2022-020461

特願２０１８－５６２３１７「フレキシブル表示パネル及びその製造方法、フレキシブル表示装置」拒絶査定不服審判事件〔令和 １年 ５月 ９日国際公開、ＷＯ２０１９／０８５３４９、令和 ３年 ２月 ４日国内公表、特表２０２１－５０３０９３〕について、次のとおり審決する。

結 論 本件審判の請求は、成り立たない。

理 由 第１ 手続の経緯 本願は、２０１８年（平成３０年）２月２４日を国際出願日とする外国語特許出願であって（パリ条約による優先権主張 平成２９年１１月１日 中国）、その手続の経緯の概略は、次のとおりである。なお、平成２９年１１月１日を以下「優先日」という。 平成３０年１１月２８日 ：翻訳文の提出 令和 ３年 ８月２５日付け：拒絶理由通知書 同年１１月２９日 ：意見書、手続補正書の提出 令和 ４年 ３月２２日付け：拒絶理由通知書（最後） 同年 ６月２９日 ：意見書、手続補正書の提出 同年 ８月１０日付け：補正の却下の決定 同日付け：拒絶査定（以下「原査定」という。） （同月１６日 ：原査定の謄本の送達） 同年１２月１６日 ：審判請求書、手続補正書の提出 令和 ５年１２月１３日付け：拒絶理由通知書 令和 ６年 ３月１４日 ：意見書、手続補正書の提出 同月２９日付け：拒絶理由通知書（最後） 同年 ７月 ２日 ：意見書、手続補正書の提出 第２ 補正の却下の決定 ［補正の却下の決定の結論］ 令和６年７月２日にされた手続補正を却下する。 ［補正の却下の決定の理由］ １ 本件補正の概要 令和６年７月２日にされた手続補正（以下「本件補正」という。）は、特許請求の範囲について補正するものであって、次の(１)に示す本件補正前（令和６年３月１４日にされた手続補正後をいう。以下同じ。）の特許請求の範囲の請求項１を、後記の(２)に示す本件補正後の特許請求の範囲の請求項１の記載に補正することを含むものである。下線は、補正箇所を示す。 (１) 本件補正前の特許請求の範囲の請求項１ 「【請求項１】 フレキシブル表示パネルであって、 屈曲可能領域を含むフレキシブルベース基板と、 前記フレキシブルベース基板上に位置する第１層と、 前記第１層の少なくとも一部を貫通するトレンチと、 前記トレンチ内に位置する第２層と、 前記第２層上に位置する金属層と を含み、 前記第２層は、前記第１層より小さい弾性率を有し、 前記第２層及び前記金属層の少なくとも一部は、前記屈曲可能領域の屈曲中において、前記屈曲可能領域と共形であり、 前記金属層は前記第１層と同一の層に存在せず、 前記トレンチは、前記フレキシブル表示パネルの非表示領域内に位置し、 前記フレキシブル表示パネルは、表示領域を更に含み、前記表示領域は、サブピクセルのアレイ及び信号線を備え、前記非表示領域は、駆動チップを備え、 前記フレキシブル表示パネルは、隔離バッファ層と、活性層と、第１ゲート絶縁層と、第１ゲート層と、第２ゲート絶縁層と、第２ゲート層と、誘電体層と、ソース・ドレイン金属層と、平坦化層とを含み、 前記第１層は、前記非表示領域を覆う、前記誘電体層、前記第２ゲート絶縁層、前記第１ゲート絶縁層、前記隔離バッファ層及びそれらの混合体からなる群からの少なくとも一つの層又は複数の層を含み、 前記 前記金属層は、リード線であり、前記屈曲可能領域は、屈曲領域であり、 前記フレキシブル表示パネルは、少なくとも前記屈曲領域を覆う、前記リード線の前記フレキシブルベース基板から遠ざかる面の上に位置する第２バッファ層を更に含み、 前記フレキシブル表示パネルは、前記サブピクセルのアレイ上に順に積層された第１無機層、有機層、及び第２無機層を更に含み、前記有機層が、前記第１無機層及び前記第２無機層により囲まれており、前記第２バッファ層と前記有機層は同一の層上に配置され、同一の材料で製作されたものである、フレキシブル表示パネル。」 (２) 本件補正後の特許請求の範囲の請求項１ 「【請求項１】 フレキシブル表示パネルであって、 屈曲可能領域を含むフレキシブルベース基板と、 前記フレキシブルベース基板上に位置する第１層と、 前記第１層の少なくとも一部を貫通するトレンチと、 前記トレンチ内に位置する第２層と、 前記第２層上に位置する金属層と を含み、 前記第２層は、前記第１層より小さい弾性率を有し、 前記第２層及び前記金属層の少なくとも一部は、前記屈曲可能領域の屈曲中において、前記屈曲可能領域と共形であり、 前記金属層は前記第１層と同一の層に存在せず、 前記トレンチは、前記フレキシブル表示パネルの非表示領域内に位置し、 前記フレキシブル表示パネルは、表示領域を更に含み、前記表示領域は、サブピクセルのアレイ及び信号線を備え、前記非表示領域は、駆動チップを備え、 前記フレキシブル表示パネルは、隔離バッファ層と、活性層と、第１ゲート絶縁層と、第１ゲート層と、第２ゲート絶縁層と、第２ゲート層と、誘電体層と、ソース・ドレイン金属層と、平坦化層とを含み、 前記第１層は、前記非表示領域を覆う、前記誘電体層、前記第２ゲート絶縁層、前記第１ゲート絶縁層、前記隔離バッファ層及びそれらの混合体からなる群からの少なくとも一つの層又は複数の層を含み、 前記金属層は、リード線であり、前記屈曲可能領域は、屈曲領域であり、 前記フレキシブル表示パネルは、少なくとも前記屈曲領域を覆う、前記リード線の前記フレキシブルベース基板から遠ざかる面の上に位置する第２バッファ層を更に含み、 前記フレキシブル表示パネルは、前記サブピクセルのアレイ上に順に積層された第１無機層、有機層、及び第２無機層を更に含み、前記有機層が、前記第１無機層及び前記第２無機層により囲まれており、前記第２バッファ層と前記有機層は、同一の材料からなる、フレキシブル表示パネル。」 ２ 補正の目的要件について 本件補正のうち請求項１についてする補正は、本件補正前の「前記第２バッファ層と前記有機層は同一の層上に配置され、同一の材料で製作されたものである」を、「前記第２バッファ層と前記有機層は、同一の材料からなる」とする補正事項を含むところ、当該補正事項の補正の目的について、以下検討する。 (１) 特許請求の範囲の減縮に該当しないことについて 本件補正前の請求項１には、「第２バッファ層」と「有機層」について、「同一の層上に配置され」と特定されていたところ、本件補正後の請求項１では、「同一の層上に配置され」との特定は削除され、「第２バッファ層」と「有機層」が「同一の層上に配置され」ていない構成も包含するものとなった。 そうすると、本件補正による請求項１についての補正は、特許請求の範囲を拡張するものであって、「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものには該当しない。 (２) 明瞭でない記載の釈明に該当しないことについて ア 「明瞭でない記載」とは、それ自体意味の明らかでない記載など、記載上不備が生じている記載であって、特に特許請求の範囲について「明瞭でない記載」とは、請求項の記載そのものが文理上意味が不明瞭である場合、請求項自体の記載内容が他の記載との関係において不合理を生じている場合、又は請求項自体の記載は明瞭であるが請求項に記載した発明が技術的に正確に特定されず不明瞭である場合等をいい、その「釈明」とは、記載の不明瞭さを正してその記載本来の意味内容を明らかにすることをいうものと解される（知財高判平成２３年５月２３日（平成２２年（行ケ）第１０３２５号）を参照）。 イ 本件補正前の請求項１には、「前記第２バッファ層と前記有機層は同一の層上に配置され」と特定され、積層構造における第２バッファ層と有機層の配置関係が本来の意味内容に含まれていたところ、本件補正後の請求項１の記載は、本件補正前の記載の本来の意味内容に含まれるべき、積層構造における第２バッファ層と有機層の配置関係について何ら特定されていない。 ウ そうすると、本件補正後の請求項１の記載は、本件補正前の請求項１の記載本来の意味内容とは異なるものになっているから、本件補正による請求項１についての補正は、本件補正前の記載本来の意味内容を明らかにするものにはなっておらず、「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものに該当するとは認められない。 (３) その他の補正の目的にも該当しないことについて また、本件補正による請求項１についての補正が、請求項の削除又は誤記の訂正を目的とするものでないことは明らかである。 (４) 小括 したがって、本件補正のうち請求項１についてする補正は、特許法１７条の２第５項各号に掲げるいずれの事項を目的とするものにも該当しない。 ３ 補正の却下の決定についてのむすび 以上に検討したところによれば、本件補正は、特許法１７条の２第５項各号に掲げるいずれの事項を目的とするものにも該当せず、同項に規定する要件に違反するから、同法１５９条１項において読み替えて準用する同法５３条１項の規定により却下すべきものである。 よって、補正の却下の決定の結論のとおり決定する。 第３ 本願の請求項１～１４に係る発明について １ 本願の請求項１～１４に係る発明の認定 本件補正は、前記第２のとおり却下されることとなったので、本願の請求項１～１４に係る発明は、本件補正前の請求項１～１４に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、本件補正前の請求項１～１４の記載は、次のとおりである。 「【請求項１】 フレキシブル表示パネルであって、 屈曲可能領域を含むフレキシブルベース基板と、 前記フレキシブルベース基板上に位置する第１層と、 前記第１層の少なくとも一部を貫通するトレンチと、 前記トレンチ内に位置する第２層と、 前記第２層上に位置する金属層と を含み、 前記第２層は、前記第１層より小さい弾性率を有し、 前記第２層及び前記金属層の少なくとも一部は、前記屈曲可能領域の屈曲中において、前記屈曲可能領域と共形であり、 前記金属層は前記第１層と同一の層に存在せず、 前記トレンチは、前記フレキシブル表示パネルの非表示領域内に位置し、 前記フレキシブル表示パネルは、表示領域を更に含み、前記表示領域は、サブピクセルのアレイ及び信号線を備え、前記非表示領域は、駆動チップを備え、 前記フレキシブル表示パネルは、隔離バッファ層と、活性層と、第１ゲート絶縁層と、第１ゲート層と、第２ゲート絶縁層と、第２ゲート層と、誘電体層と、ソース・ドレイン金属層と、平坦化層とを含み、 前記第１層は、前記非表示領域を覆う、前記誘電体層、前記第２ゲート絶縁層、前記第１ゲート絶縁層、前記隔離バッファ層及びそれらの混合体からなる群からの少なくとも一つの層又は複数の層を含み、 前記 前記金属層は、リード線であり、前記屈曲可能領域は、屈曲領域であり、 前記フレキシブル表示パネルは、少なくとも前記屈曲領域を覆う、前記リード線の前記フレキシブルベース基板から遠ざかる面の上に位置する第２バッファ層を更に含み、 前記フレキシブル表示パネルは、前記サブピクセルのアレイ上に順に積層された第１無機層、有機層、及び第２無機層を更に含み、前記有機層が、前記第１無機層及び前記第２無機層により囲まれており、前記第２バッファ層と前記有機層は同一の層上に配置され、同一の材料で製作されたものである、フレキシブル表示パネル。 【請求項２】 前記第１層は、隔離層を含む、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。 【請求項３】 前記第２層は、ポリマー層を含む、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。 【請求項４】 前記トレンチの前記フレキシブルベース基板上における正投影は、前記フレキシブルベース基板の屈曲可能領域に重なる、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。 【請求項５】 前記トレンチは、底面と、前記底面の両側にそれぞれ位置し且つ前記底面に接続される第１側面と、第２側面とを含む、請求項１及び４のいずれか１項に記載のフレキシブル表示パネル。 【請求項６】 前記第２層の前記フレキシブルベース基板に垂直な方向における厚さは、前記トレンチの深さに実質的に等しい、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。 【請求項７】 前記第２層の前記フレキシブルベース基板に垂直な方向における厚さは、前記トレンチの深さより低い、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。 【請求項８】 前記第１側面及び前記第２側面の各々は、傾斜面であり、前記傾斜面の角度は９０度未満である、請求項５に記載のフレキシブル表示パネル。 【請求項９】 前記第１側面及び前記第２側面の各々は、二つの傾斜面と、前記二つの傾斜面の間に位置する階段面とを含み、前記二つの傾斜面の各々の角度は９０度未満である、請求項５に記載のフレキシブル表示パネル。 【請求項１０】 前記金属層と前記ソース・ドレイン金属層とは、同じ材料である、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。 【請求項１１】 前記第２層と前記平坦化層とは、同じ材料である、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。 【請求項１２】 フレキシブル表示パネルを製造する方法であって、 屈曲可能領域を含むフレキシブルベース基板を提供する工程と、 前記フレキシブルベース基板上に第１層を形成する工程と、 前記第１層の少なくとも一部を貫通するトレンチを形成する工程と、 前記トレンチ内に第２層を充填する工程と、 前記第２層上に金属層を形成する工程と を含み、 前記第２層は、前記第１層より小さい弾性率を有し、 前記第２層及び前記金属層の少なくとも一部は、前記屈曲可能領域の屈曲中において前記屈曲可能領域と共形であり、 前記金属層は前記第１層と同一の層に存在せず、 前記トレンチは、前記フレキシブル表示パネルの非表示領域内に位置し、 前記フレキシブル表示パネルは、表示領域を更に含み、前記表示領域は、サブピクセルのアレイ及び信号線を備え、前記非表示領域は、駆動チップを備え、 前記フレキシブル表示パネルは、隔離バッファ層と、活性層と、第１ゲート絶縁層と、第１ゲート層と、第２ゲート絶縁層と、第２ゲート層と、誘電体層と、ソース・ドレイン金属層と、平坦化層とを含み、 前記第１層は、前記非表示領域を覆う、前記誘電体層、前記第２ゲート絶縁層、前記第１ゲート絶縁層、前記隔離バッファ層及びそれらの混合体からなる群からの少なくとも一つの層又は複数の層を含み、 前記 前記金属層は、リード線であり、前記屈曲可能領域は、屈曲領域であり、 前記フレキシブル表示パネルは、少なくとも前記屈曲領域を覆う、前記リード線の前記フレキシブルベース基板から遠ざかる面の上に位置する第２バッファ層を更に含み、 前記フレキシブル表示パネルは、前記サブピクセルのアレイ上に順に積層された第１無機層、有機層、及び第２無機層を更に含み、前記有機層が、前記第１無機層及び前記第２無機層により囲まれており、前記第２バッファ層と前記有機層は同一の層上に配置され、同一の材料で製作されたものである、フレキシブル表示パネルを製造する方法。 【請求項１３】 前記第２層は、インクジェット印刷プロセスにより形成される、請求項１２に記載のフレキシブル表示パネルを製造する方法。 【請求項１４】 請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のフレキシブル表示パネルを含む表示装置。」 ２ 当審の拒絶理由通知の概要 当審において通知した令和６年３月２９日付け拒絶理由通知の理由１(２)、２(２)及び３の概要は、次のとおりである。 （明確性）この出願は、特許請求の範囲の記載が下記の点で、特許法３６条６項２号に規定する要件を満たしていない。 記 請求項１、１２の「前記第２バッファ層と前記有機層は同一の層上に配置され」との記載では、「第２バッファ層」と「有機層」がどのように配置されるのか、不明確である。 したがって、請求項１、１２に係る発明、及び、請求項１、１２に係る発明を直接又は間接的に引用する請求項２～１１、１３～１４に係る発明は不明確である。 ３ 判断 請求項１、１２に記載された「前記第２バッファ層と前記有機層は同一の層上に配置され」は、「第２バッファ層」と「有機層」が同一の層であることを意味するのか、「第２バッファ層」と「有機層」が別の「同一の層」の「上に配置され」ることを意味するのか、それとも、それ以外のことを意味するのか判然とせず、いずれの意味に解しても請求項１、１２の他の記載と整合しないから、不明確である。その詳細な理由は以下のとおりである。 (１) 当該記載が、「第２バッファ層」と「有機層」が同一の層であることを意味するものであるとすると、請求項１、１２において、「第２バッファ層」は「少なくとも前記屈曲領域を覆う、前記リード線の前記フレキシブルベース基板から遠ざかる面の上に位置する」ものであるのに対し、「有機層」は「前記サブピクセルのアレイ上に順に積層された第１無機層、有機層、及び第２無機層」であって、「前記第１無機層及び前記第２無機層により囲まれて」いるものであるから、「第２バッファ層」と「有機層」が同一の層となるものではない。 (２) また、当該記載が、「第２バッファ層」と「有機層」が、別の「同一の層」の「上に配置され」ることを意味するものであるとすると、請求項１、１２において、「第２バッファ層」は「前記リード線の前記フレキシブルベース基板から遠ざかる面の上に位置する」ものであるのに対し、「有機層」は「前記第１無機層及び前記第２無機層により囲まれて」おり、少なくとも「第１無機層」又は「第２無機層」のいずれかの上に配置されるものとなるから、「第２バッファ層」と「有機層」が「同一の層」の「上に配置され」るものとはならない。 (３) さらに、請求項１、１２に記載された「前記第２バッファ層と前記有機層は同一の層上に配置され」をどのように理解したとしても、請求項１、１２の他の記載と整合する意味を見い出すことができない。 (４) 請求人は、令和６年３月１４日に提出された意見書の「２．補正の根拠の明示」において、当該記載の補正の根拠が「段落００３４、００４１、図３」にあると記載しているが、段落【００４１】に「第２バッファ層２５は、封止層の有機層２３と同じプロセスにより同時に製作することができる。」ことは記載されているものの、同じプロセスにより同時に製作したとしても、積層構造や高さが一様でない積層体上に層を形成した場合には、形成される層が必ずしも「同一の層」となったり、「同一の層」の「上に配置され」るものとなったりするものではない。 また、図３を参照すると、「第２バッファ層２５」と「有機層２３」とが同じ模様でハッチされていることは見て取れるものの、それらの形状は異なり、また、「第２バッファ層２５」は「誘電体層１３」の上の「リード線２４」の上にあり、「有機層２３」は少なくとも「誘電体層１３」の上の「無機層２１」の上にあることが見て取れるから、図３を参照しても、第２バッファ層２５と有機層２３が「同一の層」であるか、「同一の層」の「上に配置され」るものであるということはできない。 そうすると、請求人の補正の根拠に関する主張を考慮しても、当該記載の意味は不明確である。 (５) 前記(１)～(４)にて検討したとおり、請求項１、１２の「前記第２バッファ層と前記有機層は同一の層上に配置され」との記載では、「第２バッファ層」と「有機層」がどのように配置されるのか、不明確である。 したがって、請求項１、１２に係る発明、及び、請求項１、１２に係る発明を直接又は間接的に引用する請求項２～１１、１３～１４に係る発明は、明確でない。 第４ むすび 以上検討のとおり、本願の特許請求の範囲の記載は、特許法３６条６項２号に規定する要件を満たしていないから、本願は、拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。 ＜＜付記＞＞ 仮に請求人が令和６年７月２日に提出された意見書において主張するとおり、本件補正のうち請求項１についてする補正が誤記の訂正及び明瞭でない記載の釈明を目的とするものであり、本件補正が認められると仮定したとしても、当合議体は、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本件補正発明１」という。）は、当審において通知した令和５年１２月１３日付け拒絶理由通知の理由２（進歩性欠如）により拒絶すべきものと考えるから、その理由について以下に付記する。 なお、本件補正発明１は、本審決において明確性要件の判断の対象となった本件補正前の請求項１に係る発明とは、発明特定事項の一部が異なる発明である点に留意が必要である。 １ 本件補正発明１ 本件補正発明１は、前記第２の１(２)に示した、本件補正後の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである。 ２ 引用発明の認定 令和５年１２月１３日付け拒絶理由通知に引用された、本願の優先日前に発行された米国特許出願公開第２０１７／０３０９６５１号明細書（以下「引用文献１」という。）には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。なお、引用文献１における引用発明の認定の根拠となった箇所を括弧内に示す。 ＜引用発明＞ 「少なくとも一部に柔軟性を有し、フレキシブル部で折り曲げられる表示装置であって、（[0077]） 曲げたり折ったりできる柔軟性を有する材料で形成された基板SUBと、（[0085]） 基板SUB上に形成される、無機材料からなる無機絶縁層であるバッファ層BFと（[0087]）、 バッファ層BF上に設けられる、半導体材料で形成されるアクティブパターンACTと、（[0088]） アクティブパターンACTの上に設けられる、無機材料からなる無機絶縁層であるゲート絶縁層GIと、（[0089]） ゲート絶縁膜GI上に設けられるゲート電極GE及びキャパシタ下部電極LEと、（[0090]） ゲート電極GE及びキャパシタ下部電極LEの上に設けられる、無機材料からなる無機絶縁層である層間絶縁膜ILと、（[0093]） 層間絶縁膜IL上に設けられるキャパシタ上部電極UEと、（[0094]） キャパシタ上部電極UE上に設けられる、無機材料からなる無機絶縁層である第１絶縁層INS1と、（[0096]） 第１絶縁層INS1上に設けられるソース電極SE及びドレイン電極DEと、（[0097]） ソース電極SE及びドレイン電極DE上に設けられるパッシベーション層PSVと、（[0100]） パッシベーション層PSV上に設けられる、ポリアクリル系化合物、ポリイミド系化合物、テフロン(登録商標)などのフッ素含有炭素化合物、ベンゾシクロブテン化合物などの有機絶縁材料を含む有機材料からなる有機絶縁層である第３絶縁層INS3と、（[0101]） 第３絶縁層INS3上に設けられる接続パターンCNPと、（[0102]） 接続パターンCNP上に設けられる、ポリアクリル系化合物、ポリイミド系化合物、テフロン(登録商標)などのフッ素含有炭素化合物、ベンゾシクロブテン化合物などの有機絶縁材料を含む有機材料からなる有機絶縁層である第４絶縁層INS4と、（[0104]） 第４絶縁層INS4上に設けられる第１電極EL1と、（[0105]） 第１電極EL1の上面を露出する、基板SUB上に設けられている各画素PXLに対応するように領域を分割するための画素定義層PDLと、（[0110]、[0111]） 画素定義層PDLに囲まれた領域に設けられ、少なくとも一部は第１電極EL1上に一体に形成される有機物層OLと、（[0112]、[0115]） 有機物層OL上に形成される第２電極EL2と、（[0116]） 第２電極EL2上に設けられる封止層SLと、（[0120]） バッファ層BF、ゲート絶縁膜GI、層間絶縁膜IL及び第１絶縁層INS1中の、屈曲可能領域BAに対応する領域を除去することによって提供される第２開口OPN2と、（[0134]） 第２開口OPN2中に設けられ、第２開口OPN2の少なくとも一部を満たす第２絶縁層INS2と、（[0137]） 第１絶縁層INS1と第２絶縁層INS2の上に設けられ、第２絶縁層INS2と第３絶縁層INS3の間に設けられる第２ラインL2と、を有し（[0139]、［0164］） 第２絶縁層INS2は、弾性及び可撓性を有する有機材料からなる有機絶縁層であり、（[0138]、[0140]） 第２開口OPN2は屈曲可能領域BAに対応するように、第２開口OPN2は屈曲可能領域BAと重複しており、屈曲可能領域BAは非表示領域NDAに設けられ、（[0135]、[0142]） 第３絶縁層INS3とその上に設けられる第４絶縁層INS4は、屈曲可能領域BAを覆っており（[0144]、FIG.3）、 封止層SLは、下側から順に、無機材料からなる第１封止層SL1と、ポリアクリル系化合物、ポリイミド系化合物、テフロン(登録商標)などのフッ素含有炭素化合物、ベンゾシクロブテン化合物などの有機絶縁材料を使用する有機材料からなる第２封止層SL2と、無機材料からなる第３封止層SL3とから形成され、（[0120]、FIG.3） 第２封止層SL2は、第２封止層SL2の端部が外側に露出しないように、第３封止層により完全に覆われ、（[0120]） 基板SUBの表示領域DA上に提供された画像を表示する複数の画素PXLがあり、（[0065]） 複数の画素PXLが第１方向DR1に延びる行と第２方向DR2に延びる列とのマトリックス形態で配列され、（[0067]） 非表示領域NDAには、画素PXLに接続された配線部LPと、画素PXLを駆動する画素PXLに接続されたドライバを含み、（[0069]） 配線部LPは、第２ラインL2を含み、（[0127]） 屈曲可能領域BAにおいて屈曲される、（[0140]） 表示装置。」 ３ 対比 (１) 本件補正発明１と引用発明とを対比すると、引用発明の下記左側に記載した構成は、それぞれ本件補正発明１の下記右側に記載した構成に相当する。 ＜引用発明＞ ＜本件補正発明１＞ 表示装置 フレキシブル表示パネル 基板SUB フレキシブルベース基板 バッファ層BF 隔離バッファ層 アクティブパターンACT 活性層 ゲート絶縁層GI 第１ゲート絶縁層 ゲート電極GE及びキャパシタ下部電極LE 第１ゲート層 層間絶縁膜IL 第２ゲート絶縁層 キャパシタ上部電極UE 第２ゲート層 第１絶縁層INS1 誘電体層 ソース電極SE及びドレイン電極DE ソース・ドレイン金属層 第３絶縁層INS3 平坦化層 (２) 引用発明の「バッファ層BF」、「ゲート絶縁層GI」、「層間絶縁膜IL」及び「第１絶縁層INS1」からなる積層は、「屈曲可能領域BAに対応する領域」を有し、「屈曲可能領域BAは非表示領域NDAに設けられ［る］」から、引用発明の当該積層は、本件補正発明１の「前記非表示領域を覆う、前記誘電体層、前記第２ゲート絶縁層、前記第１ゲート絶縁層、前記隔離バッファ層及びそれらの混合体からなる群からの少なくとも一つの層又は複数の層を含［む］」「第１層」に相当する。 そうすると、引用発明の「第２開口OPN2」は、「バッファ層BFと、ゲート絶縁膜GI、層間絶縁膜IL及び第１絶縁層INS1中の、屈曲可能領域BAに対応する領域を除去することによって提供される」から、本件補正発明１の「前記第１層の少なくとも一部を貫通するトレンチ」に相当する。 また、引用発明の「第２開口OPN2中に設けられ、第２開口OPN2の少なくとも一部を満たす第２絶縁層INS2」は、本件補正発明１の「前記トレンチ内に位置する第２層」に相当する。 (３) 引用発明の「第２絶縁膜INS2の上に設けられ［る］」「第２ラインL2」は、「配線部LP」に含まれるものであり、金属からなることは明らかであるから、本件補正発明１の「前記第２層上に位置する金属層」に相当する。 (４) 引用文献１の[0140]の「the second lines L2 may be provided on the second insulating layer INS2 formed of organic material having elasticity and flexibility, thus minimizing defects on the second lines L2. In other words, according to an exemplary embodiment of the inventive concept, the inorganic insulating layer made having low elasticity and flexibility may be removed in the bendable area BA to maintain the flexibility and elasticity of the substrate SUB.」（当合議体訳：第２ラインL2は、弾性及び可撓性を有する有機材料で形成された第２絶縁層INS2上に提供され得るので、第２ラインL2の欠陥を最小化することができる。言い換えれば、本発明の概念の例示的な実施形態によれば、基板SUBの可撓性及び弾性を維持するために、低い弾性及び可撓性を有する無機絶縁層が、屈曲可能領域BAにおいて除去されてもよい。）との記載を踏まえれば、引用発明の「有機材料からなる有機絶縁層」である「第２絶縁層INS2」は、「無機材料からなる無機絶縁層」である「バッファ層BF」、「ゲート絶縁層GI」、「層間絶縁膜IL」及び「第１絶縁層INS1」からなる積層より、弾性率が小さいことは明らかである。 そうすると、引用発明の「バッファ層BF」、「ゲート絶縁層GI」、「層間絶縁膜IL」及び「第１絶縁層INS1」からなる積層と、「第２絶縁層INS2」は、本件補正発明１の「前記第２層は、前記第１層より小さい弾性率を有」することに相当する関係を有する。 (５) 引用発明の「第２ラインL2」は、「第１絶縁層INS1」「の上に設けられ［る］」ものであるから、「バッファ層BF」、「ゲート絶縁層GI」、「層間絶縁膜IL」及び「第1絶縁層INS1」からなる積層と同一の層にないことは明らかであり、本件補正発明１の「前記金属層は前記第１層と同一の層に存在［しない］」ことに相当する関係を有する。 (６) 引用発明において、「第２開口OPN2は屈曲可能領域BAに対応するように、第２開口OPN2は屈曲可能領域BAと重複して［いる］」ことは、「屈曲可能領域BAは非表示領域NDAに設けられ［る］」から、本件補正発明１の「前記トレンチは、前記フレキシブル表示パネルの非表示領域内に位置［する］」ことに相当する。 (７) 引用発明では、「複数の画素PXLが第１方向DR1に延びる行と第２方向DR2に延びる列とのマトリックス形態で配列され」ているから、「画素PXL」のアレイ及び信号線があることは明らかである。 そうすると、引用発明の「表示領域DA上に提供された画像を表示する複数の画素PXLがあり」、「非表示領域NDA」に、「画素PXLを駆動する画素PXLに接続されたドライバ」があることは、本件補正発明１の「前記フレキシブル表示パネルは、表示領域を更に含み、前記表示領域は、サブピクセルのアレイ及び信号線を備え、前記非表示領域は、駆動チップを備え［る］」ことに相当する。 (８) 引用発明において、「配線部LPは、第２ラインL2を含［む］」から、「第２ラインL2」が「リード線」であることは明らかである。 また、引用発明は、「屈曲可能領域BAにおいて屈曲される」ものであるから、「屈曲可能領域BA」は「屈曲領域」ということもできる。 そうすると、本件補正発明１と引用発明は、「前記金属層は、リード線であり、前記屈曲可能領域は、屈曲領域であ［る］」点で一致する。 (９) 引用発明の「第２ラインL2」は、「第１絶縁層INS1と第２絶縁層INS2の上に設けられ、第２絶縁層INS2と第３絶縁層INS3の間に設けられる」から、第２絶縁層INS2の上に第２ラインL2があり、第２ラインL2の上に第３絶縁層INS3があるといえる。 そうすると、引用発明において、「第３絶縁層INS3とその上に設けられる第４絶縁層INS4は、屈曲可能領域BAを覆って［いる］」から、引用発明の「屈曲可能領域BAを覆［う］」「第３絶縁層INS3」及び「第４絶縁層INS4」は、本件補正発明１の「少なくとも前記屈曲領域を覆う、前記リード線の前記フレキシブルベース基板から遠ざかる面の上に位置する第２バッファ層」に相当する。 (１０) 引用発明の「第２電極EL2上に設けられる封止層SL」は、「各画素PXLに対応するように領域を分割するための画素定義層PDL」よりも上にあることは明らかであるから、「画素PXL」のアレイの上にあるといえる。 そうすると、引用発明において、「封止層SL」において、「下側から順に」「形成され［た］」「無機材料からなる第１封止層SL1と、ポリアクリル系化合物、ポリイミド系化合物、テフロン(登録商標)などのフッ素含有炭素化合物、ベンゾシクロブテン化合物などの有機絶縁材料を使用する有機材料からなる第２封止層SL2と、無機材料からなる第３封止層SL3」は、本件補正発明１の「前記サブピクセルのアレイ上に順に積層された第１無機層、有機層、及び第２無機層」に相当する。 (１１) 前記(１)～(１０)からすると、引用発明と本件補正発明１は、以下の点で相違し、その余の点で一致する。 （相違点１） 本件補正発明１では、「前記第２層及び前記金属層の少なくとも一部は、前記屈曲可能領域の屈曲中において、前記屈曲可能領域と共形であ［る］」のに対して、引用発明では、そのような構成は明示されていない点。 （相違点２） 本件補正発明１では、「前記有機層が、前記第１無機層及び前記第２無機層により囲まれて［いる］」のに対して、引用発明では、引用発明の第２封止層SL2（有機層）は、第２封止層SL2の端部が外側に露出しないように、第３封止層SL3（第２無機層）により完全に覆われるものであるが、第１封止層SL1（第１無機層）と第３封止層により囲まれているか明らかでない点。 （相違点３） 本件補正発明１では、「前記第２バッファ層と前記有機層は、同一の材料からなる」のに対して、引用発明では、そのような構成は明示されていない点。 ４ 判断 (１) 相違点１について 「共形である」とは、その字義からして、形を共にするという意味であると理解される。また、本件明細書の発明の詳細な説明において、「前記第２層及び前記金属層の少なくとも一部は、前記屈曲可能領域の屈曲中において、前記屈曲可能領域と共形であってもよい。即ち、前記屈曲可能領域を屈曲させる前、前記第２層及び前記第３層の少なくとも一部は、前記屈曲可能領域に共形な形状を有する。さらに、前記屈曲可能領域の屈曲中、前記第２層及び前記第３層の少なくとも一部は、前記屈曲可能領域に共形な形状を維持する。」（【００２４】）と記載されていることからも、本件補正発明１における「前記第２層及び前記金属層の少なくとも一部は、前記屈曲可能領域の屈曲中において、前記屈曲可能領域と共形であ［る］」とは、「前記第２層及び前記金属層の少なくとも一部」が、「前記屈曲可能領域の屈曲中において」、「前記屈曲可能領域」と形状を共にしていることを意味するものである。 一方、 引用発明に関し、引用文献１の[0140]には、次のとおり記載されている。 「As described above, in FIG. 3, the display device is illustrated prior to being bent. However, the display device may be bent in the bendable area BA. The display device may be formed to be flat, and is eventually bent. When the display device is bent after manufacturing, tensile stress may be applied to the second lines L2 during the process of the bending of the substrate SUB, etc. However, as described above, the second lines L2 may be provided on the second insulating layer INS2 formed of organic material having elasticity and flexibility, thus minimizing defects on the second lines L2. In other words, according to an exemplary embodiment of the inventive concept, the inorganic insulating layer made having low elasticity and flexibility may be removed in the bendable area BA to maintain the flexibility and elasticity of the substrate SUB. In addition, defects may be reduced, which occur when the insulating layers made of inorganic materials, which have low elasticity and flexibility, are bent.」 （当合議体訳：上述したように、図３では、表示装置は折り曲げられる前の状態で図示されている。しかしながら、表示装置は、屈曲可能領域BAにおいて折り曲げられることがある。表示装置は平坦に形成され、最終的に曲げられることがある。製造後、表示装置が折り曲げられる場合、基板SUBが折り曲げられる過程などで、第２ラインL2に引張応力が加えられることがある。しかし、上述したように、第２ラインL2は、弾性及び可撓性を有する有機材料で形成された第２絶縁層INS2上に提供され得るので、第２ラインL2の欠陥を最小化することができる。言い換えれば、本発明の概念の例示的な実施形態によれば、基板SUBの可撓性及び弾性を維持するために、低い弾性及び可撓性を有する無機絶縁層が、屈曲可能領域BAにおいて除去されてもよい。更に、弾性及び柔軟性の低い無機材料からなる絶縁層を折り曲げたときに発生する欠陥を低減することができる。） この記載からすると、引用発明の「第２絶縁層INS2」及び「第２ラインL2」は、平坦に形成され、その後折り曲げられる過程において、第２絶縁層INS2が弾性及び可撓性を有することから、第２ラインL2の欠陥を最小化して、屈曲可能領域BAにおいて折り曲げられることができるものである。積層された各層が折り曲げられた際に形が異なれば、各層間に剥離（欠陥）が生じているということであるから、引用発明において、「第２絶縁層INS2」（第２層）及び「第２ラインL2」（金属層）は、折り曲げられる過程において、屈曲可能領域BAと形状を共にしていることは明らかである。 そうすると、相違点１は、実質的に相違するものではない。 (２) 相違点２について 引用発明に関し、引用文献１の[0120]には、次のとおり記載されている。 「According to an exemplary embodiment of the inventive concept, the first sealing layer SL1 may be made of an inorganic material, the second sealing layer SL2 may be made of an organic material, and the third sealing layer SL3 may be made of an inorganic material. For inorganic layers, infiltration of moisture or oxygen may be better prevented, but they are more susceptible to cracks due to less elasticity or flexibility. Spreading of cracks may be prevented by forming the first sealing layer SL1 and the third sealing layer SL3 with inorganic material, and forming the second sealing layer SL2 with organic material. The second sealing layer SL2 formed with organic material may be completely covered by the third sealing layer SL3 so that the end portions of the second sealing layer SL2 are not externally exposed.」 （当合議体訳：本発明の概念の例示的な実施形態によれば、第１封止層SL1は無機材料で作ることができ、第２封止層SL2は有機材料で作られてもよく、第３封止層SL3は無機材料で作られてもよい。無機層により水分又は酸素の侵入をより確実に防止することができるが、それらは、より小さい弾性又は可撓性のために亀裂を生じやすい。亀裂の広がりは、第１封止層SL1及び第３封止層SL3を無機材料により形成し、第２封止層SL2を有機材料により形成することにより、防止することができる。有機材料で形成された第２封止層SL2は、第３封止層SL3により完全に覆うことができ、第２の封止層SL2の端部が外側に露出しないようになっている。） これら記載からすると、引用発明の「第２封止層SL2」が「第２封止層SL2の端部が外側に露出しないように、第３封止層により完全に覆われ［る］」のは、弾性又は可撓性の大きい有機層からなる第２封止層SL2により、弾性又は可撓性が小さいために亀裂を生じやすい無機材料からなる第１封止層SL1及び第３封止層SL3の亀裂の広がりを防止して、封止層SLの積層構造全体として画素PXLのアレイを封止するとともに、無機材料からなる第３封止層SL3により第２封止層SL2を完全に覆うことによって、水分又は酸素の侵入をより確実に防止して、有機材料からなる第２封止層SL2の劣化を防止するためのものといえる。 そして、第２封止層SL2の下方からも水分又は酸素が侵入し得ることは、当業者にとって自明であるから、第２封止層SL2の下方に存在する無機層からなる第１封止層SL1により、第２封止層SL2を下方からも完全に覆うようにすること、すなわち、第１封止層SL1及び第３封止層SL3により第２封止層SL2を囲むようにすることによって、相違点２に係る本件補正発明１の構成とすることは、当業者であれば当然に実施すべきことにすぎない。 さらに加えていうと、画素アレイ上に設けられた封止層について、有機層を上下の無機層により囲むように構成することは、例えば米国特許出願公開第２０１７／０２８８００７号明細書（FIG.4及び[0097]）や米国特許出願公開第２０１７／０２３７０２５号明細書（FIG.2及び[0155]）等に例示されるように、本願の優先日前に周知の技術であるから、引用発明に当該周知技術を適用して、相違点２に係る本件補正発明１の構成とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。 (３) 相違点３について 引用発明において、「第３絶縁層INS3」及び「第４絶縁層INS4」（その「屈曲可能領域BA」を覆う部分は、本件補正発明１の「第２バッファ層」に相当する。）は、いずれも「ポリアクリル系化合物、ポリイミド系化合物、テフロン(登録商標)などのフッ素含有炭素化合物、ベンゾシクロブテン化合物などの有機絶縁材料を含む有機材料からなる」ものである。 また、引用発明において、「第２封止層SL2」（本件補正発明１の「有機層」に相当）は、「ポリアクリル系化合物、ポリイミド系化合物、テフロン(登録商標)などのフッ素含有炭素化合物、ベンゾシクロブテン化合物などの有機絶縁材料を使用する有機材料からなる」ものである。 このように、引用発明の「第３絶縁層INS3」及び「第４絶縁層INS4」と「第２封止層SL2」において、例示されている材料が同じであって、これらが同じ材料を使用してはならない事情も認められないから、材料調達の便宜などを考慮して、これらを同一の材料からなるように構成して、相違点３に係る本件補正発明１の構成とすることは、当業者が適宜なし得たことである。 なお、引用発明において、「屈曲可能領域BA」における「第３絶縁層INS3」及び「第４絶縁層INS4」は、「表示領域DA」における「第３絶縁層INS3」及び「第４絶縁層INS4」と、同じプロセスにより同時に形成されるものであり、「第２封止層SL2」とは異なるプロセスにより形成されるものと考えられる。しかし、本件補正発明１において、第２バッファ層と有機層が同じプロセスにより同時に製作されるものであることは特定されておらず、このことによる作用効果も本件補正発明１の作用効果とはいえないから、引用発明の「第３絶縁層INS3」及び「第４絶縁層INS4」が「第２封止層SL2」とは異なるプロセスにより形成されることは、相違点３についての上記の判断を左右するものではない。 ５ むすび 以上のとおり、本件補正発明１は、引用発明に基づいて、又は、引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 （付記終わり）