特許拒絶査定不服審判
2019-009490
EFEM
- 審判番号
- 2019-009490
- 法域
- 特許
- 審判種別
- 拒絶査定不服審判(拒絶査定不服の審決)
- 出願番号
- 特願2018-023684外部サイト(J-PlatPat)へ移動します
- 請求日
- 2019年07月16日
- 審決日
- 2020年11月24日
- 公報発行日
- 2021年03月26日
- 結論
- 請求不成立
- 当事者
- 【請求人】シンフォニアテクノロジー株式会社
- 【請求人代理人】大西 雅直
- 分類
- P18 .121-WZ (H01L) / P18 .537-WZ (H01L)
- 根拠条文(結論部分から自動抽出・参考)
- 特許法29条2項
- 条文(本文から自動抽出・参考)
- 特許法第29条第2項
- データ出所
- 審決公報(SGML)
事件の表示
特願2018- 23684「EFEM」拒絶査定不服審判事件〔平成30年 7月12日出願公開、特開2018-110246〕について、次のとおり審決する。
結論
【結 論】
本件審判の請求は、成り立たない。
理由
【理 由】
第1 手続の経緯
本願は、平成26年1月31日に出願した特願2014-17819号(以下「原出願」という。)の一部を平成30年2月14日に新たな特許出願としたものであって、その手続の経緯は、概略、以下のとおりである。
平成30年 2月28日:上申書、手続補正書の提出
平成30年10月26日:拒絶理由通知(起案日)
平成31年 1月 7日:意見書の提出
平成31年 4月 8日:拒絶査定(起案日)(以下「原査定」という。)
令和 元年 7月16日:審判請求書の提出
令和 2年 4月10日:上申書の提出
令和 2年 5月20日:拒絶理由通知(起案日)
令和 2年 8月25日:意見書、手続補正書の提出(以下、この手続補正書による手続補正を「本件補正」という。)
第2 本願発明
本件補正によって補正された特許請求の範囲の請求項1(以下「本願発明」という。)は、以下のとおりである。
「【請求項1】
搬送空間を有するウェーハ搬送室内を窒素が循環するEFEMであって、
前記ウェーハ搬送室の壁面の一部を構成し、当該ウェーハ搬送室内を開放するための開口を形成された板状部と、
前記開口を開閉するための扉部と、
内部空間を開閉可能とする蓋部を前記扉部に対向させるように、複数枚のウェーハが収納されるウェーハ収納容器を載置して前記板状部に向かって進退可能とする載置台と、
前記載置台に載置された前記ウェーハ収納容器を、前記載置台に対して固定するための固定部と、
前記載置台に載置された前記ウェーハ収納容器の位置決めを行うための位置決めピンと、
前記ウェーハ収納容器に設けられた鍔部に係合する係合片を備えたクランプユニットと、
前記開口の周縁に沿って前記板状部の前記載置台側に設けられた弾性材とを具備し、
前記載置台を前記板状部に向かって移動させた後、前記開口の両側部に設けられた前記クランプユニットにより前記鍔部を前記板状部側へ引き込むことで、前記ウェーハ収納容器における前記蓋部の周囲に前記弾性材が弾接するように構成したことを特徴とするEFEM。」
第3 拒絶の理由
令和 2年 5月20日付けで当審が通知した拒絶理由のうちの理由1は、次のとおりのものである。
本件出願の請求項1に係る発明は、原出願の出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の引用文献1に記載された発明、引用文献2に記載された技術及び周知技術、請求項2、3に係る発明は、引用文献1に記載された発明、引用文献2、3に記載された技術及び周知技術、請求項4、5に係る発明は、引用文献1に記載された発明、引用文献1ないし3に記載された技術及び周知技術、請求項6に係る発明は、引用文献1に記載された発明、引用文献1ないし4に記載された技術及び周知技術、請求項7、8に係る発明は、引用文献1に記載された発明、引用文献1ないし5に記載された技術及び周知技術に基いて、原出願の出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない、というものである。
<引用文献等一覧>
1.米国特許出願公開第2009/0317214号明細書
2.特開2006-74033号公報(原査定で引用された引用文献1)
3.特表2011-512642号公報
4.特開2002-357271号公報(原査定で引用された引用文献5)
5.特開2002-359180号公報(原査定で引用された引用文献3)
6.周知例1:特開2010-82742号公報(周知技術を示す文献)
7.周知例2:特開2005-277291号公報(周知技術を示す文献)
第4 引用文献の記載及び引用発明
1 引用文献1の記載
(1)引用文献1には、以下の事項が記載されている(下線は、当審で付した。以下同じ。)。
「A semiconductor manufacturing system, an interface system, a carrier, and a method are provided. In one embodiment, an interface system that provides a protective, ambient controlled environment comprises an enclosure and at least one door configured to cover an opening in the enclosure; a robotic system disposed within the enclosure, wherein the robotic system includes at least one holder to support and transfer at least one substrate; at least one first valve coupled to the enclosure for releasing gas into the enclosure; and an ambient control tank and air circulation system coupled to the enclosure.」(段落[0010])
(「一実施形態では、保護された、雰囲気の制御された環境を提供するインタフェースシステムは、筐体と、筐体の開口を覆うように構成された少なくとも1つのドア;筐体内に配置されたロボットシステムであって、ロボットシステムは、少なくとも1つの基板を支持し搬送するための少なくとも1つのホルダを含む;筐体へガスを放出するための筐体に結合された少なくとも1つの第1のバルブ;筐体に結合された雰囲気制御タンク及び空気循環システムを含む。」)(注:下線部のみの翻訳文は合議体による。以下同じ。)
「Referring to FIG. 1, the semiconductor manufacturing system 100 comprises at least one controller 110, a port 120 including a sensor 122, a process chamber 200, the interface system 300 including a first ambient control element, and the carrier chamber 400 including a second ambient control element. It is understood that the semiconductor manufacturing system 100 may comprise any number of controllers 110, ports 120, interface systems 300, and carriers 400.」(段落[0027]
(「図1を参照すると、半導体製造システム100は、少なくとも1つのコントローラ110、センサ122を含むポート120、処理チャンバ200、第1の雰囲気制御素子を含むインタフェースシステム300、及び第2の雰囲気制御素子を含むキャリアチャンバ400を含む。」)
「The semiconductor manufacturing system 100 manufacturers and transports at least one substrate 105. The substrate 105 may include a substrate, a wafer, a semiconductor substrate or wafer, a mask, a reticle, a plasma filtering plate, an integrated circuit, an adsorptive pad, any base material on which processing is conducted to produce new film or layers of material, any other suitable substrate for the system 100, and/or combinations thereof. The substrate 105 may further comprise any suitable shape and/or size. In some embodiments, the substrate 105 comprises a 300 mm diameter or a 450 mm diameter.」(段落[0028])
(「基板105は、基板、ウェーハ、半導体基板又はウェーハ、マスク、レチクル、プラズマフィルタリングプレート、集積回路、吸着パッド、新規なフィルム又は材料の層を生成するために処理される任意の基材、システム100用の他の適切な基板、及び/又はそれらの組合せを含み得る。」)
「The port 120 including the sensor 122 is disposed proximate to an outer surface of the interface system 300 and proximate to a door of the interface system 300. The port 120 provides support for the carrier 400. The sensor 122 senses when the carrier 400 is disposed (or placed) on the port 120 and ensures that the carrier 400 is properly secured on the port 120. In alternate embodiments, the carrier 400 may be directly coupled to and supported by the plurality of walls of the interface system 300. In some embodiments, the port 120 is a load port, wherein substrate 105 may be transported to and from the carrier 400 placed on the port 120 to the interface system 300.」(段落[0030])
(「ポート120は、キャリア400の支持を提供する。」
「いくつかの実施形態では、ポート120は、ロードポートであり、ここで、基板105は、ポート120上に配置されたキャリア400へ及びから、インタフェースシステム300へ搬送され得る。」)
「The semiconductor manufacturing system 100 includes the interface system 300 including the first ambient control element. The interface system 300 including the first ambient control element provides an ambient controlled environment while transporting (or transferring) the substrate 105 between the process chamber 200 and the carrier 400. FIG. 2 provides the interface system 300 comprising a first ambient control element according to one embodiment. The interface system 300 comprises a plurality of walls 305; an enclosure 310; a set of doors 315, 320; a robotic system 325; a gas providing system 330; an exhaust system 335; a heating element 340; an air circulation system 350 providing air circulation 352; an ambient control tank 360 including an absorber (catalyst) element 361, a regeneration element 362, and a cooling element 364; an outlet system 365; a particle filter 370; and an ambient control sensor (or detector) 375. In the present embodiment, the first ambient control element comprises the circulation system 350 providing air circulation 352; the ambient control tank 360 including the absorber (catalyst) element 361, regeneration element 362, and the cooling element 364; the particle filter 365; and the outlet system 370. The first ambient control element may comprise any of these elements alone or in combination in alternate embodiments. In some embodiments, the interface system 300 may be a facility interface. In some embodiments, the interface system 300 may comprise an equipment front end module (EFEM).」(段落[0034])
(「図2は、一実施形態によれば、第1の雰囲気制御要素を含むインタフェースシステム300を提供する。インタフェースシステム300は、複数の壁305;筐体310;一組のドア315、320;・・・ガス供給システム330;・・・空気循環352を提供する空気循環システム350、・・・を含む。」
「いくつかの実施形態では、インタフェースシステム300は、Equipment Front End Module(EFEM)を構成し得る。」)
「The plurality of walls 305 creates enclosure 310, providing a protective, ambient controlled environment for transferring the substrate 105. The set of doors 315, 320 may be on or in at least one of the plurality of walls 305. The door 315 facilitates transporting the substrate 105 between the interface system 300 and the process chamber 200. The door 320 facilitates transporting the substrate 105 between the interface system 300 and the carrier 400.」(段落[0035])
(「複数の壁305は、筐体310を形成し、それは、基板105を移動させるための、保護された、雰囲気の制御された環境を提供する。」
「ドア320は、インタフェースシステム300とキャリア400との間で基板105を搬送することを容易にする。」)
「The gas providing system 330 provides a gas to the enclosure 310 through tube (or pipeline) 332. The provided gas may include any suitable gas, such as hot nitrogen (N2), hydrogen (H2), helium (He), argon (Ar), an inert gas, any other suitable gas, and/or combinations thereof.」(段落[0037])
(「ガス供給システム330は、・・・供給されるガスは、任意の適当なガス、例えば、熱窒素(N2)、・・・を含み得る。」)
「The semiconductor manufacturing system 100 further comprises the carrier 400 including the second ambient control element. The carrier 400 including the second ambient control element provides an ambient controlled environment while storing, transporting, or holding the substrates 105. FIG. 3A provides the carrier 400 including the second ambient control element according to one embodiment. The carrier 400 comprises semiconductor substrates 105, a plurality of walls 405, an enclosure 410, a door 415, a frame 420, a sealing apparatus 425, substrate holders 430, an ambient control sensor (or detector) 440, a gas providing system 445, and adsorptive pads 450. In the present embodiment, the second ambient control element comprises the adsorptive pads 450.」(段落[0049])
(「図3Aは、一実施形態による第2の雰囲気制御要素を備えたキャリア400を提供する。キャリア400は、半導体基板105、複数の壁405、筐体410、ドア415、フレーム420、・・・を含む。」)
「The carrier 400 may be a cassette, front opening unified pod (FOUP), standard mechanical interface (SMIF), reticle carrier, or any other suitable carrier for carrying one or more semiconductor substrates 105. The plurality of walls 405 create enclosure 410, providing a protective, ambient controlled environment for holding and transporting the semiconductor substrates 105. In the present embodiment, the carrier 400 is a FOUP, and the door 415 is located on a side of the carrier 400. The door 415 also includes a frame 420 so that the door 415 can be moved into and from the frame 420. In alternate embodiments, the carrier 400 may be a cassette or SMIF with the door 415 located at the bottom of the carrier 400.」(段落[0050])
(「キャリア400は、カセット、前面開放型一体ポッド(FOUP)、標準メカニカルインタフェース(SMIF)、レチクルキャリア、または一つ以上の半導体基板105を運ぶための任意の他の適切なキャリアであってもよい。」
「本実施形態では、キャリア400はFOUPであり、ドア415はキャリア400の側部に配置される。」)
「The semiconductor manufacturing system 100 further provides an ambient controlled environment within the interface between the interface system 300 and the carrier 400 so that the substrates 105 are not exposed to undesirable ambients while transferred between open door 320 of the interface system 300 and open door 415 of the carrier 400. Referring to FIG. 5, the undesired ambients between the interface system 300 and the carrier 400 are purged when the interface system 300 is coupled to the carrier 400. In the present embodiment, the carrier 400 is attached to one of the plurality of walls 305 of the interface system 300. In the present embodiment, the plurality of walls 305 includes the door 320, at least one fastener 321, a first sealing apparatus 322, at least one valve 323, and a second sealing apparatus 324.」(段落[0064])
(「半導体製造システム100は、さらに、基板105がインタフェースシステム300の開かれたドア320及びキャリア400の開かれたドア415との間を運ばれる間、望ましくない雰囲気に曝されないように、インタフェースシステム300とキャリア400との間のインタフェース内の雰囲気の制御された環境を提供する。図5を参照すると、インタフェースシステム300とキャリア400との間の望ましくない雰囲気は、インタフェースシステム300がキャリア400に連結されたときにパージされる。」
「複数の壁305は、ドア320と、少なくとも1つの締結具321、第1のシーリング器具322、・・・を含む。」)
「When the interface system 300 and the carrier 400 are attached, the door of the interface system 320 and the door of the carrier 415 are coupled together. The at least one fastener 321 fastens the carrier 400 to the interface system 300. The at least one fastener 321 may comprise a clamp, a knob clamp, a clip, other devices that may fasten the carrier 400 to the interface system 300. (注:「the interface system 400」は、「the interface system 300」の誤記と認めた。) The at least one fastener 321 may rotate or move horizontally and/or vertically. Further, it is understood that any number of fasteners 321 may be utilized.」(段落[0065])
(「インタフェースシステム300とキャリア400が結合されているとき、インタフェースシステムのドア320とキャリアのドア415は連結されている。少なくとも1つの締結具321は、キャリア400をインタフェースシステム300に固定する。少なくとも1つの締結具321は、クランプ、ノブクランプ、クリップ、キャリア400をインタフェースシステム300に固定することができる他のデバイスを含み得る。少なくとも1つの締結具321は、水平方向および/または垂直方向に回転または移動することができる。」)
「The first sealing apparatus 322 seals the region between the wall 305 including the door 320 and the door 415 once the interface system 300 and the carrier 400 are attached. The second sealing apparatus 324 is disposed between the wall 305 and the door 320 to tightly seal the enclosure 305 of the interface system 300. The first sealing apparatus 322 and the second sealing apparatus 324 may include a rubber strip, an O-ring, gel, any other apparatus adapted to seal the region, and/or combinations thereof.」(段落[0066])
(「第1のシーリング器具322は、インタフェースシステム300とキャリア400とが結合されると、ドア320を含む壁305とドア415との間の領域を密封する。」
「第1のシーリング器具322及び第2のシーリング器具324は、ゴムの細片、Oリング、ゲル、領域を密封するように適合された任意の他の器具、及び/又はそれらの組み合わせを含み得る。」)
が記載されている。
(2)
Fig1、2、3A、5は、以下のとおりのものである。
ア 引用文献1のFig.1から、「インタフェースシステム300」に、「キャリア400」が結合されている構造が見てとれる。
イ 引用文献1のFig.2から、複数の壁305は板状構造であり、右側の「壁305」に「ドア320」が設けられている構造が見てとれる。
ウ 引用文献1のFig1、3A、5から、「ドア415」を「ドア320」に対向させるように、「基板105」が収納される「キャリア400」を載置する「ポート120」を具備する構成が見てとれる。
エ 引用文献1のFig.5から、インタフェースシステムの「壁305」に設けられた「締結具321」は、「壁305」の開口の両側に設けられ、「キャリア400」の「フレーム420」と係合する構造が見てとれる。
「
」
「
」
2 引用発明
(1)引用文献1の段落[0010]の「保護された、雰囲気の制御された環境を提供するインタフェースシステムは、筐体と、筐体の開口を覆うように構成された少なくとも1つのドア;・・・を含む。」との記載及び段落[0064]の「開かれたドア」との記載、並びに、段落[0035]の記載、FIG.1、2、5を参酌すると、引用文献1には、「インタフェースシステム300」の「壁305」を構成し、「インタフェースシステム300」内を開放するための開口を形成された板状構造の「壁305」と、開口を開閉するための「インタフェースシステム300」の「ドア320」と、を具備する構成が記載されていると認められる。
(2)引用文献1の段落[0027]、[0049]、[0050]、[0064]、[0065]の記載、及び上記1(2)ウから、引用文献1には、「キャリア400」の内部空間を開閉可能とする「ドア415」を「ドア320」に対向させるように、複数枚のウェーハを含む「基板105」が収納される「キャリア400」を載置する「ポート120」を具備する構成が記載されていると認められる。
(3)引用文献1の段落[0064]の記載、及び上記1(2)エから、引用文献1には、「インタフェースシステム300」の「壁305」に設けられた「締結具321」であって、「キャリア400」の「フレーム420」に係合する部分を備えた、「クランプなどを含む締結具321」を具備する構成が記載されていると認められる。
(4)引用文献1の段落[0037]、[0066]の記載及びFIG.1、2、3A、5を参酌して、以上をまとめると、引用文献1には、以下の発明が記載されている(以下「引用発明」という。)。
「インタフェースシステム300内を窒素が循環するEFEMであって、
インタフェースシステム300の壁305を構成し、インタフェースシステム300内を開放するための開口を形成された板状構造の壁305と、
開口を開閉するためのインタフェースシステム300のドア320と、
キャリア400の内部空間を開閉可能とするドア415をドア320に対向させるように、複数枚のウェーハを含む基板105が収納されるキャリア400を載置するポート120と、
インタフェースシステムの壁305に設けられた締結具321であって、壁305の開口の両側に設けられ、キャリア400のフレーム420に係合する部分を備えた、クランプなどを含む締結具321と、
ゴムの細片、Oリングなどからなる第1のシーリング器具322と、を具備し、
インタフェースシステム300とキャリア400が結合されると、第1のシーリング器具322によって、インタフェースシステム300のドア320を含む壁305と、キャリア400のドア415との間の領域を密封するように構成したEFEM。」
3 引用文献2の記載
引用文献2には、以下の事項が記載されている。
「【0051】
ポッド支持体8上の搬送ポッド1は、矢印8aおよび8bによって表すように垂直および水平に移動可能である。」
「【0054】
図示するように、保持手段15が、搬送ポッド1をインタフェース17に向けて動かし、インタフェースの前方シーリング手段16を圧縮し、このシーリング手段は変形する可能性のあることが理解されよう。」
4 周知例の記載と周知技術
(1)周知技術1
ア 周知例1:特開2010-82742号公報
「【0019】
ロードポート部102,103は、ミニエン筐体100の半導体製造装置104と対向する側に複数設けられ、半導体製造装置104への試料搬送口の役割をする。ロードポート部102,103は、ウェーハが収容されたFOUP(Front Opening Unified Pod)108を固定するための固定台109を有し、固定台109には、FOUP108を固定、載置すると共に前後に動作する載置プレートが設けられ、載置プレートにより筐体100内部に臨むFOUP開閉機構部にFOUP108を移動させる。FOUP開閉機構部は、FOUPの蓋を開閉する開閉機構を有する。」
「【図1】
」
イ 周知例2:特開2005-277291号公報
「【0002】
半導体基板の搬送方法としては、半導体基板を収納した例えばSEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)規格E47.1(300mmウェーハ搬送及び保管のために使用されるボックス/ポッドの機械仕様)で規定されているFOUP(Front Opening Unified Pod)等の容器を、SEMI規格E15.1(300mm装置ロードポートのための仕様)やSEMI規格E62(300mm(FIMS)フロント・オープニング・メカニカルインタフェースの仕様)で規定された一般にロードポートと呼ばれるドア開閉機構ユニットと半導体基板移載装置を介して自動でドアの開閉と半導体基板の移載を実施させて半導体基板を半導体製造装置へ投入するという形態を取っている。
【0003】
従来の半導体基板の搬送方法と搬送装置に関して図面を参照しながら説明する。図5は従来の半導体基板の搬送装置の構成例を示す図である。フィルターと送風機が一体となったFFU(Fan Filter Unit)42と言われるユニットを最上部に載置したEFEM(Equipment Front End Module)41の側面にロードポートが取り付けられる。このロードポートにおけるロードポート架台32上のスライドステージ33上にFOUPを載置した後、FOUPシェル11を下面から固定したままロードポートドア31に向けて70mm移動して、図6に示すようにFOUPドア12とロードポートドア31を密着させる。その後ロードポートドア31に取り付けられたラッチキーと呼ばれる機構がFOUPドア12の施錠を解除してドアを開け、FOUPドア12をEFEM41内に引き込んで下降し、移載ロボット43が半導体基板を搬送する。」
「【図5】
」
ウ 上記ア、イから、以下の技術的事項は周知であるものと認められる。
「EFEMの壁面の一部を構成するロードポートが、FOUPを載置し、搬送口を備える板状部を構成すること。」
(2)周知技術2
ア 周知例A:韓国公開特許第10-2006-0061935号公報
「
」(第3頁第46行-第4頁第14行)
(「フレーム部(10)はFIMSローダーを成す構成要素を支持または付着するフレームであって、内部と外部環境の境界をなす。フレーム部(10)にはFOUP(200)とFIMSドア部(40)の結合通路である開口部(11)が形成されており、開口部(11)周囲のFOUP(200)が密着される接触面上には気密性を維持するためのシーリング部材(45)が付着している。
ステージ部(20)は片側がフレーム部(10)に結合され、FOUP(200)が装着される部分であり、FOUP(200)をフレーム部(11)に密着させる。ステージ部(20)のFOUP(200)が装着される面上には、FOUP(200)がステージ部(20)上に正しく安着されたのかを判断するためのレジストレーションピン(21)と、FOUP(200)が正常に高めることができないことを感知するFOUP位置感知センサー(23)が3個ずつ具備されている。
クランピング部(30)は、ステージ部(20)の両側面に結合されてステージ部(20)に装着されたFOUP(200)を定位置に固定させ、連結ポートの接触力など外部の影響を抑制する。クランピング部(30)は、ガス制御部(60)の空圧制御によって垂直または回転運動をするクランプシリンダ(31)と、クランプシリンダ(31)をステージ部(20)に固定させる固定ブラケット(33)及びクランプシリンダ(31)の終端に“┐“状に連結されてFOUP(200)の端を把持してFOUP(200)をステージ部(20)に固定させる折り曲げ部(35)を含む。クランピング部(30)は、ガス制御部(60)に具備された圧力調節弁(未図示)によって固定圧力が調節され、FOUP(200)が安全で円滑に取り扱いながら適切な把持力を維持するようになっている。
FIMSドア部(40)は、フレーム部(10)の後面に結合されてFOUP(200)のドアを開放してパージング動作を実行し、パージング完了の時、ドア開閉手段によって水平方向に移動されてロボット(未図示)がFOUP(200)からウェーハを搬出するようにするものであって、具体的な構造及び動作は図2ないし図4で説明する。
エッジグリップ部(50)は、フレーム部(10)の開口部(11)両側上端に設置され、ステージ部(20)によってフレーム部(10)に密着されたFOUP(200)を把持及び密着させて気密性を向上させるためのものである。エッジグリップ部(50)は、ガス制御部(60)の空圧制御によって上下または回転運動してFOUP(200)をフレーム部(10)のシーリング部材(45)に密着させる。」)(注:翻訳文は合議体による。以下同じ。)
「
」(第5頁第27行-第39行)
(「1.FOUP(200)の装着及び固定
まず、FOUP(200)がステージ部(200)に装着されると、レジストレーションピン(21)及びFOUP位置感知センサー(23)がFOUP(200)がステージ部(20)上に正常に安着されたのかを確認する。
クランピング部(30)がステージ部(20)に装着されたFOUP(200)を定位置に固定させ、連結ポートの接触力などの外部影響を抑制する。
クランピング部(30)によるFOUP(200)の固定が完了すると、ステージ部(20)は、FOUP(200)がフレーム部(10)のシーリング部材(45)に密着される位置に移動させる。
その後、エッジグリップ部(50)が空圧制御によって上下または回転運動してFOUP(200)をフレーム部(10)のシーリング部材(45)にさらに密着させて気密性を高める。」)
「
」
上記記載から、周知例Aには、次の技術が記載されていると認められる。
「FOUP(200)が装着されるステージ部(20)をフレーム部のシーリング部材(45)に密着される位置に移動可能とし、ステージ部(20)は、FOUP(200)を定位置に固定させるクランピング部(30)と、FOUP(200)がステージ部(20)上に正しく安着されたのかを判断するためのレジストレーションピン(21)とを備え、ステージ部(20)をフレーム部のシーリング部材(45)に密着される位置に移動させた後、エッジグリップ部(50)が空圧制御によって上下または回転運動してFOUP(200)をフレーム部(10)のシーリング部材(45)にさらに密着させて気密性を高めること。」
(ここで、周知例Aの「クランピング部(30)」は、「FOUP(200)」を定位置に固定させるものであるから、本願発明の「固定部」に対応し、周知例Aの「レジストレーションピン(21)」は、「FOUP(200)」を「ステージ部(20)」上に正しく安着させるものであるから、本願発明の「位置決めピン」に対応し、周知例Aの「エッジグリップ部(50)」は、「フレーム部(10)」に向かって「FOUP(200)」を把持及び密着させて固定させるものであるから、本願発明の「クランプユニット」に対応する。)
イ 周知例B:特開2008-60513号公報
「【0025】
前記移載台10は、単にキャリア3を載置し得るように構成されていてもよいが、次のように構成されていてもよい。移載台10は、例えば図3に示すように隔壁6に固定された台枠10aと、該台枠10aの上部に隔壁6に対して直交する方向にリニアガイド10bを介して小範囲でスライド可能に設けられた台座10cとから構成され、台座10c上にはキャリア3の底部に形成された図示しない孔部に係合してキャリア3を位置決めする複数例えば3本の位置決めピン19が立設されている。台枠10aには、台座10cにキャリア3を固定する固定機構と、キャリア3を隔壁6から離間した離間位置からキャリアの前面部が隔壁6に当接する当接位置にまたはその逆に台座10cごと移動する移動機構とが設けられている(図示省略)。
【0026】
前記キャリア3の前面両側背面部には被押圧部20が設けられている。図2の図示例では、キャリア3の前面両側部には側方に突出したフランジ部3cが形成され、該フランジ部3cの背面部が被押圧部20とされている。図4ないし図5の図示例では、キャリア3の前面両側部には凹部21を設けることによりフランジ部3cが形成され、該フランジ部3cの背面部が被押圧部20とされている。そして、前記隔壁6には、前記被押圧部20に側方から乗り上げてキャリア3を隔壁6の開口部13すなわち開口縁部に押圧させた状態に保持する押圧ローラ22を有する押圧保持機構23が設けられている。押圧保持機構23は、移載台10上のキャリア3の両側に位置するように一対設けられている。」
「【0033】
移載台10上にキャリア3が搬送されて載置されると、例えば移載台10上に設けられた図示しないセンサによりキャリア3が載置されたことが検知され、押圧保持機構23が作動を開始する。なお、前述した固定機構や移動機構を有する場合には、台座10cに対するキャリア3の固定や隔壁6に対するキャリア3の台座10cごとの移動を予め行うことになる。」
「【図2】
【図3】
」
上記記載から、周知例Bには、次の技術が記載されていると認められる。
「キャリア3が載置される移載台10は、台座10cから構成され、隔壁6に当接する当接位置にまたはその逆に台座10cごと移動可能とし、台座10cにキャリア3を固定する固定機構と、キャリア3を位置決めする複数例えば3本の位置決めピン19とを備え、台座10cに対するキャリア3の固定や隔壁6に対するキャリア3の台座10cごとの移動を予め行い、押圧保持機構23によりキャリア3を隔壁6の開口部13すなわち開口縁部に押圧させた状態に保持すること。」
(ここで、周知例Bの「固定機構」は、「キャリア3」を「移載台10」に固定するものであるから、本願発明の「固定部」に対応し、周知例Bの「位置決めピン19」は、「キャリア3」を位置決めするものであるから、本願発明の「位置決めピン」に対応し、周知例Bの「押圧保持機構23」は、「キャリア3」を「隔壁6」に向かって押圧させた状態に保持・固定するものであるから、本願発明の「クランプユニット」に対応する。)
ウ 周知例C:韓国公開特許第10-2004-0062348号公報
「
」(第4頁第3行-第19行)
(「ここで、移動トレー(131)の上面には、上側方向に所定の長さ突出された状態で固定された複数の安着突起(132)と、移動トレー(131)の上面に選択的に突出される複数の固定突起(133)が形成及び設置されるところ、これらはFOUP(80)が移動トレー(131)に安着される場合、このFOUP(80)が移動トレー(131)に堅く固定されうるようにする役割を果たす。この時、移動トレー(131)の上面に選択的に突出される複数の固定突起(133)は、FOUP固定ユニットに連結されるようになって、このFOUP固定ユニットが移動トレー(131)を任意に固定させようとする場合、移動トレー(131)の上面で選択的に突出されてFOUP(80)を移動トレー(131)に固定させるようになる。
一方、設備本体(140)の外部一面に形成された出入口(110)の内側には、出入口オープンユニットと連結されて工程進行によって出入口(110)及びFOUP(80)のドアを選択的に開閉させる出入口オープナー(Opener、155)が設置されるようになって、出入口(110)の外側のうち出入口(110)の端部分には、FOUP(80)のドアが装着された一面の縁端部(以下、‘密着部(85)’と称する)が、FOUP(80)が出入口(110)方向に移動されると設備本体(140)に密着されうるように、FOUP(80)を案内する平板プレート(Plate)形状のガイド(112)が形成される。
そして、このような出入口(110)の上側及び設備本体(140)の上側には、FOUP(80)が設備本体(140)のロード部(130)にローディングされた後、移動トレー(131)によって設備本体(140)の出入口(110)に移動及び密着されることにおいて、FOUP(80)がなだらかに密着されない場合、FOUP(80)を引き寄せてEFEM(100)の出入口(110)に強制密着させることができるFOUPクランピング手段(120)が具備される。」)(注:翻訳文は合議体による。)
「
」
上記記載から、周知例Cには、次の技術が記載されていると認められる。
「FOUP(80)が載置される移動トレー(131)は、設備本体(140)の出入口(110)に移動可能とし、FOUP(80)が移動トレー(131)に堅く固定されうるようにする複数の固定突起(133)と、FOUP(80)が移動トレー(131)に安着されるようにする複数の安着突起(132)とを備え、移動トレー(131)によって設備本体(140)の出入口(110)に移動後、FOUPクランピング手段(120)によりFOUP(80)を引き寄せてEFEM(100)の出入口(110)に強制密着させること。」
(ここで、周知例Cの「複数の固定突起(133)」は、「FOUP(80)」を「移動トレー(131)」に堅く固定するものであるから、本願発明の「固定部」に対応し、周知例Cの「複数の安着突起(132)」は、「FOUP(80)」を「移動トレー(131)」に安着させるものであるから、本願発明の「位置決めピン」に対応し、周知例Cの「FOUPクランピング手段(120)」は、「FOUP(80)」を引き寄せて「EFEM(100)」の「出入口(110)」に強制密着させ、固定するものであるから、本願発明の「クランプユニット」に対応する。)
エ 上記ア、イ、ウから、以下の技術的事項は周知であるものと認められる。
「FOUPが載置される載置台をフレーム(板状部)に向かって進退可能とし、載置台にFOUPを固定するための固定部と位置決めのためのピンを備え、載置台をフレームに向かって移動させた後、クランプユニットによりFOUPをフレーム側に引き込むことでさらに密着させること。」
第5 対比
本願発明と引用発明を対比すると、以下のとおりとなる。
1 引用発明の「インタフェースシステム300」、「EFEM」、「(インタフェースシステム300の)壁305」、「(インタフェースシステム300の)ドア320」、「(キャリア400の)ドア415」、「基板105」、「キャリア400」、「ポート120」、「クランプなどを含む締結具321」は、それぞれ、本願発明の「ウェーハ搬送室」、「EFEM」、「板状部」、「扉部」、「蓋部」、「ウェーハ」、「ウェーハ収納容器」、「載置台」、「クランプユニット」に相当する。
2 本願発明の「前記開口の周縁に沿って前記板状部の前記載置台側に設けられた弾性材」と、引用発明の「第1のシーリング器具322」と、を対比する。
引用発明の「第1のシーリング器具322」は、ゴムの細片、Oリングなどを用い、「ドア320」を含む「壁305」と「ドア415」との間の領域を密封する形状であることから、「基板105」を搬送するために用いられる開口の周縁に沿って設けられるものと認められる。
したがって、本願発明と引用発明とは、「前記開口の周縁に沿って前記板状部の前記載置台側に設けられた弾性材」を具備する点で一致する。
3 引用発明の「締結具321」は、「壁305」の「開口」の両側に設けられ、「締結具321」が「キャリア400」を「インタフェースシステム300」に固定し、「開口」の周縁に沿って設けられた「第1のシーリング器具322」が「ドア320を含む壁305と、ドア415との間の領域を密封する」構造であることから、本願発明と引用発明とは、「前記開口の両側部に設けられた前記クランプユニットで、前記ウェーハ収納容器における前記蓋部の周囲に前記弾性材が弾接するように構成」する点で共通する。
4 したがって、本願発明と引用発明との一致点及び相違点は次のとおりである。
<一致点>
「搬送空間を有するウェーハ搬送室内を窒素が循環するEFEMであって、
前記ウェーハ搬送室の壁面を構成し、当該ウェーハ搬送室内を開放するための開口を形成された板状部と、
前記開口を開閉するための扉部と、
内部空間を開閉可能とする蓋部を前記扉部に対向させるように、複数枚のウェーハが収納されるウェーハ収納容器を載置する載置台と、
前記ウェーハ収納容器に設けられた鍔部に係合する係合片を備えたクランプユニットと、
前記開口の周縁に沿って前記板状部の前記載置台側に設けられた弾性材とを具備し、
前記開口の両側部に設けられた前記クランプユニットで、前記ウェーハ収納容器における前記蓋部の周囲に前記弾性材が弾接するように構成したEFEM。」
<相違点>
<相違点1>
「板状部」について、本願発明では、「前記ウェーハ搬送室の壁面の一部を構成」するものであるのに対し、引用発明では、「壁305」は、「インタフェースシステム300」の壁面の一部を構成するものではない点。
<相違点2>
「載置台」について、本願発明では、「前記板状部に向かって進退可能」とするものであるのに対し、引用発明では、「ポート120」について、そのような特定はなされていない点。
<相違点3>
本願発明では、「前記載置台に載置された前記ウェーハ収納容器を、前記載置台に対して固定するための固定部」を有するのに対し、引用発明では、そのような特定はなされていない点。
<相違点4>
本願発明では、「前記載置台に載置された前記ウェーハ収納容器の位置決めを行うための位置決めピン」を有するのに対し、引用発明では、そのような特定はなされていない点。
<相違点5>
本願発明では、「前記載置台を前記板状部に向かって移動させた後、前記開口の両側部に設けられた前記クランプユニットにより前記鍔部を前記板状部側へ引き込むこと」で、弾接するように構成したものであるのに対し、引用発明では、そのような特定はなされていない点。
第6 判断
上記相違点について、判断する。
1 相違点1について
上記「第4」「4(1)ウ」のとおり、EFEMの壁面の一部を構成するロードポートが、FOUPを載置し、搬送口を備える板状部を構成することは周知技術(以下、「周知技術1」という。)である。
してみれば、引用発明の「EFEM」は、FOUPの「キャリア400」を載置するロードポートである「ポート120」を含むものであるから、周知技術1に基づき、開口を形成された板状部として、「インタフェースシステム300」の壁面の一部を構成するロードポートである「ポート120」を用いることは、当業者が適宜なし得たことである。
2 相違点2-5について
上記<相違点2>乃至<相違点5>について、載置台に関するものであり、まとめて検討する。
引用文献2には、「ポッド支持体8上の搬送ポッド1は、矢印8aおよび8bによって表すように垂直および水平に移動可能である。」、「図示するように、保持手段15が、搬送ポッド1をインタフェース17に向けて動かし、インタフェースの前方シーリング手段16を圧縮し、このシーリング手段は変形する可能性のあることが理解されよう。」と記載されており、相違点2の「前記板状部に向かって進退可能」や相違点5の「前記開口の両側部に設けられた前記クランプユニットにより前記鍔部を前記板状部側へ引き込むこと」に対応する構成が開示されている。
さらに、上記「第4」「4(2)エ」のとおり、FOUPが載置される載置台をフレームに向かって進退可能とし、載置台にFOUPを固定するための固定部と位置決めのためのピンを備え、載置台をフレームに向かって移動させた後、クランプユニットによりFOUPをフレーム側に引き込むことでさらに密着させることは、周知技術(以下、「周知技術2」という。)である。
そして、引用発明には、「インタフェースシステム300」に「キャリア400」を結合する構造において、「インタフェースシステム300」と「キャリア400」の間を密封することが記載されており、正確な位置にFOUPを配置し、密封性を高めるという一般的な課題を解決するために、引用発明において、引用文献2に記載された技術及び当該周知技術2に基づき、「ポート120」における「キャリア400」を載置する部分を進退可能な構造とし、「ポート120」に「キャリア400」を固定するための固定部と位置決めのためのピンを備えるようにし、「ポート120」における「キャリア400」を載置する部分を「インタフェースシステム300」に向かって移動させた後、「締結具321」により「キャリア400」の「フレーム420」を引き込むことで、「第1のシーリング器具322」に「キャリア400」をさらに押し付け、密封性を高めること、つまり相違点2-5に対応する構成を備えるようにすることは、当業者であれば容易になし得たものである。
(3)請求人の主張について
請求人は、令和 2年 8月25日に提出した意見書の「(3-4)本件発明と引用発明の対比」において、「(i)「(3-2)本件発明の説明」にも記載しました通り、本件発明に係るEFEMは、「クランプユニット」と「固定部」とを併せ持つという特徴的な構成を備えています。・・・(略)・・・しかしながら、本件発明では、このような事態を生じさせる原因となる位置決めピンをなくしてしまうのではなく、位置決めピンを残しつつ、さらに固定部を設けることで、このような事態を回避しています。・・・(略)・・・つまり、本件発明では、「載置台を板状部に向かって移動させた後」に(すなわち、ウェーハ収納容器と板状部との間に「ある程度の密閉状態」を形成した後に)、クランプユニットによる引き込みを行うことで、クランプユニットでの引き込みが確実に行われるように担保し、ウェーハ収納容器と板状部との隙間から窒素ガスが大量に流出するといった事態が生じないように安全性を十分に高めています。・・・(略)・・・このような事情があるため、本件発明では、クランプユニットによる引き込みを行ったときにウェーハ収納容器が浮き上がったり傾いたりする原因となるものであるとしても、位置決めピンをなくしてしまわずに、位置決めピンを残しつつ、さらに固定部を設けているのです。・・・(略)・・・引用文献1,2では、キャリア15(あるいは搬送ポッド1)が載置される載置台が、進退可能とされていません。したがって、当然のことながら、締結具321(あるいは保持手段15)で,キャリア15(あるいは搬送ポッド1)を固定する前に、載置台を移動させる、という構成も記載されていません。・・・(略)・・・「クランプユニット」と「固定部」と併せ持つという本件発明の特徴的な構成は、他の引用文献3~5、および、周知技術として挙げられている引用文献6,7のいずれにも記載も示唆もされていません。したがいまして、引用文献1,2にさらに引用文献3~7を適用することによって本件発明に想到することも当業者にとって容易なことではありません。したがって、本件発明は、引用文献1~7に記載の発明に対して進歩性を有するものと確信します。」と主張している。
しかしながら、上記周知例A-Cに記載されているように、「位置決めピン」と「クランプユニット」とを併せ持つ構成において、さらに「固定部」を備えることで「FOUP」を「載置台」に固定し、「載置台を板状部に向かって移動させた後」に「クランプユニット」による引き込みを行うことは、周知技術である。また、引用文献2の「ポッド支持体8上の搬送ポッド1は、矢印8aおよび8bによって表すように垂直および水平に移動可能である。」と記載されており、「ポッド支持体8」が「矢印8aおよび8b」方向に移動可能であることは明らかである。
よって、請求人の上記主張を採用することはできない。
(4)判断についてのまとめ
以上のとおりであるから、引用発明において、引用文献2に記載された技術及び上記周知技術1、2に基づいて、相違点1-5に係る本願発明の構成、それぞれを採用することは、当業者が容易になし得たことである。
また、上記相違点1-5を総合的に勘案しても、本願発明は当業者が容易に発明をすることができたものと認められる。
したがって、本願発明は、引用発明並びに引用文献2に記載された技術及び上記周知技術1、2に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により、特許を受けることができない。
第7 むすび
以上のとおり、本願発明は、原出願の出願前に日本国内又は外国において、頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献1に記載された発明及び引用文献2に記載された技術及び周知技術1、2に基づいて、原出願の出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。
したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
よって、結論のとおり審決する。
審決本文(J-PlatPat)
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2019-009490