審決検索MVP
← 検索一覧に戻る
特許訂正審判

2019-390116

半導体基板の切断方法及び半導体基板の切断装置

審判番号
2019-390116
法域
特許
審判種別
訂正審判(訂正の審決)
出願番号
特願2010-256217
登録番号
特許第5953645号(P5953645)
請求日
2019年11月21日
審決日
2020年02月18日
公報発行日
2020年05月29日
結論
訂正認容
当事者
  • 【請求人】株式会社 東京精密
  • 【請求人代理人】田▲崎▼ 聡
  • 【請求人代理人】鈴木 慎吾
  • 【請求人代理人】山崎 哲男
  • 【請求人代理人】細川 文広
審判長/審判官
  • 審判長 辻本 泰隆
  • 審判官 加藤 浩一
  • 審判官 小田 浩
分類
P141 .851-Y (H01L) / P141 .854-Y (H01L) / P141 .855-Y (H01L) / P141 .856-Y (H01L) / P141 .841-Y (H01L)
根拠条文(結論部分から自動抽出・参考)
特許法126条1項特許法126条5項
条文(本文から自動抽出・参考)
特許法第126条第1項、特許法第126条第5項、特許法第126条第7項
データ出所
審決公報(SGML)

事件の表示

特許第5953645号に関する訂正審判事件について、次のとおり審決する。

結論

【結 論】 特許第5953645号の特許請求の範囲を本件審判請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項4について訂正することを認める。

理由

【理 由】 1 請求の要旨 本件審判請求の要旨は,特許第5953645号(平成22年11月16日の特許出願であって,平成28年6月24日に設定登録)の特許請求の範囲を,本件審判請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり,訂正後の請求項4について訂正することをを求めるものである。 2 訂正事項 (1)訂正事項1 特許請求の範囲の請求項4を削除する。 3 当審の判断 訂正事項1は訂正前の請求項4を削除するものである。 従って,特許請求の範囲を減縮しようとするものといえるから,訂正事項1は,特許法第126条第1項ただし書第1号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。 そして,訂正事項1は,願書に最初に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載された事項の範囲内のものであって,かつ,実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではないから,特許法第126条第5項及び第6項の規定に適合するものである。 さらに,訂正後における特許請求の範囲に記載されている事項により構成される発明は,いずれも,訂正前の発明を減縮したものに該当するから,特許要件の適否について見直すべき新たな事情は存在せず,独立特許要件を満たすから,特許法第126条第7項に適合するものである。 4 むすび したがって,本件審判の請求は,特許法第126条第1項ただし書き第1号に掲げる事項を目的とするものに該当し,かつ,同条第5項ないし第7項の規定に適合する。 よって,結論のとおり審決する。

審決本文(J-PlatPat)

J-PlatPatの審決検索トップを開きます。番号入力で「審判番号」を選び、下の番号を貼り付けて検索してください。

J-PlatPat 審決検索を開く
2019-390116

番号・当事者・条文・審決分類・商標の称呼が一致(または近い)審決を機械的に集めた候補です。判断内容は各審決の本文でご確認ください。

同じ当事者の審決105件(株式会社 東京精密)
  • 2025-012531拒絶査定不服審判 / 2026-07-29 / 原査定取消(特許/登録すべき)半導体ウエハの温度制御装置及び半導体ウエハの温度制御方法
    同じ当事者: 株式会社 東京精密
  • 2024-010140拒絶査定不服審判 / 2026-06-11 / 原査定取消(特許/登録すべき)亀裂検出装置
    同じ当事者: 株式会社 東京精密
  • 2025-001678拒絶査定不服審判 / 2026-04-15 / 原査定取消(特許/登録すべき)ツールホルダ装着状態検出方法及び装置、並びに工作機械
    同じ当事者: 株式会社 東京精密
  • 2024-014042拒絶査定不服審判 / 2026-03-31 / 請求不成立内面形状測定機、及び内面形状測定機のアライメント方法
    同じ当事者: 株式会社 東京精密
  • 2024-018980拒絶査定不服審判 / 2026-01-19 / 原査定取消(特許/登録すべき)切断用ブレード
    同じ当事者: 株式会社 東京精密
検索でもっと見る →
同じ論点・分野の審決(審決分類)55件(841・H01L、851・H01L、854・H01L ほか)
  • 2025-390033訂正審判 / 2025-06-23 / 訂正認容エッチング方法、プラズマ処理装置、処理ガス、デバイスの製造方法、プログラム、及び…
    共通の審決分類: 841・H01L、851・H01L、854・H01L、855・H01L ほか1件
  • 2025-390035訂正審判 / 2025-06-06 / 訂正認容エッチング方法及びプラズマ処理装置
    共通の審決分類: 841・H01L、851・H01L、854・H01L、855・H01L ほか1件
  • 2025-390034訂正審判 / 2025-05-23 / 訂正認容エッチング方法
    共通の審決分類: 841・H01L、851・H01L、854・H01L、855・H01L ほか1件
  • 2018-390105訂正審判 / 2018-12-04 / 訂正認容発光装置と表示装置
    共通の審決分類: 841・H01L、851・H01L、854・H01L、855・H01L ほか1件
  • 2018-390107訂正審判 / 2018-10-24 / 訂正認容マイクロリソグラフィ投射露光装置の投射対物レンズ
    共通の審決分類: 841・H01L、851・H01L、854・H01L、855・H01L ほか1件

メモ・タグ(非公開)

あなただけに表示されます。審決本文の公開範囲は変わりません。

メモとタグは Pro の機能です。ログイン/Proでメモを保存