2023-700809

特許第７２１９０９７号発明「磁気ディスク基板用研磨剤組成物」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７２１９０９７号の請求項１、２、３、４に係る特許を取り消す。

理 由 第１ 手続の経緯 特許第７２１９０９７号の請求項１－１２に係る特許についての出願は、平成３１年１月２２日に出願され、令和５年１月３０日にその特許権の設定登録がされ、令和５年２月７日に特許掲載公報が発行された。その後、その請求項１－４に係る特許について、令和５年８月４日に特許異議申立人柏木里美により特許異議の申立てがされ、当審は、令和５年１２月１８日（起案日）（発送日は令和５年１２月２１日）に取消理由を通知したが、これに対して特許権者からの応答はなかった。 第２ 取消理由の概要 特許異議申立書に記載した特許異議申立理由に基づいて、請求項１－４に係る特許に対して、当審が特許権者に通知した取消理由の概要は、次のとおりである。 理由１ 請求項１－３に係る発明は、甲第１号証に記載された発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当するから、請求項１－３に係る特許は、特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものである。 理由２ 請求項４に係る発明は、甲第１号証に記載された発明及び甲第２号証に記載された技術に基いて、本件特許出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、請求項４に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 甲第１号証 特開２０１６－８４４２８号公報 甲第２号証 特開２０１０－１３５０５２号公報 第３ 当審の判断 １ 請求項１について （１）本件発明１ 本件特許の請求項１に係る発明（以下、「本件発明１」という。なお、後述する請求項２－４についても同様に「本件発明２」－「本件発明４」という。）は、請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 「【請求項１】 コロイダルシリカと、水溶性高分子化合物と、水を含有する研磨剤組成物であり、 前記水溶性高分子化合物が、少なくともカルボン酸基を有する単量体およびスルホン酸基を有する単量体を必須単量体とする共重合体であり、 前記水溶性高分子化合物のカルボン酸基を有する単量体に由来する構成単位とスルホン酸基を有する単量体に由来する構成単位の量比が、ｍｏｌ比で９０：１０～１０：９０の範囲であり、 前記水溶性高分子化合物の重量平均分子量が１，０００～１，０００，０００である無電解ニッケル－リンめっきされたアルミニウム磁気ディスク基板の仕上げ研磨に用いられる磁気ディスク基板用研磨剤組成物。」 （２）甲第１号証、引用発明１ ア 甲第１号証の記載事項 甲第１号証には、以下の事項が記載されている。なお、下線は当審により付したものである。 「【０００１】 本発明は、Ｎｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板用研磨液組成物、これを用いた磁気ディスク基板の研磨方法及び磁気ディスク基板の製造方法に関する。 【背景技術】 【０００２】 近年、磁気ディスクドライブは小型化・大容量化が進み、高記録密度化が求められている。高記録密度化するために、単位記録面積を縮小し、弱くなった磁気信号の検出感度を向上するため、磁気ヘッドの浮上高さをより低くするための技術開発が進められている。磁気ディスク基板には、磁気ヘッドの低浮上化と記録面積の確保に対応するため、平滑性及び平坦性の向上（表面粗さ、うねり、端面ダレの低減）と欠陥低減（スクラッチ、突起、ピット等の低減）に対する要求が厳しくなっている。」 「【００１４】 ［共重合体］ 本開示に係る研磨液組成物は、研磨速度を損なうことなく研磨後の研磨表面のスクラッチ及びナノ欠陥を低減し、かつ、研磨パットの摩耗を抑制する観点から、（メタ）アクリル酸又はその塩に由来する構成単位（Ａ）、及び、ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和スルホン酸化合物又はその塩に由来する構成単位（Ｂ）を有する共重合体（以下、「本開示に係る共重合体」ともいう）を含有する。本開示に係る共重合体は、水溶性であって、本開示に係る研磨液組成物に溶解する。」 「【００１７】 ［構成単位（Ａ）］ 本開示に係る共重合体の構成単位（Ａ）は、（メタ）アクリル酸又はその塩に由来する構成単位であって、メタクリル酸、アクリル酸、及びこれらの塩から選択される一種類又は複数種類に由来する構成単位である。構成単位（Ａ）は、一又は複数の実施形態において、下記一般式（Ｉ）で表すことができる。 【００１８】 ［図：0001411333000001.jpg］ （式（Ｉ）において、Ｒは水素原子又はメチル基であり、Ｘは水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子（１／２原子）、アンモニウム又は有機アンモニウムである。） 【００１９】 ［構成単位（Ｂ）］ 本開示に係る共重合体の構成単位（Ｂ）は、ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和スルホン酸化合物又はその塩に由来する構成単位である。ポリウレタン製の研磨パッドは通常疎水的であるため、共重合体がヒドロキシ基を含有することにより、研磨液組成物の研磨パッドに対する表面張力が高くなるように制御することができる。」 「【００２１】 構成単位（Ｂ）は、一又は複数の実施形態において、下記一般式（ＩＩ）で表すことができる。 【００２２】 ［図：0001411333000002.jpg］ （式（ＩＩ）において、Ｒは水素原子又はメチル基であり、Ｙは、任意の有機基であり、ｓは１～４であり、Ｘは水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子（１／２原子）、アンモニウム又は有機アンモニウムである。）」 「【００２５】 本開示に係る共重合体を構成する構成単位（Ａ）及び（Ｂ）の合計に対する構成単位（Ｂ）の割合は、一又は複数の実施形態において、研磨速度を損なうことなく研磨後の研磨表面のスクラッチ及びナノ欠陥を低減し、かつ、研磨パットの摩耗を抑制する観点から、１５モル％以上が好ましく、より好ましくは２０モル％以上、更に好ましくは３０モル％以上であり、同様の観点から、７０モル％以下が好ましく、より好ましくは６０モル％以下、更に好ましくは５０モル％以下であり、同様の観点から、好ましくは１５モル％以上７０モル％以下、より好ましくは２０モル％以上６０モル以下、更に好ましくは３０モル％以上５０モル％以下である。」 「【００２７】 [共重合体の重量平均分子量] 本重合体に係る共重合体の重量平均分子量は、一又は複数の実施形態において、研磨速度を損なうことなく研磨後の研磨表面のスクラッチ及びナノ欠陥を低減し、かつ、研磨パットの摩耗を抑制する観点から、５，０００以上５０，０００以下であることが好ましく、より好ましくは６０００以上４０００００以下、更に好ましくは７０００以上３０００００以下、より更に好ましくは１００００以上２００００以下である。該重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて実施例に記載の方法により測定した値である。」 「【００３２】 ［シリカ粒子］ 本発明の研磨液組成物は、研磨材（砥粒）としてシリカ粒子を含有する。シリカ粒子としては、一又は複数の実施形態において、コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、表面修飾したシリカ等が挙げられるが、研磨後の基板のスクラッチ及びナノ突起欠陥の低減の観点から、コロイダルシリカが好ましい。コロイダルシリカは、１種類からなるものであっても、２種類以上のコロイダルシリカを混合したものであってもよい。 【００３３】 研磨液組成物におけるシリカ粒子の含有量は、一又は複数の実施形態において、研磨速度を損なうことなく研磨後の研磨表面のスクラッチ及びナノ欠陥を低減し、かつ、研磨パットの摩耗を抑制する観点から、研磨材の含有量は、０．５質量％以上２０質量％以下が好ましく、１質量％以上１５質量％以下がより好ましく、３質量％以上１３質量％以下が更に好ましく、４質量％以上１０質量％以下が更により好ましい。 【００３４】 ［研磨材の平均粒径］ 本開示における「研磨材の平均粒径」とは、特に言及しない限り、動的光散乱法において検出角９０°で測定される散乱強度分布に基づく平均粒径をいう（以下、「散乱強度分布に基づく平均粒径」ともいう）。研磨材の平均粒径は、研磨後の基板表面のスクラッチを低減する観点から、１ｎｍ以上４０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは５ｎｍ以上３７ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以上３５ｎｍ以下である。なお、研磨材の平均粒径は、具体的には実施例に記載の方法により求めることができる。」 「【００５３】 ［その他の成分］ 本開示に係る研磨液組成物には、必要に応じて他の成分を配合することができる。他の成分としては、増粘剤、分散剤、防錆剤、塩基性物質、界面活性剤等が挙げられる。研磨液組成物中のこれら他の任意成分の含有量は、０を超え１０質量％以下好ましく、０を超え５質量％以下がより好ましい。但し、本開示の研磨液組成物は、他の成分、とりわけ界面活性剤を含むことなく、研磨後の基板表面のスクラッチ及びナノ突起欠陥の低減効果を発揮し得る。さらに、本開示に係る研磨液組成物は、アルミナ砥粒を含ませることができ、最終研磨工程より前の粗研磨工程に使用することもできる。」 「【００５６】 ［研磨対象（被研磨基板）］ 本開示に係る研磨液組成物が研磨の対象とする被研磨基板は、Ｎｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板である。「Ｎｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板」とは、一又は複数の実施形態において、磁気ディスク基板用アルミニウム合金板材の表面を研削後、無電解Ｎｉ－Ｐメッキ処理したものをいう。Ｎｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板の表面を研磨し、さらに、スパッタ等でその基板表面に磁性膜を形成することにより磁気ディスク基板を製造することができる。」 「【００５９】 被研磨基板の研磨工程が多段階で行われる場合は、本開示に係る研磨液組成物を用いた研磨工程は２段階目以降に行われるのが好ましく、最終研磨工程、いわゆる仕上げ研磨工程で行われるのがより好ましい。その際、前工程の研磨材や研磨液組成物の混入を避けるために、それぞれ別の研磨機を使用してもよく、またそれぞれ別の研磨機を使用した場合では、研磨工程毎に被研磨基板を洗浄することが好ましい。なお、研磨機としては、特に限定されず、磁気ディスク基板研磨用の公知の研磨機が使用できる。」 「【００７０】 ［共重合体］ 研磨液組成物に使用した（共）重合体は下記のＡ～Ｃの水溶性重合体である。これらの重合体の重量平均分子量は下記の条件で測定した。 ＜共重合体＞ Ａ：アクリル酸（ＡＡ）／３－アリロキシ－２－ヒドロキシプロパンスルホン酸（ＨＡＰＳ）共重合体ナトリウム塩 Ａ１：モル比６７／３３、重量平均分子量１３０００ Ａ２：モル比６０／４０、重量平均分子量１８０００ Ｂ：アクリル酸（ＡＡ）／２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸（ＡＭＰＳ）共重合体ナトリウム塩 Ｂ１：モル比９０／１０、重量平均分子量１８０００ Ｂ２：モル比８０／２０、重量平均分子量２４０００ Ｃ：ポリアクリル酸、重量平均分子量１９０００」 「【００７４】 ［研磨液組成物の調製方法］ ６．０質量％のコロイダルシリカ（平均粒径２５ｎｍ）、０．４質量％の酸（硫酸）、０．４質量％の酸化剤（過酸化水素）、表１の（共）重合体、水、並びに、必要に応じて、下記表２に記載の複素環芳香族化合物及び脂肪族アミン化合物若しくは脂環式アミン化合物を混合して実施例１～９及び比較例１～５の研磨液組成物を調製した。なお、実施例１、２、７、８及び比較例１及び５には、複素環芳香族化合物及び脂肪族アミン化合物若しくは脂環式アミン化合物を添加していない。また、比較例５には（共）重合体を使用していない。実施例１～９及び比較例１～５の研磨液組成物のｐＨは１．５であった。なお、ｐＨは、研磨液組成物の２５℃における値であって、ｐＨメータ（東亜電波工業株式会社、ＨＭ－３０Ｇ）を用い、電極の研磨液組成物への浸漬後１分後に測定した数値である。」 「【００７６】 ［被研磨基板］ 被研磨基板としては、Ｎｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板を予めアルミナ研磨材を含有する研磨液組成物で粗研磨した基板を用いた。なお、この被研磨基板は、厚さが１．２７ｍｍ、外径が９５ｍｍ、内径が２５ｍｍであり、ＡＦＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ ＮａｎｏＳｃｏｐｅ ＩＩＩａ Ｍｕｌｔｉ Ｍｏｄｅ ＡＦＭ）により測定した中心線平均粗さＲａが１ｎｍ、長波長うねり（波長０．４～２ｍｍ）の振幅は２ｎｍ、短波長うねり（波長５０～４００μｍ）の振幅は２ｎｍであった。」 「【００８１】 ［図：0001411333000003.jpg］ 」 イ 引用発明１ 上記甲第１号証の記載事項（特に、下線部）によれば、次のことがいえる。 ・【０００１】、【００５６】、【００５９】によれば、甲第１号証には、磁気ディスク基板用アルミニウム合金板材の表面を研削後、無電解Ｎｉ－Ｐメッキ処理した基板の仕上げ研磨工程で用いられる研磨液組成物の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されている。 ・【００３２】によれば、甲第１号証に記載された研磨液組成物は、研磨材としてシリカ粒子を含有し、シリカ粒子の一つの例としてコロイダルシリカが挙げられているから、研磨剤としてのシリカ粒子がコロイダルシリカである場合の研磨液組成物の発明を引用発明１として認定すると、引用発明１の研磨液組成物は、コロイダルシリカを含有するといえる。 ・【００１４】によれば、研磨液組成物は、（メタ）アクリル酸又はその塩に由来する構成単位（Ａ）、及び、ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和スルホン酸化合物又はその塩に由来する構成単位（Ｂ）を有する水溶性共重合体を含有する。 ・【００１７】、【００１８】によれば、共重合体の構成単位（Ａ）は、下記一般式（Ｉ）で表すことができる。 ［図：0001411333000004.jpg］ （式（Ｉ）において、Ｒは水素原子又はメチル基であり、Ｘは水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子（１／２原子）、アンモニウム又は有機アンモニウムである。） ・【００１９】、【００２１】、【００２２】によれば、共重合体の構成単位（Ｂ）は、下記一般式（ＩＩ）で表すことができる。 ［図：0001411333000005.jpg］ （式（ＩＩ）において、Ｒは水素原子又はメチル基であり、Ｙは、任意の有機基であり、ｓは１～４であり、Ｘは水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子（１／２原子）、アンモニウム又は有機アンモニウムである。） ・【００２５】によれば、共重合体を構成する構成単位（Ａ）及び（Ｂ）の合計に対する構成単位（Ｂ）の割合は、１５モル％以上７０モル％以下である。 ・【００２７】によれば、共重合体の重量平均分子量は、５，０００以上５０，０００以下である。 ・【００３３】によれば、研磨液組成物におけるシリカ粒子の含有量は、１質量％以上１５質量％以下であり、上述したように、シリカ粒子はコロイダルシリカであるから、研磨液組成物におけるコロイダルシリカの含有量は、１質量％以上１５質量％以下である。 ・【００３４】によれば、研磨材の平均粒径は、１ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、上述したように、研磨材はコロイダルシリカであるから、コロイダルシリカの平均粒径は、１ｎｍ以上４０ｎｍ以下である。 ・【００７０】、【００７４】、【００７６】、【００８１】には、甲第１号証に記載された研磨液組成物の発明の実施例について記載されており、それによれば、研磨剤組成物は水を含有するものである。 以上によれば、甲第１号証には、次の引用発明１が記載されていると認められる。 ［引用発明１］ 「コロイダルシリカと、水溶性共重合体と、水を含有する研磨液組成物であり、 前記水溶性共重合体は、（メタ）アクリル酸又はその塩に由来する構成単位（Ａ）、及び、ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和スルホン酸化合物又はその塩に由来する構成単位（Ｂ）を有し、 共重合体の構成単位（Ａ）は、下記一般式（Ｉ）で表すことができ、 ［図：0001411333000006.jpg］ （式（Ｉ）において、Ｒは水素原子又はメチル基であり、Ｘは水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子（１／２原子）、アンモニウム又は有機アンモニウムである。） 共重合体の構成単位（Ｂ）は、下記一般式（ＩＩ）で表すことができ、 ［図：0001411333000007.jpg］ （式（ＩＩ）において、Ｒは水素原子又はメチル基であり、Ｙは、任意の有機基であり、ｓは１～４であり、Ｘは水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子（１／２原子）、アンモニウム又は有機アンモニウムである。） 共重合体を構成する構成単位（Ａ）及び（Ｂ）の合計に対する構成単位（Ｂ）の割合は、１５モル％以上７０モル％以下であり、 共重合体の重量平均分子量は、５，０００以上５０，０００以下であり、 研磨液組成物におけるコロイダルシリカの含有量は、１質量％以上１５質量％以下であり、 コロイダルシリカの平均粒径は、１ｎｍ以上４０ｎｍ以下である、 磁気ディスク基板用アルミニウム合金板材の表面を研削後、無電解Ｎｉ－Ｐメッキ処理した基板の仕上げ研磨工程で用いられる研磨液組成物。」 （３）本件発明１と引用発明１との対比 ア 組成物 引用発明１は、「コロイダルシリカと、水溶性共重合体と、水を含有する研磨液組成物」であり、共重合体は高分子化合物である。 したがって、本件発明１と引用発明１は、「コロイダルシリカと、水溶性高分子化合物と、水を含有する研磨剤組成物」である点で一致する。 イ 共重合体 引用発明１は、「前記水溶性共重合体は、（メタ）アクリル酸又はその塩に由来する構成単位（Ａ）、及び、ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和スルホン酸化合物又はその塩に由来する構成単位（Ｂ）」を有しており、「共重合体の構成単位（Ａ）」は、一般式（Ｉ）によれば、－ＣＯＯＸを含んでいることから、「カルボン酸基を有する単量体」であり、また、「共重合体の構成単位（Ｂ）」は、一般式（ＩＩ）によれば、－ＳＯ３Ｘを含んでいることから、「スルホン酸基を有する単量体」である。 したがって、本件発明１と引用発明１は、「前記水溶性高分子化合物が、少なくともカルボン酸基を有する単量体およびスルホン酸基を有する単量体を必須単量体とする共重合体」である点で一致する。 ウ 量比 引用発明１は、「共重合体を構成する構成単位（Ａ）及び（Ｂ）の合計に対する構成単位（Ｂ）の割合は、１５モル％以上７０モル％以下」であるから、本件発明１の「前記水溶性高分子化合物のカルボン酸基を有する単量体に由来する構成単位とスルホン酸基を有する単量体に由来する構成単位の量比が、ｍｏｌ比で９０：１０～１０：９０の範囲」であることと量比の数値が重なっている。 したがって、本件発明１と引用発明１は、「前記水溶性高分子化合物のカルボン酸基を有する単量体に由来する構成単位とスルホン酸基を有する単量体に由来する構成単位の量比が、ｍｏｌ比で９０：１０～１０：９０の範囲」である点で一致する。 エ 重量平均分子量 引用発明１は、「共重合体の重量平均分子量は、５，０００以上５０，０００以下」であるから、本件発明１の「前記水溶性高分子化合物の重量平均分子量が１，０００～１，０００，０００である」ことと分子量の数値が重なっている。 したがって、本件発明１と引用発明１は、「前記水溶性高分子化合物の重量平均分子量が１，０００～１，０００，０００である」である点で一致する。 オ 用途 引用発明１は、「磁気ディスク基板用アルミニウム合金板材の表面を研削後、無電解Ｎｉ－Ｐメッキ処理した基板の仕上げ研磨工程で用いられる研磨液組成物」であるところ、これは本件発明１の「無電解ニッケル－リンめっきされたアルミニウム磁気ディスク基板の仕上げ研磨に用いられる磁気ディスク基板用研磨剤組成物」に相当する。 したがって、本件発明１と引用発明１は、「無電解ニッケル－リンめっきされたアルミニウム磁気ディスク基板の仕上げ研磨に用いられる磁気ディスク基板用研磨剤組成物」である点で一致する。 （４）小括 以上によれば、本件発明１と引用発明１とは全ての発明特定事項で一致するから、本件発明１は、甲第１号証に記載された発明である。 ２ 請求項２について （１）本件発明２ 本件発明２は、請求項２に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 「【請求項２】 前記コロイダルシリカの平均粒子径（Ｄ５０）が１～１００ｎｍであり、組成物中の濃度が１～５０質量％である請求項１に記載の磁気ディスク基板用研磨剤組成物。」 （２）本件発明２と引用発明１との対比 ア 平均粒子径 引用発明１は、「コロイダルシリカの平均粒径は、１ｎｍ以上４０ｎｍ以下」であるから、研磨剤としてのコロイダルシリカの平均粒子径の数値が本件発明２と重なっている。 したがって、本件発明２と引用発明１とは、「前記コロイダルシリカの平均粒子径（Ｄ５０）が１～１００ｎｍ」である点で一致する。 イ 濃度 引用発明１は、「研磨液組成物におけるコロイダルシリカの含有量は、１質量％以上１５質量％以下」であるから、コロイダルシリカの濃度の数値が本件発明２と重なっている。 したがって、本件発明２と引用発明１とは、「前記コロイダルシリカ」の「組成物中の濃度が１～５０質量％である」である点で一致する。 ウ 請求項１の引用 本件発明２は、請求項１の記載を引用するものであり、上記「１ 請求項１について」で述べたように、請求項１の記載により特定される本件発明１と引用発明１とは全ての発明特定事項で一致する。 （３）小括 以上によれば、本件発明２と引用発明１とは全ての発明特定事項で一致するから、本件発明２は、甲第１号証に記載された発明である。 ３ 請求項３について （１）本件発明３ 本件発明３は、請求項３に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 「【請求項３】 前記水溶性高分子化合物の重量平均分子量が５，０００～６００，０００である請求項１または２に記載の磁気ディスク基板用研磨剤組成物。」 （２）本件発明３と引用発明１との対比 ア 重量平均分子量 引用発明１は、「共重合体の重量平均分子量は、５，０００以上５０，０００以下」であるから、本件発明３の「前記水溶性高分子化合物の重量平均分子量が５，０００～６００，０００である」ことと分子量の数値が重なっている。 したがって、本件発明３と引用発明１とは、「前記水溶性高分子化合物の重量平均分子量が５，０００～６００，０００である」点で一致する。 イ 請求項１、２の引用 本件発明３は、請求項１または２の記載を引用するものであり、上記「１ 請求項１について」、「２ 請求項２について」で述べたように、請求項１の記載により特定される本件発明１、請求項２の記載により特定される本件発明２は何れも引用発明１と全ての発明特定事項で一致する。 （３）小括 以上によれば、本件発明３と引用発明１とは全ての発明特定事項で一致するから、本件発明３は、甲第１号証に記載された発明である。 ４ 請求項４について （１）本件発明４ 本件発明４は、請求項４に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 「【請求項４】 前記研磨剤組成物が、さらに界面活性剤を含有し、 前記界面活性剤がスルホン酸基および／またはスルホン酸塩基を有し、さらに繰り返し単位の主鎖中に芳香族基を有する陰イオン界面活性剤である請求項１～３のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板用研磨剤組成物。」 （２）引用発明１、甲第２号証 ア 引用発明１ 引用発明１は、上記「１ 請求項１について」、「２ 請求項２について」、「３ 請求項３について」において、本件発明１－３と対比して全ての発明特定事項で一致するとした発明である。 イ 甲第２号証 （ア）甲第２号証の記載事項 甲第２号証には、以下の事項が記載されている。なお、下線は当審により付したものである。 「【０００１】 本発明は、磁気ディスク基板等の研磨に用いられる研磨剤組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法に関する。」 「【０００７】 本発明の課題は、表面精度を向上させるためにスクラッチ等を低減することができ、研磨工程において発泡が少なく、効率よく研磨することができる研磨剤組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法を提供することにある。 【課題を解決するための手段】 【０００８】 本発明者らは、研磨剤組成物が、界面活性剤として、分子中に繰り返し単位と、スルホン酸（塩）基とを有し、さらに繰り返し単位の主鎖中に芳香族基を有する陰イオン界面活性剤を含むことにより、上記課題を解決しうることを見いだした。すなわち、本発明によれば、以下の研磨剤組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法が提供される。」 （３）対比 本件発明４と引用発明１とを対比すると、両者は次の相違点で相違し、その余の点では一致する。 相違点 本件発明４は、「前記研磨剤組成物が、さらに界面活性剤を含有し、前記界面活性剤がスルホン酸基および／またはスルホン酸塩基を有し、さらに繰り返し単位の主鎖中に芳香族基を有する陰イオン界面活性剤である」のに対し、引用発明１は、そうではない点。 （４）判断 相違点について検討する。 甲第１号証の【０００２】によれば、磁気ディスク基板には、スクラッチの低減に対する厳しい要求がある。また、甲第１号証の【００５３】によれば、引用発明１の磁気ディスク基板の研磨液組成物は、必要に応じて界面活性剤を配合することができるものである。 一方で、甲第２号証には、上記下線部によれば、磁気ディスク基板等の研磨に用いられる研磨剤組成物において、磁気ディスク基板のスクラッチを低減するという課題を解決するために、研磨剤組成物に、界面活性剤として、分子中に繰り返し単位と、スルホン酸（塩）基とを有し、さらに繰り返し単位の主鎖中に芳香族基を有する陰イオン界面活性剤を含むようにする技術事項が記載されている。 そうすると、引用発明１において、磁気ディスク基板のスクラッチを低減するという課題を解決するために、甲第２号証に記載された技術事項を適用し、研磨剤組成物に、界面活性剤として、分子中に繰り返し単位と、スルホン酸（塩）基とを有し、さらに繰り返し単位の主鎖中に芳香族基を有する陰イオン界面活性剤を含むようにすることは、当業者が容易に想到し得ることである。 よって、本件発明４は、引用発明１および甲第２号証に記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 第４ むすび 以上のとおり、請求項１－４に係る特許は、特許法第２９条の規定に違反してされたものであるから、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。 よって、結論のとおり決定する。