2020-700239

第１　手続の経緯

特許第６６００５６４号の請求項１～５に係る特許についての出願は、平成２８年１月１４日に出願されたものであって、令和１年１０月１１日に特許の設定登録（特許掲載公報発行日　令和１年１０月３０日）がされ、令和２年４月６日に、全請求項に対して、特許異議申立人　山内博明（以下、「申立人」という。）により特許異議の申立てがなされたものである。

第２　本件発明

特許第６６００５６４号の請求項１～５の特許に係る発明（以下、「本件発明１」等という。）は、それぞれその特許請求の範囲の請求項１～５に記載された事項により特定される以下のとおりのものである。

【請求項１】

銅フィリングされた銅めっき層を、過酸化水素、酸および低級アルコールを含有するエッチング液であって、

酸が、硫酸または硫酸水素ナトリウムであり、

液中の水素イオンと過酸化水素のモル濃度比が０.２５０以下であるエッチング液でエッチングすることを特徴とする銅フィリングされた銅めっき層のエッチング方法。

【請求項２】

低級アルコールが１－プロパノール、２－プロパノール、２－メチル－２－プロパノールから選ばれる１種または２種以上である請求項１記載の銅フィリングされた銅めっき層のエッチング方法。

【請求項３】

銅フィリングされた銅めっき層のエッチングを含むプリント配線板の製造方法において、請求項１または２に記載の銅フィリングされた銅めっき層のエッチング方法で、銅フィリングされた銅めっき層をエッチングすることを特徴とするプリント配線板の製造方法。

【請求項４】

過酸化水素、酸および低級アルコールを含有するエッチング液であって、

酸が、硫酸または硫酸水素ナトリウムであり、

液中の水素イオンと過酸化水素のモル濃度比が０.２５０以下であることを特徴とする銅フィリング用エッチング液。

【請求項５】

低級アルコールが１－プロパノール、２－プロパノール、２－メチル－２－プロパノールから選ばれる１種または２種以上である請求項４記載の銅フィリング用エッチング液。

第３　特許異議申立理由の概要

申立人は、証拠方法として、後記する甲第１号証～甲第６号証（以下、「甲１」等という。）を提出し、以下の異議申立理由により、本件発明１～５に係る特許を取り消すべきものである旨、主張した。

１　異議申立理由１（進歩性）

本件発明１～５は、甲１に記載された発明、甲２、甲３に記載された事項及び甲４～６に記載された周知慣用技術に基いて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、取り消されるべきものである。

２　証拠方法

（１）甲第１号証：「銅めっきハーフエッチング時に発生する孔食に関する　　　　　　　　　研究」、松原寿恵、他３名、第１２７回表面技術協会講　　　　　　　　　演大会講演要旨集、１５５－１５６頁

（甲第１の２号証より、甲第１号証の発行日は「２０１　　　　　　　　　３年３月６日」であると認められる。）

（２）甲第２号証：特公昭４３－２７６１号公報

（３）甲第３号証：特公昭４７－１６９６１号公報

（４）甲第４号証：「最新表面処理技術総覧」、昭和６２年１２月２１日、　　　　　　　　　株式会社産業技術サービスセンター、１０９４－１０９　　　　　　　　　５頁

（５）甲第５号証：「最新表面処理技術総覧」、昭和６２年１２月２１日、　　　　　　　　　株式会社産業技術サービスセンター、１３６－１４１頁

（６）甲第６号証：「東大阪市技術交流プラザ　技術用語集　エッチング」　　　　　　　　　、[online]、２０１７年３月１０日、http://www.techp　　　　　　　　　laza.city.higashiosaka.osaka.jp/help/word/surface_　　　　　　　　　treatment/etching.html

第４　当審の判断

３　異議申立理由１（進歩性）についての判断

（１）本件発明１について

ア　対比

本件発明１と甲１Ａ発明とを対比する。

（ア）甲１Ａ発明における「ビアフィルめっき浴による銅めっき膜」は、本件発明１における「銅フィリングされた銅めっき層」に相当する。

（イ）甲１Ａ発明における「硫酸-過酸化水素系エッチング液」と、本件発明１における「過酸化水素、酸および低級アルコールを含有するエッチング液」とは、「過酸化水素、酸・・・を含有するエッチング液」であって、「酸が、硫酸」である点で一致する。

（ウ）以上によれば、本件発明１と甲１Ａ発明とは、

「銅フィリングされた銅めっき層を、過酸化水素、酸を含有するエッチング液であって、

酸が、硫酸であるエッチング液でエッチングすることを特徴とする銅フィリングされた銅めっき層のエッチング方法。」

の点で一致し、以下の点で相違する。

（相違点１）

エッチング液について、本件発明１では、「低級アルコール」を含有するのに対し、甲１Ａ発明では、含有しない点。

（相違点２）

エッチング液中の水素イオンと過酸化水素のモル濃度比について、本件発明１では、「０.２５０以下」であるのに対し、甲１Ａ発明では、その値が不明である点。

イ　相違点１及び相違点２についての判断

相違点１及び相違点２について併せて検討する。

（ア）本件特許明細書の記載（【００１１】、【００１２】）によれば、本件発明１は、銅フィリングされた銅めっき層をエッチングするエッチング液において、（Ａ）「低級アルコールを含有」し、（Ｂ）「液中の水素イオンと過酸化水素のモル濃度比」を「０.２５０以下」としたことにより、熱処理を行わずとも、フィリングめっきにより充填された箇所が局部的に過剰な腐食をすることを抑制できると解される。

そして、本件特許明細書の実施例２～４には、上記のような異常腐食の発生について、調製したエッチング液を用いてサンプル基板を浸漬し、評価したことが記載され、その評価結果が、以下のとおり、表２～４に示されている。

表２

表３

表４

上記表２のＮｏ．１８は、上記（Ａ）を充足しない例であり、また、同表のＮｏ．１２～１７及び表３のＮｏ．２０は、上記（Ｂ）を充足しない例であるところ、これら例では、異常腐食が発生していることが示されている。

他方、（Ａ）及び（Ｂ）を充足した例では、異常腐食が発生していない。

したがって、本件発明１は、上記（Ａ）及び（Ｂ）を充足することにより、異常腐食の発生を抑制できるものと認められる。

（イ）ここで、甲１には、硫酸-過酸化水素系エッチング液において、異常腐食の発生を抑制するために低級アルコールを含有させること、及び、液中の水素イオンと過酸化水素のモル濃度比を０.２５０以下とすることは記載も示唆もされていない。

（ウ）さらに、前記２（１）～（５）によれば、甲２及び甲３には、硫酸、過酸化水素、飽和脂肪族アルコールを含む水溶液により、銅及び銅合金の表面に酸化被膜を生成させることについて記載されており、また、甲４～６には、エッチング及び研磨の一般的な説明が記載されているものの、これら記載を参酌しても、甲１Ａ発明において、異常腐食の発生を抑制するために、低級アルコールを含有させること、及び、液中の水素イオンと過酸化水素のモル濃度比を０.２５０以下とすることの指針となる記載を見いだすことはできない。

また、甲４～６の記載から、仮に、甲１に記載の「エッチング」と、甲２及び甲３に記載の「化学研磨」とを同一視したとしても、甲２及び甲３の記載された事項は、銅及び銅合金の表面に酸化被膜を生成する工程において、その酸化被膜を充分にかつ均一に生成するために、水溶液中の硫酸と過酸化水素のモル比を規定し、かつ、その水溶液に飽和脂肪族アルコールを添加することであり、そのような工程を含まない甲１Ａ発明において、上記甲２及び甲３の記載された事項を採用できるとは認められない。

（エ）したがって、甲１Ａ発明において、低級アルコールを含有させること、及び、液中の水素イオンと過酸化水素のモル濃度比を０.２５０以下とすることは、当業者であっても容易になし得たことであるとはいえない。

（オ）よって、本件発明１は、甲１に記載された発明、甲２、甲３に記載された事項及び甲４～６に記載された周知慣用技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。

（２）本件発明２について

本件発明２は、引用により本件発明１の発明特定事項を全て備えているから、本件発明１と同様の理由により、甲１に記載された発明、甲２、甲３に記載された事項及び甲４～６に記載された周知慣用技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。

（３）本件発明３について

本件発明３と甲１Ｂ発明とを対比すると、前記相違点１及び相違点２と同様の相違点が認定され、その判断において、前記（１）イの判断は、同様に妥当する。

したがって、本件発明３は、甲１に記載された発明、甲２、甲３に記載された事項及び甲４～６に記載された周知慣用技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。

（４）本件発明４について

本件発明４と甲１Ｃ発明とを対比すると、前記相違点１及び相違点２と同様の相違点が認定され、その判断において、前記（１）イの判断は、同様に妥当する。

したがって、本件発明４は、甲１に記載された発明、甲２、甲３に記載された事項及び甲４～６に記載された周知慣用技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。

（５）本件発明５について

本件発明５は、引用により本件発明４の発明特定事項を全て備えているから、本件発明４と同様の理由により、甲１に記載された発明、甲２、甲３に記載された事項及び甲４～６に記載された周知慣用技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。

（６）小括

したがって、本件発明１～５は、同発明が、甲１に記載された発明、甲２、甲３に記載された事項及び甲４～６に記載された周知慣用技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものでなく、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものではない。

第５　むすび

以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由によっては、請求項１～５に係る特許を取り消すことはできない。

また、他に請求項１～５に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。

よって、結論のとおり決定する。