2023-001729

特願２０１８－１０１８７８「レジスト組成物及びレジストパターン形成方法」拒絶査定不服審判事件〔令和 １年１２月 ５日出願公開、特開２０１９－２０７３００〕について、次のとおり審決する。

結 論 本件審判の請求は、成り立たない。

理 由 第１ 手続の経緯 本願は、２０１８年（平成３０年） ５月２８日を出願日とする出願であって、その手続の経緯は以下のとおりである。 令和 ３年１１月 ５日付け：拒絶理由通知書 令和 ４年 １月 ７日 ：意見書、手続補正書の提出 令和 ４年 ５月 ６日付け：拒絶理由(最後の拒絶理由）通知書 令和 ４年 ７月１５日 ：意見書の提出 令和 ４年１０月１９日付け：拒絶査定 令和 ５年 ２月 １日 ：審判請求書、手続補正書の提出 第２ 令和 ５年 ２月 １日にされた手続補正についての補正の却下の決定 ［補正の却下の決定の結論］ 令和 ５年 ２月 １日にされた手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。 ［理由］ １ 本件補正について（補正の内容） （１）本件補正後の特許請求の範囲の記載 本件補正により、特許請求の範囲の請求項１の記載は、次のとおり補正された。（下線部は、補正箇所である。） 「露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、 酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、 下記一般式（ｂｄ１）で表される、アニオン部とカチオン部とからなる化合物（ＢＤ１）と、 露光により前記化合物（ＢＤ１）から発生する酸の拡散を制御する塩基成分（Ｄ）と、 を含有し、 前記化合物（ＢＤ１）と前記塩基成分（Ｄ）との総含有量は、前記基材成分（Ａ）１００質量部に対して２５．４～７０質量部であり、 前記化合物（ＢＤ１）の含有量は、前記基材成分（Ａ）１００質量部に対して２１．４～６０質量部であり、 前記塩基成分（Ｄ）の含有量に対する、前記化合物（ＢＤ１）の含有量の比率（モル比）が、１を超える、レジスト組成物。 【化１】 ［図：0001407483000001.jpg］ ［式中、Ｒｘ１～Ｒｘ４は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は２個以上が相互に結合して環構造を形成していてもよい。Ｒｙ１～Ｒｙ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は相互に結合して環構造を形成していてもよい。 【化２】 ［図：0001407483000002.jpg］ は二重結合又は単結合である。Ｒｚ１～Ｒｚ４は、それぞれ独立に、原子価が許容する場合、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は２個以上が相互に結合して環構造を形成していてもよい。但し、Ｒｘ１～Ｒｘ４、Ｒｙ１～Ｒｙ２及びＲｚ１～Ｒｚ４のうち少なくとも１個はアニオン基を有し、アニオン部全体でｎ価のアニオンとなる。ｎは１以上の整数である。ｍは１以上の整数であって、Ｍｍ＋は、ｍ価の有機カチオンを表す。］」 （２）本件補正前の特許請求の範囲 本件補正前の、令和 ４年 １月 ７日にされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１及び請求項２の記載は次のとおりである。 「【請求項１】 露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、 酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、塩基成分（Ｄ）と、を含有し、 前記酸発生剤成分（Ｂ）及び前記塩基成分（Ｄ）のうち少なくとも前記酸発生剤成分（Ｂ）は、下記一般式（ｂｄ１）で表される、アニオン部とカチオン部とからなる化合物（ＢＤ１）を含み、 前記酸発生剤成分（Ｂ）と前記塩基成分（Ｄ）との総含有量は、前記基材成分（Ａ）１００質量部に対して２５．４～７０質量部であり、 前記酸発生剤成分（Ｂ）が含む前記化合物（ＢＤ１）の含有量は、前記基材成分（Ａ）１００質量部に対して２１．４～６０質量部である、レジスト組成物。 【化１】 ［図：0001407483000003.jpg］ ［式中、Ｒｘ１～Ｒｘ４は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は２個以上が相互に結合して環構造を形成していてもよい。Ｒｙ１～Ｒｙ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は相互に結合して環構造を形成していてもよい。 【化２】 ［図：0001407483000004.jpg］ は二重結合又は単結合である。Ｒｚ１～Ｒｚ４は、それぞれ独立に、原子価が許容する場合、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は２個以上が相互に結合して環構造を形成していてもよい。但し、Ｒｘ１～Ｒｘ４、Ｒｙ１～Ｒｙ２及びＲｚ１～Ｒｚ４のうち少なくとも１個はアニオン基を有し、アニオン部全体でｎ価のアニオンとなる。ｎは１以上の整数である。ｍは１以上の整数であって、Ｍｍ＋は、ｍ価の有機カチオンを表す。］ 【請求項２】 前記塩基成分（Ｄ）の含有量に対する、前記酸発生剤成分（Ｂ）が含む前記化合物（ＢＤ１）の含有量の比率（モル比）が、１を超える、請求項１に記載のレジスト組成物。」 ２ 補正の適否 本件補正前の請求項２に係る発明の「露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）」は、「前記酸発生剤成分（Ｂ）は、下記一般式（ｂｄ１）で表される、アニオン部とカチオン部とからなる化合物（ＢＤ１）を含み、」とされていたところ、本件補正は、この補正前の請求項２に係る発明の発明特定事項である「露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）」について、「下記一般式（ｂｄ１）で表される、アニオン部とカチオン部とからなる化合物（ＢＤ１）」に変更する補正事項と、補正前の請求項２に係る発明特定事項である「塩基成分（Ｄ）」について、「露光により前記化合物（ＢＤ１）から発生する酸の拡散を制御する」との限定を加える補正事項を含んでいる。 本件補正は、補正前の請求項２に係る発明特定事項である「塩基成分（Ｄ）」について、限定を加える補正事項を含んでおり、本件補正前の請求項２に記載された発明と本件補正後の請求項１に記載される発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題は同一であるといえるから、特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。 そこで、本件補正後の請求項１に記載される発明（以下「本件補正発明」という。）が同条第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に適合するか（特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか）について、以下、検討する。 （１）本件補正発明 本件補正発明は、上記１（１）に記載したとおりのものである。 （２）引用文献の記載事項 ア 引用文献２ （ア）原査定の拒絶の理由で引用された本願の出願前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献である、特開２０１７－１０２２６７号公報（平成２９年 ６月 ８日出願公開。以下「引用文献２」という。）には、次の記載がある。 「【０００１】本発明は、感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物に関する。」 「【０００６】本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、ＬＷＲ性能、解像性、焦点深度、ＰＥＢ温度依存性及び欠陥抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。」 「【課題を解決するための手段】【０００７】上記課題を解決するためになされた発明は、酸解離性基を含む第１構造単位（以下、「構造単位（Ｉ）」ともいう）を有する重合体（以下、「［Ａ］重合体」ともいう）、及び感放射線性酸発生剤（以下、「［Ｂ］酸発生剤」ともいう）を含有し、上記感放射線性酸発生剤が下記式（Ｉ）で表されるアニオン（以下、「アニオン（Ｉ）」ともいう）を有する感放射線性樹脂組成物である。 【化１】 ［図：0001407483000005.jpg］ （式（Ｉ）中、Ｒ１は、有橋環状構造を含む炭素数５～４０の２価の有機基である。Ｒ２は、単結合又は炭素数１～２０の２価の有機基である。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のフッ素化アルキル基である。ｎは、１～４の整数である。ｎが２以上の場合、複数のＲ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＲ４は同一でも異なっていてもよい。）」 「【００１４】＜［Ａ］重合体＞ ［Ａ］重合体は、構造単位（Ｉ）を有する重合体である。当該感放射線性樹脂組成物によれば、放射線の照射により［Ｂ］酸発生剤等から生じる酸により露光部の［Ａ］重合体の酸解離性基が解離して、露光部と未露光部とで現像液に対する溶解性に差異が生じ、その結果、レジストパターンを形成することができる。」 「【００８８】＜［Ｂ］酸発生剤＞ ［Ｂ］酸発生剤は、アニオン（Ｉ）を有する感放射線性酸発生剤である。［Ｂ］酸発生剤は、露光により酸を発生する。この発生した酸により、［Ａ］重合体等が有する酸解離性基が解離してカルボキシ基、ヒドロキシ基等が生じ、［Ａ］重合体の現像液への溶解性が変化するため、当該感放射線性樹脂組成物によりレジストパターンを形成することができる。当該感放射線性樹脂組成物における［Ｂ］酸発生剤の含有形態としては、低分子化合物の形態でも、カチオン部が［Ａ］重合体等の一部として組み込まれた形態でも、これらの両方の形態でもよい。」 「【０１２３】［Ｂ］酸発生剤においてアニオン（Ｉ）と共に存在する感放射線性カチオンから、露光により生じるプロトンが生じ、アニオン（Ｉ）の－ＳＯ３－が－ＳＯ３Ｈとなり、［Ｂ］酸発生剤より酸を生じる。」 「【０１５９】［Ｂ］酸発生剤の含有量の下限としては、［Ａ］重合体１００質量部に対して、０．１質量部が好ましく、０．５質量部がより好ましく、１質量部がさらに好ましく、５質量部が特に好ましく、１０質量部がさらに特に好ましく、１５質量部が最も好ましい。上記含有量の上限としては、５０質量部が好ましく、４０質量部がより好ましく、３０質量部がさらに好ましく、２５質量部が特に好ましい。［Ｂ］酸発生剤の含有量を上記範囲とすることで、当該感放射線性樹脂組成物の感度及び現像性が向上し、その結果、ＬＷＲ性能等をより向上させることができる。特に、露光光が電子線又はＥＵＶの場合、当該感放射線性樹脂組成物の感度をより高める観点から、［Ｂ］酸発生剤の含有量の下限としては、［Ａ］重合体１００質量部に対して、１０質量部が好ましく、１５質量部がより好ましく、１８質量部がさらに好ましい。当該感放射線性樹脂組成物は、［Ｂ］酸発生剤を１種又は２種以上含有していてもよい。」 「【０１６０】＜［Ｃ］酸拡散制御体＞ 当該感放射線性樹脂組成物は、必要に応じて、［Ｃ］酸拡散制御体を含有してもよい。［Ｃ］酸拡散制御体は、露光により［Ｂ］酸発生剤等から生じる酸のレジスト膜中における拡散現象を制御し、非露光領域における好ましくない化学反応を抑制する効果を奏する。」 「【０１７９】当該感放射線性樹脂組成物が［Ｃ］酸拡散制御体として［Ｃ］酸拡散制御剤を含有する場合、［Ｃ］酸拡散制御剤の含有量の下限としては、［Ａ］重合体１００質量部に対して、０．１質量部が好ましく、０．３質量部がより好ましく、１質量部がさらに好ましい。上記含有量の上限としては、２０質量部が好ましく、１０質量部がより好ましく、５質量部がさらに好ましい。」 「【０２６２】＜化合物の合成＞ 各スキームに従い、下記式（Ｂ－１）～（Ｂ－１１）で表される化合物を合成した。 【０２６３】【化３７】 ［図：0001407483000006.jpg］ 」 「【０２７０】［実施例４］（化合物（Ｂ－４）の合成） 下記化合物（ｂ－５）５．８９ｇ（２０ｍｍｏｌ）、ジメチルホルムアミド０．０３ｇ（０．４ｍｍｏｌ）及び塩化メチレン５０ｍＬを反応容器に入れ、二塩化オキサリル６．３４ｇ（５０ｍｍｏｌ）を滴下した。３時間撹拌した後、減圧下で溶媒を除去した。塩化メチレンを加え、０℃に冷却し、下記化合物（ｂ－６）１０．５２ｇ（４４ｍｍｏｌ）及びピリジン６．３３ｇ（８０ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温して３時間撹拌した。希塩酸を加えて反応を停止させて分液を行い、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、下記化合物（ｂ－７）を得た（収量１１．４７ｇ、収率７５％）。 【０２７１】上記得られた化合物（ｂ－７）１１．４７ｇ（１５．０ｍｍｏｌ）及びアセトニトリル７５ｍＬを反応容器に入れ、７０℃に加熱して撹拌した。ここに、炭酸水素ナトリウム７．５６ｇ（９０．０ｍｍｏｌ）、亜ジチオン酸ナトリウム１０．４５ｇ（６０．０ｍｍｏｌ）、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド６．１３ｇ（３３．０ｍｍｏｌ）及び水５０ｍＬの溶液を加え、７０℃で３時間加熱した。室温に冷却した後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液１００ｍＬを加え、有機層を洗浄した。有機層に、３０質量％過酸化水素水溶液１０．２０ｇ（９０．０ｍｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物０．６９ｇ（２．１ｍｍｏｌ）を加え、６０℃に加熱し６時間撹拌した。室温に冷却した後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液１００ｍＬを加えて分液を行い、酢酸エチル５０ｍＬで２回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を留去した。次いで、下記化合物（ｂ－８）１０．６５ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）、塩化メチレン７５ｍＬ及び水３８ｍＬを加え、２時間撹拌した。反応終了後、塩化メチレンと水で分液を行い、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、溶媒を留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、下記化合物（Ｂ－４）を得た（収量１６．００ｇ、収率７６％）。 【０２７２】【化４０】 ［図：0001407483000007.jpg］ 」 「【０２７７】＜重合体の合成＞ ［Ａ］重合体及び［Ｄ］重合体の合成に用いた単量体を以下に示す。 【０２７８】【化４２】 ［図：0001407483000008.jpg］ 」 「【０２８１】［合成例８］（重合体（Ａ－８）の合成） 上記化合物（Ｍ－１５）４５．２４ｇ（５０モル％）、化合物（Ｍ－１）５４．７６ｇ（５０モル％）、ラジカル重合開始剤としてのＡＩＢＮ４．５８ｇ（全単量体に対して５モル％）及びｔ－ドデシルメルカプタン１、１４ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテル１００ｇに溶解させた後、窒素雰囲気下、反応温度を７０℃に保持して、１６時間重合反応を行った。重合反応終了後、重合反応液を１，０００ｇのｎ－ヘキサン中に滴下して凝固精製した後、得られた固体に、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５０ｇを加え、さらにメタノール１５０ｇ、トリエチルアミン３４ｇ及び水６ｇを加えて、沸点にて還流させながら、８時間加水分解反応を行った。反応終了後、溶媒及びトリエチルアミンを減圧留去し、得られた固体をアセトン１５０ｇに溶解させた後、２，０００ｇの水中に滴下して凝固させ、生成した固体をろ過し、５０℃で１７時間乾燥させて白色粉末状の重合体（Ａ－８）を得た（収量６３．８ｇ、収率７２．３％）。重合体（Ａ－８）のＭｗは６，４００、Ｍｗ／Ｍｎは１．７２であった。１３Ｃ－ＮＭＲ分析の結果、ｐ－ヒドロキシスチレンに由来する構造単位及び（Ｍ－１）に由来する構造単位の含有割合は、それぞれ５１．２モル％及び４８．８モル％であった。 【０２８２】【表１】 ［図：0001407483000009.jpg］ 」 「【０２８４】＜感放射線性樹脂組成物の調製＞ 感放射線性樹脂組成物の調製に用いた［Ｂ］酸発生剤、［Ｃ］酸拡散制御剤及び［Ｅ］溶媒について以下に示す。 【０２８５】［［Ｂ］酸発生剤］ 実施例で用いるＢ－１～Ｂ－１１：上記合成した化合物（Ｂ－１）～（Ｂ－１１）」 「【０２８７】［［Ｃ］酸拡散制御剤］ Ｃ－１～Ｃ－６：下記式（Ｃ－１）～（Ｃ－６）で表される化合物 【０２８８】【化４４】 ［図：0001407483000010.jpg］ 【０２８９】［［Ｅ］溶媒］ Ｅ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート Ｅ－２：シクロヘキサノン Ｅ－３：γ－ブチロラクトン」 「【０３０２】［電子線露光用感放射線性樹脂組成物の調製］ ［実施例３５］ ［Ａ］重合体としての（Ａ－８）１００質量部、［Ｂ］酸発生剤としての（Ｂ－１）２０質量部、［Ｃ］酸拡散制御剤としての（Ｃ－１）２．５質量部、並びに［Ｅ］溶媒としての（Ｅ－１）４，２８０質量部及び（Ｅ－２）１，８３０質量部を混合し、得られた混合溶液を孔径０．２μｍのメンブランフィルターでろ過することにより感放射線性樹脂組成物（Ｊ－２４）を調製した。 【０３０３】［実施例３６～３８並びに比較例４及び５］ 下記表４に示す種類及び含有量の各成分を用いた以外は、実施例３５と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物（Ｊ－２５）～（Ｊ－２７）並びに（ＣＪ－４）及び（ＣＪ－５）を調製した。 【０３０４】【表４】 ［図：0001407483000011.jpg］ 【０３０５】＜レジストパターンの形成（３）＞ ８インチのシリコンウエハ表面に、スピンコーター（東京エレクトロン社の「ＣＬＥＡＮ ＴＲＡＣＫ ＡＣＴ８」）を使用して、下記表５に示す各感放射線性樹脂組成物を塗布し、９０℃で６０秒間ＰＢを行った。その後、２３℃で３０秒間冷却し、平均厚み５０ｎｍのレジスト膜を形成した。次に、このレジスト膜に、簡易型の電子線描画装置（日立製作所社の「ＨＬ８００Ｄ」、出力：５０ＫｅＶ、電流密度：５．０Ａ／ｃｍ２）を用いて電子線を照射した。照射後、１２０℃で６０秒間ＰＥＢを行った。その後、アルカリ現像液としての２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液を用いて２３℃で３０秒間現像し、水で洗浄し、乾燥してポジ型のレジストパターンを形成した。 【０３０６】＜レジストパターンの形成（４）＞ 上記ＴＭＡＨ水溶液の代わりに酢酸ｎ－ブチルを用いて有機溶媒現像し、かつ水での洗浄を行わなかった以外は、上記レジストパターンの形成（３）と同様に操作して、ネガ型のレジストパターンを形成した。 【０３０７】＜評価＞ 上記電子線露光により形成したレジストパターンについて、上記ＡｒＦ露光の場合と同様の手法で、ＬＷＲ性能、解像性、焦点深度、ＰＥＢ温度依存性及び欠陥抑制性の評価を実施した。ＰＥＢ温度依存性は、ＰＥＢ温度が１２０℃及び１２５℃の場合におけるレジストパターンの線幅を測定し、上記ＡｒＦ露光の場合と同様の数式により算出した。評価結果を下記表５に示す。なお、電子線露光の場合、ＬＷＲ性能は５．２ｎｍ以下の場合は良好と、５．２ｎｍを超える場合は不良と評価できる。 【０３０８】【表５】 ［図：0001407483000012.jpg］ 【０３０９】表３及び表５の結果から明らかなように、実施例の感放射線性樹脂組成物はＡｒＦ露光及び電子線露光の場合、かつアルカリ現像及び有機溶媒現像の場合とも、ＬＷＲ性能、解像性、焦点深度、ＰＥＢ温度依存性及び保存安定性に優れている。比較例では、これらの各特性が実施例に比べて劣っていた。一般的に、電子線露光によれば、ＥＵＶ露光の場合と同様の傾向を示すことが知られており、従って、実施例の感放射線性樹脂組成物によれば、ＥＵＶ露光の場合においても、ＬＷＲ性能等に優れると推測される。」 （イ）上記記載から、引用文献２には、次の技術的事項が記載されているものと認められる。 ａ 引用文献２に記載された技術は、感放射線性樹脂組成物に関するものであり（【０００１】）、ＬＷＲ性能、解像性、焦点深度、ＰＥＢ温度依存性及び欠陥抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供することを課題としたものである（【０００６】）。 ｂ 感放射線性樹脂組成物は、放射線の照射により［Ｂ］酸発生剤等から生じる酸により露光部の［Ａ］重合体の酸解離性基が解離して、露光部と未露光部とで現像液に対する溶解性に差異が生じる（【００１４】）。 ｃ ［Ｂ］酸発生剤は、アニオン（Ｉ）及び感放射線性カチオンを有する（【００８８】、【０１２３】）。 ｄ ［Ｂ］酸発生剤の含有量の下限としては、［Ａ］重合体１００質量部に対して、１５質量部が最も好ましく、上記含有量の上限としては、５０質量部が好ましく、２５質量部が特に好ましい（【０１５９】）。 ｅ ［Ｃ］酸拡散制御体は、露光により［Ｂ］酸発生剤等から生じる酸のレジスト膜中における拡散現象を制御する（【０１６０】）。 ｆ ［Ｃ］酸拡散制御剤の含有量の下限としては、［Ａ］重合体１００質量部に対して、１質量部がさらに好ましく、上記含有量の上限としては、５質量部がさらに好ましい（【０１７９】）。 ｇ ［Ａ］重合体としての（Ａ－８）１００質量部（【０２７７】、【０２７８】、【０２８１】、【０２８２】、【０３０２】～【０３０４】）、［Ｂ］酸発生剤としての下記（Ｂ－４）２０質量部（【０２６２】、【０２６３】、【０２７０】～【０２７２】、【０２８４】、【０２８５】、【０３０２】～【０３０４】）、［Ｃ］酸拡散制御剤としての下記（Ｃ－１）２．５質量部（【０２８４】、【０２８７】、【０２８８】、【０３０２】～【０３０４】）、並びに［Ｅ］溶媒としてのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである（Ｅ－１）４，２８０質量部及びシクロヘキサノンである（Ｅ－２）１，８３０質量部（【０２８４】、【０２８９】、【０３０２】～【０３０４】）を混合し、得られた混合溶液を孔径０．２μｍのメンブランフィルターでろ過することにより感放射線性樹脂組成物（Ｊ－２５）が調製されている（【０３０２】～【０３０４】）。 ［図：0001407483000013.jpg］ ［図：0001407483000014.jpg］ ｈ 実施例の感放射線性樹脂組成物は電子線露光の場合、かつアルカリ現像及び有機溶媒現像の場合とも、ＬＷＲ性能、解像性、焦点深度、ＰＥＢ温度依存性及び保存安定性に優れている（【０３０２】～【０３０９】）。 （ウ）上記（ア）、（イ）から、引用文献２には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。 「放射線の照射により［Ｂ］酸発生剤等から生じる酸により露光部の［Ａ］重合体の酸解離性基が解離して、露光部と未露光部とで現像液に対する溶解性に差異が生じる感放射線性樹脂組成物（Ｊ－２５）であって、 ［Ｂ］酸発生剤等から生じる酸により露光部の酸解離性基が解離して、露光部と未露光部とで現像液に対する溶解性に差異が生じる［Ａ］重合体としての（Ａ－８）１００質量部と、 アニオン（Ｉ）及び感放射線性カチオンを有する［Ｂ］酸発生剤としての下記（Ｂ－４）２０質量部と、 露光により［Ｂ］酸発生剤等から生じる酸のレジスト膜中における拡散現象を制御する［Ｃ］酸拡散制御体としての下記（Ｃ－１）２．５質量部と、 を含有する、感放射線性樹脂組成物（Ｊ－２５）。 ［図：0001407483000015.jpg］ ［図：0001407483000016.jpg］ 」 （３）引用発明との対比 ア 本件補正発明と引用発明とを対比する。（下線は、当合議体で付した。） （ア）引用発明は、ＬＷＲ性能、解像性、焦点深度、ＰＥＢ温度依存性及び欠陥抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供することを課題とした感放射性樹脂組成物に係る技術であり、本件補正発明と、技術分野が共通し、「ラフネス低減等のリソグラフィー特性がより向上するレジスト組成物を提供する」点で課題が共通する。 （イ）引用発明の「感放射線性樹脂組成物（Ｊ－２５）」は、放射線の照射により［Ｂ］酸発生剤等から生じる酸により露光部の［Ａ］重合体の酸解離性基が解離して、露光部と未露光部とで現像液に対する溶解性に差異が生じるものであるから、本件補正発明の「露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物」に相当する。 （ウ）引用発明の「［Ａ］重合体としての（Ａ－８）」は、［Ｂ］酸発生剤等から生じる酸により露光部の酸解離性基が解離して、露光部と未露光部とで現像液に対する溶解性に差異が生じるものであるから、本件補正発明の「酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）」に相当する。 （エ）引用発明の「［Ｂ］酸発生剤としての下記（Ｂ－４） ［図：0001407483000017.jpg］ 」は、アニオン（Ｉ）及び感放射線性カチオンを有するものであり、また、本件補正発明の「下記一般式（ｂｄ１）」の式中、Ｒｘ１、Ｒｘ２の一方とＲｘ３、Ｒｘ４の一方は、相互に結合して環構造を形成しており、Ｒｘ１、Ｒｘ２の他方とＲｘ３、Ｒｘ４の他方は水素原子であり、Ｒｙ１とＲｙ２は、相互に結合して環構造を形成しており、 ［図：0001407483000018.jpg］ は二重結合又は単結合であり、Ｒｚ１、Ｒｚ２の一方とＲｚ３、Ｒｚ４の一方は、相互に結合して環構造を形成しており、Ｒｚ１、Ｒｚ２の他方とＲｚ３、Ｒｚ４の他方は水素原子であり、Ｒｘ１、Ｒｘ２の一方とＲｘ３、Ｒｘ４の一方はアニオン基を有し、アニオン部全体で２価のアニオンとなり、Ｍｍ＋は、２価の有機カチオンを表すものであるから、本件補正発明の「下記一般式（ｂｄ１）で表される、アニオン部とカチオン部とからなる化合物（ＢＤ） 【化１】 ［図：0001407483000019.jpg］ ［式中、Ｒｘ１～Ｒｘ４は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は２個以上が相互に結合して環構造を形成していてもよい。Ｒｙ１～Ｒｙ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は相互に結合して環構造を形成していてもよい。 【化２】 ［図：0001407483000020.jpg］ は二重結合又は単結合である。Ｒｚ１～Ｒｚ４は、それぞれ独立に、原子価が許容する場合、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は２個以上が相互に結合して環構造を形成していてもよい。但し、Ｒｘ１～Ｒｘ４、Ｒｙ１～Ｒｙ２及びＲｚ１～Ｒｚ４のうち少なくとも１個はアニオン基を有し、アニオン部全体でｎ価のアニオンとなる。ｎは１以上の整数である。ｍは１以上の整数であって、Ｍｍ＋は、ｍ価の有機カチオンを表す。］」に相当する。 （オ）引用発明の「［Ｃ］酸拡散制御体としての下記（Ｃ－１） ［図：0001407483000021.jpg］ 」は、露光により［Ｂ］酸発生剤等から生じる酸のレジスト膜中における拡散現象を制御するから、本件補正発明の「露光により前記化合物（ＢＤ１）から発生する酸の拡散を制御する塩基成分（Ｄ）」に相当する。 （カ）引用発明の［Ｃ］酸拡散制御体としての下記（Ｃ－１） ［図：0001407483000022.jpg］ の含有量に対する、［Ｂ］酸発生剤としての下記（Ｂ－４） ［図：0001407483000023.jpg］ の含有量の比率（質量比）は、２０／２．５＝８であり、上記（Ｃ－１）の分子量が約２１５、上記（Ｂ－４）の分子量が約１４０２であることを考慮すると、上記（Ｃ－１）の含有量に対する、上記（Ｂ－４）の含有量の比率（モル比）が１を超えるから、「塩基成分（Ｄ）の含有量に対する、化合物（ＢＤ１）の含有量の比率（モル比）が、１を超える」点で、本件補正発明と一致する。 イ 以上のことから、本件補正発明と引用発明との一致点及び相違点は、次のとおりである。 【一致点】 「露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、 酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、 下記一般式（ｂｄ１）で表される、アニオン部とカチオン部とからなる化合物（ＢＤ１）と、 露光により前記化合物（ＢＤ１）から発生する酸の拡散を制御する塩基成分（Ｄ）と、 を含有し、 前記塩基成分（Ｄ）の含有量に対する、前記化合物（ＢＤ１）の含有量の比率（モル比）が、１を超える、レジスト組成物。 【化１】 ［図：0001407483000024.jpg］ ［式中、Ｒｘ１～Ｒｘ４は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は２個以上が相互に結合して環構造を形成していてもよい。Ｒｙ１～Ｒｙ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は相互に結合して環構造を形成していてもよい。 【化２】 ［図：0001407483000025.jpg］ は二重結合又は単結合である。Ｒｚ１～Ｒｚ４は、それぞれ独立に、原子価が許容する場合、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は２個以上が相互に結合して環構造を形成していてもよい。但し、Ｒｘ１～Ｒｘ４、Ｒｙ１～Ｒｙ２及びＲｚ１～Ｒｚ４のうち少なくとも１個はアニオン基を有し、アニオン部全体でｎ価のアニオンとなる。ｎは１以上の整数である。ｍは１以上の整数であって、Ｍｍ＋は、ｍ価の有機カチオンを表す。］」 【相違点１】 「化合物（ＢＤ１）と塩基成分（Ｄ）との総含有量」について、本件補正発明は、「基材成分（Ａ）１００質量部に対して２５．４～７０質量部であ」るのに対し、引用発明は、基材成分（Ａ）１００質量部に対して２２．５質量部である点。 【相違点２】 「化合物（ＢＤ１）の含有量」について、本件補正発明は、「基材成分（Ａ）１００質量部に対して２１．４～６０質量部であ」るのに対し、引用発明は、基材成分（Ａ）１００質量部に対して２０質量部である点。 （４）判断 以下、相違点について検討する。 ア 相違点１について 引用文献２には、上記（２）ア（イ）ｄ、ｆのとおり、［Ｂ］酸発生剤の含有量の下限としては、［Ａ］重合体１００質量部に対して、１５質量部が最も好ましく、上記含有量の上限としては、５０質量部が好ましく、２５質量部が特に好ましいこと、及び、［Ｃ］酸拡散制御剤の含有量の下限としては、［Ａ］重合体１００質量部に対して、１質量部がさらに好ましく、上記含有量の上限としては、５質量部がさらに好ましいことが記載されている。 引用発明は、「レジスト組成物」であり、ＬＷＲ性能等を優れたものとするために、レジスト組成物に含まれる各材料の含有量を調整することは、当業者が適宜なし得る数値範囲の最適化又は好適化にすぎないから、引用発明の「化合物（ＢＤ１）と塩基成分（Ｄ）との総含有量」について、上記の好ましい含有量の範囲内で適宜調整し、基材成分（Ａ）１００質量部に対して２５．４～７０質量部の範囲内の値とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。 そして、本願明細書の段落【０３９５】に、（Ｂ）成分と（Ｄ）成分との総含有量の下限値が（Ａ）成分１００質量部に対して、「２０質量部」であること、及び、「（Ｂ）成分と（Ｄ）成分との総含有量が、前記範囲の下限値以上であれば、レジストパターン形成において、感度、ラフネス低減及び形状等のリソグラフィー特性がより向上する」ことが記載されているが、化合物（ＢＤ１）と塩基成分（Ｄ）との総含有量の閾値「２５．４」の前後で臨界的な効果の差異が生じることについての記載がなく、効果上の臨界的意義も見いだせない。 イ 相違点２について 引用発明は、「レジスト組成物」であり、ＬＷＲ性能等を優れたものとするために、レジスト組成物に含まれる各材料の含有量を調整することは、当業者が適宜なし得る数値範囲の最適化又は好適化にすぎないから、引用発明の「化合物（ＢＤ１）の含有量」について、上記の好ましい含有量の範囲内で適宜調整し、基材成分（Ａ）１００質量部に対して２１．４～６０質量部の範囲内の値とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。 そして、本願明細書の段落【０３９６】に、（ＢＤ１）成分、すなわち、（Ｂ１）成分の含有量の下限値が（Ａ）成分１００質量部に対して、「２０質量部」であること、及び、「（Ｂ１）成分の含有量が、前記の好ましい範囲の下限値以上であると、レジストパターン形成において、感度、解像性能、ＬＷＲ（ラインワイズラフネス）低減、形状等のリソグラフィー特性がより向上する」ことが記載されているが、閾値「２１．４」の前後で臨界的な効果の差異が生じることについての記載がなく、効果上の臨界的意義も見いだせない。 ウ 請求人の主張について 請求人は審判請求書において、以下のとおり主張している（審判請求書１０～１４頁参照）。 「（３－４）本願発明と引用発明との対比 （３－４－１）本願発明１と引用発明との対比について 上記（３－１）のように、本願発明１のレジスト組成物は、 酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、上記一般式（ｂｄ１）で表される化合物（ＢＤ１）と、露光により前記化合物（ＢＤ１）から発生する酸の拡散を制御する塩基成分（Ｄ）と、を含有し、 前記化合物（ＢＤ１）と前記塩基成分（Ｄ）との総含有量は、前記基材成分（Ａ）１００質量部に対して２５．４～７０質量部であり、 前記化合物（ＢＤ１）の含有量は、前記基材成分（Ａ）１００質量部に対して２１．４～６０質量部であり、 前記塩基成分（Ｄ）の含有量に対する、前記化合物（ＢＤ１）の含有量の比率（モル比）が、１を超える、 というものです。 これに対し、引用文献１に開示される実施例４１の感放射線性樹脂組成物、及び引用文献２に開示される実施例３６の各感放射線性樹脂組成物において、酸発生剤と酸拡散制御剤との総含有量、及び酸発生剤の含有量は、いずれも、本願発明１で規定する範囲から外れています。 引用文献１及び引用文献２には、いずれも、塩基成分（Ｄ）の含有量に対する、化合物（ＢＤ１）の含有量のモル比が１を超える条件下で「化合物（ＢＤ１）と塩基成分（Ｄ）との総含有量」及び「化合物（ＢＤ１）の含有量」の数値限定を採用すること、並びにこの優位性については開示も示唆もされていません。 引用発明１及び引用発明２では、いずれも、酸発生剤におけるアニオン部の構造の違いについての検討がされており、酸発生剤と酸拡散制御剤との含有量の変化によるリソグラフィー特性への影響については考えられていません。加えて、アニオン部が主として炭化水素からなる基本骨格のシクロヘキセン構造（嵩高い構造）を持つ酸発生剤の、特に高濃度に含有する場合のリソグラフィー特性への影響について全く考えられていません。 したがって、課題の解決手段として、酸発生剤におけるアニオン部の構造を選択するという目的を意識して創作している引用発明１及び引用発明２を、「化合物（ＢＤ１）と塩基成分（Ｄ）との総含有量」及び「化合物（ＢＤ１）の含有量」を規定する構成へ変更することは、技術的思想が全く異なることになり、そのような動機付けは存在しません。 また、このような引用文献１及び引用文献２の記載から、「化合物（ＢＤ１）と塩基成分（Ｄ）との総含有量」及び「化合物（ＢＤ１）の含有量」の数値限定を採用することにより奏する有利な効果を予測することも困難です。 （３－４－２）本願発明１の構成及び有利な効果について 本願発明１の構成においては、「化合物（ＢＤ１）と塩基成分（Ｄ）との総含有量」及び「化合物（ＢＤ１）の含有量」がそれぞれ、（Ａ）成分１００質量部に対して規定されていますが、これは同時に、塩基成分（Ｄ）の含有量も規定されていることになっています。 すなわち、本願発明１は、塩基成分（Ｄ）の含有量に対する、化合物（ＢＤ１）の含有量のモル比が１を超える条件で、かつ、化合物（ＢＤ１）と塩基成分（Ｄ）との総含有量が特定される中で、化合物（ＢＤ１）の含有量、及び塩基成分（Ｄ）の含有量を発明特定事項として有しています。 そして、本願発明１の構成である、塩基成分（Ｄ）の含有量に対する、化合物（ＢＤ１）の含有量のモル比が１を超える条件下での「化合物（ＢＤ１）と塩基成分（Ｄ）との総含有量」及び「化合物（ＢＤ１）の含有量」についての数値限定にはそれぞれ臨界的意義があります。 つまり、本願発明１による効果は、 化合物（ＢＤ１）が塩基成分（Ｄ）よりも過剰なモル量で、 化合物（ＢＤ１）と塩基成分（Ｄ）との総含有量が、（Ａ）成分１００質量部に対して２５．４～７０質量部であり、かつ、 化合物（ＢＤ１）の含有量が、（Ａ）成分１００質量部に対して２１．４～６０質量部であること、 によってはじめて奏する有利な効果であり、顕著性を有していると言えます。 審査官殿は、本願発明１について以下のように指摘されました。 ・指摘事項（３）： “令和４年７月１５日付け意見書にて出願人は・・・採用できない。引用文献１又は２に記載された発明と、本願発明は、数値範囲の点で相違するが、前記の通り数値範囲の最適化、好適化は、当業者による通常の創作能力の発揮であり、特に、引用文献２の［０１５９］には、酸発生剤の上限値は、重合体１００質量部に対して、５０質量部（最も小さい値でも２５質量部）が好ましいと記載されており、酸発生剤の含有量を上記範囲内で調整することで、感放射線性樹脂組成物の感度及び現像性が向上し、その結果、ＬＷＲ性能等をより向上させることができる旨が記載されていることから、含有量を調整することに動機づけが存在しないとの出願人の主張を採用することはできない。” ・指摘事項（４）： “そして、出願人は・・・と主張するが、請求項１に記載された「一般式（ｂｄ１）」は、シクロヘキセンを基本骨格として、アニオンの数も限定されておらず、置換基は疎水性のものから、親水性（アルカリ可溶性）のものまで、数の限定もなく自由に選択することができるため、「本願発明１が採用する（ＢＤ１）成分については、アニオン部が主として炭化水素からなる特定の構造（嵩高い構造）を持つことで、比較的に疎水性が高められています。」と主張する点は、請求項１に基づく主張ではない。＜付記＞部分を含む。” かかる指摘事項（３）について、 本願発明１は、「従来のオニウム塩系酸発生剤を含有するレジスト組成物においては、ＥＵＶ等の露光光源に対して高感度化を試みると、所望のレジストパターン形状等が得られにくくなるという問題があり、これらのリソグラフィー特性をいずれも満足させることが困難であった。これに対し、酸発生剤成分の配合量を増加させることで、リソグラフィー特性の改善が図れるものの、一方でパターンの膜減りが生じやすくなるという不具合があった。」という課題を解決するものです（本願明細書の段落０００７）。 引用文献２の［０１５９］には、酸発生剤の含有量とＬＷＲ性能との関係のみが記載されているにすぎず、パターンの膜減りとの関係（含有量上限側の境界；含有量が多すぎると、膜減りを生じること；本願の図１～４参照）についての記載はありません。 加えて、引用文献２には、［Ｂ］酸発生剤の含有量及び［Ｃ］酸拡散制御剤の含有量について、いずれも、［Ａ］重合体１００質量部に対して好適な範囲が記載されているだけであり（段落０１５９、段落０１７９）、［Ｃ］酸拡散制御剤の含有量に対する［Ｂ］酸発生剤の含有量のモル比が１を超える条件とすること、及び、［Ｂ］酸発生剤と［Ｃ］酸拡散制御剤との総含有量についての記載はありません。 かかる指摘事項（４）について、 本願請求項１に記載された「一般式（ｂｄ１）」は、シクロヘキセン構造を基本骨格としています。シクロヘキセン構造自体は、炭化水素からなり、かつ、シクロヘキサンと異なり「半いす形配座」が最安定であって嵩高い構造を有しています（出願時の技術常識）。 ・「一般式（ｂｄ１）」の基本骨格が炭化水素からなる点は、（ＢＤ１）成分と基材成分（Ａ）との相溶性が高くなり、レジスト膜内での（ＢＤ１）成分の分布の均一性が高められて、リソグラフィー特性の向上に寄与します。また、「一般式（ｂｄ１）」の基本骨格が炭化水素からなる点は、例えばＴＭＡＨ水溶液によるアルカリ現像の場合、レジスト膜の未露光部の難溶化に効果的であり、パターンの膜減り抑制に寄与します。 ・「一般式（ｂｄ１）」の基本骨格が嵩高い構造を有している点は、露光により発生する酸の拡散抑制にも効果的であり、パターンのラフネス低減に寄与します。 本願発明１のレジスト組成物においては、前述のようなシクロヘキセン構造を基本骨格としているアニオン部をもつ酸発生剤、を採用しているため、含有量の数値限定に臨界的意義をもつようになります。 加えて、出願時の技術常識に照らしても、請求項に係る発明の範囲まで、発明の詳細な説明に開示された内容を拡張ないし一般化できると思料します。」 請求人の上記主張について検討する。 （ア）（３－４－１）本願発明１と引用発明との対比について 上記（４）ア、イのとおり、引用発明の「化合物（ＢＤ１）と塩基成分（Ｄ）との総含有量」、及び、「化合物（ＢＤ１）の含有量」について、本件補正発明において規定された数値範囲内の値とする動機付けは存在する。 （イ）（３－４－２）本願発明１の構成及び有利な効果について 本件補正発明と引用発明との相違が数値限定の有無のみで、課題が共通する場合は、いわゆる数値限定の臨界的意義として、有利な効果の顕著性が認められるためには、その数値限定の内と外のそれぞれの効果について、量的に顕著な差異がなければならない。 そして、本件補正発明と引用発明は、「ラフネス低減等のリソグラフィー特性がより向上するレジスト組成物を提供する」点で課題が共通するところ、本願明細書には、「化合物（ＢＤ１）と塩基成分（Ｄ）との総含有量」の閾値「２５．４」の前後、及び、「化合物（ＢＤ１）の含有量」の閾値「２１．４」の前後で臨界的な効果の差異が生じることについての記載がない。 また、令和 ４年 １月 ７日に提出された意見書、令和４年 7月１５日に提出された意見書及び審判請求書における請求人の主張を考慮しても、本願の図２からは、「化合物（ＢＤ１）と塩基成分（Ｄ）との総含有量」について、「２５．４」を境にして効果が異なることが読み取れず、図４からは「化合物（ＢＤ１）の含有量」について、「２１．４」を境にして効果が異なることが読み取れない。さらに、本願明細書における「実施例１５～１８」と「参考例８～１１」のＬＷＲに関する評価結果等を考慮しても、本願明細書における実施例及び試験例において使用された「化合物（Ｂ１－１）」以外の化合物（例えば、本願明細書における「化合物（Ｂ１－２）～（Ｂ１－９）」や、「上記１（１）に記載した一般式（ｂｄ１）で表される化合物（ＢＤ１）であって、Ｒｘ１～Ｒｘ４、Ｒｙ１～Ｒｙ２及びＲｚ１～Ｒｚ４における置換基の構造が「化合物（Ｂ１－１）」とは異なる化合物」）についても、「塩基成分（Ｄ）の含有量に対する、化合物（ＢＤ１）の含有量のモル比が１を超える条件下での「化合物（ＢＤ１）と塩基成分（Ｄ）との総含有量」及び「化合物（ＢＤ１）の含有量」についての数値限定の内と外のそれぞれの効果について、ＬＷＲ（ラインワイズラフネス）の評価結果に量的に顕著な差異があるという、合理的な根拠を見いだすことができないから、請求人の上記主張を採用することはできない。 また、請求人の「引用文献２の［０１５９］には、酸発生剤の含有量とＬＷＲ性能との関係のみが記載されているにすぎず、パターンの膜減りとの関係（含有量上限側の境界；含有量が多すぎると、膜減りを生じること；本願の図１～４参照）についての記載はありません。」との主張について、分子量が小さく、基材成分と化学的に結合していない酸発生剤の含有量が多すぎると、パターンの現像時に酸発生剤がパターン表面から溶出し、パターンの膜減りが生じることは、当業者の技術常識であり、また、引用文献２の【０１５９】に記載されているように、引用発明において、［Ｂ］酸発生剤の含有量の上限は、［Ａ］重合体１００質量部に対して、「５０質量部」であり、本件補正発明における上限値「６０質量部」より少ないため、パターンの膜減りについて、本件補正発明と同様の効果を奏すると推認できるから、本件補正発明に進歩性を認めることはできず、請求人の上記主張を採用することはできない。 そして、請求人が審判請求書において主張した、本件補正発明において、「一般式（ｂｄ１）」の基本骨格が炭化水素からなることにより、（ＢＤ１）成分と基材成分（Ａ）との相溶性が高くなり、レジスト膜内での（ＢＤ１）成分の分布の均一性が高められて、リソグラフィー特性の向上に寄与する点や、ＴＭＡＨ水溶液によるアルカリ現像の場合、レジスト膜の未露光部の難溶化に効果的であり、パターンの膜減り抑制に寄与する点、基本骨格が嵩高い構造を有していることにより、露光により発生する酸の拡散抑制に効果的であり、パターンのラフネス低減に寄与する点については、本願明細書に記載も示唆もされておらず、また、当業者にとって自明であるとも認められないので、採用することはできない。 よって、これらの相違点を総合的に勘案しても、本件補正発明の奏する作用効果は、引用発明の奏する作用効果から予測される範囲内のものにすぎず、格別顕著なものということはできない。 エ 小括 以上のとおり、本件補正発明は、引用発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法２９条２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 ３ 本件補正についてのむすび よって、本件補正は、特許法１７条の２第６項において準用する同法１２６条７項の規定に違反するので、同法１５９条１項の規定において読み替えて準用する同法５３条１項の規定により却下すべきものである。 よって、上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。 第３ 本願発明について １ 本願発明 令和 ５年 ２月 １日にされた手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項に係る発明は、令和 ４年 １月 ７日にされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１３に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、その請求項１に記載された事項により特定される、前記第２［理由］１（２）に記載のとおりのものである。 ２ 原査定の拒絶の理由 原査定の拒絶の理由は、この出願の請求項１～１３に係る発明は、本願の出願前に日本国内又は外国において、頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった下記の引用文献１に記載された発明又は引用文献２に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない、というものである。 引用文献１：特開２０１８－０２８５７４号公報 引用文献２：特開２０１７－１０２２６７号公報 ３ 引用文献 原査定の拒絶の理由で引用された引用文献２及びその記載事項は、前記第２の［理由］２（２）に記載したとおりである。 ４ 対比・判断 本願発明は、前記第２の［理由］２で検討した本件補正発明から、「化合物（ＢＤ１）を含」む「酸発生剤成分（Ｂ）」、及び、「塩基成分（Ｄ）」に係る限定事項等を削除したものである。 そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、さらに他の事項を付加したものに相当する本件補正発明が、前記第２の［理由］２（３）、（４）に記載したとおり、引用発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、引用発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 第４ むすび 以上のとおり、本願発明は、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができないから、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。 よって、結論のとおり審決する。