審決検索MVP
← 検索一覧に戻る
特許拒絶査定不服審判

2021-002467

極紫外光源

審判番号
2021-002467
法域
特許
審判種別
拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
出願番号
特願2019-132078
請求日
2021年02月25日
審決日
2022年01月07日
公報発行日
2022年02月25日
結論
原査定取消(特許/登録すべき)
当事者
  • 【請求人】エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
  • 【請求人代理人】稲葉 良幸
  • 【請求人代理人】大貫 敏史
  • 【請求人代理人】江口 昭彦
  • 【請求人代理人】内藤 和彦
審判長/審判官
  • 審判長 山村 浩
  • 審判官 松川 直樹
  • 審判官 野村 伸雄
分類
P18 .536-WYF(G03F) / P18 .537-WYF(G03F) / P18 .113-WYF(G03F) / P18 .121-WYF(G03F)
データ出所
審決公報(XML)

事件の表示

特願2019-132078号「極紫外光源」拒絶査定不服審判事件〔令和元年10月10日出願公開、特開2019-174851号、請求項の数(14)〕について、次のとおり審決する。

結論

結 論 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。

理由

理 由 本願は、令和元年7月17日(遡及出願平成27年1月19日パリ条約による優先権主張 2014年1月22日 (US)アメリカ合衆国 2014年9月17日 (US)アメリカ合衆国)の出願であって、その請求項1ないし14に係る発明は、令和3年12月7日になされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項1ないし14に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審における拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。

審決本文(J-PlatPat)

J-PlatPatの審決検索トップを開きます。番号入力で「審判番号」を選び、下の番号を貼り付けて検索してください。

J-PlatPat 審決検索を開く
2021-002467

番号・当事者・条文・審決分類・商標の称呼が一致(または近い)審決を機械的に集めた候補です。判断内容は各審決の本文でご確認ください。

同じ当事者の審決85件(エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.)
  • 2024-017282拒絶査定不服審判 / 2026-03-26 / 請求不成立基板グリッドを決定するための測定装置及び方法
    同じ当事者: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
  • 2024-014697拒絶査定不服審判 / 2026-03-23 / 請求不成立アライメントセンサーとビーム測定センサーを備えている荷電粒子リソグラフィシステム
    同じ当事者: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
  • 2024-004370拒絶査定不服審判 / 2026-02-02 / 原査定取消(特許/登録すべき)マルチビームSEMツール用の自己参照型健全度監視システム
    同じ当事者: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
  • 2024-007280拒絶査定不服審判 / 2026-01-22 / 原査定取消(特許/登録すべき)冷却フードの高速温度制御のためのガス混合
    同じ当事者: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
  • 2023-020696拒絶査定不服審判 / 2025-12-05 / 請求不成立応力低減のための金属ケイ化物窒化
    同じ当事者: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
検索でもっと見る →
同じ論点・分野の審決(審決分類)451件(113・G03F、121・G03F、536・G03F ほか)
  • 2024-020186拒絶査定不服審判 / 2026-01-20 / 原査定取消(特許/登録すべき)薬液、レジストパターン形成方法、半導体チップの製造方法、薬液収容体、薬液の製造方…
    共通の審決分類: 113・G03F、121・G03F、536・G03F、537・G03F
  • 2024-019297拒絶査定不服審判 / 2025-12-15 / 原査定取消(特許/登録すべき)薬液、薬液収容体、レジストパターン形成方法、半導体チップの製造方法
    共通の審決分類: 113・G03F、121・G03F、536・G03F、537・G03F
  • 2024-001270拒絶査定不服審判 / 2025-03-06 / 原査定取消(特許/登録すべき)感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成…
    共通の審決分類: 113・G03F、121・G03F、536・G03F、537・G03F
  • 2023-007370拒絶査定不服審判 / 2024-03-05 / 原査定取消(特許/登録すべき)レジストパターン形成方法、レジスト組成物及びその製造方法
    共通の審決分類: 113・G03F、121・G03F、536・G03F、537・G03F
  • 2021-003140拒絶査定不服審判 / 2022-04-12 / 原査定取消(特許/登録すべき)感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、硬化物の製造方法、積層体、及び電子部品
    共通の審決分類: 113・G03F、121・G03F、536・G03F、537・G03F

メモ・タグ(非公開)

あなただけに表示されます。審決本文の公開範囲は変わりません。

メモとタグは Pro の機能です。ログイン/Proでメモを保存