2024-700360

特許第７３９４１９０号発明「電気化学セル」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７３９４１９０号の請求項１～２に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯 本件の特許第７３９４１９０号（以下「本件特許」という。）の請求項１～２に係る特許についての出願（特願２０２２－１５０１１０号。以下「本願」という。）は、令和 ４年 ９月２１日の出願であって、令和 ５年１１月２９日にその特許権の設定登録がされ、同年１２月 ７日に特許掲載公報が発行され、その後、令和 ６年 ４月１７日に、その請求項１～２（全請求項）に係る特許について、特許異議申立人である亀崎 伸宏（以下「申立人１」という。）により特許異議の申立てがされ、令和 ６年 ６月 ７日に、その請求項１～２（全請求項）に係る特許について、特許異議申立人である西内 大生（以下「申立人２」という。）により特許異議の申立てがされたものである。 第２ 本件特許発明 本件特許の特許請求の範囲の請求項１～２に係る発明は、本願の願書に添付した特許請求の範囲の請求項１～２に記載された事項により特定される以下のとおりのものである。なお、以下において、本件特許の請求項１～２に係る発明をそれぞれ「本件特許発明１」～「本件特許発明２」といい、総称して「本件特許発明」という。また、以下において、本願の願書に添付した明細書を「本件明細書」という。 「【請求項１】 主面に形成された複数の供給孔を有する金属支持体と、 前記主面上に形成され前記複数の供給孔を覆う第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層及び前記第２電極層の間に配置される電解質層とを有するセル本体部と、 を備え、 前記電解質層は、 前記第１電極層上に配置される内側部と、 前記主面のうち前記第１電極層から露出する領域上に配置される外周部と、 を有し、 前記内側部及び前記外周部それぞれは、所定のイオン伝導性材料を含み、 前記外周部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径は、前記内側部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径より小さい、 電気化学セル。 【請求項２】 前記外周部は、前記主面に垂直な断面において、前記主面のうち前記第１電極層から露出する前記領域を前記主面の先端まで覆っている、 請求項１に記載の電気化学セル。」 第３ 申立理由の概要 １ 申立人１は、証拠方法として、いずれも本願の出願前に公知となった下記（４）の甲第１号証～甲第５号証（以下「甲１－１」～「甲１－５」という。）を提出し、以下の理由により、本件特許の請求項１～２に係る特許を取り消すべきものである旨主張している。 （１）申立理由１－１（進歩性） 本件特許発明１～２は、甲１－１に記載された発明に基いて、又は甲１－１に記載された発明及び甲１－３～甲１－５の記載事項に基いて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。 （２）申立理由１－２（サポート要件） ア 本件特許発明１～２は、下記（ア）～（ウ）のとおりの、「金属支持体との熱膨張係数差に起因する熱応力が外周部に繰り返しかかったとしても、熱応力を外周部の内部で吸収することができるため、外周部にクラックが生じることを抑制できる」という作用効果を奏しない態様を包含するものであるから、発明の詳細な説明において「発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲」を超えるものである。 （ア）電解質層の熱膨張係数と金属支持体の熱膨張係数との差が無い態様 （イ）複数種のイオン伝導性材料を含み、当該複数種のイオン伝導性材料のうちの１つのイオン伝導性材料のみが「前記外周部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径は、前記内側部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径より小さい」との発明特定事項（以下「発明特定事項Ｅ」という。）を充足し、当該複数種のイオン伝導性材料のうちの他のイオン伝導性材料は上記発明特定事項Ｅを充足しない態様 （ウ）外周部が、塑性を減ずる作用を有する、イオン伝導性材料以外の材料を含む態様 イ また、本件明細書では、本件特許発明の作用効果が、本件特許発明の課題解決手段によって実現されるものであることを裏付けるためのデータやメカニズムについての記載がされていないため、出願時の技術常識に照らしても、上記発明特定事項Ｅの構成によって本件特許発明の課題を解決することができると当業者が認識することができないから、本件特許発明１～２は、発明の詳細な説明において「発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲」を超えるものである。 ウ さらに、本件特許発明の本質は、外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径を内側部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径よりも相対的に小さくすることではなく、外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径の絶対値を小さくすることであるところ、本件特許発明１～２は、外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径がどの程度小さいかについては特定されておらず、「金属支持体との熱膨張係数差に起因する熱応力が外周部に繰り返しかかったとしても、熱応力を外周部の内部で吸収することができるため、外周部にクラックが生じることを抑制できる」という作用効果を奏しない態様を包含するものであるから、発明の詳細な説明において「発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲」を超えるものである。 エ したがって、本件特許の特許請求の範囲の請求項１～２の記載は、特許を受けようとする発明が発明の詳細な説明に記載したものであるとはいえず、特許法第３６条第６項第１号に適合しないものであるから、同請求項に係る特許は、同法第１１３条第４号に該当し、取り消されるべきものである。 （３）申立理由１－３（明確性） ア 本件特許発明１～２において、どのような測定方法で外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径と、内側部に含まれる当該イオン伝導性材料の結晶子径を比較すべきであるか不明確である。 イ また、一般に、電解質層に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径は、厳密に一定であることはあり得ず、製造ばらつき等により部位ごとに異なる可能性があるため、特定の電気化学セルが、製造ばらつきによって意図せず上記発明特定事項Ｅを充足することがあり得るところ、本件特許発明１～２には、製造ばらつきによって意図せず上記発明特定事項Ｅを充足するものも包含されるのか、あるいは、例えば本件明細書の【００３４】に記載された製造方法によって上記発明特定事項Ｅを充足するに至ったもののみを包含するのかが不明確である。 ウ したがって、本件特許の特許請求の範囲の請求項１～２の記載は、特許を受けようとする発明が明確であるとはいえず、特許法第３６条第６項第２号に適合しないものであるから、同請求項に係る特許は、同法第１１３条第４号に該当し、取り消されるべきものである。 （４）証拠方法 甲１－１：国際公開第２０２１／２０１１９４号 甲１－２：特表２０１８－５０８９５２号公報 甲１－３：特開２０２２－１０９２３４号公報 甲１－４：特開２０１９－６６８８０号公報 甲１－５：特開平１１－１８９４９２号公報 ２ 申立人２は、証拠方法として、本願の出願前に公知となった下記（４）の甲第１号証（以下「甲２－１」という。）を提出し、以下の理由により、本件特許の請求項１～２に係る特許を取り消すべきものである旨主張している。 （１）申立理由２－１（実施可能要件） ア 本件特許発明１～２について、本件明細書には、具体的に使用されたイオン伝導性材料の粒子径や粒度分布に関する情報は一切記載されておらず、また、電気化学セルとして使用する際の電気的性能を判断するための具体的な手法や数値が記載されておらず、さらに、具体的な材料の種類や使用量、焼結時の温度や焼成時間、基板の加熱温度や成膜条件等の情報がまったく記載されておらず追試が不可能である。 イ したがって、本件特許の発明の詳細な説明の記載は、本件特許発明１～２について、当業者が実施できる程度に明確かつ十分であるとはいえず、特許法第３６条第４項第１号に適合しないものであるから、同発明に係る特許は、同法第１１３条第４号に該当し、取り消されるべきものである。 （２）申立理由２－２（サポート要件） ア 本件明細書には、上記発明特定事項Ｅを備えることによりなぜ電解質に割れが生じることを抑制できるのかに関する具体的かつ明確な説明は記載されておらず、「外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」や「内側部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」を所定の数値範囲とすることにより電解質に割れが生じることを抑制できるのかに関する具体的かつ明確な説明も記載されていない。 イ また、本件明細書には、「外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」が「内側部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」よりどれだけ小さければよいのかについて、両者の差や比といった具体的な指標が記載されていない。 ウ さらに、本件明細書には、実施例が記載されておらず、上記発明特定事項Ｅを備えた電解質の具体例や、電解質の割れを抑制するという作用効果を支持する試験結果の開示が全くされていない。 エ したがって、本件特許発明１～２について、上記発明特定事項Ｅを備えることにより本件特許発明の課題が解決できると当業者が認識することはできない。 オ よって、本件特許の特許請求の範囲の請求項１～２の記載は、特許を受けようとする発明が発明の詳細な説明に記載したものであるとはいえず、特許法第３６条第６項第１号に適合しないものであるから、同請求項に係る特許は、同法第１１３条第４号に該当し、取り消されるべきものである。 （３）申立理由２－３（明確性） ア 甲２－１の記載を考慮すれば、「外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」と、「内側部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」とが同じとなることを意図して製造された電気化学セルが存在する場合、測定誤差や製造誤差によって、「外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」が「内側部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径より小さい」を充足する可能性がある。 イ また、仮に上記発明特定事項Ｅを充足する電気化学セルが存在したとしても、外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲にある場合、測定誤差や製造誤差によって、「外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」が「内側部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径より小さい」を充足しない可能性がある。 ウ さらに、本件特許発明１～２について、「外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」と、「内側部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」との差や比といった具体的な指標が規定されていない以上、本件特許発明１～２における上記発明特定事項Ｅを特定することができない。 エ したがって、本件特許の特許請求の範囲の請求項１～２の記載は、特許を受けようとする発明が明確であるとはいえず、特許法第３６条第６項第２号に適合しないものであるから、同請求項に係る特許は、同法第１１３条第４号に該当し、取り消されるべきものである。 （４）証拠方法 甲２－１：早稲田 嘉夫、「特集 チャンピオンデータとその限界 Ｘ線回折の限界」、まてりあ、第３５巻、第１１号（１９９６）、１２２６～１２２９頁 第４ 当審の判断 以下に述べるとおり、当審は、上記第３のいずれの申立理由によっても、本件特許の請求項１～２に係る特許を取り消すことはできないと判断する。 １ 申立理由１－３（明確性）及び申立理由２－３（明確性）について （１）上記第２のとおり、本件特許の特許請求の範囲の請求項１には、本件特許発明１に係る電気化学セルが備えた上記発明特定事項Ｅについて、「前記外周部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径は、前記内側部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径より小さい」との記載がある。 （２）そして、上記（１）の記載中の「外周部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径」及び「内側部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径」の取得について、本件明細書には、以下の記載がある。 「【００２８】 内側部７１及び外周部７２それぞれに含まれる酸化物イオン伝導性材料の結晶子径は、各部の表面をＸＲＤ（Ｘ－ｒａｙ Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）分析することによって取得することができる。本実施形態では、内側部７１上に反応防止層８及び酸素極層９が配置されているので、結晶子径を測定する際には、反応防止層８及び酸素極層９を表面側からサンドペーパーで研磨して除去することによって、内側部７１の表面を露出させる必要がある。このとき、多孔質な反応防止層８及び酸素極層９は容易に研磨で除去することができるため、下層の緻密な電解質層７を選択的に残すことができる。 【００２９】 結晶子径は、粉末Ｘ線回折装置(商品名 Ｄ８ ａｄｖａｎｃｅ、Ｂｒｕｋｅｒ ＡＸＳ社製)を用いて、以下の条件で測定される。 <測定条件> Ｘ線管球・・・・・・・・Ｃｕ Ｘ線出力・・・・・・・・４０ｋＶ、４０ｍＡ スキャンスピード・・・・０．５秒/０．０５° ステップ幅・・・・・・・０．０５° 走査範囲・・・・・・・・５～７０° 試料回転・・・・・・・・１５ｒｐｍ 【００３０】 上記条件で測定した結果得られる電解質層７の回折パターンをＢｒｕｋｅｒ ＡＸＳ社製解析ソフトＴＯＰＡＳを用いてＦｕｎｄａｍｅｎｔａｌ Ｐａｒａｍｅｔｅｒ法(ＦＰ法)で解析する。そして、結晶子径の算出には、Ｓｃｈｅｒｒｅｒの式に基づいたＳｉｎｇｌｅ Ｐｒｏｆｉｌｅ Ｆｉｔｔｉｎｇ法(ＳＰＦ法)を用いることができる。なお、このＳＰＦ法の計算に用いるｋ値は１．０とすることができる。結晶子径は、Ｘ線回折の回折ピーク毎に算出されるが、本明細書においては、最大強度となるメインピークから算出された結晶子径を用いることとする。例えば、ＹＳＺやＧＤＣは（１１１）面の回折ピークから算出された結晶子径を用いる。」 （３）そうすると、上記（１）のとおり、本件特許の特許請求の範囲の請求項１には、「外周部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径」及び「内側部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径」の取得方法が具体的に特定されているわけではないものの、上記（２）に摘記した本件明細書の【００２８】～【００３０】の記載を参酌すれば、上記「外周部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径」及び「内側部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径」が、ここに記載された取得方法により「外周部」及び「内側部」でそれぞれ取得された「結晶子径」を意味することは、当業者であれば明確に把握できるといえる。 （４）したがって、本件特許発明１～２において、どのような測定方法で外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径と、内側部に含まれる当該イオン伝導性材料の結晶子径を比較すべきであるか不明確であるとはいえない。 （５）また、測定誤差や製造誤差が存在することに起因して、特定の電気化学セルがその製造意図とは異なって上記発明特定事項Ｅを充足するものと判定されたり、逆に上記発明特定事項Ｅを充足しないものと判定される可能性があることは否定できないものの、一方で、本件明細書の【００２８】～【００３０】の記載を参酌すれば、本件特許の特許請求の範囲の請求項１に記載された「外周部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径」及び「内側部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径」の意味を当業者が（製造意図とは無関係に）明確に把握できるといえることは、上記（３）において検討したとおりであるから、測定誤差や製造誤差に起因する上述の可能性があるからといって、そのことによって、特許を受けようとする発明が不明確になっているとはいえない。そして、本件特許発明１～２は、製造ばらつきによるものか、本件明細書の【００３４】に記載された製造方法によるものかにかかわらず、「前記外周部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径は、前記内側部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径より小さい」との発明特定事項を充足するものを包含するものであり、明確である。 （６）さらに、本件特許の特許請求の範囲の請求項１に記載された「前記外周部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径は、前記内側部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径より小さい」とは、「外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」と「内側部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」との差が負の値（ゼロ未満）である、又は、「外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」と「内側部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」との比が１未満であると言い換えることができるから、本件特許発明１～２について、「外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」と、「内側部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」との差や比といった具体的な指標が規定されていないとはいえない。 （７）申立理由１－３（明確性）及び申立理由２－３（明確性）についてのまとめ よって、本件特許の特許請求の範囲の請求項１～２の記載は、特許を受けようとする発明が明確であり、特許法第３６条第６項第２号に適合するものであるから、申立理由１－３（明確性）及び申立理由２－３（明確性）によっては、本件特許の請求項１～２に係る特許を取り消すことはできない。 ２ 申立理由１－１（進歩性）について （１）甲１－１の記載事項 甲１－１には、「塗料組成物の製造方法、イットリア安定化ジルコニア層、電気化学素子、電気化学モジュール、電気化学装置、エネルギーシステム、固体酸化物形燃料電池及び固体酸化物電解セル」（発明の名称）に関して、以下の記載がある（下線は、当審が付したものである。以下同様。）。 ア 「技術分野 ［０００１］ 本発明は、各種部材の表面に塗装によりイットリア安定化ジルコニア層を形成することができる塗料組成物の製造方法に関するとともに、イットリア安定化ジルコニア層を備える各種機能部材に関する。」 イ 「［００１１］ 本発明は上述の課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、ジルコニウムアルコキシド及びイットリウム化合物を出発原料として簡便な方法で低コストに成膜可能であり、かつ、緻密なイットリア安定化ジルコニア層も得られる塗料組成物を提供することにある。」 ウ 「［０１１８］〔イットリア安定化ジルコニア層の使用形態〕 以下、図１５～図１８を参照しながら、これまで説明してきたイットリア安定化ジルコニア層を電気化学素子Ｅの形成に使用し、さらには、この電気化学素子Ｅを備えて構成される固体酸化物形燃料電池について説明する。 ［０１１９］ 電気化学素子Ｅは、例えば、水素を含む燃料ガスと空気の供給を受けて発電する固体酸化物形燃料電池の構成要素として用いられる。 なお以下、電気化学素子Ｅに関連する説明にあたり層の位置関係などを表す際、その位置表記の際の基準層を電解質層４とし、電解質層４から見て対極電極層６の側を「上」または「上側」（図１５の上側）と、電極層２の側を「下」または「下側」という場合がある。また、金属基板１における電極層２が形成されている側（図１５の上側）の面を「表側」、反対側（図１５の下側）の面を「裏側」という場合がある。 ［０１２０］（電気化学素子） 電気化学素子Ｅは、図１５に示される通り、金属基板１（金属支持体の一例）と、金属基板１の上に形成された電極層２と、電極層２の上に形成された中間層３と、中間層３の上に形成された電解質層４とを有する。そして電気化学素子Ｅは、更に、電解質層４の上に形成された反応防止層５と、反応防止層５の上に形成された対極電極層６とを有する。つまり対極電極層６は電解質層４の上に形成され、反応防止層５は電解質層４と対極電極層６との間に形成されている。電極層２及び対極電極層６は多孔質であり、電解質層４は緻密である。 ［０１２１］ これまでも説明してきたように、電気化学素子Ｅを構成する各層に関して、その主要な素子要素は、電解質層４、これを挟んで設けられる電極層２及び対極電極層６であり、これら３層を設けることで電気化学素子Ｅとして作動させることができる。 ［０１２２］（金属基板） 金属基板１は、電極層２、中間層３および電解質層４等を支持して電気化学素子Ｅの強度を保つ支持体としての役割を担う。この金属基板として板状の金属基板１が用いるが、金属支持体としては他の形状、例えば箱状、円筒状、円盤状などの形状も可能である。 なお、金属基板１は、支持体として電気化学素子Ｅを形成するのに充分な強度を有すれば良く、例えば、０．１ｍｍ～２ｍｍ程度、好ましくは０．１ｍｍ～１ｍｍ程度、より好ましくは０．１ｍｍ～０．５ｍｍ程度の厚みのものを用いることができる。 ［０１２３］ 金属基板１は、表側の面と裏側の面とを貫通して設けられる複数の貫通孔１ａを有する。なお、例えば、貫通孔１ａは、機械的、化学的あるいは光学的穿孔加工などにより、金属基板１に設けることができる。貫通孔１ａは、金属基板１の裏側の面から表側の面へ気体を透過させる機能を有する。金属基板１に気体透過性を持たせるために、多孔質金属を用いることも可能である。例えば、金属基板１は、焼結金属や発泡金属等を用いることもできる。金属基板材料としては、フェライト系ステンレス材（Ｆｅ－Ｃｒ系合金の一例）を用いる。さらに図１５にも示すように、この金属基板１の外面（貫通孔１ａの表面も含む）に被膜層１ｂを形成しても良い。なお、この被膜層１ｂは金属酸化物の層とすることができる。例えば、Ｆｅ－Ｃｒ系合金にＣｏコーティング処理した後に酸化処理を行って、金属酸化物の層を形成させることができる。 ［０１２４］ 金属基板１の材料としてＦｅ－Ｃｒ系合金を用いると、この材料が、電極層２や電解質層４の材料として用いられるＹＳＺ（イットリア安定化ジルコニア）やＧＤＣ（ガドリウム・ドープ・セリア、ＣＧＯとも呼ばれる）等と熱膨張係数が近い。結果、低温と高温の温度サイクルが繰り返された場合も電気化学素子Ｅがダメージを受けにくい。よって、長期耐久性に優れた電気化学素子Ｅを実現できるので好ましい。 ［０１２５］（電極層） 電極層２は、図１５に示すように、金属基板１の表側の面であって貫通孔１ａが設けられた領域より大きな領域に、薄層の状態で設けることができる。薄層とする場合は、その厚さを、例えば、１μｍ～１００μｍ程度、好ましくは、５μｍ～５０μｍとすることができる。このような厚さにすると、高価な電極層材料の使用量を低減してコストダウンを図りつつ、十分な電極性能を確保することが可能となる。貫通孔１ａが設けられた領域の全体が、電極層２に覆われている。つまり、貫通孔１ａは金属基板１における電極層２が形成された領域の内側に形成されている。換言すれば、全ての貫通孔１ａが電極層２に面して設けられている。 ［０１２６］ 電極層２の材料としては、例えばＮｉＯ－ＧＤＣ、Ｎｉ－ＧＤＣ、ＮｉＯ－ＹＳＺ、Ｎｉ－ＹＳＺ、ＣｕＯ－ＣｅＯ２、Ｃｕ－ＣｅＯ２などの複合材を用いることができる。これらの例では、ＹＳＺ、ＧＤＣ、ＣｅＯ２を複合材の骨材と呼ぶことができる。なお、電極層２は、低温焼成法（例えば１１００℃より高い高温域での焼成処理をしない低温域での焼成処理を用いる湿式法）やスプレーコーティング法（溶射法やエアロゾルデポジション法、エアロゾルガスデポジッション法、パウダージェットデポジッション法、パーティクルジェットデポジション法、コールドスプレー法などの方法）、ＰＶＤ法（スパッタリング法やパルスレーザーデポジション法など）、ＣＶＤ法などにより形成することが好ましい。これらの、低温域で使用可能なプロセスにより、例えば１１００℃より高い高温域での焼成を用いずに、良好な電極層２が得られる。そのため、金属基板１を傷めることなく、また、金属基板１と電極層２との元素相互拡散を抑制することができ、耐久性に優れた電気化学素子を実現できるので好ましい。更に、低温焼成法を用いると、原材料のハンドリングが容易になるので更に好ましい。 ［０１２７］ 電極層２は、気体透過性を持たせるため、その内部および表面に複数の細孔を有する。すなわち電極層２は、多孔質な層として形成される。電極層２は、例えば、その緻密度が３０％以上８０％未満となるように形成される。細孔のサイズは、電気化学反応を行う際に円滑な反応が進行するのに適したサイズを適宜選ぶことができる。なお緻密度とは、層を構成する材料の空間に占める割合であって、（１－空孔率）と表すことができ、また、相対密度と同等である。 ［０１２８］（中間層） 中間層３は、図１５に示すように、電極層２を覆った状態で、電極層２の上に薄層の状態で形成することができる。薄層とする場合は、その厚さを、例えば、１μｍ～１００μｍ程度、好ましくは２μｍ～５０μｍ程度、より好ましくは４μｍ～２５μｍ程度とすることができる。このような厚さにすると、高価な中間層材料の使用量を低減してコストダウンを図りつつ、十分な性能を確保することが可能となる。中間層３の材料としては、例えば、ＹＳＺ（イットリア安定化ジルコニア）、ＳＳＺ（スカンジア安定化ジルコニア）やＧＤＣ（ガドリウム・ドープ・セリア）、ＹＤＣ（イットリウム・ドープ・セリア）、ＳＤＣ（サマリウム・ドープ・セリア）等を用いることができる。特にセリア系のセラミックスが好適に用いられる。 ［０１２９］ 中間層３は、低温焼成法（例えば１１００℃より高い高温域での焼成処理をしない低温域での焼成処理を用いる湿式法）やスプレーコーティング法（溶射法やエアロゾルデポジション法、エアロゾルガスデポジッション法、パウダージェットデポジッション法、パーティクルジェットデポジション法、コールドスプレー法などの方法）、ＰＶＤ法（スパッタリング法、パルスレーザーデポジション法など）、ＣＶＤ法などにより形成することが好ましい。これらの、低温域で使用可能な成膜プロセスにより、例えば１１００℃より高い高温域での焼成を用いずに中間層３が得られる。そのため、金属基板１を傷めることなく、金属基板１と電極層２との元素相互拡散を抑制することができ、耐久性に優れた電気化学素子Ｅを実現できる。また、低温焼成法を用いると、原材料のハンドリングが容易になるので更に好ましい。 ［０１３０］ 中間層３としては、酸素イオン（酸化物イオン）伝導性を有することが好ましい。また、酸素イオン（酸化物イオン）と電子との混合伝導性を有すると更に好ましい。これらの性質を有する中間層３は、電気化学素子Ｅへの適用に適している。 ［０１３１］（電解質層） 電解質層４は、図１５に示すように、電極層２および中間層３を覆った状態で、中間層３の上に薄層の状態で形成される。また、厚さが１０μｍ以下の薄膜の状態で形成することもできる。詳しくは電解質層４は、中間層３の上と金属基板１の上とにわたって（跨って）設けられる。このように構成し、電解質層４を金属基板１に接合することで、電気化学素子全体として堅牢性に優れたものとすることができる。 また電解質層４は、金属基板１の表側の面であって貫通孔１ａが設けられた領域より大きな領域に設けられる。つまり、貫通孔１ａは金属基板１における電解質層４が形成された領域の内側に形成されている。 ［０１３２］ また電解質層４の周囲においては、電極層２および中間層３からのガスのリークを抑制することができる。説明すると、電気化学素子ＥをＳＯＦＣの構成要素として用いる場合、ＳＯＦＣの作動時には、金属基板１の裏側から貫通孔１ａを通じて電極層２へガスが供給される。電解質層４が金属基板１に接している部位においては、ガスケット等の別部材を設けることなく、ガスのリークを抑制することができる。なお、本実施形態では電解質層４によって電極層２の周囲をすべて覆っているが、電極層２および中間層３の上部に電解質層４を設け、周囲にガスケット等を設ける構成としてもよい。 ［０１３３］ 電解質層４の材料としては、ＹＳＺ（イットリア安定化ジルコニア）、ＳＳＺ（スカンジア安定化ジルコニア）やＧＤＣ（ガドリウム・ドープ・セリア）、ＹＤＣ（イットリウム・ドープ・セリア）、ＳＤＣ（サマリウム・ドープ・セリア）、ＬＳＧＭ（ストロンチウム・マグネシウム添加ランタンガレート）等を用いることができる。特にジルコニア系のセラミックスが好適に用いられる。電解質層４をジルコニア系セラミックスとすると、電気化学素子Ｅを用いたＳＯＦＣの稼働温度をセリア系セラミックスに比べて高くすることができる。例えば電気化学素子ＥをＳＯＦＣに用いる場合、電解質層４の材料としてＹＳＺのような６５０℃程度以上の高温域でも高い電解質性能を発揮できる材料を用い、システムの原燃料に都市ガスやＬＰＧ等の炭化水素系の原燃料を用い、原燃料を水蒸気改質等によってＳＯＦＣのアノードガスとするシステム構成とすると、ＳＯＦＣのセルスタックで生じる熱を原燃料ガスの改質に用いる高効率なＳＯＦＣシステムを構築することができる。 ［０１３４］ 電解質層４は、低温焼成法（１１００℃を越える高温域での焼成処理をしない低温域での焼成処理を用いる湿式法）により形成することが好ましいが、例えば、液状組成物をエアースプレー法、バーコート法、ディスペンサ法、刷毛塗り、へら塗りで塗装し、１１００℃以下の温度域で焼成処理を施すことで形成できる。また、スプレーコーティング法（溶射法やエアロゾルデポジション法、エアロゾルガスデポジッション法、パウダージェットデポジッション法、パーティクルジェットデポジション法、コールドスプレー法などの方法）、ＰＶＤ法（スパッタリング法、パルスレーザーデポジション法など）、ＣＶＤ法などにより形成することが好ましい。これらの、低温域で使用可能な成膜プロセスにより、例えば１１００℃を越える高温域での焼成を用いずに、緻密で気密性およびガスバリア性の高い電解質層４が得られる。そのため、金属基板１の損傷を抑制し、また、金属基板１と電極層２との元素相互拡散を抑制することができ、性能・耐久性に優れた電気化学素子Ｅを実現できる。特に、低温焼成法やスプレーコーティング法などを用いると低コストな素子が実現できるので好ましい。更に、低温焼成法やスプレーコーティング法を用いると、緻密で気密性およびガスバリア性の高い電解質層が低温域で容易に得られやすいので更に好ましい。 ［０１３５］ 電解質層４は、アノードガスやカソードガスのガスリークを遮蔽し、かつ、高いイオン伝導性を発現するために、緻密に構成される。電解質層４の緻密度は９０％以上が好ましく、９５％以上であるとより好ましく、９８％以上であると更に好ましい。電解質層４は、均一な層である場合は、その緻密度が９５％以上であると好ましく、９８％以上であるとより好ましい。また、電解質層４が、複数の層状に構成されているような場合は、そのうちの少なくとも一部が、緻密度が９８％以上である層（緻密電解質層）を含んでいると好ましく、９９％以上である層（緻密電解質層）を含んでいるとより好ましい。このような緻密電解質層が電解質層４の一部に含まれていると、電解質層が複数の層状に構成されている場合であっても、緻密で気密性およびガスバリア性の高い電解質層４を形成しやすくできるからである。 ［０１３６］（反応防止層） 反応防止層５は、電解質層４の上に薄層の状態で形成することができる。薄層とする場合は、その厚さを、例えば、１μｍ～１００μｍ程度、好ましくは２μｍ～５０μｍ程度、より好ましくは４μｍ～２５μｍ程度とすることができる。このような厚さにすると、高価な反応防止層材料の使用量を低減してコストダウンを図りつつ、十分な性能を確保することが可能となる。反応防止層５の材料としては、電解質層４の成分と対極電極層６の成分との間の反応を防止できる材料であれば良い。例えばセリア系材料等が用いられる。反応防止層５を電解質層４と対極電極層６との間に導入することにより、対極電極層６の構成材料と電解質層４の構成材料との反応が効果的に抑制され、電気化学素子Ｅの性能の長期安定性を向上できる。反応防止層５の形成は、１１００℃以下の処理温度で形成できる方法を適宜用いて行うと、金属基板１の損傷を抑制し、また、金属基板１と電極層２との元素相互拡散を抑制でき、性能・耐久性に優れた電気化学素子Ｅを実現できるので好ましい。例えば、低温焼成法（例えば１１００℃を越える高温域での焼成処理をしない低温域での焼成処理を用いる湿式法）、スプレーコーティング法（溶射法や、エアロゾルデポジション法、エアロゾルガスデポジッション法、パウダージェットデポジッション法、パーティクルジェットデポジション法、コールドスプレー法などの方法）、ＰＶＤ法（スパッタリング法、パルスレーザーデポジション法など）、ＣＶＤ法などを適宜用いて行うことができる。特に、低温焼成法やスプレーコーティング法などを用いると低コストな素子が実現できるので好ましい。更に、低温焼成法を用いると、原材料のハンドリングが容易になるので更に好ましい。 ［０１３７］（対極電極層） 対極電極層６は、電解質層４もしくは反応防止層５の上に薄層の状態で形成することができる。薄層とする場合は、その厚さを、例えば、１μｍ～１００μｍ程度、好ましくは、５μｍ～５０μｍとすることができる。このような厚さにすると、高価な対極電極層材料の使用量を低減してコストダウンを図りつつ、十分な電極性能を確保することが可能となる。対極電極層６の材料としては、例えば、ＬＳＣＦ、ＬＳＭ（ランタンストロンチウムマンガネート）等の複合酸化物、セリア系酸化物およびこれらの混合物を用いることができる。特に対極電極層６が、Ｌａ、Ｓｒ、Ｓｍ、Ｍｎ、ＣｏおよびＦｅからなる群から選ばれる２種類以上の元素を含有するペロブスカイト型酸化物を含むことが好ましい。以上の材料を用いて構成される対極電極層６は、カソードとして機能する。 ［０１３８］ なお、対極電極層６の形成は、１１００℃以下の処理温度で形成できる方法を適宜用いて行うと、金属基板１の損傷を抑制し、また、金属基板１と電極層２との元素相互拡散を抑制でき、性能・耐久性に優れた電気化学素子Ｅを実現できるので好ましい。例えば、低温焼成法（例えば１１００℃を越える高温域での焼成処理をしない低温域での焼成処理を用いる湿式法）、スプレーコーティング法（溶射法や、エアロゾルデポジション法、エアロゾルガスデポジッション法、パウダージェットデポジッション法、パーティクルジェットデポジション法、コールドスプレー法などの方法）、ＰＶＤ法（スパッタリング法、パルスレーザーデポジション法など）、ＣＶＤ法などを適宜用いて行うことができる。特に、低温焼成法やスプレーコーティング法などを用いると低コストな素子が実現できるので好ましい。更に、低温焼成法を用いると、原材料のハンドリングが容易になるので更に好ましい。 ［０１３９］ 以上説明したように、本発明に係る電気化学素子Ｅにおいては、電解質層４に、ＹＳＺ（イットリア安定化ジルコニア）を採用できる。緻密で気密性およびガスバリア性の高い電解質層４を得るという利点から、本発明に係る塗料組成物ｂ２を使用して電解質層４を形成することができる。 また、別実施形態として、本願の塗料組成物ｂ２を硬化させたイットリア安定化ジルコニア層を電極層２や中間層３の一部（複合材料の一部構成材）に用いることもできる。さらに電解質層４と反応防止層５の間に別途中間層（図外）を挿入する場合もあり、本願の塗料組成物ｂ２を硬化させたイットリア安定化ジルコニアを、この中間層の一部に使用することもできる。」 エ 「 ［図：0001415319000001.jpg］ 」 （２）甲１－１に記載された発明 ア 上記（１）エに摘記した図１５の電気化学素子Ｅからは、その電解質層４が、電極層２の上に形成された領域と、金属基板１のうち電極層２によって覆われていない部分の上に形成された領域とをそれぞれ有していることが見て取れる。 イ そうすると、上記（１）に摘記した甲１－１の記載事項を総合勘案し、特に、図１５に示された電気化学素子Ｅに着目すると、甲１－１には、次の発明が記載されていると認められる。 「金属基板１（金属支持体の一例）と、金属基板１の上に形成された電極層２と、電極層２の上に形成された中間層３と、中間層３の上に形成された電解質層４とを有し、更に、電解質層４の上に形成された反応防止層５と、反応防止層５の上に形成された対極電極層６とを有する電気化学素子Ｅであって、 金属基板１は、電極層２、中間層３および電解質層４等を支持して電気化学素子Ｅの強度を保つ支持体としての役割を担うものであり、 金属基板１は、金属基板１の裏側の面から表側の面へ気体を通過させる機能を有し、表側の面と裏側の面とを貫通して設けられる複数の貫通孔１ａを有するものであり、 電極層２は、金属基板１の表側の面であって貫通孔１ａが設けられた領域より大きな領域に、薄層の状態で設けられており、 電解質層４は、電極層２の上に形成された領域と、金属基板１のうち電極層２によって覆われていない部分の上に形成された領域とをそれぞれ有しており、電極層２および中間層３を覆った状態で、中間層３の上に薄層の状態で形成されており、電解質層４を金属基板１に接合することで、電気化学素子全体として堅牢性に優れたものとすることができ、また、金属基板１の表側の面であって貫通孔１ａが設けられた領域より大きな領域に設けられ、電解質層４の周囲においては、電極層２および中間層３からのガスのリークを抑制することができるものであり、 電解質層４の材料としては、ＹＳＺ（イットリア安定化ジルコニア）、ＳＳＺ（スカンジア安定化ジルコニア）やＧＤＣ（ガドリウム・ドープ・セリア）、ＹＤＣ（イットリウム・ドープ・セリア）、ＳＤＣ（サマリウム・ドープ・セリア）、ＬＳＧＭ（ストロンチウム・マグネシウム添加ランタンガレート）等を用いることができる、 電気化学素子Ｅ。」（以下「甲１－１発明」という。） （３）甲１－３の記載事項 甲１－３には、「磁性複合体」（発明の名称）に関して、以下の記載がある。 ア 「【請求項１】 金属基材と、前記金属基材の表面上に設けられたフェライト層と、を備えた磁性複合体であって、 前記金属基材は、その厚さ（ｄＭ）が０．００１μｍ以上であり、 前記フェライト層は、その厚さ（ｄＦ）が２．０μｍ以上であり、スピネル型フェライトを主成分とし、Ｘ線回折分析における（３１１）面の積分強度（Ｉ３１１）に対する（２２２）面の積分強度（Ｉ２２２）の比（Ｉ２２２／Ｉ３１１）が０．００以上０．０３以下である、磁性複合体。」 イ 「【００１２】 本発明者らは、このような問題点に鑑みて、鋭意検討を行った。その結果、金属基材とフェライト層とを備えた磁性複合体において、フェライト層の結晶状態が重要であり、これを制御することで、緻密で膜厚が比較的厚く、磁気特性及び電気特性、耐熱性に優れ、さらに密着性が良好なフェライト層を得ることができるとの知見を得た。 【００１３】 本発明は、このような知見に基づき完成されたものであり、緻密で膜厚が比較的厚く、磁気特性（５００ＭＨｚ以上の高い周波数においてｔａｎδが小さく）及び電気特性（金属基材の影響を受けることなく表面抵抗が高い）、耐熱性に優れ、さらに密着性が良好なフェライト層を備える磁性複合体の提供を課題とする。」 ウ 「【００３１】 本実施形態のフェライト層は、Ｘ線回折（ＸＲＤ）分析における（３１１）面の積分強度（Ｉ３１１）に対する（２２２）面の積分強度（Ｉ２２２）の比（Ｉ２２２／Ｉ３１１）が０．００以上０．０３以下（０．００≦Ｉ２２２／Ｉ３１１≦０．０３）である。すなわちフェライト層をＸ線回折法で分析すると、Ｘ線回折プロファイルにおいて、スピネル相の（２２２）面に基づく回折ピークが殆ど観測されない。これはフェライト層を構成する結晶粒子が微結晶から構成されるためである。本実施形態のフェライト層の結晶粒子は、磁性複合体製造時に塑性変形を受けている。そのため結晶子径が小さいとともに、格子定数の分布が広い。その結果、ＸＲＤピークがブロードになり、（２２２）回折ピークが観測されなくなる。Ｉ２２２／Ｉ３１１は、好ましくは０．０２以下、より好ましくは０．０１以下である。これに対して、一般のスピネル型フェライト材料は、多結晶状態であっても結晶性が高い。そのため（２２２）面回折ピークが比較的強く観測される。具体的には、ＸＲＤピーク強度比（Ｉ２２２／Ｉ３１１）は０．０４～０．０５（４～５％）程度である。 【００３２】 ＸＲＤピーク強度比（Ｉ２２２／Ｉ３１１）の小さい本実施形態のフェライト層は、緻密であるという特徴がある。塑性変形を受けた結晶粒子は密に充填されやすいためである。また本実施形態のフェライト層は、金属基材との密着性に優れるという効果がある。結晶粒子が塑性変形を受けることで、金属基材との接触面積が増大しているためである。」 （４）甲１－４の記載事項 甲１－４には、「蛍光体、波長変換素子、光源装置およびプロジェクター」（発明の名称）に関して、以下の記載がある。 ア 「【０００５】 しかし、上記特許文献２の蛍光体は、複数の気孔を有していることから、蛍光体粒子の熱伝導率と比べると、蛍光体の熱伝導率は低い。そのため、励起光として高強度のレーザー光が照射されると、蓄熱してしまい、蛍光体粒子の発光効率が低下する。さらに、蛍光体は気孔が多いほど割れやすいため。熱応力により蛍光体が割れる可能性がある。たとえば、高強度の励起光を照射すると、面内温度差によって大きな熱応力が発生する。また、蛍光体を点光源として利用するために、励起光を狭い領域に集束させて照射すると、励起光の照射位置では蛍光体は高温となり、大きな熱応力が発生する。 【０００６】 複数の気孔を有する蛍光体を、例えば研磨によって一定の厚さの蛍光体層に加工した場合、蛍光体層の表面に気孔が露出することが避けられない。そのため、蛍光体層の表面には、気孔に起因する「くぼみ」が存在している。特許文献１に記載された光源装置において、蛍光体層の表面には、光の利用効率を向上させるために誘電体多層膜等の光学機能層が設けられることがある。しかし、表面にくぼみを有している特許文献２の蛍光体層に光学機能層を形成する場合、くぼみの部分では意図した状態で光学機能層を形成することが困難であり、意図した特性の光学機能層を形成することが困難である。 【０００７】 一方で気孔は、蛍光体内部で発せられた蛍光を散乱する機能を有している。蛍光体内部における光散乱機能は、蛍光体内部で発せられた蛍光の取出し効率を高めて蛍光を効率的に利用するために必要である。気孔を減らすと蛍光体内の散乱源が減少するため、蛍光の利用効率が低下するだけでなく、蛍光の射出領域が拡大して、後段の光学系による蛍光の利用効率が低下する。 【０００８】 また、蛍光体の量子収率を向上させることが望まれている。 【０００９】 本発明は、上記の課題の少なくとも一つが解決された蛍光体を提供することを目的とする。また、本発明は、上述のような蛍光体を有する、波長変換素子、光源装置およびプロジェクターを提供することをあわせて目的とする。」 イ 「【００３０】 第８態様において、前記第１結晶子は、Ｃｅ：Ｙ3Ａｌ5Ｏ12を含み、前記第２結晶子は、ＹＡｌＯ3を含んでもよい。 ＹＡｌＯ3（以下、ＹＡＰ）が含まれる焼結体では、ＹＡＰを含まない場合と比較して、焼結体を製造する際、第１結晶子および第２結晶子の結晶子径が小さくなる傾向にある。焼結体は、焼結体を構成する結晶子の結晶子径が小さいと、曲げ強度が高い。そのため、上記構成によれば、熱応力による破損が起こりにくい。」 （５）甲１－５の記載事項 甲１－５には、「耐熱性に優れたダイヤモンド粒子」（発明の名称）に関して、以下の記載がある。 ア 「【０００１】 【産業上の利用分野】本発明は、金属、合金または酸化物、窒化物、炭化物を被覆した、耐熱性に優れるダイヤモンド粒子に関する。」 イ 「【０００７】 【問題点を解決するための手段】本発明は、以上のような問題点を解決すべく案出されたものであり、請求項１あるいは２に示すような物質を、スパッタリング法等の物理蒸着法によって被覆する。これにより、ダイヤモンド粒子の黒鉛化および熱分解等を抑制しつつ、ダイヤモンド粒子個々の表面に実質的に連続した被覆層を形成するとともに、この被覆層の結晶子径を特定することによって、皮膜剥離を抑制できることを見いだし、このような発明をもって、耐熱性に優れたダイヤモンド粒子を提供することを目的とする。」 ウ 「【００１０】さらに、表面被覆層は通常蒸着時の熱歪みが残留しており、これが原因で皮膜剥離を起こしやすい。しかし、その結晶子径が２００ｎｍ以下にある時、熱応力等の内部歪みによる剥離を起こさないことを見いだした。結晶子径が小さくなる（結晶粒が微細化する）と結晶粒界によるすべりが起きるため、導電層中の熱応力を緩和できるに十分な変形能を有する。発明者らは、このために十分な結晶子径が、シェラーの式から計算される結晶子径で２００nm以下が必要であることを見いだした。」 （６）本件特許発明１について ア 本件特許発明１と甲１－１発明との対比 本件特許発明１と甲１－１発明とを対比する。 （ア）甲１－１発明の「金属基板１の裏側の面から表側の面へ気体を通過させる機能を有し、表側の面と裏側の面とを貫通して設けられる複数の貫通孔１ａを有する」「金属基板１」は、「（金属支持体の一例）」であり、「電極層２、中間層３および電解質層４等を支持して電気化学素子Ｅの強度を保つ支持体としての役割を担うもの」であるから、本件特許発明１の「主面に形成された複数の供給孔を有する金属支持体」に相当する。 （イ）甲１－１発明の「金属基板１の表側の面であって貫通孔１ａが設けられた領域より大きな領域に、薄層の状態で設けられて」いる「電極層２」は、本件特許発明１の「前記主面上に形成され前記複数の供給孔を覆う第１電極層」に相当する。 （ウ）甲１－１発明の「反応防止層５の上に形成された対極電極層６」は、本件特許発明１の「第２電極層」に相当し、甲１－１発明の「電極層２の上に形成された中間層３」「の上に形成され」、さらにその上に反応防止層５を介して対極電極層６が形成される「電解質層４」は、本件特許発明１の「前記第１電極層及び前記第２電極層の間に配置される電解質層」に相当する。 （エ）上記（イ）、（ウ）を考慮すれば、甲１－１発明における「電極層２」、「電解質層４」及び「対極電極層６」を含む構成は、本件特許発明１の「セル本体部」に相当する。 （オ）甲１－１発明の「電気化学素子Ｅ」は、本件特許発明１の「電気化学セル」に相当する。 （カ）甲１－１発明の「電解質層４」が「電極層２の上に形成された領域と、金属基板１のうち電極層２によって覆われていない部分の上に形成された領域とをそれぞれ有して」いることは、本件特許発明１の「前記電解質層は、前記第１電極層上に配置される内側部と、前記主面のうち前記第１電極層から露出する領域上に配置される外周部と、を有」することに相当する。 （キ）本件明細書の【００２１】の「電解質層７は、水素極層６において生成されたＯ２－を酸素極層９側に伝達させる。電解質層７は、酸化物イオン伝導性を有する緻密体である。酸化物イオン伝導性材料としては、例えば、ＹＳＺ（イットリア安定化ジルコニア、例えば８ＹＳＺ）、ＧＤＣ（ガドリニウムドープセリア）、ＳｃＳＺ（スカンジア安定化ジルコニア）、ＳＤＣ（サマリウム固溶セリア）、ＬＳＧＭ（ランタンガレート）、及びこれらの複合材料が挙げられる。」との記載や、本願出願時の技術常識からすると、甲１－１発明の「ＹＳＺ（イットリア安定化ジルコニア）、ＳＳＺ（スカンジア安定化ジルコニア）やＧＤＣ（ガドリウム・ドープ・セリア）、ＹＤＣ（イットリウム・ドープ・セリア）、ＳＤＣ（サマリウム・ドープ・セリア）、ＬＳＧＭ（ストロンチウム・マグネシウム添加ランタンガレート）等」の材料を用いることができる「電解質層４」と、本件特許発明１の「電解質層」とは、「前記内側部及び前記外周部それぞれは、所定のイオン伝導性材料を含」む点で共通する。 （ク）そうすると、本件特許発明１と甲１－１発明とは、 「主面に形成された複数の供給孔を有する金属支持体と、 前記主面上に形成され前記複数の供給孔を覆う第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層及び前記第２電極層の間に配置される電解質層とを有するセル本体部と、 を備え、 前記電解質層は、 前記第１電極層上に配置される内側部と、 前記主面のうち前記第１電極層から露出する領域上に配置される外周部と、 を有し、 前記内側部及び前記外周部それぞれは、所定のイオン伝導性材料を含む、 電気化学セル。」 である点で一致し、次の点で相違する。 ＜相違点１＞ 電解質層に含まれる所定のイオン伝導性材料の結晶子径について、本件特許発明１では、「前記外周部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径は、前記内側部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径より小さい」との関係を有している（発明特定事項Ｅ）のに対して、甲１－１発明では、そのような関係を有しているか否か不明である点。 イ 相違点についての判断 そこで、上記相違点１について、以下検討する。 （ア）本件明細書の【００２６】の以下の記載によれば、本件特許発明１において上記相違点１に係る発明特定事項Ｅを備えることは、「外周部７２に塑性を付与することができ」、「金属支持体２０との熱膨張係数差に起因する熱応力が外周部７２に繰り返しかかったとしても、熱応力を外周部７２の内部で吸収することができるため、外周部７２に割れ（クラック）が生じることを抑制できる」との技術的意義を有するものと認められる。 「【００２６】 内側部７１及び外周部７２それぞれは、同じ酸化物イオン伝導性材料（本発明に係る「所定のイオン伝導性材料」）を含む。外周部７２に含まれる酸化物イオン伝導性材料の結晶子径は、内側部７１に含まれる酸化物イオン伝導性材料の結晶子径より小さい。このように、外周部７２において酸化物イオン伝導性材料の結晶子径を相対的に小さくすることによって、外周部７２に塑性を付与することができる。従って、金属支持体２０との熱膨張係数差に起因する熱応力が外周部７２に繰り返しかかったとしても、熱応力を外周部７２の内部で吸収することができるため、外周部７２に割れ（クラック）が生じることを抑制できる。」 （イ）一方、上記（１）に摘記した甲１－１の記載事項を参照しても、電解質層４の結晶子径に注目した記載は見当たらないから、甲１－１発明において、上記（ア）のとおりの技術的意義を有する上記相違点１に係る発明特定事項Ｅを備えることが、単なる設計的事項であるとはいえず、また、そのようにする動機付けがあるともいえない。 （ウ）また、上記（３）に摘記した甲１－３には、フェライト層を備えた磁性複合体における結晶子径と塑性変形との関係について、上記（４）に摘記した甲１－４には、蛍光体を構成する焼結体における結晶子径と曲げ強度との関係について、上記（５）に摘記した甲１－５には、耐熱性に優れるダイヤモンド粒子の金属から成る被覆層の結晶子径と変形能との関係について、それぞれ記載されているものの、これらは電気化学素子における電解質層に関するものではなく、電解質層に含まれる所定のイオン伝導性材料の結晶子径について、「前記外周部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径は、前記内側部に含まれる前記イオン伝導性材料の結晶子径より小さい」との関係を有することについて示唆するものではないから、甲１－３～甲１－５の記載を参照しても、甲１－１発明において、上記相違点１に係る発明特定事項Ｅを備えようとする動機付けがあるとはいえない。 （エ）以上によれば、甲１－１発明において、上記相違点１に係る発明特定事項Ｅを備えさせることは、当業者が容易になし得たことであるとはいえない。 ウ 小括 したがって、本件特許発明１によって奏される効果について検討するまでもなく、本件特許発明１は、甲１－１発明に基いて、又は甲１－１発明及び甲１－３～甲１－５の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （７）本件特許発明２について 本件特許発明２は、本件特許発明１の発明特定事項をすべて備えたものであるから、上記（６）ウのとおり、本件特許発明１が、甲１－１発明に基いて、又は甲１－１発明及び甲１－３～甲１－５の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない以上、同様に、本件特許発明２は、甲１－１発明に基いて、又は甲１－１発明及び甲１－３～甲１－５の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。 （８）申立理由１－１（進歩性）についてのまとめ よって、本件特許発明１～２は、特許法第２９条第２項に規定により特許を受けることができないものであるとはいえないから、申立理由１－１（進歩性）によっては、本件特許の請求項１～２に係る特許を取り消すことはできない。 ３ 申立理由１－２（サポート要件）及び申立理由２－２（サポート要件）について （１）本件明細書の【０００４】、【０００５】の記載からすると、本件特許発明が解決しようとする課題は、電解質の外周部に金属支持体との熱膨張係数差に起因する熱応力が繰り返しかかることによって割れが生じることを抑制可能な電気化学セルを提供することにあると認められる。 （２）そして、本件明細書の【００１０】～【００７８】及び図１～図５（特に、上記２（６）イ（ア）に摘記した【００２６】）の記載によれば、上記（１）の課題は、主面に形成された複数の供給孔を有する金属支持体と、主面上に形成され上記複数の供給孔を覆う第１電極層と、第２電極層と、上記第１電極層及び上記第２電極層の間に配置される電解質層とを有するセル本体部とを備え、上記電解質層が上記第１電極層上に配置される内側部と、上記主面のうち上記第１電極層から露出する領域上に配置される外周部とを有し、上記内側部及び上記外周部それぞれは、所定のイオン伝導性材料を含む電気化学セルについて、さらに外周部に含まれる上記イオン伝導性材料の結晶子径を内側部に含まれる上記イオン伝導性材料の結晶子径より小さいものとすることで解決できることを、当業者であれば認識できるといえる。 （３）一方、本件特許発明１～２は、主面に形成された複数の供給孔を有する金属支持体と、主面上に形成され上記複数の供給孔を覆う第１電極層と、第２電極層と、上記第１電極層及び上記第２電極層の間に配置される電解質層とを有するセル本体部とを備え、上記電解質層が上記第１電極層上に配置される内側部と、上記主面のうち上記第１電極層から露出する領域上に配置される外周部とを有し、上記内側部及び上記外周部それぞれは、所定のイオン伝導性材料を含む電気化学セルについて、さらに外周部に含まれる上記イオン伝導性材料の結晶子径が内側部に含まれる上記イオン伝導性材料の結晶子径より小さいものであることを発明特定事項として含むものでるから、発明の詳細な説明において「発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲」を超えるものとはいえない。 （４）この点について、申立人１は、本件特許発明１～２が、 ア 電解質層の熱膨張係数と金属支持体の熱膨張係数との差が無い態様、 イ 複数種のイオン伝導性材料を含み、当該複数種のイオン伝導性材料のうちの１つのイオン伝導性材料のみが上記発明特定事項Ｅを充足し、当該複数種のイオン伝導性材料のうちの他のイオン伝導性材料は上記発明特定事項Ｅを充足しない態様、 ウ 外周部が、塑性を減ずる作用を有する、イオン伝導性材料以外の材料を含む態様 を包含するものであり、発明の詳細な説明において「発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲」を超えるものであると主張している（上記第３の１（２）ア参照。）。 （５）そこで、上記（４）の主張について検討するに、上記（４）アについては、電解質層を構成する材料（本件明細書の【００２１】）と金属支持体を構成する材料（本件明細書の【００４９】～【００５１】）からすると、「電解質層の熱膨張係数と金属支持体の熱膨張係数との差」があるのが通常であり、差が無い態様は通常は想定されず、仮に差が無い態様を想定するとしても、「電解質層の熱膨張係数と金属支持体の熱膨張係数との差が無い態様」であれば、そもそも電解質の外周部に金属支持体との熱膨張係数差に起因する熱応力が繰り返しかかることによって割れが生じる可能性は極めて低く、上記（１）の課題が解決できると解することもできるし、上記（４）イ、ウのように、電解質層に上記発明特定事項Ｅを充足しない材料が含まれても、上記発明特定事項Ｅを充足する所定のイオン伝導性材料に着目すれば、その分だけ電解質層に割れが生じることは抑制されると評価できるから、いずれにしても、本件特許発明１～２が上記（４）ア～ウの態様を包含するものであるからといって、発明の詳細な説明において「発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲」を超えるものであるとはいえない。 したがって、上記（４）の主張は採用しない。 （６）また、申立人１は、本件明細書では、本件特許発明の作用効果が、本件特許発明の課題解決手段によって実現されるものであることを裏付けるためのデータやメカニズムについての記載がされていないため、出願時の技術常識に照らしても、上記発明特定事項Ｅの構成によって本件特許発明の課題を解決することができると当業者が認識することができないから、本件特許発明１～２は、発明の詳細な説明において「発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲」を超えるものであると主張している（上記第３の１（２）イ参照。）。 （７）そこで、上記（６）の主張について検討するに、確かに、本件明細書には、本件特許発明１～２を実施した具体例（実施例）の記載はないものの、甲１－５の【００１０】の記載（上記１（５）参照。）等を考慮すれば、一般に、結晶子径と変形能（塑性）との間に何らかの因果関係が存在することは理解できるから、そのことを前提に本件明細書の【００２６】の記載（上記２（６）イ（ア）参照。）を参照すれば、上記（２）において検討したとおり、本件特許発明１～２が上記発明特定事項Ｅを備えることにより上記（１）の課題が解決できることを、当業者であれば認識できるといえる。 したがって、本件特許発明１～２が、発明の詳細な説明において「発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲」を超えるものであるとはいえないから、上記（６）の主張は採用しない。 （８）さらに、申立人１は、本件特許発明の本質は、外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径を内側部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径よりも相対的に小さくすることではなく、外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径の絶対値を小さくすることであることを根拠にして、その点が特定されていない本件特許発明１～２は、発明の詳細な説明において「発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲」を超えるものであると主張している（上記第３の１（２）ウ参照。）。 （９）そこで、上記（８）の主張について検討する。 ア 本件明細書の記載によれば、本件特許発明は、金属支持体に直接接続されている電解質の外周部には、金属支持体との熱膨張係数差に起因する熱応力が繰り返しかかることによって割れが生じやすい（本件明細書の【０００４】、【０００５】参照。）ことから、電解質層の外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径を内側部に含まれるものに比べて相対的に小さいものとすることで外周部に塑性を付与し、外周部における熱応力を内部で吸収することで割れが生じることを抑制できるとの技術思想に基づくものであるといえる。 イ そして、外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径が内側部に含まれる当該イオン伝導性材料の結晶子径と同じ又は相対的に大きい態様との比較において、本件特許発明１～２が、外周部に塑性を付与することができ、外周部における熱応力を内部で吸収することで割れが生じることを抑制できるものであることは十分に理解できるといえるから、外周部における上記結晶子径の絶対値が特定されていないからといって、本件特許発明１～２が、発明の詳細な説明において「発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲」を超えるものであるとはいえない。 ウ したがって、上記（８）の主張は採用しない。 （１０）加えて、申立人２は、 ア 本件明細書には、上記発明特定事項Ｅを備えることによりなぜ電解質に割れが生じることを抑制できるのかに関する具体的かつ明確な説明は記載されておらず、「外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」や「内側部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」を所定の数値範囲とすることにより電解質に割れが生じることを抑制できるのかに関する具体的かつ明確な説明も記載されていないこと、 イ 本件明細書には、「外周部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」が「内側部に含まれるイオン伝導性材料の結晶子径」よりどれだけ小さければよいのかについて、両者の差や比といった具体的な指標が記載されていないこと、 ウ 本件明細書には、実施例が記載されておらず、上記発明特定事項Ｅを備えた電解質の具体例や、電解質の割れを抑制するという作用効果を支持する試験結果の開示が全くされていないこと、 を根拠として、本件特許発明１～２について、上記発明特定事項Ｅを備えることにより本件特許発明の課題が解決できると当業者が認識することはできない旨主張している（上記第３の２（２）参照。）。 （１１）そこで、上記（１０）の主張について検討するに、上記（１０）ア、ウの点については、上記（７）において検討したのと同様であり、また、上記（１０）イの点については、上記１（６）において検討したとおりであるから、上記（１０）の主張は、いずれの点についても、根拠を欠くものと言わざるを得ず、採用しない。 （１２）申立理由１－２（サポート要件）及び申立理由２－２（サポート要件）についてのまとめ よって、本件特許の特許請求の範囲の請求項１～２の記載は、特許を受けようとする発明が発明の詳細な説明に記載したものであり、特許法第３６条第６項第１号に適合するものであるから、申立理由１－２（サポート要件）及び申立理由２－２（サポート要件）によっては、本件特許の請求項１～２に係る特許を取り消すことはできない。 ４ 申立理由２－１（実施可能要件）について （１）確かに、本件明細書には、本件特許発明１～２について、具体的に使用されたイオン伝導性材料の粒子径や粒度分布に関する情報、電気化学セルとして使用する際の電気的性能を判断するための具体的な手法や数値、具体的な材料の種類や使用量、焼結時の温度や焼成時間、基板の加熱温度や成膜条件等の情報が記載されていない。 （２）しかしながら、本件明細書の【００３４】の以下の記載を参照すれば、採用した電解質層の形成方法に応じて各製造条件を調整することにより、外周部と内側部のイオン伝導性材料の結晶子径を調整することは、当業者にとって十分可能であるといえる。 「【００３４】 電解質層７の形成方法は特に制限されず、焼成法、スプレーコーティング法、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法などを用いることができる。焼成法やスプレーコーティング法のように原料粉末をもとに電解質層７を形成するプロセスでは、原料の仮焼温度を変えることで結晶子径の異なる材料を作り分けたうえで、各材料を塗り分けることによって内側部７１及び外周部７２を形成することができる。ＰＶＤ法やＣＶＤ法のようにイオンの形態で電解質層７を形成するプロセスでは、内側部７１及び外周部７２それぞれを形成する際の基板の加熱温度や成膜条件を変えることで内側部７１及び外周部７２の結晶子径を調整することができる。」 （３）また、本願出願時の技術常識を考慮すれば、本件明細書の記載を参照しつつ、電気化学セルとして十分動作するものを製造し、使用することも十分可能であるといえる。 （４）そうすると、本件明細書の記載は、本件特許発明１～２に係る「電気化学セル」について、その物を作れ、使用できるように記載されたものといえる。 （５）申立理由２－１（実施可能要件）についてのまとめ したがって、本件特許の発明の詳細な説明の記載は、本件特許発明１～２について、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものであり、特許法第３６条第４項第１号に適合するものであるから、申立理由２－１（実施可能要件）によっては、本件特許の請求項１～２に係る特許を取り消すことはできない。 第５ むすび 以上のとおりであるから、申立人１、２による特許異議の申立ての理由によっては、本件特許の請求項１～２に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に本件特許の請求項１～２に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。