量充填材の調製プロトコールの最後の工程の後１０分未満である ○結合層の形成に使用されるプラスターペーストの調製であって、その組成は、ポイント２／に記載されたものと同様である ○結合層を調製するためのプロトコールの最後の工程の１０分未満後に、結合層の形成のために使用されるプラスターペーストを形成媒体のコーティング系に装填すること ○コーティングシステムの形成手段の始動 ○計量ホッパーへの供給と、計量ホッパーの出口でのコーティングされた軽量充填材への落下時のスプレー水（流量＝コーティングされた軽量充填材の流量の５％） ○プラスターボードを得るまでプレートを連続的に成形する。 ○石膏ボードが完全に水和するまでの限られた環境での石膏ボードの成熟 ○以下の温度プロフィールを有する換気オープン中でのプレートの乾燥： ・１１分で１８０℃まで昇温 ・１８０℃で１分間の定常温度 ・１２０℃まで３分間降温 ・４５℃で５分間の乾燥終了。」（第１１頁９行目～第１２頁２５行目） ス 「 ［図：0001390544000002.jpg］ 」（Ｆｉｇｕｒｅ１) (4) 甲第１号証に記載された発明 甲第１号証には、上記(3)ア、イに摘記した、プラスターボード及びその製造方法に関する、以下の発明が記載されている。 ・「少なくとも１つのフェーシングと、水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材の少なくとも１つの層であり、各コーティングされた軽量充填材は２００μｍ～５ｍｍの平均直径を有している層と、フェーシングと水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材の層との間の少なくとも１つの結合層とを含み、前記結合層は、プラスターを含み、水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材を含まない、プラスターボード。」（以下、「甲１プラスターボード」という。） ・「以下の工程を含む、「甲１プラスターボード」の製造方法: ａ）少なくとも第１のフェーシングをもたらす; ｂ）第１プラスターペーストを調製する； ｃ）ステップｂ）で得られたペーストを第１の結合層の第１のフェーシングに広げる； ｄ）高せん断ミキサーを用いた水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材の調製; ｅ）工程ｄ）で得られたコーティングされた軽量充填材を、コーティングされた軽量充填材の層中の工程ｃ）で得られた第１の結合層上に注ぐ; ｆ）第２フェーシングを持ってくる； ｇ）第２のプラスターペーストを調製する； ｈ）工程ｇ）で得られた第２のプラスターペーストを第２の結合層の第２のフェーシングに広げる； i）ステップ（ｈ）で得られた第２のフェーシングを、ステップ（ｅ）で得られたプリフォームでコーティングされた軽量充填材の層上に堆積させる； j）プリフォームに圧力を加える。」（以下、「甲１プラスターボードの製造方法」という。） (5) 「甲１プラスターボード」に基づく本件発明１～１１の新規性・進歩性について ア 本件発明１について まず、本件発明１と「甲１プラスターボード」とを対比すると、「甲１プラスターボード」における「少なくとも１つのフェーシング」、「水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材の少なくとも１つの層」及び「フェーシングと水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材の層との間の少なくとも１つの結合層」は、それぞれ本件発明１における「外側層」、「コア層」及び「中間層」にあたるものであるから、両者は、層構造において共通するところは認められるものの、少なくとも以下の点において相違するものということができる。 すなわち、本件発明１におけるコア層は、石膏スラリーによって形成されるものであるのに対して、これに対応する「甲１プラスターボード」の「水和硫酸カルシウムでコーティングされた軽量充填材の少なくとも１つの層」は、水和硫酸カルシウムを使用しているものの、これは当該層（コア層）を形成する軽量充填材のコーティング用に使用されたものであって、当該層（コア層）自体の形成に使用されたものではない（あくまで当該層を形成しているのは軽量充填材である。）。 そして、この相違点は実質的な事項である上、当該相違点を容易想到の事項というに足りる証拠は、甲第２～５号証を子細にみても見当たらない。 そうである以上、甲第１号証に記載された発明に基づいて、本件発明１が新規性及び進歩性が欠如するということはできない。 イ 本件発明２～１１について 本件発明２～１１は、本件発明１の発明特定事項をすべて具備するものであるから、上記アと同様の理由により、甲第１号証に記載された発明に基づいて、新規性及び進歩性が欠如するということはできない。 (6) 「甲１プラスターボードの製造方法」に基づく本件発明１２～１６、１８～２０の新規性・進歩性について 本件発明１２～１６、１８～２０と「甲１プラスターボードの製造方法」とを対比しても、コア層の形成において上記(5)アと同様の相違点が認められるから、本件発明１２～１６、１８～２０についても、甲第１号証に記載された発明に基づいて、新規性及び進歩性が欠如するということはできない。 (7) 小括 以上のとおり、本件発明１～１６、１８～２０は、甲第１号証に記載された発明に基づいて、新規性を欠如するとも、進歩性を欠如するともいえないから、特許異議申立人が主張する新規性欠如及び進歩性欠如に関する理由は、いずれも理由がない。 第７ 結び 以上のとおりであるから、取消理由通知に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した特許異議申立理由によっては、本件特許の請求項１～１６、１８～２０に係る特許を取り消すことはできない。また、他にこれらの特許を取り消すべき理由を発見しない。 さらに、請求項１７は、上記のとおり、本件訂正により削除されたので、当該請求項１７に係る特許異議の申立てについては、申立ての対象が存在しないものとなったため、特許法第１２０条の８第１項で準用する同法第１３５条の規定により却下する。 よって、結論のとおり決定する。