2016-018553

特願２０１５－５４１０００「ワークテーブルとマスクテーブルで共有するバランスマスシステム及びリソグラフィマシン」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年　５月１５日国際公開、ＷＯ２０１４／０７１７８０、平成２７年１２月１４日国内公表、特表２０１５－５３５６１３〕について、次のとおり審決する。

【結　論】 本件審判の請求は、成り立たない。

【理　由】 １　手続の経緯 平成２５年　９月２３日　国際特許出願（パリ条約による優先権主張２０　　　　　　　　　　　　　１２年１１月１２日、中国） 平成２８年　１月１２日　拒絶理由通知（同年１月１９日発送） 平成２８年　４月１８日　意見書・手続補正書 平成２８年　８月　２日　拒絶査定（同年８月９日送達） 平成２８年１２月　９日　審判請求書 平成２９年　６月　５日　拒絶理由通知（平成２９年６月６日発送、 以下「当審拒絶理由通知」という。） 平成２９年　９月　４日　意見書 ２　本願発明 本願の請求項１～１２に係る発明は、平成２８年４月１８日付け手続補正により補正された請求項１～１２に記載された事項により特定されるとおりのものであるところ、請求項１の記載は以下のとおりである。 「リソグラフィマシンのワークステージシステムを支持するように構成され、前記リソグラフィマシンのベースフレーム上に固定せずに配置された第１部分と、 前記リソグラフィマシンのマスクステージシステムを支持するように構成された第２部分と、 前記第１部分及び前記第２部分を相互接続するように構成された第３部分と、 を具備するバランスマスを備える前記リソグラフィマシンのためのバランスマスシステムであって、 前記バランスマスシステムは、前記バランスマスの重心に近傍に配置され、前記ベースフレームに前記バランスマスの前記第３部分を接続するように構成されたアンチドリフト及び補償装置をさらに備える。」（以下「本願発明」という。） ３　引用発明 （１）原査定の拒絶の理由に引用された特開平９－４６７７号公報（以下「刊行物」という。）には、図面と共に以下の記載がある。なお、当審拒絶理由は、明細書及び特許請求の範囲の記載不備を通知したものであり、新規性・進歩性等の特許要件の判断は行っていない。 ア　「【０００１】 【産業上の利用分野】本発明は、防振方法に係り、更に詳しくはマスクパターンを感光基板上に露光するための露光装置等における基板ステージの移動による装置本体の防振に適用して好適な防振方法に関する。」（注：下線は、当審が付加した。以下同様である。） イ　「【０００５】 【発明が解決しようとする課題】… 【０００６】本発明は、かかる従来技術の有する不都合に鑑みてなされたもので、その目的は、防振パッド上に保持される装置本体の揺動の発生を効果的に阻止することが可能な防振装置を提供することにある。」 ウ　「【００１１】 【実施例】以下、本発明に係る防振方法が適用されるステッパ型の投影露光装置の一実施例について、図１ないし図４に基づいて説明する。 【００１２】図１には、一実施例の投影露光装置の正面図が示されている。この図１において、設置面としての床１の上に４個の台座２Ａ，２Ｂ，…（図１では２Ａ，２Ｂのみが現れている、以下同様）が設置され、これら４個の台座２Ａ，２Ｂ，…上にそれぞれ上下動機構３Ａ～３Ｄを介して防振パッド４Ａ～４Ｄが設置され、これら防振パッド４Ａ～４Ｄ上に加重センサ５Ａ～５Ｄを介して投影露光装置の定盤６が設置されている。ここで、後述するように本実施例では投影光学系２５が使用されているため、投影光学系２５の光軸に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に直交する平面内で図１の紙面平行方向にＸ軸を、図１の紙面直交方向にＹ軸を取る。 【００１３】図３には、図１のＣ－Ｃ線に沿う断面図が示されている。この図３に示されるように、上下動機構３Ａ～３Ｄ、防振パッド４Ａ～４Ｄ、及び加重センサ５Ａ～５Ｄは、それぞれ定盤６の四角形の底面の４個の頂点付近に配置されている。上下動機構３Ａ～３Ｄとしては、例えばねじを駆動モータにより回転させて高さを調整する電動式の高さ調整機構が使用され、上下動機構３Ａ～３ＤのＺ方向への高さ調整量は、制御装置１１により制御される。また、防振パッド４Ａ～４Ｄとしては、空気式ダンパ、又はダンピング液中に圧縮コイルばねを入れた機械式ダンパ等が使用される。防振パッド４Ａ～４Ｄとして空気式ダンパを使用する場合、空気の圧力により防振パッド４Ａ～４Ｄの高さを調整できるため、その空気式ダンパはそれぞれ上下動機構３Ａ～３Ｄと防振パッド４Ａ～４Ｄとを兼用できることになる。また、加重センサ５Ａ～５Ｄとしては、歪みゲージ等からなるロードセルが使用でき、加重センサ５Ａ～５Ｄにより計測される定盤６からの加重、即ち、防振パッド４Ａ～４Ｄから定盤６に対するＺ方向への反力が制御装置１１に供給されている。 【００１４】図１に戻り、台座２Ａと定盤６との間に防振パッド４Ａと並列にアクチュエータ７Ａが設置されている。アクチュエータ７Ａは、台座２Ａ上に固定された固定子９Ａと定盤６の底面に固定された可動子８Ａとから構成され、制御装置１１からの指示に応じて台座２Ａから定盤６の底面に対するＺ方向への付勢力、又は定盤６の底面から台座２Ａに向かう吸引力を発生する。他の防振パッド４Ｂ～４Ｄにおいても、防振パッド４Ａと同様にそれぞれ並列にアクチュエータ７Ｂ～７Ｄが設置され、これらアクチュエータ７Ｂ～７Ｄの付勢力又は吸引力もそれぞれ制御装置１１により設定される。 … 【００１８】図１に戻り、床１と定盤６の底面の中央部との間に、床１に対する定盤６のＺ方向の変位を検出するための変位センサ１０が設置され、変位センサ１０の検出結果も制御装置１１に供給されている。変位センサ１０としては、例えば分解能０．１ｍｍ程度のリニアポテンショメータ、又は光電式のリニアエンコーダ等が使用できる。 【００１９】また、定盤６上には図示しない駆動手段によってＹ軸方向に駆動されるＹステージ２０Ａが載置され、このＹステージ２０Ａ上に図示しない駆動手段によってＸ軸方向に駆動されるＸステージ２０Ｂが載置されている。更に、このＸステージ２０Ｂ上にＺレベリングステージ、θステージ（いずれも図示省略）及びウエハホルダ２１を介してウエハ２２が吸着保持されている。定盤６上でＹステージ２０Ａを囲むように第１コラム２４が植設され、第１コラム２４の上板の中央部に投影光学系２５が固定され、第１コラム２４の上板に投影光学系２５を囲むように第２コラム２６が植設され、第２コラム２６の上板の中央部にレチクルステージ２７を介してレチクル２８が載置されている。 … 【００２４】更に、第１コラム２４の－Ｘ方向の側面に可動軸３５Ａが埋め込まれ、可動軸３５Ａと床上に固定された支柱３１Ａとの間にアクチュエータ３２Ａが取り付けられている。アクチュエータ３２Ａは、アクチュエータ７Ａと同様に、支柱３１Ａに固定された発磁体よりなる固定子３４Ａと、可動軸３５Ａに取り付けられたコイルを含む可動子３３Ａとから構成され、制御装置１１から可動子３３Ａ内のコイルに流れる電流を調整することにより、可動軸３５Ａに対して＋Ｙ方向又は－Ｙ方向に力を与えることができる。同様に、第１コラム２４の＋Ｘ方向の側面に可動軸３５Ｂが埋め込まれ、可動軸３５Ｂと床上に固定された支柱３１Ｂとの間に、アクチュエータ３２Ａと同一構成のアクチュエータ３２Ｂが取り付けられ、制御装置１１からの指示により可動軸３５Ｂに対して＋Ｙ方向又は－Ｙ方向に力を与えることができるようになっている。また、第１コラム２４の＋Ｘ方向の側面の中央部と床上の支柱３１Ｃとの間に、固定子３４Ｃと可動子３３Ｃとからなるアクチュエータ３２Ｃが設置され、制御装置１１からの指示によりアクチュエータ３２Ｃを介して第１コラム２４に対して＋Ｘ方向、又は－Ｘ方向に力を与えることができる。制御装置１１による、アクチュエータ３２Ａ～３２Ｃの制御方法についても後述する。 【００２５】また、図１に戻り、支柱３１Ａ，３１Ｂ及び３１Ｃはそれぞれ床上に第１コラム２４に沿って植設されている。 【００２６】ここで、定盤６、Ｙステージ２０Ａ、Ｘステージ２０Ｂ、ウエハホルダ２１、第１コラム２４、投影光学系２５、第２コラム２６、及びレチクルステージ２７等から成る装置本体の重心Ｇが図１に示される位置にあり、また、アクチュエータ３２Ａ、３２Ｂによる可動軸３５Ａ，３５Ｂの第１コラム２４との接続部の中心をそれぞれ作用点ＡＰ及びＢＰとし、図３に示されるように、アクチュエータ３２Ｃの可動子３４Ｃの第１コラム２４との接続部の中心を作用点ＣＰとすると、本実施例では、３つの作用点ＡＰ、ＢＰ及びＣＰのＺ方向の位置がそれぞれ装置本体の重心Ｇとほぼ同じＺ方向位置（高さ）に設定されている。」 エ　「【００３６】即ち、制御装置１１では各ステージの加速度値及び質量値に基づき各ステージに作用する力が重心Ｇを６自由度方向に運動させようとする力を推測し、この力を相殺するのに必要な７つのアクチュエータ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃの制御量を求めて、いわゆるフィードフォワード制御によりアクチュエータ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃを駆動制御する。 … 【００３８】この一方、制御装置１１では、前述したような各機能部１１Ａ～１１Ｅの働きにより、力Ｆｘ１、Ｆｙ１、Ｆｚ１、Ｎｘ１、Ｎｙ１、Ｎｚ１を相殺するような力をアクチュエータ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃで発生させるべく、フィードフォワード制御を行なうので、アクチュエータ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃが、理論上はＦｘ１、Ｆｙ１、Ｆｚ１、Ｎｘ１、Ｎｙ１、Ｎｚ１を相殺できる力Ｆ１～Ｆ７をそれぞれ発生する。この場合においても、７つのアクチュエータがそれぞれ発生した力Ｆ１～Ｆ７は、装置本体を重心Ｇ回りに６自由度方向に運動させようとするので、あたかも図４に点線で示される座標変換ブロック４２が存在し、この座標変換ブロック４２よって力Ｆ1 ～Ｆ7 が重心Ｇ回りの６自由度方向の力ＦｘＯ、ＦｙＯ、ＦｚＯ、ＮｘＯ、ＮｙＯ、ＮｚＯに変換されるような現象となる。 【００３９】従って、Ｘステージ２０Ｂ、Ｙステージ２０Ａが移動すると、装置本体には、図４に示される加え合わせ点４４Ａ～４４Ｆのそれぞれの出力である６自由度方向の力Ｆｘ＝Ｆｘ１－ＦｘＯ、Ｆｙ＝Ｆｙ１－ＦｙＯ、Ｆｚ＝Ｆｚ１－ＦｚＯ、Ｎｘ＝Ｎｘ１－ＮｘＯ、Ｎｙ＝Ｎｙ１－ＮｙＯ、Ｎｚ＝Ｎｚ１－ＮｚＯが作用することになるが、本実施例の場合、計算上は、Ｆｘ１＝ＦｘＯ、Ｆｙ１＝ＦｙＯ、Ｆｚ１＝ＦｚＯ、Ｎｘ１＝ＮｘＯ、Ｎｙ１＝ＮｙＯ、Ｎｚ１＝ＮｚＯ となっているので、Ｆｘ＝Ｆｙ＝Ｆｚ＝Ｎｘ＝Ｎｙ＝Ｎｚ＝０となり、装置本体には、何等力が作用しないのと同じ状態になり、装置本体はいずれの方向にも揺動しない。なお、実際には、干渉計の計測誤差、演算誤差等があるので、その誤差分の力が作用すると考えられるが、この力の影響による装置本体の揺動は無視できる程度に小さくなる。」 オ　図１、図３は、以下のとおりである。 （２）上記記載によれば、刊行物には以下の露光装置の発明が記載されている。 「設置面としての床１の上に４個の台座２Ａ，２Ｂ，…が設置され、これら４個の台座２Ａ，２Ｂ，…上にそれぞれ上下動機構３Ａ～３Ｄを介して防振パッド４Ａ～４Ｄが設置され、これら防振パッド４Ａ～４Ｄ上に加重センサ５Ａ～５Ｄを介して投影露光装置の定盤６が設置され、 加重センサ５Ａ～５Ｄにより計測される定盤６からの加重、即ち、防振パッド４Ａ～４Ｄから定盤６に対するＺ方向への反力が制御装置１１に供給され、 台座２Ａと定盤６との間に防振パッド４Ａと並列にアクチュエータ７Ａが設置され、 アクチュエータ７Ａは、制御装置１１からの指示に応じて台座２Ａから定盤６の底面に対するＺ方向への付勢力、又は定盤６の底面から台座２Ａに向かう吸引力を発生し、 他の防振パッド４Ｂ～４Ｄにおいても、防振パッド４Ａと同様にそれぞれ並列にアクチュエータ７Ｂ～７Ｄが設置され、これらアクチュエータ７Ｂ～７Ｄの付勢力又は吸引力もそれぞれ制御装置１１により設定され、 定盤６上にはＹステージ２０Ａが載置され、このＹステージ２０Ａ上にＸ軸方向に駆動されるＸステージ２０Ｂが載置され、Ｘステージ２０Ｂ上にＺレベリングステージ、θステージ及びウエハホルダ２１を介してウエハ２２が吸着保持され、 定盤６上でＹステージ２０Ａを囲むように第１コラム２４が植設され、 第１コラム２４の上板に第２コラム２６が植設され、 第２コラム２６の上板の中央部にレチクルステージ２７を介してレチクル２８が載置され、 第１コラム２４の－Ｘ方向の側面に可動軸３５Ａが埋め込まれ、可動軸３５Ａと床上に固定された支柱３１Ａとの間にアクチュエータ３２Ａが取り付けられ、 第１コラム２４の＋Ｘ方向の側面に可動軸３５Ｂが埋め込まれ、可動軸３５Ｂと床上に固定された支柱３１Ｂとの間に、アクチュエータ３２Ａと同一構成のアクチュエータ３２Ｂが取り付けられ、 アクチュエータ３２Ａ、３２Ｂによる可動軸３５Ａ，３５Ｂの第１コラム２４との接続部の中心をそれぞれ作用点ＡＰ及びＢＰとし、アクチュエータ３２Ｃの可動子３４Ｃの第１コラム２４との接続部の中心を作用点ＣＰとすると、３つの作用点ＡＰ、ＢＰ及びＣＰのＺ方向の位置がそれぞれ装置本体の重心Ｇとほぼ同じＺ方向位置（高さ）に設定され、 制御装置１１では各ステージの加速度値及び質量値に基づき各ステージに作用する力が重心Ｇを６自由度方向に運動させようとする力を推測し、この力を相殺するのに必要な７つのアクチュエータ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃの制御量を求めて、いわゆるフィードフォワード制御によりアクチュエータ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃを駆動制御し、 Ｘステージ２０Ｂ、Ｙステージ２０Ａが移動すると、装置本体には何等力が作用しないのと同じ状態になり、装置本体はいずれの方向にも揺動しない ステッパ型の投影露光装置。」（以下「引用発明」という。） ４　対比 本願発明と、引用発明の「ステッパ型の投影露光装置」を構成する「定盤６」、「第１コラム２４」、「第２コラム２６」、「アクチュエータ３２Ｃ」等を一体として対比する。 （１）本願発明の「リソグラフィマシンのワークステージシステムを支持するように構成され、前記リソグラフィマシンのベースフレーム上に固定せずに配置された第１部分」と、引用発明の「設置面としての床１の上に…上下動機構３Ａ～３Ｄを介して防振パッド４Ａ～４Ｄが設置され、これら防振パッド４Ａ～４Ｄ…を介して」設置された「投影露光装置の定盤６」であって、その「上にはＹステージ２０Ａが載置され、このＹステージ２０Ａ上にＸ軸方向に駆動されるＸステージ２０Ｂが載置され、Ｘステージ２０Ｂ上にＺレベリングステージ、θステージ及びウエハホルダ２１を介してウエハ２２が吸着保持され」る「定盤６」を対比する。 ア　引用発明の「投影露光装置」は本願発明の「リソグラフィマシン」に相当し、以下同様に、「Ｙステージ２０Ａ」、「Ｘステージ２０Ｂ」、「Ｚレベリングステージ」、「θステージ」は一体として「ワークステージシステム」に、「定盤６」は「第１部分」に、それぞれ相当する。そして、本願発明の「リソグラフィマシンのベースフレーム」と引用発明の「床１」は、「土台部分」の点で一致する。 イ　引用発明の「投影露光装置の定盤６」が、その「上にはＹステージ２０Ａが載置され、このＹステージ２０Ａ上にＸ軸方向に駆動されるＸステージ２０Ｂが載置され、Ｘステージ２０Ｂ上にＺレベリングステージ、θステージ及びウエハホルダ２１を介してウエハ２２が吸着保持され」ていることは、本願発明の「第１部分」が「リソグラフィマシンのワークステージシステムを支持するように構成され」ていることに相当する。 ウ　本願発明の「第１部分」が「前記リソグラフィマシンのベースフレーム上に固定せずに配置され」ていることと、引用発明の「定盤６」が、「設置面としての床１の上に」「上下動機構３Ａ～３Ｄ」、「防振パッド４Ａ～４Ｄ」等を介して設置されていることは、「第１部分」が「土台部分上に固定せずに配置され」ている点で一致する。 エ　してみると、両者は、「リソグラフィマシンのワークステージシステムを支持するように構成され、土台部分上に固定せずに配置された第１部分」の点で一致する。 （２）本願発明の「前記リソグラフィマシンのマスクステージシステムを支持するように構成された第２部分」と、引用発明のその「上板の中央部にレチクルステージ２７を介してレチクル２８が載置され」る「第２コラム２６」を対比する。 ア　引用発明の投影露光装置の「レチクルステージ２７」は、本願発明のリソグラフィマシンの「マスクステージシステム」に相当し、以下同様に、「載置され」ることは「支持する」ことに、「第２コラム２６」は「第２部分」に、それぞれ相当する。 イ　してみると、両者は相当関係にある。 （３）本願発明の「前記第１部分及び前記第２部分を相互接続するように構成された第３部分」と、引用発明の「定盤６上」に「植設され」た「第１コラム２４」であって、そ「の上板に第２コラム２６が植設され」た「第１コラム２４」を対比する。 ア　引用発明の「定盤６」は本願発明の「第１部分」に相当し、以下同様に、「第２コラム」は「第２部分」に、「第１コラム」は、「第３部分」に、それぞれ相当する。 イ　引用発明において、定盤６上に第１コラム２４が植設され、第１コラム２４の上板に第２コラム２６が植設されていることは、第１コラムが定盤６と第２コラムを相互接続していると言える。 ウ　してみると、両者は相当関係にある。 （４）本願発明の「リソグラフィマシンのためのバランスマスシステム」と、引用発明の「Ｘステージ２０Ｂ、Ｙステージ２０Ａが移動すると、装置本体には何等力が作用しないのと同じ状態になり、装置本体はいずれの方向にも揺動しないステッパ型の投影露光装置」を対比する。 ア　引用発明は、Ｘステージ２０ＢやＹステージ２０Ａが移動しても、装置本体には何等力が作用しないのと同じ状態になり、装置本体はいずれの方向にも揺動しないものである。そうすると、引用発明の装置本体は、本願発明の「バランスマスシステム」に相当するものを構成するものである。 イ　してみると、両者は相当関係にある。 （５）本願発明の「前記バランスマスシステムは、前記バランスマスの重心に近傍に配置され、前記ベースフレームに前記バランスマスの前記第３部分を接続するように構成されたアンチドリフト及び補償装置」と、引用発明の「アクチュエータ３２Ａ、３２Ｂによる可動軸３５Ａ，３５Ｂの第１コラム２４との接続部の中心をそれぞれ作用点ＡＰ及びＢＰとし」、「作用点ＡＰ、ＢＰ…のＺ方向の位置がそれぞれ装置本体の重心Ｇとほぼ同じＺ方向位置（高さ）に設定され」た「アクチュエータ３２Ａ、３２Ｂ」であって、床上に固定された支柱３１Ａ、３１Ｂに取り付けられた「アクチュエータ３２Ａ、３２Ｂ」を対比する。 ア　本願発明の「アンチドリフト及び補償装置」の技術的意味について検討する。本願の発明の詳細な説明には、「アンチドリフト及び補償装置」の技術的意味について説明する記載は無いところ、当審拒絶理由通知に応答する平成２９年９月４日付け意見書によれば、「このようなアンチドリフト及び補償装置１６は、センサ及びアクチュエータによって実施することができ、当該技術分野において知られています。これらのシステムの一例は、米国特許第８，６０６，４２６号の第４欄第５８行～第５欄２１行および図３に開示されています。」等と説明する。上記意見書の説明によれば、本願発明の「アンチドリフト及び補償装置」は、アクチュエータを用いて駆動することにより、センサで検出したドリフトを補償するものと解される。 イ　上記アを踏まえて検討する。引用発明の「アクチュエータ３２Ａ、３２Ｂ」は、各ステージの加速度値及び質量値に基づき制御装置１１が「アクチュエータ３２Ａ、３２Ｂ」等を駆動し、装置本体が何れの方向にも振動しない（ドリフトを補償する）ように制御するものである。そうすると、引用発明の「アクチュエータ３２Ａ、３２Ｂ」は、本願発明の「アンチドリフト及び補償装置」に相当する。 ウ　引用発明の「アクチュエータ３２Ａ、３２Ｂ」の「作用点ＡＰ、ＢＰ…のＺ方向の位置がそれぞれ装置本体の重心Ｇとほぼ同じＺ方向位置（高さ）に設定され」ていることは、本願発明の「アンチドリフト及び補償装置」が「前記バランスマスの重心に近傍に配置され」ていることに相当する。 エ　引用発明の「アクチュエータ３２Ａ、３２Ｂによる可動軸３５Ａ，３５Ｂの第１コラム２４との接続部」は、アクチュエータ３２Ａ、３２Ｂによる可動軸３５Ａ，３５Ｂが第１コラムと接続されていることであるから、本願発明の「前記バランスマスの前記第３部分を接続する」ことに相当する。 オ　してみると、両者は、「前記バランスマスシステムは、前記バランスマスの重心に近傍に配置され、前記バランスマスの前記第３部分を接続するように構成されたアンチドリフト及び補償装置」の点で一致する。 カ　以上によれば、本願発明と引用発明の「ステッパ型の投影露光装置」を構成する「定盤６」、「第１コラム２４」、「第２コラム２６」、「アクチュエータ３２Ｃ」等は、 「リソグラフィマシンのワークステージシステムを支持するように構成され、土台部分上に固定せずに配置された第１部分と、 前記リソグラフィマシンのマスクステージシステムを支持するように構成された第２部分と、 前記第１部分及び前記第２部分を相互接続するように構成された第３部分と、 を具備するバランスマスを備える前記リソグラフィマシンのためのバランスマスシステムであって、 前記バランスマスシステムは、前記バランスマスの重心に近傍に配置され、前記バランスマスの前記第３部分を接続するように構成されたアンチドリフト及び補償装置をさらに備える。」 点で一致し、以下の点で相違する。 相違点１：「土台部分」が、本願発明では「リソグラフィマシンのベースフレーム」であるのに対し、引用発明では、「床１」である点。 相違点２：「アンチドリフト及び補償装置」が「前記バランスマスの前記第３部分を接続する」相手側の部材が、本願発明では「ベースフレーム」であるのに対し、引用発明では、「床上に固定された支柱３１Ａ」、「床上に固定された支柱３１Ｂ」である点。 ５　判断 以下、上記相違点１、２についてまとめて検討する。 本願発明の「ベースフレーム」と、引用発明の「床１」あるいは「床上に固定された支柱」は、何れも、「バランスマスシステム」や「装置本体」とアクチュエータを介して接続される部材であり、アクチュエータによって可動されない部分である。そして、一般に機械装置を構成する際、可動されない部分、すなわち装置の土台や基礎となる部分をベースフレームとして構成することは、周知の技術手段である。 そうすると、引用発明において、「床１」あるいは「床上に固定された支柱」をベースフレームとして構成し、上記相違点１，２に係る本願発明の発明特定事項となすことは、当業者が容易に想到し得たことと認められる。 そして、本願発明が奏する作用効果も、引用発明と、周知の技術手段に基づいて当業者が容易に想到し得たものと認められる。 ６　むすび 以上のとおり、本願発明は、引用発明と周知の技術手段に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 したがって、その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。