審決検索MVP
← 検索一覧に戻る
特許拒絶査定不服審判

2023-006487

リソグラフィオーバーレイ改善のための半導体アプリケーション用ゲートスタック材料

審判番号
2023-006487
法域
特許
審判種別
拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
出願番号
特願2020-097673外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
請求日
2023年04月20日
審決日
2024年06月25日
公報発行日
2024年12月27日
結論
請求不成立
審判長/審判官
分類
P18 .537-WZF(H01L) / P18 .121-WZF(H01L)
根拠条文(結論部分から自動抽出・参考)
特許法44条1項
条文(本文から自動抽出・参考)
特許法第44条第1項
データ出所
審決公報(XML)

事件の表示

特願2020- 97673「リソグラフィオーバーレイ改善のための半導体アプリケーション用ゲートスタック材料」拒絶査定不服審判事件〔令和 2年10月15日出願公開、特開2020-170846〕について、次のとおり審決する。

結論

結 論
本件審判の請求は、成り立たない。

理由

理 由

本願は、2015年(平成27年)12月9日(パリ条約よる優先権主張外国庁受理2015年1月9日、米国、2015年10月8日、米国)を国際出願日とする出願の一部を、令和2年6月4日に特許法第44条第1項の規定による新たな特許出願(特願2020-97673号)としたものであって、「リソグラフィオーバーレイ改善のための半導体アプリケーション用ゲートスタック材料」に関するものであると認める。

これに対して、令和6年1月30日付けで拒絶理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、請求人からは何らの応答もない。

そして、上記の拒絶理由は妥当なものと認められるので、本願は、この拒絶理由によって拒絶すべきものである。

よって、結論のとおり審決する。

審決本文(J-PlatPat)

J-PlatPatの審決検索トップを開きます。番号入力で「審判番号」を選び、下の番号を貼り付けて検索してください。

J-PlatPat 審決検索を開く
2023-006487

番号・当事者・条文・審決分類・商標の称呼が一致(または近い)審決を機械的に集めた候補です。判断内容は各審決の本文でご確認ください。

同じ当事者の審決235件(アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド)
  • 2025-008853拒絶査定不服審判 / 2026-08-17 / 原査定取消(特許/登録すべき)光取り出し効率が改善された有機エレクトロルミネッセンスデバイス
    同じ当事者: アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
  • 2024-017714拒絶査定不服審判 / 2026-07-31 / 原査定取消(特許/登録すべき)高温アプリケーション用プラズマ耐食性薄膜コーティング
    同じ当事者: アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
  • 2025-000802拒絶査定不服審判 / 2026-07-31 / 原査定取消(特許/登録すべき)不純物を含まない金属合金膜を形成するための方法
    同じ当事者: アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
  • 2025-006307拒絶査定不服審判 / 2026-06-29 / 原査定取消(特許/登録すべき)残留物除去
    同じ当事者: アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
  • 2024-021032拒絶査定不服審判 / 2026-06-22 / 原査定取消(特許/登録すべき)金属バリア層のドーピング
    同じ当事者: アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
検索でもっと見る →
同じ根拠条文の審決224件(特許法44条1項)
  • 2022-004565拒絶査定不服審判 / 2023-04-05 / 原査定取消(特許/登録すべき)クロスポイントメモリおよびその製造方法
    共通の条文: 特許法44条1項
  • 2021-011246拒絶査定不服審判 / 2022-08-01 / 原査定取消(特許/登録すべき)処理装置
    共通の条文: 特許法44条1項
  • 2022-016666拒絶査定不服審判 / 2023-06-13 / 原査定取消(特許/登録すべき)ルテニウムの半導体用処理液及びその製造方法
    共通の条文: 特許法44条1項
  • 2025-000648拒絶査定不服審判 / 2026-08-18 / 原査定取消(特許/登録すべき)廃水処理方法
    共通の条文: 特許法44条1項
  • 2025-002861拒絶査定不服審判 / 2026-08-18 / 原査定取消(特許/登録すべき)電子蒸気供給装置
    共通の条文: 特許法44条1項
検索でもっと見る →
同じ論点・分野の審決(審決分類)2,632件(121・H01L、537・H01L)
  • 2025-000609拒絶査定不服審判 / 2026-08-26 / 原査定取消(特許/登録すべき)軽量太陽光発電パネル及びその製造方法
    共通の審決分類: 121・H01L、537・H01L
  • 2024-011725拒絶査定不服審判 / 2026-02-09 / 原査定取消(特許/登録すべき)カルコゲン含有化合物半導体の製造方法及び製造装置
    共通の審決分類: 121・H01L、537・H01L
  • 2025-000132拒絶査定不服審判 / 2025-12-24 / 原査定取消(特許/登録すべき)SiCウェハおよびその製造方法
    共通の審決分類: 121・H01L、537・H01L
  • 2025-000133拒絶査定不服審判 / 2025-12-24 / 原査定取消(特許/登録すべき)SiC単結晶ウェハおよびその製造方法
    共通の審決分類: 121・H01L、537・H01L
  • 2025-002269拒絶査定不服審判 / 2025-12-19 / 原査定取消(特許/登録すべき)冷却床部材
    共通の審決分類: 121・H01L、537・H01L

メモ・タグ(非公開)

あなただけに表示されます。審決本文の公開範囲は変わりません。

メモとタグは Pro の機能です。ログイン/Proでメモを保存