2023-700007

特許第７０９６９５９号発明「自爪の発育促進方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。

結 論 特許第７０９６９５９号の請求項１～５に係る特許を維持する。

理 由 第１ 手続の経緯の概略 特許第７０９６９５９号の請求項１～５に係る特許（以下「本件特許」という。）についての手続の経緯は、概ね、次のとおりである。すなわち、令和３年２月２日に出願され（特願２０２１－１５３６９号）、令和４年６月２９日に特許権の設定登録がされ、令和４年７月７日に特許掲載公報が発行されたところ、これに対し、令和５年１月６日に特許異議申立人上杉隆一より、特許異議の申立てがなされたものである。 第２ 本件発明 本件特許の請求項１～５に係る発明（以下、本件特許に係る発明を請求項の番号に従って、「本件発明１」などという。）は、特許請求の範囲の請求項１～５に記載された事項により特定される、次のとおりのものである。 【請求項１】 軟質化処理剤を用いてエポニキウム及び前記ルースキューティクルを軟質化させる軟質化処理と、 前記軟質化処理後において前記ネイルプレートと前記ルースキューティクルとの接触部に対して前記ネイルプレートのフリーエッジ側から前記エポニキウムの下方までキューティクルプッシャを押し込むことにより、前記ネイルプレートの表面から前記エポニキウム及び前記ルースキューティクルを剥離させる剥離処理と、 前記剥離処理後において前記エポニキウムと前記ネイルプレートとの間にできたポケットから前記エポニキウムに傷をつけることなく前記ルースキューティクルのみを摘出する除去処理と、 前記除去処理後であって剥離した前記エポニキウムが前記ネイルプレートに接触する前（すなわち前記ポケットが閉じる前）において前記エポニキウムと前記ネイルプレートとの間（すなわち前記ポケットの内部）に乾燥防止剤を塗布する乾燥防止処理と、 を備えていることを特徴とする自爪の発育促進方法。 【請求項２】 前記除去処理おいて摘出される前記ルースキューティクルは、前記ポケット内において前記ネイルプレートの表面及び前記エポニキウムの裏面のどちらにも付着していないものだけでなく、前記ポケット内において前記ネイルプレートの表面又は前記エポニキウムの裏面に付着しているものも含まれる ことを特徴とする請求項１に記載の自爪の発育促進方法。 【請求項３】 前記除去処理後において表面保護剤を用いて前記表面保護剤が前記エポニキウムと前記ネイルプレートとの間に入り込まないように前記ネイルプレートの表面を保護する表面保護処理と、 を更に備えることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の自爪の発育促進方法。 【請求項４】 前記ネイルプレートの伸び方向を水平方向とし、前記ネイルプレートの裏側から表側に向かう方向かつ前記水平方向との直交方向を垂直方向としたとき、前記フリーエッジの端面の傾斜角が前記ネイルプレートの伸び方向から前記垂直方向に向かって段階的又は連続的に増加していくように前記フリーエッジの端面を段階的又は連続的に研磨するとともに前記フリーエッジとサイドラインとのつなぎ目を面取りする研磨処理と、 を更に備えることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の自爪の発育促進方法。 【請求項５】 前記除去処理においては、前記ルースキューティクルの除去後７～１４日以内に新たに生成された前記ルースキューティクルを除去する ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の自爪の発育促進方法。 第３ 特許異議申立ての理由の概要 特許異議申立人は、甲第１号証～甲第６号証（以下、証拠の番号に従って「甲１」などという。）を提出し、請求項１～５に係る特許は、下記の理由により取り消すべき旨主張している。 １ 本件発明１、２は、甲１に記載された発明、甲２に記載された事項及び甲３に開示された技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 ２ 本件発明３は、甲１に記載された発明、甲２に記載された事項、甲３に開示された技術常識及び甲４に開示された周知の技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 ３ 本件発明４は、甲１に記載された発明、甲２に記載された事項、甲３に開示された技術常識及び甲４、５に開示された周知の技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 ４ 本件発明５は、甲１に記載された発明、甲２、６に記載された事項、甲３に開示された技術常識及び甲４、５に開示された周知の技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 （証拠方法） 甲１：“ネイルテキスト”，インフォレスト株式会社，第２版，2004年7月31日，p.008，019－021 甲２：“ジェルネイルで爪が痛んでしまった人必見！自爪の健康にこだわった本質的ネイルケアサロン｜美ノ匠－ビノタクミ－”，[online]，2020年11月27日，株式会社ビーエイジア，［2022年12月15日検索］，インターネット<URL:https://web.archive.org/web/20201127145407/https://be-takumi.jp/feature_articles/grandcoeur/> 甲３：特開２０２０－９３１７０号公報 甲４：特開２０１６－１６０２２０号公報 甲５：渡邉季穂，“ネイルファイリングの正しいやり方！爪やすりでの爪の形の整え方”，All About Beauty，[online]，2020年9月1日，株式会社オールアバウト，［2022年12月26日検索］，インターネット<URL:https://web.archive.org/web/20201029225916/https://allabout.co.jp/gm/gc/44343/> 甲６：“手が美しい人の秘密は「爪の甘皮処理」にありました！ネイルケアの基本のき”，キナリノ，［online]，2020年11月29日，株式会社カカクコム，［2022年12月26日検索］，インターネット<URL:https://web.archive.org/web/20201129080601/https://kinarino.jp/cat5/34726> 第４ 特許異議申立ての理由についての判断 １ 甲１について （１） 甲１に記載された事項 甲１には以下の事項が記載されている（下線は当審にて付与した。）。 ・「ネイルケア 本来ネイルケアは、ツメの美しさを保つため、健康なツメの育成を促すために行われるもので、ネイル技術全般の、基本とされています。」（００８頁） ・「クリーンアップ １．ぬるま湯を入れたフィンガーボールに、液体ソープを１．２滴入れます。 ２．キューティクルリムーバーもしくは、キューティクルクリームをキューティクル付近になじませます。 ３．約２．３分フィンガーバスにつけて、キューティクルをふやかします。キューティクルが固い場合、温度が高めのお湯を使いましょう。」（０１９頁） ・「ネイルケアでの「クリーンアップ」とは、キューティクルを柔らかくふやかすところから、ガーゼクリーンの後のキューティクルニッパーを使ったルーズスキンの除去までをいいます。」（０１９頁） ・「 ［図：0001396335000001.jpg］ 」（０１９頁） ・「プッシュアップ 水で湿らせたバトネで、サイドウォールの端からキューティクルラインの中心に向かって、円を描くように薄皮を押し上げます。同じように反対側からも押し上げていきます。」（０１９頁） ・「メタルプッシャーを使うときも同じ要領ですが、金属なので、ツメの表面や、皮膚を傷つけないように注意しましょう。」（０１９頁） ・「「薄皮」は、ツメの表面に貼りついている薄い皮のことで「ルーズスキン」ともいいます。これがツメの成長を妨げていたり、カラーリングの時にでこぼこを作ります。」（０１９頁） ・「 ［図：0001396335000002.jpg］ 」（０１９頁） ・「ガーゼクリーンではルーズスキンや角質化したキューティクル、ささくれなどを除去します。基本的にはガーゼを使いますが、ガーゼでは除去できないものについては、キューティクルニッパーを使用します。」（０２０頁） ・「４．ガーゼクリーンでは取れなかった薄皮を、キューティクルニッパーでサイドウォールの端からプッシュアップと同じように除去していいます。また、ささくれがあるようでしたら、ここで除去します。 ５．ツメやその周辺の油分が失われているので、キューティクルオイルで保湿してあげるといいでしょう。キューティクルにすり込むようにします。」（０２０頁） ・「 ［図：0001396335000003.jpg］ 」（０２０頁） ・「キューティクルニッパーは刃物ですから取り扱いに注意してください。切るというより、「つまんで切断」するようにして使います。特にキューティクルを傷つけないように注意しましょう。」（０２０頁） ・「 ［図：0001396335000004.jpg］ 」（０２０頁） ・「保湿 ガーゼクリーンなどのあとには、油分が失われていますから、オイルなどで保湿してあげましょう。」（０２１頁） ・「 ［図：0001396335000005.jpg］ 」（０２１頁） （２） 甲１に記載された発明について 前記（１）の甲１の記載からすると、甲１には以下の発明が記載されていると認められる（以下「甲１発明」という。）。 （甲１発明） 「キューティクルリムーバーもしくはキューティクルクリームをキューティクル付近になじませ、ぬるま湯を入れたフィンガーバスにつけて、キューティクルを柔らかくふやかす処理と、 バトネ又はメタルプッシャーで、サイドウォールの端からキューティクルラインの中心に向かって、円を描くように薄皮を押し上げる処理と、 ガーゼ又はキューティクルニッパーにて、キューティクルを傷つけないように、ルーズスキンを除去する処理と、 ツメやその周辺をキューティクルオイルで保湿する処理と、 を備える健康なツメの育成を促す方法。」 ２ 甲２～６について （１） 甲２に記載された事項 ・「ここからが大切！爪の付け根にある半月板の部分を「爪母（そうぼ）と呼びますが、これは髪の毛に例えると毛根に当たる部分。甘皮との間に代謝物が溜まりますので、きちんと取り除き栄養を与えることで健やかな自爪が育ちやすくなるのだとか。代謝物を取り除き「ポケット」を作っていきます。」（３．キューティクルケアＩ） ・「 ［図：0001396335000006.jpg］ ［図：0001396335000007.jpg］ 」 （２） 甲３に記載された事項 ・「【０００９】 以下、本発明の一実施の形態に係る爪装飾方法について図面を参照して詳細に説明する。図１（Ａ）および（Ｂ）に示すように、人の指１は爪甲１１を有する。爪母２０は、爪甲１１を形成する部分である。後爪郭１４は、爪甲１１の爪根１１ａを固定している皮膚の部分である。側爪郭２２は、爪甲１１の側爪甲縁２１に接している皮膚の部分である。爪上皮１５は、後爪郭１４から爪甲１１側へ延出した皮膚の部分である。爪上皮角質１６は、爪上皮１５と爪甲１１との間に介在する角質の部分である。爪床１９は、爪甲１１が密着している部分である。爪下皮１７は、爪甲１１の裏側に固定されている。爪下皮角質１８は、爪下皮１７に連続し爪甲１１の裏側における爪下皮１７が固定されている部分（以下、適宜「イエローライン」と称する。）よりも爪先側（以下、適宜「フリーエッジ」と称する。）を覆っている。そして、爪甲１１の側爪甲縁２１におけるイエローラインと交わる部分が、応力が集中しやすいストレスポイントＳＰとなる。また、爪甲１１におけるフリーエッジは、爪甲１１のフリーエッジ以外の部分に比べて水分含有量が少ない。」 ・「【００１１】 初めに、爪甲１１に樹脂層が形成されていない状態から新たに爪甲１１を装飾する場合について説明する。まず、爪上皮角質１６を除去するいわゆる甘皮処理を行う。ここでは、例えばキューティクルニッパーとメタルプッシャーとを用いて、爪上皮角質１６の除去を行う。メタルプッシャーを用いる場合、例えば爪甲１１の表面に対して傾斜（好ましくは４５度程度傾斜）した方向からメタルプッシャーの先端部を当てた状態で、メタルプッシャーを爪上皮１５へ向かって押し上げる。そして、メタルプッシャーにより押し上げられたことにより捲れ上がった爪上皮角質１６を、キューティクルニッパーを用いて除去する。」 ・「【００３３】 その後、爪上皮角質１６を除去するいわゆる甘皮処理を行う。ここでは、例えばキューティクルニッパーとメタルプッシャーとを用いて、爪上皮角質１６の除去を行う。メタルプッシャーを用いる場合、例えば爪甲１１の表面に対して傾斜（好ましくは４５度程度傾斜）した方向からメタルプッシャーの先端部を当てた状態で、メタルプッシャーを爪上皮１５へ向かって押し上げる。そして、メタルプッシャーにより押し上げられたことにより捲れ上がった爪上皮角質１６を、キューティクルニッパーを用いて除去する。」 ・「【図１】 ［図：0001396335000008.jpg］ 」 （３） 甲４に記載された事項 ・「【００１９】 このネイルアートの形成を行うにあたり、光硬化型のネイルジェルを爪に塗る前に、予め前述したアグリカン溶液を塗り、アグリカンを含む指先保護層を設けておくことで、ＨＥＭＡ等のモノマーや、紫外線による損傷を防止することができる。また、このアグリカンを含む指先保護層を設ける工程は、サンディングや甘皮処理、ベースコート、カラーコート等の、光硬化型のネイルジェルによるトップコートを設ける前の工程のいずれかの段階で行っても良いし、トップコート後に行っても良い。特に、爪への浸透、保護効果を考えるとトップコート前に行っておいたほうが良い。」 （４） 甲５に記載された事項 ・「「ファイリング」とは、ネイルファイル（エメリーボード）を使って、爪の長さや形を整えること。」（「ネイルファイリングの正しいやり方！爪の形を整える方法」） ・「３．次にサイドを整えます。同様に一定方向に動かしましょう。シャープになり過ぎないように４５度程度の角度をつけて削ります。 ４．最後に角を整えます。同様に外側から中心に向かって一定方向に動かしましょう。ラウンドネイルはコーナーを丸く整えるのがポイントです。」（「ネイルファイリングのやり方・ラウンドネイルの作り方」）」 （５） 甲６に記載された事項 ・「甘皮には「キューティクル」と「ルースキューティクル」の２種類があります。」（「甘皮には「キューティクル」と「ルースキューティクル」の２種類がある」） ・「「甘皮のケア」は個人差はありますが、除去のしすぎに気をつけながら、１～２週間に１度の頻度で行うくらいがちょうどいいのだそう。ちょっと面倒に感じるなら、ネイルケアを行っているサロンにお任せするのもいいかもしれません」（「１～２週間に１度の頻度で行うのがおすすめ」） ・「次にプッシャー等で甘皮を押し上げます。」（「２．プッシャーで甘皮を押し上げる」） ３ 本件発明１についての検討 （１） 対比 ア 本件発明１と甲１発明とを、その機能に照らして対比する。 （ア） 甲１発明の「キューティクルを柔らかくふやかす処理」は、「キューティクルリムーバーもしくはキューティクルクリームをキューティクル付近になじませ、ぬるま湯を入れたフィンガーバスにつけて、キューティクルを柔らかくふやかす」処理であるところ、「キューティクルリムーバー」、「キューティクルクリーム」、「ぬるま湯」は、本件発明１の「軟質化処理剤」に相当する。 また、本件特許明細書に「エポニキウム２（別名：甘皮、キューティクル）」（【０００３】）と記載されていることから、甲１発明の「キューティクル」は、本件発明１の「エポニキウム」に相当し、甲１発明の「薄皮」は「ルーズスキン」ともいい（前記１（１））、「ルーズスキンを除去する処理」においてキューティクルニッパーにて除去されるものであるから、本件発明１の「ルースキューティクル」に相当する。 そして、甲１発明の「薄皮を押し上げる処理」において、「メタルプッシャーで、…薄皮を押し上げる」ことからすると、「キューティクルを柔らかくふやかす処理」において、「キューティクル」と同様に、「薄皮」も柔らかくふやかしていることは、技術的に明らかである。 そうすると、甲１発明の「キューティクルを柔らかくふやかす処理」は、本件発明１の「軟質化処理」と同様に、「軟質化処理剤を用いてエポニキウム及び前記ルースキューティクルを軟質化させる軟質化処理」であるといえる。 （イ） 甲１発明の「薄皮を押し上げる処理」は、「バトネ又はメタルプッシャーで、サイドウォールの端からキューティクルラインの中心に向かって、円を描くように薄皮を押し上げる」処理であるところ、「メタルプッシャー」は、本件発明１の「キューティクルプッシャ」に相当し、「サイドウォールの端からキューティクルラインの中心に向かって、…薄皮を押し上げる」動作は、甲１の図面（前記１（１））からもわかるように、ネイルプレートと薄皮との接触部に対してネイルプレートのフリーエッジ側からメタルプッシャーを押していく、といった動作ということができるとともに、「薄皮を押し上げる」ことにより「薄皮」を剥離させているといえる。 そうすると、甲１発明の「薄皮を押し上げる処理」は、本件発明１の「剥離処理」と、「前記軟質化処理後において前記ネイルプレートと前記ルースキューティクルとの接触部に対して前記ネイルプレートのフリーエッジ側から」「キューティクルプッシャ」を押していくことにより、「前記ネイルプレートの表面から」「前記ルースキューティクルを剥離させる剥離処理」との限りで一致する。 （ウ） 甲１発明の「ルーズスキンを除去する処理」は、「ガーゼ又はキューティクルニッパーにて、キューティクルを傷つけないように、ルーズスキンを除去する」処理であるところ、「キューティクルを傷つけないように、ルーズスキン」を除去することから、「ルーズスキン」のみを除去していることは技術的に明らかである。 そうすると、甲１発明の「ルーズスキンを除去する処理」は、本件発明１の「除去処理」と、「前記剥離処理後において」「前記エポニキウムに傷をつけることなく前記ルースキューティクルのみ」を除去する「除去処理」との限りで一致する。 （エ） 甲１発明の「保湿する処理」は、「ツメやその周辺をキューティクルオイルで保湿する」処理であるところ、「キューティクルオイル」は、本件発明１の「乾燥防止剤」に相当し、この「保湿する処理」に「キューティクルオイル」を塗布する行為が伴うことは技術的に明らかである。 そうすると、甲１発明の「保湿する処理」は、本件発明１の「乾燥防止処理」と、「前記除去処理後であって」「乾燥防止剤を塗布する乾燥防止処理」との限りで一致する。 （オ） 甲１発明の「健康なツメの育成を促す方法」は、本件発明１の「自爪の発育促進方法」に相当する。 （カ） 以上のとおりであるから、本件発明１と甲１発明とは、次の点で一致し、相違する。 （一致点） 「軟質化処理剤を用いてエポニキウム及び前記ルースキューティクルを軟質化させる軟質化処理と、 前記軟質化処理後において前記ネイルプレートと前記ルースキューティクルとの接触部に対して前記ネイルプレートのフリーエッジ側からキューティクルプッシャを押していくことにより、前記ネイルプレートの表面から前記ルースキューティクルを剥離させる剥離処理と、 前記剥離処理後において前記エポニキウムに傷をつけることなく前記ルースキューティクルのみを除去する除去処理と、 前記除去処理後であって乾燥防止剤を塗布する乾燥防止処理と、 を備えていることを特徴とする自爪の発育促進方法。」 （相違点１） 「剥離処理」に関し、本件発明１は、前記軟質化処理後において前記ネイルプレートと前記ルースキューティクルとの接触部に対して前記ネイルプレートのフリーエッジ側から「前記エポニキウムの下方まで」キューティクルプッシャを「押し込む」ことにより、前記ネイルプレートの表面から「前記エポニキウム」及び前記ルースキューティクルを剥離させるのに対し、甲１発明は、メタルプッシャーで、サイドウォールの端からキューティクルラインの中心に向かって、円を描くように薄皮を押し上げるものの、キューティクルの下方までメタルプッシャーを押し込むか不明であり、ネイルプレートの表面からキューティクルも剥離させるか不明である点。 （相違点２） 「除去処理」に関し、本件発明１は、前記剥離処理後において「前記エポニキウムと前記ネイルプレートとの間にできたポケットから」前記エポニキウムに傷をつけることなく前記ルースキューティクルのみを「摘出する」のに対し、甲１発明は、ガーゼ又はキューティクルニッパーにて、キューティクルを傷つけないように、ルーズスキンを除去するものの、キューティクルとネイルプレートとの間にできたポケットから、摘出するか不明である点。 （相違点３） 「乾燥防止処理」に関し、本件発明１は、前記除去処理後であって「剥離した前記エポニキウムが前記ネイルプレートに接触する前（すなわち前記ポケットが閉じる前）において前記エポニキウムと前記ネイルプレートとの間（すなわち前記ポケットの内部）」に乾燥防止剤を塗布するのに対し、甲１発明は、ツメやその周辺をキューティクルオイルで保湿するものの、剥離したキューティクルがネイルプレートに接触する前（すなわちポケットが閉じる前）においてキューティクルとネイルプレートとの間（すなわちポケットの内部）にキューティクルオイルを塗布するか不明である点。 （２） 判断 ア 相違点１について検討するに、甲１発明は、バトネ又はメタルプッシャーで、サイドウォールの端からキューティクルラインの中心に向かって、円を描くように薄皮を押し上げるものであるが、甲１には、キューティクルの下方までメタルプッシャーを押し込むことにより、ネイルプレートの表面からキューティクルも剥離させることについて特段記載はない。甲１に、プッシュアップの際、メタルプッシャーを使うとき、ツメの表面や、皮膚を傷つけないように注意すべき旨記載されていることも踏まえると（前記１（１））、積極的に、キューティクルの下方までメタルプッシャーを押し込むことにより、ネイルプレートの表面からキューティクルも剥離させることについて示唆があるとも解されない。 また、甲２には、爪母と甘皮との間に代謝物が溜まるので、この代謝物を取り除き「ポケット」を作る点が記載されているが（前記２（１））、これは、代謝物を取り除くことで「ポケット」を作ることを意味し、図面を併せてみても、ここでいう「ポケット」は、軟質化処理後においてネイルプレートとルースキューティクルとの接触部に対してネイルプレートのフリーエッジ側からエポニキウムの下方までキューティクルプッシャを押し込むことにより、ネイルプレートの表面からエポニキウム及びルースキューティクルを剥離させた後に、エポニキウムとネイルプレートとの間にできた「ポケット」を指すものとは認められない。 そして、甲３には、爪甲１１の表面に対して傾斜した方向からメタルプッシャーの先端部を当てた状態で、メタルプッシャーを爪上皮１５へ向かって押し上げ、メタルプッシャーにより押し上げられたことにより捲れ上がった爪上皮角質１６を、キューティクルニッパーを用いて除去する点が記載されているが（前記２（２）（【００１１】、【００３３】））、爪上皮１５（エポニキウム）の下方までメタルプッシャーを押し込むことにより、爪甲１１（ネイルプレート）の表面から爪上皮１５（エポニキウム）及び爪上皮角質１６（ルースキューティクル）を剥離させる点については記載、示唆はない。 さらに、甲６には、プッシャー等で甘皮を押し上げる点が記載されているが（前記２（５））、キューティクル（エポニキウム）の下方までプッシャーを押し込むことにより、ネイルプレートの表面からキューティクル（エポニキウム）及びルースキューティクルを剥離させる点については記載、示唆はない。 その他の証拠（甲４、５）をみても同様で、軟質化処理後においてネイルプレートとルースキューティクルとの接触部に対してネイルプレートのフリーエッジ側からエポニキウムの下方までキューティクルプッシャを押し込むことにより、ネイルプレートの表面からエポニキウム及びルースキューティクルを剥離させる点について記載、示唆はない。 このように、甲１発明において、キューティクルの下方までメタルプッシャーを押し込むことにより、ネイルプレートの表面からキューティクルも剥離させること、すなわち、前記相違点１に係る構成とすることについて、動機付けは特段認められない。 そうすると、相違点２、３について検討するまでもなく、本件発明１は、甲１発明及び甲２～６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとは認められない。 ４ 本件発明２～５についての検討 本件発明２～５は、本件発明１を特定するための事項を全て含むものであるから、その余の事項を検討するまでもなく、本件発明２～５は、本件発明１と同様の理由により、甲１発明及び甲２～６に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとは認められない。 第５ むすび 以上のとおり、本件特許（請求項１～５に係る特許）は、特許法２９条２項の規定に違反してされたものとは認められないから、特許異議申立ての理由により取り消すことはできない。 また、他に本件特許を取り消すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり決定する。