審決検索MVP
← 検索一覧に戻る
特許拒絶査定不服審判

2019-010533

現像可能な底部反射防止コーティングおよび着色インプラントレジストのための化学増幅方法および技術

審判番号
2019-010533
法域
特許
審判種別
拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
出願番号
特願2016-570932外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
請求日
2019年08月08日
審決日
2021年01月22日
公報発行日
2021年03月26日
結論
原査定取消(特許/登録すべき)
当事者
審判長/審判官
分類
P18 .113-WYF(G03F) / P18 .121-WYF(G03F) / P18 .537-WYF(G03F)
データ出所
審決公報(SGML)

事件の表示

特願2016-570932号「現像可能な底部反射防止コーティングおよび着色インプラントレジストのための化学増幅方法および技術」拒絶査定不服審判事件〔平成27年9月3日国際公開、WO2015/130695号、平成29年3月16日国内公表、特表2017-507372号、請求項の数(10)〕について、次のとおり審決する。

結論

【結 論】 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。

理由

【理 由】 本願は、平成27年2月24日(パリ条約による優先権主張 2014年2月25日 (US)アメリカ合衆国)の出願であって、その請求項1ないし10に係る発明は、令和2年12月9日になされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項1ないし10に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審における拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。

審決本文(J-PlatPat)

J-PlatPatの審決検索トップを開きます。番号入力で「審判番号」を選び、下の番号を貼り付けて検索してください。

J-PlatPat 審決検索を開く
2019-010533

番号・当事者・条文・審決分類・商標の称呼が一致(または近い)審決を機械的に集めた候補です。判断内容は各審決の本文でご確認ください。

同じ当事者の審決83件(トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド、東京エレクトロン株式会社)
  • 2024-017912拒絶査定不服審判 / 2026-03-09 / 請求不成立スピンする反射性基板の分析のためのハードウェア改善及び方法
    同じ当事者: トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド、東京エレクトロン株式会社
  • 2024-017406拒絶査定不服審判 / 2025-11-26 / 原査定取消(特許/登録すべき)照射されたエッチング剤を使用した材料の粗さ低減方法
    同じ当事者: トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド、東京エレクトロン株式会社
  • 2022-007447拒絶査定不服審判 / 2023-05-11 / 請求不成立サブ解像度基板パターニングのためのエッチングマスクを形成する方法
    同じ当事者: トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド、東京エレクトロン株式会社
  • 2021-015942拒絶査定不服審判 / 2023-01-23 / 原査定取消(特許/登録すべき)光増感化学増幅レジスト(PS-CAR)シミュレーション
    同じ当事者: トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド、東京エレクトロン株式会社
  • 2021-008074拒絶査定不服審判 / 2022-01-24 / 原査定取消(特許/登録すべき)インターコネクトのためのルテニウムメタルによるフィーチャ充填
    同じ当事者: トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド、東京エレクトロン株式会社
同じ論点・分野の審決(審決分類)450件(113・G03F、121・G03F、537・G03F)
  • 2025-005109拒絶査定不服審判 / 2026-06-25 / 原査定取消(特許/登録すべき)画素定義層の製造方法
    共通の審決分類: 113・G03F、121・G03F、537・G03F
  • 2024-015129拒絶査定不服審判 / 2026-05-01 / 原査定取消(特許/登録すべき)確率的プロセスウィンドウの検出
    共通の審決分類: 113・G03F、121・G03F、537・G03F
  • 2024-010956拒絶査定不服審判 / 2026-03-10 / 原査定取消(特許/登録すべき)電子デバイスの製造方法
    共通の審決分類: 113・G03F、121・G03F、537・G03F
  • 2025-001262拒絶査定不服審判 / 2026-03-06 / 原査定取消(特許/登録すべき)有機金属フォトレジスト現像剤組成物及び処理方法
    共通の審決分類: 113・G03F、121・G03F、537・G03F
  • 2024-017887拒絶査定不服審判 / 2026-03-03 / 原査定取消(特許/登録すべき)半導体基材のための洗浄組成物
    共通の審決分類: 113・G03F、121・G03F、537・G03F

メモ・タグ(非公開)

あなただけに表示されます。審決本文の公開範囲は変わりません。

メモとタグは Pro の機能です。ログイン/Proでメモを保存