2019-009353

特願２０１５－　１８２３８「表面処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２８年　２月１８日出願公開、特開２０１６－　２７６０４〕について、次のとおり審決する。

【結　論】 本件審判の請求は、成り立たない。

【理　由】 第１　手続の経緯 本願は、平成２７年２月２日の出願（優先権主張 平成２６年６月２４日）であって、その手続の経緯の概要は以下のとおりである。 平成２９年１２月１３日　　：手続補正書の提出 平成３０年　８月１７日付け：拒絶理由通知書 平成３０年１２月２６日　　：意見書、手続補正書の提出 平成３１年　４月　９日付け：拒絶査定 令和　元年　７月１２日　　：審判請求書、手続補正書の提出 令和　元年　８月２２日　　：審判請求書の手続補正書（方式）の提出 第２　令和元年７月１２日にされた手続補正についての補正の却下の決定 ［補正の却下の決定の結論］ 令和元年７月１２日にされた手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。 ［理由］ １　本件補正について（補正の内容） （１）本件補正後の特許請求の範囲の記載 本件補正により、特許請求の範囲の請求項１の記載は、次のとおり補正された（下線は、補正箇所である。）。 「【請求項１】 電子ビームを照射して試料の表面処理を行う表面処理装置であって、 前記電子ビームを発生させる電子源と、 前記電子ビームのビーム形状を制御するレンズ系と、 前記電子ビームが照射される前記試料が設置されるステージと、 を備え、 前記試料に照射される前記電子ビームの電流量は、１０ｎＡ～１００Ａに設定され、 前記ステージを移動させるステージ移動制御と前記電子ビームをブランキングするブランキングビーム制御を組み合わせることにより、前記電子ビームの照射領域が制御されることを特徴とする表面処理装置。」 （２）本件補正前の特許請求の範囲の記載 本件補正前の、平成３０年１２月２６日の手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１の記載は次のとおりである。 「【請求項１】 電子ビームを照射して試料の表面処理を行う表面処理装置であって、 前記電子ビームを発生させる電子源と、 前記電子ビームのビーム形状を制御するレンズ系と、 前記電子ビームが照射される前記試料が設置されるステージと、 を備え、 前記試料に照射される前記電子ビームの電流量は、１０ｎＡ～１００Ａに設定されることを特徴とする表面処理装置。」 ２　補正の適否 （１）本件補正後の請求項１の「前記ステージを移動させるステージ移動制御と前記電子ビームをブランキングするブランキングビーム制御を組み合わせることにより、前記電子ビームの照射領域が制御される」は、本件補正前の請求項１の発明を特定するために必要とされる事項の「電子ビームを発生させる電子源」、「電子ビームのビーム形状を制御するレンズ系」、「電子ビームが照射される前記試料が設置されるステージ」を限定するものではないから、本件補正前の特許請求の範囲の発明を特定するために必要とされる事項の減縮を目的とするものでなく、また、本件補正の請求項１に係る補正の目的を明りょうでない記載の釈明と解することはできない。そして、本件補正の請求項１に係る補正が請求項削除や誤記の訂正を目的とするものでないことも明らかである。 したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第５項に規定される補正の要件を満たさないものである。 （２）独立特許要件について 本件補正が目的外補正であることを理由として却下すべきであることは、上記（１）で説示したとおりであるが、仮に、本件補正が特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものであるとして、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本件補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に適合するか）についても、一応、以下で検討する。 ア　本件補正発明 本件補正発明は、上記１（１）に記載したとおりのものである。 イ　引用文献の記載事項 原査定の拒絶の理由で引用された本願の優先日前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献である特開昭６１－６１４１４号公報（以下「引用文献１」という。）には、図面とともに、次の記載がある（下線は、当審で付した。以下同様。）。 （ア）「つぎに、本発明による電子銃を用いた、本発明のマルチ電子ビーム露光装置の実施例について説明する。本発明の実施例として、複数の電子ビームを用いてウェハ上に複数のＬＳＩパターンを同時に露光可能なマルチ電子ビーム露光装置を第６図に示す。６０１は本発明による電子銃、６０２はブランカ、６０３および６０４は偏向器、６０５は静電レンズ、６０６は静電レンズ６０５を多数配置することで構成したフライズアイレンズ、６０７はステージ、６０８はステージ６０７に搭載したウェハ、６０９はオブジェクト・アパーチャ、６１０～６１４は電子銃６０１から放出された電子ビームである。 電子ビーム６１０～６１４は電子銃６０１から放射状に放出され、オブジェクト・アパーチャ６０９を通して、フライズアイレンズ６０６上の静電レンズ６０５を照射している。フライズアイレンズ６０６の直径は約１０ｃｍである。電子ビーム６１０～６１４の各々のビームに１個のオブジェクト・アパーチャ６０９、および１個の静電レンズ６０５を対応させている。フラ イズアイレンズ６０６上の個々の静電レンズ６０５によって、オブジェクト・アパーチャ６０９の像がウェハ上に電子ビームの本数分だけ投影される。本実施例では、フライズアイレンズ６０６を構成する静電レンズ６０５にアパーチャレンズを用い、電子銃６０１の陽極、オブジェクト・アパーチャ６０９およびフライズアイレンズ６０６に５．６ｋＶ、ウェハ６０８に５０ｋＶを印加している。 偏向器６０３、６０４によって電子ビーム６１０～６１４を一方向に偏向走査する。ＬＳＩのパターンデータに基づいて、ブランカ６０２にブランキング信号を加え、電子ビーム６１０～６１４を偏向信号と同期させてオン・オフする。ステージ６０７は、電子ビーム６１０～６１４の偏向走査方向と直角の方向に連続的に移動する。このようにして、各ＬＳＩチップにおいて、（偏向走査幅×チップ一辺の長さ）の領域を同時に描画する。この領域のパターン描画が終わると、ステージ６０７を偏向走査幅だけ、電子ビーム６１０～６１４の偏向走査方向と同じ方向に移動させ、つぎの領域のパターン描画を開始する。この動作を繰り返すことにより、ウェハ６０８の全面にＬＳＩパターンを描画する。 この装置では、本発明の電子銃６０１を用いているので、電子ビームの加速電圧が高い場合でも、電子ビーム６１０～６１４と電子銃の中心軸との成す角度を任意に設定でき、フライズアイレンズ６０６中のすべての静電レンズ６０５に電子ビームを照射することができる。したがって、一回のビーム照射で露光できるウェハ面積が増大し、ステージの移動回数を少なくすることができる。すなわち、ステージ移動のむだな時間を減らすことができる。また、電子ビーム６１０～６１４の電流値が４．２μＡと大きいので、実露光時間を減少させることができる。これらの結果、スループットを大幅に向上させることができる。」（第４頁右下欄第２行～第５頁右上欄第１５行） （イ）第６図の記載から、電子銃６０１と、静電レンズ６０５と、ウェハ６０８が搭載されたステージ６０７と、を備えたマルチ電子ビーム露光装置が、見て取れる。 （ウ）以上から、引用文献１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。 「電子銃６０１と、 静電レンズ６０５と、 ウェハ６０８が搭載されたステージ６０７と、を備え、 電子ビーム６１０～６１４は電子銃６０１から放出され、 個々の静電レンズ６０５によって、オブジェクト・アパーチャ６０９の像がウェハ上に電子ビームの本数分だけ投影され、 電子ビーム６１０～６１４の電流値が４．２μＡと大きく、 ブランカ６０２にブランキング信号を加え、電子ビーム６１０～６１４を偏向信号と同期させてオン・オフし、ステージ６０７は、電子ビーム６１０～６１４の偏向走査方向と直角の方向に連続的に移動し、（偏向走査幅×チップ一辺の長さ）の領域を同時に描画し、この領域のパターン描画が終わると、ステージ６０７を偏向走査幅だけ、電子ビーム６１０～６１４の偏向走査方向と同じ方向に移動させ、つぎの領域のパターン描画を開始する、 マルチ電子ビーム露光装置。」 ウ　引用発明との対比・判断 （ア）本件補正発明と引用発明とを対比する。 ａ　引用発明の「『電子ビーム６１０～６１４』が『放出され』る『電子銃６０１』」は、本件補正発明の「前記電子ビームを発生させる電子源」に、 引用発明の「ウェハ６０８が搭載されたステージ６０７」は、本件補正発明の「前記電子ビームが照射される前記試料が設置されるステージ」に、 それぞれ相当する。 ｂ　引用発明の「『オブジェクト・アパーチャ６０９の像がウェハ上に電子ビームの本数分だけ投影され』るようにする『静電レンズ６０５』」は、電場を用いて電子ビームを集束させるものであるから、電子ビームを集束させ所定の形状にしているものである。 そうすると、引用発明の「『オブジェクト・アパーチャ６０９の像がウェハ上に電子ビームの本数分だけ投影され』るようにする『静電レンズ６０５』」は、本件補正発明の「前記電子ビームのビーム形状を制御するレンズ系」と、一致する。 ｃ　引用発明の「電子ビーム６１０～６１４の電流値が４．２μＡと大きく」は、本件補正発明の「前記試料に照射される前記電子ビームの電流量は、１０ｎＡ～１００Ａに設定され」の試料に照射される電子ビームの電流量の範囲を満たしている。 ｄ　引用発明の「ステージ６０７は、電子ビーム６１０～６１４の偏向走査方向と直角の方向に連続的に移動し」、「電子ビーム６１０～６１４の偏向走査方向と同じ方向に移動させ」は、本件補正発明の「ステージを移動させるステージ移動制御」に、 引用発明の「『ブランカ６０２にブランキング信号を加え、電子ビーム６１０～６１４を』『オン・オフし』」は、本件補正発明の「電子ビームをブランキングするブランキングビーム制御」に、 それぞれ相当する。 そして、引用発明においても、ブランキング信号を加えるオン・オフと、ステージの移動とを、組み合わせて、領域を描画し、ステージを移動させ、つぎの領域のパターン描画していることは明らかである。 そうすると、引用発明の「ブランカ６０２にブランキング信号を加え、電子ビーム６１０～６１４を偏向信号と同期させてオン・オフし、ステージ６０７は、電子ビーム６１０～６１４の偏向走査方向と直角の方向に連続的に移動し、（偏向走査幅×チップ一辺の長さ）の領域を同時に描画し、この領域のパターン描画が終わると、ステージ６０７を偏向走査幅だけ、電子ビーム６１０～６１４の偏向走査方向と同じ方向に移動させ、つぎの領域のパターン描画を開始する」は、「前記ステージを移動させるステージ移動制御と前記電子ビームをブランキングするブランキングビーム制御を組み合わせることにより、前記電子ビームの照射領域が制御される」に、相当する。 ｅ　本願の明細書の「【０００２】従来から、半導体製造の分野では、電子ビームを照射して試料の表面処理を行う表面処理装置が用いられている。例えば、電子ビームを用いて半導体チップのパターンを露光する電子ビーム露光装置が用いられている（特許文献１参照）。また近年では、大面積の荷電粒子を照射して、チップ面積全体を転写する露光装置も提案されている（特許文献２参照）。」、「【００２０】以下、本発明の実施の形態の表面処理装置について、図面を用いて説明する。表面処理装置は、電子ビームを照射して試料の表面処理を行う装置である。以下では、例えば、膜や母材など（ウェハ、マスク、レジスト、酸化膜、導電膜、クオーツなど）の表面処理を行う表面処理装置の場合を例示する。」の記載から、本願においては、「表面処理」は、例えば、試料の全面に電子ビームを照射する処理のようなもののみならず、電子ビームを用いて半導体チップのパターンを露光することを含むものと、解される。 そうすると、引用発明の「マルチ電子ビーム露光装置」は、引用文献１の「複数の電子ビームを用いてウェハ上に複数のＬＳＩパターンを同時に露光可能なマルチ電子ビーム露光装置」の記載からしても、電子ビームを用いてウェハの表面を露光して処理している装置と解され、そうすると、本件補正発明の「電子ビームを照射して試料の表面処理を行う表面処理装置」、「表面処理装置」と、一致する。 ｆ　してみると、本件補正発明と引用発明は、 「電子ビームを照射して試料の表面処理を行う表面処理装置であって、 前記電子ビームを発生させる電子源と、 前記電子ビームのビーム形状を制御するレンズ系と、 前記電子ビームが照射される前記試料が設置されるステージと、を備え、　前記試料に照射される前記電子ビームの電流量は、１０ｎＡ～１００Ａに設定され、 前記ステージを移動させるステージ移動制御と前記電子ビームをブランキングするブランキングビーム制御を組み合わせることにより、前記電子ビームの照射領域が制御される表面処理装置。」 である点で一致するものであり、両者の間に相違点はない。 （イ）したがって、本件補正発明は、引用文献１に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 （ウ）本件補正発明の「前記電子ビームが照射される前記試料が設置されるステージ」は、電子ビームを照射するときに偏向させることのないものについて特定されておらず、電子ビームを照射させるときに偏向させるものを除外していない。 しかしながら、仮に、本件補正発明の「前記電子ビームが照射される前記試料が設置されるステージ」は、「前記電子ビームが偏向させることなく照射される前記試料が設置されるステージ」のみしか特定していないと考えて、一応、検討する。 ａ　引用発明は「ブランカ６０２にブランキング信号を加え、電子ビーム６１０～６１４を偏向信号と同期させてオン・オフし、ステージ６０７は、電子ビーム６１０～６１４の偏向走査方向と直角の方向に連続的に移動し、（偏向走査幅×チップ一辺の長さ）の領域を同時に描画し、この領域のパターン描画が終わると、ステージ６０７を偏向走査幅だけ、電子ビーム６１０～６１４の偏向走査方向と同じ方向に移動させ、つぎの領域のパターン描画を開始する」と特定されていることから、引用発明のステージ６０７は、ステージ６０７を偏向走査幅だけ、電子ビーム６１０～６１４の偏向走査方向と同じ方向にも移動させている。 そうすると、電子ビームを偏向させて照射しなくても、ブランカ６０２にブランキング信号を加え、ステージ６０７の一方向に移動する信号と同期させてオン・オフし、さらに、ステージ６０７は、当該一方向と直角方向に連続的に移動するようになすことは、当業者が適宜なし得た事項にすぎない。 ｂ　そうすると、仮に、本件補正発明の「前記電子ビームが照射される前記試料が設置されるステージ」は、「前記電子ビームが偏向させることなく照射される前記試料が設置されるステージ」のみしか特定していないと考えても、当業者が引用発明に基づいて適宜なし得た事項であるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 エ　審判請求人の主張について （ア）本件審判請求人は、令和元年８月２２日付けで提出された審判請求書の手続補正書（方式）において、 「この本願発明１によれば、ステージ移動制御とブランキングビーム制御を組わせて電子ビームの照射領域を制御することにより、電子ビームのビーム形状を制御するだけで、電子ビームを偏向させることなく試料に照射することができる。そのため、１０ｎＡ～１００Ａという大出力の電子ビームであっても、電子ビームを偏向させることなく（偏向により収差が拡大することなく）試料に照射することが可能になる、という格別の作用効果が奏されます。引用文献１～７のいずれにも“大出力の電子ビームを偏向させることなく（偏向により収差が拡大することなく）試料に照射することを可能とするために、電子ビームのビーム形状を制御するとともに、ステージ移動制御とブランキングビーム制御を組わせて電子ビームの照射領域を制御する”という技術的思想については、まったく開示されておらず、何らの示唆もなされていません。」 旨、主張している。 （イ）上記主張について以下検討する。 本件補正発明において、電子ビームを偏向させることのないものについて特定されておらず、電子ビームを偏向させるものを除外していない。 このことは、本願の明細書からも、以下のように裏付けられる。 本願明細書には「【００２１】（第１の実施の形態） 本発明の第１の実施の形態の表面処理装置の構成を、図面を参照して説明する。ここでは、まず装置の全体構成を説明し、つぎに装置の主要部について説明する。」、「【００３１】 この場合、ステージ３０を移動させて、電子ビームの照射領域を制御することができる。電子ビームの照射位置は、光学顕微鏡１１０を用いて確認することができる。また、ステージ移動制御とブランキングビーム制御（ドーズ制御）を組み合わせることにより、電子ビームの照射領域を制御することができる。」、「【００３３】（第２の実施の形態） 本発明の第２の実施の形態の表面処理装置の構成を、図面を参照して説明する。なお、表面処理装置の全体構成については、第１の実施の形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。」、「【００６９】（第７の実施の形態） 本発明の第７の実施の形態の表面処理装置の構成を、図面を参照して説明する。なお、表面処理装置の全体構成については、第２の実施の形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。【００７０】　図１０は、本実施の形態の表面処理装置の主要部の構成を示す図である。図１０に示すように、表面処理装置のコラム内には、電子ビームを発生させるカソード等の電子ビーム源１０と、電子ビームを偏向させる偏向器２００と、ゲートバルブ２１０と、パーティクルキャッチャー２２０が備えられている。また、表面処理装置のメインチャンバ内には、ステージ３０を覆うカバー２３０（矩形アパーチャ）と、カバー２３０とステージとの間に出し入れ可能に設けられるプレート２４０（ビーム調整器）と、ステージ３０を昇降させるリフト機構２５０が備えられている。」旨記載され、ステージの移動する構成と電子ビームを偏向させる偏向器とを備えた表面処理装置についても示唆されている。 仮に、本件補正発明において、電子ビームを偏向させることのないもののみであるとしても、上記ウ（ウ）で検討したとおりである。 してみれば、審判請求人の上記主張は、採用することができない。 （３）本件補正についてのむすび 上記（１）で検討したとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項の規定に違反するものであり、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 仮にそうでないとしても、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 よって、上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。 第３　本願発明について １　本願発明 令和元年７月１２日にされた手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項に係る発明は、平成３０年１２月２６日にされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし８に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、その請求項１に記載された事項により特定される、前記第２［理由］１（２）に記載のとおりのものである。 ２　原査定の拒絶の理由 原査定の拒絶の理由は、 理由１．（新規性）この出願の下記の請求項に係る発明は、その優先日前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない、 理由２．（進歩性）この出願の下記の請求項に係る発明は、その優先日前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、 というものである。 記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照） ●理由１について ・請求項：１，５ ・引用文献等：１ ・請求項：１，３，５ ・引用文献等：２ ●理由２について ・請求項：１，５ ・引用文献等：１ ・請求項：１，３，５ ・引用文献等：２ ・請求項：２，５ ・引用文献等：１，３ ・請求項：２，５ ・引用文献等：２，４ ・請求項：４ ・引用文献等：１－５ ・請求項：６ ・引用文献等：１－６ ＜引用文献等一覧＞ １．特開昭６１－０６１４１４号公報 ２．米国特許出願公開第２００３／００４２４３４号明細書 ３．特開昭６２－２７６８２６号公報（周知技術を示す文献） ４．米国特許出願公開第２０１２／０２２３２４５号明細書 ５．特表２０１０－５３５３９４号公報 ６．特開２００４－０９５２８１号公報（周知技術を示す文献） ７．特開２００６－２１０４５９号公報（新たに引用された文献） ３　引用文献 原査定の拒絶の理由で引用された引用文献１及びその記載事項は、前記第２の［理由］２（２）イに記載したとおりである。 ４　対比・判断 本願発明は、前記第２の［理由］２（２）で検討した本件補正発明の「前記ステージを移動させるステージ移動制御と前記電子ビームをブランキングするブランキングビーム制御を組み合わせることにより、前記電子ビームの照射領域が制御される」の事項を省いたものである。 そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、さらに他の事項を付加したものに相当する本件補正発明が、前記第２の［理由］２（２）ウに記載したとおり、引用発明に該当する、あるいは、引用文献１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、引用発明に該当するものであり、あるいは、引用文献１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 第４　むすび 以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない、又は、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。 よって、結論のとおり審決する。