2015-022241

特願２０１３－５１０６２１「改良コーティングを有するガラスまたはガラスセラミック物品の調製およびその物品」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年１１月２４日国際公開、ＷＯ２０１１／１４４６７１、平成２５年　８月　１日国内公表、特表２０１３－５３０９１３〕について、次のとおり審決する。

【結　論】 本件審判の請求は、成り立たない。

【理　由】 １　手続の経緯 本願は、２０１１年５月１８日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２０１０年５月１９日、フランス）を国際出願日とする出願であって、平成２６年１１月５日付けで拒絶の理由が通知され、これに対して、平成２７年５月１１日に意見書及び手続補正書が提出されたが、同年８月１４日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年１２月１７日に拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。 ２　本願発明 本願の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は、平成２７年５月１１日にされた手続補正によって補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 【請求項１】 その構造が、ガラスまたはガラスセラミック基体および該基体の表面の少なくとも一部分に固定されたコーティングを含む物品を調製する方法において、 ガラスまたはガラスセラミックの基体を提供する工程、 前記基体の表面の少なくとも一部分の上に、連続相と分散相を含む分散体の層を施す工程であって、前記連続相が、溶媒中に溶解した、少なくとも１種類のポリシルセスキオキサン樹脂、あるいは少なくとも１種類のポリシルセスキオキサン樹脂および少なくとも１種類の添加剤からなり、該少なくとも１種類のポリシルセスキオキサン樹脂が式（ＨＳｉＯ１．５）および／または式（ＲＳｉＯ１．５）の単位を有し、これらの単位のラジカルＲが同じかまたはそうではなく、全てがアリールラジカルとは異なり、前記分散相が鉱物充填剤からなる、工程、および 前記溶媒を除去し、前記樹脂を架橋させるように、前記層が被覆された基体または前記層を熱処理する工程、 を有してなる方法。 ３　原査定の理由 原査定の理由の一つは、本願発明１が、特表２００７－５０７５８３号公報に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないというものである。 ４　新規性の判断 本願発明１が新規性を有するかを以下に検討する。 引用文献１：特表２００７－５０７５８３号公報 周知例１：特表２００６－５２４７３７号公報 周知例２：国際公開第２００９／１２９９１２号 （１）引用文献１、周知例１～２の記載事項 ア　引用文献１には、以下の事項が記載されている。 （ア）　「【請求項１】 絶縁層を形成するための組成物であって、 無機ナノ粒子を含む混合物、 溶媒および １種以上の任意の添加剤 を含み、前記無機ナノ粒子が前記混合物の質量を基準として５～９５重量％の量で存在し、かつ、前記混合物の質量を基準として５～９５質量％の量のポリメチルシルセスキオキサンに分散されており、前記組成物がディジタル印刷技術を用いて当該組成物を適用するのに適する粘度を有する組成物。」 （イ）　「【００１３】 「シルセスキオキサン」または「オルガノシルセスキオキサン」あるいは「ポリオルガノシルセスキオキサン」などの用語はナノ複合材料コーティング分散体の流体分散相を意味する。分散相は流体のブレンドを含んでもよいか、または溶液分散相を提供する添加された溶媒を含んでもよい。」 （ウ）　「【００２０】 特に、本発明は、ポリオルガノシルセスキオキサンポリマーおよびポリオルガノシルセスキオキサンに分散された酸化物粒子を含む印刷可能組成物を提供する。印刷可能な組成物は硬化した絶縁層を提供するために熱硬化性である。…」 （エ）　「【００４０】 印刷可能な組成物は、例えば、放射線照射および熱暴露などを経由して硬化させることにより印刷後に通常硬化される。…」 （オ）　「【００４２】 Ａ．珪素および酸素を含むポリマー 本発明により製造された組成物は、典型的にはポリシルセスキオキサンの形を取った珪素により配位された酸素のポリマーを含む。ポリシルセスキオキサンは、［ＲＳｉＯ３／２］の形を取った３個の橋架け酸素原子により配位された珪素を有し、多様な錯体三次元形状を形成することが可能である。種々のポリシルセスキオキサン、例えばポリメチルシルセスキオキサンを用いることが可能である。適する特定のポリシルセスキオキサンとしては、オハイオ州コロンブスのテクネガルス（Ｔｅｃｈｎｅｇａｌｓ（Ｃｏｌｕｍｂｕｓ，ＯＨ））からＧＲ６５３Ｌ、ＧＲ６５４ＬおよびＧＲ６５０Ｆというラベルで販売されているポリメチルシルセスキオキサンが挙げられるが、それらに限定されない。追加の好適なマトリックスポリマーとしては、ゲル透過クロマトグラフィを用いて決定した時に約２，３００～約１５，０００の分子量を有するオルガノシルセスキオキサン、特にメチルシルセスキオキサン樹脂が挙げられる。」 （カ）　「【００４９】 Ｃ．他の成分 …本発明によるコーティングに対して柔軟性を高めるための任意の添加剤には、印刷され硬化した組成物の約１重量％～約４０重量％以上の少量でコーティング配合物に添加してもよい材料が挙げられる。柔軟剤は、硬化すると架橋シルセキオキサン網目に組み込まれ、架橋間の直線距離を有効に増し、よって架橋密度を減らす反応性成分を含む。…」 （キ）　「【００５１】 アルコール、ケトン、エーテルおよびアセテートなどを含む様々な溶媒を本発明の組成物中で適切に用いることが可能である。具体的な溶媒としては、メタノール、エタノール、ブタノールおよび１－メトキシ－２－プロパノールが挙げられる。」 （ク）　「【００５５】 本発明は、タッチ型作動ユーザ入力装置を製造する方法であって、基材を用意する工程、ポリメチルシルセスキオキサンを含む組成物を前記基材上に印刷する工程および１５０℃より低い温度でポリメチルシルセスキオキサンを含む組成物を硬化させて絶縁層を形成する工程を含む方法に更に関連する。」 （ケ）　「【００７０】 実施例３ この実施例は、シリカナノ粒子入りのポリシルセスキオキサンのインクジェット印刷を試験した。 【００７１】 最初に、メチルトリエトキシシラン処理された「ナルコ（ＮＡＬＣＯ）」２３２７　２０ｎｍシリカ粒子を調製した。攪拌棒が装着された１リットルの反応容器に１２５．０ｇの「ナルコ（ＮＡＬＣＯ）」２３２７（水中の約２０ｎｍシリカ粒子の４１．４５％水性分散液）を添加した。攪拌しているゾルに１４３．７５ｇの１－メトキシ－２－プロパノール中の５．７２７７ｇのメチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＯＳ）（０．６２ミリモルシラン／ｇシリカ）を３０分にわたってゆっくり添加した。密封反応容器を９０℃のオーブンに２０時間にわたり入れた。反応容器をオーブンから取り出し、水を真空でメトキシプロパノールとの共沸混合物として除去して、１－メトキシ－２－プロパノール中のメチルトリエトキシシラン処理された「ナルコ（ＮＡＬＣＯ）」２３２７粒子の溶液を残した。その後、粗いフィルターを通して溶液を濾過して粒子状物質を除去し、溶液は重量分析によって１－メトキシ－２－プロパノール中の２２．３％ＭＴＥＯＳ－２３２７であると決定した。 【００７２】 次に、別個の容器内で、ブタノール中の「テクネグラス（Ｔｅｃｈｎｅｇｌａｓ）」ＧＲ－６５０Ｆポリメチルシロキサンを調製した。１リットルのガラスジャーに５０１ｇのブタノール（アルドリッチ（Ａｌｄｒｉｃｈ））に加えて２１４．７２ｇの「テクネグラス（Ｔｅｃｈｎｅｇｌａｓ）」ＧＲ－６５０Ｆガラス樹脂（ロット＃５５８３０）を添加した。オーバーヘッドスターラーを用いて溶液を６時間にわたり攪拌して、ブタノール中のＧＲ６５０Ｆの均質溶液をもたらした。溶液はブタノール中の３０重量％ＧＲ－６５０Ｆであった。 【００７３】 インクジェットのためのＭＴＥＯＳ－２３２７充填ＧＲ６５０Ｆ樹脂： 大きなバイアルにブタノール中の１７．０ｇの３０％「テクネグラス（Ｔｅｃｈｎｅｇｌａｓ）」ＧＲ－６５０Ｆ樹脂および１－メトキシ－２－プロパノール中の１０．０ｇの２２．３％ＭＴＥＯＳ－２３２７粒子を添加した。バイアルを密封し、振とうによって混合して、色合いが若干青味がかった均質溶液をもたらした。１部の水酸化アンモニウム（メタノール中２５％）および２部の蟻酸からなる触媒を添加し、３重量％（０．１５３０ｇ）で溶液に混合した。 【００７４】 Ｃ２５カップを用いる「ボーリン・インストルメンツ・ＣＶＯ・ハイレゾリューション・レオメータ（Ｂｏｈｌｉｎ　　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ　ＣＶＯ　Ｈｉｇｈ　Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ　Ｒｈｅｏｍｅｔｅｒ）」でこの溶液のレオロジーを測定した。１ｓ－１の剪断速度でのこれらの組成物の粘度は１２ｃＰであった。３５ボルトで「ザールジェット（Ｘａａｒｊｅｔ）」１２８　７８ｐＬプリントヘッドを用いて、この溶液をガラス上にインクジェット印刷した。サンプルを１３０℃のオーブンに１５分にわたって入れた。これはハード連続フィルムをもたらした。」 イ　周知例１には、以下の事項が記載されている。（なお、下線部は当審が付したものである。以下、同じ。） （ア）　「【００５３】 実験 原材料 … ＯＳ１＝８，０５０の分子量を有するポリメチル－シルセスキオキサン樹脂としてオハイオ州ペリズバーグのテクネグラス・インコーポレーテッド（Ｔｅｃｈｎｅｇｌａｓ Ｉｎｃ．，Ｐｅｒｒｙｓｂｕｒｇ，ＯＨ）から入手可能なＧＲ－６５０Ｆ。」 ウ　周知例２には、以下の事項が記載されている。（なお、翻訳は、周知例２のパテントファミリーである特表２０１１－５２３２０１号公報の記載を参照して当審が作成した。） （ア）　「Ｓｕｉｔａｂｌｅ　ａｎｄ　ｐｒｅｆｅｒｒｅｄ　ｍａｔｅｒｉａｌｓ　ｆｏｒ　ｔｈｅ　ｓｔａｂｉｌｉｚｉｎｇ　ｌａｙｅｒ　（８）　ａｒｅ　ｇｌａｓｓ　ｒｅｓｉｎｓ　ｌｉｋｅ　ｆｏｒ　ｅｘａｍｐｌｅ　ｓｉｌａｎｏｌ－ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ　ｐｏｌｙｍｅｒｓ，　ｓｕｃｈ　ａｓ　ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅｓ　ａｓ　ｄｅｓｃｒｉｂｅｄ　ｆｏｒ　ｅｘａｍｐｌｅ　ｉｎ　ＵＳ　５，８６１，２３５．　Ｅｓｐｅｃｉａｌｌｙ　ｓｕｉｔａｂｌｅ　ａｎｄ　ｐｒｅｆｅｒｒｅｄ　ａｒｅ　ｃｏｍｍｅｒｃｉａｌｌｙ　ａｖａｉｌａｂｌｅ　ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅｓ　ｏｒ　ｔｈｅｉｒ　ｐｒｅｃｕｒｓｏｒｓ，　ｌｉｋｅ　ｔｈｅ　ｍａｔｅｒｉａｌｓ　ｏｆ　ｔｈｅ　ＨａｒｄＳｉｌＴＭ　ｓｅｒｉｅｓ　（ｆｒｏｍ　Ｇｅｌｅｓｔ　Ｉｎｃ．，　Ｍｏｒｒｉｓｖｉｌｅ，　ＰＡ，　ＵＳＡ）　ｓｕｃｈ　ａｓ　ＨａｒｄＳｉｌＴＭ　ＡＭ，　ａ　ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ　ｏｆ　ａ　ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ　ｒｅｓｉｎ　１９－２１％　ｉｎ　ａ　ｍｉｘｔｕｒｅ　ｏｆ　ａｌｃｏｈｏｌｓ，　ｔｈｅ　ｍａｔｅｒｉａｌｓ　ｏｆ　ｔｈｅ　ＡＳ　ＨａｒｄｃｏａｔＴＭ　ｏｒ　ＳＨＣＴＭ　ｓｅｒｉｅｓ　（ｆｒｏｍ　Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ　Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　Ｉｎｃ．，　Ｗｉｌｔｏｎ，　ＣＴ，　ＵＳＡ）　ｓｕｃｈ　ａｓ　ＡＳ４０００　ＨａｒｄｃｏａｔＴＭ，　ＡＳ４７００　ＨａｒｄｃｏａｔＴＭ　ｏｒ　ＳＨＣＴＭ　５０２０，　ｏｒ　ｍａｔｅｒｉａｌｓ　ｓｕｃｈ　ａｓ　ＧＲ６５０ＦＴＭ　（ｆｒｏｍ　Ｔｅｃｈｎｅｇｌａｓ　Ｉｎｃ．，　Ｐｅｒｒｙｓｂｕｒｇ，　ＯＨ，　ＵＳＡ）． Ｔｈｅ　ｃｕｒａｂｌｅ　ｏｒ　ｃｕｒｅｄ　ｍａｔｅｒｉａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｓｔａｂｉｌｉｚｉｎｇ　ｌａｙｅｒ　（８）　ｉｓ　ｐｒｅｆｅｒａｂｌｙ　ｄｉｓｓｏｌｖｅｄ　ｉｎ　ａ　ｓｏｌｖｅｎｔ，　ｗｈｉｃｈ　ｉｓ　ｐｒｅｆｅｒａｂｌｙ　ａ　ｓｏｌｖｅｎｔ　ｏｒｔｈｏｇｏｎａｌ　ｔｏ　ｔｈｅ　ｓｏｌｖｅｎｔ　ｕｓｅｄ　ｆｏｒ　ｔｈｅ　ｍａｔｅｒｉａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｉｎｔｅｒｌａｙｅｒ　（７），　ｆｏｒ　ｅｘａｍｐｌｅ　ａｎ　ａｌｃｏｈｏｌ　ｌｉｋｅ　ｂｕｔａｎｏｌ　ｏｒ　ｉｓｏｐｒｏｐａｎｏｌ．　Ｔｈｅ　ｓｏｌｕｔｉｏｎ　ｉｓ　ｔｈｅｎ　ｄｅｐｏｓｉｔｅｄ　ｏｎｔｏ　ｔｈｅ　ｄｅｖｉｃｅ　ａｓ　ｄｅｓｃｒｉｂｅｄ　ａｂｏｖｅ　ａｎｄ　ｂｅｌｏｗ　ａｎｄ　ｏｐｔｉｏｎａｌｌｙ　ｃｕｒｅｄ　ｔｏ　ｆｏｒｍ　ｔｈｅ　ｓｔａｂｉｌｉｚｉｎｇ　ｌａｙｅｒ　（８）． Ｉｎ　ｃａｓｅ　ａ　ｃｕｒａｂｌｅ　ｍａｔｅｒｉａｌ　ｉｓ　ｕｓｅｄ，　ｉｔ　ｃａｎ　ｂｅ　ｃｕｒｅｄ　ａｆｔｅｒ　ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ　ａｎｄ　ｏｐｔｉｏｎａｌｌｙ　ｒｅｍｏｖａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｓｏｌｖｅｎｔ　ｆｏｒ　ｅｘａｍｐｌｅ　ｂｙ　ｅｘｐｏｓｕｒｅ　ｔｏ　ｈｅａｔ　ｏｒ　ｒａｄｉａｔｉｏｎ，　ｐｒｅｆｅｒａｂｌｙ　ｂｙ　ｔｈｅｒｍａｌ　ｃｕｒｉｎｇ，　ｖｅｒｙ　ｐｒｅｆｅｒａｂｌｙ　ｔｈｅｒｍａｌ　ｃｕｒｉｎｇ　ｂｅｌｏｗ　１２０　℃，　ｏｒ　ｂｙ　ｐｈｏｔｏｃｕｒｉｎｇ，　ｖｅｒｙ　ｐｒｅｆｅｒａｂｌｙ　ＵＶ　ｐｈｏｔｏｃｕｒｉｎｇ．　Ｏｐｔｉｏｎａｌｌｙ　ｃｕｒｉｎｇ　ｉｓ　ｉｎｉｔｉａｔｅｄ　ｏｒ　ａｉｄｅｄ　ｂｙ　ａｄｄｉｎｇ　ａｎ　ｉｎｉｔｉａｔｏｒ，　ｌｉｋｅ　ａ　ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ，　ｏｒ　ａ　ＵＶ　ｂａｓｅ　ｇｅｎｅｒａｔｏｒ，　ｆｏｒ　ｅｘａｍｐｌｅ　ａｓ　ｄｅｓｃｒｉｂｅｄ　ｉｎ　ＵＳ　５，８６１，２３５，　ｔｏ　ｔｈｅ　ｃｕｒａｂｌｅ　ｍａｔｅｒｉａｌ　ｏｒ　ｔｈｅ　ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ．　Ｓｕｉｔａｂｌｅ　ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ　ａｒｅ　ｋｎｏｗｎ　ｔｏ　ｔｈｅ　ｐｅｒｓｏｎ　ｓｋｉｌｌｅｄ　ｉｎ　ｔｈｅ　ａｒｔ　ａｎｄ　ａｒｅ　ｄｅｓｃｒｉｂｅｄ　ｉｎ　ｔｈｅ　ｌｉｔｅｒａｔｕｒｅ．　Ｐｒｅｆｅｒａｂｌｙ　ｍｅｔｈｏｄｓ　ａｎｄ　ｍａｔｅｒｉａｌｓ　ｆｏｒ　ｎｏｎ－ｉｏｎｉｃ　ｐｏｌｙｍｅｒｉｓａｔｉｏｎ　ｏｒ　ｃｕｒｉｎｇ　ａｒｅ　ｕｓｅｄ，　ｔｏ　ａｖｏｉｄ　ｆｏｒｍａｔｉｏｎ　ａｎｄ　ｄｉｆｆｕｓｉｏｎ　ｏｆ　ｉｏｎｉｃ　ｉｍｐｕｒｉｔｉｅｓ　ｔｏ　ｔｈｅ　ＯＳＣ　／　ｇａｔｅ　ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ　ｉｎｔｅｒｆａｃｅ　ｗｈｅｒｅ　ｔｈｅｙ　ｃｏｕｌｄ　ｎｅｇａｔｉｖｅｌｙ　ａｆｆｅｃｔ　ｄｅｖｉｃｅ　ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ．」（明細書１７頁２４行～１８頁１９行目） （訳） 安定化層（８）に適切で好ましい材料は、例えば、米国特許第５，８６１，２３５号明細書に記載される通りのポリシルセスキオキサンなどの、例えば、シラノール官能性ポリマーなどのガラス樹脂である。特に、ＨａｒｄＳｉｌ（商標）ＡＭなどのＨａｒｄＳｉｌ（商標）シリーズ（米国ペンシルベニア州モリスビル市ゲレスト社製）の材料、アルコール混合物中１９～２１％のポリシルセスキオキサン樹脂の配合物、ＡＳ４０００　Ｈａｒｄｃｏａｔ（商標）、ＡＳ４７００　Ｈａｒｄｃｏａｔ（商標）またはＳＨＣ（商標）５０２０などのＡＳ　Ｈａｒｄｃｏａｔ（商標）またはＳＨＣ（商標）シリーズ（米国コネティカット州ウィルトン市モメンティブパフォーマンスマテリアルズ社製）の材料、または、ＧＲ６５０Ｆ（商標）などの材料（米国オハイオ州ペリーズバーグ市テクネグラス社製）などの商業的に入手可能なポリシルセスキオキサンまたはそれらの前駆体が適切で好ましい。 好ましくは、安定化層（８）の硬化性または硬化された材料は、好ましくは、中間層（７）の材料用に使用される溶媒にオルソゴナルな溶媒、例えば、ブタノールまたはイソプロパノールなどのアルコールである溶媒中に溶解される。次いで、上および下で記載する通り装置上に溶液を堆積し、任意工程として硬化して、安定化層（８）を形成する。 硬化性材料を使用する場合、堆積し、任意工程として、例えば、熱または照射に曝露することで溶媒を除去後に、好ましくは熱硬化によって、非常に好ましくは１２０℃未満の熱硬化によって、または、光硬化によって、非常に好ましくはＵＶ光硬化によって、硬化性材料を硬化できる。光開始剤、または、例えば、米国特許第５，８６１，２３５号明細書に記載される通りのＵＶ系生成剤などの開始剤を、硬化性材料または配合物に添加することによって、硬化を開始または助けてもよい。適切な光開始剤は、当業者に既知であり文献に記載されている。好ましくは、イオン性不純物が形成され、それらが装置性能に悪影響を及ぼす可能性のあるＯＳＣ／ゲート誘電体接合部分に拡散するのを避けるために、非イオン性重合または硬化用の方法および材料を使用する。 （２）引用文献１に記載された発明 ア　【００７２】に記載された「「テクネグラス（Ｔｅｃｈｎｅｇｌａｓ）」ＧＲ－６５０Ｆポリメチルシロキサン」について 上記（１）ア（ケ）に記載された実施例３は、上記（１）ア（ア）の【請求項１】に記載された発明の実施例であり、また、上記（１）ア（ケ）の【００７０】に、「この実施例は、シリカナノ粒子入りのポリシルセスキオキサンの…」と記載されていることを踏まえれば、上記（１）ア（ケ）の【００７２】に記載された「シロキサン」、すなわち、シルオキサン（ｓｉｌｏｘａｎｅ）は、「シルセスキオキサン」の誤記、ないし、「シルセスキオキサン」の上位概念としての記載であって、実質的には「シルセスキオキサン」を意味し、「「テクネグラス（Ｔｅｃｈｎｅｇｌａｓ）」ＧＲ－６５０Ｆポリメチルシロキサン」は、「「テクネグラス（Ｔｅｃｈｎｅｇｌａｓ）」ＧＲ－６５０Ｆポリメチルシルセスキオキサン」であることが明らかである。 これは、上記（１）ア（オ）に、「適する特定のポリシルセスキオキサンとしては、オハイオ州コロンブスのテクネガルス（Ｔｅｃｈｎｅｇａｌｓ（Ｃｏｌｕｍｂｕｓ，ＯＨ））からＧＲ６５３Ｌ、ＧＲ６５４ＬおよびＧＲ６５０Ｆというラベルで販売されているポリメチルシルセスキオキサンが挙げられるが、それらに限定されない。」（当審注：「テクネガルス」、「Ｔｅｃｈｎｅｇａｌｓ」は、「テクネグラス」、「Ｔｅｃｈｎｅｇｌａｓ」の誤記と認める。）と記載されており、さらに、周知例１の上記（１）イ（ア）、および、周知例２の上記（１）ウ（ア）に記載された事項に基づき、テクネグラス（Ｔｅｃｈｎｅｇｌａｓ）社製のＧＲ－６５０Ｆが、本願の優先日前において、ポリメチルシルセスキオキサンないしポリシルセスキオキサンとして認識されていたものであることからも裏付けられる。 イ　実施例３について そうすると、上記（１）ア（イ）（ク）（ケ）に記載された事項によれば、引用文献１には、実施例３として、 最初に、１－メトキシ－２－プロパノール中のメチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＯＳ）処理された「ナルコ（ＮＡＬＣＯ）」２３２７　２０ｎｍシリカ粒子を調製し、 次に、ブタノール中の３０重量％の「テクネグラス（Ｔｅｃｈｎｅｇｌａｓ）」ＧＲ－６５０Ｆポリメチルシルセスキオキサン樹脂を調整し、 そして、前記ブタノール中の３０重量％の「テクネグラス（Ｔｅｃｈｎｅｇｌａｓ）」ＧＲ－６５０Ｆポリメチルシルセスキオキサン樹脂を１７．０ｇと、前記１－メトキシ－２－プロパノール中のメチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＯＳ）処理された「ナルコ（ＮＡＬＣＯ）」２３２７　２０ｎｍシリカ粒子を１０．０ｇとを混合し、 前記混合で得られた均質溶液に、１部の水酸化アンモニウム（メタノール中２５％）および２部の蟻酸からなる触媒を３重量％（０．１５３０ｇ）で添加混合し、 前記添加混合で得られたナノ複合材料コーティング分散体を用意されたガラス基材上にインクジェット印刷し、 前記印刷によって得られたサンプルを１３０℃のオーブンに１５分にわたって入れ、 ハード連続フィルムの層を作製する方法が記載されていることになる。 ウ　引用文献１に記載された発明について してみると、実施例３に係る方法を、本願発明１の記載ぶりに則して認定すると、引用文献１には、次の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。 「その構造が、ガラス基材、および、ガラス基材上にハード連続フィルムの層を含む物品を調整する方法において、 ガラス基材を提供する工程、 前記ガラス基材上に、メチルトリエトキシシラン処理された２０ｎｍシリカ粒子、ポリメチルシルセスキオキサン樹脂、１－メトキシ－２－プロパノール、ブタノール、メタノール、水酸化アンモニウム、及び、蟻酸が混合されたナノ複合材料コーティング分散体をインクジェット印刷する工程、および サンプルを１３０℃のオーブンに１５分にわたって入れる工程、 を有してなる方法。」 （３）対比・判断 本願発明１と引用発明１とを対比すると、以下の各事項がいえる。 ア　引用発明１の「ガラス基材」は、本願発明１の「ガラスまたはガラスセラミック基体」の「ガラス基体」、および、本願発明１の「ガラスまたはガラスセラミックの基体」の「ガラスの基体」に相当し、引用発明１の「ハード連続フィルムの層」は、本願発明１の「固定されたコーティング」に相当する。 イ　引用発明１の「ポリメチルシルセスキオキサン樹脂」は、式（ＣＨ３ＳｉＯ１．５）の単位からなり、式（ＲＳｉＯ１．５）のＲはメチル基（ＣＨ３）であって、アリール、すなわち、ベンゼン環を含む構造を有していないから、本願発明１の「式（ＲＳｉＯ１．５）の単位を有し、これらの単位のラジカルＲが同じかまたはそうではなく、全てがアリールラジカルとは異なり」を満たし、本願発明１の「ポリシルセスキオキサン樹脂」に相当する。 ウ　本願発明１の「分散相」を構成する「鉱物充填剤」は、本願明細書の【００３２】に、「鉱物充填剤は、特に、ＴｉＯ２被覆マイカ小板、シリカ、アルミナ、ホウケイ酸塩および／または酸化物であってよい。」とされるところ、引用発明１の「メチルトリエトキシシラン処理された２０ｎｍシリカ粒子」は、表面が処理されたシリカの粒子であるから、本願発明１の「鉱物充填剤」のうちのシリカに相当し、また、引用発明１のナノ複合材料コーティング分散体中で、唯一固相として分散して存在する、当該「メチルトリエトキシシラン処理された２０ｎｍシリカ粒子」は、本願発明１の「分散相」に相当する。 エ　引用発明１の「１－メトキシ－２－プロパノール」、「ブタノール」および「メタノール」は、上記（１）ア（キ）からみて、本願発明１の「溶媒」に相当し、「水酸化アンモニウム」および「蟻酸」は、上記（１）ア（ケ）によれば、触媒であり、本願明細書の【００３７】に記載された「他の作用物質」としての本願発明１の「添加剤」に相当する。 また、「ポリシルセスキオキサン樹脂」に相当する「ポリメチルシルセスキオキサン樹脂」と、「添加剤」に相当する「水酸化アンモニウム」および「蟻酸」とは、「溶媒」に相当する「１－メトキシ－２－プロパノール」、「ブタノール」および「メタノール」に溶解しているといえる。 そして、引用発明１のナノ複合材料コーティング分散体中で、分散して存在する「メチルトリエトキシシラン処理された２０ｎｍシリカ粒子」を除いた、「ポリメチルシルセスキオキサン樹脂、１－メトキシ－２－プロパノール、ブタノール、メタノール、水酸化アンモニウム、及び、蟻酸」は、混合されてナノ複合材料コーティング分散体の母相をなすものと認められるから、それは、本願発明１の「連続相」に相当する。 オ　したがって、引用発明１の「メチルトリエトキシシラン処理された２０ｎｍシリカ粒子、ポリメチルシルセスキオキサン樹脂、１－メトキシ－２－プロパノール、ブタノール、メタノール、水酸化アンモニウム、及び、蟻酸が混合されたナノ複合材料コーティング分散体」は、本願発明１の「連続相と分散相を含む分散体」に相当する。 カ　引用発明１の「インクジェット印刷する工程」は、本願発明１の「層を施す工程」に相当する。 キ　引用発明１の「１－メトキシ－２－プロパノール」、「ブタノール」および「メタノール」は、いずれも沸点が１３０℃未満であり、また、引用発明１は、ハード連続フィルムの層を調整していることから、引用発明１の「１３０℃のオーブンに１５分にわたって入れ」は、本願発明１の「溶媒を除去」するのに十分な温度および時間であると解され、また、上記（１）ア（ウ）（エ）（カ）の記載からみて、引用発明１の「ポリメチルシルセスキオキサン樹脂」は、熱硬化性であり、熱暴露により硬化され、架橋シルセスキオキサン（当審注：上記（１）ア（カ）に記載された「シルセキオキサン」は、「シルセスキオキサン」の誤記と認める。）への反応性を有するところ、ハード連続フィルムの層を調整していることから、引用発明１の「１３０℃のオーブンに１５分にわたって入れ」は、本願発明１の「樹脂を架橋させ」るものであり、よって、引用発明１の「サンプルを１３０℃のオーブンに１５分にわたって入れる工程」は、本願発明１の「前記溶媒を除去し、前記樹脂を架橋させるように、前記層が被覆された基体または前記層を熱処理する工程」に相当する。 してみると、本願発明１と引用発明１とは、 「その構造が、ガラス基体および該基体の表面の少なくとも一部分に固定されたコーティングを含む物品を調製する方法において、 ガラスの基体を提供する工程、 前記基体の表面の少なくとも一部分の上に、連続相と分散相を含む分散体の層を施す工程であって、前記連続相が、溶媒中に溶解した、ポリシルセスキオキサン樹脂および添加剤からなり、該ポリシルセスキオキサン樹脂が式（ＲＳｉＯ１．５）の単位を有し、これらの単位のラジカルＲが同じかまたはそうではなく、全てがアリールラジカルとは異なり、前記分散相が鉱物充填剤からなる、工程、および 前記溶媒を除去し、前記樹脂を架橋させるように、前記層が被覆された基体または前記層を熱処理する工程、 を有してなる方法。」の点で一致し、相違しない。 （４）請求人の主張についての検討 請求人は、「しかしながら、引用文献１は、アリールラジカルを含まないポリシルセスキオキサン樹脂をふくむ分散体の層を基体上に施した後、溶媒を除去し、前記樹脂を架橋させるように、前記層が被覆された基体または前記層を熱処理することについて全く開示も示唆もしておりません。」と主張する。 しかしながら、上記（３）イ、オ、カ、キに記載した対応関係が存在するところ、「前記ガラス基材上に、メチルトリエトキシシラン処理された２０ｎｍシリカ粒子、ポリメチルシルセスキオキサン樹脂、１－メトキシ－２－プロパノール、ブタノール、メタノール、水酸化アンモニウム、及び、蟻酸が混合されたナノ複合材料コーティング分散体をインクジェット印刷する工程、および サンプルを１３０℃のオーブンに１５分にわたって入れる工程」を有する引用発明１は、「アリールラジカルを含まないポリシルセスキオキサン樹脂をふくむ分散体の層を基体上に施した後、溶媒を除去し、前記樹脂を架橋させるように、前記層が被覆された基体または前記層を熱処理する」ものといえるから、上記主張は採用できない。 また、請求人は、「引用文献１は、熱処理に関して、インクジェット印刷した後、１３０℃のオーブンに１５分にわたり入れることを記載するのみであり、溶媒を除去し、前記樹脂を架橋させるように、前記層が被覆された基体または前記層を熱処理する（例えば１５０℃を超える温度に曝露する）ことについて何ら教示しておりません。 また、引用文献１は、基体コーティングにおいて使用されるポリシルセスキオキサン上のアリールラジカル以外のラジカルの重要性について全く認識しておらず、またそのようなポリシルセスキオキサンを１５０℃超の温度で熱処理することの必要性について何ら教示しておりません。」とも主張している。 しかしながら、本願明細書の【０００１】に、「そのコーティングは、多くの条件、特に以下に規定された条件およびより詳しくは以下の条件：コーティングが１００～５００℃程度の高温に暴露されたときに揮発性有機化合物（ＶＯＣ）の放出が少ないこと；を含む使用に関して最適化されている。」と記載され、また、【００４４】に、「一般に、熱処理は、１００℃を超えた、好ましくは１５０℃を超えた、さらに好ましくは３５０℃を超えた温度への、アセンブリ：基体＋層または主に層の暴露を含む。」と記載されており、１００℃においても溶媒を除去し、樹脂を架橋させる熱処理をできる場合があると認められること、さらに、周知例２の上記（１）ウ（ア）に記載された事項によれば、１２０℃未満でも、ポリシルセスキオキサンを熱硬化できると認められるから、本願発明１における、「前記溶媒を除去し、前記樹脂を架橋させるように、前記層が被覆された基体または前記層を熱処理する工程」を、１５０℃以下の熱処理は含まないと解する特段の事情は見当たらず、上記主張は採用できない。 ５　むすび したがって、本願発明１は、本願の優先日前に頒布された刊行物である特表２００７－５０７５８３号公報に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができず、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。 よって、結論のとおり審決する。