2017-007145

特願２０１５－５０１５９２「有機電子素子用基板」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年　９月２６日国際公開、ＷＯ２０１３／１４１６７７、平成２７年　６月２５日国内公表、特表２０１５－５１８２３４、請求項の数（１４）〕について、次のとおり審決する。

【結　論】 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。

【理　由】 第１　手続等の経緯 特願２０１５－５０１５９２号（以下、「本件出願」という。）は、２０１３年（平成２５年）３月２５日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２０１２年３月２３日　韓国、２０１２年７月３１日　韓国）を国際出願日とする出願であって、その手続等の経緯は、概略、以下のとおりである。 平成２７年１０月１５日付け：拒絶理由通知書 平成２８年　２月２２日　　：意見書 平成２８年　２月２２日　　：手続補正書 平成２８年　７月２７日付け：拒絶理由通知書 平成２８年１１月　１日　　：意見書 平成２８年１１月　１日　　：手続補正書 平成２９年　１月１２日付け：拒絶査定 平成２９年　５月１７日　　：審判請求書 平成２９年　５月１７日　　：手続補正書 平成３０年　４月２０日付け：拒絶理由通知書 平成３０年　７月１８日　　：意見書 平成３０年　７月１８日　　：手続補正書 第２　本願発明 本件出願の特許請求の範囲の請求項１－１４に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」－「本願発明１４」という。）は、平成３０年７月１８日にされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１－１４に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。 「【請求項１】 基材層と； 上記基材層上に形成されていて、上記基材層に比べて小さい投映面積を有する光学機能性層と； 上記光学機能性層に比べて広い投映面積を有し、上記光学機能性層の上部及び上記光学機能性層が形成されていない基材層の上部の両方に形成されている電極層と；を含み、 上記光学機能性層上に形成された電極層と上記光学機能性層が形成されていない基材層上に形成された電極層との境界で測定した単位幅当たり抵抗Ｒ１と上記電極層と同一素材で形成された電極層に対して同一の方式で測定した単位幅当たり抵抗Ｒ２の差Ｒ１－Ｒ２は、１０Ω・ｃｍ－１以下であり、 上記光学機能性層は、光散乱層と当該光散乱層の上部に形成される平坦層を含む、 基板。 【請求項２】 基材層と； 上記基材層上に形成されていて、上記基材層に比べて小さい投映面積を有する光学機能性層と； 上記光学機能性層に比べて広い投映面積を有し、上記光学機能性層の上部及び上記光学機能性層が形成されていない基材層の上部の両方に形成されている電極層と;を含み、 上記光学機能性層上に形成された電極層と上記光学機能性層が形成されていない基材層上に形成された電極層との境界で測定した単位幅当たり抵抗Ｒ１と上記電極層と同一素材で形成された電極層に対して同一の方式で測定した単位幅当たり抵抗Ｒ２の差Ｒ１－Ｒ２は、１０Ω・ｃｍ－１以下であり、 上記光学機能性層の厚さＴ１及び上記光学機能性層が形成されていない基材上に形成された電極層の厚さＴ２の比率Ｔ１／Ｔ２が３～１５であり、 上記光学機能性層は、光散乱層と当該光散乱層の上部に形成される平坦層を含む、 基板。 【請求項３】 上記電極層の投映面積Ａと上記光学機能性層の投映面積Ｂの比率Ａ／Ｂが１．０４以上である、請求項１又は２のいずれか一項に記載の基板。 【請求項４】 上記基材層は、透光性である、請求項１～３のいずれか一項に記載の基板。 【請求項５】 上記電極層は、正孔注入性電極層または電子注入性電極層である、請求項１～４のいずれか一項に記載の基板。 【請求項６】 上記光散乱層は、マトリックス物質と、当該マトリックス物質と異なる屈折率を有する散乱性粒子を含む、請求項１又は２に記載の基板。 【請求項７】 上記散乱性粒子の屈折率が１．０～３．５である、請求項６に記載の基板。 【請求項８】 上記平坦層は、屈折率が１．７以上である、請求項１又は２のいずれか一項に記載の基板。 【請求項９】 請求項１～８のいずれか一項に記載の基板と；上記基板の電極層上に形成されていて、発光層を含む有機層と；上記有機層上に形成されている第２電極層と;を含む有機電子装置。 【請求項１０】 上記基板の光学機能性層の形成領域の長さＢと上記発光層の発光領域の長さＣの差ＢＣは、１０μｍ～２ｍｍである、請求項９に記載の有機電子装置。 【請求項１１】 上記有機層と上記第２電極層を保護する封止構造をさらに含み、上記封止構造は、下部に光学機能性層が形成されていない基板の電極層の上部に付着されている、請求項９または１０に記載の有機電子装置。 【請求項１２】 上記封止構造は、ガラスカンまたは金属カンである、請求項１１に記載の有機電子装置。 【請求項１３】 上記封止構造は、上記有機層と上記第２電極層の全面を覆っているフィルムである、請求項１１または１２に記載の有機電子装置。 【請求項１４】 請求項１０～１３のいずれか一項に記載の有機電子装置を含む照明。」 第３　引用文献・引用発明等 １　引用文献１ （１）引用文献１の記載 原査定の拒絶の理由に引用された引用文献１（特開平７－９８４４６号公報）には、以下の記載がある。なお、下線は当合議体が付したものである。 ア　「【０００１】 【産業上の利用分野】本発明は反射型液晶表示装置に適用される観察者側電極板に係り、特に、製造工程が簡単でその生産性と収率が高く、しかも外光光源の位置に関わりなく視野角の広い画面表示を可能にする液晶表示装置の観察者側電極板の改良に関するものである。 ・・・（中略）・・・ 【００１０】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この液晶表示装置においては、その製造に際して上記絶縁性樹脂層ａ７を形成する工程とその表面に凹凸を付与する工程が必要で、かつ、ドレイン電極ａ６３と上記金属金属反射膜ａ２とを導通させるため絶縁性樹脂層ａ７をドライエッチングしてコンタクトホールを形成する工程等が必要となるため、その生産性と収率とが極めて低いという問題点があった。 【００１１】また、この液晶表示装置においては、表面凹凸の絶縁性樹脂層ａ７上に真空蒸着やスパッタリング等の方法で上記金属反射膜ａ２を直接設ける必要があり、この形成段階において上記金属反射膜ａ２が酸化若しくは水酸化され易いため、金属反射膜ａ２本来の反射性能が損なわれる問題点があった。 【００１２】本発明はこのような問題点に着目してなされたもので、その課題とするところは、反射型液晶表示装置の利点を維持したまま、製造工程が簡単でその生産性と収率が高く、しかも外光光源の位置に関わりなく視野角の広い画面表示を可能にする反射型アクティブマトリクス液晶表示装置の観察者側電極板を提供することにある。 【００１３】 【課題を解決するための手段】すなわち、請求項１に係る発明は、矩形状の各画素に対応した複数の電極が基板の画面表示領域内にパターン状に設けられた光反射性背面電極板と、この背面電極板に対向して配置されかつ透明基板の上記画面表示領域に対応する部位に一様に設けられた透明電極を有する観察者側電極板と、これ等の電極板間に封入された液晶物質とを備え、この液晶物質に対し画素毎に電圧を印加して画面表示する液晶表示装置用の上記観察者側電極板を前提とし、上記透明基板に、透明樹脂とこの透明樹脂中に分散されかつこの透明樹脂と屈折率が異なる微粒子とを主成分とする光散乱層を設けたことを特徴とするものである。」 イ　「【００２８】 【作用】請求項１～４記載の発明に係る観察者側電極板によれば、透明基板に、透明樹脂とこの透明樹脂中に分散されかつこの透明樹脂と屈折率が異なる微粒子とを主成分とする光散乱層を設けており、この観察者側電極板に入射した外光は上記光散乱層で散乱され、かつ、観察者側電極板に対向して配置された光反射性背面電極板で反射された後、再度光散乱層で散乱されて出射されることになるため、外光光源の位置に関わりなく表示画面の視野角を増大させることが可能になる。 【００２９】 【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例について詳細に説明する。 【００３０】［実施例１］この実施例に係る液晶表示装置用観察者側電極板は、図１に示すように厚さ０．７ｍｍのガラス基板１１と、このガラス基板１１上の画面表示領域に一様に設けられた厚さ０．９μｍの四角形状の光散乱層１２と、この光散乱層１２を被覆して一様に設けられた厚さ０．１４μｍのＩＴＯ薄膜から成る略四角形状の透明電極１３とでその主要部が構成されている。尚、上記光散乱層１２は熱硬化型アクリル－エポキシ樹脂に固形比で約１５重量％のシリカアエロジル（粒径０．１μｍ）を均一に分散させたもので構成されており、その表面は深さ０．１～０．５μｍの微細な凹凸を備えている。 【００３１】尚、この光散乱層１２は、上記シリカアエロジルと熱硬化型アクリル－エポキシ樹脂とを溶剤に添加しかつ混合してインキ化し、フレキソ印刷により印刷して形成されたものである。 ・・・（中略）・・・ 【００３７】 【発明の効果】請求項１～４に係る発明によれば、観察者側基板に設けられた光散乱層によって光を散乱させて表示画面の視野角を増大させることが可能になるため、各画素に対応した複数の電極を設ける背面電極板に光散乱処理を施す必要がない。 【００３８】従って、反射型アクティブマトリクス液晶表示装置を製造する際の工程が簡略化されるため、生産効率と収率が著しく向上する効果を有している。」 ウ　「 」 （２）引用発明 上記（１）アないしウ（特にイ）によると、引用文献１には、実施例１（【図１】）として、以下の発明が記載されていると認められる（以下、「引用発明」という。）。 「厚さ０．７ｍｍのガラス基板１１と、このガラス基板１１上の画面表示領域に一様に設けられた厚さ０．９μｍの四角形状の光散乱層１２と、この光散乱層１２を被覆して一様に設けられた厚さ０．１４μｍのＩＴＯ薄膜からなる略四角形状の透明電極１３とで構成されており、上記光散乱層１２は、熱硬化型アクリル－エポキシ樹脂に固形比で約１５重量％のシリカエアロジル（粒径０．１μｍ）を均一に分散させたもので構成され、その表面は深さ０．１～０．５μｍの微細な凹凸を備えている、液晶表示装置用観察者側電極板。」 ２　引用文献２ 原査定の拒絶の理由に引用された引用文献２（特開２０１１－４８９３７号公報）には、以下の記載がある。 ア　「【００２４】 （第１の実施形態） 図１は、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ発光素子１（以下、発光素子という）の構成を示す。発光素子１は、基板２上に透明導電膜から成る第１電極３、少なくとも１つの有機発光層（図示せず）を含む有機層４、及び第２電極５がこの順に積層されて成る。また、発光素子１は、基板２と第１電極３の間であって基板２側に微細凹凸構造６を、第１電極３側に透明層７をそれぞれ備える。発光素子１は、有機層４で生じた光を基板２側から放出するボトムエミッション型である。 ・・・（中略）・・・ 【００２９】 微細凹凸構造６は、配列周期を入射波長以下としており、凹凸構造パターンの断面形状が放射線状の凹又は凸形状である。なお、凹凸構造パターンの断面形状が矩形状やＶ字状の凹又は凸形状などであってもよい。微細凹凸構造６の材料は、基板２を構成している物質の屈折率（ｎ１）が微細凹凸構造６を構成している物質の屈折率（ｎ２）以上であればよく、・・・（中略）・・・その他の熱可塑性樹脂や、これらの樹脂を構成する単量体の２種以上の共重合体が挙げられる。 【００３０】 微細凹凸構造６は、基板２上に上記の材料をスピンコート、スクリーン印刷、ディップコート、ダイコート、キャスト、スプレーコート、グラビアコート等でレジスト薄膜が形成され、このレジスト薄膜に光や電子線によるリソグラフィやナノインプリントされることで形成される。・・・（中略）・・・微細凹凸構造６の膜圧は、特に限定されないが、０．０１～２０μｍの範囲であることが好ましい。 【００３１】 透明層７は、微細凹凸構造６の表面の凹凸を埋めて平坦化するために設けられる。発光素子１は、膜圧の薄い第１電極３が、透明層７の平滑な表面上に形成される。このため、第１電極３の膜圧が不均一とならないので、電気特性に問題が生じたり、ショートが発生したりする虞がない。 【００３２】 透明層７の材料は、光透過性を有しているものであればよく、・・・（中略）・・・透明層７は、これら材料が微細凹凸構造６の表面にコーティングされた後、加熱によって硬化して形成される。透明層７の膜圧は、特に限定されないが、１～２０μｍ程度の範囲が好ましい。また、透明層７の表面の平坦性は、・・・（中略）・・・算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１）が２００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましい。 【００３３】 透明層７を形成する物質の屈折率は、第１電極３の屈折率よりも高い。これにより、発光素子１は、透明層７と第１電極３の間の光学的な界面がなくなるので、この界面における全反射が低減して、より多くの光を微細凹凸構造６に導くことができる。なお、透明層７を形成する物質の屈折率は、第１電極３の屈折率よりも低い場合、第１電極３との屈折率の差が小さいことが望ましい。 【００３４】 発光素子１は、微細凹凸構造６と透明層７が基板２と第１電極３の間に挿入されると共に、基板２を構成している物質の屈折率（ｎ１）が微細凹凸構造６を構成している物質の屈折率（ｎ２）以上としているので（ｎ１≧ｎ２）、基板２と第１電極３の間の屈折率段差が傾斜して、屈折率段差により生じる界面反射が低減する。これにより、光取り出し効率を向上させることができる。また、外光の界面反射が低減するので、視認性を向上させることができる。」 イ　「 」 ３　引用文献３ 引用文献３（特開２０１０－２０５６５０号公報）には、以下の記載がある。 「【０１２２】 （実施例１） ＜微粒子含有層形成液の調製＞ プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ、和光純薬製）とジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、ｎ＝１．５４、日本化薬製）とを質量比で１７：３の比で混合したＤＰＨＡ溶液を調製した。このＤＰＨＡ溶液１質量部に対し、重量平均一次粒子径１０ｎｍの酸化チタン微粒子（ｎ＝２．４、石原産業製）を０．０５質量部、ポリグリセリン脂肪酸エステル（理研ビタミン製）を０．１質量部加え、ディスパーを用い酸化チタン微粒子分散液を調製した。この酸化チタン微粒子分散液１質量部に対し、重量平均一次粒子径３００ｎｍの酸化チタン微粒子（ｎ＝２．６、石原産業製）を０．０５質量部、ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ３６０００を０．００５質量部加え、超音波分散を行い微粒子含有層形成液を調製した。 【０１２３】 ＜微粒子含有層の形成＞ 厚み３００μｍのガラス基板上に、調製した微粒子含有層形成液をスピンコート法により製膜し、２００℃で乾燥を行った。その結果、６００ｎｍの微粒子含有層が形成された。形成された微粒子含有層を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察したところ、粒径が異なる２種類の酸化チタン微粒子のいずれについても、一次粒子として分散していることが分かった。 【０１２４】 ＜有機ＥＬ表示装置の作製＞ ガラス基板上に形成された微粒子含有層上に、ＩＴＯを真空蒸着し、厚み１００ｎｍのＩＴＯ電極（陽極）を形成した。 さらに、ＩＴＯ電極（陽極）の上に、有機化合物層（正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層）を順次形成した。まず、正孔注入層として、２－ＴＮＡＴＡ〔４，４´，４´´－トリス（２－ナフチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン〕を、５０ｎｍの厚みに真空蒸着にて形成した。さらに、正孔輸送層として、α－ＮＰＤ〔Ｎ，Ｎ´－（ジナフチルフェニルアミノ）ピレン〕を、５０ｎｍの厚みに真空蒸着にて形成した。さらに、発光層として、Ａｌｑ３［８－キノリノールアルミニウム錯体］を、５０ｎｍの厚みに真空蒸着にて形成した。最後に、電子注入層として、ピリジン誘導体を、２５ｎｍの厚みに真空蒸着にて形成した。（有機化合物層平均屈折率：１．８０） その後、反射陰極としてＡｌを、１００ｎｍの厚みに真空蒸着にて成膜した。 さらに、窒素存在下で、ガラス封止を行い、ボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置を作製した。 ・・・（中略）・・・ 【０１２８】 （実施例２） 実施例１において、ガラス基板上に形成された微粒子含有層上に、ＩＴＯ（屈折率：約１．９）を真空蒸着し、厚み１００ｎｍのＩＴＯ電極（陽極）を形成する代わりに、ガラス基板上に形成された微粒子含有層上に、アクリル樹脂（ＪＳＲ製）をスピンコートし、厚み６００ｎｍのアクリル樹脂平坦化膜を形成し、アクリル樹脂平坦化膜上に、ＩＴＯ（屈折率：約１．９）を真空蒸着し、厚み１００ｎｍのＩＴＯ電極（陽極）を形成した以外は、実施例１と同様にして、ボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置を作製し、全光量測定を行った。その結果、相対的な全光量（後述する比較例２の全光量を１とした全光量）は、１．４であった。」 第４　対比・判断 １　本願発明１について （１）対比 本願発明１と引用発明とを対比する。 ア　引用発明の「厚さ０．７ｍｍのガラス基板１１」は、技術的にみて、ガラスの基材層であるといえる。 そうすると、引用発明の「厚さ０．７ｍｍのガラス基板１１」は、本願発明１の「基材層」に相当する。 イ　引用発明に関係する引用文献１の【図１】（上記第３の１（１）ウ）を参照すると、「ガラス基板１１」の表面の法線方向からみた「光散乱層１２」の面積は、「ガラス基板１１」の面積より小さいと認められる。また、引用発明の「厚さ０．９μｍの」「光散乱層１２」は、技術的にみて、光を散乱させる機能を有する層であるといえる。 そうすると、引用発明の「このガラス基板１１上の画面表示領域に一様に設けられた厚さ０．９μｍの四角形状の光散乱層１２」は、本願発明１の「上記基材層上に形成されていて、上記基材層に比べて小さい投映面積を有する光学機能性層」であり、「上記光学機能性層は、光散乱層」「を含む」という要件を満たしている。 ウ　引用発明に関係する引用文献１の【図１】（上記第３の１（１）ウ）を参照すると、「ガラス基板１１」の表面の法線方向からみた「透明電極１３」の面積は、「光散乱層１２」の面積より大きいと認められ、また、「透明電極１３」は、「光散乱層１２」の上と「ガラス基板１１」の上に形成されていると認められる。 そうすると、引用発明の「この光散乱層１２を被覆して一様に設けられた厚さ０．１４μｍのＩＴＯ薄膜からなる略四角形状の透明電極１３」は、本願発明１の「上記光学機能性層に比べて広い投映面積を有し、上記光学機能性層の上部及び上記光学機能性層が形成されていない基材層の上部の両方に形成されている電極層」という要件を満たしている。 エ　引用発明の「液晶表示装置用観察者側電極板」は「ガラス基板１１」を備えるから、「基板」であるともいえる。 そうすると、引用発明の「液晶表示装置用観察者側電極板」は、下記の相違点１及び２を除き、本願発明１の「基板」に相当する。 （２）一致点及び相違点 ア　一致点 本願発明１と引用発明は、次の構成で一致する。 「基材層と； 上記基材層上に形成されていて、上記基材層に比べて小さい投映面積を有する光学機能性層と； 上記光学機能性層に比べて広い投映面積を有し、上記光学機能性層の上部及び上記光学機能性層が形成されていない基材層の上部の両方に形成されている電極層と；を含み、 上記光学機能性層は、光散乱層を含む、 基板。」 イ　相違点 本願発明１と引用発明は、次の点で相違する。 （相違点１） 本願発明１では、「上記光学機能性層上に形成された電極層と上記光学機能性層が形成されていない基材層上に形成された電極層との境界で測定した単位幅当たり抵抗Ｒ１と上記電極層と同一素材で形成された電極層に対して同一の方式で測定した単位幅当たり抵抗Ｒ２の差Ｒ１－Ｒ２は、１０Ω・ｃｍ－１以下であ」るのに対し、引用発明では、差Ｒ１－Ｒ２に相当する値が明らかでない点。 （相違点２） 本願発明１では、「上記光学機能性層は、光散乱層と当該光散乱層の上部に形成される平坦層を含む」のに対し、引用発明では、「光散乱層１２」の上部に平坦層が形成されていない点。 （ウ）判断 事案に鑑み、相違点２について判断する。 引用発明において、透明電極１３で被覆される光散乱層１２の上部に平坦層を形成することは想定されていない。 また、液晶表示装置用観察者側電極板の、透明電極１３で被覆される光散乱層１２の上部に平坦層を形成することは、公知又は周知の技術でない。引用文献２及び３に記載されている技術は、いずれも有機ＥＬ素子の平坦層に関するものであって、液晶表示装置用観察者側電極板に関するものではなく、引用発明に適用することはできない。 そうすると、 引用発明において、相違点２に係る本願発明１の構成を採用することは、当業者が容易になし得たことであるとはいえない。 （エ）小括 したがって、相違点１を検討するまでもなく、本願発明１は、当業者が、引用発明、引用文献２及び３に記載された技術に基づいて容易に発明をすることができたものであるということができない。 ２　本願発明２－１４について 本願発明２－１４は、上記相違点２に係る本願発明１の構成を備えるものであるから、本願発明１についてと同様の理由により、当業者が、引用発明、引用文献２及び３に記載された技術に基づいて容易に発明をすることができたものであるということができない。 第５　原査定の理由の概要及び原査定についての判断 １　原査定の拒絶の理由のうち、独立形式の請求項である請求項１及び２に係る発明に対するものは、概略、以下のとおりである。 （１）理由１（新規性） 請求項１及び２に係る発明は、最先の優先権主張の日（以下、「優先日」という。）前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物である上記引用文献１（特開平７－９８４４６号公報）に記載された発明であるから、特許法２９条１項３号に該当し、特許を受けることができない。 （２）理由２（進歩性） 請求項１及び２に係る発明は、優先日前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物である上記引用文献１（特開平７－９８４４６号公報）に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない。 ２　平成３０年７月１８日にされた手続補正により補正された請求項１及び２に係る発明である本願発明１及び２は、いずれも上記相違点２（第４の１（２）イ）に係る「上記光学機能性層は、光散乱層と当該光散乱層の上部に形成される平坦層を含む」という構成を備えるものとなっているから、上記第４のとおり、本願発明１及び２は、上記引用文献１に記載された発明であるとはいえないし、また、上記引用文献１に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるともいえない。 したがって、原査定を維持することはできない。 第６　当審拒絶理由 当合議体は、平成３０年４月２０日付けで、理由１（実施可能要件：特許法３６条４項１号）及び理由２（明確性：特許法３６条６項１号）（以下、「当審拒絶理由」という。）を通知したところ、平成３０年７月１８日に意見書及び手続補正書が提出された。 そして、当該手続補正書による補正で、特許請求の範囲及び明細書が補正され、また、当該意見書において当審拒絶理由に対する釈明がなされたことにより、当審拒絶理由は解消した。 第７　むすび 以上のとおり、本願発明１－１４は、当業者が、引用発明、引用文献２及び３に記載された技術に基づいて容易に発明をすることができたものであるとはいえない。 したがって、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。 また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。