2023-017092

特願２０２２－１０３１５２「メタルマスク」拒絶査定不服審判事件〔令和 ４年 ８月１９日出願公開、特開２０２２－１２１５３７〕について、次のとおり審決する。

結 論 本件審判の請求は、成り立たない。

理 由 第１ 手続の経緯 本願は、平成２５年１２月２７日に出願した特願２０１３－２７３５１２号の一部を平成３０年１月２３日に新たな特許出願（特願２０１８－００８７７７号）とし、その一部を平成３１年１月１１日に新たな特許出願（特願２０１９－００３１５５号）とし、その一部を令和２年１月２２日に新たな特許出願（特願２０２０－００８５５４号）とし、その一部を令和３年４月２２日に新たな特許出願（特願２０２１－０７２８２５号）とし、その一部を令和４年６月２８日に新たな特許出願としたものであって、令和５年４月７日付けの拒絶理由の通知に対し、同年６月１６日に意見書が提出されるとともに手続補正がなされたが、同月２６日付けで拒絶査定（以下「原査定」という。同年７月１１日：原査定の謄本の送達）がなされ、これに対して同年１０月１０日に審判の請求がなされると同時に手続補正がなされたものである。 第２ 令和５年１０月１０日にされた手続補正についての補正の却下の決定 ［補正の却下の決定の結論］ 令和５年１０月１０日にされた手続補正を却下する。 ［理由］ １．補正の内容 令和５年１０月１０日付け手続補正書による補正（以下「本件補正」という。）は、特許請求の範囲について、下記（１）に示す本件補正前の（すなわち、令和５年６月１６日に提出された手続補正書により補正された）特許請求の範囲を、下記（２）に示す本件補正後の特許請求の範囲へと補正することを含むものである。 （１）本件補正前の特許請求の範囲 「 【請求項１】 一群のパターン開口（１）を備えたマスク版（５）と、前記パターン開口（１）に対応する一群の調整開口（３）を備えたスキージ版（６）とを備えているメタルマスクであって、 前記調整開口（３）には、開口内面同士を繋ぐ調整リブ（９）が形成され、 前記調整リブ（９）は、前記調整開口（３）を構成する辺に対して傾斜した状態で形成されており、 前記調整リブ（９）の幅寸法ｗ２は、８μｍ以上２０μｍ以下に設定され、 前記調整リブ（９）の傾斜角度は、２０度以上７０度以下に設定されていることを特徴とするメタルマスク。 【請求項２】 隣接する前記調整リブ（９）は、互いに逆向きに傾斜する状態で形成されていることを特徴とする請求項１に記載のメタルマスク。 【請求項３】 前記調整リブ（９）は、第１リブ（９ａ）と第２リブ（９ｂ）とで構成され、前記第１リブ（９ａ）および前記第２リブ（９ｂ）が互いに交差する状態で配置されていることを特徴とする請求項１に記載のメタルマスク。」 （２）本件補正後の特許請求の範囲 下線は、補正箇所を示すために、合議体が付したものである。 「 【請求項１】 一群のパターン開口（１）を備えたマスク版（５）と、前記パターン開口（１）に対応する一群の調整開口（３）を備えたスキージ版（６）とを備えているメタルマスクであって、 前記マスク版（５）の厚み寸法ｔ１は、６μｍ以上１００μｍ以下に設定され、前記スキージ版（６）の厚み寸法ｔ２は、３μｍ以上２０μｍ以下に設定され、前記スキージ版（６）と前記マスク版（５）との厚み寸法の比率は、１:１．５から１：５に設定されており、 前記調整開口（３）には、開口内面同士を繋ぐ調整リブ（９）が形成され、 前記調整リブ（９）は、前記調整開口（３）を構成する辺に対して傾斜した状態で形成されており、 前記調整リブ（９）の幅寸法ｗ２は、８μｍ以上２０μｍ以下に設定され、 前記調整リブ（９）の傾斜角度は、２０度以上７０度以下に設定されていることを特徴とするメタルマスク。 【請求項２】 隣接する前記調整リブ（９）は、互いに逆向きに傾斜する状態で形成されていることを特徴とする請求項１に記載のメタルマスク。 【請求項３】 前記調整リブ（９）は、第１リブ（９ａ）と第２リブ（９ｂ）とで構成され、前記第１リブ（９ａ）および前記第２リブ（９ｂ）が互いに交差する状態で配置されていることを特徴とする請求項１に記載のメタルマスク。」 ２．補正の適否 （１）補正の目的について 前記１．（１）及び（２）によれば、本件補正は、本件補正前の請求項１における発明を特定するために必要な事項である「マスク版（５）」及び「スクリーン版（６）」について、「前記マスク版（５）の厚み寸法ｔ１は、６μｍ以上１００μｍ以下に設定され、前記スキージ版（６）の厚み寸法ｔ２は、３μｍ以上２０μｍ以下に設定され、前記スキージ版（６）と前記マスク版（５）との厚み寸法の比率は、１:１．５から１：５に設定されて」いるとの厚み寸法を限定するものである。 そして、本件補正前の請求項１に記載された発明と本件補正後の請求項１に記載される発明とは、産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一である。 そうすると、補正事項は、特許法第１７条の２第５項第２号に規定する「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものに該当する。 （２）新規事項の追加の有無について 本件補正は、本願の願書に最初に添付した明細書における【００２９】の記載に基づくものであり、新たな技術的事項を導入するものではないから、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たす。 ３．独立特許要件について 前記２．（１）のとおり、本件補正は、「特許請求の範囲の減縮」を目的とするから、本件補正後の請求項１～３に係る発明が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に適合するか）について、以下、検討する。 （１）補正後の本願発明 本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本件補正発明」という。）は、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、本件補正後の請求項１の記載を再掲すると、次のとおりである。 「 【請求項１】 一群のパターン開口（１）を備えたマスク版（５）と、前記パターン開口（１）に対応する一群の調整開口（３）を備えたスキージ版（６）とを備えているメタルマスクであって、 前記マスク版（５）の厚み寸法ｔ１は、６μｍ以上１００μｍ以下に設定され、前記スキージ版（６）の厚み寸法ｔ２は、３μｍ以上２０μｍ以下に設定され、前記スキージ版（６）と前記マスク版（５）との厚み寸法の比率は、１:１．５から１：５に設定されており、 前記調整開口（３）には、開口内面同士を繋ぐ調整リブ（９）が形成され、 前記調整リブ（９）は、前記調整開口（３）を構成する辺に対して傾斜した状態で形成されており、 前記調整リブ（９）の幅寸法ｗ２は、８μｍ以上２０μｍ以下に設定され、 前記調整リブ（９）の傾斜角度は、２０度以上７０度以下に設定されていることを特徴とするメタルマスク。」 （２）引用文献１ ア 引用文献１の記載事項 原査定で引用文献１として引用され、本願の出願前に日本国内又は外国において、頒布され又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった特開平１０－２７８４４４号公報（平成１０年１０月２０日公開、以下「引用文献１」という。）には、次の事項が記載されている（下線は合議体が付した。以下同じ。）。 （ア）「【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、厚膜ペースト印刷用スクリーン及びその製造方法に係り、特に、基板上に回路パターンを形成するため、ペーストの印刷塗布に用いるのに好適な厚膜ペースト印刷用スクリーン及びその製造方法に関する。」 （イ）「【０００４】 【発明が解決しようとする課題】・・・ 【０００５】一方、縦横に編込まれたメッシュ線は、メタル薄板のペースト遮蔽膜に形成されるペースト透過用の開口部に重なって配設されるため、開口部を塞いでペーストの透過を阻害して、印刷かすれ等の印刷膜欠陥を生じる恐れがある。そこで、この欠陥を無くするために、スクリーンのメッシュ線材の線径としては、少なくとも開口幅の１／２以下である２０μｍから５０μｍの線径のメッシュを使用する。ここで、メッシュ線材の線径が細くなるに従って低下する機械的強度を補うため、メッシュの編込み密度を高め、印刷時のスキージの移動によるスクリーン変形に対する耐性を得るようにしている。」 （ウ）「【００１０】本発明の目的は、印刷された膜の凹凸差が小さく、熱処理後の断線の低減する厚膜ペースト印刷用スクリーン及びその製造方法を提供することにある。 【００１１】 【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、本発明は、基板表面に形成される回路パターンに応じた開口部を有するペースト遮蔽膜と、このペースト遮蔽膜を支持する遮蔽膜支持部材とからなり、上記ペースト遮蔽膜の上記開口部を透過して厚膜ペーストを基板表面に印刷して回路パターンを形成する厚膜ペースト印刷用スクリーンにおいて、上記遮蔽膜支持部材は、上記開口部に対応した位置において、上記基板表面と平行であるとともに、上記開口部の上面と接して、上記開口部を横切るように配設されている線状部を備えるようにしたものであり、かかる構成により、印刷された膜の凹凸差が小さく、熱処理後の断線を低減し得るものとなる。」 （エ）「【００１８】スクリーンのペースト透過部１００は、３００ｍｍ角であり、ペースト遮蔽膜１１０と、遮蔽膜支持部材１２０とから構成されている。ペースト遮蔽膜１１０は、印刷する厚膜ペーストが通過するための開口部１３０を有している。図示の例では、開口部１３０は、 線幅５０μｍの開口部１３０Ａと、線幅７０μｍの開口部１３０Ｂと、線幅９０μｍの開口部１３０Ｃと、線幅３０μｍの開口部１３０Ｄとを有している。これらの線幅は、製造したスクリーンを評価するためのものであり、実際のスクリーンにあっては、印刷すべき回路パターンに応じた線幅の開口部が形成される。開口部１３０は、実際の寸法よりも拡大して、模式的に図示している。 【００１９】遮蔽膜支持部材１２０は、開口部１３０を有するペースト遮蔽膜１１０を支持する部材であり、従来の編込みメッシュの代わりに本実施形態において用いているものである。遮蔽膜支持部材１２０は、図２，図３，図４を用いて、詳細に後述するように、開口部１３０を幅方向に横切るように配設されたスリット状の線状部１４０を備えている。」 （オ）「【００２２】図２に示すように、線幅の異なる開口部１３０Ａ，１３０Ｂ，１３０Ｃ，１３０Ｄは、細長いスリット状となっている。これらのスリット状の開口部１３０Ａ，１３０Ｂ，１３０Ｃ，１３０Ｄを幅方向に横切るように、遮蔽膜支持部材１２０の線状部１４０が等間隔でスリット状に配設されている。線状部１４０のピッチは、１００μｍであり、線状部１４０の幅は、２０μｍである。」 （カ）「【００２５】（１）ペースト遮蔽膜の形成 ステンレス板を導電性下地板２００とし、めっき膜の剥離処理を施した後、その表面に感光性めっきレジスト材を塗布し、仮硬化して３００ｍｍ角で３０μｍ厚さのレジスト膜を形成する。線幅が３０μｍ，５０μｍ，７０μｍ，９０μｍのパターンを描いたホトマスクを介し、露光と現像により膜幅が３０μｍ，５０μｍ，７０μｍ，９０μｍのレジスト膜２０５を残した（図４（ａ））。 【００２６】次に、Ｎｉ電気めっき槽に浸漬し、導電性下地板２００を電極として電気めっきによりレジスト膜間にレジスト膜と同じ高さまでＮｉめっき膜を電着析出させ、Ｎｉめっき膜２１０とレジスト膜２０５とから成る混成膜層２１５を形成した（図４（ｂ））。 【００２７】後述する処理を経て、最終的には、レジスト膜２０５の部分が、図１に示したペースト透過用の開口部１３０となり、Ｎｉめっき膜２１０の部分が、ペースト遮蔽膜１１０となる。 【００２８】（２）ペースト遮蔽膜の支持部材の形成 作製したＮｉめっき膜２１０とレジスト膜２０５とから成る混成膜層２１５の表面全面に、蒸着等により金属薄膜２２０を形成した（図４（ｃ））。金属薄膜２２０としては、クロム（Ｃｒ）を用い、その膜厚は、０．１μｍとしている。 【００２９】金属薄膜２２０の表面に感光性めっきレジスト材を塗布し、仮硬化して３００ｍｍ角で２０μｍ厚さのレジスト膜を形成する。最終的にペースト透過用開口部に当たる下地混成膜層のレジスト膜の上で、１００μｍピッチ（Ｌ１）で線幅（Ｌ２）が２０μｍのＮｉめっき膜が線状に残るようにパターンを形成したホトマスクを介し、レジスト膜を露光・現像し、島状のレジスト膜２２５を残した（図４（ｄ））。島状のレジスト膜２２５のピッチＬ１が、１００μｍであり、レジスト膜が除去された部分の幅Ｌ２が２０μｍである。 【００３０】続いて、金属薄膜２２０を電極として、さらにＮｉ電気めっき槽に浸漬して、厚さ２０μｍのＮｉめっき膜２３０を、下地のＮｉめっき膜２１０とレジスト膜２０５とからなる混成膜層２１５の上に電着析出させた（図４（ｅ））。 【００３１】次いで、ステンレス板からなる導電性下地板２００から、その表面に形成したＮｉめっき膜２１０，２３０とレジスト膜２０５，２２５の積層構成の膜を剥がし、レジスト膜２０５，２２５及びこの間に形成した金属薄膜２２０を溶解除去した。これによって、幅が３０μｍ，５０μｍ，７０μｍ，９０μｍの開口部１３０を有するペースト遮蔽膜１１０と、開口部１３０の上方にＮｉめっき膜の線状物１４０を等間隔で配設された遮蔽膜支持部材１２０とからなるスクリーンのペースト透過部１００が形成された（図４（ｆ））。」 （キ）「【００３６】横軸には、実施例１及び比較例における開口幅（３０μｍ，５０μｍ，７０μｍ，９０μｍ）をそれぞれ示している。開口部を透過して印刷される印刷膜は、開口部に対応する位置の中で、本実施形態における線状部若しくは比較例における編込みメッシュの下の位置では、線状部若しくはメッシュによってペーストの透過が阻害されるため、凹部となり、一方、線状部若しくはメッシュによってペーストの透過が阻害されない部分では、凸部となり、印刷膜は、凹凸部を有することになる。」 （ク）「【００４０】また、Ｎｉめっき膜に所定の幅の開口部を設けるメタルスクリーンの構成としたため、寸法精度や位置合わせ精度を向上することができる。」 （ケ）「【図２】 ［図：0001414989000001.jpg］ 」 （コ）「【図３】 ［図：0001414989000002.jpg］ 」 （サ）「【図４】 ［図：0001414989000003.jpg］ 」 イ また、引用文献１について、以下の事項が把握できる。 （ア）前記ア（ケ）の図２には、遮蔽膜支持部材１２０において、開口部１３０Ａ，１３０Ｂ，１３０Ｃ，１３０Ｄが図示される。また、前記ア（コ）の図３からは、遮蔽膜支持部材１２０には、開口があり、開口部１３０と辺を共通にした開口であること、遮蔽膜支持部材１２０の線状部１４０は、遮蔽膜支持部材１２０の開口内面同士を繋いでいること、及び、遮蔽膜支持部材１２０の開口を構成する辺に対して傾斜していないことが見て取れる。 前記ア（ウ）の「上記遮蔽膜支持部材は、上記開口部に対応した位置において、上記基板表面と平行であるとともに、上記開口部の上面と接して、上記開口部を横切るように配設されている線状部を備える」との記載も合わせれば、遮蔽膜支持部材１２０の開口は、ペースト遮蔽膜１１０の開口部１３０に対応していると認められる。 （イ）前記ア（カ）の「（１）ペースト遮蔽膜の形成」の記載によれば、３０μｍ厚さのレジスト膜を形成し、レジスト膜と同じ高さまでＮｉめっき膜を電着析出させ、Ｎｉめっき膜２１０とし、最終的に、Ｎｉめっき膜２１０の部分が、ペースト遮蔽膜１１０となるから、ペースト遮蔽膜１１０は、３０μｍの厚さ寸法に設定されていると認められる。 （ウ）前記ア（サ）の図４（ｆ）から、ペースト遮蔽膜１１０の上方に線状部１４０が設けられる遮蔽膜支持部材１２０が配置されることが、同図（ｅ）から、Ｎｉめっき膜２１０の上方にＮｉめっき膜２３０とレジスト膜２２５が配置されることが見て取れる。 そして、前記ア（カ）の「金属薄膜２２０を電極として、さらにＮｉ電気めっき槽に浸漬して、厚さ２０μｍのＮｉめっき膜２３０を、下地のＮｉめっき膜２１０とレジスト膜２０５とからなる混成膜層２１５の上に電着析出させた（図４（ｅ））。・・・次いで、ステンレス板からなる導電性下地板２００から、その表面に形成したＮｉめっき膜２１０，２３０とレジスト膜２０５，２２５の積層構成の膜を剥がし、レジスト膜２０５，２２５及びこの間に形成した金属薄膜２２０を溶解除去した。これによって、幅が３０μｍ，５０μｍ，７０μｍ，９０μｍの開口部１３０を有するペースト遮蔽膜１１０と、開口部１３０の上方にＮｉめっき膜の線状物１４０を等間隔で配設された遮蔽膜支持部材１２０とからなるスクリーンのペースト透過部１００が形成された（図４（ｆ））。」との記載と前記（イ）のとおり、Ｎｉめっき膜２１０の部分が、ペースト遮蔽膜１１０となることをふまえれば、厚さ２０μｍのＮｉめっき膜２３０が、遮蔽膜支持部材１２０となることは明らかである。 したがって、遮蔽膜支持部材１２０は、２０μｍの厚さ寸法に設定されていると認められる。 （エ）前記（イ）、（ウ）より、遮蔽膜支持部材１２０とペースト遮蔽膜１１０との厚み寸法の比率は、２０μｍ：３０μｍであるから、１：１．５に設定されていると認められる。 （オ）前記ア（イ）の発明が解決しようとする課題における「メッシュ線材の線径が細くなるに従って低下する機械的強度を補うため、メッシュの編込み密度を高め、印刷時のスキージの移動によるスクリーン変形に対する耐性を得るようにしている」との記載から、引用文献１に記載の厚膜ペースト印刷用スクリーンを用いる印刷時には、スキージの移動が行われることが把握できる。 （カ）前記ア（ケ）の図２において、開口部１３０Ａ，１３０Ｂ，１３０Ｃ，１３０Ｄを構成する辺は遮蔽膜支持部材１２０全体の辺と略同一の方向に延びていることが把握できる。 ここで、厚膜ペースト印刷用スクリーンを用いた印刷技術分野において、一般に、スキージは方形のスクリーンの辺に沿った方向で摺動して移動することが技術常識であるところ、引用文献１に記載の厚膜ペースト印刷用スクリーンにおけるスキージの移動は、３００ｍｍ角のスクリーンのペースト透過部を構成する遮蔽膜支持部材のいずれかの辺に沿った方向、すなわち、前記ア（ケ）の図２において、左右方向又は上下方向となるものと解される。そうすると、引用文献１記載の厚膜ペースト印刷用のスクリーンは、開口部１３０を構成する辺のいずれか一辺が延びる方向とスキージの摺動方向は略等しいものと把握できる。 また、前記（ア）より、遮蔽膜支持部材１２０の開口は、ペースト遮蔽膜１１０の開口部１３０と辺を共通にするから、同様に、引用文献１記載の厚膜ペースト印刷用のスクリーンは、遮蔽膜支持部材１２０の開口を構成する辺のいずれか一辺が延びる方向とスキージの摺動方向は略等しいものと把握できる。 （キ）前記ア（オ）の「線幅の異なる開口部１３０Ａ，１３０Ｂ，１３０Ｃ，１３０Ｄは、細長いスリット状となっている。」との記載、及び、前記ア（ケ）の図２より、線幅の異なる開口部は、それぞれ独立した開口部であることが把握できる。 ウ 引用発明１ 前記ア及びイより、引用文献１には、次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されているものと認められる。 「 幅が３０μｍ，５０μｍ，７０μｍ，９０μｍのそれぞれ独立したスリット状の開口部であって、厚膜ペーストが通過するための開口部を有するペースト遮蔽膜と、ペースト遮蔽膜の上方に配置され、Ｎｉめっき膜の線状部が等間隔で配設された遮蔽膜支持部材とからなる、３００ｍｍ角のペースト透過部が形成された厚膜ペースト印刷用スクリーンであって、 印刷時にはスキージの移動が行われ、遮蔽膜支持部材の開口を構成する辺のいずれか一辺が延びる方向とスキージの摺動方向は略等しく、 遮蔽膜支持部材は開口を有し、遮蔽膜支持部材の開口は、ペースト遮蔽膜の開口部に対応しており、線状部は、遮蔽膜支持部材の開口内面同士を繋ぎ、線状部の下の位置では、線状部によってペーストの透過が阻害され、 Ｎｉめっき膜に所定の幅の開口部を設けるメタルスクリーンの構成であり、 ペースト遮蔽膜の厚み寸法は、２０μｍに設定され、遮蔽膜支持部材の厚み寸法は、３０μｍに設定され、遮蔽膜支持部材とペースト遮蔽膜との厚み寸法の比率は、１：１．５に設定されており、 線状部の幅は、２０μｍであり、 線状部は、遮蔽膜支持部材の開口を構成する辺に対して傾斜していない、 厚膜ペースト印刷用スクリーン」 （３）引用文献２ ア 引用文献２の記載事項 原査定で引用文献２として引用され、本願の出願前に日本国内又は外国において、頒布され又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった特開２００５－０３２７９４号公報（平成１７年２月３日公開、以下「引用文献２」という。）には、次の事項が記載されている。 （ア）「【０００１】 【発明の属する技術分野】 本発明は、部品実装基板を構成する基板にクリーム半田を印刷する印刷用マスク及びそれを用いた部品実装基板の製造方法に関するものである。」 （イ）「【００２０】 【発明の実施の形態】 本発明の請求項１に記載の印刷用マスクは、下面を基板に当接させ上面にスキージを摺動させてパターン孔を介して前記基板にクリーム半田を印刷する印刷用マスクであって、前記パターン孔の開口部内に前記スキージの摺動方向に対し傾斜して形成され前記開口部を複数に区画する１以上の連結部を備えた構成を有している。 【００２１】 この構成により、以下のような作用が得られる。 【００２２】 （１）パターン孔の開口部内にスキージの摺動方向に対し傾斜して形成され開口部を複数に区画する１以上の連結部が形成されているので、クリーム半田の印刷時に、連結部が形成されてない場合や連結部がスキージの摺動方向と平行方向に形成された場合と比較して、スキージが開口部に入り込もうと変形する印刷用マスクの肉厚方向の変形量を小さくすることができ、スキージが開口部内に入り込み難いので、基板に印刷されたクリーム半田がスキージで掻き出されたり抉られたりするのを防止することができ印刷欠陥の発生を防止することができる。 【００２３】 （２）連結部がパターン孔の開口部内にスキージの摺動方向に対して傾斜して形成されているので、クリーム半田の印刷時に開口部内に入り込んだスキージの変形が、スキージの摺動に伴って連結部に沿って徐々に復元されるため、スキージの復元力によって印刷されたクリーム半田が抉られたり掻き出されたりするのを防止できる。連結部を有しなかったり連結部がスキージの摺動方向と平行方向や直交方向に形成されている場合は、開口部内に入り込んで変形したスキージが開口部の縁部で一気に復元するため、スキージの復元力が大きく印刷されたクリーム半田が掻き出され易いからである。」 （ウ）「【００２６】 ここで、印刷用マスクとしては、ステンレス製等の金属製や合成樹脂製、ガラス製等で板状に形成されたものが用いられる。」 （エ）「【００３５】 （１）連結部の傾斜角度が、スキージの摺動方向及び／又は部品の電極側面に対し２０～７０°好ましくは３０～６０°の角度で形成されているので、連結部で開口部を所望する大きさや数に区画することができ開口部の周部の機械的強度を高め耐久性に優れるとともに、変形したスキージが開口部内に入り込み難く、さらに変形したスキージの復元力を小さくすることができ、印刷されたクリーム半田が抉られたり掻き出されたりするのを防止できる。」 （オ）「【００４９】 次に、印刷工程でパターン孔２を介して基板に印刷されたクリーム半田の上にＩＣ，抵抗，コンデンサ等の電子部品を載置するとともに、パターン孔３を介してクリーム半田が印刷された基板の電極１０に、連結部５を除いて印刷・形成されたクリーム半田の壁面１１ａと部品としてのシールドケース１２の電極側面とが斜交するようにシールドケース１２を載置する（部品載置工程、図２（ｂ）参照）。」 （カ）「【００７４】 請求項３に記載の発明によれば、請求項１又は２の効果に加え、 （１）連結部の傾斜角度が、スキージの摺動方向及び／又は部品の電極側面に対し２０～７０°好ましくは３０～６０°の角度で形成されているので、連結部で開口部を所望する大きさや数に区画することができ開口部の周部の機械的強度を高め耐久性に優れるとともに、変形したスキージが開口部内に入り込み難く、さらに変形したスキージの復元力を小さくすることができ、印刷されたクリーム半田が抉られたり掻き出されたりするのを防止でき印刷欠陥の発生を防止する印刷用マスクを提供することができる。」 イ 引用発明２ 前記アより、引用文献２には、次の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されているものと認められる。 「下面を基板に当接させ上面にスキージを摺動させてパターン孔を介して前記基板にクリーム半田を印刷する金属製の印刷用マスクであって、前記パターン孔の開口部内に前記スキージの摺動方向に対し傾斜して形成され前記開口部を複数に区画する１以上の連結部を備え、 連結部の傾斜角度は、スキージの摺動方向に対し２０～７０°の角度で形成されており、 連結部を除いてクリーム半田は印刷・形成され、 連結部がスキージの摺動方向と平行方向や直交方向に形成されている場合は、開口部内に入り込んで変形したスキージが開口部の縁部で一気に復元するため、スキージの復元力が大きく印刷されたクリーム半田が掻き出され易いから、連結部がスキージの摺動方向に対して傾斜して形成されている構成により、クリーム半田の印刷時に開口部内に入り込んだスキージの変形が、スキージの摺動に伴って連結部に沿って徐々に復元されるため、スキージの復元力によって印刷されたクリーム半田が抉られたり掻き出されたりするのを防止でき、印刷欠陥の発生を防止することができる印刷用マスク」 （４）対比 本件補正発明１と引用発明１とを対比する。 ア 引用発明1の「ペースト遮蔽膜」は、「厚膜ペーストが通過するための開口部を有する」ものであるから、本件補正発明1の「マスク版」に相当する。また、引用発明1の「ペースト遮蔽膜」の「幅が３０μｍ，５０μｍ，７０μｍ，９０μｍのそれぞれ独立したスリット状の開口部」の「開口部」は、本件補正発明1の「一群のパターン開口」に相当する。したがって、本件補正発明1の「マスク版」と引用発明1の「ペースト遮蔽膜」は、「一群のパターン開口を備えた」点で一致する。 イ 引用発明１の「厚膜ペースト印刷用スクリーン」は、スキージの移動が行われる印刷に用いられるものであり、引用発明1の「遮蔽膜支持部材」は、「ペースト遮蔽膜」の上方に配置されるから、スキージの移動が行われる厚膜ペースト印刷分野の技術常識をふまえれば、「遮蔽膜支持部材」がスキージ側にあることは明らかである。また、引用発明1の「遮蔽膜支持部材」は「開口を有」するから、本件補正発明１の「スキージ版」に相当する。 ウ 引用発明１の「遮蔽膜支持部材の開口」には、「線状部」が配設され、線状部の下の位置では、線状部によってペーストの透過が阻害されるから、「遮蔽膜支持部材の開口」を透過するペーストの量は調整されるといえる。 したがって、引用発明1の「遮蔽膜支持部材の開口」、「線状部」は、それぞれ、本件補正発明１の「調整開口」、「調整リブ」に相当する。 エ 引用発明1の「遮蔽膜支持部材の開口」は、「ペースト遮蔽膜の開口部」、すなわち、「幅が３０μｍ，５０μｍ，７０μｍ，９０μｍのそれぞれ独立したスリット状の開口部」に対応しているから、前記ア～ウより、本件補正発明1の「スキージ版」と引用発明1の「遮蔽膜支持部材」は、「パターン開口に対応する一群の調整開口を備えた」ものである点で一致する。 オ 引用発明1の「厚膜ペースト印刷用スクリーン」は、「Ｎｉめっき膜に所定の幅の開口部を設けるメタルスクリーンの構成」であり、その材質及び構造からみて、本件補正発明１の「メタルマスク」に相当する。 カ 引用発明１の「線状部」は、「遮蔽膜支持部材の開口」の開口内面同士を繋ぐから、本件補正発明1の「遮蔽膜支持部材の開口」と引用発明1の「調整開口」は、「開口内面同士を繋ぐ部材が形成される」との概念で一致する。 キ 引用発明1の「ペースト遮蔽膜の厚み寸法」は、「３０μｍに設定され」るから、本件補正発明１の「マスク版（５）の厚みｔ１は、６μｍ以上１００μｍ以下に設定され」るとの要件を満たし、引用発明1の「遮蔽膜支持部材の厚み寸法」は、「２０μｍに設定され」るから、本件補正発明１の「スキージ版（６）の厚み寸法ｔ２は、３μｍ以上２０μｍ以下に設定され」るとの要件を満たし、引用発明1の「遮蔽膜支持部材とペースト遮蔽膜との厚み寸法の比率」は、「１：１．５に設定されて」いるから、本件補正発明１の「スキージ版（６）とマスク版（５）との厚み寸法の比率は、１:１．５から１：５に設定されて」いるとの要件を満たす。。 ク 引用発明1の「線状部」は、「幅寸法」が「２０μｍ」であるから、本件補正発明１の「調整リブ（９）の幅寸法ｗ２は、８μｍ以上２０μｍ以下に設定され」ているとの要件を満たす。 そうすると、本件補正発明１と引用発明１とは、 ［一致点］ 「一群のパターン開口を備えたマスク版と、前記パターン開口に対応する一群の調整開口を備えたスキージ版とを備えているメタルマスクであって、 前記マスク版の厚み寸法ｔ１は、６μｍ以上１００μｍ以下に設定され、前記スキージ版の厚み寸法ｔ２は、３μｍ以上２０μｍ以下に設定され、前記スキージ版と前記マスク版との厚み寸法の比率は、１:１．５から１：５に設定されており、 前記調整開口には、開口内面同士を繋ぐ調整リブが形成され、 前記調整リブの幅寸法ｗ２は、８μｍ以上２０μｍ以下に設定されているメタルマスク」 である点で一致し、以下の点で相違する。 ［相違点］ 本件補正発明１においては、「調整リブ」が、「調整開口を構成する辺に対して傾斜した状態で形成されており」、「傾斜角度は、２０度以上７０度以下に設定されている」のに対して、引用発明１の「線状部」は、遮蔽膜支持部材の開口を構成する辺に対して傾斜していない点。 （５）判断 上記相違点について検討する。 ア 引用発明２の「連結部」は、開口部を複数に区画するものであり、連結部を除いてクリーム半田が印刷・形成されるものであるから、印刷・形成されるクリーム半田の量は連結部により調整されているといえ、本件補正発明１の「調整リブ」に相当する。 そして、引用発明１の厚膜ペースト印刷用スクリーンと引用発明２の印刷用マスクは、ともに印刷による回路基板製造に用いるスクリーン部材という共通の技術分野に属し、かつまた、引用発明1の厚膜ペースト印刷用スクリーンにおいても、スキージの移動が行われるものであり、スキージの変形に起因する印刷欠陥の発生の防止は、内在する課題であることは当業者に明らかである。 したがって、引用発明１の線状部に対し、引用発明２のスキージの摺動方向に対し傾斜して形成され、傾斜角度は、スキージの摺動方向に対し２０～７０°の角度である連結部の構成を採用することは、当業者が容易に想到し得るものである。 このとき、引用発明１のスキージの摺動方向と遮蔽膜支持部材の開口のいずれか一辺の延びる方向は略等しいから、線状部は、遮蔽膜支持部材の開口を構成する辺に対して傾斜して形成され、傾斜角度は、２０～７０°に設定されるものである。 したがって、引用発明１の線状部に対し、引用発明２のスキージの摺動方向に対し傾斜して形成される連結部を採用することで、上記相違点に係る発明特定事項となすことは当業者が容易に想到し得るものであるといえる。 イ そして、引用発明１のスクリーンの厚み寸法や線状部の幅寸法、引用発明２の傾斜角度が本件補正発明１と同様の寸法を有しており、スクリーンの強度や加工性、良好なパターン形成するのに好適な数値であることは把握できるから、本件補正発明１の奏する作用効果は、当業者が予測し得る程度のものにすぎない。 ウ 審判請求人は、令和５年１０月１０日に提出した審判請求書３．（２）において、「引用文献１および２には、今回補正した本願発明の構成、すなわち、マスク版の厚み寸法が６μｍ以上１００μｍ以下に設定され、スキージ版の厚み寸法が３μｍ以上２０μｍ以下に設定され、スキージ版とマスク版との厚み寸法の比率が１:１．５から１：５に設定された構成については、記載されて いません。」と主張している。 しかしながら、前記（２）イ（イ）～（エ）での検討のとおり、引用文献１には、「マスク版の厚み寸法が６μｍ以上１００μｍ以下に設定され、スキージ版の厚み寸法が３μｍ以上２０μｍ以下に設定され、スキージ版とマスク版との厚み寸法の比率が１:１．５から１：５に設定された」構成について記載があるといえる。 したがって、審判請求人の主張は採用することができない。 エ したがって、本件補正発明１は、引用発明１及び２に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、本件補正発明１は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 ４．補正の却下の決定のむすび 前記３．より、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 よって、上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。 第３ 本願発明について １．本願発明 本件補正は上記したとおり却下されたので、本願請求項１～３に係る発明は、本件補正前の令和５年６月１６日にされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１～３に記載された事項により特定されるものであり、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、前記第２の１．（２）で特定されるとおりである。 ２．原査定における拒絶の理由 原査定の拒絶の理由は、令和５年４月７日付け拒絶理由通知書に記載した理由１であって、要するに、この出願の請求項１～３に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献１記載の発明及び引用文献２記載の発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というものである。 引用文献１：特開平１０－２７８４４４号公報 引用文献２：特開２００５－３２７９４号公報 ３．引用文献 令和５年４月７日付けの拒絶理由通知書で引用された引用文献、及び、その記載内容は前記第２の３．（２）及び（３）に記載したとおりである。 ４．対比・判断 本願発明は、前記第２の３．（１）で検討した本件補正発明から、「前記マスク版（５）の厚み寸法ｔ１は、６μｍ以上１００μｍ以下に設定され、前記スキージ版（６）の厚み寸法ｔ２は、３μｍ以上２０μｍ以下に設定され、前記スキージ版（６）と前記マスク版（５）との厚み寸法の比率は、１:１．５から１：５に設定されており、」との事項を削除したものである。 そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、さらに他の事項を付加したものに相当する本件補正発明が、前記第２の３．に記載したとおり、引用発明１及び引用発明２に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、引用発明１及び引用発明２に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 第４ むすび 以上のとおりであるから、本願発明は、引用発明１及び引用発明２に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。 したがって、他の請求項について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。