2024-014042

特願２０２０－４６５０４「内面形状測定機、及び内面形状測定機のアライメント方法」拒絶査定不服審判事件〔令和３年９月２７日出願公開、特開２０２１－１４８４９８〕について、次のとおり審決する。

結 論 本件審判の請求は、成り立たない。

理 由 １ 手続の経緯 本願は、令和２年３月１７日の出願であって、その手続の経緯の概略は、次のとおりである。 令和５年 ９月１９日付け：拒絶理由通知書 同年１１月２４日 ：意見書、手続補正書の提出 令和６年 １月１７日付け：拒絶理由通知書 同年 ３月１３日 ：意見書、手続補正書の提出 同年 ５月３１日付け：拒絶査定（以下「原査定」という。） （同年 ６月 ４日 ：原査定の謄本の送達） 同年 ９月 ２日 ：審判請求書の提出 ２ 本願発明について (１) 本願発明の認定 本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、令和６年３月１３日に提出された手続補正書により補正された請求項１に記載された次に示す事項により特定されるとおりのものである。 「【請求項１】 第１の方向に平行な回転軸を中心に回転する回転体と、 前記回転体に支持される直動傾斜ステージであって、前記回転体に対する前記第１の方向に直交する平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更可能な直動傾斜ステージと、 前記第１の方向に平行に延びる接触式又は非接触式のプローブであって、第１の直動機構によって前記第１の方向に移動可能なプローブにより、前記直動傾斜ステージに固定されて前記回転体とともに回転するワークの穴の内側面の変位を検出する変位検出器と、 光源から前記第１の方向に出射した光であって、前記ワークの前記穴の第１の開口から入射して前記穴を通過した光の光量を取得する光量取得部と、 前記取得した光量に基づく前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれ情報を出力する出力部と、 前記ずれ情報に基づいて前記直動傾斜ステージを制御し、前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれが目標値以内となるように前記平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更するステージ制御部と、 を備える内面形状測定機。」 (２) 本願発明の分説 検討の便宜上、本願発明の構成を次のように構成Ｘと構成Ａから構成Ｆまでに分説する。また、参考図として、本願の【図１】を元に部材名を記入したものを掲載する。 ＜本願発明の分説＞ Ａ 第１の方向に平行な回転軸を中心に回転する回転体と、 Ｂ 前記回転体に支持される直動傾斜ステージであって、前記回転体に対する前記第１の方向に直交する平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更可能な直動傾斜ステージと、 Ｃ 前記第１の方向に平行に延びる接触式又は非接触式のプローブであって、第１の直動機構によって前記第１の方向に移動可能なプローブにより、前記直動傾斜ステージに固定されて前記回転体とともに回転するワークの穴の内側面の変位を検出する変位検出器と、 Ｄ 光源から前記第１の方向に出射した光であって、前記ワークの前記穴の第１の開口から入射して前記穴を通過した光の光量を取得する光量取得部と、 Ｅ 前記取得した光量に基づく前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれ情報を出力する出力部と、 Ｆ 前記ずれ情報に基づいて前記直動傾斜ステージを制御し、前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれが目標値以内となるように前記平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更するステージ制御部と、 Ｘ を備える内面形状測定機。 ＜参考図＞ 【図１】 ［図：0001435683000001.jpg］ (３) 課題・作用効果等に関連する明細書の発明の詳細な説明の記載 本願明細書の発明の詳細な説明の記載のうち、発明が解決しようとする課題及び作用効果等に関連する記載を抜粋すると、次の記載がある。なお、下線は、当合議体において付したものである。 「【技術分野】 【０００１】 本発明は、ワークに形成された細穴の内面形状を測定するための技術に関する。 【背景技術】 【０００２】 接触式又は非接触式のプローブとワークとを相対移動させることでワークの形状を測定する形状測定装置において、回転軸を中心にワークを回転させてワークの真円度を測定する内面形状測定機が知られている。内面形状測定機では、回転軸とワークの軸心とを一致させる必要がある。 【０００３】 特許文献１には、回転テーブル上に載置されたワークの孔の内周部に検出器の接触子を当接させて孔の真円度を測定する技術が開示されている。特許文献１に記載の技術では、検出器の接触子をワークの外周面に当接させ、回転テーブルを回転させながら低倍率でワークの振れを見て、振れが小さくなるようにワークの載置位置を調整している。 …（中略）… 【発明の概要】 【発明が解決しようとする課題】 【０００５】 内面形状測定機を用いて極小径穴を測定する場合、極小径穴のアライメントが課題となる。即ち、プローブを極小径穴に挿入してワークを回転させると、プローブと穴壁とが衝突するという課題があった。 【０００６】 これに対し、特許文献１に記載の技術のように、穴と同軸形状部分を利用してアライメントする場合は、測定可能な測定対象物の形状に制限があった。 【０００７】 また、作業者が観察顕微鏡で確認しながら挿入する場合には、作業者の熟練が必要となる。この場合、自動化が困難であり、操作ミスによってプローブと穴壁とが衝突する可能性があった。 【０００８】 本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、穴の位置を適切にアライメントする内面形状測定機、及び内面形状測定機のアライメント方法を提供することを目的とする。 【０００９】 上記目的を達成するための内面形状測定機の一の態様は、第１の方向に平行な回転軸を中心に回転する回転体と、回転体に支持される直動傾斜ステージであって、回転体に対する第１の方向に直交する平面内の位置及び平面に対する傾斜を変更可能な直動傾斜ステージと、第１の方向に平行に延びる接触式又は非接触式のプローブであって、第１の直動機構によって第１の方向に移動可能なプローブにより、直動傾斜ステージに固定されて回転体とともに回転するワークの細穴の内側面の変位を検出する変位検出器と、光源から第１の方向に出射した光であって、ワークの細穴の第１の開口から入射して細穴を通過した光の光量を取得する光量取得部と、取得した光量に基づく細穴の中心軸と回転軸とのずれ情報を出力する出力部と、を備える内面形状測定機である。 【００１０】 本態様によれば、出力されたずれ情報に基づいて穴の位置を適切にアライメントすることができる。穴が５００μｍ以下の径を有する極小径穴である場合に特に有効である。 【００１１】 ずれ情報に基づいて直動傾斜ステージを制御し、細穴の中心軸と回転軸とのずれを目標値以内にするステージ制御部を備えることが好ましい。これにより、穴の位置を自動的にアライメントすることができる。 …（中略）… 【発明の効果】 【００２６】 本発明によれば、穴の位置を適切にアライメントすることができる。」 ３ 原査定における拒絶の理由の概要 原査定の拒絶の理由のうち、本願発明に対する理由１（進歩性の欠如）の概要は、次のとおりである。 理由１（進歩性の欠如） 本願発明は、その出願前に発行された下記の引用文献に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない。 記 引用文献１．特開２０１８－１６３０９３号公報（主たる引用文献） 引用文献２．特開２０１０－１０７４１３号公報 引用文献３．特開平９－２７３９２６号公報（周知技術を示す文献） ４ 引用文献の記載事項及び引用発明等の認定 (１) 引用文献１の記載事項及び引用発明の認定 ア 引用文献１に記載された事項 原査定の拒絶の理由において引用された、本願の出願前に発行された文献である特開２０１８－１６３０９３号公報（以下「引用文献１」という。）には、次の記載がある。なお、当合議体により、後記イの引用発明の認定に直接用いる記載に下線を付した。 (ア) 【０００１】～【０００８】 「【技術分野】 【０００１】 本発明は検出器、表面性状測定機、及び真円度測定機に係り、特に測定を高速化及び自動化する技術に関する。 【背景技術】 【０００２】 真円度測定機において、測定対象物の外周面を測定する際には、検出器本体と測定対象 物との衝突を防止するため、検出器本体から一定の角度を持たせた姿勢のスタイラスを使用していた。このような検出器において、続いて測定対象物の細穴の内側面を測定する際には、スタイラスと測定対象物との衝突を防止するために、スタイラス角度を検出器の軸線方向に沿った姿勢に変更する必要があった。 【０００３】 また、測定対象物の上面を測定する際と外周面に設けられた細溝の上下面を測定する際にも、同様の姿勢変更が必要であった。 【０００４】 従来、このような姿勢変更は測定者が手動で実施していたために時間がかかり、またこれらの測定を自動的に実施することは困難であるという課題があった。 【０００５】 このような課題に対し、特許文献１には、この姿勢変更を自動的に実施するために、真円度測定機本体に固定された突起物を設け、この突起物にスタイラスを当接させることで姿勢変更を行う真円度測定機が提案されている。 【先行技術文献】 【特許文献】 【０００６】 【特許文献１】 特開２０１６－６５７５１号公報 【発明の概要】 【発明が解決しようとする課題】 【０００７】 しかしながら、特許文献１に記載の装置では、姿勢変更のための突起物の追加が必要となるという問題点がある。また、突起物に当接させて目的の姿勢へ移行させるための制御等によりシステムが複雑化し、コストがかかるという問題点もあった。さらに、姿勢変更のための時間が必要であるという問題もあった。 【０００８】 本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、複数の面を自動的に測定し、測定に要する時間を短縮する検出器、表面性状測定機、及び真円度測定機を提供することを目的とする。」 (イ) 【００２３】～【００３３】、【図１】 「【００２３】 ＜真円度測定機の構成＞ 図１は、本実施形態に係る表面性状測定機の全体構成を示す図であり、図１（Ａ）は正面図、図１（Ｂ）は側面図である。また、図１（Ｃ）は、図１（Ｂ）に示す状態から姿勢を変更した状態の側面図である。図１に示すように、真円度測定機１０は、本体ベース（基台）１２上に測定対象物となるワークＷを載置する回転ステージ（回転台）１４が設けられている。回転ステージ１４は、Ｘ方向微動つまみ（不図示）及びＹ方向微動つまみ（不図示）によってＸ方向及びＹ方向に微動送りがされ、Ｘ方向傾斜つまみ（不図示）及びＹ方向傾斜つまみ（不図示）によってＸ方向及びＹ方向に傾斜が調整されるようになっている。」 「【図１】 ［図：0001435683000002.jpg］ 」 「【００２４】 なお、Ｘ方向、Ｙ方向、及びＺ方向は互いに直交する方向であり、Ｘ方向は水平方向（後述するアーム２０の移動方向）、Ｙ方向はＸ方向に直交する水平方向、Ｚ方向は鉛直方向（後述するキャリッジ１８の移動方向）である。 【００２５】 本体ベース１２の内部には、回転ステージ１４に連結されるモータ（不図示）が備えられている。回転ステージ１４は、Ｚ方向に平行な回転軸を中心に回転する。 【００２６】 回転ステージ１４の上面には、ワークＷが載置される。図１（Ａ）及び（Ｂ）に示すワークＷは、一定の外径と内径とを有する円筒形状を有している。ワークＷは、その中心軸が回転ステージ１４の回転軸と同軸上となるように載置される。回転ステージ１４に載置されたワークＷは、回転ステージ１４とともに回転軸を中心に回転する。 【００２７】 また、本体ベース１２上には、鉛直方向（Ｚ方向）に延びるコラム（支柱）１６が立設され、コラム１６にはキャリッジ１８が鉛直方向（Ｚ方向）に移動自在に支持されている。キャリッジ１８は、モータ（不図示）の駆動によりＺ方向に移動する。 【００２８】 キャリッジ１８には、アーム（径方向移動軸）２０が水平一軸方向（Ｘ方向）に移動自在に支持されている。アーム２０は、モータ（不図示）の駆動によりＸ方向に移動する。 【００２９】 また、アーム２０は、Ｘ方向に平行な旋回軸周りに旋回自在に支持されている。 【００３０】 アーム２０の先端には検出器ホルダ２２が設けられており、検出器ホルダ２２には検出器２４が着脱可能に取り付けられる。検出器２４は、例えば、差動変圧器を用いた電気マイクロメータが使用される。検出器２４の詳細については後述する。 【００３１】 キャリッジ１８のＺ方向の移動及びアーム２０のＸ方向の移動により、検出器２４のＺ方向及びＸ方向の位置を変更することができる。また、アーム２０の旋回により、検出器２４の向きを変更することができる。 【００３２】 図１（Ｂ）に示した状態は、検出器２４の検出器軸ａはＺ方向に平行であり、検出器２４の第１の姿勢と呼ぶ。また、図１（Ｃ）は、図１（Ｂ）に示した状態からアーム２０を図中左回りに９０度旋回させた状態を示している。この状態では、検出器２４の検出器軸ａはＹ方向に平行であり、検出器２４の第２の姿勢と呼ぶ。 【００３３】 このように構成された真円度測定機１０において、回転ステージ１４（相対移動部の一例）を回転することで、ワークＷと検出器２４とを相対的に移動させる。そして、検出器２４の検出結果に基づいて、ワークＷの表面性状を測定する（表面性状測定部の一例）ことができる。特に、検出器２４の第１の姿勢において、ワークＷの円柱外側面、円筒内側面、及び細穴内側面の真円度を測定することができる。また、第２の姿勢において、ワークＷの上面及び細溝上下面の表面性状を測定することができる。」 (ウ) 【００４５】～【００６１】、【図７】、【図８】 「【００４５】 ＜検出器の構成＞ 図７は、本実施形態に係る検出器２４の構成の一例を示す図である。検出器２４は、円筒状の検出器本体１００、スタイラス１０２、接触子１０４、保持部１０６、回転軸１０８、測定部１１０、及びアーム部１１２を有する。」 「【図７】 ［図：0001435683000003.jpg］ 」 「【００４６】 検出器２４は、スタイラス１０２が回転変位する際の接触子１０４の主たる変位方向（Ｘ方向）及び回転軸１０８に直交する軸である検出器軸ａを有する。 【００４７】 検出器本体１００（本体部の一例）は、円筒形状であり、中心軸である本体軸ｂを有する。検出器本体１００は、保持部１０６及び測定部１１０を収納している。なお、本実施形態において検出器軸ａと本体軸ｂとは同軸上にある。 【００４８】 保持部１０６は、スタイラス１０２を保持しており、回転軸１０８によって揺動自在に保持される。ここでは、保持部１０６は、図中紙面に垂直な（Ｙ方向に平行な）回転軸１０８まわりに回転自在（揺動自在）に検出器本体１００に軸支されている。また、スタイラス１０２は、不図示のバネにより図中左右方向に（検出器軸ａに対して直交する方向に）付勢される。 【００４９】 検出器本体１００からは、保持部１０６によって保持されたスタイラス１０２が延出している。スタイラス１０２は、ワークＷの表面に接触する接触子１０４を先端に支持している。スタイラス１０２と接触子１０４とを介在する部材を設けてもよい。 【００５０】 スタイラス１０２は、接触子１０４を有する一端から図中上方向（検出器軸ａと同方向）に延びる第１部分１０２Ａと、第１部分１０２Ａの他端において第１部分１０２Ａと接続され、保持部１０６に保持される第２部分１０２Ｂとを有している。 【００５１】 第１部分１０２Ａの中心軸であるスタイラス軸ｃは、本体軸ｂとは平行である。また、スタイラス軸ｃは、検出器本体１００の外周面の図中下方向（本体軸ｂと同方向）に沿った延長面である仮想延長面Ｓ上に配置されている。 【００５２】 すなわち、保持部１０６は、スタイラス軸ｃと本体軸ｂ（検出器軸ａ）とを平行に、かつスタイラス軸ｃと本体軸ｂ（検出器軸ａ）とを本体軸ｂ（検出器軸ａ）及び回転軸１０８に直交する方向（第１方向の一例）にオフセットしてスタイラス１０２の第１部分１０２Ａを保持している。また、そのオフセット量は、検出器本体１００の円筒形状の半径に等しい。 【００５３】 第２部分１０２Ｂは、第１部分１０２Ａと接続され、図中右方向へ延びる第３部分１０２Ｃと、第３部分１０２Ｃと接続され、図中上方向へ延びて保持部１０６に保持される第 ４部分１０２Ｄとを有している。ここでは、第１部分１０２Ａと第２部分１０２Ｂとを一体に形成しているが、別部材としてもよい。 【００５４】 接触子１０４は、図中右方向から左方向（Ｘ方向）に、ワークＷに接触する。ワークＷに対する接触子１０４の接触点は、仮想延長面Ｓに対して検出器本体１００とは反対側に存在する。すなわち、本体軸ｂとワークＷに対する接触子１０４の接触点との水平方向（第１方向）の距離は、本体軸ｂと検出器本体１００の外周面との水平方向の距離よりも大きい。 【００５５】 保持部１０６には、保持部１０６の回転に伴って変位するアーム部１１２が設けられている。スタイラス１０２の回転変位によって保持部１０６が回転変位し、この変位がアーム部１１２を介して測定部１１０に伝えられる。 【００５６】 測定部１１０は、いわゆるてこ式検出器を用いている。測定部１１０は、アーム部１１２の変位量、すなわちスタイラス１０２の回転変位量に基づいて接触子１０４の図中左右方向の変位を不図示のセンサにおいて測定する。例えば、アーム部１１２が検出器軸ａと平行になる位置における出力を０とし、図７の右側にアーム部１１２が変位した場合にはプラスの値を出力し、左側にアーム部１１２が変位した場合にはマイナスの値を出力する。 【００５７】 なお、ここでは測定部１１０が双方向型検出器の場合を示したが、これに限らず、片方向のみの検出機能を有する片方向型検出器で構成されてもよい。この場合、ワークＷの測定面に対して接触子１０４を接触させる方向（向き）に応じて検出器２４の向きを変更すればよい。 【００５８】 このように構成された検出器２４によれば、スタイラス１０２の姿勢変更を行うことなく、ワークＷの細穴内側面の真円度測定、円柱外側面の測定、及び円筒内側面の測定を行うことができる。すなわち、図８（Ａ）に示すように、ワークＷの細穴内側面の真円度測定において、スタイラス１０２とワークＷが衝突することはなく、図８（Ｂ）及び図８（Ｃ）に示すように、ワークＷの円柱外側面の測定及び円筒内側面の測定において、検出器本体１００の下端１００ＡとワークＷが衝突することもない。」 「【図８】 ［図：0001435683000004.jpg］ 」 「【００５９】 したがって、複数の面を自動的に測定し、測定に要する時間を短縮することができる。 【００６０】 また、ワークＷに対する接触子１０４の接触点Ｐ１（図６（Ａ）参照）が接触子１０４の常に同じ位置になるので、接触子１０４の摩耗による変化に対して高精度な測定を維持することができる。 【００６１】 さらに、後述する円弧補正が一定となるため、高精度な測定を行うことができる。」 イ 引用発明の認定 前記アに摘記した引用文献１の記載事項を総合すると、引用文献１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。なお、認定の根拠となる記載箇所を括弧内に示した。 ＜引用発明＞ 「真円度測定機１０であって、（【００２３】） 本体ベース（基台）１２上に測定対象物となるワークＷを載置する回転ステージ（回転台）１４が設けられており、回転ステージ１４は、Ｘ方向微動つまみ及びＹ方向微動つまみによってＸ方向及びＹ方向に微動送りがされ、Ｘ方向傾斜つまみ及びＹ方向傾斜つまみによってＸ方向及びＹ方向に傾斜が調整されるようになっており、（【００２３】） ここで、Ｘ方向、Ｙ方向、及びＺ方向は互いに直交する方向であり、Ｘ方向は水平方向（後述するアーム２０の移動方向）、Ｙ方向はＸ方向に直交する水平方向、Ｚ方向は鉛直方向（後述するキャリッジ１８の移動方向）であり、（【００２４】） 本体ベース１２の内部には、回転ステージ１４に連結されるモータが備えられており、回転ステージ１４は、Ｚ方向に平行な回転軸を中心に回転し、（【００２５】） 回転ステージ１４の上面には、ワークＷが載置され、ワークＷは、一定の外径と内径とを有する円筒形状を有しており、ワークＷは、その中心軸が回転ステージ１４の回転軸と同軸上となるように載置され、回転ステージ１４に載置されたワークＷは、回転ステージ１４とともに回転軸を中心に回転し、（【００２６】） 本体ベース１２上には、鉛直方向（Ｚ方向）に延びるコラム（支柱）１６が立設され、コラム１６にはキャリッジ１８が鉛直方向（Ｚ方向）に移動自在に支持されており、キャリッジ１８は、モータの駆動によりＺ方向に移動し、（【００２７】） キャリッジ１８には、アーム（径方向移動軸）２０が水平一軸方向（Ｘ方向）に移動自在に支持されており、アーム２０は、モータの駆動によりＸ方向に移動し、Ｘ方向に平行な旋回軸周りに旋回自在に支持されており、（【００２８】、【００２９】） アーム２０の先端には検出器ホルダ２２が設けられており、検出器ホルダ２２には検出器２４が着脱可能に取り付けられ、検出器２４は、例えば、差動変圧器を用いた電気マイクロメータが使用され、（【００３０】） 検出器２４は、円筒状の検出器本体１００、スタイラス１０２、接触子１０４、保持部１０６、回転軸１０８、測定部１１０、及びアーム部１１２を有し、（【００４５】） 検出器本体１００からは、保持部１０６によって保持されたスタイラス１０２が延出しており、スタイラス１０２は、ワークＷの表面に接触する接触子１０４を先端に支持しており、（【００４９】） スタイラス１０２は、接触子１０４を有する一端から検出器軸ａと同方向に延びる第１部分１０２Ａと、第１部分１０２Ａの他端において第１部分１０２Ａと接続され、保持部１０６に保持される第２部分１０２Ｂとを有しており、（【００５０】） 第１部分１０２Ａの中心軸であるスタイラス軸ｃは、本体軸ｂ（検出器軸ａ）とは平行であり、（【００５１】、【００５２】） キャリッジ１８のＺ方向の移動及びアーム２０のＸ方向の移動により、検出器２４のＺ方向及びＸ方向の位置を変更することができ、また、アーム２０の旋回により、検出器２４の向きを変更することができ、（【００３１】） 回転ステージ１４を回転することで、ワークＷと検出器２４とを相対的に移動させ、そして、検出器２４の検出結果に基づいて、ワークＷの表面性状を測定することができ、特に、検出器２４の検出器軸ａがＺ方向に平行である検出器２４の第１の姿勢において、ワークＷの円柱外側面、円筒内側面、及び細穴内側面の真円度を測定することができる、（【００３３】、【００３２】） 真円度測定機１０。（【００２３】）」 (２) 引用文献２の記載事項及び引用文献２技術事項の認定 ア 引用文献２に記載された事項 原査定の拒絶の理由において引用された、本願の出願前に発行された文献である特開２０１０－１０７４１３号公報（以下「引用文献２」という。）には、次の記載がある。なお、下線は当合議体が付したものであり、以下同様である。 (ア) 【０００１】～【０００８】 「【技術分野】 【０００１】 本発明は、ワークの形状を測定する形状測定装置に関する。 【背景技術】 【０００２】 接触式の形状測定装置において、形状測定に用いられる接触式プローブは、鉛直下方に延びる棒状のスタイラス、及びスタイラスの下端に設けられた接触子を有する。測定時、接触子がワーク（被測定物）の近傍に位置するように、スタイラスは、その姿勢を保持したまま、Ｘ－Ｙ－Ｚ軸方向に走査される。形状測定装置は、接触子がワークに接触した位置情報を収集し、それら位置情報に基づきワークの形状を求める。 【０００３】 接触式プローブは、上記のような構成を有しているため、ワークの孔の内面形状を測定する場合、その孔がスタイラスの軸と平行となるように、ワークが載置されている必要がある。 【０００４】 特許文献１には、ワークの水平出し（レベリング）を行う方法が、開示されている。特許文献１に記載の方法は、接触式プローブによりワークの真円度を測定し、その真円度に基づき、ワークの水平出しを行うものである。ここで、例えば、ワークは、その水平面に垂直な方向に延びる貫通孔を有しているものとする。このような場合、上記方法による水平出しと同時に、ワークの貫通孔は、スタイラスの軸と平行にすることができる。 【０００５】 【特許文献１】 特開２００１－２０１３４１号公報 【発明の開示】 【発明が解決しようとする課題】 【０００６】 しかしながら、上記特許文献１に記載の方法では、真円度を正確に測定する必要があり、ワークの水平出しに多くの時間を要する。また、特許文献１に記載の方法では、測定対象のワークは、その貫通孔が水平面に対して垂直に設けられた円柱状に限られてしまう。 【０００７】 真円度を測定することなく、貫通孔の口元を接触プローブにて測定し、貫通孔をスタイラスの軸と平行にする方法も考えられるが、その処理には多くの時間を要する。 【０００８】 本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであって、短時間で貫通孔を有するワークを、その貫通孔が所定軸方向に平行となるように、載置可能に構成された形状測定装置を提供することを目的とする。」 (イ) 【００１５】～【００２６】、【図１】、【図２】 「【００１５】 ［第１実施形態］ （第１実施形態に係る形状測定装置の構成） 図１は、本実施形態に係る形状測定装置（三次元測定装置）の全体構成を示す斜視図である。この形状測定装置は、非接触型の測定機本体１と、この測定機本体１を駆動制御すると共に、必要なデータ処理を実行するコンピュータシステム２と、計測結果をプリントアウトするプリンタ３とにより構成されている。」 「【図１】 ［図：0001435683000005.jpg］ 」 「【００１６】 測定機本体１は、次のように構成されている。即ち、架台１１上には、測定テーブル１３が装着されており、この測定テーブル１３は、図示しないＹ軸駆動機構によってＹ軸方向に駆動される。架台１１の両側縁中央部には上方に延びる支持アーム１４、１５が固定されており、この支持アーム１４、１５の両上端部を連結するようにＸ軸ガイド１６が固定されている。このＸ軸ガイド１６には、撮像ユニット１７が支持されている。撮像ユニット１７は、図示しないＸ軸駆動機構によってＸ軸ガイド１６に沿って駆動される。撮像ユニット１７の下端部には、ＣＣＤカメラ１８ａが測定テーブル１３と対向するように装着されている。また、撮像ユニット１７の内部には、図示しない照明装置及びフォーカシング機構の他、ＣＣＤカメラ１８ａのＺ軸（第１軸）方向の位置を移動させるＺ軸駆動機構と、撮影位置でのＣＣＤカメラ１８ａのＺ方向の位置を検知する位置センサ１９が内蔵されている。 【００１７】 さらに、撮像ユニット１７の下方には、接触式プローブユニット１８ｂが設けられている。図２は、後述する回転テーブル１３ａの近傍の概略拡大図である。接触式プローブユニット１８ｂは、図２に示すように、Ｚ軸方向に平行に延びる棒状のスタイラス１８ｂａ、及びスタイラス１８ｂａの下方先端に設けられた接触子１８ｂｂを有する。接触式プローブユニット１８ｂは、スタイラス１８ｂａ及び接触子１８ｂｂをＸ軸－Ｙ軸－Ｚ軸に移動可能に構成されている。接触式プローブユニット１８ｂは、接触子１８ｂｂがワーク１２に接触することによりその位置情報を取得する。」 「【図２】 ［図：0001435683000006.jpg］ 」 「【００１８】 測定テーブル１３は、図２に示すように、Ｚ軸方向に平行にその上方に光を照射する光源１３ｂを有する。例えば、測定テーブル１３は、光を透過する透明あるいは半透明の筐体であって、光源１３ｂは、そのテーブル１３の内部に設けられている。 【００１９】 ワーク１２は、図２に示すように、ステージ１３上に載置された回転テーブル１３ａに取り付けられている。ワーク１２は、円柱状であり、その中心に貫通孔１２ａを有する。 【００２０】 回転テーブル１３ａは、その上面にワーク１２を取り付け可能に構成されている。回転テーブル１３ａは、Ｚ軸に直交するＸ軸周り及びＹ軸周りに回転可能に構成されている。つまり、回転テーブル１３ａは、その上面に取り付けたワーク１２を回転させ、ＸＹ平面に対して傾斜可能に構成されている。このような回転テーブル１３ａの動作は、後述するＣＰＵ（制御部）３５の制御に従って行われる。なお、回転テーブル１３ａは、例えば透明あるいは半透明で構成され、光源１３ｂからの光を透過するように構成されている。 【００２１】 回転テーブル１３ａを透過した光は、図２に示すように、ワーク１２の貫通孔１２ａを介してＣＣＤカメラ１８ａに照射される。ＣＣＤカメラ１８ａは、光学系１８ａａ、及び光学系１８ａａを介した光を受光する受光素子１８ａｂにて構成されている。 【００２２】 コンピュータシステム２は、図１に示すように、コンピュータ本体２１、キーボード２２、ジョイスティックボックス（以下、Ｊ／Ｓと呼ぶ）２３、マウス２４及びＣＲＴ２５を備えて構成されている。コンピュータ本体２１は、例えば図３に示すように構成されている。即ち、ＣＣＤカメラ１８ａから入力されるワーク１２の画像情報は、インタフェース（以下、Ｉ／Ｆと呼ぶ）３１を介して画像メモリ３２に格納される。 …（中略）… 【００２４】 一方、キーボード２２、Ｊ／Ｓ２３、及びマウス２４から入力されるコード情報及び位置情報は、Ｉ／Ｆ３４を介してＣＰＵ３５に入力される。ＣＰＵ３５は、ＲＯＭ３７に格納されたマクロプログラム及びＨＤＤ３８からＩ／Ｆ３９を介してＲＡＭ４０に格納された測定実行プログラム、貫通孔の垂直出し実行プログラム等の各種制御プログラムに従って、測定実行処理、貫通孔の垂直出し処理等を実行する。 【００２５】 ここで、貫通孔の垂直出し処理とは、ワーク１２の貫通孔１２ａがＺ軸（垂直方向）に平行となるようにワーク１２を配置する処理を意味する。 【００２６】 ＣＰＵ３５は、測定実行処理に従って、Ｉ／Ｆ４１を介して測定機本体１（撮像ユニット１７、接触式プローブユニット１８ｂ）を制御する。ＣＰＵ３５は、貫通孔の垂直出し処理に従って、Ｉ／Ｆ４２を介して回転テーブル１３ａを制御する。ＣＰＵ３５は、回転テーブル１３ａの回転角度を撮像ユニット１７（ＣＣＤカメラ１８ａ）にて測定された輝度に基づき制御する。ＣＰＵ３５は、回転テーブル１３ａによりワーク１２を所定角度ずつ回転させる毎に、撮像ユニット１７（ＣＣＤカメラ１８ａ）により輝度を測定させ、その輝度が最大となる角度に回転テーブル１３ａの回転角度を設定する。」 (ウ) 【００２８】～【００３６】、【図４】～【図７】 「【００２８】 （第１実施形態に係る形状測定装置の貫通孔の垂直出し処理） 次に、図４～図７を参照して形状測定装置（三次元測定装置）による貫通孔の垂直出し処理について説明する。図４は、貫通孔の垂直出しの処理を示すフローチャートである。図５は、貫通孔の垂直出し処理に係る回転テーブル１３ａのＸ軸周りの回転角、及びＹ軸周りの回転角を示す図である。図６及び図７は、貫通孔の垂直出し処理に係るＸ軸周り、Ｙ軸周りの走査時間及びそれらに対応する輝度を示す図である。なお、貫通孔の垂直出し処理が実行される前、回転テーブル１３ａのＸ軸及びＹ軸周りの回転角は、原点（０°，０°）に設定されているものとする。」 「【図４】 ［図：0001435683000007.jpg］ 【図５】 ［図：0001435683000008.jpg］ 」 「【００２９】 先ず、制御部３５は、図５に示すように、回転テーブル１３ａのＸ軸周りの回転角を初期角度－θ１だけ回転させる（ステップＳ１０１）。続いて、制御部３５は、回転テーブル１３ａのＸ軸周りの回転角を＋φ１回転させる（ステップＳ１０２）。次に、制御部３５は、撮像ユニット１７（ＣＣＤカメラ１８ａ）によりワーク１２の貫通孔１２ａを透過した光を受光させ、その受光された光に基づく輝度情報Ｄｘｋ（ｋ＝１～ｎ）をＨＤＤ３８に格納する（ステップＳ１０３）。続いて、制御部３５は、所定範囲に亘る回転テーブル１３ａのＸ軸周りの回転が完了したか否かを判断する（ステップＳ１０４）。例えば、制御部３５は、図５に示すように、Ｘ軸周りの回転角が最終角度＋θ１になっていれば、所定範囲に亘るＸ軸周りの回転が完了したと判断する。 【００３０】 ステップＳ１０４において、制御部３５は、所定範囲に亘る回転テーブル１３ａのＸ軸周りの回転が完了していないと判断すると（ステップＳ１０４，Ｎ）、再びステップＳ１０２からの処理を繰り返し実行する。一方、制御部３５は、所定範囲に亘る回転テーブル１３ａのＸ軸周りの回転が完了したと判断すると（ステップＳ１０４，Ｙ）、最大の輝度を受光した回転テーブル１３ａのＸ軸周りの回転角を示すＸ軸輝度最大角度Ｘｒｏｔ１を特定する（ステップＳ１０５）。例えば、回転テーブル１３ａのＸ軸周りの走査時間に対する輝度情報Ｄｘｋ（ｋ＝１～ｎ）は、図６に示すように、Ｘ軸周りの回転角－θ１～＋θ１に亘って一つのピークをもつ形状となる。そのピークにおけるＸ軸周りの回転角が、Ｘ軸輝度最大角度Ｘｒｏｔ１となる。」 「【図６】 ［図：0001435683000009.jpg］ 」 「【００３１】 続いて、制御部３５は、図５に示すように、回転テーブル１３ａのＸ軸周りの回転角をＸ軸輝度最大角度Ｘｒｏｔ１に設定する（ステップＳ１０６）。 【００３２】 ステップＳ１０６に続き、制御部３５は、図５に示すように、回転テーブル１３ａのＹ軸周りの回転角を初期角度－θ２だけ回転させる（ステップＳ１０７）。続いて、制御部３５は、回転テーブル１３ａのＹ軸周りの回転角を＋φ２回転させる（ステップＳ１０８）。次に、制御部３５は、撮像ユニット１７（ＣＣＤカメラ１８ａ）によりワーク１２の貫通孔１２ａを透過した光を受光させ、その受光された光に基づく輝度情報Ｄｙｋ（ｋ＝１～ｎ）をＨＤＤ３８に格納する（ステップＳ１０９）。続いて、制御部３５は、所定範囲に亘る回転テーブル１３ａのＹ軸周りの回転が完了したか否かを判断する（ステップＳ１１０）。例えば、制御部３５は、図５に示すように、回転テーブル１３ａのＹ軸周りの回転角が最終角度＋θ２になっていれば、所定範囲に亘るＹ軸周りの回転が完了したと判断する。 【００３３】 ステップＳ１０９において、制御部３５は、所定範囲に亘る回転テーブル１３ａのＹ軸周りの回転が完了していないと判断すると（ステップＳ１１０，Ｎ）、再びステップＳ１０８からの処理を繰り返し実行する。一方、制御部３５は、回転テーブル１３ａのＹ軸周りの回転が完了したと判断すると（ステップＳ１１０，Ｙ）、最大の輝度を受光した回転テーブル１３ａのＹ軸周りの回転角を示すＹ軸輝度最大角度Ｙｒｏｔを特定する（ステップＳ１１１）。例えば、Ｙ軸周りの走査時間に対する輝度情報Ｄｙｋ（ｋ＝１～ｎ）は、図７に示すように、Ｙ軸周りの回転角－θ２～＋θ２に亘って一つのピークをもつ形状となる。そのピークにおけるＹ軸周りの回転角が、Ｙ軸輝度最大角度Ｙｒｏｔ１となる。」 「【図７】 ［図：0001435683000010.jpg］ 」 「【００３４】 続いて、制御部３５は、図５に示すように、回転テーブル１３ａのＹ軸周りの回転角をＹ軸輝度最大角度Ｙｒｏｔ１に設定する（ステップＳ１１２）。上記ステップＳ１０６、及びステップＳ１１２において設定したＸ軸輝度最大角度Ｘｒｏｔ１、及びＹ軸輝度最大角度Ｙｒｏｔ１にて、ワーク１２の貫通孔１２ａは、Ｚ軸に平行となる。以上で、制御部３５は、第１実施形態の形状測定装置による貫通孔の垂直出し処理を終了する。 【００３５】 上記ステップＳ１０１～Ｓ１１２を要約すると、制御部３５は、回転テーブル１３ａによりワーク１２をＸ軸周りに所定角度ずつ回転させる毎に、撮像ユニット１７（ＣＣＤカメラ１８ａ）により輝度を測定させ、その輝度が最大となる角度Ｘｒｏｔ１に回転テーブル１３ａのＸ軸周りの回転角度を設定する。その後、制御部３５は、回転テーブル１３ａによりワーク１２をＹ軸周りに所定角度ずつ回転させる毎に、撮像ユニット１７（ＣＣＤカメラ１８ａ）により輝度を測定させ、その輝度が最大となる角度Ｙｒｏｔ１に回転テーブル１３ａのＹ軸周りの回転角度を設定する。 【００３６】 上記の貫通孔の垂直出し処理終了の後、制御部３５は、接触式プローブユニット１８ｂにてワーク１２の貫通孔１２ａの内径の形状を測定する。」 イ 引用文献２技術事項の認定 前記アに摘記した引用文献２の記載事項から、引用文献２には、次の技術事項（以下、「引用文献２技術事項」）が記載されていると認められる。 ＜引用文献２技術事項＞ 「非接触型の測定機本体１と、この測定機本体１を駆動制御すると共に、必要なデータ処理を実行するコンピュータシステム２と、計測結果をプリントアウトするプリンタ３とにより構成されている形状測定装置であって、（【００１５】） 測定機本体１の構成として、架台１１上には、測定テーブル１３が装着されており、この測定テーブル１３は、Ｙ軸駆動機構によってＹ軸方向に駆動され、架台１１の両側縁中央部には上方に延びる支持アーム１４、１５が固定されており、この支持アーム１４、１５の両上端部を連結するようにＸ軸ガイド１６が固定されており、このＸ軸ガイド１６には、撮像ユニット１７が支持されており、撮像ユニット１７の下端部には、ＣＣＤカメラ１８ａが測定テーブル１３と対向するように装着されており、（【００１６】） 撮像ユニット１７の下方には、接触式プローブユニット１８ｂが設けられており、（【００１７】） 測定テーブル１３は、Ｚ軸方向に平行にその上方に光を照射する光源１３ｂを有し、（【００１８】） ワーク１２は、ステージ１３上に載置された回転テーブル１３ａに取り付けられており、ワーク１２は、円柱状であり、その中心に貫通孔１２ａを有し、（【００１９】） 回転テーブル１３ａは、Ｚ軸に直交するＸ軸周り及びＹ軸周りに回転可能に構成されており、つまり、回転テーブル１３ａは、その上面に取り付けたワーク１２を回転させ、ＸＹ平面に対して傾斜可能に構成されており、（【００２０】） 回転テーブル１３ａを透過した光は、ワーク１２の貫通孔１２ａを介してＣＣＤカメラ１８ａに照射され、（【００２１】） ＣＣＤカメラ１８ａから入力されるワーク１２の画像情報は、インタフェース（以下、Ｉ／Ｆと呼ぶ）３１を介して画像メモリ３２に格納され、（【００２２】） コンピュータシステム２において、ＣＰＵ３５は、測定実行プログラム、貫通孔の垂直出し実行プログラム等の各種制御プログラムに従って、測定実行処理、貫通孔の垂直出し処理等を実行し、（【００２４】） ここで、貫通孔の垂直出し処理とは、ワーク１２の貫通孔１２ａがＺ軸（垂直方向）に平行となるようにワーク１２を配置する処理を意味し、（【００２５】） ＣＰＵ３５は、貫通孔の垂直出し処理に従って、Ｉ／Ｆ４２を介して回転テーブル１３ａを制御し、回転テーブル１３ａの回転角度を撮像ユニット１７（ＣＣＤカメラ１８ａ）にて測定された輝度に基づき制御する、（【００２６】） 形状測定装置。（【００１５】）」 (３) 引用文献４に記載された事項及び技術常識１の認定 ア 引用文献４に記載された事項 当審において新たに引用する、本願の出願前に発行された文献である実願平２―６４３７３号（実開平４－２４０６４号）のマイクロフィルム（以下「引用文献４」という。）には、次の記載がある。 (ア) 明細書６頁５行～７頁１１行、第１図 「〔実施例〕 以下、添付図面に示す一実施例に基きこの考案を詳細に説明する。 第１図は、この実施例に係る自動分析装置を示すものであり、符号20は図示しない駆動装置により回転制御を受ける反応テーブル、21は該反応テーブル20に所定の順序で配列される反応容器、22は光源、23は光源22から照射される光束、24は反応容器21を透過した光束を波長分解して各波長の光量を測定する多波長光度計、25は該光度計24の出力に基づき反応容器21内の試料による吸光度変化量を算出する吸光度積算装置、26は分析結果等を表示する表示装置、27は印字表示のためのプリンタ装置である。 そして、前記吸光度積算装置25は、光度計24から入力した各波長の光量電圧値（V1，V2，V3…）と予め定めた基準電圧値V0とを比較して、当該基準電圧値V0を越える光量電圧があったとき後段へ出力する比較回路30と、該比較回路30の出力に基づき透過光電圧（V1，V2，V3…）のサンプリングタイミングを決定するタイミング決定回路31と、該タイミング決定回路31からの指令信号に基づき透過光電圧値（V1，V2，V3…）を所定タイミングでメモリ回路に格納していくサンプリング回路32とを備えて構成されている。」 「（第１図） ［図：0001435683000011.jpg］ 」 (イ) 明細書７頁１７行～８頁１８行、第２～３図 「次に、以上のように構成された自動分析装置の作動を説明する。 第２図に示すように、いま、二つの反応容器21A,21Bが順次光束23を横切って図中矢印方向へ移動する場合、透過光の検出電圧レベルは第３図に示すような台形波形となる。」 「（第２図） ［図：0001435683000012.jpg］ 」 「第３図に示す検出電圧（光量電圧）は、光度計24で波長分解された複数の波長の中で最も変換電圧値の高いもの（即ち最も光量が強いもの）を例示するもので、他の波長についても同様の電圧波形が得られるが、光量が十分でない場合は、透過光サンプリングを開始できないので、この実施例では最も光量が大きな波長の電圧値に基づきサンプリング開始を決定する。 ここで、比較回路30は、各波長の電圧値と基準電圧値V0とを比較し、時間t1において、ある特定波長の電圧値が予め定めた閾値（即ち基準電圧V0）を越えたときに後段へ出力し、その出力を受けてタイミング決定回路31は、それから所定時間（例えば680μsec）経過後の時間t2から透過光サンプリングを開始するよう決定する。」 「（第３図） ［図：0001435683000013.jpg］ 」 イ 技術常識１の認定 前記アに示した引用文献４の摘記事項に例示されているように、次の技術事項は、当業者にとって技術常識であったと認められる。（以下「技術常識１」という。） ここで、引用文献４には、「二つの反応容器21A,21Bが順次光束23を横切って図中矢印方向へ移動する場合、透過光の検出電圧レベルは第３図に示すような台形波形となる。」と記載されているところ、台形の上底と下底を結ぶ傾斜部が存在することにより、この区間において、透過光の光量から反応容器の変位を測定可能であることが理解できる。 ＜技術常識１＞ 「光透過部を有する部材に対して光源から光を照射して、光透過部を透過した光量を測定することにより、測定される光の進行方向と直交する方向における当該部材の変位を測定可能であること。」 ５ 本願発明と引用発明の対比 (１) 対比分析 本願発明と引用発明を対比する。 ア 構成Ｘの観点（内面形状測定機） (ア) 構成Ｘは、「内面形状測定機」の発明であることを特定するものである。 (イ) 引用発明の「真円度測定機１０」は、「ワークＷの表面性状を測定することができ、特に、検出器２４の検出器軸ａがＺ方向に平行である検出器２４の第１の姿勢において、ワークＷの」「円筒内側面、及び細穴内側面の真円度を測定することができる」ものであるから、本願発明の「内面形状測定機」に相当する。 (ウ) したがって、本願発明と引用発明は、構成Ｘの観点について、次の点において一致する。 「内面形状測定機」の発明である点。 イ 構成Ａの観点（回転体） (ア) 構成Ａは、「第１の方向に平行な回転軸を中心に回転する回転体」を備えることである。 (イ) 引用発明の「Ｚ方向」は、本願発明の「第１の方向」に相当するから、引用発明の「Ｚ方向に平行な回転軸を中心に回転」する「回転ステージ１４」は、本願発明の「第１の方向に平行な回転軸を中心に回転する回転体」に相当する。 (ウ) したがって、本願発明と引用発明は、構成Ａの観点について、次の点において一致する。 「第１の方向に平行な回転軸を中心に回転する回転体」を備える点。 ウ 構成Ｂの観点（直動傾斜ステージ） (ア) 構成Ｂは、「前記回転体に支持される直動傾斜ステージであって、前記回転体に対する前記第１の方向に直交する平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更可能な直動傾斜ステージ」を備えることである。 (イ) 引用発明においては、「本体ベース（基台）１２上に測定対象物となるワークＷを載置する回転ステージ（回転台）１４が設けられて」いる。 これに対して、本願発明の構成Ｃにおいて、「ワーク」は「前記直動傾斜ステージに固定されて前記回転体とともに回転する」ものとされている。 そうすると、引用発明の「測定対象物となるワークＷを載置する回転ステージ（回転台）１４」は、本願発明の「直動傾斜ステージ」と、「ワークが固定されるステージ」である点において共通する。 (ウ) また、引用発明において、「回転ステージ１４は、Ｘ方向微動つまみ及びＹ方向微動つまみによってＸ方向及びＹ方向に微動送りがされ、Ｘ方向傾斜つまみ及びＹ方向傾斜つまみによってＸ方向及びＹ方向に傾斜が調整されるようになって」おり、このことは、「回転ステージ１４」がＸＹ平面内の位置及びＸＹ平面に対する傾斜を変更可能であることを意味する。 そして、引用発明において「Ｘ方向、Ｙ方向、及びＺ方向は互いに直交する方向」であること、及び、前記(イ)の検討を踏まえると、本願発明と引用発明は、「ワークが固定されるステージの前記第１の方向に直交する平面内の位置及び前記平面に対する傾斜が変更可能である」点において共通する。 (エ) 以上の検討結果を踏まえると、本願発明と引用発明の構成Ｂの観点における一致点及び相違点は、次のａ及びｂのとおりである。 ａ 構成Ｂの観点における一致点 「ワークが固定されるステージの前記第１の方向に直交する平面内の位置及び前記平面に対する傾斜が変更可能である」点。 ｂ 構成Ｂの観点における相違点 ワークが固定されるステージの位置及び傾斜を変更可能とする構成について、 本願発明においては、「前記回転体に支持される直動傾斜ステージであって、前記回転体に対する前記第１の方向に直交する平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更可能な直動傾斜ステージ」を備えるのに対して、 引用発明においては、「測定対象物となるワークＷを載置する回転ステージ（回転台）１４」が「Ｘ方向微動つまみ及びＹ方向微動つまみによってＸ方向及びＹ方向に微動送りがされ、Ｘ方向傾斜つまみ及びＹ方向傾斜つまみによってＸ方向及びＹ方向に傾斜が調整されるようになって」いる点。 エ 構成Ｃの観点（変位検出器） (ア) 構成Ｃは、「前記第１の方向に平行に延びる接触式又は非接触式のプローブであって、第１の直動機構によって前記第１の方向に移動可能なプローブにより、前記直動傾斜ステージに固定されて前記回転体とともに回転するワークの穴の内側面の変位を検出する変位検出器」を備えることである。 (イ) 引用発明において、「検出器２４は、円筒状の検出器本体１００、スタイラス１０２、接触子１０４、保持部１０６、回転軸１０８、測定部１１０、及びアーム部１１２を有し」、「検出器本体１００からは、保持部１０６によって保持されたスタイラス１０２が延出しており、スタイラス１０２は、ワークＷの表面に接触する接触子１０４を先端に支持して」いるところ、引用発明の「スタイラス１０２」及び「接触子１０４」を合わせた構成は、本願発明の「接触式」「のプローブ」に相当する。 また、引用発明において、「スタイラス１０２」の有する「第１部分１０２Ａの中心軸であるスタイラス軸ｃは、本体軸ｂ（検出器軸ａ）とは平行であ」ることは、「検出器２４の検出器軸ａがＺ方向に平行である検出器２４の第１の姿勢」において、本願発明における「接触式又は非接触式のプローブ」が「前記第１の方向に平行に延びる」ことに相当する。 (ウ) 引用発明の「モータの駆動によりＺ方向に移動」する「キャリッジ１８」は、本願発明の「第１の直動機構」に相当する。 そして、引用発明は、「キャリッジ１８のＺ方向の移動及びアーム２０のＸ方向の移動により、検出器２４のＺ方向及びＸ方向の位置を変更することができ」るものであるから、キャリッジ１８のＺ方向の移動により、「検出器２４」の有する「スタイラス１０２」及び「接触子１０４」もＺ方向の位置を変更することができるといえるところ、このことは、本願発明の「第１の直動機構によって前記第１の方向に移動可能なプローブ」に相当する構成を有することを意味する。 (エ) また、引用発明は、「回転ステージ１４を回転することで、ワークＷと検出器２４とを相対的に移動させ、そして、検出器２４の検出結果に基づいて、ワークＷの表面性状を測定することができ、特に、検出器２４の検出器軸ａがＺ方向に平行である検出器２４の第１の姿勢において、ワークＷの」「円筒内側面、及び細穴内側面の真円度を測定することができる」ものであるところ、「真円度を測定する」ことは、円筒内側面又は細穴内側面の変位を検出することにより真円形状との差異の程度を求めることであるから、引用発明は、本願発明の「プローブにより、」「前記回転体とともに回転するワークの穴の内側面の変位を検出する」ことに相当する構成を有するといえる。 そうすると、引用発明の「検出器２４」は、検出対象のワークが固定されるステージが直動傾斜ステージではない点を措くと、本願発明の「変位検出器」に相当する。 (オ) 以上の検討結果を踏まえると、本願発明と引用発明の構成Ｃの観点における一致点及び相違点は、次のａ及びｂのとおりである。 ａ 構成Ｃの観点における一致点 「前記第１の方向に平行に延びる接触式又は非接触式のプローブであって、第１の直動機構によって前記第１の方向に移動可能なプローブにより、前記回転体とともに回転するワークの穴の内側面の変位を検出する変位検出器」を備える点。 ｂ 構成Ｃの観点における相違点 ワークが固定されるステージについて、本願発明においては、「前記直動傾斜ステージ」であるのに対して、引用発明においては、「回転ステージ１４」（回転体）である点。 オ 構成Ｄ、Ｅの観点（光量取得部、出力部） (ア) 構成Ｄは、「光源から前記第１の方向に出射した光であって、前記ワークの前記穴の第１の開口から入射して前記穴を通過した光の光量を取得する光量取得部」を備えることであり、構成Ｅは、「前記取得した光量に基づく前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれ情報を出力する出力部」を備えることである。 (イ) 引用発明は、本願発明の構成Ｄ、Ｅに相当する構成を備えていないから、本願発明と引用発明は、次の点において相違する。 ＜構成Ｄ、Ｅの観点における相違点＞ 本願発明においては、 「光源から前記第１の方向に出射した光であって、前記ワークの前記穴の第１の開口から入射して前記穴を通過した光の光量を取得する光量取得部と、 前記取得した光量に基づく前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれ情報を出力する出力部」を備えるのに対して、 引用発明においては、「光量取得部」、「出力部」に相当する構成を有しない点。 カ 構成Ｆの観点（ステージ制御部） (ア) 構成Ｆは、「前記ずれ情報に基づいて前記直動傾斜ステージを制御し、前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれが目標値以内となるように前記平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更するステージ制御部」を備えることである。 (イ) 引用発明において「ワークＷは、一定の外径と内径とを有する円筒形状を有しており、ワークＷは、その中心軸が回転ステージ１４の回転軸と同軸上となるように載置され」るものであるから、「回転ステージ１４」が「Ｘ方向微動つまみ及びＹ方向微動つまみによってＸ方向及びＹ方向に微動送りがされ、Ｘ方向傾斜つまみ及びＹ方向傾斜つまみによってＸ方向及びＹ方向に傾斜が調整されるようになって」いることは、回転ステージ１４の上面に載置されたワークＷの姿勢を、「その中心軸が回転ステージ１４の回転軸と同軸上となる」ように微調整するためのものであることが明らかである。 そうすると、引用発明は、ワークＷの穴の中心軸と回転ステージ１４の回転軸とのずれが目標値以内となるように、回転ステージ１４のＸＹ平面内の位置及びＸＹ平面に対する傾斜を変更することが可能な構成を有するといえる。 (ウ) したがって、本願発明と引用発明は、「前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれが目標値以内となるように前記ワークが固定されるステージの前記平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更することが可能な構成である」点で共通する。 (エ) 一方、引用発明は、本願発明の「ステージ制御部」に相当する構成を有していない。 (オ) 以上の検討結果を踏まえると、本願発明と引用発明の構成Ｆの観点における一致点及び相違点は、次のａ及びｂのとおりである。 ａ 構成Ｆの観点における一致点 「前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれが目標値以内となるように前記ワークが固定されるステージの前記平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更することが可能な構成である」点。 ｂ 構成Ｆの観点における相違点 「前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれが目標値以内となるように前記ワークが固定されるステージの前記平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更することが可能な構成」について、 本願発明においては、「前記ずれ情報に基づいて前記直動傾斜ステージを制御し、前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれが目標値以内となるように前記平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更するステージ制御部」を備えるのに対して、 引用発明においては、「ステージ制御部」に相当する構成を有しておらず、Ｘ方向微動つまみ、Ｙ方向微動つまみ、Ｘ方向傾斜つまみ及びＹ方向傾斜つまみにより回転ステージ１４の位置及び傾斜を調整するものである点。 (２) 一致点及び相違点 前記(１)の対比分析の結果をまとめると、本願発明と引用発明の一致点及び相違点は、それぞれ次のア及びイに示すとおりである。 ア 一致点 「第１の方向に平行な回転軸を中心に回転する回転体と、 前記第１の方向に平行に延びる接触式又は非接触式のプローブであって、第１の直動機構によって前記第１の方向に移動可能なプローブにより、前記回転体とともに回転するワークの穴の内側面の変位を検出する変位検出器と、を備え、 前記ワークが固定されるステージの前記第１の方向に直交する平面内の位置及び前記平面に対する傾斜が変更可能であり、 前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれが目標値以内となるように前記ワークが固定されるステージの前記平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更することが可能な構成である、 内面形状測定機」である点。 イ 相違点 本願発明においては、 (ア) ワークが固定されるステージの位置及び傾斜を変更可能とする構成について、「前記回転体に支持される直動傾斜ステージであって、前記回転体に対する前記第１の方向に直交する平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更可能な直動傾斜ステージ」を備え、 (イ) ワークが固定されるステージが、「前記直動傾斜ステージ」であり、 (ウ) 「光源から前記第１の方向に出射した光であって、前記ワークの前記穴の第１の開口から入射して前記穴を通過した光の光量を取得する光量取得部と、 前記取得した光量に基づく前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれ情報を出力する出力部」を備え、 (エ) 「前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれが目標値以内となるように、前記ワークが固定されるステージの前記平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更することが可能な構成」について、「前記ずれ情報に基づいて前記直動傾斜ステージを制御し、前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれが目標値以内となるように前記平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更するステージ制御部」を備えるのに対して、 引用発明においては、 (ア) ワークが固定されるステージの位置及び傾斜を変更可能とする構成について、「測定対象物となるワークＷを載置する回転ステージ（回転台）１４」が「Ｘ方向微動つまみ及びＹ方向微動つまみによってＸ方向及びＹ方向に微動送りがされ、Ｘ方向傾斜つまみ及びＹ方向傾斜つまみによってＸ方向及びＹ方向に傾斜が調整されるようになって」おり、 (イ) ワークが固定されるステージが、「回転ステージ１４」（回転体）であり、 (ウ) 「光量取得部」、「出力部」に相当する構成を有しておらず、 (エ) 「前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれが目標値以内となるように、前記ワークが固定されるステージの前記平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更することが可能な構成」について、「ステージ制御部」に相当する構成を有しておらず、Ｘ方向微動つまみ、Ｙ方向微動つまみ、Ｘ方向傾斜つまみ及びＹ方向傾斜つまみにより調整するものである点。 ６ 判断 前記相違点について検討する。 (１) 直動傾斜ステージの観点（相違点における(ア)及び(イ)）について 前記５(１)ウ(ウ)において検討したとおり、引用発明において、「回転ステージ１４は、Ｘ方向微動つまみ及びＹ方向微動つまみによってＸ方向及びＹ方向に微動送りがされ、Ｘ方向傾斜つまみ及びＹ方向傾斜つまみによってＸ方向及びＹ方向に傾斜が調整されるようになって」おり、このことは、「回転ステージ１４」がＸＹ平面内（第１の方向に直交する平面内）の位置及びＸＹ平面に対する傾斜を変更可能であることを意味する。 そして、前記５(１)カ(イ)において検討したとおり、引用発明において「ワークＷは、その中心軸が回転ステージ１４の回転軸と同軸上となるように載置され」るものであるから、「回転ステージ１４」がＸＹ平面内の位置及びＸＹ平面に対する傾斜を変更可能であることは、回転ステージ１４の上面に載置されたワークＷの姿勢を、「その中心軸が回転ステージ１４の回転軸と同軸上となる」ように微調整するためのものであることが明らかであるところ、位置及び傾斜を変更するに際して、回転ステージ１４全体の位置及び傾斜を変更可能とするか、回転ステージ１４のうちワークＷの載置される部位を回転ステージ１４とは別部材（直動傾斜ステージ）として、回転ステージ１４に対する当該部位の位置及び傾斜を変更可能とするかは、回転ステージ１４全体の大きさ等に応じて、当業者が適宜選択できる設計事項にすぎない。 したがって、引用発明において、本願発明の「直動傾斜ステージ」に相当する構成（相違点の(ア)及び(イ)に係る本願発明の構成）を備えるようにすることは、当業者が適宜なし得た程度のことである。 (２) 光量取得部等の観点（相違点における(ウ)、(エ)）について ア 本願発明と引用文献２技術事項の対比 (ア)ａ 引用文献２技術事項の「光源１３ｂ」から「Ｚ軸方向に平行にその上方に」「照射」された「光」は、本願発明の「光源から前記第１の方向に出射した光」に相当する。 ｂ そして、引用文献２技術事項の「回転テーブル１３ａを透過し」、「ワーク１２の貫通孔１２ａを介してＣＣＤカメラ１８ａに照射され」た「光」は、本願発明の「前記ワークの前記穴の第１の開口から入射して前記穴を通過した光」に相当する。 ｃ 前記ａ及びｂを踏まえると、引用文献２技術事項の「ＣＣＤカメラ１８ａ」は、本願発明の「光源から前記第１の方向に出射した光であって、前記ワークの前記穴の第１の開口から入射して前記穴を通過した光の光量を取得する光量取得部」に相当する。 (イ)ａ 本願明細書の【００７３】には、「出力部６３は、光量取得部６１が取得した入射光量Ｐ１（細穴の中心軸と回転体の回転軸とのずれ情報の一例）をステージ制御部６２に出力する（出力工程の一例）。」と記載されているから、本願発明の「ずれ情報」には、光量取得部が取得した光量自体も含まれると解される。 ｂ そして、引用文献２技術事項において、「ＣＣＤカメラ１８ａから入力されるワーク１２の画像情報は、インタフェース（以下、Ｉ／Ｆと呼ぶ）３１を介して画像メモリ３２に格納され」、「回転テーブル１３ａの回転角度を撮像ユニット１７（ＣＣＤカメラ１８ａ）にて測定された輝度に基づき制御する」から、「撮像ユニット１７（ＣＣＤカメラ１８ａ）にて測定された輝度」は、「ＣＣＤカメラ１８ａから入力されるワーク１２の画像情報」に含まれており、「ＣＣＤカメラ１８ａ」から出力されたものといえる。 そして、前記ａの解釈を踏まえると、当該「輝度」は、本願発明の「前記取得した光量に基づく前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれ情報」と、「前記取得した光量に基づく前記穴の中心軸と当該中心軸と方向を一致させるべき軸とのずれ情報」である点で共通する。 ｃ そうすると、引用文献２技術事項は、本願発明の発明特定事項の表現を用いると、「前記取得した光量に基づく前記穴の中心軸と当該中心軸と方向を一致させるべき軸とのずれ情報を出力する出力部」を備えるといえる。 その一方で、引用文献２技術事項において、「測定テーブル１３」は、Ｚ軸周りに回転可能なものではなく、本願発明の「回転軸」に相当する構成を有しない。 (ウ) 引用文献２技術事項の「貫通孔の垂直出し処理に従って、Ｉ／Ｆ４２を介して回転テーブル１３ａを制御し、回転テーブル１３ａの回転角度を撮像ユニット１７（ＣＣＤカメラ１８ａ）にて測定された輝度に基づき制御する」「ＣＰＵ３５」は、本願発明の「前記ずれ情報に基づいて前記直動傾斜ステージを制御し、前記穴の中心軸と前記回転軸とのずれが目標値以内となるように前記平面（当合議体注：「前記第１の方向に直交する平面」を意味する。）内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更するステージ制御部」と、「前記ずれ情報に基づいてワークが固定されるステージを制御し、前記穴の中心軸と当該中心軸と方向を一致させるべき軸との傾斜のずれが小さくなるように前記第１の方向に直交する平面に対する傾斜を変更する制御部」である点において共通する。 その一方で、引用文献２技術事項の「ＣＰＵ３５」は、本願発明の「平面内の位置」「を変更する」ことに相当する機能は有していない。 (エ) 前記(ア)～(ウ)から、引用文献２技術事項は、本願発明の発明特定事項の表現を用いると、少なくとも次の構成（以下「傾斜ずれ変更構成」という。）を有すると認められる。 ＜傾斜ずれ変更構成＞ 「光源から前記第１の方向に出射した光であって、前記ワークの前記穴の第１の開口から入射して前記穴を通過した光の光量を取得する光量取得部と、 前記取得した光量に基づく前記穴の中心軸と当該中心軸と方向を一致させるべき軸とのずれ情報を出力する出力部と、 前記ずれ情報に基づいてワークが固定されるステージを制御し、前記穴の中心軸と当該中心軸と方向を一致させるべき軸との傾斜のずれが小さくなるように前記第１の方向に直交する平面に対する傾斜を変更する制御部と、 を備える」構成。 イ 引用発明と引用文献２技術事項等の組合せについて (ア) 引用発明と引用文献２技術事項は、プローブにより測定対象物の内面形状を測定する形状測定機に関する点において共通している。 また、引用発明において「ワークＷは、その中心軸が回転ステージ１４の回転軸と同軸上となるように載置され」るものであるところ、「ワークＷの」「円筒内側面、及び細穴内側面の真円度を測定する」ためには、ワークＷの中心軸を回転ステージ１４の回転軸と同軸上に正確に位置させる必要があるため、引用発明は、ワークＷの中心軸の位置及び傾斜について、それぞれ回転ステージ１４の回転軸の位置及び傾斜と、正確かつ容易に一致させるようにするという課題を内在するといえる。 そうすると、ワークＷの中心軸の傾斜を回転ステージ１４の回転軸の傾斜と正確かつ容易に一致させるという観点から、引用発明に対して引用文献２技術事項における傾斜ずれ変更構成を適用する動機付けは存在するということができる。 (イ) また、前記４(３)イにおいて技術常識１として認定したとおり、「光透過部を有する部材に対して光源から光を照射して、光透過部を透過した光量を測定することにより、測定される光の進行方向と直交する方向における当該部材の変位を測定可能であること。」は技術常識であるから、引用発明に対して引用文献２技術事項における傾斜ずれ変更構成を適用する際に、ワークＷの中心軸の位置を回転ステージ１４の回転軸の位置と正確かつ容易に一致させるべく、「撮像ユニット１７（ＣＣＤカメラ１８ａ）にて測定された輝度」（ずれ情報）に基づいて、ワークＷの中心軸の傾斜だけでなく位置についても変更するように制御することは、当業者が容易になし得たことというべきである。 ここで、制御技術一般において、理想状態とのずれを目標値以内とするように制御することは慣用手段であるから、ワークＷの中心軸と回転ステージ１４の回転軸との位置及び傾斜のずれを目標値以内とするように制御することも、当業者であれば適宜なし得た設計変更の範囲内といえる。 (ウ) そして、前記(１)において検討したとおり、回転ステージ１４のうちワークＷの載置される部位を回転ステージ１４とは別部材（直動傾斜ステージ）として、回転ステージ１４に対する当該部位の位置及び傾斜を変更可能とした場合には、位置及び傾斜の変更制御の対象は、必然的に直動傾斜ステージとなる（本願発明の「ステージ制御部」に相当する構成を有することになる。）。 (エ) なお、引用文献１の【図８】（Ａ）及び（Ｃ）には、「一定の外径と内径とを有する円筒形状を有して」いる「ワークＷ」の例として、有底のものが例示されているが、「一定の外径と内径とを有する円筒形状を有して」いる「ワークＷ」として、当業者は貫通孔を有するものも当然に観念することができるから、引用文献１の【図８】（Ａ）及び（Ｃ）に有底のものが例示されていることは、引用発明に対して引用文献２技術事項を適用する妨げとはならない。 (オ) したがって、引用発明において、相違点の(ウ)及び(エ)に係る本願発明の構成を備えるようにすることは、当業者が容易に想到し得たことである。 (３) 総合評価 前記(１)及び(２)において検討したとおり、引用発明において、前記相違点に係る本願発明の構成を備えるようにすることは、引用発明、引用文献２技術事項及び技術常識１に基づいて当業者が容易に想到し得たことである。 そして、本願発明が奏する効果としては、当該構成のものとして当業者が予測・発見困難であり、かつ、格別顕著な効果を認めることはできない。 したがって、本願発明は、引用発明、引用文献２技術事項及び技術常識１に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 ７ 請求人の主張について (１) 請求人の主張内容 請求人は、審判請求書において、概略、次のとおりの主張をしている。 拒絶査定において審査官が「ずれが目標値以内となるようにするにあたって、平面内の位置及び前記平面に対する傾斜を変更することは、当業者にとって自明な選択である。」と判断しているが、そもそも引用文献２には、平面内の位置を変更すること（すなわち「貫通孔の水平出し処理」）については開示も示唆もないので、当該判断は失当である。仮に、引用文献３に記載された周知技術に基づいて引用文献２に記載された発明を変更したものを、引用文献１に記載された発明に適用するならば、「容易の容易」に該当するだけでなく、引用文献２より把握できる技術思想から離れて認定するものであり、妥当ではない。 (２) 請求人の主張についての検討 前記６(２)イにおいて説示したとおり、引用発明に対して引用文献２技術事項における傾斜ずれ変更構成を適用するにあたり、技術常識１を踏まえれば、請求人が主張する「貫通孔の水平出し処理」についても、当業者が容易に想到し得たことであって、原査定の備考欄に記載された審査官の判断に誤りはない。 また、請求人は、原査定の理由が「引用文献３に記載された周知技術に基づいて引用文献２に記載された発明を変更したものを、引用文献１に記載された発明に適用する」というものであると仮定したうえで主張しているが、そのように仮定できる根拠は示されておらず、原査定がそのような理由に基づいて判断されたものとは認められない。また、当審においても、前記６(２)イにおいて説示したとおり、そのような理由により判断していない。 したがって、前記(１)に示した請求人の主張は採用することができない。 ８ むすび 以上検討のとおり、本願発明は、特許法２９条２項の規定により、特許を受けることができない。 したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。