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特許第６５１３５９１号発明「研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第６５１３５９１号の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１～６〕について訂正することを認める。 特許第６５１３５９１号の請求項１～３及び６に係る特許を維持する。 特許第６５１３５９１号の請求項４～５に係る特許についての特許異議申立てを却下する。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第６５１３５９１号（以下「本件特許」という。）の請求項１～６に係る特許についての出願は、 ２０１４年３月１４日〔優先権主張 平成２５年３月１９日（ＪＰ）日本国４件〕を国際出願日とする特願２０１５－５０６７４９号の一部を、平成２８年３月１日に特願２０１６－３８５８６号として新たに特許出願とされたものであって、平成３１年４月１９日に特許権の設定登録がされ、令和元年５月１５日に特許掲載公報が発行され、その請求項１～６に係る発明の特許に対し、令和元年１１月１４日に岡ヤエ子（以下「特許異議申立人」という。）により、特許異議の申立てがされたものである。 特許異議の申立て以後の手続の経緯は次のとおりである。 令和２年 １月２８日付け 取消理由通知 同年 ３月２３日 面接 同年 ３月３０日 意見書・訂正請求書（特許権者） 同年 ４月 ２日付け 訂正請求があった旨の通知 同年 ５月 ２日 意見書（特許異議申立人） 同年 ７月１５日付け 取消理由通知（決定の予告） 同年 ９月２４日差出 意見書・訂正請求書（特許権者） 同年１０月 ６日 上申書（特許権者） 同年１０月１４日付け 却下理由通知 同年１０月２０日 弁明書（特許権者） 同年１１月 ４日付け 手続却下の決定 同年１１月１８日 上申書（特許権者） 同年１２月 １日付け 取消理由通知（決定の予告） 同年１２月１５日 意見書・訂正請求書（特許権者） 同年１２月２３日 上申書（特許異議申立人） 令和３年 １月 ６日付け 手続補正指令 同年 ２月 ９日 手続補正書（特許権者） 同年 ２月１７日付け 訂正拒絶理由 同年 ３月 ９日差出 上申書（特許権者） 同年 ３月１０日付け 通知書 同年 ３月２６日 意見書（特許権者） 同年 ３月３１日付け 訂正請求があった旨の通知 同年 ４月２８日 意見書（特許異議申立人） 同年 ６月 ９日付け 取消理由通知（決定の予告） 同年 ８月 ３日 意見書・訂正請求書（特許権者） 同年 ８月１６日付け 訂正請求があった旨の通知 同年 ９月 ８日 上申書（特許異議申立人） 同年 ９月 ８日付け 通知書 同年１０月１２日 意見書（特許異議申立人） なお、令和２年３月３０日付け、及び同年１２月１５日付けの訂正請求による訂正は、特許法第１２０条の５第７項の規定により取り下げられたものとみなす。 また、令和２年９月２４日に差し出された訂正請求書は、特許法第１２０条の５第２項に規定する指定された期間の経過後に提出されたため、同法第１２０条の８第１項において準用する同法第１３３条の２第１項の規定により却下した。 第２ 訂正の適否 １．訂正の内容 令和３年８月３日付けの訂正請求による訂正（以下「本件訂正」という。）の「請求の趣旨」は『特許第６５１３５９１号の特許請求の範囲を、本訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１～６について訂正することを求める。』というものであり、その内容は、以下の訂正事項１～１０からなるものである（訂正箇所に下線を付す。）。 （１）訂正事項１ 特許請求の範囲の請求項１に「シリコンウエハの研磨に用いられる研磨用組成物」と記載されているのを、「シリコンウエハのシリコンからなる表面の研磨に用いられる研磨用組成物」に訂正する（請求項１の記載を直接的又は間接的に引用する請求項２～６も同様に訂正する。）。 （２）訂正事項２ 特許請求の範囲の請求項１に「水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位を含む」と記載されているのを、「水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位のみを含む」に訂正する（請求項１の記載を直接的又は間接的に引用する請求項２～６も同様に訂正する。）。 （３）訂正事項３ 特許請求の範囲の請求項１に「水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂを含む」と記載されているのを、「水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む」に訂正する（請求項１の記載を直接的又は間接的に引用する請求項２～６も同様に訂正する。）。 （４）訂正事項４ 特許請求の範囲の請求項１に「水酸基量が４ｍｍｏｌ／ｇ以上２１ｍｍｏｌ／ｇ以下である」と記載されているのを、「水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である」に訂正する（請求項１の記載を直接的又は間接的に引用する請求項２～６も同様に訂正する。）。 （５）訂正事項５ 特許請求の範囲の請求項１に「重量平均分子量が１×１０４以上である」と記載されているのを、「重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である」に訂正する（請求項１の記載を直接的又は間接的に引用する請求項２～６も同様に訂正する。） （６）訂正事項６ 特許請求の範囲の請求項１に「全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は１０％以上である」と記載されているのを、「全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である」に訂正する（請求項１の記載を直接的又は間接的に引用する請求項２～６も同様に訂正する。）。 （７）訂正事項７ 特許請求の範囲の請求項１に「水溶性ポリマーと、水と、を含有する、研磨用組成物」と記載されているのを、「水溶性ポリマーと、砥粒と、塩基性化合物としてのアンモニアと、水と、を含有し、前記砥粒はシリカ粒子のみからなる、研磨用組成物」に訂正する（請求項１の記載を直接的又は間接的に引用する請求項２～６も同様に訂正する。）。 （８）訂正事項８ 特許請求の範囲の請求項４を削除する。 （９）訂正事項９ 特許請求の範囲の請求項５を削除する。 （１０）訂正事項１０ 特許請求の範囲の請求項６に「請求項１から５のいずれか一項に記載の研磨用組成物」と記載されているのを、「請求項１から３のいずれか一項に記載の研磨用組成物」に訂正する。 ２．訂正の適否 （１）訂正事項１について 訂正事項１は、訂正前の「シリコンウエハの研磨に用いられる研磨用組成物」について、本件特許明細書の段落０１０７の「なかでも、シリコンからなる表面を備えた研磨対象物の研磨に好適である。」等の記載に基づき、その研磨対象物を限定して「シリコンウエハのシリコンからなる表面の研磨に用いられる研磨用組成物」としたものである。 したがって、訂正事項１は、本件特許の願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内において、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更することなく、特許請求の範囲を減縮するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる事項を目的とするものであって、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合する。 （２）訂正事項２について 訂正事項２は、訂正前の「水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位を含む」について、本件特許明細書の段落０３２０の実施例Ａ１～Ａ３の具体例が「水酸基を有する繰返し単位」として「ビニルアルコール単位」のみを含んでいること等に基づき、水酸基を有する繰返し単位として「ビニルアルコール単位のみを含む」ものに限定したものである。 したがって、訂正事項２は、本件特許の願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内において、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更することなく、特許請求の範囲を減縮するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる事項を目的とするものであって、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合する。 （３）訂正事項３について 訂正事項３は、訂正前の「水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂを含む」について、本件特許明細書の段落０３２０の実施例Ａ１～Ａ３の具体例が「繰返し単位Ｂ」として「酢酸ビニル単位」のみを含んでいること等に基づき、繰返し単位Ｂとして「酢酸ビニル単位のみを含む」ものに限定したものである。 したがって、訂正事項３は、本件特許の願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内において、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更することなく、特許請求の範囲を減縮するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる事項を目的とするものであって、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合する。 （４）訂正事項４について 訂正事項４は、訂正前の「水酸基量が４ｍｍｏｌ／ｇ以上２１ｍｍｏｌ／ｇ以下である」について、本件特許明細書の段落０３２０の実施例Ａ１～Ａ２の具体例が、ビニルアルコール単位７３モル％と酢酸ビニル単位２７モル％で含むことから、その水酸基量は１３．２ｍｍｏｌ／ｇ〔=(0.73*1000)/(44*0.73+86*0.27)〕と計算され、同実施例Ａ３の具体例が、ビニルアルコール単位７８モル％と酢酸ビニル単位２２モル％で含むことから、その水酸基量は１４．７ｍｍｏｌ／ｇ〔=(0.78*1000)/(44*0.78+86*0.22)〕と計算されることに基づき、その下限値と上限値を限定して「水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である」としたものである。 したがって、訂正事項４は、本件特許の願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内において、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更することなく、特許請求の範囲を減縮するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる事項を目的とするものであって、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合する。 （５）訂正事項５について 訂正事項５は、訂正前の「重量平均分子量が１×１０４以上である」について、本件特許明細書の段落００６９の「例えば５×１０４以下）の水溶性ポリマーを好ましく使用し得る。」等の記載に基づき、その上限値の設定により限定して「重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である」としたものである。 したがって、訂正事項５は、本件特許の願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内において、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更することなく、特許請求の範囲を減縮するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる事項を目的とするものであって、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合する。 （６）訂正事項６について 訂正事項６は、訂正前の「全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は１０％以上である」について、本件特許明細書の段落０３２０の実施例Ａ１～Ａ３の具体例が「繰返し単位Ｂ」としての「酢酸ビニル単位」を、「２２」のモル比（％）、及び「２７」のモル比（％）で含んでいることに基づき、繰返し単位Ｂのモル数を「２２％以上２７％以下である」に限定したものである。 したがって、訂正事項６は、本件特許の願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内において、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更することなく、特許請求の範囲を減縮するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる事項を目的とするものであって、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合する。 （７）訂正事項７について 訂正事項７は、訂正前の「水溶性ポリマーと、水と、を含有する、研磨用組成物」について、本件特許明細書の段落００７６の「砥粒としてシリカ粒子のみを含有する研磨用組成物が例示される。」等の記載、及び同段落００８８の「特に好ましい塩基性化合物としてアンモニアが挙げられる。」等の記載に基づき、その研磨用組成物の組成を限定して「水溶性ポリマーと、砥粒と、塩基性化合物としてのアンモニアと、水と、を含有し、前記砥粒はシリカ粒子のみからなる、研磨用組成物」としたものである。 したがって、訂正事項７は、本件特許の願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内において、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更することなく、特許請求の範囲を減縮するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる事項を目的とするものであって、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合する。 （８）訂正事項８～１０について 訂正事項８は、訂正前の請求項４を削除するものであり、訂正事項９は、訂正前の請求項５を削除するものであり、訂正事項１０は、訂正事項８及び９に伴い、訂正前の請求項６が引用する請求項１～５のうち、削除された請求項４～５を削除して、引用する請求項を請求項１～３に限定するものである。 したがって、訂正事項８～１０は、本件特許の願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内において、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更することなく、特許請求の範囲を減縮するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる事項を目的とするものであって、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合する。 （９）一群の請求項について 訂正事項１～１０に係る訂正前の請求項１～６について、請求項２～６は、それぞれ請求項１を直接又は間接的に引用するものであって、上記訂正事項１～７によって記載が訂正される請求項１に連動して訂正されるものであるから、訂正前の請求項１～６に対応する訂正後の請求項１～３及び６は、特許法第１２０条の５第４項に規定する一群の請求項である。 ３．まとめ 以上総括するに、訂正事項１～１０による本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第９項において準用する同法第１２６条第５項から第６号までの規定に適合するので、訂正後の請求項〔１～６〕について訂正を認める。 第３ 本件発明 上記「第２」のとおり本件訂正は容認し得るものであるから、本件訂正による訂正後の請求項１～６に係る発明（以下「本１発明」～「本６発明」ともいう。）は、その特許請求の範囲の請求項１～６に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。 「【請求項１】 シリコンウエハのシリコンからなる表面の研磨に用いられる研磨用組成物であって、 以下の条件： 水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位のみを含む； 水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む； 水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である； 重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である； 全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である；および ノニオン性である； を満たす水溶性ポリマーと、砥粒と、塩基性化合物としてのアンモニアと、水と、を含有し、前記砥粒はシリカ粒子のみからなる、研磨用組成物。 【請求項２】 ｐＨが９．０以上１２．０以下である、請求項１に記載の研磨用組成物。 【請求項３】 前記水溶性ポリマーが部分けん化ポリビニルアルコールである、請求項１または２に記載の研磨用組成物。 【請求項４】（削除） 【請求項５】（削除） 【請求項６】 請求項１から３のいずれか一項に記載の研磨用組成物を含む研磨液を用意すること； 前記研磨液を、研磨対象物としてのシリコンウエハに供給すること；および、 前記研磨対象物の、シリコンからなる表面を、前記研磨液で研磨すること； を包含する、シリコンウエハの研磨方法。」 第４ 取消理由通知の概要 令和３年６月９日付けの取消理由通知（決定の予告）で通知された訂正前の請求項１～６に係る発明に対する取消理由の概要は、次の〔理由Ａ〕のとおりである。なお、同旨の取消理由を、令和２年７月１５日付けの取消理由通知（決定の予告）及び同年１２月１日付けの取消理由通知（決定の予告）でも通知している。 〔理由Ａ〕本件特許は、その特許請求の範囲の記載が下記の点で不備のため、特許法第３６条第６項第１号に適合するものではない。よって、本件特許の請求項１～６に係る発明に係る特許は、同法第３６条第６項の規定を満たさない特許出願に対してなされたものであり、同法第１１３条第４号の規定により取り消されるべきものである。 本件特許の請求項１に係る発明に含まれている態様のうち、 『シリコンウエハのシリコンからなる表面の研磨に用いられる研磨用組成物であって、 以下の条件： 水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位のみを含む； 水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む； 水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である； 重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である； 全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である；および ノニオン性である； を満たす水溶性ポリマーと、砥粒と、塩基性化合物としてのアンモニアと、水と、を含有し、前記砥粒はシリカ粒子のみからなる、研磨用組成物。』という発明（以下「示唆発明」という。）以外の発明が、明細書のサポート要件を満たす範囲にあると認めることができない。 第５ 当審の判断 １．理由Ａ（サポート要件）について （１）訂正後の請求項１のサポート要件について 上記「第３」に示したように、本件訂正による訂正後の請求項１は、上記「第４」に示した「示唆発明」と合致する内容に訂正されたので、上記〔理由Ａ〕で指摘した取消理由は解消している。 また、改めて検討しても、本件訂正による訂正後の請求項１の記載が、サポート要件違反であるとすべき理由を発見しない。 したがって、本件特許の請求項１及びその従属項に記載された発明が、発明の詳細な説明に記載された発明で、発明の詳細な説明の記載により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであることは明らかなので、本件特許の請求項１及びその従属項の記載は、特許法第３６条第６項第１号に適合する。 （２）特許異議申立人の主張について 令和３年１０月１２日付けの意見書において、特許異議申立人は、サポート要件の取消理由に関して、訂正発明では、水溶性ポリマーについて、依然としてオープン形式ですので、ビニルアルコール単位及び酢酸ビニル単位に加えて、「水酸基を含まずＳＰ値が１４．５以上の繰返し単位」たる第３の繰返し単位が含まれうることになり、そのモノマー単位の種類（ＳＰ値）やその割合によっては、「平均ＳＰ値１７．５以下」を充足しないケースすら含まれうる。本件発明においてＳＰ値という概念・技術的思想は完全に破綻しており、実施例Ａ１（＝Ａ２）及びＡ３の結果を見ても、これらの実施例において課題を解決できたとする理由は全く不明であり、たった２つの結果では、上限値と下限値の間の値において、課題の解決を認める事情がないという旨の主張をしている。 しかしながら、本１発明の「水溶性ポリマー」は、以下のＡ～Ｆの条件（以下「条件Ａ」～「条件Ｆ」ともいう。）の全てを満たすことが必須とされるものである。 条件Ａ：水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位のみを含む 条件Ｂ：水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む 条件Ｃ：水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である 条件Ｄ：重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である 条件Ｅ：全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である 条件Ｆ：ノニオン性である そして、ビニルアルコール単位７３モル％と酢酸ビニル単位２７モル％からなる水溶性ポリマーの水酸基量は１３．２ｍｍｏｌ／ｇ〔=(0.73*1000)/(44*0.73+86*0.27)〕と計算されるところ、条件Ｂの繰り返し単位Ｂ（酢酸ビニル単位のみ）を、条件Ｅの上限値の２７％のモル数で含む場合、条件Ａのビニルアルコール単位の含有割合は０～７３モル％のモル数であり、仮に７３％のモル数で含ませると、その水酸基量は条件Ｃの下限値の１３．２ｍｍｏｌ／ｇになるので、酢酸ビニル単位２７％とビニルアルコール単位７３％以外の繰り返し単位が更に含まれる余地はないものとなる。また、上記によれば、条件Ｃを満足するためにビニルアルコール単位が７３％のモル数以上でないと、水酸基量が条件Ｃの下限値の１３．２ｍｍｏｌ／ｇ未満になることを踏まえれば、酢酸ビニル単位の含有量を条件Ｅの下限値の２２％まで減らしたとしても、特許異議申立人が主張する上記「水酸基を含まずＳＰ値が１４．５以上の繰返し単位たる第３の繰返し単位」が含有される割合は、せいぜい５％のモル数であるから、本１発明の課題の解決を害するほどの含有量ではないと認められる。 さらに、特許異議申立人の「平均ＳＰ値１７．５以下」を充足しないケースすら含まれうるとの主張について、甲第６号証のＳＰ値（溶解度パラメータ）に関する記載を俯瞰しても、その個々のＳＰ値の値が１７．５を超えるモノマーの存在自体が見当たらないので、特許異議申立人が主張する「平均ＳＰ値１７．５以下」を充足しないケースが実際に存在し得ると直ちに認めることはできないし、そもそも「平均ＳＰ値」それ自体は、本件特許の特許請求の範囲の記載に発明特定事項として記載されていないので、当該「平均ＳＰ値」の大小が本１発明の課題解決の可否を左右するとは認められない。 また、実施例Ａ１（＝Ａ２）及びＡ３の「試験結果」により、その上限値と下限値で課題を解決できることが具体的に裏付けられているのだから、その間の値においても課題を解決できると認識できる。 以上のことから、特許異議申立人の上記主張は採用できない。 ２．令和３年６月９日付け取消理由通知（決定の予告）において採用しなかった特許異議申立理由について （１）申立理由１（新規事項）について ア 申立理由１の概要 特許異議申立人が主張する申立理由１（新規事項）は、本件特許においてなされた手続補正は、願書に最初に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した事項の範囲内においてしたものでないから、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしておらず、本１～本６発明の特許は、同法第１１３条第１号の規定により取り消されるべきものであるというものであり、その具体的な理由として、本件発明が、次の（Ａ）～（Ｄ）の事項を発明特定事項として含むところ、当該発明が願書に最初に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載されていないというものである。 （Ａ）「水酸基量が４ｍｍｏｌ／ｇ以上２１ｍｍｏｌ／ｇ以下」 （Ｂ）「全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は１０％以上」 （Ｃ）「平均ＳＰ値１７．５以下」の規定がなされていないこと （Ｄ）「水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位を含む」 〔なお、申立理由１は、令和２年１月２８日付け取消理由通知、同年７月１５日付け取消理由通知（決定の予告）、及び同年１２月１日付け取消理由通知（決定の予告）で採用している。〕 イ 「水酸基量が４ｍｍｏｌ／ｇ以上２１ｍｍｏｌ／ｇ以下」について 上記（Ａ）の事項に係る構成要件に関し、特許異議申立人は、当該構成要件は、平成２９年３月１３日付けの手続補正（以下「第１補正」ともいう。）で導入され、この点について、特許権者は、本件特許の願書に最初に添付した明細書及び特許請求の範囲（以下「当初明細書等」ともいう。）の段落０１０２を根拠としているが、当該０１０２の記載は「任意ポリマー」に関するものであるから、新規事項が追加されたことは明らかであると主張する。 しかしながら、本件訂正の訂正事項４により、上記（Ａ）の事項に係る構成要件は「水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である」に改められた。 そして、当初明細書等の段落０３２０には、実施例Ａ１～Ａ３の具体例が記載されており、その実施例Ａ１～Ａ２の具体例が、ビニルアルコール単位７３モル％と酢酸ビニル単位２７モル％で含むことから、その水酸基量は１３．２ｍｍｏｌ／ｇ〔=(0.73*1000)/(44*0.73+86*0.27)〕と計算され、同実施例Ａ３の具体例が、ビニルアルコール単位７８モル％と酢酸ビニル単位２２モル％で含むことから、その水酸基量は１４．７ｍｍｏｌ／ｇ〔=(0.78*1000)/(44*0.78+86*0.22)〕と計算される。 してみると、訂正前の上記（Ａ）の事項に係る「水酸基量」の下限値と上限値が、上記のとおり「任意ポリマー」に関する記載を根拠としていた旨の説明の当否とは関係なく、訂正後の「水酸基量」の下限値と上限値は、当初明細書等の実施例Ａ１～Ａ３の具体例の記載を根拠としているので、訂正後の本１発明の記載に新規事項が導入されているとはいえない。 したがって、上記（Ａ）の事項に関して、理由があるとはいえない。 ウ 「全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は１０％以上」について 上記（Ｂ）の事項に係る構成要件は、平成３０年９月１３日付けの手続補正（以下「第２補正」ともいう。）で導入され、特許異議申立人は、この点について、特許権者は当初明細書等の段落００６５及び００６６を根拠としているが、当該記載は酢酸ビニル及びヘキサンビニル単位についての記載であり、繰返し単位Ｂとして「１０％」以上であることは一切記載されていないから、新規事項が追加されたことは明らかであると主張する。 しかしながら、本件訂正の訂正事項３により、繰返し単位Ｂは「酢酸ビニル単位のみを含む」ものに限定された。 そして、当初明細書等の実施例Ａ１～Ａ３の具体例が「繰返し単位Ｂ」としての「酢酸ビニル単位」を、下限値で「２２」のモル比で、上限値で「２７」のモル比で含んでいることに基づき、同訂正事項６により、上記（Ｂ）の構成要件は「全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である」に改められた。 してみると、訂正前の上記（Ｂ）の事項に係る「繰返し単位Ｂのモル数」が「酢酸ビニル及びヘキサンビニル単位」以外の場合のものをも含んでいた旨の説明の当否とは関係なく、訂正後の「繰返し単位Ｂのモル数」の下限値と上限値は、当初明細書等の実施例Ａ１～Ａ３の具体例の記載を根拠としているので、訂正後の本１発明の記載に新規事項が導入されているとはいえない。 したがって、上記（Ｂ）の事項に関して、理由があるとはいえない。 エ 「平均ＳＰ値１７．５以下」の規定がなされていないことについて 上記（Ｃ）の事項に係る構成要件は、第１補正で「平均ＳＰ値１７．５以下」の条件が請求項１の記載から削除され、特許異議申立人は、この点について『特許権者は、ビニルアルコール単位を含み、繰返し単位Ｂのモル数１０％以上、という規定によれば、必然的に平均ＳＰ値が「１７．５以下」を充足するから、当該規定がなくても新規事項を追加することにならない旨を主張しているが、この主張は誤りである』と主張する。 しかしながら、本件訂正の訂正事項４により、上記（１Ａ）の事項に係る構成要件は「水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である」に改められた。 そして、訂正前の「水酸基量が４ｍｍｏｌ／ｇ以上２１ｍｍｏｌ／ｇ以下である」という構成においては、その水酸基量の「２１ｍｍｏｌ／ｇ以下」という上限値の場合に、水溶性ポリマーの平均ＳＰ値が１７．８になり得たが、訂正後の水酸基量は上限が「１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下」に設定されたので、平均ＳＰ値が１７．５を超えないものとなっている。 してみると、本１発明の発明特定事項として、上記（Ｃ）の「平均ＳＰ値１７．５以下」の規定がなくとも、訂正後の本１発明の水溶性ポリマーの範囲に「平均ＳＰ値１７．５以下」以外のものが含まれなくなっているので、訂正後の本１発明の記載に新規事項が導入されているとはいえない。 したがって、上記（Ｃ）の事項に関して、理由があるとはいえない。 オ 「水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位を含む」について 上記（Ｄ）の事項に係る構成要件は、第１補正で「ＳＰ値が１４．５以上の繰返し単位Ａ」の条件が請求項１の記載から削除されるとともに、新たに「ビニルアルコール単位」という条件が追加されたものであるところ、特許異議申立人は、この点について、当初明細書等の段落００５３に言及される文献（甲第６号証）には、ビニルアルコールのＳＰ値は「１０．２－１０．６」と記載され、当初明細書等の表１に記載の「１８．５」と全く一致せず、誤記であると認定されるべきものであり、本１発明において「ビニルアルコール単位」を必須としても、「ＳＰ値が１４．５以上の繰返し単位Ａ」を規定したことにはならず、新規事項が追加されたことは明らかであると主張する。 しかしながら、当初明細書等の段落０３２０には、水溶性ポリマーを構成する繰返し単位の一つとして「ビニルアルコール単位」を用いたものが、実施例Ａ１～Ａ５の具体例として記載されているから、「ビニルアルコール単位」は「ＳＰ値が１４．５以上の繰返し単位Ａ」の具体例と認められる。 そうすると、第１補正で「ＳＰ値が１４．５以上の繰返し単位Ａ」の条件を削除し、「ビニルアルコール単位」に変更する第１補正は、「ＳＰ値が１４．５以上の繰返し単位Ａ」の範囲を減縮して、その唯一の具体例である「ビニルアルコール単位」に変更するものであって、新規事項の導入に該当するとはいえない。 したがって、上記（Ｄ）の事項に関して、理由があるとはいえない。 カ 新規事項のまとめ 以上総括するに、上記（Ａ）～（Ｄ）の事項に関して、本件特許の特許請求の範囲又は明細書の記載に新規事項が導入されているとはいえない。 したがって、本件特許は、願書に最初に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した事項の範囲内においてしたものでない補正箇所がないから、特許法第１７条の２第３項の規定に違反するものではない。 （２）申立理由２（新規性）及び申立理由３（進歩性）について ア 申立理由２及び３の概要 特許異議申立人が主張する申立理由２（新規性）は、本１～本６発明は、甲第１～５号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、同法第１１３条第２号の規定により取り消されるできものであるというものであり、 申立理由３（進歩性）は、本１～本６発明は、甲第１～６号証に記載された発明に基いて、本件出願日前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、同法第１１３条第２号の規定により取り消されるできものであるというものである。 また、申立理由２及び３に係る証拠として、次の甲第１～６号証を提示している。 甲第１号証：国際公開第２０１０／１４３５７９号 甲第２号証：特開２００４－１２８０７０号公報 甲第３号証：特開平１１－１１６９４２号公報 甲第４号証：特許第４７７２１５６号公報 甲第５号証：特開２０１１－１７１６８９号公報 甲第６号証：Michael M. Coleman et al., Specific Interactions and the Miscibility of Polymer Blends, Technomic Publishing Co. Inc (1991), pp. 54-69 〔なお、申立理由２及び３のうち、甲第１号証を主たる証拠とするものについては、令和２年１月２８日付け取消理由通知、令和２年７月１５日付け取消理由通知（決定の予告）、及び同年１２月１日付け取消理由通知（決定の予告）で採用している。また、これらの取消理由通知（決定の予告）では、主たる証拠を刊行物２（特開２００６－１８６３５６号公報）とするものも通知している。〕 イ 甲号証の記載事項 （ア）甲第１号証の記載事項 甲第１号証には、次の記載がある。 摘記１ａ：請求項１及び９ 「［請求項１］水、砥粒及び添加剤を含有する研磨剤であって、前記砥粒は、４価の金属水酸化物粒子を含有してなり、前記添加剤のうちの少なくとも１成分が、ケン化度９５モル％以下のポリビニルアルコールである研磨剤。… ［請求項９］被研磨膜を形成した基板を研磨定盤の研磨パッドに押しあて加圧し、請求項１～８のいずれかに記載の研磨剤を被研磨膜と研磨パッドとの間に供給しながら、基板と研磨定盤とを相対的に動かして被研磨膜を研磨する基板の研磨方法。」 摘記１ｂ：段落００３２ 「［００３２］（砥粒）本発明の研磨剤の具体的態様の一つは、前記砥粒として４価の金属水酸化物粒子を含むものである。前記４価の金属水酸化物粒子は、シリカ、酸化セリウム等の従来の砥粒と比較して、酸化珪素との反応性が高く、高研磨速度である点で好ましい。本発明の研磨剤において用いることのできる他の砥粒としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化セリウム等を挙げることができる。」 摘記１ｃ：段落００４７～００４８ 「［００４７］（ポリビニルアルコール）本発明の研磨剤の具体的態様の一つは、前記添加剤として、ポリビニルアルコールを含むことを特徴とする。ポリビニルアルコールは、研磨剤の安定性を向上させる効果がある。ポリビニルアルコールの水酸基が砥粒と相互作用することにより、凝集を抑制し、研磨剤の粒径変化を抑制して安定性を向上できる。 ［００４８］これまで述べたように、ビニルアルコールのモノマーは理論的に合成することができないため、ポリビニルアルコールは、一般的に、酢酸ビニルモノマー等のカルボン酸ビニルモノマーを重合してポリカルボン酸ビニルを得た後、これをケン化（加水分解）して得られている。」 摘記１ｄ：段落００５３ 「［００５３］（ケン化度）これまで述べたように、一般的に、ポリビニルアルコールは、分子中に官能基として－ＯＣＯＣＨ３と加水分解された－ＯＨとを有しており、－ＯＨとなっている割合をケン化度として定義される。ケン化度が所定の値以下となることで、－ＯＨよりも疎水性の－ＯＣＯＣＨ３が効果的に疎水性のポリシリコン膜に吸着し、保護膜となって研磨を阻害するため、結果として研磨速度に差が生じるものと推測される。これにより、酸化珪素膜のポリシリコン膜に対する研磨速度比（以下、選択性ともいう）が高められる傾向がある。この観点で、ポリビニルアルコールのケン化度としては、上限値は、９５モル％以下が好ましく、９０モル％以下がより好ましく、８８モル％以下が更に好ましく、８５モル％以下が特に好ましく、８３モル％以下が非常に好ましく、８０モル％以下が極めて好ましい。」 摘記１ｅ：段落００７０ 「［００７０］（研磨剤の特性）（ｐＨ）本発明の研磨剤のｐＨは、研磨剤の保存安定性や研磨速度に優れる点で３．０以上、１２．０以下の範囲にあることが好ましい。」 摘記１ｆ：段落０１０３ 「［０１０３］また、本発明の研磨剤及び研磨方法は、膜状の材料だけでなく、ガラス、シリコン、ＳｉＣ、ＳｉＧｅ、Ｇｅ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、サファイヤ、プラスチック等の各種基板材料にも適用できる。」 摘記１ｇ：段落０１１０及び０１１４ 「［０１１０］（実施例１）ポリビニルアルコール〔株式会社クラレ製ＰＶＡ－２０３、平均重合度３００、ケン化度８８モル％〕５質量％、酢酸０．４質量％、イミダゾール０．６６質量％及び水９３．９４質量％を含有する濃縮添加液１００ｇ、前記で得た濃縮水酸化セリウムスラリ１００ｇ並びに水８００ｇを混合し、水酸化セリウム濃度０．１質量％及びポリビニルアルコール濃度０．５質量％を含む研磨剤を調製した。研磨剤のｐＨは６．６、平均粒径は１４０ｎｍ、ゼータ電位は＋６ｍＶであった。なお、平均粒径及びゼータ電位は、前記と同様に測定した。… ［０１１４］（実施例５）濃縮添加液に用いるポリビニルアルコールとして株式会社クラレ製ＰＶＡ－５０５、平均重合度５００、ケン化度７３モル％を５質量％用いた以外は実施例１と同様にして、水酸化セリウム濃度０．１質量％及びポリビニルアルコール濃度０．５質量％を含む研磨剤を調製した。」 （イ）甲第２号証の記載事項 甲第２号証には、次の記載がある。 摘記２ａ：請求項１ 「【請求項１】半導体ウエハの表面を精密研磨する際に使用される研磨用組成物であって、二酸化ケイ素、アルカリ化合物、水溶性高分子化合物及び水を含有し、前記二酸化ケイ素は、ＢＥＴ法で測定される比表面積から求められる平均一次粒子径が５～３０ｎｍであるとともにレーザー散乱法で測定される平均二次粒子径が５～１２０ｎｍであるコロイダルシリカ、あるいは前記平均一次粒子径が５～３０ｎｍであるとともに前記平均二次粒子径が５～２００ｎｍであるヒュームドシリカであることを特徴とする研磨用組成物。」 摘記２ｂ：段落００１５～００１６ 「【００１５】次に、水溶性高分子化合物について説明する。 水溶性高分子化合物としては、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルアルコール又はポリエチレンオキサイドが好ましく、その中でもヒドロキシエチルセルロースがより好ましい。なお、本実施形態の研磨用組成物は、水溶性高分子化合物を一種類のみ含有するものであっても、二種類以上含有するものであってもよい。 【００１６】ヒドロキシエチルセルロースの平均分子量は、３００，０００～３，０００，０００が好ましく、６００，０００～２，０００，０００がより好ましく、９００，０００～１，５００，０００が最も好ましい。ポリビニルアルコールの平均分子量は、１，０００～１，０００，０００が好ましく、５，０００～５００，０００がより好ましく、１０，０００～３００，０００が最も好ましい。ポリビニルアルコールは、平均分子量が上記範囲内であって、なおかつ、平均重合度が２００～３，０００、ケン化度が７０～１００％であることが好ましい。ポリエチレンオキサイドの平均分子量は、２０，０００～５０，０００，０００が好ましく、２０，０００～３０，０００，０００がより好ましく、２０，０００～１０，０００，０００が最も好ましい。」 摘記２ｃ：段落００４０ 「【００４０】【表１】 ［図：0001382338000001.jpg］ なお、上記表１の「被研磨物」欄に示した「Ｐ＋＋」は抵抗率が０．０１Ω・ｃｍ未満のシリコンウエハ、「Ｐ＋」は抵抗率が０．０１Ω・ｃｍ以上０．１Ω・ｃｍ未満のシリコンウエハ、「Ｐ－」は抵抗率が０．１Ω・ｃｍ以上のシリコンウエハをそれぞれ表わす。「二酸化ケイ素」欄に示した「Ａ１」はＤＳＡが７ｎｍでＤＮ４が１５ｎｍのコロイダルシリカ、「Ａ２」はＤＳＡが１３ｎｍでＤＮ４が３２ｎｍのコロイダルシリカ、「Ａ３」はＤＳＡが２６ｎｍでＤＮ４が９０ｎｍのコロイダルシリカ、「Ａ４」はＤＳＡが１４ｎｍでＤＮ４が３５ｎｍのコロイダルシリカ、「Ａ５」はＤＳＡが３５ｎｍでＤＮ４が７０ｎｍのコロイダルシリカ、「Ａ６」はＤＳＡが９０ｎｍでＤＮ４が２００ｎｍのコロイダルシリカ、「Ｂ１」はＤＳＡが２０ｎｍでＤＮ４が１００ｎｍのヒュームドシリカ、「Ｂ２」はＤＳＡが４０ｎｍでＤＮ４が２５０ｎｍのヒュームドシリカを表わす。「アルカリ化合物」欄に示した「Ａ」はアンモニア（２９重量％水溶液）、「ＰＨＡ」は水酸化カリウム、「ＴＭＡＨ」は水酸化テトラメチルアンモニウム（２５重量％水溶液）、「ＰＩＺ」は無水ピペラジンの略である。「水溶性高分子化合物」欄に示した「ＨＥＣ」は平均分子量１，２００，０００のヒドロキシエチルセルロース、「ＰＶＡ」は平均分子量６２，０００、平均重合度１４００、ケン化度９５％のポリビニルアルコール、「ＰＥＯ」は平均分子量１５０，０００～４００，０００のポリエチレンオキサイドを表わす。」 （ウ）甲第３号証の記載事項 甲第３号証には、次の記載がある。 摘記３ａ：請求項１～７ 「【請求項１】下記の（ａ）～（ｅ）を含んでなることを特徴とするシリコン半導体ウェーハの研磨用組成物。 （ａ）二酸化ケイ素、（ｂ）水、（ｃ）水溶性高分子化合物、（ｄ）塩基性化合物、および（ｅ）アルコール性水酸基を１～１０個有する化合物。 【請求項２】二酸化ケイ素が、コロイダルシリカ、フュームドシリカ、および沈澱法シリカからなる群から選ばれるものの少なくとも１種類である、請求項１に記載の研磨用組成物。 【請求項３】塩基性化合物が、含窒素塩基性化合物から選ばれる化合物の少なくとも１種類である、請求項１～２のいずれか１項に記載の研磨用組成物。 【請求項４】含窒素塩基性化合物が、アンモニア、水酸化アンモニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ピペラジン・六水和物、無水ピペラジン、１－（２－アミノエチル）ピペラジン、Ｎ－メチルピペラジン、ジエチレントリアミン、および水酸化テトラメチルアンモニウムからなる群より選ばれる化合物の少なくとも１種類である、請求項３に記載の研磨用組成物 【請求項５】塩基性化合物が、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の、水酸化物、炭酸塩、および炭酸水素塩からなる群から選ばれる化合物の少なくとも１種類である、請求項１～２のいずれか１項に記載の研磨用組成物。 【請求項６】塩基性化合物が、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸水素ナトリウムからなる群から選ばれる化合物の少なくとも１種類である、請求項５に記載の研磨用組成物 【請求項７】水溶性高分子化合物が、セルロース誘導体およびポリビニルアルコールからなる群から選ばれる化合物の少なくとも１種類である、請求項１～６のいずれか１項に記載の研磨用組成物。」 摘記３ｂ：段落００２５ 「【００２５】用いる水溶性高分子化合物は、本発明の効果を損なわないものであれば特に限定されないが、一般に、分子量が１００，０００以上、好ましくは１，０００，０００以上、の水溶性基を有する高分子化合物である。」 摘記３ｃ：段落００４２ 「【００４２】【発明の実施の形態】 ＜研磨用組成物の内容および調製＞まず、研磨材として高純度コロイダルシリカ（一次粒子径０．０３５μｍ、二次粒子径０．０７μｍ）を撹拌機を用いて水に分散させて、研磨材濃度５重量％の研磨材分散液を調製した。次いで、予め水で膨潤させておいた、前記研磨材分散液の重量を基準にして０．５重量％のヒドロキシエチルセルロースを添加し、スラリーを調製した。そして、前記スラリーに、表１に記載した量の塩基性化合物および／またはアルコール性水酸基を１～１０個有する化合物を添加して、実施例１～１０および比較例１～３の試料を調製した。」 （エ）甲第４号証の記載事項 甲第４号証には、次の記載がある。 摘記４ａ：請求項１ 「【請求項１】下記一般式（１）で表される構成単位（ａ１）、下記一般式（２）で表される構成単位（ａ２）、及び下記一般式（３）で表される構成単位（ａ３）を有し、構成単位（ａ３）の合計が高分子化合物の構成単位中０．００１～１．５モル％である高分子化合物、研磨材及び水系媒体を含有するシリコンウエハ用研磨液組成物。 【化１】 ［図：0001382338000002.jpg］ 〔式中、Ｒは炭素数１～３のアルキル基であり、Ｘは分子中にカチオン基を有し且つビニルアルコール低級脂肪酸エステルと共重合可能な不飽和化合物に由来する構成単位である。〕」 （オ）甲第５号証の記載事項 甲第５号証には、次の記載がある。 摘記５ａ：請求項１ 「【請求項１】下記一般式（１）で表される構成単位（ａ１）、下記一般式（２）で表される構成単位（ａ２）、及び下記一般式（３）で表される構成単位（ａ３）を有し、構成単位（ａ３）の合計が高分子化合物中０．００１～１．５モル％である高分子化合物、研磨材及び水系媒体を含有するシリコンウエハ用研磨液組成物。 【化１】 ［図：0001382338000003.jpg］ 〔式中、Ｒは炭素数１～３のアルキル基であり、Ｘは分子中にカチオン基を有し且つビニルアルコール低級脂肪酸エステルと共重合可能な不飽和化合物に由来する構成単位である。〕」 （カ）甲第６号証の記載事項 甲第６号証には、和訳にして、次の記載がある。 摘記６ａ：第６５頁の表２．３ 「 ［図：0001382338000004.jpg］ 」 摘記６ｂ：第６９頁の表２．６ 「 ［図：0001382338000005.jpg］ 」 ウ 甲各号証に記載された発明 （ア）甲１発明 摘記１ｆの「本発明の研磨剤及び研磨方法は…シリコン…等の各種基板材料にも適用できる。」との記載、及び 摘記１ｇの「（実施例１）ポリビニルアルコール〔株式会社クラレ製ＰＶＡ－２０３、平均重合度３００、ケン化度８８モル％〕５質量％、酢酸０．４質量％、イミダゾール０．６６質量％及び水９３．９４質量％を含有する濃縮添加液１００ｇ、前記で得た濃縮水酸化セリウムスラリ１００ｇ並びに水８００ｇを混合し、水酸化セリウム濃度０．１質量％及びポリビニルアルコール濃度０．５質量％を含む研磨剤を調製した。…（実施例５）濃縮添加液に用いるポリビニルアルコールとして株式会社クラレ製ＰＶＡ－５０５、平均重合度５００、ケン化度７３モル％を５質量％用いた以外は実施例１と同様にして、水酸化セリウム濃度０．１質量％及びポリビニルアルコール濃度０．５質量％を含む研磨剤を調製した。」との記載からみて、甲第１号証には、 『ポリビニルアルコールとして株式会社クラレ製ＰＶＡ－５０５、平均重合度５００、ケン化度７３モル％を５質量％、酢酸０．４質量％、イミダゾール０．６６質量％及び水９３．９４質量％を含有する濃縮添加液１００ｇ、濃縮水酸化セリウムスラリ１００ｇ並びに水８００ｇを混合し、水酸化セリウム濃度０．１質量％及びポリビニルアルコール濃度０．５質量％とした、シリコン等の各種基板材料に適用できる研磨剤。』についての発明（以下「甲１発明」という。）が記載されているといえる。 （イ）甲２発明 摘記２ａの「半導体ウエハの表面を精密研磨する際に使用される研磨用組成物であって、二酸化ケイ素、アルカリ化合物、水溶性高分子化合物及び水を含有し、前記二酸化ケイ素は、ＢＥＴ法で測定される比表面積から求められる平均一次粒子径が５～３０ｎｍであるとともにレーザー散乱法で測定される平均二次粒子径が５～１２０ｎｍであるコロイダルシリカ、あるいは前記平均一次粒子径が５～３０ｎｍであるとともに前記平均二次粒子径が５～２００ｎｍであるヒュームドシリカであることを特徴とする研磨用組成物。」との記載、及び 摘記２ｃの「表１…実施例１２…Ｐ＋＋…Ａ２…Ａ…ＰＶＡ…なお、上記表１の「被研磨物」欄に示した「Ｐ＋＋」は抵抗率が０．０１Ω・ｃｍ未満のシリコンウエハ、…「二酸化ケイ素」欄に示した…「Ａ２」はＤＳＡが１３ｎｍでＤＮ４が３２ｎｍのコロイダルシリカ、…「アルカリ化合物」欄に示した「Ａ」はアンモニア（２９重量％水溶液）、…「水溶性高分子化合物」欄に示した…「ＰＶＡ」は平均分子量６２，０００、平均重合度１４００、ケン化度９５％のポリビニルアルコール、…を表わす。」との記載からみて、甲第２号証には、 『半導体ウエハ（抵抗率が０．０１Ω・ｃｍ未満のシリコンウエハ）の表面を精密研磨する際に使用される研磨用組成物であって、二酸化ケイ素、アルカリ化合物、水溶性高分子化合物及び水を含有し、 前記二酸化ケイ素は、ＢＥＴ法で測定される比表面積から求められる平均一次粒子径が１３ｎｍであるとともにレーザー散乱法で測定される平均二次粒子径が３２ｎｍであるコロイダルシリカ（Ａ２）であり、 前記アルカリ化合物は、アンモニア（２９重量％水溶液）であり、 前記水溶性高分子化合物は、平均分子量６２，０００、平均重合度１４００、ケン化度９５％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）である 研磨用組成物。』についての発明（以下「甲２発明」という。）が記載されているといえる。 （ウ）甲３発明 摘記３ａ（請求項１、３～４及び７）の「下記の（ａ）～（ｅ）を含んでなることを特徴とするシリコン半導体ウェーハの研磨用組成物。（ａ）二酸化ケイ素、（ｂ）水、（ｃ）水溶性高分子化合物、（ｄ）塩基性化合物、および（ｅ）アルコール性水酸基を１～１０個有する化合物。…塩基性化合物が、含窒素塩基性化合物から選ばれる化合物の少なくとも１種類である、…含窒素塩基性化合物が、アンモニア、水酸化アンモニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ピペラジン・六水和物、無水ピペラジン、１－（２－アミノエチル）ピペラジン、Ｎ－メチルピペラジン、ジエチレントリアミン、および水酸化テトラメチルアンモニウムからなる群より選ばれる化合物の少なくとも１種類である、…水溶性高分子化合物が、セルロース誘導体およびポリビニルアルコールからなる群から選ばれる化合物の少なくとも１種類である、請求項１～６のいずれか１項に記載の研磨用組成物。」との記載、及び 摘記３ｂの「用いる水溶性高分子化合物は、本発明の効果を損なわないものであれば特に限定されないが、一般に、分子量が１００，０００以上、好ましくは１，０００，０００以上、の水溶性基を有する高分子化合物である。」との記載からみて、甲第３号証には、 『（ａ）二酸化ケイ素、（ｂ）水、（ｃ）水溶性高分子化合物、（ｄ）塩基性化合物、および（ｅ）アルコール性水酸基を１～１０個有する化合物を含んでなるシリコン半導体ウェーハの研磨用組成物であって、 塩基性化合物が、アンモニア、水酸化アンモニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ピペラジン・六水和物、無水ピペラジン、１－（２－アミノエチル）ピペラジン、Ｎ－メチルピペラジン、ジエチレントリアミン、および水酸化テトラメチルアンモニウムからなる群より選ばれる化合物の少なくとも１種類であり、 水溶性高分子化合物が、セルロース誘導体およびポリビニルアルコールからなる群から選ばれる化合物の少なくとも１種類であり、分子量が１００，０００以上、好ましくは１，０００，０００以上、の水溶性基を有する高分子化合物である、研磨用組成物。』についての発明（以下「甲３発明」という。）が記載されているといえる。 （エ）甲４発明 摘記４ａの記載からみて、甲第４号証には、その請求項１に記載されるとおりの発明（以下「甲４発明」という。）が記載されているといえる。 （オ）甲５発明 摘記５ａの記載からみて、甲第５号証には、その請求項１に記載されるとおりの発明（以下「甲５発明」という。）が記載されているといえる。 エ 甲第１号証を主引用例とした場合の検討 （ア）対比 本１発明と甲１発明とを対比する。 甲１発明の「水酸化セリウム濃度０．１質量％及びポリビニルアルコール濃度０．５質量％とした、シリコン等の各種基板材料に適用できる研磨剤」は、その「水酸化セリウム」が、摘記１ａの「水、砥粒及び添加剤を含有する研磨剤」との記載にある「砥粒」に相当し、その「ポリビニルアルコール」が「水溶性ポリマー」であることが明らかであるから、本１発明の「水溶性ポリマーと、砥粒と、…水と、を含有」する「研磨用組成物」に相当する。 してみると、本１発明と甲１発明は『水溶性ポリマーと、砥粒と、水と、を含有する研磨用組成物。』という点において一致し、次の（１Ａ）～（１Ｄ）の相違点を有する。 （１Ａ）研磨用組成物が、本１発明は「シリコンウエハのシリコンからなる表面の研磨に用いられる」ものであるのに対して、甲１発明は「シリコン等の各種基板材料に適用できる」ものである点。 （１Ｂ）水溶性ポリマーが、本１発明は「以下の条件：水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位のみを含む；水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む；水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である；重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である；全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である；およびノニオン性である；を満たす」のに対して、甲１発明は「株式会社クラレ製ＰＶＡ－５０５、平均重合度５００、ケン化度７３モル％」という「ポリビニルアルコール」である点。 （１Ｃ）研磨用組成物が、本１発明は「塩基性化合物としてのアンモニア」を含むものであるのに対して、甲１発明は「塩基性化合物としてのアンモニア」を含むものではない点。 （１Ｄ）砥粒が、本１発明は「シリカ粒子のみからなる」のに対して、甲１発明は「水酸化セリウム」からなる点。 （イ）判断 事案に鑑み、まず、上記（１Ｄ）の相違点について検討する。 甲第１号証の請求項１（摘記１ａ）の「水、砥粒及び添加剤を含有する研磨剤であって、前記砥粒は、４価の金属水酸化物粒子を含有してなり、前記添加剤のうちの少なくとも１成分が、ケン化度９５モル％以下のポリビニルアルコールである研磨剤。」との記載、及び同段落００３２（摘記１ｂ）の「（砥粒）本発明の研磨剤の具体的態様の一つは、前記砥粒として４価の金属水酸化物粒子を含むものである。前記４価の金属水酸化物粒子は、シリカ、酸化セリウム等の従来の砥粒と比較して、酸化珪素との反応性が高く、高研磨速度である点で好ましい。本発明の研磨剤において用いることのできる他の砥粒としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化セリウム等を挙げることができる。」との記載にあるように、甲第１号証に記載の発明は、他の砥粒として「シリカ」等を併用できる旨の記載はあるものの、その請求項１の記載にあるように「４価の金属水酸化物粒子」を必須の砥粒として含む必要があるものである。 してみると、甲１発明の砥粒の種類を「水酸化セリウム」という「４価の金属水酸化物粒子」から、本１発明の「シリカ粒子のみからなる」に変更することには、阻害事由があるといえる。 そして、本件特許明細書の段落００７６には「ここに開示される技術をシリコンウエハの研磨に使用され得る研磨用組成物に適用する場合、砥粒としてシリカ粒子を用いることが特に好ましい。その理由は、研磨対象物がシリコンウエハである場合、研磨対象物と同じ元素と酸素原子とからなるシリカ粒子を砥粒として使用すれば研磨後にシリコンとは異なる金属または半金属の残留物が発生せず、シリコンウエハ表面の汚染や研磨対象物内部にシリコンとは異なる金属または半金属が拡散することによるシリコンウエハとしての電気特性の劣化などの虞がなくなるからである。さらに、シリコンとシリカの硬度が近いため、シリコンウエハ表面に過度なダメージを与えることなく研磨加工を行うことができる。かかる観点から好ましい研磨用組成物の一形態として、砥粒としてシリカ粒子のみを含有する研磨用組成物が例示される。また、シリカは高純度のものが得られやすいという性質を有する。このことも砥粒としてシリカ粒子が好ましい理由として挙げられる。」との記載がなされているところ、このような「砥粒としてシリカ粒子を用いること」の格別の効果は、甲第１～６号証の記載から当業者が予測し得るものではない。 以上総括するに、本１発明と甲１発明は、上記（１Ｄ）の実質的な相違点を有するものであり、この相違点は、甲第１～６号証に記載の技術事項をどのように組み合わせても導き出し得るものではないから、上記（１Ａ）～（１Ｃ）の相違点について検討するまでもなく、上記（１Ｄ）の相違点に係る構成を想到することが当業者にとって容易であるとはいえないし、当該構成を有することにより格別の効果を奏するものである。 したがって、本１発明は、甲第１号証に記載された発明ではないので、特許法第２９条第１項第３号に該当しない。また、本１発明は、甲第１～６号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではないので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものに該当しない。 オ 甲第２号証を主引用例とした場合の検討 （ア）対比 本１発明と甲２発明とを対比する。 甲２発明の「半導体ウエハ（抵抗率が０．０１Ω・ｃｍ未満のシリコンウエハ）の表面を精密研磨する際に使用される研磨用組成物」は、シリコンウエハの表面がシリコンから形成されていることが明らかなので、本１発明の「シリコンウエハのシリコンからなる表面の研磨に用いられる研磨用組成物」に相当する。 甲２発明の「研磨用組成物であって、二酸化ケイ素、アルカリ化合物、水溶性高分子化合物及び水を含有し、前記二酸化ケイ素は、ＢＥＴ法で測定される比表面積から求められる平均一次粒子径が１３ｎｍであるとともにレーザー散乱法で測定される平均二次粒子径が３２ｎｍであるコロイダルシリカ（Ａ２）であり、前記アルカリ化合物は、アンモニア（２９重量％水溶液）であり」は、 甲２発明の「二酸化ケイ素」及び「前記二酸化ケイ素は、ＢＥＴ法で測定される比表面積から求められる平均一次粒子径が１３ｎｍであるとともにレーザー散乱法で測定される平均二次粒子径が３２ｎｍであるコロイダルシリカ（Ａ２）であり」が、本１発明の「砥粒」及び「前記砥粒はシリカ粒子のみからなる」に相当し、 甲２発明の「アルカリ化合物」及び「前記アルカリ化合物は、アンモニア（２９重量％水溶液）」が、本１発明の「塩基性化合物としてのアンモニア」に相当し、 甲２発明の「水溶性高分子化合物」が本１発明の「水溶性ポリマー」に相当するから、 本１発明の「水溶性ポリマーと、砥粒と、塩基性化合物としてのアンモニアと、水と、を含有し、前記砥粒はシリカ粒子のみからなる、研磨用組成物」に相当する。 してみると、本１発明と甲２発明は『シリコンウエハのシリコンからなる表面の研磨に用いられる研磨に用いられる研磨用組成物であって、水溶性ポリマーと、砥粒と、塩基性化合物としてのアンモニアと、水と、を含有し、前記砥粒はシリカ粒子のみからなる、研磨用組成物。』という点において一致し、次の（２Ａ）の相違点を有する。 （２Ａ）水溶性ポリマーが、本１発明は「以下の条件：水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位のみを含む；水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む；水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である；重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である；全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である；およびノニオン性である；を満たす」のに対して、甲２発明は「平均分子量６２，０００、平均重合度１４００、ケン化度９５％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）」である点。 （イ）判断 甲２発明の「平均分子量６２，０００、平均重合度１４００、ケン化度９５％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）」は、当該ポリマーを構成する繰返し単位の具体的な内容が不明であって、必ずしも「酢酸ビニル単位」のみを「水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂ」として含むとは断定できないが、 その「平均分子量６２，０００」という物性は、本１発明の「重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である」という構成要件を満たしておらず、 その「ケン化度９５％」という物性は、甲２発明の水溶性高分子化合物における水酸基を含まない繰返し単位（酢酸ビニルなどのカルボン酸ビニル単位）のモル数が５％であることを意味するので、本１発明の「全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である；」という構成要件を満たしておらず、 その「平均分子量６２，０００、平均重合度１４００、ケン化度９５％」という物性からみて、その水酸基量は、１４００×０．９５÷６２０００×１０００＝２１．４５１ｍｍｏｌ／ｇと計算されるので、本１発明の「水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である」という構成要件を満たしていない。 また、上記（２Ａ）の相違点に関して、甲第２号証の段落００１５～００１６（摘記２ｂ）には、水溶性高分子化合物としての「ポリビニルアルコール」は、平均分子量が１０，０００～３００，０００が最も好ましく、なおかつ、平均重合度が２００～３，０００、ケン化度が７０～１００％であることが好ましいとの記載があるものの、ポリビニルアルコールよりも「ヒドロキシエチルセルロース」がより好ましいとされているので、甲２発明の「平均分子量６２，０００、平均重合度１４００、ケン化度９５％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）」という「水溶性高分子化合物」の平均分子量やケン化度など物性の数値範囲を好適化する積極的な動機付けがあるとは言い難い。 このため、甲第２号証の「実施例１２」で具体的に用いられている「平均分子量６２，０００、平均重合度１４００、ケン化度９５％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）」の具体的な内容を好適化して、本１発明の「以下の条件：水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位のみを含む；水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む；水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である；重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である；全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である；およびノニオン性である；を満たす」という構成のものにすることが、当業者にとって容易想到であるとは認められない。 そして、本件特許明細書の段落０３２０には、本１発明の「条件」を満たさない比較例Ａ１～Ａ５の「ヒドロキシエチルセルロース」等の水溶性ポリマーに比して、本１発明の「条件」を満たす実施例Ａ１～Ａ３のものが、微小パーティクル（ＬＰＤ）数評価や、ヘイズ測定の性能の点で、優れた効果を奏することが記載されているところ、このような「条件」を満たすことの格別の効果は、甲第１～６号証の記載から当業者が予測し得るものではない。 以上総括するに、本１発明と甲２発明は、上記（２Ａ）の実質的な相違点を有するものであり、この相違点は、甲第１～６号証に記載の技術事項をどのように組み合わせても導き出し得るものではないから、上記（２Ａ）の相違点に係る構成を想到することが当業者にとって容易であるとはいえないし、当該構成を有することにより格別の効果を奏するものである。 したがって、本１発明は、甲第２号証に記載された発明ではないので、特許法第２９条第１項第３号に該当しない。また、本１発明は、甲第１～６号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではないので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものに該当しない。 カ 甲第３号証を主引用例とした場合の検討 （ア）対比 本１発明と甲３発明とを対比する。 甲３発明の「シリコン半導体ウェーハの研磨用組成物」は、シリコン半導体ウェーハの表面がシリコンから形成されていることが明らかなので、本１発明の「シリコンウエハのシリコンからなる表面の研磨に用いられる研磨用組成物」に相当する。 甲３発明の「（ａ）二酸化ケイ素、（ｂ）水、（ｃ）水溶性高分子化合物、（ｄ）塩基性化合物、および（ｅ）アルコール性水酸基を１～１０個有する化合物を含んでなる」は、 甲３発明の「（ａ）二酸化ケイ素」が、本１発明の「砥粒」及び「前記砥粒はシリカ粒子のみからなる」に相当し、 甲３発明の「（ｄ）塩基性化合物」が「アンモニア、水酸化アンモニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ピペラジン・六水和物、無水ピペラジン、１－（２－アミノエチル）ピペラジン、Ｎ－メチルピペラジン、ジエチレントリアミン、および水酸化テトラメチルアンモニウムからなる群より選ばれる化合物の少なくとも１種類」であることから、本１発明の「塩基性化合物としてのアンモニア」に相当し、 甲３発明の「（ｃ）水溶性高分子化合物」が本１発明の「水溶性ポリマー」に相当するから、 本１発明の「水溶性ポリマーと、砥粒と、塩基性化合物としてのアンモニアと、水と、を含有し、前記砥粒はシリカ粒子のみからなる」に相当する。 してみると、本１発明と甲３発明は『シリコンウエハのシリコンからなる表面の研磨に用いられる研磨に用いられる研磨用組成物であって、水溶性ポリマーと、砥粒と、塩基性化合物としてのアンモニアと、水と、を含有し、前記砥粒はシリカ粒子のみからなる、研磨用組成物。』という点において一致し、次の（３Ａ）の相違点を有する。 （３Ａ）水溶性ポリマーが、本１発明は「以下の条件：水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位のみを含む；水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む；水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である；重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である；全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である；およびノニオン性である；を満たす」のに対して、甲３発明は「セルロース誘導体およびポリビニルアルコールからなる群から選ばれる化合物の少なくとも１種類であり、分子量が１００，０００以上、好ましくは１，０００，０００以上、の水溶性基を有する高分子化合物」である点。 （イ）判断 甲３発明は、（ｃ）の水溶性高分子化合物の分子量が「１００，０００以上、好ましくは１，０００，０００以上」とされるものであるから、本１発明の「重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である」という構成に変更することには、阻害事由があるといえる。 また、甲第３号証の段落００４２（摘記３ｃ）には、（ｃ）の水溶性高分子化合物として「ヒドロキシエチルセルロース」という「セルロース誘導体」を用いたものが実施例として記載されているのに対して、当該（ｃ）成分として「ポリビニルアルコール」を用いた実施例の記載がないので、甲３発明の「セルロース誘導体およびポリビニルアルコールからなる群から選ばれる化合物の少なくとも１種類」として、敢えて「ポリビニルアルコール」を選択することに、積極的な動機付けがあるとは言い難い。 してみると、甲３発明の「セルロース誘導体およびポリビニルアルコールからなる群から選ばれる化合物の少なくとも１種類であり、分子量が１００，０００以上、好ましくは１，０００，０００以上、の水溶性基を有する高分子化合物である」という「水溶性高分子化合物」の具体的な内容を好適化して、本１発明の「以下の条件：水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位のみを含む；水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む；水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である；重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である；全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である；およびノニオン性である；を満たす」という構成のものにすることが、当業者にとって容易想到であるとは認められない。 そして、本件特許明細書の段落０３２０には、本１発明の「条件」を満たさない比較例Ａ１～Ａ５の「ヒドロキシエチルセルロース」等の水溶性ポリマーに比して、本１発明の「条件」を満たす実施例Ａ１～Ａ３のものが、微小パーティクル（ＬＰＤ）数評価や、ヘイズ測定の性能の点で、優れた効果を奏することが記載されているところ、このような「条件」を満たすことの格別の効果は、甲第１～６号証の記載から当業者が予測し得るものではない。 以上総括するに、本１発明と甲３発明は、上記（３Ａ）の実質的な相違点を有するものであり、この相違点は、甲第１～６号証に記載の技術事項をどのように組み合わせても導き出し得るものではないから、上記（３Ａ）の相違点に係る構成を想到することが当業者にとって容易であるとはいえないし、当該構成を有することにより格別の効果を奏するものである。 したがって、本１発明は、甲第３号証に記載された発明ではないので、特許法第２９条第１項第３号に該当しない。また、本１発明は、甲第１～６号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではないので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものに該当しない。 キ 甲第４号証を主引用例とした場合の検討 （ア）対比 本１発明と甲４発明とを対比する。 甲４発明の「高分子化合物、研磨材及び水系媒体を含有するシリコンウエハ用研磨液組成物」は、その「高分子化合物」が本１発明の「水溶性ポリマー」に相当し、その「水系媒体」が本１発明の「水」に相当するといえるから、本１発明の「水溶性ポリマーと、砥粒と、…水と、を含有」する「研磨用組成物」に相当する。 してみると、本１発明と甲４発明は『水溶性ポリマーと、砥粒と、水と、を含有する研磨用組成物。』という点において一致し、次の（４Ａ）～（４Ｄ）の相違点を有する。 （４Ａ）研磨用組成物が、本１発明は「シリコンウエハのシリコンからなる表面の研磨に用いられる」ものであるのに対して、甲４発明は「シリコンウエハ用」である点。 （４Ｂ）水溶性ポリマーが、本１発明は「以下の条件：水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位のみを含む；水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む；水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である；重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である；全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である；およびノニオン性である；を満たす」のに対して、甲４発明は「一般式（１）で表される構成単位（ａ１）、下記一般式（２）で表される構成単位（ａ２）、及び下記一般式（３）で表される構成単位（ａ３）を有し、構成単位（ａ３）の合計が高分子化合物の構成単位中０．００１～１．５モル％である高分子化合物」であって「式中、Ｒは炭素数１～３のアルキル基であり、Ｘは分子中にカチオン基を有し且つビニルアルコール低級脂肪酸エステルと共重合可能な不飽和化合物に由来する構成単位である。」である点。 （４Ｃ）研磨用組成物が、本１発明は「塩基性化合物としてのアンモニア」を含むものであるのに対して、甲４発明は「塩基性化合物としてのアンモニア」を含むものではない点。 （４Ｄ）砥粒が、本１発明は「シリカ粒子のみからなる」のに対して、甲４発明は「研磨材」の内容が具体的に特定されていない点。 （イ）判断 事案に鑑み、まず、上記（４Ｂ）の相違点について検討する。 甲４発明の「高分子化合物」は「分子中にカチオン基を有」するものであるから、本１発明の「ノニオン性である」という条件を満たさない。 してみると、甲４発明の分子中に「カチオン基」を有することを必須とする「高分子化合物」の構成を、本１発明の「ノニオン性である」という条件を満たす構成に変更することには、阻害事由があるといえる。 そして、本件特許明細書の段落０３２０には、本１発明の「条件」を満たさない比較例Ａ１～Ａ５の「ヒドロキシエチルセルロース」等の水溶性ポリマーに比して、本１発明の「条件」を満たす実施例Ａ１～Ａ３のものが、微小パーティクル（ＬＰＤ）数評価や、ヘイズ測定の性能の点で、優れた効果を奏することが記載されているところ、このような「条件」を満たすことの格別の効果は、甲第１～６号証の記載から当業者が予測し得るものではない。 以上総括するに、本１発明と甲４発明は、上記（４Ｂ）の実質的な相違点を有するものであり、この相違点は、甲第１～６号証に記載の技術事項をどのように組み合わせても導き出し得るものではないから、上記（４Ａ）及び（４Ｃ）～（４Ｄ）の相違点について検討するまでもなく、上記（４Ｂ）の相違点に係る構成を想到することが当業者にとって容易であるとはいえないし、当該構成を有することにより格別の効果を奏するものである。 したがって、本１発明は、甲第４号証に記載された発明ではないので、特許法第２９条第１項第３号に該当しない。また、本１発明は、甲第１～６号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではないので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものに該当しない。 ク 甲第５号証を主引用例とした場合の検討 甲５発明は、甲４発明の「高分子化合物の構成単位中０．００１～１．５モル％である高分子化合物」との記載部分が「高分子化合物中０．００１～１．５モル％である高分子化合物」との記載に置き換わった（下線部の「の構成単位」の語が削除された）以外は、同じ内容のものである。 してみると、上記「キ」に示した理由と同様の理由により、本１発明と甲５発明は、実質的な相違点を有するものであり、この相違点は、甲第１～６号証に記載の技術事項をどのように組み合わせても導き出し得るものではないから、本１発明の構成を想到することが当業者にとって容易であるとはいえないし、当該構成を有することにより格別の効果を奏するものである。 したがって、本１発明は、甲第５号証に記載された発明ではないので、特許法第２９条第１項第３号に該当しない。また、本１発明は、甲第１～６号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではないので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものに該当しない。 ケ 本件特許の請求項２～３及び６に係る発明について 本２～３及び本６発明は、本１発明を直接又は間接的に引用し、さらに限定したものである。 してみると、本１発明の新規性が甲第１～５号証によって否定できない以上、本２～３及び本６発明が、甲第１～５号証に記載された発明であるとはいえず、特許法第２９条第１項第３号に該当しない。 また、本１発明の進歩性が甲第１～６号証によって否定できない以上、本２～３及び本６発明が、甲第１～６号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえず、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものに該当しない。 （３）申立理由４（拡大先願）について ア 申立理由４について 特許異議申立人が主張する申立理由４（拡大先願）は、本１～本６発明は、甲第７～８号証に記載された発明であるから、特許法第２９条の２の規定に違反しており、同法第１１３条第２号の規定により取り消されるべきものであるというものであって、証拠として、次の甲第７～８号証を提示している。 甲第７号証：特許第６０２８９４２号公報 甲第８号証：特許第５８９７２００号公報 しかしながら、甲第７～８号証は、いずれも「特許掲載公報」のみを証拠とし、優先権主張の基礎明細書等の必要な証拠を含まないので、甲第７～８号証を提示しての申立理由４は、採用できない。 なお、仮に、甲第７号証に記載されている事項と、甲第７号証に対応する優先権の主張を伴う特許出願であって、千九百七十年六月十九日にワシントンで作成された特許協力条約第二十一条に規定する国際公開（国際公開第２０１３／１７６１２２号）がされた特願２０１４－５１６８０２号の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された発明のうち、当該優先権の主張の基礎とされた先の出願である特願２０１２－１２００３７号の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載されている事項が一致するものとして、以下に検討をする。甲第８号証についても同様である。 イ 甲号証の記載事項 （ア）甲第７号証の記載事項 甲第７号証には、次の記載がある。 摘記７ａ：請求項１ 「【請求項１】水、シリカ粒子、アルカリ化合物、ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール及び界面活性剤を含み、且つポリビニルアルコールに対するアニオン変性ポリビニルアルコールの質量比が０．６乃至５．５であるウェーハ用研磨液組成物。」 摘記７ｂ：段落００３９ 「【００３９】〔実施例１〕 重量平均分子量１４万のカルボキシル基変性ポリビニルアルコール（カルボキシル基変性量２．０モル％、ケン化度９６．３）の０．７５質量％水溶液と重量平均分子量２０万のポリビニルアルコール（ケン化度８７．５）の０．２５質量％水溶液とをポリビニルアルコールに対するカルボキシル基変性ポリビニルアルコールの質量比３．０となるように混合して、０．５０質量％のＰＶＡ水溶液を調製し、これをＰＶＡ混合液（Ａ）とした。シリカ濃度３０質量％、ｐＨ７．４、窒素吸着法から求められる平均一次粒子径３５ｎｍのコロイダルシリカが分散された水性シリカゾル３３３．０ｇに水３４５.５ｇ、２８質量％アンモニア水２０．５ｇ、ＰＶＡ混合液（Ａ）５５０.０ｇを添加し、更に数平均分子量１,０００のポリエチレングリコールの５０質量％水溶液１.２５ｇを加えて、シリカ濃度８．０質量％、アンモニア０．４６質量％、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール０．１７質量％、ポリビニルアルコール０．０５５質量％、ポリエチレングリコール０．０５質量％の研磨液組成物を調製した。得られた研磨液組成物のｐＨは１０．６、２５℃におけるオストワルド粘度は２．０ｍＰａ・ｓであった。」 （イ）甲第８号証の記載事項 甲第８号証には、次の記載がある。 摘記８ａ：請求項１ 「【請求項１】 シリコンウエハの研磨に用いられる研磨用組成物であって： 砥粒； オキシアルキレン単位を含むポリマー、Ｎ－ビニル型のモノマー単位を含むポリマー、イミン誘導体、Ｎ－（メタ）アクリロイル型のモノマー単位を含むポリマー、ビニルアルコール系ポリマーおよびプルランから選択される水溶性ポリマー；および 水； を含み、 前記研磨用組成物のｐＨは９．０～１２．０であり、 前記砥粒の平均一次粒子径ＤＰ１は２０ｎｍ以上であり、 前記砥粒の平均二次粒子径ＤＰ２は５５ｎｍ以下であり、かつ 前記研磨用組成物は、前記砥粒の含有量が０．２質量％となる濃度において動的光散乱法により測定される前記研磨用組成物中に含まれる粒子の体積平均粒子径ＤＡが２０ｎｍ～６０ｎｍである、研磨用組成物。」 摘記８ｂ：段落０１１８ 「【０１１８】（実施例５） 実施例２において、ＨＥＣ－Ａに代えてポリビニルアルコール（Ｍｗ１．３×１０４、けん化度９５モル％以上；以下「ＰＶＡ－１」と表記することがある。）を２％の濃度で含むポリマー水溶液を使用した。その他の点は実施例２と同様にして、表１に示す組成の研磨液を調製した。実施例１と同様にして測定した粒子の体積平均粒子径ＤＡは４６ｎｍであった。」 ウ 甲第７号証について （ア）甲７発明 甲第７号証には、甲第７号証の請求項１（摘記７ａ）に記載のとおりの発明（以下「甲７発明」という。）が記載されている。 （イ）対比 本１発明と甲７発明とを対比すると、甲７発明の「水、シリカ粒子、アルカリ化合物、ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール及び界面活性剤を含み、且つポリビニルアルコールに対するアニオン変性ポリビニルアルコールの質量比が０．６乃至５．５であるウェーハ用研磨液組成物。」の「シリカ粒子」と「アルカリ化合物」と「ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール」と「ウェーハ用研磨液組成物」の各々は、本１発明の「砥粒」と「塩基性化合物」と「水溶性ポリマー」と「ウエハの…研磨に用いられる研磨用組成物」に相当する。 してみると、本１発明と甲７発明は『ウエハの研磨に用いられる研磨用組成物であって、水溶性ポリマーと、砥粒と、塩基性化合物と、水と、を含有する、研磨用組成物。』という点において一致し、次の（７Ａ）～（７Ｄ）の相違点を有する。 （７Ａ）研磨用組成物が、本１発明は「シリコンウエハのシリコンからなる表面の研磨に用いられる」ものであるのに対して、甲７発明は「ウェーハ用」である点。 （７Ｂ）水溶性ポリマーが、本１発明は「以下の条件：水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位のみを含む；水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む；水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である；重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である；全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である；およびノニオン性である；を満たす」のに対して、甲７発明は「ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール」である点。 （７Ｃ）研磨用組成物が、本１発明は「塩基性化合物としてのアンモニア」を含むものであるのに対して、甲７発明は「アルカリ化合物」の種類を特定するものではない点。 （７Ｄ）砥粒が、本７発明は「シリカ粒子のみからなる」のに対して、甲７発明は「シリカ粒子」以外の砥粒が含まれる場合を除外しない点。 （ウ）判断 事案に鑑み、まず、上記（７Ｂ）の相違点について検討する。 甲第７号証の段落００３９（摘記７ｂ）には、甲７発明の実施例１として「重量平均分子量１４万のカルボキシル基変性ポリビニルアルコール（カルボキシル基変性量２．０モル％、ケン化度９６．３）」というアニオン変性ポリビニルアルコールと「重量平均分子量２０万のポリビニルアルコール（ケン化度８７．５）」というポリビニルアルコールとを併用したものが記載されている。 そして、当該「重量平均分子量１４万のカルボキシル基変性ポリビニルアルコール（カルボキシル基変性量２．０モル％、ケン化度９６．３）」というアニオン変性ポリビニルアルコールは、アニオン変性されているという点において、本１発明の「ノニオン性である」という条件を満たすものではなく、当該「重量平均分子量２０万のポリビニルアルコール（ケン化度８７．５）」というポリビニルアルコールは、重量平均分子量が２０万であるという点において、本１発明の「重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である」という条件を満たすものではない。 また、甲第７号証の全ての記載を精査しても、本１発明の「以下の条件：水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位のみを含む；水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む；水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である；重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である；全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である；およびノニオン性である；を満たす」という「水溶性ポリマー」についての記載が存在しない。 したがって、本１発明と甲７発明は、上記（７Ｂ）の実質的な相違点を有するものであるから、上記（７Ａ）及び（７Ｃ）～（７Ｄ）の相違点について検討するまでもなく、本１発明並びにこれを引用する本２～３及び本６発明が、甲第７号証の「特許掲載公報」に対応する優先権主張の基礎明細書等に記載された発明と同一であるとはいえず、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものに該当しない。 エ 甲第８号証について （ア）甲８発明 甲第８号証には、甲第８号証の請求項１（摘記８ａ）に記載のとおりの発明（以下「甲８発明」という。）が記載されている。 （イ）対比 本１発明と甲８発明とを対比すると、甲８発明の「シリコンウエハの研磨に用いられる研磨用組成物であって：砥粒；オキシアルキレン単位を含むポリマー、Ｎ－ビニル型のモノマー単位を含むポリマー、イミン誘導体、Ｎ－（メタ）アクリロイル型のモノマー単位を含むポリマー、ビニルアルコール系ポリマーおよびプルランから選択される水溶性ポリマー；および水；を含み、前記研磨用組成物のｐＨは９．０～１２．０であり、前記砥粒の平均一次粒子径ＤＰ１は２０ｎｍ以上であり、前記砥粒の平均二次粒子径ＤＰ２は５５ｎｍ以下であり、かつ前記研磨用組成物は、前記砥粒の含有量が０．２質量％となる濃度において動的光散乱法により測定される前記研磨用組成物中に含まれる粒子の体積平均粒子径ＤＡが２０ｎｍ～６０ｎｍである、研磨用組成物。」の「砥粒」と「オキシアルキレン単位を含むポリマー、Ｎ－ビニル型のモノマー単位を含むポリマー、イミン誘導体、Ｎ－（メタ）アクリロイル型のモノマー単位を含むポリマー、ビニルアルコール系ポリマーおよびプルランから選択される水溶性ポリマー」と「シリコンウエハの研磨に用いられる研磨用組成物」の各々は、本１発明の「砥粒」と「水溶性ポリマー」と「シリコンウエハのシリコンからなる表面の研磨に用いられる研磨用組成物」に相当する。 してみると、本１発明と甲７発明は『シリコンウエハのシリコンからなる表面の研磨に用いられる研磨用組成物であって、水溶性ポリマーと、砥粒と、水と、を含有する、研磨用組成物。』という点において一致し、次の（８Ａ）～（８Ｃ）の相違点を有する。 （８Ａ）水溶性ポリマーが、本１発明は「以下の条件：水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位のみを含む；水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む；水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である；重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である；全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である；およびノニオン性である；を満たす」のに対して、甲８発明は「オキシアルキレン単位を含むポリマー、Ｎ－ビニル型のモノマー単位を含むポリマー、イミン誘導体、Ｎ－（メタ）アクリロイル型のモノマー単位を含むポリマー、ビニルアルコール系ポリマーおよびプルランから選択される水溶性ポリマー」である点。 （８Ｂ）研磨用組成物が、本１発明は「塩基性化合物としてのアンモニア」を含むものであるのに対して、甲８発明は「塩基性化合物としてのアンモニア」を含むものではない点。 （８Ｃ）砥粒が、本１発明は「シリカ粒子のみからなる」のに対して、甲７発明は「シリカ粒子のみからなる」ものとして特定されていない点。 （ウ）判断 上記（８Ａ）の相違点について、甲第８号証の段落０１１８（摘記８ｂ）には、甲８発明の実施例５として「ポリビニルアルコール（Ｍｗ１．３×１０４、けん化度９５モル％以上」という水溶性ポリマーを用いたものが記載されている。 そして、当該「ポリビニルアルコール（Ｍｗ１．３×１０４、けん化度９５モル％以上」というポリビニルアルコールは、ケン化度が９５モル％であるという点において、その９５モル％以上がビニルアルコール単位になっていることが明らかなので、少なくとも本１発明の「全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である」という条件を満たすものではない。 また、甲第８号証の全ての記載を精査しても、本１発明の「以下の条件：水酸基を有する繰返し単位としてビニルアルコール単位のみを含む；水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む；水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である；重量平均分子量が１×１０４以上５×１０４以下である；全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である；およびノニオン性である；を満たす」という「水溶性ポリマー」についての記載が存在しない。 したがって、本１発明と甲８発明は、上記（８Ａ）の実質的な相違点を有するものであるから、上記（８Ｂ）～（８Ｃ）の相違点について検討するまでもなく、本１発明並びにこれを引用する本２～３及び本６発明が、甲第８号証の「特許掲載公報」に対応する優先権主張の基礎明細書等に記載された発明と同一であるとはいえず、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものに該当しない。 （４）申立理由５（明確性要件）について 特許異議申立人が主張する申立理由５（明確性要件）は、本１発明は、構成要件として「ＳＰ値１４．５未満の繰返し単位Ｂ」を規定するが、当該構成要件を充足する繰返し単位Ｂにどのようなものが含まれるか明確ではなく、甲第６号証によれば、酢酸ビニル単位のＳＰ値は「９．６」であるが、本件明細書では「１１．１」となっており、本件発明の範囲・外縁を確定できない、というものである。 〔なお、申立理由５は、令和２年１月２８日付け取消理由通知、同年７月１５日付け取消理由通知（決定の予告）、及び同年１２月１日付け取消理由通知（決定の予告）で採用している。〕 しかしながら、本件訂正の訂正事項３により、訂正前の請求項１の「水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂを含む」と記載部分が「水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む」に訂正された。 してみると、本１発明の「繰返し単位Ｂ」は「酢酸ビニル単位」のみに特定されているので、当該「繰返し単位Ｂ」の範囲が「第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確である」とはいえなくなった。 また、令和２年７月１５日付け取消理由通知（決定の予告））、及び、同年１２月１日付け取消理由通知（決定の予告）においては、請求項１が「とからなり」という記載を含むので明確ではない旨指摘したが、本件訂正により当該記載を含まないものとなった。 したがって、本件特許の請求項１及びその従属項の記載は、特許を受けようとする発明が明確であるから、特許法第３６条第６項第２号に適合する。 （５）申立理由６（サポート要件）について ア 申立理由６の概要 特許異議申立人が主張する申立理由６（サポート要件）は、次の（６－１）～（６－４）の点で、本１発明は段落０００６に記載の「ＬＤＰ数やヘイズの低減効果に優れた研磨用組成物を提供する」という課題を解決できるものとは認められないというものである。 （６－１）あらゆる繰返し単位Ｂ（ＳＰ値「１４．５未満」の全範囲）において課題を解決できるものとは到底認められない。 （６－２）本件発明は、元来、平均ＳＰ値１７．５以下を充足することにより、その課題を解決したものであり、平均ＳＰ値１７．５以下を充足しない態様を包含する本件発明が、課題を解決しない態様を含むことは明らかである。 （６－３）本件明細書の実施例において具体的に開示されているけん化度は７３モル％と７８モル％のもののみであり、領域としても課題を解決できるものとは認められない。 （６－４）研磨用組成物の性状として、塩基性（条件）であることが規定されていない本件発明１の全範囲において、課題を解決できるものとは認められない。 〔なお、申立理由６の（６－１）の点は、令和２年１月２８日付け取消理由通知、同年７月１５日付け取消理由通知（決定の予告）、及び同年１２月１日付け取消理由通知（決定の予告）で採用している。〕 イ 本件特許明細書の記載 本件特許明細書には、次の記載がある。 「【０３２０】【表３】 ［図：0001382338000006.jpg］ 」 ウ （６－１）繰返し単位Ｂの範囲について 本１発明の「繰返し単位Ｂ」は「酢酸ビニル単位」のみに特定された。 したがって、（６－１）の「あらゆる繰返し単位Ｂ（ＳＰ値「１４．５未満」の全範囲）において課題を解決できるものとは到底認められない。」という特許異議申立人の主張する申立て理由によっては、本１発明がサポート要件に違反するとはいえない。 エ （６－２）平均ＳＰ値１７．５以下について 本件特許明細書の段落０３２０の表３には、本１発明の発明特定事項を満たす実施例Ａ１～Ａ３のものが、本１発明の「ＬＤＰ数やヘイズの低減効果に優れた研磨用組成物を提供する」という課題を解決できたことを裏付ける試験結果が示されている。 そして、この表３の試験結果を普通に解釈すれば、本１発明の特許請求の範囲に記載された発明特定事項の全て（なかんずく、上記１．（２）に示したＡ～Ｆの６つの条件）を満たせば、本１発明の課題を解決できると認識できる。 そうすると、特許異議申立人の主張する「平均ＳＰ値１７．５以下」という条件を充足しない態様を包含するか否かにかかわりなく、本１発明は、その課題を解決できるものであると認識できる。 したがって、（６－２）の「平均ＳＰ値１７．５以下を充足しない態様を包含する本件発明が、課題を解決しない態様を含むことは明らかである。」という特許異議申立人の主張する申立て理由によっては、本１発明がサポート要件に違反するとはいえない。 オ （６－３）けん化度について 本件訂正の訂正事項４により訂正前の「水酸基量が４ｍｍｏｌ／ｇ以上２１ｍｍｏｌ／ｇ以下である」との条件は、訂正後の「水酸基量が１３．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１４．７ｍｍｏｌ／ｇ以下である」との条件に減縮され、訂正事項６により訂正前の「全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は１０％以上である」との条件は、訂正後の「全繰返し単位のモル数に占める前記繰返し単位Ｂのモル数は２２％以上２７％以下である」との条件に減縮されているところ、これは水溶性ポリマーのけん化度が７３％以上７８％以下に限定したことと技術的に同義であり、当該減縮後の条件の範囲は、本件特許明細書の段落０３２０の表３の実施例Ａ１～Ａ３にある範囲と等しいものである。 してみれば、本１発明は、本件特許明細書の実施例において具体的に開示されている７３モル％と７８モル％のけん化度を、その下限値と上限値とした範囲のものに限定されているといえるものであり、具体的な試験結果で裏付けられた下限値と上限値の間の数値範囲のものにおいても、本１発明の課題解決が可能であると推認することに不合理な点があるとはいえない。 したがって、（６－３）の「本件明細書の実施例において具体的に開示されているけん化度は７３モル％と７８モル％のもののみであり、領域としても課題を解決できるものとは認められない。」という特許異議申立人の主張する申立て理由によっては、本１発明がサポート要件に違反するとはいえない。 カ （６－４）塩基性（条件）の規定について 塩基性条件が、研磨用組成物のヘイズやＬＰＤの性能を大きく左右するものであるとしても、本１発明は、上記１．（２）に示したＡ～Ｆの条件に着目して、これらの条件Ａ～Ｆを満たすことで、塩基性条件などの諸条件が等しい場合に、より優れた効果（性能）が発揮され、所望の課題を解決できると認識できるに至ったといえるものである。 すなわち、塩基性条件は、課題を解決するための手段として位置づけられておらず、その範囲が広すぎるか否かの問題にならないので、塩基性条件の規定の有無はサポート要件違反の適否に関係がない。 したがって、（６－４）の「研磨用組成物の性状として、塩基性（条件）であることが規定されていない本件発明１の全範囲において、課題を解決できるものとは認められない。」という特許異議申立人の主張する申立て理由によっては、本１発明がサポート要件に違反するとはいえない。 キ サポート要件のまとめ 以上総括するに、上記（６－１）～（６－４）の点に関して、本１発明並びに本２～３及び本６発明が、発明の詳細な説明に記載されていないとは認められず、発明の詳細な説明の記載により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できない範囲のものであるとも認められないので、本件特許の特許請求の範囲の記載が、サポート要件に違反するとは認められない。 したがって、本件特許の請求項１～３及び６の記載は、特許を受けようとする発明が発明の詳細な説明に記載されたものであるといえるから、特許法第３６条第６項第１号に適合する。 （６）申立理由７（実施可能要件）について ア 申立理由７の概要 特許異議申立人が主張する申立理由７（実施可能要件）は、ＳＰ値１４．５以上の繰返し単位Ｂとしてどのようなものが含まれるか不明であり、どのように繰返し単位Ｂを決定すればよいか、本件明細書を見てもわからないので、当業者が本件発明を実施できない、というものである。 〔なお、申立理由７は、令和２年１月２８日付け取消理由通知、同年７月１５日付け取消理由通知（決定の予告）、及び同年１２月１日付け取消理由通知（決定の予告）で採用している。〕 しかしながら、本件訂正の訂正事項３により、訂正前の請求項１の「水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂを含む」と記載部分が「水酸基を含まずＳＰ値が１４．５未満の繰返し単位Ｂとして酢酸ビニル単位のみを含む」に訂正された。 してみると、本１発明の「繰返し単位Ｂ」は「酢酸ビニル単位」のみに特定されているので、当該「繰返し単位Ｂ」としてどのようなものが含まれるのかが不明であるとはいえない。 したがって、本件特許の発明の詳細な説明の記載は、当業者が本１～３及び本６発明の実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものではないとはいえないから、特許法第３６条第４項第１号に適合しないとはいえない。 第６ まとめ 以上総括するに、取消理由通知に記載した取消理由並びに特許異議申立人が申し立てた理由及び証拠によっては、本１～３及び本６発明に係る特許を取り消すことはできない。 また、他に本１～３及び本６発明に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 さらに、訂正前の請求項４及び５は削除されているので、特許法第１２０条の８第１項で準用する同法第１３５条の規定により、請求項４及び５に係る特許についての特許異議の申立てを却下する。 よって、結論のとおり決定する。